JPH051223A - 耐光性に優れたポリアミド樹脂組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 卓越した耐光性を長期にわたり維持できるポ
リアミド樹脂組成物を得ること。 【構成】 ポリアミド樹脂に、ベンゾトリアゾール系化
合物の紫外線吸収剤，ヒンダードアミン系化合物のラジ
カル捕捉剤，及びヒンダードフェノール系化合物の酸化
防止剤を配合してなる耐光性に優れたポリアミド樹脂組
成物

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は耐光性に優れたポリアミ
ド樹脂組成物に関し、詳しくは紫外線による劣化がなく
安定化された新規なポリアミド樹脂組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】一般
に、ポリアミド樹脂は、優れた耐熱性，耐摩耗性，成形
加工性等を有する熱可塑性樹脂であり、エンジニアプラ
スチックとして種々の電子・電気部品，自動車部品，機
械部品等に広く利用されている。例えば、自動車の内装
材においては、特に耐光性が要求されており、ポリアミ
ド樹脂に紫外線吸収剤やラジカル捕捉剤等が配合されて
いる。しかし、従来の配合の組合せでは、紫外線による
クラック，褪色，機械的物性の低下が生じ、実用性に乏
しかった。

【０００３】そこで、本発明者らは、上記問題を解決し
て紫外線による劣化作用を受けない実用性の高いポリア
ミド樹脂組成物を開発すべく鋭意研究を続けた。

【０００４】

【課題を解決するための手段】その結果、特定の紫外線
吸収剤，ラジカル捕捉剤及び酸化防止剤を所定割合でポ
リアミド樹脂に配合することにより、上記課題を解決で
きることを見出した。本発明は、かかる知見に基いて完
成したものである。すなわち、本発明は、ポリアミド樹
脂１００重量部に、（Ａ）ベンゾトリアゾール系化合物
の紫外線吸収剤（以下（Ａ）成分と記す。）を0.１重量
部以上，（Ｂ）ヒンダードアミン系化合物のラジカル捕
捉剤（以下（Ｂ）成分と記す。）を0.１重量部以上及び
（Ｃ）ヒンダードフェノール系化合物の酸化防止剤（以
下（Ｃ）成分と記す。）を0.２重量部以上配合してなる
耐光性に優れたポリアミド樹脂組成物を提供するもので
ある。

【０００５】本発明のポリアミド樹脂組成物は、上記の
ようにポリアミド樹脂に、（Ａ），（Ｂ）及び（Ｃ）成
分を配合してなるものであるが、ここでポリアミド樹脂
としては、各種のものがあり、例えばナイロン６，ナイ
ロン１１，ナイロン１２等のポリラクタム類；ナイロン
６６，ナイロン１０，ナイロン６１２，ナイロン４６等
のジカルボン酸とジアミンから得られるポリアミド類；
ナイロン６／６６，ナイロン６／１２，ナイロン６／６
１２，ナイロン６／６６／６１０等の共重合体ポリアミ
ド類；ナイロン６／６Ｔ（Ｔ：テレフタル酸成分），イ
ソフタル酸のような芳香族ジカルボン酸とメタキシレン
ジアミンあるいは脂環族ジアミンから得られる半芳香族
ポリアミド類；ポリエステルアミド，ポリエーテルアミ
ド及びポリエステルエーテルアミド等を挙げることがで
きる。なお、ポリアミド樹脂としては、上記各種のポリ
アミドを単独で用いてもよく、さらに２種以上のポリア
ミド樹脂を併用することも可能である。

【０００６】さらに、本発明において使用できるポリア
ミド樹脂は、上述のポリアミドより選択されたものであ
れば、これらのポリアミドの末端基の種類や濃度および
分子量などにより制限されることなく種々のものを使用
することができるが、とりわけ高アミノ末端ポリアミド
が好ましい。また、ポリアミドの重合時に残存または生
成するモノマー，オリゴマー等の低分子量物が混在して
いるポリアミドも用いることが可能である。

【０００７】また、（Ａ）成分としては、ベンゾトリア
ゾール系化合物の紫外線吸収剤であればよく、例えば２
−〔２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチル
ベンジル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（商
品名：チヌビン２３４）；２−（２’−ヒドロキシ−
５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール；２−
（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェ
ニル）ベンゾトリアゾール；２−（２’−ヒドロキシ−
３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロ
ロベンゾトリアゾール；２−（２’−ヒドロキシ−
３’，５’−ジ−ｔ−アルミフェニル）ベンゾトリアゾ
ール；２−（２’−ヒドロキシ−４’−オクチルフェニ
ル）ベンゾトリアゾール等が挙げられる。

【０００８】同様に（Ｂ）成分としては、ヒンダードア
ミン系化合物のラジカル捕捉剤であればよく、例えばコ
ハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−
ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン
重縮合物（商品名：チヌビン６２２ＬＤ）；ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル）セバケ
ート（商品名：チヌビン７７０ＳＬ）；ケトン−アミン
縮合物；ジアリルジアミン；ジアリルアミン；ケトン−
ジアリルアミン縮合物等が挙げられる。

【０００９】さらに、（Ｃ）成分としては、ヒンダード
フェノール系化合物の酸化防止剤であればよく、例えば
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチ
ル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）（商品名：
イルガノックス１０９８）；２，６−ジ−ｔ−ブチル−
ｐ−クレゾール；ブチル化ヒドロキシアニソール；プロ
ピオン酸ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
４−ヒドロキシフェニル）；２，２’−メチレン−ビス
（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）；４，４’
−チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノー
ル）；４，４’−ブチリデン−ビス（３−メチル−６−
ｔ−ブチルフェノール）；１，１，３−トリス（２−メ
チル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタ
ン；１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス
（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）
ベンゼン；テトラキス〔メチレン−３−（３’，５’−
ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオ
ナート〕メタン等が挙げられる。

【００１０】本発明の、ポリアミド樹脂組成物におい
て、耐光性に優れたポリアミド樹脂組成物を製造するた
めの各成分の配合割合は、ポリアミド樹脂１００重量部
に対して（Ａ）成分を0.１重量部以上，（Ｂ）成分を0.
１重量部以上及び（Ｃ）成分を0.２重量部以上であり、
好ましくは（Ａ）成分を0.２重量部以上，（Ｂ）成分を
0.１５重量部以上及び（Ｃ）成分を0.３重量部以上、さ
らに好ましくは（Ａ）成分を0.３重量部以上0.３５重量
部以下，（Ｂ）成分を0.２重量部以上0.２５重量部以下
及び（Ｃ）成分を0.２重量部以上0.５重量部以下であ
る。

【００１１】ここで、（Ａ）成分が0.１重量部未満で
は、クラックが生じるという問題があり、（Ｂ）成分が
0.１重量部未満では、脆化が生じるというという不都合
がある。一方、（Ｃ）成分が0.２重量部未満では、分子
鎖の切断により機械的強度が低下するという問題があ
る。

【００１２】本発明のポリアミド樹脂組成物を製造する
に際しては、ポリアミド樹脂，（Ａ），（Ｂ）及び
（Ｃ）成分を混合することによって行うことができる。
混合の順序に関しては特に制限はなく、任意の順序で配
合することができる。

【００１３】なお、上記混合の操作は、単軸，二軸押出
機など公知の溶融混合装置を用いて行えばよい。本発明
の組成物は、上述の如く、ポリアミド樹脂に上記の
（Ａ），（Ｂ）及び（Ｃ）成分を配合したものを主成分
とするものであるが、目的に応じてさらに染料，顔料，
充填剤，核剤，繊維状物，可塑剤，滑剤，離型剤，カッ
プリング剤，発泡剤，耐熱剤，耐候剤，難燃剤あるいは
摺動剤等を適量添加することができる。

【００１４】また、本発明の組成物は、パイプ，チュー
ブ，棒，中空成形品，射出成形品等に加工することが可
能であり、さらに後加工としてメッキ，塗装などを施す
こともできる。

【００１５】

【実施例】次に、本発明を実施例及び比較例により、さ
らに詳しく説明する。なお、本発明は、以下の実施例に
限定されるものではない。

【００１６】実施例１ ポリアミド樹脂としてナイロン６（相対粘度3.１０，ア
ミノ末端基濃度4.９×１０^-5当量／ｇ）２ｋｇに、紫外
線吸収剤として２−〔２−ヒドロキシ−３，５−ビス
（α，α−ジメチルベンジル）フェニル〕−２Ｈ−ベン
ゾトリアゾール（商品名：チヌビン２３４）を0.３０重
量部，ラジカル捕捉剤としてコハク酸ジメチル−１−
（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，
６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物（商品名：チ
ヌビン６２２ＬＤ）を0.２５重量部及び酸化防止剤とし
てＮ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブ
チル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）（商品
名：イルガノックス１０９８）を0.４０重量部を配合
し、ヘンシェルミキサーで混合した。得られた混合物を
同方向二軸押出機（内径３０ｍｍ，ＰＣＭ３０）で造粒
した。

【００１７】得られた造粒物を射出成形機（サイキャッ
プＭIII １６５／７５，住友重機（株）製）で１ｍｍ×
５０ｍｍ×５０ｍｍの平板を成形し、フェードメーター
（スガ試験機（株）製）を用いてブラックパネル温度８
３℃，湿度５０％で１０００時間紫外線照射を行い、マ
イクロスコープ（倍率２０倍）で外観を判定した。得ら
れた結果を第１表に示す。

【００１８】実施例２ ラジカル捕捉剤としてチヌビン６２２ＬＤの代わりに、
ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニ
ル）セバケート（商品名：チヌビン７７０ＬＳ）を0.２
５重量部用いたこと以外は、実施例１と同様の操作を行
った。得られた結果を第１表に示す。

【００１９】実施例３ ラジカル捕捉剤としてチヌビン６２２ＬＤを0.２０重量
部及びチヌビン７７０ＬＳを0.２０重量部用いたこと以
外は、実施例１と同様の操作を行った。得られた結果を
第１表に示す。

【００２０】比較例１ 紫外線吸収剤，ラジカル捕捉剤及び酸化防止剤を用いな
かったこと以外は、実施例１と同様の操作を行った。得
られた結果を第１表に示す。

【００２１】比較例２ ラジカル捕捉剤及び酸化防止剤を用いなかったこと以外
は、実施例１と同様の操作を行った。得られた結果を第
１表に示す。

【００２２】比較例３ 酸化防止剤を用いなかったこと以外は、実施例１と同様
の操作を行った。得られた結果を第１表に示す。

【００２３】比較例４ ラジカル捕捉剤を用いなかったこと以外は、実施例１と
同様の操作を行った。得られた結果を第１表に示す。

【００２４】比較例５ 紫外線吸収剤としてチヌビン２３４を0.０５重量部用い
たこと以外は、実施例１と同様の操作を行った。得られ
た結果を第１表に示す。

【００２５】

【表１】

【００２６】

【表２】

【００２７】

【発明の効果】上記の如く、本発明によれば、紫外線吸
収剤，ラジカル捕捉剤及び酸化防止剤を特定の割合でポ
リアミド樹脂に配合することにより、紫外線による劣化
作用を受けないよう安定化された新規なポリアミド樹脂
組成物を容易に得ることができる。

【００２８】したがって、本発明のポリアミド樹脂組成
物は、耐光性が要求されるエンジニアリングプラスチッ
クとして、種々の電子・電気部品，自動車部品（特に自
動車の内装材），機械部品等に広く利用できる。

フロントページの続き (72)発明者 石龍 亨 神奈川県川崎市川崎区千鳥町３−２ 昭和 電工株式会社川崎樹脂研究所内

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 ポリアミド樹脂１００重量部に、（Ａ）
   ベンゾトリアゾール系化合物の紫外線吸収剤を0.１重量
   部以上，（Ｂ）ヒンダードアミン系化合物のラジカル捕
   捉剤を0.１重量部以上及び（Ｃ）ヒンダードフェノール
   系化合物の酸化防止剤を0.２重量部以上配合してなる耐
   光性に優れたポリアミド樹脂組成物。
2. 【請求項２】 ベンゾトリアゾール系化合物が、２−
   〔２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベ
   ンジル）フェニル〕−２Ｈ−ベンゾトリアゾールである
   請求項１記載のポリアミド樹脂組成物。
3. 【請求項３】 ヒンダードアミン系化合物が、コハク酸
   ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロ
   キシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合
   物及び／又はビス（２，２，６，６−テトラメチル−４
   −ピペリジニル）セバケートである請求項１記載のポリ
   アミド樹脂組成物。
4. 【請求項４】 ヒンダードフェノール系化合物が、Ｎ，
   Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−
   ４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）である請求項１
   記載のポリアミド樹脂組成物。