JPH0520664A - 高密度磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 高出力でかつ出力安定性および走行性に優れ
た磁気記録媒体を提供する。 【構成】 共押出法により積層、延伸して成るポリエチ
レン−２，６−ナフタレートフィルムの高粗度面側に塗
布層（Ａ）、低粗度面側に塗布層（Ｂ）および（Ｂ）層
上に強磁性金属薄膜を設けて成る磁気記録媒体であっ
て、該塗布層（Ａ）表面の三次元平均突起高さ（Ｈａ
（μｍ））、突起個数（ｎａ（個／mm²)、硬度（ＨＤ
（μｍ^-2））および塗布層（Ｂ）表面の三次元平均突起
高さ（Ｈｂ（μｍ））が下記式（１）〜（４）を同時に
満足することを特徴とする磁気記録媒体。 ０．０１≦Ｈａ≦０．０８ …（１） １００００≦ｎａ≦６００００ …（２） １０≦ＨＤ≦１５０ …（３） ０．００１≦Ｈｂ≦０．００８ …（４）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の利用分野】本発明は強磁性金属層を磁気記録層
として設けて成る磁気記録媒体に関するものであり、特
に高出力でかつ出力安定性および走行性に優れた磁気記
録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】近年
磁気記録密度の更なる向上が強く求められるようにな
り、磁性材料を有機バインダー中に分散させて塗布、乾
燥する従来の塗布型、あるいはバインダーを電子線で架
橋させる方法に代わり、いわゆる非バインダー型磁気記
録媒体が脚光を浴びている。このタイプの磁気記録媒体
は、ポリエステルフィルム、ポリイミドフィルム等の非
磁性支持体の表面に真空蒸着、スパッタリング、イオン
プレーティング等の方法あるいは電気メッキ、無電解メ
ッキ等の方法により強磁性金属薄膜を形成するものであ
るが、周知のようにかかる高記録密度化においては厚み
損失の配慮から磁性層を薄くすることが必須の要件とな
る。すなわち非バインダー型磁気記録媒体においては磁
性層の厚みは通常１μｍ以下、好ましくは０．５μｍ以
下とするのが良い。

【０００３】このように磁性層膜が薄くなると、従来タ
イプのそれに比べ、支持体表面の凹凸がより磁性層の表
面の凹凸に反映されるようになり、ビデオフィルムやオ
ーディオフィルムの性能、例えば出力や出力変動、出力
の欠陥等の電磁気特性が著しく影響を受けることにな
る。従って、かかる強磁性金属層を配した磁気記録媒体
の開発にあたってはその支持体が従来にも増して平坦で
あることが必要である。

【０００４】しかしながら、フィルム表面が平坦になる
とフィルムの滑り性が低下しハンドリング性、走行性が
劣るようになる。磁気記録媒体の走行面側、すなわち強
磁性金属層と反対側のフィルム表面が平坦であると、テ
ープの走行が不安定で極端な場合には走行が停止してし
まう。この平坦性と易滑性とを共に満足するため強磁性
金属層を備えた磁気記録媒体においてもベースフィルム
に塗布を施したり（例えば特公昭５５−４７０５０号公
報、特公昭６０−５０１５０号公報、特公昭６３−２８
０９７号公報）、表裏の粗面度が異なるベースフィルム
を用いる試み（例えば特公昭５５−１５７７０号公報）
がなされている。また、これらの方法を組み合わせて用
いることも知られている（例えば特公平１−２６３３７
号公報、特公平１−２６３３８号公報）。

【０００５】しかしながら、公知のこれらの方法を採用
したとしても、最近の厳しい要求には十分に応えること
ができず、しかも磁気記録媒体を巻き上げた場合、磁性
層面に反対面の粗度が形状転写する、いわゆる裏移り現
象がしばしば生起し、高品質化を達成することが困難な
状況にあった。ところで、従来、磁気記録媒体のベース
フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィル
ムが賞用されてきたが、より薄膜化が求められる、かか
る強磁性金属層を有する磁気記録媒体のベースフィルム
としては、比較的高密度化を達成しやすいポリエチレン
−２，６−ナフタレート（以下、ＰＥＮと略記する）フ
ィルムが適している。しかしながら、ＰＥＮフィルムと
真空蒸着法により形成される強磁性金属層との密着性は
必ずしも十分ではなく、この点の改良も強く望まれてい
る。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、かかる状
況に鑑み、高画質を与え、信頼性の高い磁気記録媒体の
提供に腐心した結果、ある特定の積層構造を有し表面の
突起の高さや個数およびその表面硬度がある特定範囲に
ある積層体を基体として用いたとき、優れた磁気記録媒
体を得ることができることを知見し、本発明を完成する
に至った。

【０００７】すなわち、本発明の要旨は、共押出法によ
り積層、延伸して成るポリエチレン−２，６−ナフタレ
ートフィルムの高粗度面側に塗布層（Ａ）、低粗度面側
に塗布層（Ｂ）および（Ｂ）層上に強磁性金属薄膜を設
けて成る磁気記録媒体であって、該塗布層（Ａ）表面の
三次元平均突起高さ（Ｈａ，単位μｍ）、突起個数（Ｎ
ａ，単位個／mm² ）、硬度（ＨＤ，単位μｍ^-2）及び塗
布層（Ｂ）表面の三次元平均突起高さ（Ｈｂ，単位μ
ｍ）が下記式（１）〜（４）を満足することを特徴とす
る磁気記録媒体に存する。

【０００８】 ０．０１≦Ｈａ≦０．０８ …（１） １００００≦Ｎａ≦６００００ …（２） １０≦ＨＤ≦１５０ …（３） ０．００１≦Ｈｂ≦０．００８ …（４） 以下、本発明をさらに詳細に説明する。

【０００９】本発明の磁気記録媒体は実質的に５種の
層、すなわち強磁性金属層、塗布層（Ｂ）、低粗度面を
与えるＰＥＮフィルム、高粗度面を与える第２のＰＥＮ
フィルムおよび塗布層（Ａ）が順次積層されて成る。も
ちろん、必要に応じ、強磁性金属層の表面に潤滑層や酸
化防止層を設けることができる。また、本発明の趣旨を
損なわない限り、２種のＰＥＮフィルムの間に第３のＰ
ＥＮフィルムを設けることも可能である。

【００１０】本発明にいうＰＥＮとは、２，６−ナフタ
レンジカルボン酸を酸成分の主成分（例えば８０モル％
以上）とし、エチレングリコールをグリコール成分の主
成分（例えば８０モル％以上）とするポリエステルを指
すが、他の成分を含んでいても構わない。他の成分とし
ては、テレフタル酸、イソフタル酸、アジピン酸、セバ
シン酸、およびＰ−ヒドロキシ安息香酸等の二官能性の
酸を一種以上、トリメチレングリコール、１，４−ヘキ
サメチレングリコールおよびシクロヘキサンジメタノー
ル等のグリコール化合物の一種以上を用いることができ
る。

【００１１】本発明においては、フィルムの表裏を異な
る粗度とするため、かかるポリマー中に、必要に応じ微
細な粒子や異種ポリマーを配合することもできる。本発
明の特徴の一つは共押出法により積層、延伸されたＰＥ
Ｎフィルムを用いることにある。このためには異なる組
成を有するＰＥＮを口金または口金以前で融液状で複合
し積層構造と成し、押出した後、常法に従って延伸、熱
固定する。かかる方法により、層間密着性の良い積層フ
ィルムを得ることができる。また本発明においてはＰＥ
Ｎ同士を積層、延伸させることが必須である。例えばＰ
ＥＴとＰＥＮとの積層フィルムにおいては、各層の最適
製膜条件が異なるので、厚みむらや熱収縮率の点で不利
となり、また、強度の点においても不十分である。

【００１２】なお、本発明においては、延伸後の積層Ｐ
ＥＮフィルムの厚みは通常３〜２０μｍ、好ましくは４
〜１５μｍであり、２種で構成される場合、低粗度層と
高粗度層との厚み比は１／５〜１０／１程度である。本
発明のＰＥＮフィルムの製膜条件の例をより具体的に述
べると次のとおりである。すなわち、溶融積層体を２７
５〜３２０℃でフィルム状に溶融押出した後、４０〜９
０℃で冷却固化し無定形シートとし、次いで縦、横に逐
時二軸延伸、あるいは同時に延伸し、１６０〜２４０℃
で熱処理する等の方法により得ることができる。この場
合、延伸を多段に行ったり、いわゆる再延伸を組み合わ
せることも可能である。

【００１３】相対的に高い粗度を与えるフィルムを得る
ためには、あらかじめ原料ＰＥＮ中に微細な不活性粒子
を適度に存在させておくと良い。用いられる不活性粒子
としては、例えばポリエステル生成反応中に系内で析出
させた不溶性触媒残渣あるいは無機粒子、例えばカオリ
ン、シリカ、炭酸カルシウム、酸化チタン、酸化アルミ
ニウム、カーボンブラック、および耐熱性に優れた架橋
高分子粒子等を挙げることができる。いずれにしてもこ
れらの粒子は、通常、平均粒径が０．０１μｍ〜０．３
μｍの範囲であり、その配合量は０．０１〜５重量％の
範囲から適宜選択される。ポリエチレングリコール、ポ
リフェニレンスルフィド、液晶ポリマー等の他の熱可塑
性樹脂をブレンドし微分散化する方法、コロナ放電処
理、紫外線照射処理、溶剤処理等の方法によるものでよ
い。

【００１４】いずれにしても本発明においては製膜工程
における巻き作業性を含む塗布工程前のフィルム取扱い
性を考慮して、高粗面度側の中心線平均粗さ（Ｒａ）
は、通常、０．００１〜０．０１０μｍの範囲とし、好
ましくは０．００４〜０．００８μｍの範囲とする。本
発明においては磁気記録媒体としてのさらに高度な走行
性を付与するため、この面に滑剤を含む塗布層（Ａ）を
設ける。

【００１５】かかる塗布層（Ａ）は、通常、水または溶
剤に滑剤を分散させた液をバインダーと共に塗布するこ
とにより形成するが、その方法は従来公知のものを使用
することができる。例えば、高分子系バインダーと滑
剤、さらに必要に応じ界面活性剤を含む水または溶剤系
の液をポリエステル未延伸フィルム、一軸延伸フィルム
に塗布した後、二軸に延伸する方法、あるいはこれらの
液を二軸延伸したポリエステルフィルムに塗布する方法
等がある。

【００１６】なお、塗膜中の滑剤としては、例えば酸化
ケイ素、酸化アルミニウム、カオリン、硫化モリブデ
ン、酸化チタン、炭酸カルシウム等の無機滑剤、あるい
はフッ素系樹脂、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレン、ポリメチルメタクリレート、架橋高分子等の
有機滑剤が好ましく用いられる。これらの滑剤は、通
常、平均粒径０．０１〜０．５μｍの範囲のものであ
り、塗布剤に対する濃度は０．５〜４０重量％の範囲か
ら適宜選択される。

【００１７】また、高分子系バインダーとしては、ポリ
エステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、オ
レフィン系樹脂、セルロース系樹脂、フェノール系樹
脂、エポキシ系樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ＳＢＲ等のゴ
ム系の樹脂等を使用することができる。本発明において
は、このようにして主として走行性を改良するためにポ
リエステルフィルム上に塗布層（Ａ）を形成するが、該
塗布層はフィルムの接着性改良のための下塗り層をあら
かじめ設けたり、また、段階的に粗度を高める等、多層
構造となっていてもよい。

【００１８】本発明においてはかかる塗布層（Ａ）の表
面状態に大きな特徴を有する。従来易滑性の指標となる
表面粗度はしばしばＲａで表現されているが、本発明者
らの知るところによれば、易滑性に加えて特に裏移りの
少いことが要求される本発明の磁気記録媒体において
は、その突起の高さと個数とを区別して表すことによ
り、磁気記録媒体の性能との関係をより的確に把握し得
ることを知見した。また、本発明においては、巻き上げ
たとき、磁性層面と接触することになる面の塗布層の硬
度がある特定範囲にあることを必須とする。

【００１９】すなわち、本発明においては、塗布層
（Ａ）の表面が次式（１）〜（３）を同時に満足する必
要がある。 ０．０１≦Ｈａ≦０．０８ …（１） １００００≦ｎａ≦６００００ …（２） １０≦ＨＤ≦１５０ …（３） 各パラメータの好ましい範囲は次のとおりである。

【００２０】 ０．０２≦Ｈａ≦０．０５ …（１′） １４０００≦ｎａ≦５００００ …（２′） ２０≦ＨＤ≦７０ …（３′） Ｈａ，ｎａが式（１）または（２）の下限を下回る場合
は、テープの走行性が不安定となったり、出力変動が大
きくなったりする。一方、Ｈａ，ｎａが上限を越える場
合は、塗布層（Ａ）の表面状態が磁性層表面に裏移りす
る現象が顕著となり、電磁気特性が劣るようになる。

【００２１】また、ＨＤが１０未満の場合は、走行性や
出力変動の点で劣るし、逆に１５０を越えると上述の裏
移り現象が頻発するようになる。このように本発明にお
いては、フィルム表面に比較的均一な突起を多数形成さ
せ、かつ、該表面がある特定範囲にある硬度を有するよ
うにするが、このためにはベースとなるＰＥＮフィルム
の粗度のコントロールのほか、塗布剤中の突起を形成さ
せる化合物、バインダーおよび乾燥条件が重要であり、
これらの因子を適宜組み合わせて達成する。

【００２２】なお、塗布層（Ａ）の厚みは通常、０．０
２〜２μｍの範囲である。本発明の積層ＰＥＮフィルム
の低粗度面を与える層は、通常、実質的に不活性物質を
含まないが、必要に応じ高粗度を発現させるに用いたと
同じ手法を採用し、Ｒａが０．００４μｍ以下、好まし
くは０．００１〜０．００４μｍの範囲となるようにす
ることもできる。

【００２３】本発明においてはこのＰＥＮフィルムの低
粗面度面にさらに塗布層（Ｂ）を設ける。塗布層（Ｂ）
は比磁性支持体の平坦性を損なわずに蒸着金属の密着性
を高めるために施されるものであり、塗布層（Ａ）と同
じく、高分子化合物を水または溶剤に溶解もしくは微分
散させた塗液を用いることにより達成される。この場
合、ガラス転移温度が基材のポリエステルフィルムのそ
れより低い高分子化合物を用いると、この改良が効果的
に達成される。塗布層（Ｂ）には、粗面を与えてしまう
ような滑剤を実質的に含んでいないことが望ましく、む
しろ塗布層（Ｂ）表面の粗さはポリエステルフィルムの
それより低くなることが好ましいが、上記高分子化合物
を用いると、このことが達成されやすく、好都合であ
る。塗布層（Ｂ）の表面の三次元平均突起Ｈｂは０．０
０１〜０．００８μｍであり、好ましくは０．００１〜
０．００５μｍである。

【００２４】なお、塗布層（Ｂ）の厚みは通常、０．０
１〜１μｍ、好ましくは０．０２〜０．５μｍの範囲で
ある。厚みが薄すぎると密着強度の向上が達成できない
し、また、塗膜表面の粗さをポリエステルフィルムのそ
れより低くすることが困難となる。塗膜厚みが１μｍを
越えると、非磁性支持体の機械的強度や耐熱特性が低下
してしまう。

【００２５】塗布層（Ｂ）はその趣旨を損なわない限
り、何層か組み合わせてもよい。本発明においては塗布
層（Ｂ）の表面に強磁性金属膜を形成するが、具体的に
は真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等
の方法により、鉄、コバルト、ニッケル、クロムまたは
それらを主成分とする合金もしくは酸化物薄膜を、通
常、０．０２〜１μｍ厚みとして形成させる。

【００２６】なお、本発明においてはヘッドタッチ性を
初めとする磁気記録媒体としての性能を向上させ、同時
に薄膜化を達成するため、積層ＰＥＮフィルムのヤング
率は縦方向、横方向とも、通常、６５０kg／mm² 以上、
好ましくは７００kg／mm² 以上、さらに好ましくは７５
０kg／mm² 以上、特に好ましくは各方向７８０kg／mm ²
以上とする。

【００２７】また、各層の結晶化度は２８％〜３８％で
あることが望ましい。いずれかの結晶化度が２８％未満
であると、収縮率が大きくなるし、また、この値が３８
％を越えるとフィルムの耐摩耗性が悪く基材と接触した
ときに白粉が生じやすくなる。

【００２８】

【実施例】以下、本発明を実施例により具体的に説明す
るが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものでは
ない。なお、本発明において用いた測定法は次のとおり
である。 （１） 表面粗さ（Ｒａ） 中心線平均粗さＲａ（μｍ）をもって表面粗さとし、
（株）小坂研究所製表面粗さ測定機（ＳＥ−３Ｆ）を用
いて次のようにして求めた。すなわち、フィルム断面曲
線からその中心線の方向に基準長さＬ（２．５mm）の部
分を抜き取り、この抜き取り部分の中心線をｘ軸、縦倍
率の方向をｙ軸として粗さ曲線ｙ＝ｆ（ｘ）で表したと
き、次の式で与えられた値を〔μｍ〕で表し、中心線平
均粗さは、試料フィルム表面から１０本の断面曲線を求
め、これらの断面曲線から求めた抜き取り部分の中心線
平均粗さの平均値で表した。なお、触針の先端半径は２
μｍ、荷重は３０mgとし、カットオフ値は０．０８mmと
した。

【００２９】

【数１】

【００３０】（２） 三次元平均突起高さ及び突起個数 小坂研究所製三次元表面粗さ計（ＳＥ−３ＡＫ）を用
い、触針の先端半径５μｍ、針圧３０mg、触針の走査速
度０．１mm／sec 、測定長０．５mm、サンプリングピッ
チ１．０μｍ、カットオフ０．２５mmの条件を用いた。
なおフィルム面に対して垂直な方向の倍率は５００００
倍または２００００倍（この倍率は測定しようとする表
面の粗さに応じて選択され、低粗度、すなわち三次元平
均突起高さが０．０１μｍ以下の場合は５００００倍、
これを越える場合は２００００倍とした）とし、フィル
ム面に沿った方向の倍率は２００倍、走査本数は５００
本として、突起高さおよび突起個数を測定した。この場
合、突起高さと突起個数との関係において、突起個数が
最大になる突起高さを０レベルとし、０レベルのときの
突起個数を突起個数ｎとした。また０レベルからの高さ
を突起高さＨｉ（ｉ番目の突起の高さ）として、三次元
平均突起高さＨは次式により求めた。

【００３１】

【数２】

【００３２】（３） 塗膜の硬度 （株）島津製作所製島津ダイナミック超微小硬度計ＤＵ
Ｈ−５０を用いて測定した。すなわち、スライドグラス
上で塗膜を８０℃で５時間乾燥、固化させて、対稜角１
１５°圧子、０．１ｇ荷重の条件でビッカース硬度を測
定し、ＨＤを以下の式で算出した。 ＨＤ＝３．７８３８／ｈ² （ここでｈは０．１ｇ荷重を加えたときの圧子押込み深
さ（μｍ）） なお、測定は２３℃、５０％ＲＨの条件下で行った。

【００３３】（４） ヤング率 （株）インテスコ製 引張試験機インテスコモデル２０
０１型を用いて、温度２３℃、湿度５０％ＲＨに調節さ
れた室内において、長さ３００mm、幅２０mmの試料フィ
ルムを、１０％／min のひずみ速度で引張り、引張応力
−ひずみ曲線の初めの直線部分を用いて次の式によって
計算した。 Ｅ＝Δσ／Δε （ただし、Ｅはヤング率（kg／mm² ）、Δσは直線上の
２点間の元の平均断面積による応力差、Δεは同じ２点
間のひずみ差）

【００３４】（５） フィルム表面の傷付き フィルム表面にアルミニウム蒸着を施こし、顕微鏡観察
（５０倍）にて傷付き程度を以下のようにランク分けし
た。

【００３５】ランクＡ：ほとんど傷がなく、強磁性金属
蒸着に際し問題を生じない。 ランクＢ：薄く長さ数μｍ〜数１０μｍの傷が認めら
れ、ドロップアウトを誘発することがある。 ランクＣ：ランクＢの傷の程度がひどく、しばしばドロ
ップアウトを誘発する。

【００３６】（６） 磁気テープの製造および特性評価 真空蒸着法によってコバルト８０重量％、ニッケル２０
重量％の合金強磁性薄膜（厚さ約０．１μｍ）を形成さ
せ、１／２インチ幅にスリットしてビデオテープとし
た。このビデオテープを直径６インチの巻芯に５０００
ｍ長さにわたって巻き取った。

【００３７】次いで、市販のビデオテープレコーダーを
用いて下記の磁気テープ特性を評価した。 （ｉ） ＶＴＲヘッド出力 シンクロスコープにより、測定周波数４メガヘルツにお
けるＶＴＲヘッド出力を測定し、ブランクを０デシベル
としその相対値をデシベルで表示した。なお、この値は
初期値であるが、１００回繰り返し走行を行った後、同
じ測定を行った。この時の値は磁性層の密着強度と相関
性が強く初期値と同じく高い程好ましい。

【００３８】（ii） 磁気テープの走行性および出力変
動 ＶＴＲヘッド出力の変動幅および走行張力の大小から磁
気テープの走行性を以下のようにランク分けした。 ランクＡ：ＶＴＲヘッド出力変動はほとんどなく、走行
張力も低く、安定した走行性を示す。 ランクＢ：テープの走行は安定しているが、ヘッド出力
変動が観察される。 ランクＣ：ヘッド出力変動幅は大きく、走行張力の変動
も観察され、極めて不安定な走行状態を示す。

【００３９】実施例１ （ＰＥＮの製造）２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメ
チルエステル１００部、エチレングリコール５５部およ
び酢酸マグネシウム四水塩０．０９部を用いてエステル
交換反応を行い、次いでエチルアシッドホスフェート
０．０４部、平均粒径０．０２μｍの酸化ケイ素０．４
部、および三酸化アンチモン０．０３５部を添加し、常
法に従って重縮合反応を行い、極限粘度０．５０のポリ
エチレン−２，６−ナフタレートを得た。

【００４０】次いで、該ポリマーを窒素流通下２４０℃
で７時間、固相重合を行い、極限粘度０．６３のＰＥＮ
（Ａ）を得た。一方、ＰＥＮ（Ａ）の製造において酸化
ケイ素を０．０５部とするほかは同じ操作を行い極限粘
度０．６４のＰＥＮ（Ｂ）を得た。 （積層ＰＥＮフィルムの製造）ＰＥＮ（Ａ）とＰＥＮ
（Ｂ）とを別々の押出機にて２９０℃で溶融し、パイプ
内で合流させた後、口金よりシート状に押し出し、静電
印加冷却法を用いて急冷し１３０μｍの無定形シートを
得た。次いで、この無定形シートのＰＥＮ（Ａ）層がロ
ール面と接触するようにしてロール間の周速差を利用し
て縦方向に１３５℃で５．４倍延伸した。さらに、テン
ター方式により、横方向に１３７℃で５．０倍延伸し、
２３０℃で熱処理を行い厚さ５．０μｍの二軸配向ＰＥ
Ｎフィルムを得た。得られた積層フィルムのＰＥＮ
（Ａ）層、ＰＥＮ（Ｂ）層の厚みは各々１．０μｍ、
４．０μｍであった。また、その露出する面のＲａは各
々０．００４μｍ、０．００１μｍであった。得られた
積層フィルムのヤング率は縦方向７６０kg／mm² 、横方
向７５０kg／mm² でロールによる擦り傷もなく、巻き特
性も良好であった。また、結晶化度は各々３５％であっ
た。 （塗布層の形成）次に得られたフィルムのＰＥＮ（Ａ）
層の面にアクリル樹脂６５部、ポリエステル樹脂２０
部、アクリル酸ナトリウム１０部および平均粒径０．１
μｍの酸化ケイ素５部を水３３００部に溶解および分散
させた液を塗布し、乾燥炉を通し、厚さ０．１０μｍの
塗布層（Ａ）を形成させた。塗布層（Ａ）表面のＨａは
０．０４μｍ、ｎａは１９５００、ＨＤは２０であっ
た。次いでＰＥＮ（Ｂ）層の面にアクリル樹脂７５部、
ポリエステル樹脂２５部を水４９００部に溶解させた液
を塗布、乾燥し、厚さ０．０３μｍの塗布層（Ｂ）を形
成させた。塗布層（Ｂ）の表面のＨｂは０．００２であ
った。 （磁性膜の形成）次いで塗布層（Ｂ）の面に強磁性金属
薄膜を形成することにより磁気記録媒体を得、その性能
を評価したが、画質、走行性とも優れ、実用価値の高い
ものであった。

【００４１】実施例２ 実施例１のＰＥＮ（Ａ）層に含有させる粒子を平均粒径
０．０３μｍの酸化アルミニウム０．３部に変え、また
延伸後のその層の厚みを１．５μｍとするほかは実施例
１と同様にして磁気テープを作成し、その性能を評価し
た。

【００４２】実施例３ 実施例１の塗布層（Ａ）の組成のアクリル酸ナトリウム
１０部をアルキロールメラミン１０部に変更するほかは
実施例１と同様にして磁気テープを作成し、その評価を
行った。

【００４３】比較例１ 実施例１のＰＥＮ（Ａ）の製造において酸化ケイ素を用
いないほかは同じ操作を行い実質的に粒子を含まないＰ
ＥＮ（Ｃ）を得た。次いで実施例１のＰＥＮ（Ａ）の代
わりにＰＥＮ（Ｃ）を用い、また、塗布層（Ａ）中の酸
化ケイ素粒子の量を１．５部とするほかは実施例１と同
様にして磁気テープを得、その性能を評価した。

【００４４】比較例２ 実施例１の塗布層（Ａ）中の粒子を平均粒径０．６μｍ
の炭酸カルシム６部とするほかは実施例１と同様にして
磁気テープを得た。

【００４５】比較例３ 実施例１において、塗布層（Ａ）の組成をポリエステル
樹脂９５部（酸成分としてテレフタル酸４０部、イソフ
タル酸４５部、イソフタル酸−５−スルホン酸ナトリウ
ム塩１５部、グリコール成分としてエチレングリコール
４５部、ジエチレングリコール５５部から成るもの）お
よび平均粒径０．１μｍの酸化ケイ素５部とするほかは
実施例１と同様にして磁気テープを得た。

【００４６】比較例４ 実施例１において、塗布層（Ａ）の組成をポリエステル
樹脂６０部（酸成分としてテレフタル酸９２部、イソフ
タル酸−５−スルホン酸ナトリウム塩８部、グリコール
成分としてエチレングリコール９５部、ジエチレングリ
コール５部から成るもの）、ポリシロキサン２５部、ア
ルキロールメラミン１２部および平均粒径０．４μｍの
酸化ケイ素３部とするほかは実施例１と同様にして磁気
テープを得た。

【００４７】比較例５ 実施例１において塗布層（Ｂ）を設けず、磁性金属を直
接ＰＥＮ（Ｂ）層に蒸着するほかは実施例１と同様にし
て磁気テープを作成しその特性を評価した。

【００４８】以上、得られた結果をまとめて下記表１に
示す。

【００４９】

【表１】

【００５０】

【発明の効果】本発明の磁気記録媒体は高出力でかつ出
力安定性および走行性に優れるものであり、その工業的
価値は高い。

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【手続補正書】

【提出日】平成３年９月６日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００３２

【補正方法】変更

【補正内容】

【００３２】（３） 塗膜の硬度 （株）島津製作所製島津ダイナミック超微小硬度計ＤＵ
Ｈ−５０を用いて測定した。すなわち、スライドグラス
上で塗膜を８０℃で５時間乾燥、固化させて、対稜角１
１５°の三角すい圧子、０．１ｇ荷重の条件で測定し、
ＨＤを以下の式で算出した。 ＨＤ＝３．７８３８／ｈ² （ここでｈは０．１ｇ荷重を加えたときの圧子押込み深
さ（μｍ）） なお、測定は２３℃、５０％ＲＨの条件下で行った。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 共押出法により積層、延伸して成るポリ
   エチレン−２，６−ナフタレートフィルムの高粗度面側
   に塗布層（Ａ）、低粗度面側に塗布層（Ｂ）および
   （Ｂ）層上に強磁性金属薄膜を設けて成る磁気記録媒体
   であって、該塗布層（Ａ）表面の三次元平均突起高さ
   （Ｈａ，単位μｍ）、突起個数（ｎａ，単位個／m
   m² ）、硬度（ＨＤ，単位μｍ^-2）および塗布層（Ｂ）
   表面の三次元平均突起高さ（Ｈｂ，単位μｍ）が下記式
   （１）〜（４）を同時に満足することを特徴とする磁気
   記録媒体。 ０．０１≦Ｈａ≦０．０８ …（１） １００００≦ｎａ≦６００００ …（２） １０≦ＨＤ≦１５０ …（３） ０．００１≦Ｈｂ≦０．００８ …（４）