JPH0516146A - プラスチツク成形用金型の製造方法 - Google Patents
プラスチツク成形用金型の製造方法Info
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- JPH0516146A JPH0516146A JP3175534A JP17553491A JPH0516146A JP H0516146 A JPH0516146 A JP H0516146A JP 3175534 A JP3175534 A JP 3175534A JP 17553491 A JP17553491 A JP 17553491A JP H0516146 A JPH0516146 A JP H0516146A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、光学素子の連続成形時に樹脂貼付き
の無い高い離型性，金型との密着性，耐久性に優れた離
型膜を得ることを主要な目的とする。 【構成】プラスチック成形用金型の成形面上に、（メ
タ）アクロイル基を有したモノマ−，オリゴマ−，ある
いはポリマ−の少なくとも１つと３〜30重量％のシラノ
−ル基を有する誘導体とからなる混合物を塗布した後、
放射線重合して架橋反応を起こさせて離型膜を形成する
ことを特徴とするプラスチック成形用金型の製造方法。
の無い高い離型性，金型との密着性，耐久性に優れた離
型膜を得ることを主要な目的とする。 【構成】プラスチック成形用金型の成形面上に、（メ
タ）アクロイル基を有したモノマ−，オリゴマ−，ある
いはポリマ−の少なくとも１つと３〜30重量％のシラノ
−ル基を有する誘導体とからなる混合物を塗布した後、
放射線重合して架橋反応を起こさせて離型膜を形成する
ことを特徴とするプラスチック成形用金型の製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はプラスチック成型用金型
の製造方法に関し、特に微細な凹凸面を有するスクリ−
ンのフレネルレンズやディスク等の光学素子を連続成形
する際に用いられる成型用金型の製法に関する。
の製造方法に関し、特に微細な凹凸面を有するスクリ−
ンのフレネルレンズやディスク等の光学素子を連続成形
する際に用いられる成型用金型の製法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、プラスチックレンズやプラスチッ
クプリズム、スクリ−ン等のプラスチック製の光学素子
が増えている。これら光学素子の製造に関しての問題は
連続成型による樹脂の貼付きである。この樹脂の貼付き
を防止する方法としては従来から弗素樹脂やシリコン樹
脂等をスプレ−等により金型表面に噴霧する方法やディ
ッピングにより金型表面に上記離型性物質を塗布して被
膜を形成する方法が一般的に知られている。
クプリズム、スクリ−ン等のプラスチック製の光学素子
が増えている。これら光学素子の製造に関しての問題は
連続成型による樹脂の貼付きである。この樹脂の貼付き
を防止する方法としては従来から弗素樹脂やシリコン樹
脂等をスプレ−等により金型表面に噴霧する方法やディ
ッピングにより金型表面に上記離型性物質を塗布して被
膜を形成する方法が一般的に知られている。
【０００３】また、その他の方法としては、シラノ−ル
基を有する誘導体の単分子層を金属面に形成させ金属面
からの樹脂の離型を容易にする方法（特開昭62-236713
号）や、ポリウレタン樹脂にシラノ−ル基含有組成物を
共重合させた樹脂を金型に焼き付ける方法（特開昭62-9
2813号）等が知られている。
基を有する誘導体の単分子層を金属面に形成させ金属面
からの樹脂の離型を容易にする方法（特開昭62-236713
号）や、ポリウレタン樹脂にシラノ−ル基含有組成物を
共重合させた樹脂を金型に焼き付ける方法（特開昭62-9
2813号）等が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来技
術によれば、以下に述べる問題点を有する。
術によれば、以下に述べる問題点を有する。
【０００５】１）特開昭62-236713 号の場合、シラノ−
ル基を有する誘導体の単分子層は金属面との強固な結合
が形成されておらず、離型性はあるものの金型との密着
性及び耐久性がない。また、シラノ−ル基を有する誘導
体の単分子層が金属面から脱離し成形物に転移して悪影
響を及ぼすこともある。
ル基を有する誘導体の単分子層は金属面との強固な結合
が形成されておらず、離型性はあるものの金型との密着
性及び耐久性がない。また、シラノ−ル基を有する誘導
体の単分子層が金属面から脱離し成形物に転移して悪影
響を及ぼすこともある。
【０００６】２）特開昭62-92813号の場合、シラノ−ル
基を有する誘導体がポリウレタン樹脂と共重合しており
高分子化しているので金型との密着性及び耐久性はよい
が、高分子化しているために均一な膜厚形成ができない
問題点がある。
基を有する誘導体がポリウレタン樹脂と共重合しており
高分子化しているので金型との密着性及び耐久性はよい
が、高分子化しているために均一な膜厚形成ができない
問題点がある。
【０００７】本発明は上記事情に鑑みてなされたもの
で、（メタ）アクロイル基を有したモノマ−，オリゴマ
−，あるいはポリマ−の少なくとも１つと３〜30重量％
のシラノ−ル基を有する誘導体とからなる混合物を塗布
した後、放射線重合して架橋反応を起こさせることによ
り、光学素子の連続成形時に樹脂貼付きの無い高い離型
性，金型との密着性，耐久性に優れた離型膜が得られる
プラスチック成形用金型の製造方法を提供することを目
的とする。
で、（メタ）アクロイル基を有したモノマ−，オリゴマ
−，あるいはポリマ−の少なくとも１つと３〜30重量％
のシラノ−ル基を有する誘導体とからなる混合物を塗布
した後、放射線重合して架橋反応を起こさせることによ
り、光学素子の連続成形時に樹脂貼付きの無い高い離型
性，金型との密着性，耐久性に優れた離型膜が得られる
プラスチック成形用金型の製造方法を提供することを目
的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明では、高い離型性
を有する，シラノ−ル基を有する誘導体を（メタ）アク
ロイル基を有したモノマ−，オリゴマ−，あるいはポリ
マ−の放射線硬化型樹脂に３〜30重量％のシラノ−ル基
を有する誘導体を配合して混合物とし、そのものをプラ
スチック成形用金型の成形面の上にスピンコ−ト法によ
り塗布する。そして、この塗布した上記混合物をＵＶ
（紫外線）やＥＢ（電子線）を照射して硬化させ、プラ
スチック成形用金型の成形面上に均一な厚さの離型膜を
形成する。ta均一な膜を形成する要因としては、低粘
度，回転数，塗布量，濃度，希釈溶媒，塗布環境（温
度，湿度）等がある。この中で回転数と希釈溶媒が膜の
均一性に非常に大きなウェイトを占めている。
を有する，シラノ−ル基を有する誘導体を（メタ）アク
ロイル基を有したモノマ−，オリゴマ−，あるいはポリ
マ−の放射線硬化型樹脂に３〜30重量％のシラノ−ル基
を有する誘導体を配合して混合物とし、そのものをプラ
スチック成形用金型の成形面の上にスピンコ−ト法によ
り塗布する。そして、この塗布した上記混合物をＵＶ
（紫外線）やＥＢ（電子線）を照射して硬化させ、プラ
スチック成形用金型の成形面上に均一な厚さの離型膜を
形成する。ta均一な膜を形成する要因としては、低粘
度，回転数，塗布量，濃度，希釈溶媒，塗布環境（温
度，湿度）等がある。この中で回転数と希釈溶媒が膜の
均一性に非常に大きなウェイトを占めている。
【０００９】即ち、本発明は、プラスチック成形用金型
の成形面上に、（メタ）アクロイル基を有したモノマ
−，オリゴマ−，あるいはポリマ−の少なくとも１つと
３〜30重量％のシラノ−ル基を有する誘導体とからなる
混合物を塗布した後、放射線重合して架橋反応を起こさ
せて離型膜を形成することを特徴とするプラスチック成
形用金型の製造方法である。
の成形面上に、（メタ）アクロイル基を有したモノマ
−，オリゴマ−，あるいはポリマ−の少なくとも１つと
３〜30重量％のシラノ−ル基を有する誘導体とからなる
混合物を塗布した後、放射線重合して架橋反応を起こさ
せて離型膜を形成することを特徴とするプラスチック成
形用金型の製造方法である。
【００１０】本発明において、シラノ−ル基を有する誘
導体としてはシランカップリング剤が挙げられる。この
系統としては、下記に示すようにビニル基を含有するタ
イプ（化１）、分子末端にエポキシ基を有するタイプ
（化２）、アミノ基を有するタイプ（化３）等がある。
導体としてはシランカップリング剤が挙げられる。この
系統としては、下記に示すようにビニル基を含有するタ
イプ（化１）、分子末端にエポキシ基を有するタイプ
（化２）、アミノ基を有するタイプ（化３）等がある。
【００１１】
【化１】
【００１２】
【化２】
【００１３】
【化３】
【００１４】本発明において、代表的な（メタ）アクロ
イル基を有する化合物としては、下記に示すように、エ
ポキシアクリレ−ト例えばビスフェノ−ルＡ−エピクロ
−ルヒドリン酸／アクリル酸（化４）、ポリウレタンア
クリレ−ト（化５）、ポリメチルメタクリレ−ト例えば
トリメリット酸／ジエチレングリコ−ル／アクリル酸
（化６）等が挙げられる。
イル基を有する化合物としては、下記に示すように、エ
ポキシアクリレ−ト例えばビスフェノ−ルＡ−エピクロ
−ルヒドリン酸／アクリル酸（化４）、ポリウレタンア
クリレ−ト（化５）、ポリメチルメタクリレ−ト例えば
トリメリット酸／ジエチレングリコ−ル／アクリル酸
（化６）等が挙げられる。
【００１５】
【化４】
【００１６】
【化５】
【００１７】
【化６】 このうち、高い硬度を有するエポキシアクリレ−ト及び
多官能ポリウレタンアクリレ−トが望ましい。
多官能ポリウレタンアクリレ−トが望ましい。
【００１８】
【作用】本発明方法において、（メタ）アクロイル基を
有したモノマ−，オリゴマ−，あるいはポリマ−の放射
線硬化型樹脂にシラノ−ル基を有する誘導体を配合する
と、ＵＶやＥＢ照射時に共重合を起こし、分子骨格内に
シラノ−ル基を有する誘導体が組み込まれる。放射線硬
化型樹脂は、金属表面との密着性は良好であり、この分
子内に離型性の高いシラノ−ル基を有する誘導体を導入
するので離型性にも優れ、更に密着性，耐久性にも優れ
ている。
有したモノマ−，オリゴマ−，あるいはポリマ−の放射
線硬化型樹脂にシラノ−ル基を有する誘導体を配合する
と、ＵＶやＥＢ照射時に共重合を起こし、分子骨格内に
シラノ−ル基を有する誘導体が組み込まれる。放射線硬
化型樹脂は、金属表面との密着性は良好であり、この分
子内に離型性の高いシラノ−ル基を有する誘導体を導入
するので離型性にも優れ、更に密着性，耐久性にも優れ
ている。
【００１９】
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。 （実施例１）
【００２０】この実施例１では、プラスチックレンズの
成形用金型の上に、ビニル基を含有するシラノ−ル基含
有誘導体と（メタ）アクロイル基を有したモノマ−，ポ
リマ−，オロゴマ−の放射線重合型の樹脂との混合物を
塗布する例を示す。
成形用金型の上に、ビニル基を含有するシラノ−ル基含
有誘導体と（メタ）アクロイル基を有したモノマ−，ポ
リマ−，オロゴマ−の放射線重合型の樹脂との混合物を
塗布する例を示す。
【００２１】ビニル基を含有するシラノ−ル基含有誘導
体として信越シリコン株式会社製造のシランカップリン
グ剤（商品名；KBM503）を用いた。この他、同社製造の
シランカップリング剤（商品名；KBM502）、ト−レシリ
コン株式会社製造のシランカップリング剤（商品名；SZ
-6030 ，SH-6075 ，SZ-6300 ，AY43-060）、あるいは東
芝シリコン株式会社製造のシランカップリング剤（商品
名；TSL8370 ，TSL8357 ）等でもよい。以下に、上記シ
ラノ−ル基含有誘導体と（メタ）アクロイル基を有した
モノマ−，ポリマ−，オロゴマ−との配合例を示す。 1)シランカップリング剤（商品名；KBM503、レ−メタアクリロキシプロピルトリ メトキシシラン） …２０重量部 2)重合開始剤（イルガキュア） …５重量部 3)グリセロ−ルポリグリシジルエ−テルポリアクリレ−ト（商品名；デナコ−ル DA-314、永瀬化成株式会社製造） …６０重量部 4)ジペンタエリスリト−ルヘキサアクリレ−ト（DPHA) …１５重量部
体として信越シリコン株式会社製造のシランカップリン
グ剤（商品名；KBM503）を用いた。この他、同社製造の
シランカップリング剤（商品名；KBM502）、ト−レシリ
コン株式会社製造のシランカップリング剤（商品名；SZ
-6030 ，SH-6075 ，SZ-6300 ，AY43-060）、あるいは東
芝シリコン株式会社製造のシランカップリング剤（商品
名；TSL8370 ，TSL8357 ）等でもよい。以下に、上記シ
ラノ−ル基含有誘導体と（メタ）アクロイル基を有した
モノマ−，ポリマ−，オロゴマ−との配合例を示す。 1)シランカップリング剤（商品名；KBM503、レ−メタアクリロキシプロピルトリ メトキシシラン） …２０重量部 2)重合開始剤（イルガキュア） …５重量部 3)グリセロ−ルポリグリシジルエ−テルポリアクリレ−ト（商品名；デナコ−ル DA-314、永瀬化成株式会社製造） …６０重量部 4)ジペンタエリスリト−ルヘキサアクリレ−ト（DPHA) …１５重量部
【００２２】上記組成物を回転数1500r.p.m で回転して
いるスピンコ−タの上に固定したプラスチックレンズ用
入れ子の成形面上に塗布し、高圧水銀灯を用いて400mJ
／cm2 の照度で120 秒紫外線を照射して硬化した。その
結果、プラスチックレンズ用入れ子の成形面上に、膜厚
６０００Ａ（０．６μｍ）の離型膜が形成された。これ
により、離型性を有し入れ子との密着性、耐久性に優れ
た離型膜を入れ子の成形面上に形成したプラスチックレ
ンズ成形用型を得た。下記［表１］は、上記実施例１及
び比較例１，２，３による配合比，離型性，密着性，耐
久性，転位性，形状転写性，総合評価を示すものであ
る。但し、上記配合比は上記KBM503／UV樹脂（モノマ
−，オリゴマ−，ポリマ−）の重量比を示す。
いるスピンコ−タの上に固定したプラスチックレンズ用
入れ子の成形面上に塗布し、高圧水銀灯を用いて400mJ
／cm2 の照度で120 秒紫外線を照射して硬化した。その
結果、プラスチックレンズ用入れ子の成形面上に、膜厚
６０００Ａ（０．６μｍ）の離型膜が形成された。これ
により、離型性を有し入れ子との密着性、耐久性に優れ
た離型膜を入れ子の成形面上に形成したプラスチックレ
ンズ成形用型を得た。下記［表１］は、上記実施例１及
び比較例１，２，３による配合比，離型性，密着性，耐
久性，転位性，形状転写性，総合評価を示すものであ
る。但し、上記配合比は上記KBM503／UV樹脂（モノマ
−，オリゴマ−，ポリマ−）の重量比を示す。
【００２３】
【表１】 （実施例２）
【００２４】この実施例２は、プラスチックレンズの成
形用金型の上に、分子末端にエポキシ基を含有するシラ
ノ−ル基含有誘導体と（メタ）アクロイル基を有したモ
ノマ−，オリゴマ−，ポリマ−の放射線重合型の樹脂と
の例を示す。
形用金型の上に、分子末端にエポキシ基を含有するシラ
ノ−ル基含有誘導体と（メタ）アクロイル基を有したモ
ノマ−，オリゴマ−，ポリマ−の放射線重合型の樹脂と
の例を示す。
【００２５】分子末端にエポキシ基を含有するシラノ−
ル基含有誘導体として、信越シリコン株式会社製造のシ
ランカップリング剤（商品名；KBM403）を用いた。この
他、同社製造のシランカップリング剤（商品名；KBM40
2）、ト−レシリコン株式会社製造のシランカップリン
グ剤（商品名；SH-6040 ）、信越シリコン株式会社製造
のシランカップリング剤（商品名；KBM402，KBM403）、
東芝シリコン株式会社製造のシランカップリング剤（商
品名；BX16-855，BX16-865，SF8421EG) 等を用いてもよ
い。上記シラ−ル基含有誘導体と（メタ）アクロイル基
を有したモノマ−，オリゴマ−，ポリマ−との配合例を
下記に示す。 1)シランカップリング剤（商品名；KBM403、レ−グリシドキシプロピルトリメト キシシラン） …１５重量部 2)重合開始剤（イルガキュア） …３重量部 3)ジペンタエリスリト−ルヘキサアクリレ−ト（DPHA) …１７重量部 4)ビスフェノ−ルＡ−エピクロルヒドリンエポキシ樹脂アクリル変性ポリマ− …６０重量部 5)エチレングリコ−ルジメタクリレ−ト …５重量部
ル基含有誘導体として、信越シリコン株式会社製造のシ
ランカップリング剤（商品名；KBM403）を用いた。この
他、同社製造のシランカップリング剤（商品名；KBM40
2）、ト−レシリコン株式会社製造のシランカップリン
グ剤（商品名；SH-6040 ）、信越シリコン株式会社製造
のシランカップリング剤（商品名；KBM402，KBM403）、
東芝シリコン株式会社製造のシランカップリング剤（商
品名；BX16-855，BX16-865，SF8421EG) 等を用いてもよ
い。上記シラ−ル基含有誘導体と（メタ）アクロイル基
を有したモノマ−，オリゴマ−，ポリマ−との配合例を
下記に示す。 1)シランカップリング剤（商品名；KBM403、レ−グリシドキシプロピルトリメト キシシラン） …１５重量部 2)重合開始剤（イルガキュア） …３重量部 3)ジペンタエリスリト−ルヘキサアクリレ−ト（DPHA) …１７重量部 4)ビスフェノ−ルＡ−エピクロルヒドリンエポキシ樹脂アクリル変性ポリマ− …６０重量部 5)エチレングリコ−ルジメタクリレ−ト …５重量部
【００２６】上記組成物を回転数1800r.p.m で回転して
いるスピンコ−タの上に固定したプラスチックレンズ用
入れ子の成形面上に塗布し、高圧水銀灯を用いて400mJ
／cm2 の照度で120 秒紫外線を照射して硬化した。その
結果、プラスチックレンズ用入れ子の成形面上に、膜厚
５０００Ａ（０．５μｍ）の離型膜が形成された。これ
により、離型性を有し入れ子との密着性、耐久性に優れ
た離型膜を入れ子の成形面上に形成したプラスチックレ
ンズ成形用型を得た。 （実施例３）
いるスピンコ−タの上に固定したプラスチックレンズ用
入れ子の成形面上に塗布し、高圧水銀灯を用いて400mJ
／cm2 の照度で120 秒紫外線を照射して硬化した。その
結果、プラスチックレンズ用入れ子の成形面上に、膜厚
５０００Ａ（０．５μｍ）の離型膜が形成された。これ
により、離型性を有し入れ子との密着性、耐久性に優れ
た離型膜を入れ子の成形面上に形成したプラスチックレ
ンズ成形用型を得た。 （実施例３）
【００２７】この実施例３は、プラスチックレンズの成
形用金型の上に、アミノ基を含有するシラノ−ル基含有
誘導体と（メタ）アクロイル基を有したモノマ−，オリ
ゴマ−，ポリマ−の放射線重合型の樹脂との例を示す。
形用金型の上に、アミノ基を含有するシラノ−ル基含有
誘導体と（メタ）アクロイル基を有したモノマ−，オリ
ゴマ−，ポリマ−の放射線重合型の樹脂との例を示す。
【００２８】アミノ基を含有するシラノ−ル基含有誘導
体としては、信越シリコン株式会社製造のシランカップ
リング剤（商品名；KBM603）を用いた。この他、同社製
造のシランカップリング剤（商品名；KBM602）、ト−レ
シリコン株式会社製造のシランカップリング剤（商品
名；SF8417，BY16-828BX，16-853）等を用いてもよい。
上記シラ−ル基含有誘導体と（メタ）アクロイル基を有
したモノマ−，オリゴマ−，ポリマ−との配合例を下記
に示す。 1)シランカップリング剤（商品名；KBM603、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノ プロピルトリメトキシシラン） …２０重量部 2)重合開始剤（イルガキュア） …５重量部 3) ２−メルトカプトエタノ−ル変性１，２ポリブタジエン …４０重量部 4)ジペンタエリスリト−ルヘキサアクリレ−ト（DPHA) …１５重量部
体としては、信越シリコン株式会社製造のシランカップ
リング剤（商品名；KBM603）を用いた。この他、同社製
造のシランカップリング剤（商品名；KBM602）、ト−レ
シリコン株式会社製造のシランカップリング剤（商品
名；SF8417，BY16-828BX，16-853）等を用いてもよい。
上記シラ−ル基含有誘導体と（メタ）アクロイル基を有
したモノマ−，オリゴマ−，ポリマ−との配合例を下記
に示す。 1)シランカップリング剤（商品名；KBM603、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノ プロピルトリメトキシシラン） …２０重量部 2)重合開始剤（イルガキュア） …５重量部 3) ２−メルトカプトエタノ−ル変性１，２ポリブタジエン …４０重量部 4)ジペンタエリスリト−ルヘキサアクリレ−ト（DPHA) …１５重量部
【００２９】上記組成物を回転数1300r.p.m で回転して
いるスピンコ−タの上に固定したプラスチックレンズ用
入れ子の成形面上に塗布し、高圧水銀灯を用いて400mJ
／cm2 の照度で120 秒紫外線を照射して硬化した。その
結果、プラスチックレンズ用入れ子の成形面上に、膜厚
７０００Ａ（０．７μｍ）の離型膜が形成された。これ
により、離型性を有し入れ子との密着性、耐久性に優れ
た離型膜を入れ子の成形面上に形成したプラスチックレ
ンズ成形用型を得た。
いるスピンコ−タの上に固定したプラスチックレンズ用
入れ子の成形面上に塗布し、高圧水銀灯を用いて400mJ
／cm2 の照度で120 秒紫外線を照射して硬化した。その
結果、プラスチックレンズ用入れ子の成形面上に、膜厚
７０００Ａ（０．７μｍ）の離型膜が形成された。これ
により、離型性を有し入れ子との密着性、耐久性に優れ
た離型膜を入れ子の成形面上に形成したプラスチックレ
ンズ成形用型を得た。
【００３０】
【発明の効果】以上詳述した如く本発明方法によれば、
（メタ）アクロイル基を有したモノマ−，オリゴマ−，
あるいはポリマ−の少なくとも１つと３〜30重量％のシ
ラノ−ル基を有する誘導体とからなる混合物を塗布した
後、放射線重合して架橋反応を起こさせることにより、
下記に列挙する効果を有する。 １．高い離型性を有する。 ２．低分子の反応型のシリコンであるので均一な膜が形
成できる。 ３．焼き付けを必要としないので、加工が容易である
（ＵＶやＥＢによる短時間硬化が可能である）。 ４．架橋型のため、シリコン単独で使用する場合と比較
して密着性が良い。 ５．ＵＶ硬化型の樹脂を用いているので、金型との密着
性が良い。 ６．反応型のシリコンであるので、ＵＶ硬化型樹脂と反
応し、シリコンの樹脂への転移がない。
（メタ）アクロイル基を有したモノマ−，オリゴマ−，
あるいはポリマ−の少なくとも１つと３〜30重量％のシ
ラノ−ル基を有する誘導体とからなる混合物を塗布した
後、放射線重合して架橋反応を起こさせることにより、
下記に列挙する効果を有する。 １．高い離型性を有する。 ２．低分子の反応型のシリコンであるので均一な膜が形
成できる。 ３．焼き付けを必要としないので、加工が容易である
（ＵＶやＥＢによる短時間硬化が可能である）。 ４．架橋型のため、シリコン単独で使用する場合と比較
して密着性が良い。 ５．ＵＶ硬化型の樹脂を用いているので、金型との密着
性が良い。 ６．反応型のシリコンであるので、ＵＶ硬化型樹脂と反
応し、シリコンの樹脂への転移がない。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】 プラスチック成形用金型の成形面上に、
（メタ）アクロイル基を有したモノマ−，オリゴマ−，
あるいはポリマ−の少なくとも１つと３〜30重量％のシ
ラノ−ル基を有する誘導体とからなる混合物を塗布した
後、放射線重合して架橋反応を起こさせて離型膜を形成
することを特徴とするプラスチック成形用金型の製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3175534A JPH0516146A (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | プラスチツク成形用金型の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3175534A JPH0516146A (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | プラスチツク成形用金型の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0516146A true JPH0516146A (ja) | 1993-01-26 |
Family
ID=15997757
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3175534A Withdrawn JPH0516146A (ja) | 1991-07-16 | 1991-07-16 | プラスチツク成形用金型の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0516146A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007512979A (ja) * | 2003-11-28 | 2007-05-24 | グゼノクス・エス・アー | 複製原型を製造する方法、複製法及び複製原型 |
| JP2011005696A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Tokyo Electron Ltd | テンプレート処理装置、インプリントシステム、離型剤処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
| JP2011005695A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Tokyo Electron Ltd | テンプレート処理装置、インプリントシステム、離型剤処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
| JP2011056747A (ja) * | 2009-09-09 | 2011-03-24 | Tokyo Electron Ltd | テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒、テンプレート処理装置及びインプリントシステム |
| WO2024062659A1 (ja) * | 2022-09-21 | 2024-03-28 | ユシロ化学工業株式会社 | 離型剤兼潤滑剤組成物、被膜の成形方法および乾性被膜 |
-
1991
- 1991-07-16 JP JP3175534A patent/JPH0516146A/ja not_active Withdrawn
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007512979A (ja) * | 2003-11-28 | 2007-05-24 | グゼノクス・エス・アー | 複製原型を製造する方法、複製法及び複製原型 |
| US8496863B2 (en) | 2003-11-28 | 2013-07-30 | Xenocs S.A. | Method for producing a replication master, replication method and replication master |
| JP2011005696A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Tokyo Electron Ltd | テンプレート処理装置、インプリントシステム、離型剤処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
| JP2011005695A (ja) * | 2009-06-24 | 2011-01-13 | Tokyo Electron Ltd | テンプレート処理装置、インプリントシステム、離型剤処理方法、プログラム及びコンピュータ記憶媒体 |
| JP2011056747A (ja) * | 2009-09-09 | 2011-03-24 | Tokyo Electron Ltd | テンプレート処理方法、プログラム、コンピュータ記憶媒、テンプレート処理装置及びインプリントシステム |
| WO2024062659A1 (ja) * | 2022-09-21 | 2024-03-28 | ユシロ化学工業株式会社 | 離型剤兼潤滑剤組成物、被膜の成形方法および乾性被膜 |
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| Date | Code | Title | Description |
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| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
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