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JP7771961B2 - Manufacturing method of laminated film and laminated film - Google Patents

Manufacturing method of laminated film and laminated film

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JP7771961B2
JP7771961B2 JP2022546274A JP2022546274A JP7771961B2 JP 7771961 B2 JP7771961 B2 JP 7771961B2 JP 2022546274 A JP2022546274 A JP 2022546274A JP 2022546274 A JP2022546274 A JP 2022546274A JP 7771961 B2 JP7771961 B2 JP 7771961B2
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渉 笠井
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Description

本発明は、表面張力を高める処理が施されたポリマーフィルムの表面に、所定の表面張力の液状分散媒を含有する液状組成物を使用して形成され、端部での厚さの増大が低減されたポリマー層を備える積層フィルムを得る、積層フィルムの製造方法、及び、中央部の厚さに対する端部の厚さの比が所定の範囲に調整されたポリマー層を備える積層フィルムに関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a laminated film, which is formed by applying a liquid composition containing a liquid dispersion medium with a predetermined surface tension to the surface of a polymer film that has been treated to increase its surface tension, to obtain a laminated film having a polymer layer with reduced increase in thickness at the edges, and to a laminated film having a polymer layer in which the ratio of the edge thickness to the central thickness is adjusted to be within a predetermined range.

高周波信号の伝送に用いられるプリント基板は、優れた伝送特性が要求される。伝送特性の高いプリント基板の絶縁層材料として、比誘電率及び誘電正接が低い、テトラフルオロエチレン系ポリマーが注目されている。かかるポリマーを含む絶縁層を形成する材料として、テトラフルオロエチレン系ポリマーのパウダーと液状分散媒とを含む液状組成物が知られている。
特許文献1及び2には、かかる液状組成物をポリイミドフィルムの表面に塗布し加熱して形成される、ポリイミドフィルムの両面にテトラフルオロエチレン系ポリマー層を備えた積層フィルムが記載されている。
Printed circuit boards used for transmitting high-frequency signals are required to have excellent transmission characteristics. Tetrafluoroethylene-based polymers, which have low relative permittivity and dielectric loss tangent, have attracted attention as insulating layer materials for printed circuit boards with high transmission characteristics. A liquid composition containing tetrafluoroethylene-based polymer powder and a liquid dispersion medium is known as a material for forming an insulating layer containing such a polymer.
Patent Documents 1 and 2 describe a laminated film having tetrafluoroethylene polymer layers on both sides of a polyimide film, which is formed by applying such a liquid composition to the surface of the polyimide film and then heating it.

特開平9-157418号公報Japanese Patent Application Publication No. 9-157418 特開2005-35300号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2005-35300

一方、テトラフルオロエチレン系ポリマーは非粘着性であるため、かかる積層フィルムにおけるポリイミドフィルムとテトラフルオロエチレン系ポリマー層との密着性は、概して低い。そこで、本発明者らは、ポリイミドフィルムの表面処理による積層フィルムの密着性の向上を試みた。ところが、この場合、積層フィルムの厚さにムラが生じやすくなるという課題、特に、積層フィルムの端部における盛り上がりが生じやすくなるという課題を、本発明者らは新たに知見した。そのため、かかる積層フィルムの長尺体をロール状に巻き取ると、積層フィルムにシワや伸びが発生して、プリント基板材料等として使用時の歩留まりが悪化するという課題も、本発明者らは新たに知見した。On the other hand, because tetrafluoroethylene-based polymers are non-sticky, adhesion between the polyimide film and the tetrafluoroethylene-based polymer layer in such laminate films is generally low. Therefore, the inventors attempted to improve the adhesion of laminate films by surface-treating the polyimide film. However, the inventors newly discovered that this method easily causes unevenness in the thickness of the laminate film, particularly the tendency for the edges of the laminate film to bulge. Therefore, the inventors newly discovered that when a long piece of such laminate film is wound into a roll, the laminate film wrinkles and stretches, reducing yields when used as a printed circuit board material, etc.

本発明者らは鋭意検討した結果、表面張力が所定の範囲の液状分散媒を含む液状組成物は、分散安定性にも優れており、表面張力を高める処理が施されたポリマーフィルムの表面においてより均一に濡れ広がり、厚さムラが小さく密着強度の高い積層フィルムを形成できる点を知見した。
本発明は、かかる知見に基づいてなされた発明であり、その目的は、密着性に優れ、中央部の厚さに対する端部の厚さの比が所定の範囲に調整されたポリマー層を有する積層フィルム、及びその製造方法の提供にある。
As a result of extensive research, the inventors have found that a liquid composition containing a liquid dispersion medium having a surface tension within a predetermined range also has excellent dispersion stability, wets and spreads more uniformly on the surface of a polymer film that has been treated to increase the surface tension, and can form a laminated film with little thickness variation and high adhesion strength.
The present invention was made based on this finding, and its object is to provide a laminated film having a polymer layer with excellent adhesion and in which the ratio of the thickness of the edge to the thickness of the center is adjusted to a predetermined range, and a method for producing the same.

本発明は、下記の態様を有する。
<1> 表面張力を高める処理が施されたポリマーフィルムの表面に、テトラフルオロエチレン系ポリマーのパウダー及び表面張力が30mN/m以上の液状分散媒を含有し、前記パウダーの含有量が10質量%以上である液状組成物を塗布し、加熱して、前記ポリマーフィルムの表面にポリマー層が形成された積層フィルムを得る、積層フィルムの製造方法。
<2> 前記処理が、コロナ処理及びプラズマ処理からなる群より選択される少なくとも1つの親水化処理である、<1>の製造方法。
<3> 前記処理が施された前記ポリマーフィルムの表面の表面張力が、前記液状分散媒の表面張力よりも大きい、<1>又は<2>の製造方法。
<4> 前記ポリマーフィルムの表面の算術平均粗さRaが、0.01~5μmである、<1>~<3>のいずれかの製造方法。
<5> 前記処理が施された前記ポリマーフィルムの表面に、極性官能基が存在する、<1>~<4>のいずれかの製造方法。
<6> 前記パウダーの平均粒子径が、0.1~10μmである、<1>~<5>のいずれかの製造方法。
<7> 前記テトラフルオロエチレン系ポリマーが、溶融温度が260~320℃であるテトラフルオロエチレン系ポリマーである、<1>~<6>のいずれかの製造方法。
<8> 前記テトラフルオロエチレン系ポリマーが、ペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を含み、全単位に対してペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を1.5~5.0モル%含むテトラフルオロエチレン系ポリマーである、<1>~<7>のいずれかの製造方法。
<9> 前記液状組成物が、芳香族ポリマーを含有する、<1>~<8>のいずれかの製造方法。
<10> 前記ポリマーフィルムが、芳香族ポリイミドを含有する、<1>~<9>のいずれかの製造方法。
<11> 前記ポリマーフィルムの平均厚さが10μm以上であり、かつ、前記ポリマー層の平均厚さが10μm以上である、<1>~<10>のいずれかの製造方法。
<12> 表面張力を高める処理が施された表面を有するポリマーフィルムと、前記表面に形成され、テトラフルオロエチレン系ポリマーを含有するポリマー層とを備え、前記ポリマー層の中央部の厚さに対する端部の厚さの比が、1.1以下である、積層フィルム。
<13> 前記積層フィルムを、50℃、48時間の条件で予備乾燥した後、23℃の純水に24時間浸漬し、前記純水に浸漬する前後の前記積層フィルムの質量を測定したとき、以下の式に基づいて求められる吸水率が、0.1%以下である、<12>の積層フィルム。
吸水率(%)=(純水浸漬後質量-予備乾燥後質量)/予備乾燥後質量×100
<14> 前記ポリマーフィルムの平均厚さが10μm以上であり、かつ、前記ポリマー層の平均厚さが10μm以上である、<12>又は<13>の積層フィルム。
<15> 前記ポリマーフィルムの両面に、前記ポリマー層を備える、<12>~<14>のいずれかの積層フィルム。
The present invention has the following aspects.
<1> A method for producing a laminated film, comprising: applying a liquid composition containing a tetrafluoroethylene-based polymer powder and a liquid dispersion medium having a surface tension of 30 mN/m or more to the surface of a polymer film that has been treated to increase the surface tension, the liquid composition containing the powder in an amount of 10 mass% or more; and heating the applied composition to obtain a laminated film in which a polymer layer is formed on the surface of the polymer film.
<2> The manufacturing method of <1>, wherein the treatment is at least one hydrophilization treatment selected from the group consisting of a corona treatment and a plasma treatment.
<3> The manufacturing method of <1> or <2>, wherein the surface tension of the surface of the polymer film that has been subjected to the treatment is greater than the surface tension of the liquid dispersion medium.
<4> The manufacturing method according to any one of <1> to <3>, wherein the polymer film has a surface with an arithmetic mean roughness Ra of 0.01 to 5 μm.
<5> The method of any one of <1> to <4>, wherein a polar functional group is present on the surface of the polymer film that has been subjected to the treatment.
<6> The method of any one of <1> to <5>, wherein the powder has an average particle size of 0.1 to 10 μm.
<7> The method of any one of <1> to <6>, wherein the tetrafluoroethylene-based polymer has a melting temperature of 260 to 320°C.
<8> The method according to any one of <1> to <7>, wherein the tetrafluoroethylene-based polymer contains units based on perfluoro(alkyl vinyl ether), and the content of units based on perfluoro(alkyl vinyl ether) is 1.5 to 5.0 mol % based on all units.
<9> The method of any one of <1> to <8>, wherein the liquid composition contains an aromatic polymer.
<10> The method of any one of <1> to <9>, wherein the polymer film contains an aromatic polyimide.
<11> The manufacturing method according to any one of <1> to <10>, wherein the polymer film has an average thickness of 10 μm or more, and the polymer layer has an average thickness of 10 μm or more.
<12> A laminated film comprising: a polymer film having a surface that has been treated to increase surface tension; and a polymer layer formed on the surface and containing a tetrafluoroethylene-based polymer, wherein the ratio of the thickness of the end portion to the thickness of the center portion of the polymer layer is 1.1 or less.
<13> The laminate film according to <12>, wherein the laminate film is pre-dried under conditions of 50°C for 48 hours, and then immersed in pure water at 23°C for 24 hours. When the mass of the laminate film is measured before and after immersion in the pure water, the water absorption calculated according to the following formula is 0.1% or less.
Water absorption rate (%) = (mass after immersion in pure water - mass after pre-drying) / mass after pre-drying x 100
<14> The laminate film according to <12> or <13>, wherein the polymer film has an average thickness of 10 μm or more, and the polymer layer has an average thickness of 10 μm or more.
<15> The laminate film according to any one of <12> to <14>, wherein the polymer layer is provided on both sides of the polymer film.

本発明によれば、密着性に優れ、中央部の厚さに対する端部の厚さの比が所定の範囲に調整されたポリマー層を備える積層フィルムが提供される。 The present invention provides a laminated film having a polymer layer with excellent adhesion and in which the ratio of edge thickness to central thickness is adjusted to a predetermined range.

以下の用語は、以下の意味を有する。
「平均粒子径(D50)」は、レーザー回折・散乱法によって求められる対象物(パウダー又は無機フィラー)の体積基準累積50%径である。すなわち、レーザー回折・散乱法によって対象物の粒度分布を測定し、対象物の粒子の集団の全体積を100%として累積カーブを求め、その累積カーブ上で累積体積が50%となる点の粒子径である。
「D90」は、同様にして測定される、対象物の体積基準累積90%径である。
「溶融温度(融点)」は、示差走査熱量測定(DSC)法で測定したポリマーの融解ピークの最大値に対応する温度である。
「ガラス転移点(Tg)」は、動的粘弾性測定(DMA)法でポリマーを分析して測定される値である。
「比表面積」は、ガス吸着(定容法)BET多点法によりNOVA4200e(Quantachrome Instruments社製)を使用してパウダーを測定した際に求められる値である。
「粘度」は、B型粘度計を用いて、25℃で回転数が30rpmの条件下で、液状組成物を測定して求められる値である。測定を3回繰り返し、3回分の測定値の平均値とする。
「チキソ比」とは、液状組成物を回転数が30rpmの条件で測定して求められる粘度ηを回転数が60rpmの条件で測定して求められる粘度ηで除して算出される値(η/η)である。
「降伏強度」とは、歪みが大きくなると、歪みと応力との関係が比例しなくなり、応力を除去しても歪みが残る現象が起き始める応力を意味し、ASTM D882に従って、フィルムの引張弾性率を測定した際の「5%ひずみ時応力」の値で規定する。
「難塑性変形性」とは、支持層を塑性変形させた際に応力が増加していく特性、又は塑性変形させた際に必要な応力が大きい特性を意味し、ASTM D882に従って、フィルムの引張弾性率を測定した際の「15%ひずみ時応力」の値で規定する。
「引張弾性率」は、広域粘弾性測定装置を用いて、測定周波数10Hzにてフィルムを測定した際の値である。
「平均厚さ」とは、接触式厚み計DG-525H(小野測器社製)にて、測定子AA-026(Φ10mm、SR7)を使用して、フィルムの厚さを10点測定した測定値の平均値である。
「金属箔(金属基板)の表面の十点平均粗さ(Rzjis)」は、JIS B 0601:2013(ISO 4287:1997、Amd.1:2009)の附属書JAで規定される値である。
「算術平均粗さRa」は、JIS B 0601:2013(ISO 4287:1997、Amd.1:2009)に従って測定される、フィルムの表面における値である。
ポリマーにおける「単位」は、モノマーから直接形成された原子団であってもよく、得られたポリマーを所定の方法で処理して、構造の一部が変換された原子団であってもよい。ポリマーに含まれる、モノマーAに基づく単位を、単に「モノマーA単位」とも記す。
The following terms have the following meanings:
The "average particle diameter (D50)" is the volume-based cumulative 50% diameter of a target object (powder or inorganic filler) determined by a laser diffraction/scattering method. That is, the particle size distribution of the target object is measured by a laser diffraction/scattering method, and a cumulative curve is calculated with the total volume of the target particle population set to 100%, and the "average particle diameter (D50)" is the particle diameter at the point on the cumulative curve where the cumulative volume is 50%.
"D90" is the volume-based cumulative 90% diameter of the object, measured in the same manner.
"Melting temperature (melting point)" is the temperature corresponding to the maximum value of the melting peak of a polymer as measured by differential scanning calorimetry (DSC).
The "glass transition temperature (Tg)" is a value measured by analyzing a polymer using dynamic mechanical analysis (DMA) method.
The "specific surface area" is a value determined by measuring a powder using a NOVA4200e (manufactured by Quantachrome Instruments) by the gas adsorption (constant volume method) BET multipoint method.
The "viscosity" is a value determined by measuring the liquid composition using a Brookfield viscometer at 25° C. and a rotation speed of 30 rpm. The measurement is repeated three times, and the average value of the three measured values is used.
The "thixotropy ratio" is a value (η 1 /η 2 ) calculated by dividing the viscosity η 1 obtained by measuring the liquid composition at a rotation speed of 30 rpm by the viscosity η 2 obtained by measuring the liquid composition at a rotation speed of 60 rpm.
The "yield strength" refers to the stress at which, as the strain increases, the relationship between the strain and the stress becomes no longer proportional, and the phenomenon of the strain remaining even after the stress is removed begins to occur. The "yield strength" is defined as the value of the "stress at 5% strain" when the tensile modulus of the film is measured according to ASTM D882.
"Low plastic deformation resistance" means a property in which stress increases when the support layer is plastically deformed, or a property in which a large stress is required when the support layer is plastically deformed, and is defined as the value of "stress at 15% strain" when the tensile modulus of the film is measured in accordance with ASTM D882.
The "tensile modulus" is a value measured on a film at a measurement frequency of 10 Hz using a wide-range viscoelasticity measuring device.
The "average thickness" is the average value of the measured values obtained by measuring the film thickness at 10 points using a contact thickness gauge DG-525H (manufactured by Ono Sokki Co., Ltd.) with a probe AA-026 (Φ10 mm, SR7).
"Ten-point average roughness (Rzjis) of the surface of a metal foil (metal substrate)" is a value specified in Annex JA of JIS B 0601:2013 (ISO 4287:1997, Amd.1:2009).
"Arithmetic mean roughness Ra" is a value on the surface of the film measured in accordance with JIS B 0601:2013 (ISO 4287:1997, Amd.1:2009).
The "unit" in a polymer may be an atomic group formed directly from a monomer, or may be an atomic group in which a part of the structure is converted by treating the obtained polymer with a predetermined method. A unit based on monomer A contained in a polymer may also be simply referred to as a "monomer A unit."

本発明の製造方法(以下、「本法」とも記す。)は、表面張力を高める処理が施されたポリマーフィルムの表面に、テトラフルオロエチレン系ポリマー(以下、「Fポリマー」とも記す。)のパウダー及び表面張力が30mN/m以上の液状分散媒を含有し、Fポリマーのパウダー(以下、「Fパウダー」とも記す。)の含有量が10質量%以上である液状組成物を塗布し、加熱して、ポリマーフィルムの表面にポリマー層が形成された積層フィルムを得る方法である。
したがって、得られる積層フィルムは、表面張力を高める処理が施された表面を有するポリマーフィルムと、上記表面に形成され、Fポリマーを含有するポリマー層とを有する積層体である。かかる積層フィルムでは、ポリマー層の中央部の厚さに対する端部の厚さの比が所定の範囲(好ましくは1.1以下)にある。すなわち、ポリマー層の厚さのバラつきが小さくなっている。その理由は必ずしも明確ではないが、以下の通りであると考えられる。
The production method of the present invention (hereinafter also referred to as "this method") is a method of applying a liquid composition containing tetrafluoroethylene-based polymer (hereinafter also referred to as "F polymer") powder and a liquid dispersion medium having a surface tension of 30 mN/m or more to the surface of a polymer film that has been treated to increase its surface tension, and the liquid composition contains 10 mass % or more of F polymer powder (hereinafter also referred to as "F powder"), and then heating the applied composition to obtain a laminated film in which a polymer layer is formed on the surface of the polymer film.
Therefore, the resulting laminate film is a laminate having a polymer film with a surface treated to increase surface tension and a polymer layer containing the F polymer formed on the surface. In such a laminate film, the ratio of the thickness of the edge to the thickness of the center of the polymer layer is within a predetermined range (preferably 1.1 or less). In other words, the variation in the thickness of the polymer layer is small. The reason for this is not necessarily clear, but is thought to be as follows.

本法においては、ポリマーフィルムとポリマー層との密着性を向上するために、液状組成物を塗布するのに先立って、ポリマーフィルムの表面に、その表面張力を高める処理を施す。しかし、かかる処理を施したポリマーフィルムの表面にFパウダーを含む液状組成物を塗布すると、中央部から端部に向かって流動して濡れ広がる際に、その流動が端部付近において停止する現象(ピニング現象)が生じて、塗膜が盛り上がる場合がある。この状態で、塗膜(液状組成物)を加熱すると、端部の形状が維持されて、得られるポリマー層の端部の厚さが中央部の厚さより大きくなってしまう。
そこで本法では、表面張力が30mN/m以上の液状分散媒を含有する液状組成物を使用する。これにより、液状組成物のポリマーフィルムの表面に対する濡れ性が高まり、ポリマーフィルムの端部にまで均一に濡れ広がり、得られるポリマー層の厚さのバラつきが小さくなったと考えられる。
In this method, in order to improve the adhesion between the polymer film and the polymer layer, the surface of the polymer film is treated to increase its surface tension prior to coating with the liquid composition. However, when a liquid composition containing F powder is applied to the surface of a polymer film that has been treated in this way, as the composition flows from the center to the edges and spreads, the flow may stop near the edges (pinning phenomenon), causing the coating film to bulge. If the coating film (liquid composition) is heated in this state, the shape of the edges will be maintained, and the thickness of the resulting polymer layer at the edges will be greater than the thickness at the center.
Therefore, in this method, a liquid composition containing a liquid dispersion medium with a surface tension of 30 mN/m or more is used, which is thought to increase the wettability of the liquid composition to the surface of the polymer film, allowing it to wet and spread evenly to the edges of the polymer film, thereby reducing variation in the thickness of the resulting polymer layer.

本法におけるFポリマーは、テトラフルオロエチレン(TFE)に基づく単位(TFE単位)を含むポリマーである。
Fポリマーは、熱溶融性であるのが好ましく、その溶融温度は、260~320℃が好ましく、285~320℃がより好ましい。かかるFポリマーを使用すれば、緻密かつ密着性に優れたポリマー層が形成されやすく、耐熱性に優れた積層フィルムが得られやすい。
Fポリマーのガラス転移点(Tg)は、75~125℃が好ましく、80~100℃がより好ましい。
Fポリマーの溶融粘度は、380℃において1×10~1×10Pa・sが好ましく、1×10~1×10Pa・sがより好ましい。
The F polymer in this method is a polymer containing units based on tetrafluoroethylene (TFE) (TFE units).
The F polymer is preferably heat-meltable, and its melting temperature is preferably 260 to 320° C., more preferably 285 to 320° C. Use of such an F polymer makes it easy to form a dense polymer layer with excellent adhesion, and to easily obtain a laminated film with excellent heat resistance.
The glass transition point (Tg) of the F polymer is preferably from 75 to 125°C, more preferably from 80 to 100°C.
The melt viscosity of the F polymer at 380° C. is preferably 1×10 2 to 1×10 6 Pa·s, more preferably 1×10 3 to 1×10 6 Pa·s.

Fポリマーの表面張力は、16~26mN/mが好ましく、16~20mN/mがより好ましい。なお、Fポリマーの表面張力は、Fポリマーで作製された平板上に、JIS K 6768に規定されている濡れ張力試験用混合液(和光純薬社製)の液滴を載置して測定できる。
Fポリマーのフッ素含有量は、70質量%以上が好ましく、72~76質量%がより好ましい。
表面張力が低く、フッ素含有量が高いFポリマーは、電気物性等の物性に優れる反面、液状組成物中での分散安定性が著しく低いが、本法における液状組成物では、上述の液状分散媒の使用により、かかるFポリマーの分散安定性が改善する。
The surface tension of the F polymer is preferably 16 to 26 mN/m, more preferably 16 to 20 mN/m. The surface tension of the F polymer can be measured by placing a droplet of a mixture for wetting tension testing (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) specified in JIS K 6768 on a flat plate made of the F polymer.
The fluorine content of the F polymer is preferably 70% by mass or more, more preferably 72 to 76% by mass.
F polymers have low surface tension and a high fluorine content, and are excellent in physical properties such as electrical properties, but have extremely low dispersion stability in liquid compositions. However, in the liquid composition of the present method, the dispersion stability of such F polymers is improved by using the above-mentioned liquid dispersion medium.

Fポリマーとしては、ポリテトラフルオロエチレン(PTFE)、TFE単位とエチレンに基づく単位とを含むポリマー、TFE単位とプロピレンに基づく単位とを含むポリマー、TFE単位とペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)(PAVE)に基づく単位(PAVE単位)とを含むポリマー(PFA)、TFE単位とヘキサフルオロプロピレンに基づく単位とを含むポリマー(FEP)、TFE単位とフルオロアルキルエチレンに基づく単位とを含むポリマー、TFE単位とクロロトリフルオロエチレンに基づく単位とを含むポリマーが挙げられ、PFA又はFEPが好ましく、PFAがより好ましい。上記ポリマーは、さらに他のコモノマーに基づく単位を含んでいてもよい。
PAVEとしては、CF=CFOCF、CF=CFOCFCF又はCF=CFOCFCFCF(以下、「PPVE」とも記す。)が好ましく、PPVEがより好ましい。
F polymer can be enumerated as polytetrafluoroethylene (PTFE), the polymer that comprises TFE unit and the unit based on ethylene, the polymer that comprises TFE unit and the unit based on propylene, the polymer that comprises TFE unit and the unit based on perfluoro (alkyl vinyl ether) (PAVE) (PAVE unit) (PFA), the polymer that comprises TFE unit and the unit based on hexafluoropropylene (FEP), the polymer that comprises TFE unit and the unit based on fluoroalkylethylene, the polymer that comprises TFE unit and the unit based on chlorotrifluoroethylene, preferably PFA or FEP, more preferably PFA.Above-mentioned polymer can also comprise the unit based on other comonomer.
As the PAVE, CF 2 ═CFOCF 3 , CF 2 ═CFOCF 2 CF 3 or CF 2 ═CFOCF 2 CF 2 CF 3 (hereinafter also referred to as “PPVE”) is preferred, and PPVE is more preferred.

Fポリマーは、極性官能基を有するのが好ましい。この場合、ポリマー層が、電気特性、表面平滑性等の物性に優れやすい。
極性官能基は、Fポリマーが含有する単位に含まれていてもよく、Fポリマー主鎖の末端基に含まれていてもよい。後者のFポリマーとしては、重合開始剤、連鎖移動剤等に由来する末端基として極性官能基を有するポリマーや、プラズマ処理や電離線処理によって調製された、極性官能基を有するポリマーが挙げられる。
The F polymer preferably has a polar functional group, in which case the polymer layer tends to have excellent physical properties such as electrical properties and surface smoothness.
The polar functional group may be contained in a unit contained in the F polymer, or may be contained in a terminal group of the F polymer main chain. Examples of the latter F polymer include polymers having a polar functional group as a terminal group derived from a polymerization initiator, a chain transfer agent, etc., and polymers having a polar functional group prepared by plasma treatment or ionizing radiation treatment.

極性官能基としては、水酸基含有基、カルボニル基含有基及びホスホノ基含有基が好ましく、水酸基含有基及びカルボニル基含有基がより好ましく、カルボニル基含有基がさらに好ましい。
水酸基含有基としては、アルコール性水酸基含有基が好ましく、-CFCHOH、-C(CFOH及び1,2-グリコール基(-CH(OH)CHOH)がより好ましい。
カルボニル基含有基としては、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アミド基、イソシアネート基、カルバメート基(-OC(O)NH)、酸無水物残基(-C(O)OC(O)-)、イミド残基(-C(O)NHC(O)-等)及びカーボネート基(-OC(O)O-)が好ましく、酸無水物残基がより好ましい。
As the polar functional group, a hydroxyl group-containing group, a carbonyl group-containing group, and a phosphono group-containing group are preferred, a hydroxyl group-containing group and a carbonyl group-containing group are more preferred, and a carbonyl group-containing group is even more preferred.
As the hydroxyl group-containing group, an alcoholic hydroxyl group-containing group is preferred, and —CF 2 CH 2 OH, —C(CF 3 ) 2 OH and a 1,2-glycol group (—CH(OH)CH 2 OH) are more preferred.
The carbonyl group-containing group is preferably a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, an amide group, an isocyanate group, a carbamate group (-OC(O)NH 2 ), an acid anhydride residue (-C(O)OC(O)-), an imide residue (-C(O)NHC(O)-, etc.) or a carbonate group (-OC(O)O-), and more preferably an acid anhydride residue.

Fポリマーが極性官能基を有する場合、Fポリマーにおける極性官能基の数は、主鎖の炭素数1×10個あたり、10~5000個が好ましく、100~3000個がより好ましい。なお、Fポリマーにおける極性官能基の数は、ポリマーの組成又は国際公開第2020/145133号に記載の方法によって定量できる。 When the F polymer has a polar functional group, the number of polar functional groups in the F polymer is preferably 10 to 5000, more preferably 100 to 3000, per 1 × 10 carbon atoms in the main chain. The number of polar functional groups in the F polymer can be quantified by the composition of the polymer or the method described in WO 2020/145133.

Fポリマーとしては、PAVE単位を含み、全単位に対してPAVE単位を1.5~5.0モル%含むテトラフルオロエチレン系ポリマーが好ましく、PAVE単位を含み、極性官能基を有するポリマー(1)、又はPAVE単位を含み、全モノマー単位に対してPAVE単位を2.0~5.0モル%含む、極性官能基を有さないポリマー(2)がより好ましい。これらのポリマーは、ポリマー層中において微小球晶を形成するため、得られるポリマー層の物性が向上しやすい。 The F polymer is preferably a tetrafluoroethylene-based polymer containing PAVE units and containing 1.5 to 5.0 mol% of PAVE units relative to all units, and more preferably a polymer (1) containing PAVE units and having a polar functional group, or a polymer (2) containing PAVE units and containing 2.0 to 5.0 mol% of PAVE units relative to all monomer units but not having a polar functional group. These polymers form microspherulites in the polymer layer, which tends to improve the physical properties of the resulting polymer layer.

ポリマー(1)は、全単位に対して、TFE単位を90~98モル%、PAVE単位を1.5~9.97モル%及び極性官能基を有するモノマーに基づく単位を0.01~3モル%、それぞれ含有するのが好ましい。
また、極性官能基を有するモノマーとしては、無水イタコン酸、無水シトラコン酸及び5-ノルボルネン-2,3-ジカルボン酸無水物(以下、「NAH」とも記す。)が好ましい。
ポリマー(1)の具体例としては、国際公開第2018/16644号に記載されるポリマーが挙げられる。
The polymer (1) preferably contains, based on all units, 90 to 98 mol % of TFE units, 1.5 to 9.97 mol % of PAVE units, and 0.01 to 3 mol % of units derived from a monomer having a polar functional group.
Furthermore, as the monomer having a polar functional group, itaconic anhydride, citraconic anhydride, and 5-norbornene-2,3-dicarboxylic anhydride (hereinafter also referred to as "NAH") are preferred.
Specific examples of the polymer (1) include the polymers described in WO 2018/16644.

ポリマー(2)は、TFE単位及びPAVE単位のみからなり、全単位に対して、TFE単位を95.0~98.0モル%、PAVE単位を2.0~5.0モル%含有するのが好ましい。
ポリマー(2)におけるPAVE単位の含有量は、全単位に対して、2.1モル%以上が好ましく、2.2モル%以上がより好ましい。
なお、ポリマー(2)が極性官能基を有さないとは、ポリマー主鎖を構成する炭素原子数の1×10個あたり、ポリマーが有する極性官能基の数が、500個未満であることを意味する。上記極性官能基の数は、100個以下が好ましく、50個未満がより好ましい。上記極性官能基の数の下限は、通常、0個である。
The polymer (2) is composed of only TFE units and PAVE units, and preferably contains 95.0 to 98.0 mol % of TFE units and 2.0 to 5.0 mol % of PAVE units based on the total units.
The content of PAVE units in the polymer (2) is preferably 2.1 mol % or more, more preferably 2.2 mol % or more, based on all units.
The phrase "polymer (2) has no polar functional groups" means that the number of polar functional groups that the polymer has is less than 500 per 1 × 10 carbon atoms constituting the polymer main chain. The number of polar functional groups is preferably 100 or less, more preferably less than 50. The lower limit of the number of polar functional groups is usually 0.

ポリマー(2)は、ポリマー鎖の末端基として極性官能基を生じない、重合開始剤や連鎖移動剤等を使用して製造してもよく、極性官能基を有するポリマー(重合開始剤に由来する極性官能基をポリマー鎖の末端基に有するポリマー等)をフッ素化処理して製造してもよい。
フッ素化処理の方法としては、フッ素ガスを使用する方法(特開2019-194314号公報等を参照)が挙げられる。
The polymer (2) may be produced using a polymerization initiator, a chain transfer agent, or the like that does not generate a polar functional group as a terminal group of the polymer chain, or may be produced by fluorinating a polymer having a polar functional group (e.g., a polymer having a polar functional group derived from a polymerization initiator at the terminal group of the polymer chain).
Examples of the fluorination treatment method include a method using fluorine gas (see JP 2019-194314 A, etc.).

本法におけるFパウダーは、Fポリマーを含有するパウダーであり、Fポリマーの含有量は、80質量%以上が好ましく、100質量%がより好ましい。
Fパウダーは、Fポリマー以外の他のポリマーを含んでいてもよい。他のポリマーとしては、芳香族ポリエステル、ポリアミドイミド、ポリイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンオキシド、マレイミドが挙げられる。
The F powder in this method is a powder containing an F polymer, and the content of the F polymer is preferably 80% by mass or more, more preferably 100% by mass.
The F powder may contain other polymers besides the F polymer, such as aromatic polyesters, polyamideimides, polyimides, polyphenylene ethers, polyphenylene oxides, and maleimides.

Fパウダーは、無機物を含んでいてもよい。無機物としては、酸化物、窒化物、金属単体、合金及びカーボンが好ましく、酸化ケイ素(シリカ)、金属酸化物(酸化ベリリウム、酸化セリウム、アルミナ、ソーダアルミナ、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン等)、窒化ホウ素、及びメタ珪酸マグネシウム(ステアタイト)がより好ましく、シリカ及び窒化ホウ素がさらに好ましく、シリカが特に好ましい。この場合、液状組成物中のFパウダーの分散安定性が向上しやすい。
無機物を含むFパウダーは、Fポリマーをコアとし、このコアの表面に、無機物を有するのが好ましい。かかるFパウダーは、例えば、Fポリマーのパウダーと無機物のパウダーとを合着(衝突、凝集等)させて得られる。
The F powder may contain an inorganic substance. Examples of inorganic substances include oxides, nitrides, metal elements, alloys, and carbon. Silicon oxide (silica), metal oxides (beryllium oxide, cerium oxide, alumina, soda alumina, magnesium oxide, zinc oxide, titanium oxide, etc.), boron nitride, and magnesium metasilicate (steatite) are more preferred. Silica and boron nitride are even more preferred, and silica is particularly preferred. This tends to improve the dispersion stability of the F powder in the liquid composition.
The inorganic-containing F powder preferably has an F polymer core and an inorganic substance on the surface of the core, and is obtained, for example, by coalescence (collision, aggregation, etc.) of an F polymer powder and an inorganic substance powder.

FパウダーのD50は、10μm以下が好ましく、8μm以下がより好ましく、5μm以下がさらに好ましい。FパウダーのD50は、0.1μm以上が好ましく、0.3μm以上がより好ましく、1μm以上がさらに好ましい。
また、FパウダーのD90は、100μm未満が好ましく、90μm以下がより好ましい。
Fパウダーの比表面積は、1~8m/gが好ましく、1~5m/gがより好ましく、1~3m/gがさらに好ましい。
FパウダーのD50、D90及び比表面積が、上記範囲にあれば、液状組成物中におけるFパウダーの分散安定性が優れやすい。また、得られるポリマー層が緻密になるので、耐水性が向上(低吸水率化)しやすい。
The D50 of the F powder is preferably 10 μm or less, more preferably 8 μm or less, and even more preferably 5 μm or less. The D50 of the F powder is preferably 0.1 μm or more, more preferably 0.3 μm or more, and even more preferably 1 μm or more.
Furthermore, D90 of the F powder is preferably less than 100 μm, and more preferably 90 μm or less.
The specific surface area of the F powder is preferably 1 to 8 m 2 /g, more preferably 1 to 5 m 2 /g, and even more preferably 1 to 3 m 2 /g.
When the D50, D90, and specific surface area of the F powder are within the above ranges, the dispersion stability of the F powder in the liquid composition is likely to be excellent. In addition, the resulting polymer layer is dense, which tends to improve water resistance (low water absorption).

Fパウダーは、1種を用いてもよく、2種以上を用いてもよい。2種のFパウダーを用いる場合のFパウダーは、熱溶融性Fポリマーのパウダー(TFE単位及びPAVE単位を含む、カルボニル基含有基を有する熱溶融性Fポリマーのパウダー等。)と非熱溶融性Fポリマーのパウダー(非熱溶融性PTFEのパウダー等。)とであるのが好ましい。
また、2種のFパウダーの総量に占める前者のパウダーの割合は、50質量%以下が好ましく、25質量%以下がより好ましい。また、前記割合は、0.1質量%以上が好ましく、1質量%以上がより好ましい。
また、前者のパウダーのD50は1~4μmであり、かつ、後者のパウダーのD50は0.1~1μmであるのが好ましい。
One type of F powder may be used, or two or more types may be used. When two types of F powders are used, the F powders are preferably a powder of a heat-fusible F polymer (such as a powder of a heat-fusible F polymer having a carbonyl group-containing group containing TFE units and PAVE units) and a powder of a non-heat-fusible F polymer (such as a powder of non-heat-fusible PTFE).
The proportion of the former powder in the total amount of the two types of F powder is preferably 50% by mass or less, more preferably 25% by mass or less, and is preferably 0.1% by mass or more, more preferably 1% by mass or more.
It is also preferable that the D50 of the former powder is 1 to 4 μm, and the D50 of the latter powder is 0.1 to 1 μm.

本法における液状分散媒は、その表面張力が30mN/m以上であり、35mN/m以上が好ましく、40mN/m以上がより好ましい。表面張力は、75mN/m以下が好ましく、55mN/m以下がより好ましい。かかる表面張力の液状分散媒を使用すれば、Fパウダーの分散安定性に優れ、上記処理が施されたポリマーフィルムの表面において均一に濡れ広がる液状組成物を得やすい。
液状分散媒の具体例としては、N-メチル-2-ピロリドン(NMP:41)、シクロヘキサノン(CHN:35.2)、ジメチルスルホキシド(DMSO:43.5)、ジエチレングリコール(DEG:45.2)、ブロモベンゼン(35.75)、水(72.8)が挙げられる。なお、括弧内の数値は、各液状分散媒の表面張力(単位:mN/m)である。
液状分散媒は、1種を単独で使用してもよく、2種以上を併用してもよい。
The liquid dispersion medium used in this method has a surface tension of 30 mN/m or more, preferably 35 mN/m or more, and more preferably 40 mN/m or more. The surface tension is preferably 75 mN/m or less, and more preferably 55 mN/m or less. Use of a liquid dispersion medium with such a surface tension provides excellent dispersion stability for the F powder, making it easy to obtain a liquid composition that uniformly wets and spreads on the surface of the polymer film that has been subjected to the above treatment.
Specific examples of liquid dispersion media include N-methyl-2-pyrrolidone (NMP: 41), cyclohexanone (CHN: 35.2), dimethyl sulfoxide (DMSO: 43.5), diethylene glycol (DEG: 45.2), bromobenzene (35.75), and water (72.8). The numbers in parentheses indicate the surface tension (unit: mN/m) of each liquid dispersion medium.
The liquid dispersion medium may be used alone or in combination of two or more kinds.

液状組成物中のFパウダーの含有量は、10質量%以上であり、15質量%以上が好ましく、20質量%以上がより好ましい。Fパウダーの含有量は、60質量%以下が好ましく、40質量%以下がより好ましい。本発明によればFパウダーの含有量が高い液状組成物を用いても、厚さムラの小さいポリマー層が形成できるため、任意の厚さ、特に厚いポリマー層を容易に形成できる。
液状組成物中の液状分散媒の含有量は、40質量%以上が好ましく、50質量%以上がより好ましい。液状分散媒の含有量は、80質量%以下が好ましい。
The content of F powder in the liquid composition is 10% by mass or more, preferably 15% by mass or more, and more preferably 20% by mass or more. The content of F powder is preferably 60% by mass or less, and more preferably 40% by mass or less. According to the present invention, even when a liquid composition with a high content of F powder is used, a polymer layer with little thickness variation can be formed, so that a polymer layer of any thickness, particularly a thick polymer layer, can be easily formed.
The content of the liquid dispersion medium in the liquid composition is preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, and is preferably 80% by mass or less.

本法における液状組成物は、芳香族ポリマー(以下、「ARポリマー」と記す。)を含有するのが好ましい。この場合、得られるポリマー層に、Fポリマーに基づく物性(電気特性、接着性、低吸水性等)と、ARポリマーに基づく物性(低線膨張性、UV吸収性等)とを付与できる。ARポリマーは、液状分散媒に溶解してもよく、分散してもよい。
ARポリマーは、そのガラス転移点が300~350℃が好ましく、315~335℃がより好ましい。この場合、ポリマー層(積層フィルム)の線膨張係数を低減して、加熱による変形を防止又は抑制しやすい。
ARポリマーの5%重量減少温度は、260℃以上が好ましく、300℃以上がより好ましく、320℃以上がさらに好ましい。ARポリマーの5%重量減少温度は、600℃以下が好ましい。上記範囲において、ARポリマーの分解ガスに起因する気泡や、ARポリマー自体の反応に伴う副生物によるガスに起因する気泡が低減され、積層フィルムにおいてポリマー層のポリマーフィルムとの界面荒れを効果的に抑制しやすい。
The liquid composition used in this method preferably contains an aromatic polymer (hereinafter referred to as "AR polymer"). In this case, the resulting polymer layer can be imparted with properties derived from the F polymer (electrical properties, adhesiveness, low water absorption, etc.) and properties derived from the AR polymer (low linear expansion, UV absorption, etc.). The AR polymer may be dissolved or dispersed in a liquid dispersion medium.
The glass transition point of the AR polymer is preferably 300 to 350° C., more preferably 315 to 335° C. In this case, the linear expansion coefficient of the polymer layer (laminated film) is reduced, making it easy to prevent or suppress deformation due to heating.
The 5% weight loss temperature of the AR polymer is preferably 260° C. or higher, more preferably 300° C. or higher, and even more preferably 320° C. or higher. The 5% weight loss temperature of the AR polymer is preferably 600° C. or lower. Within the above range, bubbles caused by decomposition gas of the AR polymer and bubbles caused by gas produced as a by-product accompanying the reaction of the AR polymer itself are reduced, making it easy to effectively suppress roughening of the interface between the polymer layer and the polymer film in the laminate film.

ARポリマーは、熱可塑性であるのが好ましい。かかるARポリマーは、その可塑性により、ポリマー層中における分散性がより向上し、緻密かつ均一なポリマー層が形成されやすい。
ARポリマーは、芳香族ポリイミド、芳香族マレイミド、芳香族ポリフェニレンエーテル、芳香族スチレンエラストマー、液晶ポリエステルからなる群から選ばれる少なくとも1種であるのが好ましく、芳香族ポリイミドがより好ましい。ここで、熱可塑性のポリイミドとは、イミド化が完了した、イミド化反応がさらに生じないポリイミドを意味する。
かかるARポリマーを使用すれば、ポリマー層のポリマーフィルムに対する密着性が向上しやすいだけでなく、フィルム物性(UV吸収性等)が向上しやすい。
The AR polymer is preferably thermoplastic, since the plasticity of such an AR polymer improves dispersibility in the polymer layer, making it easier to form a dense and uniform polymer layer.
The AR polymer is preferably at least one selected from the group consisting of aromatic polyimide, aromatic maleimide, aromatic polyphenylene ether, aromatic styrene elastomer, and liquid crystal polyester, and more preferably aromatic polyimide. Here, the thermoplastic polyimide means a polyimide in which imidization has been completed and no further imidization reaction occurs.
Use of such an AR polymer not only tends to improve the adhesion of the polymer layer to the polymer film, but also tends to improve the physical properties of the film (such as UV absorbency).

ARポリマーの具体例としては、芳香族ポリアミドイミドである「HPC」シリーズ(日立化成社製)等、芳香族性ポリイミドである「ネオプリム」シリーズ(三菱ガス化学社製)、「スピクセリア」シリーズ(ソマール社製)、「Q-PILON」シリーズ(ピーアイ技術研究所製)、「WINGO」シリーズ(ウィンゴーテクノロジー社製)、「トーマイド」シリーズ(T&K TOKA社製)、「KPI-MX」シリーズ(河村産業社製)及び「ユピア-AT」シリーズ(宇部興産社製)等が挙げられる。
なお、ARポリマーである芳香族ポリイミドとしては、後述するポリマーフィルムで説明する芳香族ポリイミドを使用してもよい。
Specific examples of AR polymers include aromatic polyamideimides such as the "HPC" series (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), and aromatic polyimides such as the "Neoprim" series (manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc.), the "Spixeria" series (manufactured by Somar), the "Q-PILON" series (manufactured by PI Technical Research Institute), the "WINGO" series (manufactured by Wingo Technology), the "Tomido" series (manufactured by T&K Toka Corporation), the "KPI-MX" series (manufactured by Kawamura Sangyo Kaisha), and the "UPIA-AT" series (manufactured by Ube Industries, Ltd.).
As the aromatic polyimide which is the AR polymer, the aromatic polyimide which will be explained later in connection with the polymer film may be used.

本法におけるFポリマー及びARポリマーの好適な態様としては、Fポリマーの溶融温度が285~320℃であり、ARポリマーのガラス転移点が315~335℃である態様が挙げられる。
上記態様においては、ポリマー層中において、FポリマーとARポリマーとが均一に分散してフィルム物性が向上しやすいだけでなく、高温環境下において、FポリマーとARポリマーとが高度に相互作用して、ポリマー層の耐熱性がより向上しやすい。
A preferred embodiment of the F polymer and AR polymer in this method is one in which the melting temperature of the F polymer is 285 to 320°C and the glass transition point of the AR polymer is 315 to 335°C.
In the above embodiment, not only are the F polymer and the AR polymer uniformly dispersed in the polymer layer, which tends to improve the film properties, but also, in a high-temperature environment, the F polymer and the AR polymer highly interact with each other, which tends to further improve the heat resistance of the polymer layer.

本法における液状組成物において、FポリマーとARポリマーとの合計の含有量に対するARポリマーの含有量は、10質量%以下が好ましく、7.5質量%以下がより好ましく、5質量%以下がさらに好ましい。また、上記ARポリマーの含有量は、0.1質量%以上が好ましい。
液状組成物中のFポリマー及びARポリマーのそれぞれの含有量が上記比率を満たし、Fポリマーの含有量に対するARポリマーの含有量が低い状態にあれば、得られるポリマー層において、ARポリマーがFポリマー中に高度に分散した状態を形成しやすい。その結果、ポリマー層において、Fポリマーに基づく物性(電気特性、低吸水性等)が高度に発現しやすい。
In the liquid composition of this method, the content of the AR polymer relative to the total content of the F polymer and the AR polymer is preferably 10% by mass or less, more preferably 7.5% by mass or less, and even more preferably 5% by mass or less, and the content of the AR polymer is preferably 0.1% by mass or more.
When the contents of the F polymer and the AR polymer in the liquid composition satisfy the above ratio and the content of the AR polymer is low relative to the content of the F polymer, the AR polymer is likely to be highly dispersed in the F polymer in the resulting polymer layer, and as a result, the physical properties (electrical properties, low water absorption, etc.) based on the F polymer are likely to be highly exhibited in the polymer layer.

本法における液状組成物は、ポリマー層の電気特性と低線膨張性を向上させる観点から、さらに、無機フィラーを含んでいてもよい。
無機フィラーとしては、窒化物フィラー又は無機酸化物フィラーが好ましく、窒化ホウ素フィラー、ベリリアフィラー(ベリリウムの酸化物のフィラー)、ケイ酸塩フィラー(シリカフィラー、ウォラストナイトフィラー、タルクフィラー)、又は金属酸化物(酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化チタン等)フィラーがより好ましく、シリカフィラーがさらに好ましい。無機フィラーは、シランカップリング剤で表面処理されているのが好ましい。
The liquid composition used in this method may further contain an inorganic filler from the viewpoint of improving the electrical properties and low linear expansion of the polymer layer.
The inorganic filler is preferably a nitride filler or an inorganic oxide filler, more preferably a boron nitride filler, a beryllia filler (a beryllium oxide filler), a silicate filler (a silica filler, a wollastonite filler, a talc filler), or a metal oxide filler (cerium oxide, aluminum oxide, magnesium oxide, zinc oxide, titanium oxide, etc.), and even more preferably a silica filler. The inorganic filler is preferably surface-treated with a silane coupling agent.

無機フィラーのD50は、20μm以下が好ましく、10μm以下がより好ましい。D50は、0.01μm以上が好ましく、0.1μm以上がより好ましい。
無機フィラーの形状は、粒状、針状(繊維状)、板状のいずれであってもよい。無機フィラーの具体的な形状としては、球状、鱗片状、層状、葉片状、杏仁状、柱状、鶏冠状、等軸状、葉状、雲母状、ブロック状、平板状、楔状、ロゼット状、網目状、角柱状が挙げられる。
The inorganic filler preferably has a D50 of 20 μm or less, more preferably 10 μm or less, and preferably has a D50 of 0.01 μm or more, more preferably 0.1 μm or more.
The shape of the inorganic filler may be any of granular, needle-like (fibrous), and plate-like. Specific shapes of the inorganic filler include spherical, scale-like, layer-like, leaf-like, apricot-like, columnar, cockscomb-like, equiaxial, leaf-like, micaceous, block-like, flat, wedge-like, rosette-like, net-like, and prismatic shapes.

無機フィラーの好適な具体例としては、シリカフィラー(アドマテックス社製の「アドマファイン(登録商標)」シリーズ等)、ジカプリン酸プロピレングリコール等のエステルで表面処理された酸化亜鉛フィラー(堺化学工業株式会社製の「FINEX(登録商標)」シリーズ等)、球状溶融シリカフィラー(デンカ社製の「SFP(登録商標)」シリーズ等)、多価アルコールおよび無機物で被覆処理された酸化チタンフィラー(石原産業社製の「タイペーク(登録商標)」シリーズ等)、アルキルシランで表面処理されたルチル型酸化チタンフィラー(テイカ社製の「JMT(登録商標)」シリーズ等)、中空状シリカフィラー(太平洋セメント社製の「E-SPHERES」シリーズ、日鉄鉱業社製の「シリナックス」シリーズ、エマーソン・アンド・カミング社製「エココスフイヤー」シリーズ等)、タルクフィラー(日本タルク社製の「SG」シリーズ等)、ステアタイトフィラー(日本タルク社製の「BST」シリーズ等)、窒化ホウ素フィラー(昭和電工社製の「UHP」シリーズ、デンカ社製の「デンカボロンナイトライド」シリーズ(「GP」、「HGP」グレード)等)が挙げられる。 Specific examples of suitable inorganic fillers include silica fillers (such as the "Admafine (registered trademark)" series manufactured by Admatechs Co., Ltd.), zinc oxide fillers surface-treated with esters such as propylene glycol dicaprate (such as the "FINEX (registered trademark)" series manufactured by Sakai Chemical Industry Co., Ltd.), spherical fused silica fillers (such as the "SFP (registered trademark)" series manufactured by Denka Co., Ltd.), titanium oxide fillers coated with polyhydric alcohols and inorganic substances (such as the "Tipaque (registered trademark)" series manufactured by Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd.), and rutile-type titanium oxide fillers surface-treated with alkylsilanes. Examples of fillers include hollow silica fillers (such as the "JMT (registered trademark)" series manufactured by Teika Corporation), hollow silica fillers (such as the "E-SPHERES" series manufactured by Taiheiyo Cement Corporation, the "Silinax" series manufactured by Nittetsu Mining Co., Ltd., and the "Ecocospher" series manufactured by Emerson & Cumming Co., Ltd.), talc fillers (such as the "SG" series manufactured by Nippon Talc Co., Ltd.), steatite fillers (such as the "BST" series manufactured by Nippon Talc Co., Ltd.), and boron nitride fillers (such as the "UHP" series manufactured by Showa Denko KK and the "Denka Boron Nitride" series ("GP" and "HGP" grades) manufactured by Denka Company, Ltd.).

本法における液状組成物は、分散性とハンドリング性とを向上させる観点から、さらに、界面活性剤を含んでいてもよい。
界面活性剤は、ノニオン性であるのが好ましい。
界面活性剤の親水部位は、オキシアルキレン基又はアルコール性水酸基を有するのが好ましい。
界面活性剤の疎水部位は、アセチレン基、ポリシロキサン基、ペルフルオロアルキル基又はペルフルオロアルケニル基を有するのが好ましい。換言すれば、界面活性剤は、アセチレン系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤又はフッ素系界面活性剤が好ましく、シリコーン系界面活性剤がより好ましい。
界面活性剤は、グリコール系界面活性剤でもよい。
界面活性剤は、1種を用いてもよく、2種以上を用いてもよい。2種の界面活性剤を用いる場合、シリコーン系界面活性剤とグリコール系界面活性剤とを用いるのが好ましい。
The liquid composition in this method may further contain a surfactant from the viewpoint of improving dispersibility and handling properties.
The surfactant is preferably nonionic.
The hydrophilic portion of the surfactant preferably has an oxyalkylene group or an alcoholic hydroxyl group.
The hydrophobic portion of the surfactant preferably has an acetylene group, a polysiloxane group, a perfluoroalkyl group, or a perfluoroalkenyl group. In other words, the surfactant is preferably an acetylene-based surfactant, a silicone-based surfactant, or a fluorine-based surfactant, and more preferably a silicone-based surfactant.
The surfactant may be a glycol-based surfactant.
The surfactant may be used alone or in combination of two or more. When two surfactants are used, it is preferable to use a silicone surfactant and a glycol surfactant.

また、本法における液状組成物は、上記成分以外にも、シランカップリング剤、脱水剤、消泡剤、可塑剤、耐候剤、酸化防止剤、熱安定剤、滑剤、帯電防止剤、増白剤、着色剤、導電剤、離型剤、表面処理剤、難燃剤、有機フィラー等の添加剤を含んでいてもよい。 In addition to the above components, the liquid composition used in this method may also contain additives such as silane coupling agents, dehydrating agents, antifoaming agents, plasticizers, weathering agents, antioxidants, heat stabilizers, lubricants, antistatic agents, brighteners, colorants, conductive agents, release agents, surface treatment agents, flame retardants, and organic fillers.

液状組成物の粘度は、100mPa・s以上が好ましく、250mPa・s以上がより好ましい。液状組成物の粘度は、100000mPa・s以下が好ましく、10000mPa・s以下がより好ましく、3000mPa・sが特に好ましい。
液状組成物のチキソ比は、1.0~2.0が好ましい。
かかる粘度及びチキソ比を有する液状組成物は、ポリマーフィルムの表面をより均一に濡れ広がりやすい。
The viscosity of the liquid composition is preferably 100 mPa·s or more, more preferably 250 mPa·s or more, and is preferably 100,000 mPa·s or less, more preferably 10,000 mPa·s or less, particularly preferably 3,000 mPa·s.
The thixotropy ratio of the liquid composition is preferably 1.0 to 2.0.
A liquid composition having such a viscosity and thixotropy ratio tends to wet and spread more uniformly on the surface of a polymer film.

本法において、ポリマーフィルムの表面に施す処理としては、親水化処理であるのが好ましい。親水化処理によれば、ポリマーフィルムの表面の表面張力を、比較的簡単に高められる。
親水化処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、グロー処理、UVオゾン処理等の物理活性化処理が好ましく、コロナ処理及びプラズマ処理からなる群より選択される少なくとも1つの処理がより好ましい。これらの処理によれば、比較的容易かつ確実に、親水化処理を行える。
In this method, the treatment applied to the surface of the polymer film is preferably a hydrophilization treatment, which can relatively easily increase the surface tension of the polymer film surface.
The hydrophilization treatment is preferably a physical activation treatment such as a corona treatment, a plasma treatment, a glow treatment, or a UV ozone treatment, and more preferably at least one treatment selected from the group consisting of a corona treatment and a plasma treatment. These treatments allow the hydrophilization treatment to be carried out relatively easily and reliably.

コロナ処理は、効率的に極性官能基を導入できる観点から、可燃性ガス(酢酸ビニル等)の存在下に行うのが好ましい。
プラズマ処理におけるプラズマ照射装置としては、高周波誘導方式、容量結合型電極方式、コロナ放電電極-プラズマジェット方式、平行平板型、リモートプラズマ型、大気圧プラズマ型、ICP型高密度プラズマ型等が挙げられる。
プラズマ処理に用いるガスは、希ガス、水素ガス又は窒素ガスが好ましい。かかるガスの具体例としては、アルゴンガス、水素ガスと窒素ガスとの混合ガス、水素ガスと窒素ガスとアルゴンガスとの混合ガスが挙げられる。
The corona treatment is preferably carried out in the presence of a flammable gas (vinyl acetate, etc.) from the viewpoint of efficiently introducing polar functional groups.
Examples of plasma irradiation devices for plasma treatment include high frequency induction type, capacitively coupled electrode type, corona discharge electrode-plasma jet type, parallel plate type, remote plasma type, atmospheric pressure plasma type, and ICP high density plasma type.
The gas used in the plasma treatment is preferably a rare gas, hydrogen gas, or nitrogen gas, and specific examples of such gas include argon gas, a mixed gas of hydrogen gas and nitrogen gas, and a mixed gas of hydrogen gas, nitrogen gas, and argon gas.

上記処理が施されたポリマーフィルムの表面には、極性官能基が存在するのが好ましい。極性官能基がポリマーフィルムの表面に存在すれば、その表面の表面張力(濡れ性)及び接着性が増大する。このため、得られるポリマー層の厚さの均一性が向上するとともに、ポリマーフィルムとポリマー層との接着強度がより高まる。また、ポリマーフィルムの線膨張係数を低減する効果も期待できる。
ポリマーフィルムの表面に存在する極性官能基は、水酸基含有基又はカルボニル基含有基が好ましい。
さらに、ポリマーフィルムは、アニール処理に供して、その残留応力が調整されてもよい。アニール処理における条件は、温度120~180℃、圧力0.005~0.015MPa、時間30~120分間が好ましい。
The surface of the polymer film subjected to the above treatment preferably contains polar functional groups. The presence of polar functional groups on the surface of the polymer film increases the surface tension (wettability) and adhesiveness of the surface. This improves the uniformity of the thickness of the resulting polymer layer and further increases the adhesive strength between the polymer film and the polymer layer. The effect of reducing the linear expansion coefficient of the polymer film can also be expected.
The polar functional group present on the surface of the polymer film is preferably a hydroxyl group-containing group or a carbonyl group-containing group.
Furthermore, the polymer film may be subjected to an annealing treatment to adjust the residual stress thereof. The annealing treatment is preferably performed at a temperature of 120 to 180° C., under a pressure of 0.005 to 0.015 MPa for a time of 30 to 120 minutes.

上記処理が施されたポリマーフィルムの表面の表面張力は、液状分散媒の表面張力よりも大きいのが好ましい。この場合、液状組成物がポリマーフィルムの表面をより円滑かつ均一に濡れ広がりやすくなる。
具体的には、処理が施されたポリマーフィルムの表面の表面張力と液状分散媒の表面張力との差は、10mN/m以上が好ましく、20mN/m以上がより好ましい。表面張力の差は、50mN/m以下が好ましく、40mN/m以下がより好ましい。
また、ポリマーフィルムの表面の算術平均粗さRaは、0.01~5μmが好ましく、0.03~1μmがより好ましい。この場合、ピニング現象の発生の起点となる段差が少ないので、液状組成物がポリマーフィルムの表面をより均一に濡れ広がりやすくなる。
The surface tension of the surface of the polymer film that has been subjected to the above treatment is preferably greater than the surface tension of the liquid dispersion medium, in which case the liquid composition can more smoothly and uniformly wet and spread over the surface of the polymer film.
Specifically, the difference in surface tension between the surface of the treated polymer film and the surface tension of the liquid dispersion medium is preferably 10 mN/m or more, more preferably 20 mN/m or more, and is preferably 50 mN/m or less, more preferably 40 mN/m or less.
The arithmetic mean roughness Ra of the surface of the polymer film is preferably 0.01 to 5 μm, more preferably 0.03 to 1 μm, in which case there are fewer steps that serve as starting points for the pinning phenomenon, making it easier for the liquid composition to wet and spread more uniformly over the surface of the polymer film.

液状組成物(ポリマー層)がARポリマーを含む場合、ポリマーフィルムに含まれるベースポリマーのガラス転移点と、液状組成物(ポリマー層)に含まれるARポリマーのガラス転移点との差の絶対値は、20℃以下が好ましく、10℃以下がより好ましい。なお、ガラス転移点の差の絶対値は、0℃であってもよい。この場合、ベースポリマーのガラス転移点とARポリマーのガラス転移点とが近づくので、積層フィルム全体として、加熱による変形がより発生しにくくなる。
ポリマーフィルムに含まれるベースポリマーのガラス転移点の具体的な値は、230~340℃が好ましく、250~320℃がより好ましい。この場合、ポリマーフィルムの加熱による変形の程度が充分に低くなる。
When the liquid composition (polymer layer) contains an AR polymer, the absolute value of the difference between the glass transition point of the base polymer contained in the polymer film and the glass transition point of the AR polymer contained in the liquid composition (polymer layer) is preferably 20° C. or less, more preferably 10° C. or less. The absolute value of the difference in glass transition point may be 0° C. In this case, the glass transition points of the base polymer and the AR polymer become closer to each other, making the laminate film as a whole less susceptible to deformation due to heating.
The specific value of the glass transition point of the base polymer contained in the polymer film is preferably 230 to 340° C., more preferably 250 to 320° C. In this case, the degree of deformation of the polymer film due to heating is sufficiently low.

ガラス転移点の差の絶対値及びベースポリマーのガラス転移点の具体的な値が上記範囲を満たせば、得られる積層フィルムの表面におけるシワの発生を防止又は抑制できる。
ポリマーフィルムに含まれるベースポリマーは、芳香族ポリイミドであるのが好ましい。芳香族ポリイミドを使用すれば、ポリマーフィルムの加熱による変形の程度がより低くなりやすい。
ポリマーフィルム中のベースポリマーの含有量は、80質量%以上が好ましく、90質量%以上がより好ましい。上記含有量は、100質量%であってもよい。
When the absolute value of the difference in glass transition temperature and the specific value of the glass transition temperature of the base polymer satisfy the above ranges, the occurrence of wrinkles on the surface of the obtained laminated film can be prevented or suppressed.
The base polymer contained in the polymer film is preferably an aromatic polyimide, since the use of an aromatic polyimide tends to reduce the degree of deformation of the polymer film due to heating.
The content of the base polymer in the polymer film is preferably 80% by mass or more, more preferably 90% by mass or more, and may be 100% by mass.

ベースポリマーとしては、ポリイミド、ポリアミド、ポリエーテルアミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリルエーテルケトン、ポリアミドイミド、液晶性ポリエステル、テトラフルオロエチレン系ポリマーが挙げられ、芳香族ポリイミドが好ましい。 Base polymers include polyimide, polyamide, polyetheramide, polyphenylene sulfide, polyaryl ether ketone, polyamideimide, liquid crystalline polyester, and tetrafluoroethylene-based polymers, with aromatic polyimide being preferred.

ベースポリマーである芳香族ポリイミドのイミド基密度は、0.20~0.35が好ましい。イミド基密度が上記上限値以下であれば、ポリマーフィルムの吸水率がより低くなり、積層フィルムの誘電特性の変化を抑制しやすい。イミド基密度が上記下限値以上であれば、イミド基が極性基として機能して、ポリマーフィルムとポリマー層との密着力がより向上するだけでなく、吸水率が顕著に低下しやすい。
また、上記イミド基密度がかかる範囲にあれば、積層フィルムにおけるシワがより発生しにくくなりやすい。かかるシワは、ポリマーフィルムにおける芳香族ポリイミドのガラス転移点が高い場合に生じにくい。
The imide group density of the aromatic polyimide base polymer is preferably 0.20 to 0.35. If the imide group density is equal to or less than the upper limit, the water absorption rate of the polymer film is lowered, and changes in the dielectric properties of the laminated film are easily suppressed. If the imide group density is equal to or greater than the lower limit, the imide groups function as polar groups, which not only improves the adhesion between the polymer film and the polymer layer but also tends to significantly reduce the water absorption rate.
Furthermore, if the imide group density is within this range, wrinkles are less likely to occur in the laminated film, which is less likely to occur when the glass transition temperature of the aromatic polyimide in the polymer film is high.

なお、イミド基密度は、ポリイミド前駆体をイミド化したポリイミドにおいて、イミド基部分の単位当たりの分子量(140.1)をポリイミドの単位当たりの分子量で除した値である。例えば、ピロメリット酸二無水物(分子量:218.1)の1モルと3,4’-オキシジアニリン(分子量:200.2)の1モルとの2成分からなるポリイミド前駆体をイミド化したポリイミド(単位当たりの分子量:382.2)のイミド基密度は、140.1を382.2で除した値である0.37となる。The imide group density is the molecular weight per unit of the imide group portion (140.1) in a polyimide obtained by imidizing a polyimide precursor, divided by the molecular weight per unit of the polyimide. For example, the imide group density of a polyimide (molecular weight per unit: 382.2) obtained by imidizing a polyimide precursor consisting of two components, 1 mole of pyromellitic dianhydride (molecular weight: 218.1) and 1 mole of 3,4'-oxydianiline (molecular weight: 200.2), is 0.37, which is the value obtained by dividing 140.1 by 382.2.

芳香族ポリイミドとしては、ジアミンとカルボン酸二無水物とを反応させてポリアミック酸を合成し、このポリアミック酸を熱イミド化法又は化学イミド化法によりイミド化して得られるポリイミドが挙げられる。
ポリアミック酸を合成するための溶媒としては、N,N-ジメチルホルムアミド、N,N-ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドンが挙げられる。
Examples of aromatic polyimides include polyimides obtained by reacting diamine with carboxylic dianhydride to synthesize polyamic acid, and then imidizing the polyamic acid by thermal imidization or chemical imidization.
Examples of solvents for synthesizing polyamic acid include N,N-dimethylformamide, N,N-dimethylacetamide, and N-methyl-2-pyrrolidone.

ジアミンとしては、4,4’-ジアミノジフェニルプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、4,4’-オキシジアニリン、3,3’-オキシジアニリン、3,4’-オキシジアニリン、4,4’-ジアミノジフェニルジエチルシラン、4,4’-ジアミノジフェニルシラン、1,4-ジアミノベンゼン(p-フェニレンジアミン)、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、4,4’-ビス(3-アミノフェノキシ)ビフェニル、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、3,3’-ジアミノベンゾフェノン、4,4’-ジアミノベンゾフェノン、2,2’-ジメチル-4,4’-ジアミノビフェニル、2,2-ビス{4-(4-アミノフェノキシ)フェニル}プロパン、3,3’-ジヒドロキシ-4,4’-ジアミノ-1,1’-ビフェニル、2,4-ジアミノトルエンが挙げられる。これらのジアミン成分は、1種を単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。 Diamines include 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylmethane, 4,4'-oxydianiline, 3,3'-oxydianiline, 3,4'-oxydianiline, 4,4'-diaminodiphenyldiethylsilane, 4,4'-diaminodiphenylsilane, 1,4-diaminobenzene (p-phenylenediamine), 4,4'-bis(4-aminophenoxy)biphenyl, 4,4'-bis(3-aminophenoxy)biphenyl, 1,3-bis(3-aminophenoxy)biphenyl, Examples of the diamine component include 1,3-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,4-bis(4-aminophenoxy)benzene, 1,3-bis(3-aminophenoxy)benzene, 3,3'-diaminobenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, 2,2'-dimethyl-4,4'-diaminobiphenyl, 2,2-bis{4-(4-aminophenoxy)phenyl}propane, 3,3'-dihydroxy-4,4'-diamino-1,1'-biphenyl, and 2,4-diaminotoluene. These diamine components may be used alone or in combination of two or more.

カルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、3,3’4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,2’,3,3’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビフェニルエーテルテトラカルボン酸二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、2,2-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)プロパン二無水物、1,1-ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、1,1-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)エタン二無水物、ビス(2,3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、3,3’,4,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,2’,3’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2,3,3’,4’-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、1,3-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)-1,1,3,3-テトラメチルジシクロヘキサン二無水物、2,2-ビス(3,4-ジカルボキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2-ビス[4-(3,4-ジカルボキシフェノキシ)フェニル]ヘキサフルオロプロパン二無水物、2,2-ビス[4-(3,4-ジカルボキシフェノキシ)フェニル]プロパン二無水物が挙げられる。これらのジカルボン酸成分は、1種を単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。 Carboxylic acid dianhydrides include pyromellitic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,2',3,3'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 2,3,3',4'-biphenyltetracarboxylic dianhydride, 3,3',4,4'-biphenylethertetracarboxylic dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 2,2-bis(2,3-dicarboxyphenyl)propane dianhydride, 1,1-bis(2,3-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, 1,1-bis(3,4-dicarboxyphenyl)ethane dianhydride, bis(2,3-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, bis(3 Examples of the dicarboxylic acid component include 1,3-bis(3,4-dicarboxyphenyl)methane dianhydride, 3,3',4,4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,3,2',3'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 2,3,3',4'-benzophenonetetracarboxylic dianhydride, 1,3-bis(3,4-dicarboxyphenyl)-1,1,3,3-tetramethyldicyclohexane dianhydride, 2,2-bis(3,4-dicarboxyphenyl)hexafluoropropane dianhydride, 2,2-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]hexafluoropropane dianhydride, and 2,2-bis[4-(3,4-dicarboxyphenoxy)phenyl]propane dianhydride. These dicarboxylic acid components may be used alone or in combination of two or more.

また、ジアミンとカルボン酸二無水物との合計モル数に対する、ジアミン及びカルボン酸二無水物が含有するエーテル結合に由来する酸素原子の総モル数は、35~70%が好ましく、45~65%がより好ましい。この場合、芳香族ポリイミドのポリマー主鎖の柔軟性が高まり、芳香族環のスタック性が向上して、ポリマーフィルムとポリマー層との接着性がより向上する。また、この場合、積層フィルムのUV加工性もより良好になる。
かかるポリマーフィルムには、降伏強度、難塑性変形性、熱伝導性、ループスティフネス等の特性を高める目的で、無機フィラーを添加してもよい。かかる無機フィラーとしては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、窒化珪素、窒化ホウ素、リン酸水素カルシウム、リン酸カルシウムが挙げられる。
Furthermore, the total moles of oxygen atoms derived from ether bonds contained in the diamine and the carboxylic acid dianhydride relative to the total moles of the diamine and the carboxylic acid dianhydride is preferably 35 to 70%, more preferably 45 to 65%. In this case, the flexibility of the polymer main chain of the aromatic polyimide is increased, the stackability of the aromatic rings is improved, and the adhesion between the polymer film and the polymer layer is further improved. In addition, in this case, the UV processability of the laminated film is also improved.
An inorganic filler may be added to such a polymer film for the purpose of improving properties such as yield strength, resistance to plastic deformation, thermal conductivity, loop stiffness, etc. Examples of such inorganic fillers include silicon oxide, titanium oxide, aluminum oxide, silicon nitride, boron nitride, calcium hydrogen phosphate, and calcium phosphate.

ポリマーフィルムは、高い降伏強度を有するのが好ましい。具体的には、ポリマーフィルムの5%ひずみ時応力は、180MPa以上が好ましく、210MPa以上がより好ましい。上記5%ひずみ時応力は、500MPa以下が好ましい。
さらに、ポリマーフィルムは、難塑性変形性であるのが好ましい。具体的には、ポリマーフィルムの15%ひずみ時応力は、225MPa以上が好ましく、245MPa以上がより好ましい。上記15%ひずみ時応力は、580MPa以下が好ましい。
ポリマーフィルムが、高い降伏強度、特に難塑性変形性を有すれば、積層フィルムの線膨張係数の絶対値を充分に低くしやすく、反りの発生をより確実に防止できる。
The polymer film preferably has a high yield strength. Specifically, the stress at 5% strain of the polymer film is preferably 180 MPa or more, more preferably 210 MPa or more. The stress at 5% strain is preferably 500 MPa or less.
Furthermore, the polymer film is preferably resistant to plastic deformation. Specifically, the stress at 15% strain of the polymer film is preferably 225 MPa or more, more preferably 245 MPa or more. The stress at 15% strain is preferably 580 MPa or less.
If the polymer film has high yield strength, particularly low plastic deformation resistance, the absolute value of the linear expansion coefficient of the laminated film can be easily made sufficiently low, and warping can be more reliably prevented.

ポリマーフィルムの320℃における引張弾性率は、0.2GPa以上が好ましく、0.4GPa以上がより好ましい。その引張弾性率は、10GPa以下が好ましく、5GPa以下がより好ましい。
この場合の積層フィルムは、それを加工する際に加熱及び冷却してもハンドリング性に優れている。つまり、ポリマーフィルムの引張弾性率が、上記下限値以上であれば、加工時の加熱及び冷却に際して、ポリマー層の収縮がポリマーフィルムの弾性により効果的に緩和され、積層フィルムにシワが生じにくくなり、得られる積層フィルムの物性(表面平滑性等)が向上しやすい。かかる傾向は、ポリマー層中のFポリマーの含有量やポリマー層の厚さが大きい場合に顕著になる。また、ポリマーフィルムの引張弾性率が、上記上限値以下であれば、積層フィルムの柔軟性が一層高まりやすい。
The tensile modulus of the polymer film at 320° C. is preferably 0.2 GPa or more, more preferably 0.4 GPa or more, and is preferably 10 GPa or less, more preferably 5 GPa or less.
In this case, the laminate film has excellent handleability even when heated and cooled during processing. In other words, if the tensile modulus of the polymer film is equal to or greater than the above-mentioned lower limit, the shrinkage of the polymer layer during heating and cooling during processing is effectively alleviated by the elasticity of the polymer film, making the laminate film less likely to wrinkle, and the physical properties (surface smoothness, etc.) of the resulting laminate film are likely to be improved. This tendency becomes more pronounced when the content of the F polymer in the polymer layer or the thickness of the polymer layer is high. Furthermore, if the tensile modulus of the polymer film is equal to or less than the above-mentioned upper limit, the flexibility of the laminate film is likely to be further improved.

ポリマーフィルムはポリマー層と直接接触しているのが好ましい。すなわち、ポリマーフィルムの表面に、シランカップリング剤、接着剤等による表面処理を施すことなく、ポリマー層が直接形成(積層)されるのが好ましい。この場合、得られる積層フィルムにおいて、フィルム物性が低下しにくい。なお、上述した構成により、ポリマーフィルムとポリマー層とが直接接触していても、ポリマーフィルムとポリマー層との間に高い接着性が発現する。 It is preferable that the polymer film be in direct contact with the polymer layer. That is, it is preferable that the polymer layer be formed (laminated) directly on the surface of the polymer film without surface treatment using a silane coupling agent, adhesive, etc. In this case, the physical properties of the resulting laminated film are less likely to deteriorate. Furthermore, with the above-mentioned configuration, high adhesion is achieved between the polymer film and the polymer layer even when they are in direct contact.

液状組成物のポリマーフィルムへの塗布方法は、ポリマーフィルムの表面に液状組成物からなる安定した液状被膜が形成される方法であればよく、スプレー法、ロールコート法、スピンコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、グラビアオフセット法、ナイフコート法、キスコート法、バーコート法、ダイコート法、ファウンテンメイヤーバー法、スロットダイコート法が挙げられる。 The method for applying the liquid composition to the polymer film may be any method that forms a stable liquid coating of the liquid composition on the surface of the polymer film, and includes spraying, roll coating, spin coating, gravure coating, microgravure coating, gravure offset, knife coating, kiss coating, bar coating, die coating, fountain-meyer bar coating, and slot die coating.

液状被膜が形成されたポリマーフィルムを加熱する際には、低温領域の温度に保持して液状分散媒を除去する、すなわち乾燥するのが好ましい。これにより、乾燥被膜が得られる。低温領域の温度は、80℃以上180℃未満が好ましい。低温領域の温度は、乾燥における雰囲気の温度を意味する。
低温領域の温度での保持は、1段階で実施してもよく、異なる温度にて2段階以上で実施してもよい。
低温領域の温度に保持する際の雰囲気は、常圧下、減圧下のいずれの状態であってよい。また、上記雰囲気は、酸素ガス等の酸化性ガス雰囲気、水素ガス等の還元性ガス雰囲気、希ガス、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気のいずれであってもよい。
When heating a polymer film on which a liquid coating has been formed, it is preferable to maintain the temperature in the low temperature range to remove the liquid dispersion medium, i.e., to dry the film. This results in a dried coating. The temperature in the low temperature range is preferably 80°C or higher and lower than 180°C. The temperature in the low temperature range refers to the temperature of the atmosphere during drying.
The temperature retention in the low temperature range may be carried out in one stage, or in two or more stages at different temperatures.
The atmosphere in which the temperature is maintained in the low temperature range may be either atmospheric pressure or reduced pressure, and may be any of an oxidizing gas atmosphere such as oxygen gas, a reducing gas atmosphere such as hydrogen gas, or an inert gas atmosphere such as a rare gas or nitrogen gas.

本法においては、さらに、低温領域での保持温度を超える温度領域(以下、「焼成領域」とも記す。)にて乾燥被膜を加熱し、Fパウダー(Fポリマー)を焼成してポリマーフィルムの表面にポリマー層を形成するのが好ましい。焼成領域の温度は、焼成における雰囲気の温度を意味する。
ポリマー層の形成は、Fパウダーの粒子が密にパッキングし、Fパウダー(Fポリマー)が融着して進行すると考えられる。なお、液状組成物が熱溶融性のARポリマーを含有する場合、FポリマーとARポリマーとの混合物からなるポリマー層が形成され、液状組成物が熱硬化性のARポリマーを含有する場合、FポリマーとARポリマーの硬化物とからなるポリマー層が形成される。
In this method, it is preferable to further heat the dried coating in a temperature range (hereinafter also referred to as the "baking range") that exceeds the holding temperature in the low temperature range, and bake the F powder (F polymer) to form a polymer layer on the surface of the polymer film. The temperature in the baking range means the temperature of the atmosphere during baking.
The formation of the polymer layer is thought to proceed as the particles of the F powder pack closely together and the F powder (F polymer) fuses together. When the liquid composition contains a heat-fusible AR polymer, a polymer layer consisting of a mixture of the F polymer and the AR polymer is formed, and when the liquid composition contains a thermosetting AR polymer, a polymer layer consisting of the F polymer and a cured product of the AR polymer is formed.

焼成における雰囲気は、常圧下、減圧下のいずれの状態であってよい。また、上記雰囲気は、酸素ガス等の酸化性ガス雰囲気、水素ガス等の還元性ガス雰囲気、希ガス、窒素ガス等の不活性ガス雰囲気のいずれであってもよい。
焼成における雰囲気は、不活性ガスから構成され酸素ガス濃度が低いガス雰囲気が好ましく、窒素ガスから構成され酸素ガス濃度(体積基準)が500ppm未満のガス雰囲気が好ましい。酸素ガス濃度(体積基準)は、通常、1ppm以上である。この範囲において、ポリマー成分の酸化分解が抑制しつつ、ポリマー層の接着性を向上させやすい。
焼成領域の温度は、Fポリマーの溶融温度以上が好ましく、300~380℃がより好ましい。
焼成領域の温度に保持する時間は、30秒~5分間が好ましく、1~2分間が特に好ましい。
The firing atmosphere may be either normal pressure or reduced pressure, and may be any of an oxidizing gas atmosphere such as oxygen gas, a reducing gas atmosphere such as hydrogen gas, or an inert gas atmosphere such as a rare gas or nitrogen gas.
The firing atmosphere is preferably an inert gas atmosphere with a low oxygen concentration, and more preferably a nitrogen gas atmosphere with an oxygen concentration (volume basis) of less than 500 ppm. The oxygen concentration (volume basis) is typically 1 ppm or more. Within this range, oxidative decomposition of the polymer component is suppressed, while the adhesiveness of the polymer layer is likely to be improved.
The temperature in the baking zone is preferably equal to or higher than the melting temperature of the F polymer, more preferably 300 to 380°C.
The time for maintaining the temperature of the baking zone is preferably 30 seconds to 5 minutes, and particularly preferably 1 to 2 minutes.

ポリマーフィルムの両面にポリマー層を形成する場合、液状組成物をポリマーフィルムの一方の表面に付与し、加熱して液状分散媒を除去し、液状組成物をポリマーフィルムの他方の表面に付与し、加熱して液状分散媒を除去し、さらに加熱してFポリマーを焼成させて、それぞれのポリマー層を形成して、積層フィルムを得るのが好ましい。
ポリマーフィルムの両面にポリマー層を有する積層フィルムは、液状組成物をポリマーフィルムの両方の表面に付与し、加熱して液状分散媒を除去し、さらに加熱してFポリマーを焼成させて、両方の表面のポリマー層を同時に形成して得てもよい。
When forming polymer layers on both sides of a polymer film, it is preferable to apply a liquid composition to one surface of the polymer film, heat it to remove the liquid dispersion medium, apply a liquid composition to the other surface of the polymer film, heat it to remove the liquid dispersion medium, and further heat it to bake the F polymer, thereby forming each polymer layer and obtaining a laminated film.
A laminated film having polymer layers on both sides of a polymer film may be obtained by applying a liquid composition to both surfaces of a polymer film, heating to remove the liquid dispersion medium, and further heating to bake the F polymer, thereby simultaneously forming polymer layers on both surfaces.

ポリマーフィルムの両面にポリマー層を有する積層フィルムは、ポリマーフィルムを液状組成物に浸漬して液状組成物をポリマーフィルムの両方の表面に付与した後に焼成炉を通過させ加熱して得るのが好ましい。具体的には、ポリマーフィルムを液状組成物に浸漬した後に、ポリマーフィルムを液状組成物から引き上げながら焼成炉を通過させ加熱して得るのがより好ましい。
ポリマーフィルムを引き上げ、焼成炉を通過させる方向は、鉛直上向きであるのが好ましい。この場合、平滑なポリマー層が形成されやすい。ポリマーフィルムを鉛直上向きに引き上げた後、鉛直下向きに引き下げながらさらに加熱してもよく、加熱せずに鉛直下向きに引き下げてポリマーフィルムを引き取ってもよい。
また、ポリマーフィルムに付与する液状組成物の量は、液状組成物が付着したポリマーフィルムを、一対のロール間を通過させて調整できる。
かかる積層フィルムは、ディップコーターと焼成炉とを有する装置を用いれば好適に製造できる。焼成炉としては、竪型焼成炉が挙げられる。また、かかる装置としては、田端機械工業社製のガラスクロスコーティング装置が挙げられる。
A laminated film having polymer layers on both sides of a polymer film is preferably obtained by immersing a polymer film in a liquid composition to apply the liquid composition to both surfaces of the polymer film, and then passing the film through a baking furnace and heating it. Specifically, it is more preferable to obtain the film by immersing a polymer film in the liquid composition, and then passing the polymer film through a baking furnace while pulling it out of the liquid composition.
The polymer film is preferably pulled up vertically and passed through the baking furnace in an upward direction. In this case, a smooth polymer layer is likely to be formed. After the polymer film is pulled up vertically, it may be further heated while being pulled down vertically, or it may be pulled down vertically without being heated.
The amount of the liquid composition applied to the polymer film can be adjusted by passing the polymer film with the liquid composition adhered thereto between a pair of rolls.
Such a laminated film can be suitably produced using an apparatus having a dip coater and a baking furnace, such as a vertical baking furnace or a glass cloth coating machine manufactured by Tabata Kikai Kogyo Co., Ltd.

ポリマーフィルムの平均厚さは、10μm以上が好ましく、15μm以上がより好ましい。ポリマーフィルムの平均厚さは、500μm以下が好ましく、100μm以下がより好ましい。
ポリマー層の平均厚さは、10μm以上が好ましく、15μm以上がより好ましい。ポリマー層の平均厚さは、500μm以下が好ましく、100μm以下がより好ましい。本法における液状組成物を使用すれば、比較的厚く、かつ、厚さのバラつきの少ないポリマー層を形成できる。
また、積層フィルムの平均厚さは、30μm以上が好ましく、40μm以上がより好ましい。積層フィルムの平均厚さは、1000μm以下が好ましく、200μm以下がより好ましい。
The average thickness of the polymer film is preferably 10 μm or more, more preferably 15 μm or more, and is preferably 500 μm or less, more preferably 100 μm or less.
The average thickness of the polymer layer is preferably 10 μm or more, more preferably 15 μm or more. The average thickness of the polymer layer is preferably 500 μm or less, more preferably 100 μm or less. By using the liquid composition in this method, a relatively thick polymer layer with little thickness variation can be formed.
The average thickness of the laminate film is preferably 30 μm or more, more preferably 40 μm or more, and is preferably 1000 μm or less, more preferably 200 μm or less.

本発明の積層フィルム(以下、「本積層フィルム」とも記す。)は、表面張力を高める処理が施された表面を有するポリマーフィルムと、この表面に形成され、Fポリマーを含有するポリマー層とを備える。そして、かかる本積層フィルムでは、ポリマー層の中央部の厚さに対する端部の厚さの比が1.1以下であり、1.07以下が好ましく、1.04以下がより好ましい。かかる厚さの関係を満足するポリマー層は、その厚さにバラつきが少ないと言える。
本積層フィルムは、長尺であるのが好ましい。この場合、本積層フィルムの幅方向(短手方向:CD方向)の中央部における厚さと、幅方向の端部における厚さとの比が上記関係を満足するのが好ましい。この場合、長尺の本積層フィルムをロール状に巻いて保管する際に、ポリマー層の厚さが上記関係を満たしていれば、幅方向の端部においてシワが生じにくい。
The laminate film of the present invention (hereinafter also referred to as "the present laminate film") comprises a polymer film having a surface treated to increase surface tension, and a polymer layer formed on the surface and containing an F polymer. In the present laminate film, the ratio of the thickness of the edge portion to the thickness of the center portion of the polymer layer is 1.1 or less, preferably 1.07 or less, and more preferably 1.04 or less. A polymer layer that satisfies this thickness relationship can be said to have little variation in thickness.
The present laminate film is preferably long. In this case, it is preferable that the ratio of the thickness at the center of the present laminate film in the width direction (short direction: CD direction) to the thickness at the end in the width direction satisfies the above-mentioned relationship. In this case, when the present long laminate film is wound into a roll and stored, wrinkles are less likely to occur at the end in the width direction if the thickness of the polymer layer satisfies the above-mentioned relationship.

なお、長尺の本積層フィルムの長手方向(MD方向)の長さは、1~1000mが好ましく、短手方向(CD方向)の長さは、100~10000mmが好ましい。
また、本積層フィルムにおけるFポリマー及びARポリマーの定義及び範囲は、好適な態様も含めて、本法におけるそれらと同様である。また、本積層フィルムにおける構成及び物性の範囲も、好適な態様も含めて、本法におけるそれらと同様である。
本積層フィルムは、ポリマーフィルムの片面のみにポリマー層を備えていてもよく、ポリマーフィルムの両面にポリマー層を備えていてもよく、後者が好ましい。後者の場合、本積層フィルムの反りの発生を防止しやすい。
The length of the long present laminate film in the longitudinal direction (MD direction) is preferably 1 to 1,000 m, and the length in the transverse direction (CD direction) is preferably 100 to 10,000 mm.
The definitions and ranges of the F polymer and AR polymer in the present laminate film, including preferred embodiments thereof, are the same as those in the present method. The ranges of the configuration and physical properties of the present laminate film, including preferred embodiments thereof, are also the same as those in the present method.
The present laminate film may have a polymer layer on only one side of the polymer film, or may have polymer layers on both sides of the polymer film, the latter being preferred, as this makes it easier to prevent warping of the present laminate film.

本積層フィルムがポリマーフィルムの両面にポリマー層を備える場合、ポリマーフィルムの平均厚さに対する、2つのポリマー層の合計での平均厚さの比は、1以上が好ましい。上記比は、3以下が好ましい。この場合、ポリマーフィルムにおけるベースポリマーの物性(高降伏強度、難塑性変形性等)と、ポリマー層におけるFポリマー物性(低誘電率、低誘電正接等の電気特性、低吸水性等)とがバランスよく発現しやすい。また、上記比が大きく、ポリマー層が厚い本積層フィルムにおいても、反りや剥離が抑制されやすい。特に、ポリマーフィルムの引張弾性率が上述した下限値以上であると、この傾向が顕著になりやすい。 When the present laminate film has polymer layers on both sides of the polymer film, the ratio of the average thickness of the combined two polymer layers to the average thickness of the polymer film is preferably 1 or greater. This ratio is preferably 3 or less. In this case, a good balance is likely to be achieved between the properties of the base polymer in the polymer film (high yield strength, low plastic deformation, etc.) and the properties of the F polymer in the polymer layer (electrical properties such as low dielectric constant and low dielectric tangent, low water absorption, etc.). Furthermore, even in the present laminate film with a large ratio and thick polymer layers, warping and peeling are likely to be suppressed. This tendency is particularly pronounced when the tensile modulus of the polymer film is equal to or greater than the lower limit mentioned above.

また、2つのポリマー層の厚さは等しいのが好ましい。この場合、2つのポリマー層の線膨張係数がより近づくため、本積層フィルムに反りが一層発生しにくくなる。
本積層フィルムの誘電率は、2.0~3.0が好ましい。この場合、低誘電率が求められるプリント基板材料等に、本積層フィルムを好適に使用できる。
本積層フィルムの誘電正接は、0.0001~0.0020が好ましい。
It is also preferable that the thicknesses of the two polymer layers are equal, since in this case the linear expansion coefficients of the two polymer layers become closer to each other, making the laminate film even less susceptible to warping.
The dielectric constant of the present laminated film is preferably 2.0 to 3.0, making the present laminated film suitable for use as a printed circuit board material or the like that requires a low dielectric constant.
The dielectric loss tangent of the present laminated film is preferably 0.0001 to 0.0020.

本積層フィルムの線膨張係数の絶対値は、30ppm/℃以下が好ましく、20ppm/℃以下がより好ましく、10ppm/℃以下がさらに好ましい。この場合、本積層フィルムが配置される雰囲気の温度等に依らず、本積層フィルムの反りの発生が効果的に防止される。本積層フィルムの線膨張係数の絶対値の下限は、0ppm/℃である。
本積層フィルムにおけるポリマー層とポリマーフィルムとの剥離強度は、10N/cm以上が好ましく、15N/cm以上がより好ましく、20N/cm以上がさらに好ましい。本積層フィルムの剥離強度の上限は、100N/cmである。
The absolute value of the linear expansion coefficient of the present laminate film is preferably 30 ppm/°C or less, more preferably 20 ppm/°C or less, and even more preferably 10 ppm/°C or less. In this case, the occurrence of warping of the present laminate film is effectively prevented regardless of the temperature of the atmosphere in which the present laminate film is placed. The lower limit of the absolute value of the linear expansion coefficient of the present laminate film is 0 ppm/°C.
The peel strength between the polymer layer and the polymer film in the present laminate film is preferably 10 N/cm or more, more preferably 15 N/cm or more, and even more preferably 20 N/cm or more. The upper limit of the peel strength of the present laminate film is 100 N/cm.

また、本積層フィルムは、低い吸水性(高い水バリア性)を発揮する。この要因は、ポリマー層とポリマーフィルムとが相溶した一体化物でなく、互いに独立して存在するため、Fポリマーの低吸水性がベースポリマーの高吸水性を補完するためであると考えられる。
具体的には、本積層フィルムを、50℃、48時間の条件で予備乾燥した後、23℃の純水に24時間浸漬し、純水に浸漬する前後の本積層フィルムの質量を測定したとき、式:
吸水率(%)=(純水浸漬後質量-予備乾燥後質量)/予備乾燥後質量×100

に基づいて求められる吸水率が、0.1%以下が好ましく、0.07%以下がより好ましく、0.05%以下がさらに好ましい。本積層フィルムの吸水率の下限は、0%である。
かかる低い吸水率の本積層フィルムは、吸水により変形しにくいため、プリント基板材料等に好適に使用できる。
Furthermore, this laminated film exhibits low water absorption (high water barrier properties), which is believed to be due to the fact that the polymer layer and polymer film are not integrated together in a compatible manner but exist independently of each other, and therefore the low water absorption of the F polymer complements the high water absorption of the base polymer.
Specifically, the present laminate film was pre-dried under conditions of 50°C for 48 hours, and then immersed in pure water at 23°C for 24 hours. When the mass of the present laminate film was measured before and after immersion in pure water, the mass of the present laminate film was calculated based on the following formula:
Water absorption rate (%) = (mass after immersion in pure water - mass after pre-drying) / mass after pre-drying x 100

The water absorption rate determined based on the above formula is preferably 0.1% or less, more preferably 0.07% or less, and even more preferably 0.05% or less. The lower limit of the water absorption rate of the present laminated film is 0%.
The present laminated film with such low water absorption is less likely to deform due to water absorption, and is therefore suitable for use as a printed circuit board material, etc.

なお、ポリマー層にARポリマーを含有する本積層フィルムは、紫外線(UV)吸収性が高く、UV-YAGレーザー等のレーザーによる加工に適する。この要因は、ポリマー層中において、ARポリマーが、高度に分散し、ある種のマトリックスを形成しつつ、均一に分布するため、ARポリマーが有する芳香族環の良好なUV吸収性が発現した点にあると考えられる。
かかるポリマー層は、レーザー加工により、良好な形状を有するビアホールを簡便に形成できるため、このポリマー層を有する本積層フィルムは、特に、プリント基板材料として好適に使用できる。
Furthermore, this laminate film containing an AR polymer in the polymer layer has high ultraviolet (UV) absorption properties and is suitable for processing with a laser such as a UV-YAG laser. This is thought to be due to the fact that the AR polymer is highly dispersed in the polymer layer, forming a type of matrix and being uniformly distributed, which allows the aromatic rings in the AR polymer to exhibit good UV absorption properties.
Such a polymer layer allows via holes with good shapes to be easily formed by laser processing, and therefore the present laminate film having this polymer layer is particularly suitable for use as a printed circuit board material.

ポリマーフィルムが芳香族ポリイミドフィルムである本積層フィルムは、離型フィルムやキャリアフィルムとして有用である。本積層フィルムは、ポリマー層とポリマーフィルムとの接着性に優れ層間剥離しにくいため、キャリアフィルムとして繰り返し使用できる。また、ポリマー層は耐熱性に優れるため、繰り返し使用しても離型性も悪化しにくい。 This laminate film, in which the polymer film is an aromatic polyimide film, is useful as a release film or carrier film. This laminate film has excellent adhesion between the polymer layer and the polymer film, making it resistant to delamination, allowing it to be used repeatedly as a carrier film. Furthermore, the polymer layer has excellent heat resistance, so its release properties are unlikely to deteriorate even with repeated use.

具体的には、かかる本積層フィルムのポリマー層の表面に、樹脂や無機フィラーを含む分散液やワニスを塗布し、乾燥して塗膜を形成し、続いて、塗膜から本積層フィルムを剥離すれば、独立した塗膜が得られる。例えば、本積層フィルムのポリマー層の表面に前記塗膜を形成した後、かかる塗膜を有する本積層フィルムの塗膜側と他の基材とを貼り合わせ、本積層フィルムを剥離すれば、他の基材と塗膜との積層体が得られる。
本積層フィルムのポリマー層の表面に塗膜を形成する際に、例えば乾燥時において、Fポリマーの融点以下の温度で加熱してもよい。本積層フィルムは耐熱性に優れるため、加熱処理を繰り返しても変形しにくい。
Specifically, a dispersion or varnish containing a resin or inorganic filler is applied to the surface of the polymer layer of the present laminate film, dried to form a coating film, and then the present laminate film is peeled off from the coating film to obtain an independent coating film. For example, after forming the coating film on the surface of the polymer layer of the present laminate film, the coating film side of the present laminate film having such a coating film is attached to another substrate, and the present laminate film is peeled off to obtain a laminate of the other substrate and the coating film.
When forming a coating on the surface of the polymer layer of the present laminate film, for example, during drying, the film may be heated at a temperature below the melting point of the F polymer. The present laminate film has excellent heat resistance and is therefore less likely to deform even after repeated heat treatments.

本積層フィルムは、具体的には、セラミックグリーンシート形成用のキャリアフィルム、二次電池形成用のキャリアフィルム、固体高分子電解質膜形成用のキャリアフィルム、固体高分子電解質膜の触媒形成用キャリアフィルムとして有用である。
本積層フィルムをキャリアフィルムとして用いる場合、厚さが均一な前記塗膜を得る観点から、本積層フィルムの中央部の厚さに対する端部の厚さの比は、1.1以下が好ましく、1.07以下がより好ましく、1.04以下がより好ましい。厚さの比は、1以上である。
Specifically, the present laminate film is useful as a carrier film for forming ceramic green sheets, a carrier film for forming secondary batteries, a carrier film for forming solid polymer electrolyte membranes, and a carrier film for forming catalysts for solid polymer electrolyte membranes.
When the present laminate film is used as a carrier film, from the viewpoint of obtaining a coating film with a uniform thickness, the ratio of the thickness of the edge portion to the thickness of the center portion of the present laminate film is preferably 1.1 or less, more preferably 1.07 or less, and even more preferably 1.04 or less. The thickness ratio is 1 or more.

本積層フィルムは、ポリマー層の表面の接着性に優れるため、他の基材と容易かつ強固に接合できる。他の基材としては、金属箔、金属導体が挙げられる。例えば、本積層フィルムの両面に金属箔を貼着すれば、金属張積層体が得られる。そして、金属箔を加工すれば、金属張積層体をプリント基板に容易に加工できる。
金属箔を構成する金属としては、銅、銅合金、ステンレス鋼、ニッケル、ニッケル合金(42合金も含む。)、アルミニウム、アルミニウム合金、チタン、チタン合金が挙げられる。
金属箔としては、銅箔が好ましく、表裏の区別のない圧延銅箔又は表裏の区別のある電解銅箔がより好ましく、圧延銅箔がさらに好ましい。圧延銅箔は、表面粗さが小さいため、金属張積層体をプリント基板に加工した場合でも、伝送損失を低減できる。また、圧延銅箔は、炭化水素系有機溶剤に浸漬し圧延油を除去してから使用するのが好ましい。
The present laminate film can be easily and firmly bonded to other substrates due to the excellent adhesiveness of the polymer layer surface. Examples of other substrates include metal foils and metal conductors. For example, by attaching metal foils to both sides of the present laminate film, a metal clad laminate can be obtained. The metal foils can then be processed to easily form the metal clad laminate into a printed circuit board.
Examples of metals that can be used to form the metal foil include copper, copper alloys, stainless steel, nickel, nickel alloys (including alloy 42), aluminum, aluminum alloys, titanium, and titanium alloys.
As the metal foil, copper foil is preferred, and rolled copper foil with no front and back distinction or electrolytic copper foil with front and back distinction is more preferred, and rolled copper foil is even more preferred. Rolled copper foil has small surface roughness, so that transmission loss can be reduced even when the metal clad laminate is processed into a printed circuit board. Furthermore, rolled copper foil is preferably used after immersing in a hydrocarbon organic solvent to remove rolling oil.

金属箔の表面の十点平均粗さは、0.01~4μmが好ましい。この場合、ポリマー層との接着性が良好となり、伝送特性に優れたプリント基板が得られやすい。
金属箔の表面は、粗化処理されていてもよい。粗化処理の方法としては、粗化処理層を形成する方法、ドライエッチング法、ウエットエッチング法が挙げられる。
金属箔の厚さは、金属張積層体の用途において充分な機能が発揮できる厚さであればよい。金属箔の厚さは、20μm未満が好ましく、2~15μmがより好ましい。
また、金属箔の表面は、その一部又は全部がシランカップリング剤により処理されていてもよい。
The ten-point average roughness of the surface of the metal foil is preferably 0.01 to 4 μm, in which case the adhesion to the polymer layer is good and a printed circuit board with excellent transmission characteristics is easily obtained.
The surface of the metal foil may be roughened by a method such as forming a roughened layer, dry etching, or wet etching.
The thickness of the metal foil may be any thickness that allows the metal clad laminate to exhibit sufficient functionality in its intended use, and is preferably less than 20 μm, more preferably 2 to 15 μm.
The surface of the metal foil may be partially or entirely treated with a silane coupling agent.

金属張積層体において、ポリマー層の表面に金属箔を積層する方法としては、本積層フィルムと金属箔とを熱プレスする方法が挙げられる。
熱プレスにおけるプレス温度は、310~400℃が好ましい。
熱プレスは、気泡混入を抑制し、酸化による劣化を抑制する観点から、20kPa以下の真空度で行うのが好ましい。
また、熱プレス時には上記真空度に到達した後に昇温することが好ましい。上記真空度に到達する前に昇温すると、ポリマー層が軟化した状態、すなわち一定程度の流動性、密着性がある状態にて圧着されてしまい、気泡の原因となる場合がある。
熱プレスにおける圧力は、金属箔の破損を抑制しつつ、ポリマー層と金属箔とを強固に密着させる観点から、0.2~10MPaが好ましい。
特に、ポリマーフィルムの引張弾性率が上述した下限値以上であると、熱プレスにおける加熱冷却によるシワの発生を抑制しやすい。
In the metal clad laminate, a method of laminating a metal foil on the surface of a polymer layer includes a method of hot pressing the present laminate film and the metal foil.
The pressing temperature in the heat press is preferably 310 to 400°C.
The heat pressing is preferably carried out at a vacuum of 20 kPa or less in order to prevent the inclusion of air bubbles and to prevent deterioration due to oxidation.
Furthermore, it is preferable to heat the heat press after the above-mentioned degree of vacuum is reached. If the temperature is raised before the above-mentioned degree of vacuum is reached, the polymer layer will be pressed in a softened state, i.e., in a state where it has a certain degree of fluidity and adhesiveness, which may cause bubbles.
The pressure in the hot press is preferably 0.2 to 10 MPa from the viewpoint of preventing damage to the metal foil and firmly adhering the polymer layer to the metal foil.
In particular, when the tensile modulus of the polymer film is equal to or greater than the above-mentioned lower limit, the occurrence of wrinkles due to heating and cooling in the heat press can be easily suppressed.

金属張積層体は、フレキシブル銅張積層板やリジッド銅張積層板として、プリント基板の製造に使用できる。
プリント基板は、例えば、金属張積層体における金属箔をエッチング等によって所定のパターンの導体回路(パターン回路)に加工する方法や、本発明の金属張積層体を電解めっき法(セミアディティブ法(SAP法)、モディファイドセミアディティブ法(MSAP法)等)によってパターン回路に加工する方法を使用して製造できる。
プリント基板の製造においては、パターン回路を形成した後に、パターン回路上に層間絶縁膜を形成し、層間絶縁膜上にさらに導体回路を形成してもよく、パターン回路上にソルダーレジストを積層してもよく、パターン回路上にカバーレイフィルムを積層してもよい。層間絶縁膜、ソルダーレジスト及びカバーレイフィルムは、それぞれ上記液状組成物によって形成してもよい。
The metal clad laminate can be used in the manufacture of printed circuit boards as a flexible copper clad laminate or a rigid copper clad laminate.
The printed circuit board can be manufactured, for example, by processing the metal foil in the metal clad laminate into a conductor circuit (pattern circuit) of a predetermined pattern by etching or the like, or by processing the metal clad laminate of the present invention into a pattern circuit by electroplating (semi-additive process (SAP process), modified semi-additive process (MSAP process), etc.).
In the manufacture of a printed circuit board, after forming a pattern circuit, an interlayer insulating film may be formed on the pattern circuit, and a conductor circuit may further be formed on the interlayer insulating film, or a solder resist may be laminated on the pattern circuit, or a coverlay film may be laminated on the pattern circuit. The interlayer insulating film, solder resist, and coverlay film may each be formed from the above-mentioned liquid composition.

金属張積層体において、金属箔と本積層フィルムとの剥離強度は、10N/cm以上が好ましく、15N/cm以上がより好ましく、20N/cm以上がさらに好ましい。金属箔と本積層フィルムとの剥離強度の上限は、通常、100N/cmである。本積層フィルムによれば、熱圧着時に変形が抑制されるため、金属箔と高い密着性で接合され、剥離強度の高い金属張積層体が得られやすい。In metal clad laminates, the peel strength between the metal foil and the present laminate film is preferably 10 N/cm or more, more preferably 15 N/cm or more, and even more preferably 20 N/cm or more. The upper limit of the peel strength between the metal foil and the present laminate film is typically 100 N/cm. Because the present laminate film suppresses deformation during thermocompression bonding, it is bonded to the metal foil with high adhesion, making it easy to obtain a metal clad laminate with high peel strength.

以上、本発明の積層フィルムの製造方法及び積層フィルムについて説明したが、本発明は、上述した実施形態の構成に限定されない。
例えば、本発明の積層フィルムは、上述した実施形態の構成において、他の任意の構成を追加してもよいし、同様の機能を発揮する任意の構成と置換されていてもよい。
また、本発明の積層フィルムの製造方法は、上述した実施形態の構成において、他の任意の工程を追加してもよいし、同様の機能を発揮する任意の工程と置換されていてもよい。
Although the laminate film and the manufacturing method of the laminate film of the present invention have been described above, the present invention is not limited to the configurations of the above-described embodiments.
For example, in the laminated film of the present invention, any other configuration may be added to the configuration of the above-described embodiment, or any other configuration that exhibits the same function may be substituted.
Furthermore, in the method for producing the laminated film of the present invention, any other steps may be added to the configuration of the above-described embodiment, or any other steps that exhibit the same function may be substituted.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
1.各成分の準備
[Fポリマー]
Fポリマー1:TFE単位、NAH単位及びPPVE単位を、この順に98.0モル%、0.1モル%、1.9モル%含み、カルボニル基含有基を主鎖炭素数1×10個あたり1000個有するPFA系ポリマー(溶融温度:300℃)
Fポリマー2:TFE単位及びPPVE単位を、この順に97.5モル%、2.5モル%含み、カルボニル基含有基を主鎖炭素数1×10個あたり25個有するPFA系ポリマー(溶融温度:305℃)
[パウダー]
パウダー1:D50が1.9μmである、Fポリマー1からなるパウダー
パウダー2:D50が2.0μmである、Fポリマー2からなるパウダー
The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
1. Preparation of each component [F polymer]
F Polymer 1: A PFA-based polymer containing 98.0 mol%, 0.1 mol%, and 1.9 mol% of TFE units, NAH units, and PPVE units, in that order, and having 1,000 carbonyl group-containing groups per 1 x 106 main chain carbon atoms (melting temperature: 300°C).
F Polymer 2: PFA-based polymer containing 97.5 mol% TFE units and 2.5 mol% PPVE units, in that order, and having 25 carbonyl group-containing groups per 1 x 106 main chain carbon atoms (melting temperature: 305°C)
[powder]
Powder 1: Powder made of F polymer 1 with a D50 of 1.9 μm. Powder 2: Powder made of F polymer 2 with a D50 of 2.0 μm.

[液状分散媒]
液状分散媒1:N-メチル-2-ピロリドン(NMP:表面張力41mN/m)
液状分散媒2:トルエン(Tol:表面張力27mN/m)
[界面活性剤]
界面活性剤1:CH=C(CH)C(O)OCHCH(CFFとCH=C(CH)C(O)(OCHCH23OHとのコポリマーであり、フッ素含有量が、35質量%であるノニオン性ポリマー
[ARポリマーのワニス]
ワニス1:芳香族ポリイミドであるARポリマー1(ガラス転移点:315℃)を含むNMP溶液(固形分:10質量%)
[ポリマーフィルム]
ポリイミドフィルム1:厚さが50μm、ガラス転移点が315℃、イミド基密度が0.25、320℃における引張弾性率が0.3GPaの芳香族ポリイミドフィルム
[Liquid dispersion medium]
Liquid dispersion medium 1: N-methyl-2-pyrrolidone (NMP: surface tension 41 mN/m)
Liquid dispersion medium 2: Toluene (Tol: surface tension 27 mN/m)
[Surfactant]
Surfactant 1: A nonionic polymer which is a copolymer of CH2 =C( CH3 )C(O) OCH2CH2 ( CF2 ) 6F and CH2 =C( CH3 )C(O)( OCH2CH2 ) 23OH and has a fluorine content of 35 % by mass [AR polymer varnish]
Varnish 1: NMP solution (solid content: 10% by mass) containing AR polymer 1, which is an aromatic polyimide (glass transition point: 315°C).
[Polymer film]
Polyimide film 1: Aromatic polyimide film having a thickness of 50 μm, a glass transition point of 315° C., an imide group density of 0.25, and a tensile modulus at 320° C. of 0.3 GPa

2.液状組成物の調製
(液状組成物1)
67質量部の液状分散媒1と、3質量部の界面活性剤1と、30質量部のパウダー1とをポットに投入した後、ポット内にジルコニアボールを投入した。その後、150rpm×1時間の条件でポットをころがし、パウダー1を分散して、液状組成物1を得た。
(液状組成物2)
87質量部の液状分散媒1と、3質量部の界面活性剤1と、10質量部のパウダー1とをポットに投入した後、ポット内にジルコニアボールを投入した。その後、150rpm×1時間の条件でポットをころがし、パウダー1を分散して、液状組成物2を得た。
2. Preparation of Liquid Composition (Liquid Composition 1)
67 parts by mass of liquid dispersion medium 1, 3 parts by mass of surfactant 1, and 30 parts by mass of powder 1 were placed in a pot, and then zirconia balls were placed in the pot. Thereafter, the pot was rolled at 150 rpm for 1 hour to disperse powder 1, thereby obtaining liquid composition 1.
(Liquid composition 2)
87 parts by mass of liquid dispersion medium 1, 3 parts by mass of surfactant 1, and 10 parts by mass of powder 1 were placed in a pot, and then zirconia balls were placed in the pot. The pot was then rolled at 150 rpm for 1 hour to disperse powder 1, thereby obtaining liquid composition 2.

(液状組成物3)
パウダー1をパウダー2に変更した以外は、液状組成物1と同様にして、液状組成物3を調製した。
(液状組成物4)
液状分散媒1を液状分散媒2に変更した以外は、液状組成物3と同様にして、液状組成物4を調製した。
(液状組成物5)
70質量部の液状分散媒1と、30質量部のパウダー2とをポットに投入した後、ポット内にジルコニアボールを投入した。その後、150rpm×1時間の条件でポットをころがし、パウダー2を分散して、液状組成物5を得た。
(液状組成物6)
57質量部の液状分散媒1と、10質量部のワニス1と、3質量部の界面活性剤1と、30質量部のパウダー1とをポットに投入した後、ポット内にジルコニアボールを投入した。その後、150rpm×1時間の条件でポットをころがし、パウダー1を分散して、液状組成物6を得た。
(Liquid composition 3)
Liquid composition 3 was prepared in the same manner as liquid composition 1, except that powder 1 was changed to powder 2.
(Liquid composition 4)
Liquid composition 4 was prepared in the same manner as liquid composition 3, except that liquid dispersion medium 1 was changed to liquid dispersion medium 2.
(Liquid composition 5)
70 parts by mass of liquid dispersion medium 1 and 30 parts by mass of powder 2 were placed in a pot, and then zirconia balls were placed in the pot. Thereafter, the pot was rolled at 150 rpm for 1 hour to disperse powder 2, thereby obtaining liquid composition 5.
(Liquid composition 6)
57 parts by mass of liquid dispersion medium 1, 10 parts by mass of varnish 1, 3 parts by mass of surfactant 1, and 30 parts by mass of powder 1 were placed in a pot, and then zirconia balls were placed in the pot. The pot was then rolled at 150 rpm for 1 hour to disperse powder 1, thereby obtaining liquid composition 6.

3.積層フィルムの製造
(例1)
まず、ポリイミドフィルム1の両方の面(表面張力:35mN/m、表面の算術平均粗さ:0.05μm)に、コロナ処理を施し、表面に極性官能基を導入した。なお、コロナ処理後のポリイミドフィルム1の表面の表面張力は、78mN/mであった。
次に、ポリイミドフィルム1の一方の面に、液状組成物1を小径グラビアリバース法で塗布し、通風乾燥炉(炉温:150℃)に3分間で通過させて、NMPを除去して乾燥被膜を形成した。
さらに、ポリイミドフィルム1の他方の面にも、同様に、液状組成物1を塗布、乾燥し、乾燥被膜を形成した。
次いで、両面に乾燥被膜が形成されたポリイミドフィルム1を、遠赤外線炉(炉温:320℃)に20分間で通過させて、パウダー1を溶融焼成させた。これにより、ポリイミドフィルム1の両面にFポリマー1を含むポリマー層(厚さ:25μm)を形成し、上記ポリマー層、上記ポリイミドフィルム1、上記ポリマー層がこの順に直接形成された長尺の積層フィルム1を得た。
3. Manufacturing of laminated film (Example 1)
First, both surfaces of the polyimide film 1 (surface tension: 35 mN/m, arithmetic mean roughness of the surface: 0.05 μm) were subjected to a corona treatment to introduce polar functional groups into the surface. The surface tension of the polyimide film 1 after the corona treatment was 78 mN/m.
Next, Liquid Composition 1 was applied to one side of Polyimide Film 1 by a small diameter gravure reverse method, and the film was passed through a forced air drying oven (oven temperature: 150°C) for 3 minutes to remove the NMP and form a dry coating.
Furthermore, the liquid composition 1 was similarly applied to the other surface of the polyimide film 1 and dried to form a dry film.
Next, the polyimide film 1 having the dry coating formed on both sides thereof was passed through a far-infrared oven (oven temperature: 320°C) for 20 minutes to melt and bake the powder 1. As a result, a polymer layer (thickness: 25 µm) containing F polymer 1 was formed on both sides of the polyimide film 1, and a long laminated film 1 was obtained in which the polymer layer, the polyimide film 1, and the polymer layer were directly formed in this order.

(例2)
液状組成物1に代えて、液状組成物2を使用した以外は、例1と同様にして、ポリイミドフィルム1の両面にFポリマー1を含むポリマー層(厚さ:25μm)を形成し、上記ポリマー層、上記ポリイミドフィルム1、上記ポリマー層がこの順に直接形成された長尺の積層フィルム2を得た。
なお、積層フィルム2では、厚さ25μmのポリマー層を形成するのに、液状組成物1の塗布及び溶融焼成の操作を2回繰り返す必要があった。
(例3)
液状組成物1に代えて、液状組成物3を使用した以外は、例1と同様にして、ポリイミドフィルム1の両面にFポリマー2を含むポリマー層(厚さ:25μm)を形成し、上記ポリマー層、上記ポリイミドフィルム1、上記ポリマー層がこの順に直接形成された長尺の積層フィルム3を得た。
(Example 2)
Except for using Liquid Composition 2 instead of Liquid Composition 1, a polymer layer (thickness: 25 μm) containing F polymer 1 was formed on both sides of polyimide film 1 in the same manner as in Example 1, and a long laminated film 2 was obtained in which the above polymer layer, the above polyimide film 1, and the above polymer layer were directly formed in this order.
In the case of the laminated film 2, the process of applying the liquid composition 1 and melt-baking had to be repeated twice to form a polymer layer having a thickness of 25 μm.
(Example 3)
Except for using Liquid Composition 3 instead of Liquid Composition 1, a polymer layer (thickness: 25 μm) containing F polymer 2 was formed on both sides of polyimide film 1 in the same manner as in Example 1, and a long laminated film 3 was obtained in which the above polymer layer, the above polyimide film 1, and the above polymer layer were directly formed in this order.

(例4)
液状組成物1に代えて、液状組成物4を使用した以外は、例1と同様にして、ポリイミドフィルム1の両面にFポリマー2を含むポリマー層(厚さ:25μm)を形成し、上記ポリマー層、上記ポリイミドフィルム1、上記ポリマー層がこの順に直接形成された長尺の積層フィルム4を得た。
(例5)
液状組成物1に代えて、液状組成物5を使用し、ポリイミドフィルム1の表面へのコロナ処理を省略した以外は、例1と同様にして、ポリイミドフィルム1の両面にFポリマー2を含むポリマー層(厚さ:25μm)を形成し、上記ポリマー層、上記ポリイミドフィルム1、上記ポリマー層がこの順に直接形成された長尺の積層フィルム5を得た。
(例6)
液状組成物1に代えて、液状組成物6を使用した以外は、例1と同様にして、ポリイミドフィルム1の両面にFポリマー1とARポリマー1とを含むポリマー層(厚さ:25μm)を形成し、上記ポリマー層、上記ポリイミドフィルム1、上記ポリマー層がこの順に直接形成された長尺の積層フィルム6を得た。
(Example 4)
Except for using Liquid Composition 4 instead of Liquid Composition 1, a polymer layer (thickness: 25 μm) containing F polymer 2 was formed on both sides of polyimide film 1 in the same manner as in Example 1, and a long laminated film 4 was obtained in which the above polymer layer, the above polyimide film 1, and the above polymer layer were directly formed in this order.
(Example 5)
Except for using Liquid Composition 5 instead of Liquid Composition 1 and omitting the corona treatment on the surface of Polyimide Film 1, the same procedure as in Example 1 was repeated to form polymer layers (thickness: 25 μm) containing F Polymer 2 on both sides of Polyimide Film 1, and a long laminated film 5 was obtained in which the polymer layer, Polyimide Film 1, and Polymer layer were directly formed in this order.
(Example 6)
Except for using Liquid Composition 6 instead of Liquid Composition 1, polymer layers (thickness: 25 μm) containing F polymer 1 and AR polymer 1 were formed on both sides of Polyimide Film 1 in the same manner as in Example 1, and a long laminated film 6 was obtained in which the polymer layer, the polyimide film 1, and the polymer layer were directly formed in this order.

4.評価
4-1.ポリマー層の外観
各積層フィルムにおいて、ポリマー層の表面を目視にて観察し、以下の基準に従って評価した。
[評価基準]
〇:ポリマー層の表面にムラが見られず、平滑である。
×:ポリマー層の表面にムラが見られ、平滑でない。
4. Evaluation 4-1. Appearance of Polymer Layer The surface of the polymer layer of each laminate film was visually observed and evaluated according to the following criteria.
[Evaluation criteria]
◯: The surface of the polymer layer is smooth with no irregularities observed.
x: The surface of the polymer layer is uneven and not smooth.

4-2.ポリマー層の厚さの均一性
各積層フィルムにおいて、1つのポリマー層の短手方向の中央部及び端部の厚さを測定し、端部の厚さ/中央部の厚さの比を求め、以下の基準に従って評価した。
[評価基準]
〇:厚さの比が1.07以下である。
△:厚さの比が1.07超1.1以下である。
×:厚さの比が1.1超である。
4-2. Uniformity of Thickness of Polymer Layer For each laminate film, the thickness of one polymer layer at the center and at the ends in the short direction was measured, and the ratio of the end thickness to the center thickness was calculated and evaluated according to the following criteria.
[Evaluation criteria]
Good: The thickness ratio is 1.07 or less.
Δ: The thickness ratio is greater than 1.07 and equal to or less than 1.1.
×: The thickness ratio is more than 1.1.

4-3.吸水率
各積層フィルムを、ASTM D570に準拠して、50℃×48時間で予備乾燥した後、23℃の純水に24時間浸漬した。純水に浸漬する前後の積層フィルムの質量を測定し、以下の式に基づいて吸水率を求め、以下の基準に従って評価した。
吸水率(%)=(純水浸漬後質量-予備乾燥後質量)/予備乾燥後質量×100
[評価基準]
◎:吸水率が0.05%以下である。
〇:吸水率が0.05%超0.07%以下である。
△:吸水率が0.07%超0.1%以下である。
×:吸水率が0.1%超である。
Each laminate film was pre-dried at 50°C for 48 hours in accordance with ASTM D570, and then immersed in pure water at 23°C for 24 hours. The mass of the laminate film was measured before and after immersion in pure water, and the water absorption was calculated based on the following formula and evaluated according to the following criteria.
Water absorption rate (%) = (mass after immersion in pure water - mass after pre-drying) / mass after pre-drying x 100
[Evaluation criteria]
⊚: Water absorption rate is 0.05% or less.
Good: The water absorption rate is more than 0.05% and not more than 0.07%.
△: The water absorption rate is more than 0.07% and 0.1% or less.
×: The water absorption rate is more than 0.1%.

4-4.剥離強度
各積層フィルムから、長さ100mm、幅10mmの矩形状の試験片を切り出した。その後、試験片の長さ方向の一端から50mmの位置まで、ポリイミドフィルム1とポリマー層とを剥離した。次いで、試験片の長さ方向の一端から50mmの位置を中央にして、引張り試験機(オリエンテック社製)を用いて、引張り速度50mm/分で90度剥離し、最大荷重を剥離強度(N/cm)とし、以下の評価基準に従って評価した。
[評価基準]
〇:剥離強度が15N/cm以上である。
△:剥離強度が10N/cm以上15N/cm未満である。
×:剥離強度が10N/cm未満である。
4-4. Peel Strength A rectangular test piece measuring 100 mm in length and 10 mm in width was cut out from each laminate film. The polyimide film 1 and the polymer layer were then peeled from one end of the test piece in the longitudinal direction to a position 50 mm from the end. Next, using a tensile tester (manufactured by Orientec Co., Ltd.), the test piece was peeled at a 90-degree angle at a pulling rate of 50 mm/min, with the center being a position 50 mm from one end of the longitudinal direction. The maximum load was taken as the peel strength (N/cm), and the peel strength was evaluated according to the following evaluation criteria.
[Evaluation criteria]
Good: Peel strength is 15 N/cm or more.
Δ: Peel strength is 10 N/cm or more and less than 15 N/cm.
×: Peel strength is less than 10 N/cm.

4-5.誘電正接
各積層フィルムを、SPDR(スプリットポスト誘電体共振)法にて10GHzでの誘電正接を測定し、以下の評価基準に従って評価した。
[評価基準]
◎:誘電正接が0.0015以下である。
〇:誘電正接が0.0015超0.0020以下である。
△:誘電正接が0.0020超0.0030以下である。
×:誘電正接が0.0030超である。
以上の結果を、以下の表1に示す。
4-5. Dielectric Loss Tangent The dielectric loss tangent of each laminate film was measured at 10 GHz by the SPDR (split post dielectric resonance) method and evaluated according to the following evaluation criteria.
[Evaluation criteria]
⊚: The dielectric loss tangent is 0.0015 or less.
Good: The dielectric loss tangent is greater than 0.0015 and equal to or less than 0.0020.
Δ: The dielectric loss tangent is more than 0.0020 and not more than 0.0030.
×: The dielectric loss tangent is more than 0.0030.
The results are shown in Table 1 below.

本発明の積層フィルムは、剥離強度(密着性)に優れ、ポリマー層の厚さの均一性が高い。このため、かかる積層フィルムは、アンテナ部品、プリント基板、航空機用部品、自動車用部品等に加工して使用できる。 The laminated film of the present invention has excellent peel strength (adhesion) and high uniformity in the thickness of the polymer layer. Therefore, such laminated films can be processed and used for antenna parts, printed circuit boards, aircraft parts, automobile parts, etc.

Claims (10)

表面張力を高める処理が施されたポリマーフィルムの表面に、テトラフルオロエチレン系ポリマーのパウダー及び表面張力が30mN/m以上の液状分散媒を含有し、前記パウダーの含有量が10質量%以上である液状組成物を塗布し、加熱して、前記ポリマーフィルムの表面にポリマー層が形成された積層フィルムを得る積層フィルムの製造方法であって、前記処理が施された前記ポリマーフィルムの表面の表面張力が、前記液状分散媒の表面張力よりも大きい、積層フィルムの製造方法。 A method for manufacturing a laminated film, comprising: applying a liquid composition containing a tetrafluoroethylene-based polymer powder and a liquid dispersion medium having a surface tension of 30 mN/m or more to the surface of a polymer film that has been treated to increase its surface tension, the liquid composition containing the powder in an amount of 10 mass% or more; and heating the applied composition to obtain a laminated film having a polymer layer formed on the surface of the polymer film; wherein the surface tension of the surface of the treated polymer film is greater than the surface tension of the liquid dispersion medium . 前記処理が、コロナ処理及びプラズマ処理からなる群より選択される少なくとも1つの親水化処理である、請求項1に記載の製造方法。 The manufacturing method described in claim 1, wherein the treatment is at least one hydrophilization treatment selected from the group consisting of corona treatment and plasma treatment. 前記ポリマーフィルムの表面の算術平均粗さRaが、0.01~5μmである、請求項1又は2に記載の製造方法。 3. The method according to claim 1 , wherein the polymer film has a surface with an arithmetic mean roughness Ra of 0.01 to 5 μm. 前記処理が施された前記ポリマーフィルムの表面に、極性官能基が存在する、請求項1~のいずれか1項に記載の製造方法。 The method according to any one of claims 1 to 3 , wherein polar functional groups are present on the surface of the polymer film that has been subjected to the treatment. 前記パウダーの平均粒子径が、0.1~10μmである、請求項1~のいずれか1項に記載の製造方法。 The method according to any one of claims 1 to 4 , wherein the powder has an average particle size of 0.1 to 10 µm. 前記テトラフルオロエチレン系ポリマーが、溶融温度が260~320℃であるテトラフルオロエチレン系ポリマーである、請求項1~のいずれか1項に記載の製造方法。 The method according to any one of claims 1 to 5 , wherein the tetrafluoroethylene polymer has a melting temperature of 260 to 320°C. 前記テトラフルオロエチレン系ポリマーが、ペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を含み、全単位に対してペルフルオロ(アルキルビニルエーテル)に基づく単位を1.5~5.0モル%含むテトラフルオロエチレン系ポリマーである、請求項1~のいずれか1項に記載の製造方法。 The method according to any one of claims 1 to 6 , wherein the tetrafluoroethylene-based polymer contains units based on perfluoro(alkyl vinyl ether), and the content of units based on perfluoro(alkyl vinyl ether) is 1.5 to 5.0 mol% based on all units. 前記液状組成物が、芳香族ポリマーを含有する、請求項1~のいずれか1項に記載の製造方法。 The method according to any one of claims 1 to 7 , wherein the liquid composition contains an aromatic polymer. 前記ポリマーフィルムが、芳香族ポリイミドを含有する、請求項1~のいずれか1項に記載の製造方法。 The method according to any one of claims 1 to 8 , wherein the polymer film contains an aromatic polyimide. 前記ポリマーフィルムの平均厚さが10μm以上であり、かつ、前記ポリマー層の平均厚さが10μm以上である、請求項1~のいずれか1項に記載の製造方法。 The method according to any one of claims 1 to 9 , wherein the polymer film has an average thickness of 10 µm or more, and the polymer layer has an average thickness of 10 µm or more.
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