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JPH06177109A - Centrifugal dryer - Google Patents

Centrifugal dryer

Info

Publication number
JPH06177109A
JPH06177109A JP34353292A JP34353292A JPH06177109A JP H06177109 A JPH06177109 A JP H06177109A JP 34353292 A JP34353292 A JP 34353292A JP 34353292 A JP34353292 A JP 34353292A JP H06177109 A JPH06177109 A JP H06177109A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
turntable
substrate holding
cradle
base portion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP34353292A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2891840B2 (en
Inventor
Haruhiko Furukawa
晴彦 古川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kaijo Corp
Original Assignee
Kaijo Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kaijo Corp filed Critical Kaijo Corp
Priority to JP34353292A priority Critical patent/JP2891840B2/en
Publication of JPH06177109A publication Critical patent/JPH06177109A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2891840B2 publication Critical patent/JP2891840B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a centrifugal dryer which is downsized sufficiently even for a substrate having large diameter while shortening the drying time. CONSTITUTION:A substrate holding means 12 for holding a cleaned substrate 3 directly is disposed rotatably on a turn table 1 while being set such that the main surface of the substrate 3 is normal to the center of rotation 1a of the turn table 1 at the time of centrifugal drying operation.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は遠心乾燥装置、詳しくは
洗浄後のシリコンウエハー等基板の表面に付着している
水分を遠心力により飛散させることにより基板を乾燥す
る遠心乾燥装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a centrifugal drying device, and more particularly to a centrifugal drying device for drying a substrate by scattering water adhering to the surface of a substrate such as a cleaned silicon wafer by centrifugal force.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、この種の遠心乾燥装置として、図
9に示すものが知られている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a centrifugal drying device of this type is known as shown in FIG.

【0003】この従来の遠心乾燥装置は、水平面に沿っ
て回転駆動されるターンテーブル1と、該ターンテーブ
ル1の外周部適宜位置に取り付けられた複数個のクレー
ドル2とを備え、洗浄後のシリコンウエハー等の基板3
がその主面同士が平行となるように整列して複数枚収納
されたカセット4を各クレードル2に上方からセット
し、各クレードル2をその支軸5を中心として鉛直面に
沿って90o 下方へ回動して各半導体基板3の主面を水
平状態に、すなわちターンテーブル1の回転中心1aに
対して直交する状態に保ち、その後ターンテーブル1を
回転させるように構成されている。なお、ターンテーブ
ル1にはスピンドル6の上端部が結合され、該スピンド
ル6の他端部にはプーリ7が嵌着されている。そして、
モータ8の出力軸に嵌着された他のプーリ9とこのプー
リ7とにベルト10が掛け回され、モータ8のトルクが
ターンテーブル1に付与されて回転駆動される。
This conventional centrifugal drying device is provided with a turntable 1 which is driven to rotate along a horizontal plane, and a plurality of cradle 2 mounted at appropriate positions on the outer peripheral portion of the turntable 1, and which is provided with silicon after washing. Substrate 3 such as wafer
Set the cassettes 4 which are arranged in such a manner that their main surfaces are parallel to each other and housed a plurality of them in the respective cradle 2 from above, and move the respective cradle 2 downward about the supporting shaft 5 along the vertical plane by 90 °. It is configured to rotate to maintain the main surface of each semiconductor substrate 3 in a horizontal state, that is, in a state orthogonal to the rotation center 1a of the turntable 1, and then rotate the turntable 1. An upper end of a spindle 6 is connected to the turntable 1, and a pulley 7 is fitted to the other end of the spindle 6. And
The belt 10 is wound around the other pulley 9 fitted to the output shaft of the motor 8 and this pulley 7, and the torque of the motor 8 is applied to the turntable 1 to be rotationally driven.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】上記した従来の遠心乾
燥装置においては、上述したような占有スペースが比較
的大きいカセット4を使用し、しかもこれらを大径のタ
ーンテーブル1上に分散して配置しているため、大径化
してきたシリコンウエハー例えば8インチサイズのシリ
コンウエハーの乾燥用として利用するためには装置全体
を大型化しなければならないという欠点がある。
In the above-mentioned conventional centrifugal drying apparatus, the cassette 4 having a relatively large occupied space as described above is used, and the cassettes 4 are dispersedly arranged on the turntable 1 having a large diameter. Therefore, there is a drawback that the entire apparatus must be upsized in order to use it for drying a silicon wafer having an increased diameter, for example, an 8-inch size silicon wafer.

【0005】また、カセット4の乾燥も考慮して、ター
ンテーブル1を長時間回転することが行われており、乾
燥の迅速化が要望されている。
In consideration of the drying of the cassette 4, the turntable 1 is rotated for a long time, and there is a demand for speeding up the drying.

【0006】本発明は、上記従来技術の欠点に鑑みてな
されたものであって、大径の基板の乾燥用としても十分
に小型であると共に、乾燥時間の短縮を達成した遠心乾
燥装置を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned drawbacks of the prior art, and provides a centrifugal drying apparatus which is sufficiently small for drying a large-diameter substrate and achieves shortening of the drying time. The purpose is to do.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明による遠心乾燥装
置は、ターンテーブルと、前記ターンテーブルを回転駆
動する駆動手段と、複数枚の基板をその主面同士が平行
となるように整列して保持し得、その保持する基板の主
面が前記ターンテーブルの回転中心に対して略直交する
状態になる位置と他の位置との間で移動可能に前記ター
ンテーブルに取り付けられた基板保持手段とを備えるよ
うに構成したものである。
In a centrifugal dryer according to the present invention, a turntable, driving means for rotating the turntable, and a plurality of substrates are arranged so that their principal surfaces are parallel to each other. A substrate holding means which can be held and is movably attached to the turntable between a position where the main surface of the substrate to be held is in a state substantially orthogonal to the center of rotation of the turntable and another position; It is configured to include.

【0008】[0008]

【実施例】以下、本発明の実施例としての遠心乾燥装置
について、添付図面を参照しつつ説明する。なお、本発
明に係る遠心乾燥装置は、以下に説明する部分以外は図
9に示した従来の装置と同様に構成されているので、装
置全体としての説明は省略し要部の説明に留める。ま
た、以下の説明において、該従来の遠心乾燥装置の構成
部材と同一又は対応する構成部材については同じ参照符
号を用いている。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A centrifugal dryer as an embodiment of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings. The centrifugal drying apparatus according to the present invention has the same configuration as that of the conventional apparatus shown in FIG. 9 except for the portions described below, and therefore the description of the apparatus as a whole will be omitted and only the main parts will be described. Further, in the following description, the same reference numerals are used for the same or corresponding components as those of the conventional centrifugal dryer.

【0009】図1に示すように、本発明に係る遠心乾燥
装置においては、ターンテーブル1上に基板保持手段と
してのクレードル12が例えば2つ取り付けられてい
る。
As shown in FIG. 1, in the centrifugal dryer according to the present invention, for example, two cradle 12 as substrate holding means are mounted on the turntable 1.

【0010】なお、ターンテーブル1は上部にて開口し
たケーシング14により囲繞されており、該開口部を開
閉する蓋体15が設けられている。また、この蓋体15
は装置の本体部分を構成するフレーム16にヒンジ17
により揺動自在(矢印Lにて示している)に取り付けら
れており、図示せぬシリンダーによって駆動力を付与さ
れて開閉動作を行う。
The turntable 1 is surrounded by a casing 14 which is open at the top, and a lid 15 for opening and closing the opening is provided. Also, this lid 15
Is a hinge 17 on a frame 16 which constitutes the main body of the apparatus.
It is swingably attached (indicated by an arrow L) and is opened and closed by a driving force applied by a cylinder (not shown).

【0011】図2は図1に関するA−A断面を示すもの
であるが、該両図から明らかなように、上記クレードル
12は、複数枚の基板3を該各基板の主面同士が互いに
平行となるように整列して保持する。そして、図1にお
いて実線及び二点鎖線にて示すように、各クレードル1
2は、その保持する基板3の主面がターンテーブル1の
回転中心1aに対して略直交する状態になる位置と略平
行となる他の位置との間で揺動可能(図において矢印M
にて示している)となっている。詳しくは、クレードル
12はその端部にてシャフト18に嵌着されており、該
シャフト18がターンテーブル12を上記2つの位置に
位置決めする位置決め手段としてのシリンダが設けられ
ている。
FIG. 2 is a sectional view taken along the line AA in FIG. 1. As is clear from the figures, the cradle 12 has a plurality of substrates 3 whose main surfaces are parallel to each other. Align and hold so that. Then, as shown by the solid line and the chain double-dashed line in FIG.
2 can be swung between a position where the main surface of the substrate 3 held by the substrate 3 is substantially orthogonal to the center of rotation 1a of the turntable 1 and another position which is substantially parallel (indicated by an arrow M in the figure).
It has become). In detail, the cradle 12 is fitted to the shaft 18 at its end, and the shaft 18 is provided with a cylinder as a positioning means for positioning the turntable 12 at the above-mentioned two positions.

【0012】ここで、クレードル12の構成について詳
述する。
The structure of the cradle 12 will be described in detail.

【0013】図1及び図2に示すように、クレードル1
2は、枠状の本体20及び蓋体21から成って上記シャ
ット18に固着された基体部と、夫々略棒状に形成され
て基板3の整列方向において延在すべくこの基体部に取
り付けられて基板3の外周部に係合してこれらを受ける
例えば6本の基板保持部材23とを有している。
As shown in FIGS. 1 and 2, the cradle 1
Reference numeral 2 denotes a base portion that is composed of a frame-shaped main body 20 and a lid body 21 and is fixed to the shut 18, and each is formed in a substantially rod shape and is attached to the base portion so as to extend in the alignment direction of the substrate 3. It has, for example, six substrate holding members 23 that engage with the outer peripheral portion of the substrate 3 to receive them.

【0014】図3及び図4に示すように、基板保持部材
23は略円柱状に形成されている。そして、各々基板3
の外周部分が係合し得る受け溝23aが複数条、等しい
ピッチにて並設されている。なお、これら各受け溝23
aの断面形状はV字状となっている。また、基板保持部
分23は、該各受け溝23aが並ぶ方向に対して垂直に
断面形状が円形となっている。そして、図4から明らか
なように、各受け溝23aは、基板保持部材23の一部
を切り欠いた状態にて形成されており、該受け溝23a
の低面はこれに係合する基板3の半径(約100m/m )
と等しい曲率半径を有している。
As shown in FIGS. 3 and 4, the substrate holding member 23 is formed in a substantially columnar shape. And each substrate 3
A plurality of receiving grooves 23a that can be engaged with the outer peripheral portion of the are arranged in parallel at equal pitches. Each of these receiving grooves 23
The cross-sectional shape of a is V-shaped. The substrate holding portion 23 has a circular cross section perpendicular to the direction in which the receiving grooves 23a are arranged. As is clear from FIG. 4, each receiving groove 23a is formed in a state where a part of the substrate holding member 23 is cut out, and the receiving groove 23a is formed.
Is the radius of the substrate 3 that engages with it (about 100 m / m)
Has a radius of curvature equal to.

【0015】上述したように、クレードル12の基体部
は本体20と該本体20に対して開閉自在(図1におい
て矢印Nにて示す)に取り付けられた蓋体21とから成
るが、上記基板保持部材23は該本体20と共にこの蓋
体21にも設けられている。そして、蓋体21が閉位置
にあるときに、本体20及び蓋体21に夫々設けられた
基板保持部材23が互いに協働して基板3を挾持する状
態となる。このように、基板3をしっかりと挾持する構
成のため、保持された基板3のがたつきが防止されてい
る。
As described above, the base portion of the cradle 12 is composed of the main body 20 and the lid 21 which is openably and closably attached to the main body 20 (shown by an arrow N in FIG. 1). The member 23 is provided on the lid 21 together with the main body 20. Then, when the lid 21 is in the closed position, the main body 20 and the substrate holding members 23 provided on the lid 21 cooperate with each other to hold the substrate 3. Since the substrate 3 is firmly held in this manner, the held substrate 3 is prevented from rattling.

【0016】なお、上記蓋体21は、本体20に回転可
能に取り付けられたシャフト25に嵌着されたフレーム
26と、該フレーム26に一端部にて取り付けられた基
板保持部材23自体と、該基板保持部材23の他端部に
固着されたブロック27とから成る。また、図示しては
いないが、この蓋体21を開閉動作させるためのシリン
ダが設けられている。
The lid 21 includes a frame 26 fitted to a shaft 25 rotatably attached to the main body 20, a substrate holding member 23 itself attached to the frame 26 at one end thereof, The block 27 fixed to the other end of the substrate holding member 23. Although not shown, a cylinder for opening and closing the lid 21 is provided.

【0017】次に、上記した構成の遠心乾燥装置の動作
を図5をも参照しつつ説明する。
Next, the operation of the centrifugal dryer having the above structure will be described with reference to FIG.

【0018】まず、ケーシング14上に設けられた蓋体
15をこれを作動させるシリンダにより開かせる。そし
て、他のシリンダの作動を以て各クレードル12を上方
に揺動させて待機させると共に、該クレードル12が具
備する蓋体21も専用のシリンダによって開状態とす
る。
First, the lid 15 provided on the casing 14 is opened by a cylinder that operates it. Then, by operating the other cylinders, each cradle 12 is swung upward to stand by, and the lid 21 included in the cradle 12 is also opened by a dedicated cylinder.

【0019】この状態において、図5に示す搬送装置3
2によって乾燥すべき基板3を各クレードル12内に搬
入させる。具体的には、搬送手段32を図5に示す矢印
1のように接近移動させ、次に矢印a2 のように下降
させ、基板3をクレードル12内に納めさせる。基板3
を納めた後は、搬送手段32を矢印a3 のように上昇さ
せ、次に矢印a4 のように離間移動させる。この一連動
作を繰り返し、ターンテーブル1上のすべてのクレード
ル12に対して基板3を収納する。
In this state, the transfer device 3 shown in FIG.
The substrate 3 to be dried by 2 is loaded into each cradle 12. Specifically, the transfer means 32 is moved closer as shown by an arrow a 1 in FIG. 5, and then lowered as shown by an arrow a 2 , so that the substrate 3 is stored in the cradle 12. Board 3
After storing, the transporting means 32 is raised as indicated by arrow a 3 and is then moved away as indicated by arrow a 4 . By repeating this series of operations, the substrates 3 are stored in all the cradle 12 on the turntable 1.

【0020】次に、各種シリンダを作動させ、各クレー
ドル12の蓋体21を閉状態とすると共に該各クレード
ル12を下方に揺動させ、更にケーシング14上の蓋体
15を閉じる。このようにクレードル12が下方に揺動
することによって該クレードル12に保持されている各
基板3はその主面がターンテーブル1の回転中心1a
(図1参照)に対して略垂直となる。この状態でターン
テーブル1を回転駆動する。これによって各基板3に遠
心力が作用し、基板3の表面に付着している水分が飛散
する。
Next, various cylinders are operated to close the lids 21 of the cradle 12 and swing the cradle 12 downward, and further close the lid 15 on the casing 14. As the cradle 12 swings downward in this manner, the main surface of each substrate 3 held by the cradle 12 has its main surface at the rotation center 1a of the turntable 1.
(See FIG. 1). In this state, the turntable 1 is rotationally driven. As a result, a centrifugal force acts on each substrate 3 and the water adhering to the surface of the substrate 3 scatters.

【0021】各基板3の表面から水分が十分に取り除か
れたとき、ターンテーブル1を停止する。そして、クレ
ードル12を上方に揺動させると共に、各蓋体21、1
5を開く。この状態で、基板搬入時と同様、搬送手段3
2によりクレードル12内の乾燥状態の基板3を搬出
し、回収する。
When the moisture is sufficiently removed from the surface of each substrate 3, the turntable 1 is stopped. Then, the cradle 12 is swung upward, and the lids 21, 1
Open 5 In this state, as in the case of loading the substrate, the transport means 3
The dried substrate 3 in the cradle 12 is carried out by 2 and collected.

【0022】なお、本実施例においては基板3を保持す
る基板保持部材23として円柱状のものを使用している
が、図6乃至図8に示すように矩形板状などの基板保持
部材33を採用してもよいことは言及するまでもない。
なお、図7及び図8において、参照符号33aはこの基
板保持部材23に形成された基板係合用の受け溝33a
を示している。
In the present embodiment, a columnar member is used as the substrate holding member 23 for holding the substrate 3, but a rectangular plate-shaped substrate holding member 33 as shown in FIGS. 6 to 8 is used. It goes without saying that it may be adopted.
7 and 8, reference numeral 33a is a receiving groove 33a for board engagement formed in the board holding member 23.
Is shown.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
基板を基板保持手段により直接保持して乾燥させる構成
のため、従来用いられている基板収納用のカセットが不
要になるなどの点から大径の基板の乾燥用としても十分
に小型化できるという効果がある。また、従来要してい
たカセットの乾燥時間分が短縮されることから、乾燥が
迅速に行われるという効果が得られる。
As described above, according to the present invention,
Since the substrate is directly held by the substrate holding means and dried, the conventional cassette for storing the substrate is not necessary, and the size can be sufficiently reduced even for drying a large-diameter substrate. There is. Further, since the time required for drying the cassette, which has been conventionally required, can be shortened, the effect of quick drying can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】図1は、本発明の実施例としての遠心乾燥装置
の要部の縦断面図である。
FIG. 1 is a vertical cross-sectional view of a main part of a centrifugal drying apparatus as an embodiment of the present invention.

【図2】図2は、図1に関するAーA断面図である。2 is a cross-sectional view taken along the line AA of FIG.

【図3】図3は、図1に示した遠心乾燥装置が具備する
クレードルの構成部材である基板保持部材の側面図であ
る。
FIG. 3 is a side view of a substrate holding member that is a constituent member of a cradle included in the centrifugal dryer shown in FIG.

【図4】図4は、図3に関するBーB断面図である。FIG. 4 is a sectional view taken along line BB in FIG.

【図5】図5は、本発明に係る遠心乾燥装置の動作説明
図である。
FIG. 5 is an operation explanatory view of the centrifugal drying apparatus according to the present invention.

【図6】図6は、図1に示した遠心乾燥装置が備えたク
レードルの変形例を示す縦断面図である。
FIG. 6 is a vertical cross-sectional view showing a modified example of the cradle included in the centrifugal drying device shown in FIG.

【図7】図7は、図6に示したクレードルに設けられた
基板保持部材の一部の斜視図である。
7 is a perspective view of a part of a substrate holding member provided on the cradle shown in FIG.

【図8】図8は、図7に示した基板保持部材の縦断面図
である。
8 is a vertical cross-sectional view of the substrate holding member shown in FIG.

【図9】図9は、従来の遠心乾燥装置の縦断面図であ
る。
FIG. 9 is a vertical cross-sectional view of a conventional centrifugal drying device.

【符合の説明】[Explanation of sign]

1 ターンテーブル 1a 回転中心 3 基板 8 モータ 12 クレードル(基板保持部材) 15、21 蓋体 18、25 シャット 20 本体 23 基板保持部材 23a 受け溝 1 Turntable 1a Rotation Center 3 Substrate 8 Motor 12 Cradle (Substrate Holding Member) 15, 21 Lid 18, 25 Shut 20 Main Body 23 Substrate Holding Member 23a Receiving Groove

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ターンテーブルと、前記ターンテーブル
を回転駆動する駆動手段と、複数枚の基板をその主面同
士が平行となるように整列して保持し得、その保持する
基板の主面が前記ターンテーブルの回転中心に対して略
直交する状態になる位置と他の位置との間で移動可能に
前記ターンテーブルに取り付けられた基板保持手段とを
備えたことを特徴とする遠心乾燥装置。
1. A turntable, a driving means for rotating the turntable, and a plurality of substrates can be aligned and held so that their principal surfaces are parallel to each other, and the principal surface of the substrates to be held is A centrifugal drying apparatus, comprising: a substrate holding means attached to the turntable so as to be movable between a position that is substantially orthogonal to the rotation center of the turntable and another position.
【請求項2】 前記基板保持手段は、前記ターンテーブ
ルに移動可能に取り付けられた基体部と、夫々略棒状に
形成されて前記基板の整列方向において延在すべく前記
基体部に取り付けられて前記基板の外周部に係合してこ
れらを受ける複数の受け溝が長手方向に並設された複数
の基板保持部材とを有することを特徴とする請求項1記
載の遠心乾燥装置。
2. The substrate holding means and a base portion movably attached to the turntable and a base portion each formed in a substantially rod shape and attached to the base portion so as to extend in the alignment direction of the substrates. The centrifugal drying apparatus according to claim 1, further comprising a plurality of substrate holding members that are arranged in a longitudinal direction and that are provided with a plurality of receiving grooves that are engaged with an outer peripheral portion of the substrate to receive them.
【請求項3】 前記基体部は、本体と、前記本体に対し
て開閉自在に取り付けられた蓋体とから成り、前記基板
保持部材は前記本体及び蓋体双方に設けられ、前記蓋体
が閉位置にあるときに前記基板保持部材各々が互いに協
働して前記基板を挾持することを特徴とする請求項2記
載の遠心乾燥装置。
3. The base portion comprises a main body and a lid body attached to the main body so as to be openable and closable, the substrate holding member is provided on both the main body and the lid body, and the lid body is closed. The centrifugal drying apparatus according to claim 2, wherein the substrate holding members cooperate with each other to hold the substrate when in the position.
JP34353292A 1992-12-01 1992-12-01 Centrifugal dryer Expired - Lifetime JP2891840B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP34353292A JP2891840B2 (en) 1992-12-01 1992-12-01 Centrifugal dryer

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JPH06177109A true JPH06177109A (en) 1994-06-24
JP2891840B2 JP2891840B2 (en) 1999-05-17

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ID=18362253

Family Applications (1)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6833035B1 (en) 1994-04-28 2004-12-21 Semitool, Inc. Semiconductor processing system with wafer container docking and loading station
US7080652B2 (en) 1994-04-28 2006-07-25 Semitool, Inc. Automated semiconductor processing systems

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6833035B1 (en) 1994-04-28 2004-12-21 Semitool, Inc. Semiconductor processing system with wafer container docking and loading station
US6960257B2 (en) 1994-04-28 2005-11-01 Semitool, Inc. Semiconductor processing system with wafer container docking and loading station
US7080652B2 (en) 1994-04-28 2006-07-25 Semitool, Inc. Automated semiconductor processing systems

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Publication number Publication date
JP2891840B2 (en) 1999-05-17

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