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JPH04166816A - High brightness liquid crystal panel for projection display - Google Patents

High brightness liquid crystal panel for projection display

Info

Publication number
JPH04166816A
JPH04166816A JP2292004A JP29200490A JPH04166816A JP H04166816 A JPH04166816 A JP H04166816A JP 2292004 A JP2292004 A JP 2292004A JP 29200490 A JP29200490 A JP 29200490A JP H04166816 A JPH04166816 A JP H04166816A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pixel
electrode
bus
liquid crystal
gate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2292004A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayasu Eto
江渡 正容
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
Priority to JP2292004A priority Critical patent/JPH04166816A/en
Publication of JPH04166816A publication Critical patent/JPH04166816A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Liquid Crystal (AREA)
  • Thin Film Transistor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
(57) [Summary] This bulletin contains application data before electronic filing, so abstract data is not recorded.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は投写形ディスプレイの用いる液晶パネルの構造
に係わり、特に開口率か大きく高輝度な液晶パネルに関
する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to the structure of a liquid crystal panel used in a projection display, and particularly to a liquid crystal panel with a large aperture ratio and high brightness.

[従来の技術] a−8i  (amorphous −,5ilico
n・非晶質シリコン)あるいはp−8i(poly−3
i l 1con:多結晶シリコン)等からなる半導体
薄膜をチャンネルとする1F T6一 (’Fhin−Fi1m−Transistor:薄膜
トランジスタあるいは画素トランジスタ)構造に関して
は、「液晶一応用編」 (岡野、小林編:2oO〜20
1頁、培風館、昭和60年)あるいは「液晶ディスプレ
イ」 (太越需修 157〜163頁、昭晃堂、198
5年)に記載されている。いずれも、ゲート電極で電界
制御される半導体薄膜のチャンネルを設け、そのチャン
ネルの両端にドレイン電極とソース電極とを重ねる構造
である。
[Prior art] a-8i (amorphous -, 5ilico
n/amorphous silicon) or p-8i (poly-3
Regarding the 1F T6 ('Fhin-Fi1m-Transistor: thin film transistor or pixel transistor) structure whose channel is a semiconductor thin film made of polycrystalline silicon (Il1con: polycrystalline silicon) etc., please refer to "Liquid Crystal Applied Edition" (edited by Okano and Kobayashi: 2oO ~20
1 page, Baifukan, 1985) or "liquid crystal display" (Taietsu Toshu, pp. 157-163, Shokodo, 198
5 years). Both have a structure in which a semiconductor thin film channel whose electric field is controlled by a gate electrode is provided, and a drain electrode and a source electrode are stacked on both ends of the channel.

これらの従来構造では、ゲート電極の母線(あるいはゲ
ートバス)と信号電極の母線(あるいはドレインバス)
を配置し、これらゲートバスあるいはドレインバスから
分岐したゲート電極あるいはドレイン電極で画素トラン
ジスタの電極を構成する構造であった。
In these conventional structures, the gate electrode bus (or gate bus) and the signal electrode bus (or drain bus)
The pixel transistor had a structure in which the electrodes of the pixel transistors were formed from gate electrodes or drain electrodes branched from these gate buses or drain buses.

ここで従来構造を図を用いて説明する。Here, the conventional structure will be explained using figures.

第8図、第9図は、従来の画素構成の一例であり、第8
図が半導体薄膜部分にa−8iを用いたTPT (Th
in−Fi Irn−T’ransistor  薄膜
トランジスタあるいは画素トランジスタ)の上面構造図
、第9図が該第8図の一点鎖線ABに沿う断面図である
FIGS. 8 and 9 are examples of conventional pixel configurations.
The figure shows TPT (Th
FIG. 9 is a top structural view of the in-Fi Irn-T'transistor (thin film transistor or pixel transistor), and is a sectional view taken along the dashed line AB in FIG.

第8図に示す画素は、ゲートバス1.9、ゲート電極1
a、a−3i2、ソース電43、ドレインバス4.8、
ドレイン電極4a、画素電極5.7、BM開口部6、保
持電極9bからなる。
The pixel shown in FIG. 8 has a gate bus 1.9 and a gate electrode 1.
a, a-3i2, source voltage 43, drain bus 4.8,
It consists of a drain electrode 4a, a pixel electrode 5.7, a BM opening 6, and a holding electrode 9b.

第9図に示す断面図は、下板基板60、ゲート電極層2
1、絶縁層30.a−3i層22、ソース電極層23、
ドレイン電極層24、画素電極層27、保護膜31から
なる’V F T基板と、上板基板50,8M層40.
対向電極32からなる8M基板と、該TPT基板と該8
M基板との間に挿入した液晶層70からなる。
The cross-sectional view shown in FIG. 9 shows the lower substrate 60 and the gate electrode layer 2.
1. Insulating layer 30. a-3i layer 22, source electrode layer 23,
A 'V F T substrate consisting of a drain electrode layer 24, a pixel electrode layer 27, a protective film 31, an upper substrate 50, an 8M layer 40.
An 8M substrate consisting of a counter electrode 32, the TPT substrate and the 8M substrate.
It consists of a liquid crystal layer 70 inserted between the M substrate and the M substrate.

一般に液晶パネルでは、液晶あるいは画素トランジスタ
による電流リークを補償して画素表示を安定させるため
、画素電極に書き込まれる電荷を保持する保持容量を設
けている。」−記載8図、第9図に示す画素では、ゲー
トバス9か一7= ら分岐した保持電極9bと画素電極5との重なり部分に
於いて保持容量を形成している。
In general, a liquid crystal panel is provided with a storage capacitor that holds charge written to a pixel electrode in order to stabilize pixel display by compensating for current leakage from the liquid crystal or pixel transistor. In the pixels shown in FIGS. 8 and 9, a storage capacitor is formed in the overlapping portion of the storage electrode 9b branched from the gate bus 9 and the pixel electrode 5.

上記において、画素トランジスタはa−6i2をチャン
ネルとして、ドレインバス1から分岐したゲート電極1
a、ドレインバス4から分岐したドレイン電極4aおよ
び画素電極5に電気的に接続したソース電極3から構成
される。
In the above, the pixel transistor has a-6i2 as a channel and a gate electrode 1 branched from the drain bus 1.
a, a drain electrode 4a branched from the drain bus 4, and a source electrode 3 electrically connected to the pixel electrode 5.

第8図から分かるとおり、ゲートバス1からの分岐部分
が存在するために、画素電極5は一点鎖線枠で示す小面
積部分5Sか突き出るような形になる。画素ピッチが小
さい場合、液晶の配向制御の、ために行うラビング(綿
布などでカラス基板を一定方向に擦る作業)がこの部分
5Sには有効に作用せず、部分5Sが配向不良による液
晶の非応答領域(ドメイン)となる恐れがある。
As can be seen from FIG. 8, since there is a branch portion from the gate bus 1, the pixel electrode 5 has a shape in which a small area portion 5S indicated by a dashed line frame protrudes. When the pixel pitch is small, rubbing (rubbing the glass substrate in a certain direction with cotton cloth, etc.) performed to control the alignment of the liquid crystal does not work effectively on this portion 5S, and the portion 5S is affected by the non-alignment of the liquid crystal due to poor alignment. There is a risk that it will become a response area (domain).

このため、第8図に示す画素では、−に記液晶のドメイ
ンを遮蔽するようにB M開口部5の形状を狭くし、液
晶パネルの開「I率を大幅に低下させることになる。
For this reason, in the pixel shown in FIG. 8, the shape of the BM aperture 5 is narrowed so as to shield the liquid crystal domain indicated by -, thereby significantly reducing the aperture ratio of the liquid crystal panel.

=9− [発明が解決しようとする課題] 上記構成では、長方形の画素のコーナ一部に画素1〜ラ
ンシスタを設けることになり、四角形を理想とする画素
電極の開口部形状が大きく歪んでしまうという問題があ
る。
=9- [Problems to be Solved by the Invention] In the above configuration, pixels 1 to 1 to run transistors are provided in a part of the corner of a rectangular pixel, and the shape of the opening of the pixel electrode, which is ideally rectangular, is greatly distorted. There is a problem.

しかも、画素トランジスタを配置した部分の近傍には小
面積の画素電極か形成され、この小面積の画素電極部分
では液晶の配向制御か#l[しく、液晶の向きか揃わな
いためにhW、光性を失って電界応答しないドメインが
発生恐れがある。
Moreover, a small-area pixel electrode is formed near the part where the pixel transistor is arranged, and in this small-area pixel electrode part, liquid crystal orientation control is required. There is a risk that domains will be generated that lose their properties and do not respond to electric fields.

さらに、投写形ディスプレイに用いる高精細・7小形液
晶パネルでは画素ピッチか小さくなるため、ゲートバス
あるいはドレインバスから分岐したゲート電極あるいは
ドレイン電極で画素電極を構成することにより開口率か
大幅に低下するという問題を生じる。
Furthermore, since the pixel pitch of high-definition 7-compact liquid crystal panels used in projection displays is small, the aperture ratio is significantly reduced by forming pixel electrodes with gate electrodes or drain electrodes branched from the gate bus or drain bus. The problem arises.

本発明は、画素ピッチが小さい液晶パネルに於いても、
はぼ四角形の開[−1形状を持ち、ドメインが少なく、
開口率を向1−できる画素構造を提供することにある。
The present invention can be used even in liquid crystal panels with a small pixel pitch.
Has a rectangular open [-1 shape, few domains,
The object of the present invention is to provide a pixel structure in which the aperture ratio can be adjusted to 1.

[課題を解決するための手段] 上記構成の代わりに、液晶パネルのゲートバスとドレイ
ンバスとの交差部に半導体薄膜を配置して画素トランジ
スタを形成する構成とする。
[Means for Solving the Problems] Instead of the above structure, a pixel transistor is formed by disposing a semiconductor thin film at the intersection of a gate bus and a drain bus of a liquid crystal panel.

すなわち、ゲートバス、ドレインバスからの分岐部分を
利用するのではなく、該交差部のゲートバスの一部分を
そのままゲート電極として使用し、ドレインバスの一部
分をそのままドレイン電極として使用する。
That is, instead of using the branch portion from the gate bus and drain bus, a portion of the gate bus at the intersection is used as it is as the gate electrode, and a portion of the drain bus is used as it is as the drain electrode.

[作用] ゲートバス、ドレインバスからの分岐部分を電極として
画素トランジスタを形成する構造では、ゲートバス、ド
レインバスの幅等に関しては影響かないが、分岐部分の
面積たけ画素電極の面積か削られることになる。
[Function] In a structure in which a pixel transistor is formed using a branch part from a gate bus or a drain bus as an electrode, the width of the gate bus or drain bus is not affected, but the area of the pixel electrode is reduced by the area of the branch part. become.

これに対してゲートバスとドレインバスとの交差部に画
素トランジスタを形成する構造では、既に存在する交差
部面積を有効に活用することになるので、それに相当す
る面積たけ画素電極部へのしわ寄せが少なくなり、開口
部面積か向上する。
On the other hand, in a structure where the pixel transistor is formed at the intersection of the gate bus and the drain bus, the area of the intersection that already exists is effectively used, so the pixel electrode area is wrinkled by the corresponding area. This reduces the opening area and improves the opening area.

しかも、交差部に画素トランジスタを形成するため、画
素トランジスタの画素電極部の表示部分へのはみ出しが
少なくなり、画素形状の歪や液晶のドメインか少なくな
る。
Furthermore, since the pixel transistor is formed at the intersection, the protrusion of the pixel electrode portion of the pixel transistor into the display area is reduced, which reduces distortion of the pixel shape and the number of liquid crystal domains.

[実施例] 以下、本発明の一実施例を図を用いて説明する。 第1
図は、本発明の詳細な説明するための画素の上面図であ
る。
[Example] Hereinafter, an example of the present invention will be described with reference to the drawings. 1st
The figure is a top view of a pixel for explaining the present invention in detail.

第1図に示す画素は、第8図と同様にゲートバス1.9
、a−3i2.10、ソース電極3.11、ドレインバ
ス4.8、画素電極5.7、BM開口部6、保持電極9
b、lbからなるが、a−812がゲートバス1の上に
配置されている点が異なる。
The pixel shown in FIG. 1 has a gate bus of 1.9 as in FIG.
, a-3i2.10, source electrode 3.11, drain bus 4.8, pixel electrode 5.7, BM opening 6, holding electrode 9
B, lb, except that a-812 is placed above the gate bus 1.

このようにa−3i2をゲートバスl上に設けたことに
より、第1図では第8図に示すようなゲート電g11 
aあるいはドレイン電極4a(7)ようにゲートバス1
から分岐して作られるあるいはドレインバス4から分岐
して作られる電極・−11− かない。
By providing a-3i2 on the gate bus l in this way, in FIG. 1, the gate voltage g11 as shown in FIG.
a or the gate bus 1 like the drain electrode 4a (7)
An electrode made by branching from the drain bus 4 or by branching from the drain bus 4 does not exist.

上記図面から分かるとおり、第1図に示す構造では画素
トランジスタのチャンネル部かゲートバス1の上に構成
されるために、画素電極5.7は一点鎖線枠で示す小面
積部分5s、7sが突き出るような形になる。
As can be seen from the above drawings, in the structure shown in FIG. 1, since the pixel electrode 5.7 is constructed on the channel portion of the pixel transistor or on the gate bus 1, the small area portions 5s and 7s shown by the dashed-dotted line frame protrude. It will look like this.

この第1図に示す部分5s、7sは、第8し1と同様の
理由によってラビング時に配向不良を起こし液晶の非応
答領域(ドメイン)となるか、部分5sはゲートバス9
と保持電f19bに遮光され、7sはゲートバス1と保
持電極1bに遮光されており、液晶パネルの外部からは
見えないような構造をなしている。
The portions 5s and 7s shown in FIG. 1 may become non-responsive regions (domains) of the liquid crystal due to alignment failure during rubbing due to the same reason as No.
7s is shielded from light by the gate bus 1 and the holding electrode 1b, and is structured so that it cannot be seen from the outside of the liquid crystal panel.

このため、画素電極5の大部分を表示として使用するこ
とができ、BM開口部6は従来に比べて広い開口部とす
ることが可能である。
Therefore, most of the pixel electrode 5 can be used for display, and the BM aperture 6 can be made wider than the conventional one.

第2図は第1図に示す画素の一点鎖線ハ、Bに沿う断面
図である。第9図に示す断面図と同様に、下板基板60
、ゲートバス層21、絶縁層30、a−81層22、ソ
ース電極層23、ドレインバス層24、画素電極層27
、保護膜31からなるTFT基板と、」―板基板50.
BM層40、対向電極32からなる8M基板と、該TP
T基板と該8M基板との間に挿入した液晶層70からな
る。
FIG. 2 is a cross-sectional view of the pixel shown in FIG. 1 taken along dashed-dotted lines C and B. FIG. Similar to the cross-sectional view shown in FIG. 9, the lower substrate 60
, gate bus layer 21, insulating layer 30, a-81 layer 22, source electrode layer 23, drain bus layer 24, pixel electrode layer 27
, a TFT substrate consisting of a protective film 31, and a plate substrate 50.
An 8M substrate consisting of a BM layer 40, a counter electrode 32, and the TP
It consists of a liquid crystal layer 70 inserted between the T substrate and the 8M substrate.

第2図では、ゲートバス層21の一例として、Alある
いはTa金属からなる第−層21aと該金属の酸化膜で
ある第2層21bとから形成される2層構造のゲートバ
ス層21を示した。
FIG. 2 shows, as an example of the gate bus layer 21, a two-layer gate bus layer 21 formed of a first layer 21a made of Al or Ta metal and a second layer 21b made of an oxide film of the metal. Ta.

この第2層21bは絶縁層として機能し、絶縁層30と
併せて2重絶縁層を形成している。
This second layer 21b functions as an insulating layer, and forms a double insulating layer together with the insulating layer 30.

第1図に示す構成の方が第8図に示す構成よりゲートバ
ス1とドレインバス4との交差部の面積が大きくなる傾
向にあるか、この交差部の面積増大に伴うゲートバスと
ドレインバスとの短絡現象の増加を上記絶縁j模の2正
化によって肪いでいる。
Does the configuration shown in FIG. 1 tend to have a larger area at the intersection between the gate bus 1 and the drain bus 4 than the configuration shown in FIG. 8? The increase in the short-circuit phenomenon with the above-mentioned insulation model is reduced by making the insulation j model positive.

以上第1図、第2図に示す実施例の画素[・ランジスタ
は、a−3i2の左右両端がソース電極3、ドレインバ
ス4からはみ出さない構造である。この構造とは別に、
画素トランジスタの構造として、下記第3図から第4図
に示すような実施例か可能である。
The pixel transistor of the embodiment shown in FIGS. 1 and 2 has a structure in which both left and right ends of a-3i2 do not protrude from the source electrode 3 and drain bus 4. Apart from this structure,
As the structure of the pixel transistor, embodiments as shown in FIGS. 3 to 4 below are possible.

すなわち、第3図に示すように、a−3i2の両端がソ
ース電極3、ドレインバス4からはみ出した構造の画素
トランジスタの場合である。
That is, as shown in FIG. 3, this is the case of a pixel transistor having a structure in which both ends of a-3i2 protrude from the source electrode 3 and drain bus 4.

あるいは、第4図に示すように、as+2のソース電極
3側の上端がソース電極3からはみ出しているが、その
左右両端はドレインバス4からははみ出していない構造
の画素トランジスタの場合である。
Alternatively, as shown in FIG. 4, the pixel transistor has a structure in which the upper end of as+2 on the source electrode 3 side protrudes from the source electrode 3, but its left and right ends do not protrude from the drain bus 4.

あるいは、第5図に示すように、a  S + 2の左
右両端をソース電極3、ドレインバス4からはみ出させ
ると同時に、ソース電1f23側の上端、下端はそれぞ
れソース電極3、ゲーI・バスlがらはみ出させ、ドレ
イン電極4側の子端、下鰯シはゲートバス1からはみ出
させる構造の画素I・ランシスタの場合である。たたし
、画素トランジスタの光リークを発生させないために、
第5図ではソース電極と3とドレインバス4とに挟まれ
るa−3i2のチャンネル部はゲートバスlの端からは
み出さないようにしている。
Alternatively, as shown in FIG. 5, both the left and right ends of a S + 2 are made to protrude from the source electrode 3 and the drain bus 4, and at the same time, the upper and lower ends on the source electrode 1f23 side are connected to the source electrode 3 and the gate I bus 1, respectively. This is a case of a pixel I run transistor having a structure in which the main end of the drain electrode 4 side and the lower end of the drain electrode 4 protrude from the gate bus 1. However, in order to prevent light leakage from the pixel transistor,
In FIG. 5, the channel portion of a-3i2 sandwiched between the source electrode 3 and the drain bus 4 is made not to protrude from the edge of the gate bus l.

上記光リークは、液晶パネルを照らす光源などからの外
部光か画素トランジスタのチャンネル部に入射して電荷
を誘起し、画素トランジスタのオフ電流を増加させる現
象である。この先リークによって、画素電極に印加され
る実効電圧が低下し、液晶パネルの表示品質か著しく低
下する。
The light leak is a phenomenon in which external light from a light source illuminating a liquid crystal panel or the like enters a channel portion of a pixel transistor, induces charges, and increases the off-state current of the pixel transistor. Due to future leakage, the effective voltage applied to the pixel electrode decreases, and the display quality of the liquid crystal panel significantly deteriorates.

この光リークを防止するには、画素トランジスタのチャ
ンネル部を遮光する方法か一般的てあり、ゲートバス1
の」二重の幅かa  S + 2の上下の幅より広けれ
ば広いほと遮光効果は大きくなる。
To prevent this light leakage, there is a general method of shielding the channel section of the pixel transistor from light.
The wider the double width or the upper and lower widths of a S + 2, the greater the light shielding effect.

しかし、ゲートバスlの幅か広ければ広いはと、ソース
電極3、ドレインバス4との交差面積か増加するために
、画素トランジスタの寄生容量、あるいは電極間の短絡
か増加する。したかって、画累トランジスタの(’l能
劣化を避け、液晶パネルの歩留り低下を防ぐためには、
光り−ク対策とは逆にゲートバス1とソース電極3ある
いはドレインバス4との交差面積を少なくすることが必
要である。
However, as the width of the gate bus 1 increases, the area of intersection with the source electrode 3 and the drain bus 4 increases, which increases the parasitic capacitance of the pixel transistor or short circuit between the electrodes. Therefore, in order to avoid deterioration of the picture accumulation transistor's performance and to prevent a drop in the yield of liquid crystal panels, it is necessary to
Contrary to the countermeasure against light leakage, it is necessary to reduce the area of intersection between the gate bus 1 and the source electrode 3 or drain bus 4.

第6図に、このような光リークに対して画素トランジス
タのチャンネル部を遮光するという要求と、電極間のシ
ョート改善および画素トランジスタの性能向」−のため
に交差部の面積を縮小するという要求とのいずれをも満
たす画素構造の実施例を示す。
Figure 6 shows the requirement to shield the channel portion of the pixel transistor from light leakage, and the requirement to reduce the area of the intersection to improve the short circuit between electrodes and improve the performance of the pixel transistor. An example of a pixel structure that satisfies both of the following is shown below.

すなわち、第6図では、ソース電極3およびドレインバ
ス4との交差部でグー1〜バス1の端を内側に向けて狭
くし、しかもa  S + 2の端Pとゲートバス4と
の端Qとの距l1lIEし、矢印I、で示す点とSで示
す線との距離Sなどは十分遮光できる距離を保つ構造を
なしている。加えて、ソース電極3では、ゲートバス1
との交差部面積を小さくするために、第6図に示す」一
部左隅を削っている。
That is, in FIG. 6, the ends of Goo 1 to Bus 1 are narrowed inward at the intersection with the source electrode 3 and the drain bus 4, and the end Q between the end P of a S + 2 and the gate bus 4 is narrowed. The structure is such that the distance between the point indicated by the arrow I and the line indicated by S is maintained at a distance sufficient to block light. In addition, at the source electrode 3, the gate bus 1
In order to reduce the area of intersection with , a portion of the left corner is removed as shown in Figure 6.

」―記載6図では、a−3i2のチャンネル部に入射す
る直接光をゲートバスlで遮光する構造を示した。さら
に、液晶パネルを投写形ディスプレイに用いる場合は、
光源からの強い光か8M層40、ゲートバス1、ソース
電極3、ドレインバス4などで反射してチャンネル1°
(ISに入射することによっても光リーク生じる可能性
がある。これに対する対策として、第7図に示すように
、BM開口部6をソース電極3や、ゲートバス9なとの
金属?′li極より内側に配置する構造が考えられる。
” - Description Figure 6 shows a structure in which direct light entering the channel portion of a-3i2 is blocked by gate bus l. Furthermore, when using a liquid crystal panel for a projection display,
Strong light from the light source is reflected by the 8M layer 40, gate bus 1, source electrode 3, drain bus 4, etc., and reaches the channel 1°.
(Light leakage may also occur due to light entering the IS. As a countermeasure against this, as shown in FIG. A structure in which it is placed further inside is conceivable.

−I−記第1図から第7図に示す本発明の実施例のいず
れにおいても、液晶の配向不良部分を保持容量形成部分
として使用することにより、画素電極の表示領域を広く
使用でき、小形、精細な液晶パネルの開口率を向上する
ことができる。
-I- In any of the embodiments of the present invention shown in FIGS. 1 to 7, by using the poorly aligned portion of the liquid crystal as the storage capacitor forming portion, the display area of the pixel electrode can be used widely, and the size can be reduced. , it is possible to improve the aperture ratio of fine liquid crystal panels.

[発明の効果] 以」二、本発明によれば、画累トランジスタをゲートバ
スとドレインバスとの交差部に形成することで液晶の配
向不良部分を保持容量形成部分として使用することかで
きるため、画素電極の表示領域を広く使用でき、小形、
精細な液晶パネルの開口率を向上することかできるとい
う効果がある。
[Effects of the Invention] Second, according to the present invention, by forming the picture accumulation transistor at the intersection of the gate bus and the drain bus, the poorly aligned portion of the liquid crystal can be used as a storage capacitor forming portion. , the display area of the pixel electrode can be used widely, and the size is small.
This has the effect of improving the aperture ratio of fine liquid crystal panels.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図は本発明の詳細な説明するための画素の上面図、
第2図は第1図に示す画素の一点鎖線A、Bに沿う断面
図、第3図、第4図、第5図は第1図と第2図に示す画
素構造と別構造の実施例を説明するための画素トランジ
スタの構造図、第6図は第1図に示す画素の構造で光リ
ーク対策や画素トランジスタの性能向上を説明するため
の画素構造図、第7図は液晶パネル内部での反射光に対
する対策を説明するための画素構成図、第8図は従来の
画素構成の一例を説明するための画素構造図、第9図は
第8図の一点鎖線ABに沿う断面図である。
FIG. 1 is a top view of a pixel for detailed explanation of the present invention;
FIG. 2 is a cross-sectional view of the pixel shown in FIG. 1 taken along dashed lines A and B, and FIGS. 3, 4, and 5 are examples of pixel structures different from those shown in FIGS. 1 and 2. Figure 6 is a structural diagram of a pixel transistor to explain the structure of the pixel shown in Figure 1, and Figure 7 is a pixel structure diagram to explain light leakage measures and performance improvement of the pixel transistor. FIG. 8 is a pixel structure diagram for explaining an example of a conventional pixel structure, and FIG. 9 is a cross-sectional view taken along the dashed-dotted line AB in FIG. 8. .

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、ゲート電極とドレイン電極とソース電極と半導体薄
膜のチャンネルとからなる薄膜トランジスタと、該薄膜
トランジスタで駆動される画素電極とを少なくとも積層
してなる構造の画素を有し、該画素トランジスタの該ド
レイン電極の母線であるドレインバスと、該ゲート電極
の母線であるゲートバスと、該画素に隣接する他の画素
のゲートバスの1部分と該画素電極との重なり部分に保
持容量を形成する構造の画素を配列してなる第1基板と
、該画素電極に対向して設けた対向電極と、遮光層と、
該対向電極と遮光層とを積層してなる第2基板と、該第
1基板と該第2基板との間に液晶を封入してなる構造の
液晶パネルにおいて、前記薄膜半導体を前記ゲートバス
上に設けて画素トランジスタを構成し、該画素トランジ
スタの構造として、上記ドレインバスと前記ゲートバス
との交差部に前記ドレイン電極を構成し、該薄膜半導体
の両端が該ドレイン電極および該ドレイン電極と平行に
設けたソース電極から露出しない構成であることを特徴
とする液晶パネル。 2、ゲート電極とドレイン電極とソース電極と半導体薄
膜のチャンネルとからなる薄膜トランジスタと、該薄膜
トランジスタで駆動される画素電極とを少なくとも積層
してなる構造の画素を有し、該画素トランジスタの該ド
レイン電極の母線であるドレインバスと、該ゲート電極
の母線であるゲートバスと、該画素に隣接する他の画素
のゲートバスの1部分と該画素電極との重なり部分に保
持容量を形成する構造の画素を配列してなる第1基板と
、該画素電極に対向して設けた対向電極と、遮光層と、
該対向電極と遮光層とを積層してなる第2基板と、該第
1基板と該第2基板との間に液晶を封入してなる構造の
液晶パネルにおいて、前記薄膜半導体を前記ゲートバス
上に設けて画素トランジスタを構成し、該画素トランジ
スタの構造として、上記ドレインバスと前記ゲートバス
との交差部に前記ドレイン電極を構成し、該薄膜半導体
の両端が該ドレイン電極あるいは該ドレイン電極と平行
に設けたソース電極から露出した構成であることを特徴
とする液晶パネル。 3、ゲート電極とドレイン電極とソース電極と半導体薄
膜のチャンネルとからなる薄膜トランジスタと、該薄膜
トランジスタで駆動される画素電極とを少なくとも積層
してなる構造の画素を有し、該画素トランジスタの該ド
レイン電極の母線であるドレインバスと、該ゲート電極
の母線であるゲートバスと、該画素に隣接する他の画素
のゲートバスの1部分と該画素電極との重なり部分に保
持容量を形成する構造の画素を配列してなる第1基板と
、該画素電極に対向して設けた対向電極と、遮光層と、
該対向電極と遮光層とを積層してなる第2基板と、該第
1基板と該第2基板との間に液晶を封入してなる構造の
液晶パネルにおいて、前記薄膜半導体を前記ゲートバス
上に設けて画素トランジスタを構成し、該画素トランジ
スタの構造として、上記ドレインバスと前記ゲートバス
との交差部に前記ドレイン電極を構成し、該薄膜半導体
の両端が該ドレイン電極側あるいは該ドレイン電極と平
行に設けたソース電極側において該ゲート電極から露出
する構成であることを特徴とする液晶パネル。 4、ゲート電極とドレイン電極とソース電極と半導体薄
膜のチャンネルとからなる薄膜トランジスタと、該薄膜
トランジスタで駆動される画素電極とを少なくとも積層
してなる構造の画素を有し、該画素トランジスタの該ド
レイン電極の母線であるドレインバスと、該ゲート電極
の母線であるゲートバスと、該画素に隣接する他の画素
のゲートバスの1部分と該画素電極との重なり部分に保
持容量を形成する構造の画素を配列してなる第1基板と
、該画素電極に対向して設けた対向電極と、遮光層と、
該対向電極と遮光層とを積層してなる第2基板と、該第
1基板と該第2基板との間に液晶を封入してなる構造の
液晶パネルにおいて、前記薄膜半導体を前記ゲートバス
上に設けて画素トランジスタを構成し、該画素トランジ
スタの構造として、上記ドレインバスと前記ゲートバス
との交差部に前記ドレイン電極を構成し、該ドレイン電
極および該ドレイン電極と平行に設けたソース電極とに
はさまれて該薄膜トランジスタのチャンネルを形成する
前記薄膜半導体の1部分が少なくとも該ゲートバスの端
から内側に配置する構成であることを特徴とする液晶パ
ネル。 5、請求項1ないし4のいずれかの構造を有する液晶パ
ネルであって、前記第2基板の遮光層が前記ゲートバス
、前記ドレインバス、および前記薄膜トランジスタの電
極を形成するドレイン電極、ソース電極、ゲート電極の
いずれかあるいは全てを遮光する構造であることを特徴
とする液晶パネル。 6、請求項1ないし5のいずれかの構造の液晶パネルを
用いて画像表示を行うことを特徴とする投写形液晶ディ
スプレイ。 7、請求項1ないし5のいずれかの構造を有する液晶パ
ネルを形成するマスクの組み合わせ方法。 8、請求項7記載のマスクの組み合わせによる液晶パネ
ルの製造およびその製造方法。
[Claims] 1. A pixel having a structure formed by laminating at least a thin film transistor including a gate electrode, a drain electrode, a source electrode, and a channel of a semiconductor thin film, and a pixel electrode driven by the thin film transistor, A storage capacitor is provided at a portion where the pixel electrode overlaps with a drain bus that is a bus line of the drain electrode of the pixel transistor, a gate bus that is a bus line of the gate electrode, and a part of the gate bus of another pixel adjacent to the pixel. a first substrate formed by arranging pixels having a structure to form a first substrate; a counter electrode provided opposite to the pixel electrode; a light shielding layer;
In a liquid crystal panel having a structure in which a second substrate is formed by laminating the counter electrode and a light shielding layer, and a liquid crystal is sealed between the first substrate and the second substrate, the thin film semiconductor is placed on the gate bus. The structure of the pixel transistor is such that the drain electrode is formed at the intersection of the drain bus and the gate bus, and both ends of the thin film semiconductor are parallel to the drain electrode and the drain electrode. A liquid crystal panel characterized in that the structure is such that a source electrode provided on the panel is not exposed. 2. A pixel has a structure in which at least a thin film transistor including a gate electrode, a drain electrode, a source electrode, and a channel of a semiconductor thin film is laminated, and a pixel electrode driven by the thin film transistor, and the drain electrode of the pixel transistor A pixel having a structure in which a storage capacitor is formed in a portion where the pixel electrode overlaps with a drain bus which is a bus line of the pixel, a gate bus which is a bus line of the gate electrode, and a part of the gate bus of another pixel adjacent to the pixel. a first substrate formed by arranging the pixel electrodes, a counter electrode provided opposite to the pixel electrode, and a light shielding layer;
In a liquid crystal panel having a structure in which a second substrate is formed by laminating the counter electrode and a light shielding layer, and a liquid crystal is sealed between the first substrate and the second substrate, the thin film semiconductor is placed on the gate bus. The structure of the pixel transistor is such that the drain electrode is formed at the intersection of the drain bus and the gate bus, and both ends of the thin film semiconductor are located at the drain electrode or parallel to the drain electrode. A liquid crystal panel characterized in that it has a structure in which a source electrode provided in the panel is exposed. 3. A pixel has a structure in which at least a thin film transistor including a gate electrode, a drain electrode, a source electrode, and a channel of a semiconductor thin film is laminated, and a pixel electrode driven by the thin film transistor, and the drain electrode of the pixel transistor A pixel having a structure in which a storage capacitor is formed in a portion where the pixel electrode overlaps with a drain bus which is a bus line of the pixel, a gate bus which is a bus line of the gate electrode, and a part of the gate bus of another pixel adjacent to the pixel. a first substrate formed by arranging the pixel electrodes, a counter electrode provided opposite to the pixel electrode, and a light shielding layer;
In a liquid crystal panel having a structure in which a second substrate is formed by laminating the counter electrode and a light shielding layer, and a liquid crystal is sealed between the first substrate and the second substrate, the thin film semiconductor is placed on the gate bus. The structure of the pixel transistor is such that the drain electrode is formed at the intersection of the drain bus and the gate bus, and both ends of the thin film semiconductor are on the drain electrode side or with the drain electrode. A liquid crystal panel characterized in that a source electrode side provided in parallel is exposed from the gate electrode. 4. A pixel having a structure formed by laminating at least a thin film transistor including a gate electrode, a drain electrode, a source electrode, and a channel of a semiconductor thin film, and a pixel electrode driven by the thin film transistor, and the drain electrode of the pixel transistor. A pixel having a structure in which a storage capacitor is formed in a portion where the pixel electrode overlaps with a drain bus which is a bus line of the pixel, a gate bus which is a bus line of the gate electrode, and a part of the gate bus of another pixel adjacent to the pixel. a first substrate formed by arranging the pixel electrodes, a counter electrode provided opposite to the pixel electrode, and a light shielding layer;
In a liquid crystal panel having a structure in which a second substrate is formed by laminating the counter electrode and a light shielding layer, and a liquid crystal is sealed between the first substrate and the second substrate, the thin film semiconductor is placed on the gate bus. The structure of the pixel transistor is such that the drain electrode is formed at the intersection of the drain bus and the gate bus, and the drain electrode and the source electrode are provided in parallel with the drain electrode. A liquid crystal panel characterized in that a portion of the thin film semiconductor that is sandwiched between the gate buses and the gate bus and forms a channel of the thin film transistor is disposed at least inward from an end of the gate bus. 5. A liquid crystal panel having the structure according to any one of claims 1 to 4, wherein the light-shielding layer of the second substrate forms the gate bus, the drain bus, and the drain electrode and source electrode that form the electrodes of the thin film transistor; A liquid crystal panel characterized by having a structure that blocks light from any or all of the gate electrodes. 6. A projection type liquid crystal display, characterized in that an image is displayed using a liquid crystal panel having the structure according to any one of claims 1 to 5. 7. A method of combining masks to form a liquid crystal panel having the structure according to any one of claims 1 to 5. 8. Manufacturing a liquid crystal panel using the combination of masks according to claim 7, and a method for manufacturing the same.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH08146428A (en) * 1994-11-17 1996-06-07 Nec Corp Liquid crystal display device
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