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JPH05506317A - 潜在的な特徴を組み込んだ色変装置を製造するための方法及びその方法により製造される装置 - Google Patents

潜在的な特徴を組み込んだ色変装置を製造するための方法及びその方法により製造される装置

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JPH05506317A
JPH05506317A JP91506260A JP50626091A JPH05506317A JP H05506317 A JPH05506317 A JP H05506317A JP 91506260 A JP91506260 A JP 91506260A JP 50626091 A JP50626091 A JP 50626091A JP H05506317 A JPH05506317 A JP H05506317A
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metal
adhesion
mask
masking material
color changing
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JP91506260A
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スミス、ガーリィ・ジュニア
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Alcan International Ltd Canada
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 潜在的な特徴を組み込んだ急変装置を製造するための方法及びその方法により製 造される装置 技術分野 この発明は、ある意味で物理的に干渉された場合、色の変化をうける装置(以後 、急変装置と称する)、及び、そのような装置を作成するための方法に関する。
より詳細には、本発明は、潜在的な特徴を組み込んだ色変化装置を作成する方法 に関する。
背景技術 1989年6月6日に発行された、我々の以前のU、 S、特許第4.837. 061号、スミッッ等(その開示はこの明細書中では参考文献により組み込まれ ている)において、急変装置特に改変証明構造を製造する方法を開示する。この 方法は、発色金属表面上での光の波長のオーダーの厚さを有する金属酸化物のア ノード膜を形成するために、バルブ金属(例えば、Ta、 Nb、 Zr、 H f、 Ti)、耐熱金属(例えば、W、 V、 Mo入灰色遷移金属(例えば、 Ni、 Fe、 Cr)、あるいは半導体(例えばSi)などの発色金属の陽極 酸化を含む。その結果生じたラミネート(積層板)は白米を照射すると、間隔の 近い金属と酸化物表面からの光の反射により生じる光の干渉効果のため、及び金 属/酸化物界面で起きる光の吸収のために、強い干渉色を示す。この構造は、陽 極酸化処理が、酸化物膜の金属基板への通常執拗な接着を減少させる接着減少剤 (例えばフッ化物)の存在下で行われると、急変装置として使用することができ る。これにより、酸化物膜は基板から分離することができ、その結果、示された 色は破壊あるいは変更される。酸化物層の再付着しても、元の色は生成しない。
そのため、本質的に付加逆な色の変化は改変証明の効果的な指示体となる。
金属基板からのアノード膜の分離は透明或いは半透明なシートをアノード膜に接 着させ、このシートを繊細な膜を補強するために使用することにより、補助する ことができる。このため、膜は容易に目で見えるくらい充分な量で金属基板から 分離することができる。
上記特許はまた、“潜在的な特徴°、例えば、初め見えないメツセージ、パター ンあるいはデザインを最終的な急変装置に組み入れる方法も開示する。これは、 発色金属のあらかじめ決定した領域を遮蔽し、遮蔽されていない領域内の金属基 板に対する酸化物膜の接着を低減するための接着低減剤の存在下で部分的な陽極 酸化を行い、マスクを取り除き、それから接着低減剤を含まない電解質中で全装 置の陽極酸化を続けることにより、達成される。あらかじめ遮蔽された金属の領 域上に形成された酸化物膜は最終の陽極酸化段階で金属にしっかりと接着するが 、遮蔽されていない領域に形成された膜は分離できる。この結果、完全なアノー ド膜を金属基板から剥離しようとすると、膜は初めに遮蔽してなかった領域での み分離し、生成した色はその領域で破壊されるかあるいは変化されるが、装置の 初めに遮蔽した領域では可視のままである。遮蔽領域が゛適当な形゛を有するよ うに作成することにより、原色を示す装置の領域(あるいは、逆に、原色を失り た領域)は、アノード膜の分離可能な部分の分離の後に、望ましい、対照的な背 景に対して目に見えるメツセージ、パターン、あるいはデザインのどれの型でも 獲得することができる。
上記特許に開示されているように、この技術には種々の変形があるが、どれも2 つの別々の部分陽極酸化工程を含み、1つは電解質中の接着低減剤を用いたもの であり、もう1つは用いないものであり、これは煩わしく、とりわけ、商業規模 でこの手順を行おうとする。
このため、潜在的な特徴を、より簡単な方法により、この種の急変装置に組み入 れる方法を開発することが望まれている。
発明の開示 この発明の目的は潜在的な特徴を、1度の陽極酸化工程を採用して、上記の型の 急変装置に組み入れることのできる方法を提供することにある。
この発明の別の目的は連続生産技術に適した、この種の方法を提供することであ る。
本発明の1つの観点に従い、分離可能な及び分離不可能な領域を有するアノード 膜を組み入れた発色積層板(ラミネート)を生成するために接着低減剤の存在下 で、マスクにより遮蔽された制限された表面領域を有する発色金属を陽極酸化す ることにより潜在的な特徴を組み込んだ急変装置を作成する方法において、上記 マスクが該マスクにより遮蔽された上記表面の領域の陽極酸化が可能であるが、 上記接着低減剤が上記マスクにより被覆された該表面領域内で実質的な接着低減 効果を発揮するのを妨げるマスク材料から形成され、該接着低減剤の存在下で実 行される単一の陽極酸化工程により分離可能な及び分離不可能な領域を有するア ノード膜を形成する工程とを含む点が改良点である方法を提供する。
この発明はまた上記方法により作成された潜在的な特徴を組み入れた急変装置に 関する。
アノード膜を説明するためにここで使用されている“光学的に薄い”という用語 によって、所望の干渉効果が発色のために生じることができるように、膜が光の 波長のオーダーの厚さを有することを意味する。
図面の簡単な説明 図1は本発明の方法を実行することができる金属基板の断面図である:図2−4 はその方法における段階を示す同様の断面図である:図5はさらに、本発明に従 って形成された構造を剥離する効果を示す断面図である。
本発明を実行するための最善方法 この発明は、少なくとも一部は、例えば、特定のインクや非硬化樹脂のようなあ る材料が陽極酸化可能な金属基板上の薄層内に沈積された場合、直ちにその真下 で金属の陽極酸化を起こすが、また陽極酸化に使用される電解質中に含まれる接 着低減剤の効果を遮り、妨げ、あるいは中和する能力を有するという予期しなか った発見に基づくものである。その結果、これらの材料が、アノード膜の分離が 妨げられる金属領域を遮蔽するために使用されたなら、接着低減剤を含む電解質 中での金属の陽極酸化により、分離可能及び分離不可能な領域を有する均一な厚 さのアノード膜が成長することとなる。このように、マスク材料を適当に選択す ることにより、急変装置に潜在的な特徴を組み入れることは、たった1回の陽極 酸化工程を必要とする方法により実行することができる。
マスクを形成するために使用されると、ある特定の材料はマスクされた表面の陽 極酸化を許す能力を有する一方、接着低減剤の効果をいくらか妨害し、あるいは 打ち消すという事実は驚きである。陽極酸化が材料の真下で起きれば、陽極酸化 はイオン輸送を含むので、材料の層はイオンに対しておそらく透過性を有するに 違いない。一方、フッ化物のような接着低減剤は一般にイオン性であり、マスク 材料はこれらのイオンが金属表面に到達し、これによりこの表面でのアノード膜 の接着を低減させることを妨害するように思われる。これらの2つの効果は結果 的には相互に相いれないものであるが、それにも関わらず起きていることが観察 されている。
マスク材料の妨害作用は陽極酸化の最初の段階でのみ起きていると考えられる。
いったん酸化物の薄層が形成されると、マスク材料は金属表面をリフトオフし、 陽極酸化により既に与えられた剥離パターンは変更されない、すなわち、アノー ド膜自身が接着低減剤の効果を妨害あるいは中和する役割をする。
発明において現在効果的であることがわかっている材料は、一般に、印刷インク または従来の非硬化レジスト材料であるが、他の樹脂も同様な効果を有し、これ らの材料は簡単な実験で同定することができる。そのため、本発明はここで述べ る好ましい材料に限定されるものではないことを理解するべきである。
しかしながら、従来のレジスト材料を使用する場合、硬化レジストは陽極酸化が レジストの真下で起きるのを防ぐため、通常非硬化型でなければならないことが わかっている。これにより、レジストを硬化する余分な段階に対する必要性及び 陽極酸化後に金属表面から硬化レジストを除去する困難を省略するので、さらに 利点が生じる。
本発明に採用されるインク及び非硬化レジストは、陽極酸化工程後に、簡単に陽 極酸化製品を水洗することで、通常除去することができる。アルカリ水溶液(例 えば、4重量%Na0H)はもっと効果的であり、とりわけ、非硬化レジストに 対してはそうである。
現在、非水溶媒を基本とした材料、例えば、非硬化水系インクは陽極酸化が完了 する前に陽極酸化水槽で分解するかあるいは部分的に溶解する傾向があるので、 非水溶媒を基本とした材料だけが本発明方法で作用することがわかっている。
効果があることがわかっているインク及びレジストは、メタノール、メチルエチ ルケトンなどの非水溶媒だけでなく、ポリスチレン、ポリアミド、ニトロセルロ ース、エポキシ樹脂、アルキド樹脂、エポキシアクリレート、などを含むもので ある。そのため、インクあるいはレジストは、望ましくは長鎖の、好ましくは架 橋可能な有機高分子または非水溶媒を含むべきであると考えられる、が適当な実 験で見つけることのできる他の材料を除外する理由はない。
本発明において使用される高分子溶液、インク、レジストは、所望の接着低減剤 の阻止あるいは中和か達成され、その真下で陽極酸化が起こさせると共に容易に 塗布できるように、適当に希釈して使用しなければならない。適当な濃度は使用 する材料に従って変化するが、簡単な試験や実験で見出すことができる。一般に 、通常の印刷あるいはシルクスクリーニングに適した濃度は適しており、時とし て僅かに変化を伴う。
現在までに有効であることがわかっている特異的なインク、レジスト及び他の材 料は以下の商品名で指定される製品であるニーMACUMAGE 19408− エポキシアクリレート高分子を含むマクダーミッド(MacDermid)社製 紫外線硬化スクリーン印刷エツチングレジストニ ーR−569ALKA−5TRIP* −−アルキド樹脂及びグリコールエーテ ル溶剤を含むアドバンス サプライ(Advance S upply)社製の スクリーン印刷エツチングレジストニ ーA48889* −−バスフ(BASF)社製の変成ニトロセルロースを基本 としたフレキソ印刷インク: * −A48893 −−バスフ(B A S F)社製のポリアミドを基本とした フレキソ印刷インク; −CR4281* −−バスフ(BASF)社製のポリアミドを基本としたフレ キソ印刷インク: 一ワセリンーー石油ゼリー; −EB−157−−インク デジイン(I nk D ezyne)社製のエポ キシペースのスクリーン印刷インクニ ー16−8200Q−一生成分がポリスチレンで、メタノール及びメチルエチル ケトン溶剤系を含む、成分の混合体であるビデオ ジェット(Vide。
J et)社製のインクジェット印刷インクニー16−87000−一上記製品 と同様の組成であるビデオ ジエ・ノド(Video J et)社製のインク ジェット印刷インク−16−7800Q−一上記16−8200Q製品と類似し たビデオ ジェット(V 1dea J et)社製のインクジェット印刷イン ク:*これらの材料は、適当な溶剤(例えば、ブチルセロソルブ)で希釈(例え ば、30%)し、乾燥時間を遅くするのが好ましい。他の材料は希釈しないで使 用できる。
本発明のマスキング材料は、シルク−スクリーニング、スタンピング、マスクを 通した吹きつ広塗装、はけ塗り、スクリーン塗装、フレキソ印刷塗装、研磨など の簡単な従来技術により、発色金属に塗付することができる。
陽極酸化可能な金属をマスクするために使用された材料の層の厚さは観察した結 果においては重要な役割を果たさないように思われる。本発明では、一般番二上 記従来技術により簡単に形成できる厚さを採用することができる。本プロセス1 ま実際の動作範囲を含むく1μ■から100μmの厚さのインクレジストを使用 するとうま(い(ことがわかっているが、この範囲外の厚さも効果がある。実際 に1よ最適な厚さが存在するのであろうが、もしそうだとすると、最適な厚さは 個々のマスキング材料に対して異なるものであろう。
陽極酸化条件、電解質、金属及び結果として得られる装置の最終用途は上記特許 の中で記述したものと同じである。接着低減剤の濃度レベルは上記あるいは下記 の特許で採用されたもの、例えばフッ化物の場合は0.003容量%の程度の低 レベル、と同じである。電解質に使用される接着低減剤の量に対する正確な上限 はないが、一般に濃度は適当な効果を生成するために必要とされる濃度以上は必 要ない。レベルが非常に高いと、1度の陽極酸化段階中の接着低減剤の効果を阻 止し、打ち消し、あるいは中和するマスキング材料の能力を越えてしまうことに なろう。フッ化物濃度は、タンタルに対しては30から90pp■、ニオブに対 して150から400pp■の範囲が通常適している。
多くの場合、接着低減剤は陽極酸化処理段階に使用される電解質中に溶解される が、陽極酸化段階の前にマスクされた発色金属の表面に被覆する、あるいはそう でなければ陽極酸化中に行うこともできる。どのような場合においても、接着低 減剤は陽極酸化の最初の段階で電解質中に部分的にあるいは完全に溶解されるか 分散されることになる。
本発明の特定の例について、添付図面を参照して、以下に詳細に記述する。
図1は陽極酸化工程に適した基板の断面図である。基板はタンタル金属の非常に 薄いスパッタ層11を有するアルミニウム層10で構成される。この構成は、T a金属が高価なため、Taの薄層を使用するより好ましい。
図2はTa層11の一定の領域にマスキング材料12を塗布した状態を示す図1 と同じ断面図である。このマスキング材料12は領土で述べた型のものである。
図3は接着低減剤、例えばHFを少量含む0.25Mクエン酸、を含む電解質中 で陽極酸化が行われた後の構造を示すものである。陽極酸化により、Ta層11 の表面上にアノード金属酸化物膜13が形成される。アノード膜13の厚さは、 Ta膜の暴露される領域に較べ、マスキング材料12が存在してもその材料の真 下の陽極酸化の速度には影響しないので、均一になる。Ta及び他の発色金属は いったんアノード膜がある最大膜厚に達すると更に陽極酸化を受けることはない ので、陽極酸化は完全に行うことが可能である。この膜厚に達すると、アノード 膜自身がその後の陽極酸化に対する防壁として作用するため、酸化物が更に形成 されることはない。アノード膜の最大膜厚は陽極酸化電圧に依存するが、実際の 電圧のほとんどに対し、光の波長の大きさとなる。
図4は材料12を、例えば洗浄により、除去した後の構造を示す図である。マス キング材料12で被覆された装置の領域(図中、aで標識された領域)は、bで 標識された被覆されていない領域とは視覚的には区別できない。この構造により 生成された色は色相及び明るさに関しては、全陽極酸化表面領域において一様で あり、マスキング処理により生じたパターンあるいはメツセージは観察されない 。
これにも関わらず、a及びbの間には差異がある。すなわち、電解買中のHFが b領域内のTaと酸化物層11.13の間の接着をそれぞれ弱めるが、a領域内 では弱めない。
図5は透明なプラスチックシート14(例えば、アノード膜13に好ましくはヒ ートシールしたポリプロピレンからできた膜)を塗布して、そのプラスチックシ ートの一部を基板から剥がした後の図4の構造を示す図である。剥離すると、ア ノード膜13は領域すでは下の構造から分離されるが、領域aでは、この領域内 のTaに対するアノード膜の強い接着のため、下の構造に接着したままである。
剥離後に残った装置は、領域aでは着色されているようであり、領域すでは金属 の外観を有する。これにより、潜在的なメツセージあるいはパターンが目に見え るようになる。
アルミニウム層10が可撓性の薄い箔の型であれば、また、透明な層14がかな り厚い層であれば、逆に、下の構造は層14から剥離することができ、同様の効 果を有する。
本発明をさらに以下の制限されない実施例により詳細に説明する。
実施例1 タンタルの層はアルミニウム箔(37μm)ポリエステルラミネート(25μI )上に、スパッタコートされた。大きさ1c111cm間隔の(ボイド)VOI Dメツセージの配列を有するシルクスクリーンから成るマスクを、グラフィック アートにおいてよく知られた技術により準備した。スクリーンはVOID領域が 開、周囲の領域は妨害される、負の像を作成した。スクリーンはその後Ta被覆 箔のクーポン上でプレス加工され、UV硬化型スクリーン印刷可能めっき及びエ ツチングレジスト、Macu+aage 19408 (MacDer+wid 社製)が、正の像としてVOIDメツセージ配列を残し、開領域を通して塗布さ れた。
直に、箔は室温で、フッ化水素酸(65ppm)が添加された0、25Mクエン 酸溶液中で陽極酸化された。陽極酸化は120vの一定の電圧で、30秒問おこ なわれた。30秒を越えると、開始電流が7A減少した。これにより、深い青色 が生成された。
箔はその後、陽極酸化槽から取り出され、インクを塗ったパターンは、フッ化物 に対してのみレジストとしての作用をしたものであるが、水中ですすぐことによ り取り除いた。箔は、隠されたメツセージがあることを全く示さず、均一に深い 青色を呈した。
次に、箔はベンチ型のラミネータである、ドキュラム標準ロールラミネータ、に かけられ、透明な圧力感応被覆膜がその上に塗布され、剥離ライナー支持体を有 する転写接着剤がその底に塗布された。上の被覆層は中程度の強度の接着剤を有 する12μ■の厚さの膜、Fassono、5+wil超低温シールオーバー薄 膜、とした。下の層はAvery社製のFastapel151であった。
剥離ライナーは除去され、箔サンプルは塗装されたアルミニウムのシート上に、 ローラを使って手で接着された。持ち上げると、マスクされなかった領域上の消 失した色が、灰色の金属背景に対して深い青色のVOIDメツセージの配列を示 した。
実施例2 実施例1と同じような構成で、タンタル被覆アルミニウム箔/ポリエステルのコ イル(5c富X60m)をここでは使用した。インクレジストの塗布と陽極酸化 は連続的実験室パイロットの陽極酸化セル上で行った。レジストインク、マスキ ングパターン及びシルクスクリーン装置は実施例1で記述したものと同じにした 。
実験室シルクスクリーンニングユニットは利得(ペイオフ)セクションと陽極セ クションとの間の陽極酸化ユニット内のライン上に載置した。箔は4 fpmの 速さで連続的にラインにかけた。レジストがスクリーンニングユニットを使って 手で塗布された後直ちに、室温で、HF(75ppm)が添加された、0.25 Mクエン酸電解質中で陽極酸化された。陽極酸化電圧150V、電流4A、ドウ エル時間40秒で、深い青色が生成された。材料のストリップはラインから除去 し、インクは水で濯ぐことにより剥がした。箔は隠されたメツセージの存在を一 切示さず、青色を呈した。
上の被覆層及び下の層の材料は実施例1と同様に、塗布した。剥離ライナーが除 去された後、サンプルはローラを使って、塗装アルミニウムのシートに手で接着 した。持ち上げると、サンプルは青色のVOIDメツセージの列と、マスクされ なかった領域内の色の損失を示した。
実施例3 実施例1において記述したようなVOIDメツセージの配列を、実施例1と同様 に、Ta被覆アルミニウム箔/ポリエステル積層板のクーポン上にシルクスクリ ーンした。使用したレジストインクは、自然乾燥シルクスクリーン印刷可能エツ チングレジストであるAdvance社製のAlka−Strip R−569 とした。スクリーニング後直ちに、箔サンプルをHFを(70ppm)添加した 0、25Mクエン酸電解質中で、室温で陽極酸化した。陽極酸化は105vで3 0秒間行った。
箔を陽極酸化槽から取り出し、インクを水で濯いで取り除いた。サンプルを櫂か ら取り出し、インクを水で濯いで取り除いた。サンプルは隠されたメツセージの 存在を一切示さず、一様なワイン/赤色を示した。
上の被覆層及び下の層の材料は、実施例1のものと同じであり、同様にDocu la■ラミネータを用いて塗布した。剥離ライナーを除去した後、箔はローラを 使って、手で塗装アルミニウムのシート上に接着した。持ち上げると、サンプル はワイン/赤色のVOIDメツセージの配列と、マスクされなかった領域内の色 の損失を示した。
実施例4 Ta被覆AI箔/ポリエステル積層板(20μ国箔/25μlポリエステル)の クーポンは、フレキソ印刷インクを用いてメツセージPER80NAL&C0N FIDENTIALを、手で、ゴム印されたものである。BASFインク社製の フレキソ印刷インク製品であるA48889をブチルセルソルブ溶剤で30%に 希釈した。
メツセージ塗布後直ちに、サンプルを室温で、HFを(50ppm)添加した0 ゜25Mクエン酸電解質中で陽極酸化した。陽極酸化は125Vで20秒間行っ た。
箔を陽極酸化槽から取り出し、インクを水で濯いで除去した。隠されたメツセー ジの存在を一切示さず、一様な深い青い色を示した。
感熱接着剤を有する5 ll1lの厚さのポリエステル膜上部被覆層を、作動温 度を150℃に設定して、実施例1と同じDocula■ラミネータを用いて箔 上に接着した。
上部被覆層は手で剥離することができた。PER80NAL&C0NFIDEN TIALの青色のメツセージを残してマスクされなかった領域上では、色が消え た。箔上にプラスチック製の上部被覆層をまた押しつけても、色は回復しなかっ た。
実施例5 Ta被覆A1箔/ポリエステル積層板(20μ■/25μ菖ポリエステル)のク ーポンに、インクジェット印刷インクを用いて、PER30NAL&C0NFI DENTIALメツセージを、手でゴム印を押した。インクジェット印刷インク である16−8200Qというインクはビデオジェットレステムの製品である。
メツセージをゴム印した後直に、箔をHF(50ppm)を添加した0125M クエン酸電解液中で、室温にて陽極酸化した。陽極酸化は140vで30秒間行 った。
サンプルを槽から取り出し、室温で5秒間4%NaOHに浸した後、水で濯ぐこ とによりインクを除去した。サンプルは隠されたメツセージの存在を一切示さず 、一様な薄い緑色を示した。
感熱接着剤を有する5 ailの厚さのポリエステル上部被覆膜を、実施例1と 同様に、作動温度150℃に設定されたDoculu謙ラミネータで接着した。
上部被覆層は手で剥離することができた。PER30NAL&C0NFIDEN TIALの薄い緑色のメツセージを残して、マスクされなかった領域上では、色 が消えた。部上にプラスチック類の上部被覆層をまた押しつけても、色は回復し なかった。
実施例6 剥離可能な色変装置を、アルミニウム箔上で支持されたニオブの層の限定された 領域をメツセージ(“VOID”)の形でアドバンス社製のR−569スクリー ニングインクを使って被覆することにより作成した。被覆サンプルを2vで20 0pp■のフッ化物を含む電解液中で20秒間陽極酸化した。陽極酸化サンプル は洗浄され、5 ailの熱密閉性の上部被覆層が接着された。結果は以下の通 りであった: 90V青−剥離後メッセージ可視可能 120■ビンクー剥離後メツセージ可視可能マスキング材料は、被覆領域のフッ 化物の効果をはっきりと阻害した。
実施例7 マスキング材料としてワセリンを使用して、メツセージはTaサンプル上で保護 され、60ppmのフッ化物を含む電解液中で、20秒間陽極酸化が行われた。
陽極酸化後、5■11の熱密閉上部被覆層が接着された。
上部接着層を除去した後、メツセージは残り、これにより、ワセリンがこの方法 においてレジストとして作用することが示された。
実施例8 剥離可能なサンプルはTa上に校正グレードのn−ヘプタデカン(低い導電率を 有する非常に純粋な物質)の滴を塗布することにより作成した。陽極酸化は60 pp−のフッ化物を含む電解賃中で、125Vで20秒間陽極酸化が行われた。
剥離後、n−ヘプタデカンの滴に対応する領域は完全な状態(色変化なし)のま まであり、これにより材料でフッ化物を妨害したことが示唆される。
産業の利用性 本発明はコンテナやパッケージを保護するための改変証明装置としてなど、様々 な用途のある、色変化装置を製造する簡単な方法として使用することができる。
FIG、5 要約書 本発明は潜在的な特徴を組み込んだ色変装!を製造するための方法及びその方法 により製造された潜在的な特徴を組み込んだ色変装置に関する。本発明方法は、 分離可能及び分離不可能な領域(b、a)を有するアノード膜(13)を組み込 んだ発色積層板を製造するために接着低減剤の存在下で、マスク(12)により 遮蔽され、#限された表面領域を有する発色金It(11)の陽極酸化を含む。
本発明の改良点はマスクにより遮蔽された表面の領域を陽極酸化することができ る一方、マスクで遮蔽された表面の領域において接着低減剤が本質的な接着低減 効果を発揮することを妨害するマスキング材料からマスク(12)を形成する工 程を含むことである。分離可能及び分離不可能な領域(b、 a)を有するアノ ード膜は、その後、接着低減剤の存在下で行われた1度の陽極酸化工程手段によ り形成することができる。
そのため、従来の様に2度の別々の陽極酸化工程を採用する必要がなく、製造手 順が単純になり、費用も低くなる。
国際調査報告 。、711.。I/l’ll’H1゜国際調査報告

Claims (19)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.分離可能及び分離不可能領域(b,a)を有するアノード膜(13)を組み 込んだ発色ラミネートを形成するために接着低減剤の存在下で、マスク(12) により被覆された制限表面領域を有する発色金属(11)の陽極酸化により潜在 的な特徴を組み込んだ色変装置を製造するための方法であって、上記マスク(1 2)は、上記マスクにより被覆された表面領域の陽極酸化を可能とし、上記接着 低減剤が上記マスクで被覆された表面領域において実質的な接着低減効果を発揮 するのを妨害するマスキング材料から形成され、上記接着低減剤の存在下で行わ れる単一の陽極酸化工程により、分離可能及び分離不可能な領域(b,a)を有 するアノード膜(13)を形成することを特徴とする色変装置を製造するための 方法。
  2. 2.上記マスキング材料は有機高分子の非水溶液からなることを特徴とする請求 項1記載の方法。
  3. 3.上記マスキング材料は非硬化非水溶媒を基本とするレジストからなることを 特徴とする請求項1記載の方法。
  4. 4.上記マスキング材料は非水溶性印刷インクを含むことを特徴とする請求項1 記載の方法。
  5. 5.上記マスキング材料はポリスチレン、ポリアミド、ニトロセルロース、エポ キシ樹脂、アルキド樹脂、エポキシアクリレートから選択される有機高分子を含 むことを特徴とする請求項1記載の方法。
  6. 6.上記マスクは更にメタノール、メチルエチルケトン、及びそれらの混合物か ら選択された非水溶媒を含むことを特徴とする請求項5記載の方法。
  7. 7.上記マスキング材料は商品名、MACUMAGE19408、R−569A LKA−STRIP、A 488889、A 48893、CR4281、ワセ リン、EB 157、16−8200Q、16−87000及び16−7800 Qで識別される製品から選択されたインクあるいは非硬化レジストを含むことを 特徴とする請求項1記載の方法。
  8. 8.上記マスキング材料は上記金属(11)の表面の上記部分に、1μmから1 00μmの範囲の厚さで塗布されることを特徴とする請求項1ないし7のいずれ かに記載の方法。
  9. 9.上記マスキング材料は、シルクスクリーニング、スタンピンク、マスクを通 したスプレ塗装、塗装、はけ塗り、スクリーン塗装、フレキソ印刷、ラビングか ら選択される方法により、金属(11)表面の上記部分に塗布されることを特徴 とする請求項1ないし7のいずれかに記載の方法。
  10. 10.上記接着低減剤がフッ化物であることを特徴とする請求項1ないし7のい ずれかに記載の方法。
  11. 11.上記接着低減剤がHFであることを特徴とする請求項1ないし7のいずれ かに記載の方法。
  12. 12.上記発色金属(11)が、バルブ金属、耐熱合金、半金属、半導体から選 択したものであることを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の方法。
  13. 13.上記発色金属(11)は、Ta,Nb,Zr,Hf,Ti,W,V,Mo ,Ni,Fe,Cr,Bi,Siから選択したものであることを特徴とする請求 項1ないし7のいずれかに記載の方法。
  14. 14.上記発色金属(11)は、Taからなることを特徴とする請求項1ないし 7のいずれかに記載の方法。
  15. 15.上記発色金属(11)は、Nbからなることを特徴とする請求項1ないし 7のいずれかに記載の方法。
  16. 16.上記発色金属(11)は、基板(10)上に支持された薄膜の形態をとる ことを特徴とする請求項1記載の方法。
  17. 17.上記基板(10)は薄く、可撓性を有することを特徴とする請求項16記 載の方法。
  18. 18.更に、上記発色金属11)の上記膜の一部の分離を容易にするために、上 記陽極酸化膜(13)上に透明あるいは半透明シート(14)を接着する工程を 含むことを特徴とする請求項1ないし7のいずれかに記載の方法。
  19. 19.潜在的な特徴を組み込んだ色変装置であって、該装置が請求項1ないし7 記載のいずれかの方法により製造されたことを特徴とする色変装置。
JP91506260A 1990-04-17 1991-04-03 潜在的な特徴を組み込んだ色変装置を製造するための方法及びその方法により製造される装置 Pending JPH05506317A (ja)

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