JP7771091B2 - 感光性転写材料、樹脂パターンの製造方法、積層体の製造方法、回路配線の製造方法、及び、電子デバイスの製造方法 - Google Patents
感光性転写材料、樹脂パターンの製造方法、積層体の製造方法、回路配線の製造方法、及び、電子デバイスの製造方法Info
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Description
本開示は、感光性転写材料、樹脂パターンの製造方法、積層体の製造方法、回路配線の製造方法、及び、電子デバイスの製造方法に関する。
静電容量型入力装置などのタッチパネルを備えた表示装置（有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置及び液晶表示装置など）では、視認部のセンサーに相当する電極パターン、周辺配線部分及び取り出し配線部分の配線などの導電層パターンがタッチパネル内部に設けられている。
一般的にパターン化した層の形成には、必要とするパターン形状を得るための工程数が少ないといったことから、感光性転写材料を用いて任意の基板上に設けた感光性樹脂組成物の層に対して、所望のパターンを有するマスクを介して露光した後に現像する方法が広く使用されている。
一般的にパターン化した層の形成には、必要とするパターン形状を得るための工程数が少ないといったことから、感光性転写材料を用いて任意の基板上に設けた感光性樹脂組成物の層に対して、所望のパターンを有するマスクを介して露光した後に現像する方法が広く使用されている。
また、従来の感光性樹脂積層体としては、特開２０１９－１３３１４３号公報に記載されたものが知られている。
特開２０１９－１３３１４３号公報には、支持フィルムと、上記支持フィルム上に配置され、感光性樹脂組成物を含む感光性樹脂組成物層と、を備える支持フィルム剥離後露光用の感光性樹脂積層体であって、上記感光性樹脂組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性高分子、（Ｂ）光開始剤と反応性を有する化合物、及び（Ｃ）光開始剤を含有し、３５μｍ圧延銅箔を積層した０．４ｍｍ厚の銅張積層板を、♯４００の研削材を用いてジェットスクラブ研磨した後６０℃に予熱し、ホットロールラミネーターにより、上記感光性樹脂積層体を、ロール温度１０５℃、エアー圧０．３５ＭＰａ、ラミネート速度１．５ｍ／ｍｉｎで上記銅張積層板にラミネートし、次いで下記条件（１）及び（２）：
（１）露光装置を用いて支持フィルム表面に焦点位置を合わせた状態で露光し、露光後の感光性樹脂組成物層から支持フィルムを剥離すること、
（２）上記支持フィルムを剥離し、次いで露光装置を用いて支持フィルム表面であった箇所に焦点位置を合わせた状態で露光すること、
のいずれかに従って露光を行い、ファイン用アルカリ現像機を用いて３０℃の１質量％Ｎａ２ＣＯ３水溶液を最小現像時間の２倍の時間でスプレーして未露光部を除去し、現像時間と同じ時間で純水で水洗し、エアーナイフで水切り処理した後温風乾燥して得られるレジストパターンにおいて、上記条件（１）による露光を経て得た第１のレジストパターンと、上記条件（２）による露光を経て得た第２のレジストパターンとのパターニング可能な最小の独立細線幅の差が５μｍ以下であり、
上記露光装置は、
（ａ）露光光のピーク波長が３５０～３７０ｎｍの露光装置、
（ｂ）露光光のピーク波長が４００～４１０ｎｍの露光装置、
（ｃ）露光光のピーク波長が３６０～３８０ｎｍ及び３９０～４１０ｎｍであり、且つ、波長強度比が３６０～３８０ｎｍ：３９０～４１０ｎｍ＝３０：７０である露光装置、及び
（ｄ）水銀ショートアークランプ
の何れかである支持フィルム剥離後露光用の感光性樹脂積層体が記載されている。
特開２０１９－１３３１４３号公報には、支持フィルムと、上記支持フィルム上に配置され、感光性樹脂組成物を含む感光性樹脂組成物層と、を備える支持フィルム剥離後露光用の感光性樹脂積層体であって、上記感光性樹脂組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性高分子、（Ｂ）光開始剤と反応性を有する化合物、及び（Ｃ）光開始剤を含有し、３５μｍ圧延銅箔を積層した０．４ｍｍ厚の銅張積層板を、♯４００の研削材を用いてジェットスクラブ研磨した後６０℃に予熱し、ホットロールラミネーターにより、上記感光性樹脂積層体を、ロール温度１０５℃、エアー圧０．３５ＭＰａ、ラミネート速度１．５ｍ／ｍｉｎで上記銅張積層板にラミネートし、次いで下記条件（１）及び（２）：
（１）露光装置を用いて支持フィルム表面に焦点位置を合わせた状態で露光し、露光後の感光性樹脂組成物層から支持フィルムを剥離すること、
（２）上記支持フィルムを剥離し、次いで露光装置を用いて支持フィルム表面であった箇所に焦点位置を合わせた状態で露光すること、
のいずれかに従って露光を行い、ファイン用アルカリ現像機を用いて３０℃の１質量％Ｎａ２ＣＯ３水溶液を最小現像時間の２倍の時間でスプレーして未露光部を除去し、現像時間と同じ時間で純水で水洗し、エアーナイフで水切り処理した後温風乾燥して得られるレジストパターンにおいて、上記条件（１）による露光を経て得た第１のレジストパターンと、上記条件（２）による露光を経て得た第２のレジストパターンとのパターニング可能な最小の独立細線幅の差が５μｍ以下であり、
上記露光装置は、
（ａ）露光光のピーク波長が３５０～３７０ｎｍの露光装置、
（ｂ）露光光のピーク波長が４００～４１０ｎｍの露光装置、
（ｃ）露光光のピーク波長が３６０～３８０ｎｍ及び３９０～４１０ｎｍであり、且つ、波長強度比が３６０～３８０ｎｍ：３９０～４１０ｎｍ＝３０：７０である露光装置、及び
（ｄ）水銀ショートアークランプ
の何れかである支持フィルム剥離後露光用の感光性樹脂積層体が記載されている。
本発明の一実施形態が解決しようとする課題は、感光性層を仮支持体を介さず直接露光した場合であっても、工程汚染抑制性に優れる感光性転写材料を提供することである。
また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記感光性転写材料を用いた樹脂パターンの製造方法、積層体の製造方法、回路配線の製造方法、及び、電子デバイスの製造方法を提供することである。
また、本発明の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記感光性転写材料を用いた樹脂パターンの製造方法、積層体の製造方法、回路配線の製造方法、及び、電子デバイスの製造方法を提供することである。
上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
＜１＞ 仮支持体と、中間層と、感光性層とをこの順で有し、上記感光性層が、重合開始剤、及び、重合性化合物を含み、上記重合開始剤が、カチオン重合開始剤を含み、上記重合性化合物が、カチオン重合性化合物を含む感光性転写材料。
＜２＞ 上記カチオン重合開始剤から発生する酸のｐＫａが、－５以下である＜１＞に記載の感光性転写材料。
＜３＞ 上記カチオン重合性化合物の分子量又は重量平均分子量が、２，０００以下である＜１＞又は＜２＞に記載の感光性転写材料。
＜４＞ 上記重合開始剤が、ラジカル重合開始剤を更に含むか、又は、上記カチオン重合開始剤が、ラジカル及び酸を発生する重合開始剤を含み、
上記重合性化合物が、ラジカル重合性化合物を更に含む＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料。
＜５＞ 上記重合開始剤が、上記カチオン重合開始剤及び上記ラジカル重合開始剤を含む＜４＞に記載の感光性転写材料。
＜６＞ 上記ラジカル重合性化合物の分子量又は重量平均分子量が、２，０００以下である＜４＞又は＜５＞に記載の感光性転写材料。
＜７＞ 上記ラジカル重合性化合物が、２官能以上のラジカル重合性化合物を含む＜４＞～＜６＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料。
＜８＞ 上記ラジカル重合性化合物が、３官能以上のラジカル重合性化合物を含む＜４＞～＜７＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料。
＜９＞ 上記ラジカル重合性化合物が、ポリエチレンオキサイド構造を有するラジカル重合性化合物を含む＜４＞～＜８＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料。
＜１０＞ ＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料における感光性層側が基板と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる工程と、上記仮支持体を剥離する工程と、上記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程とをこの順に含む樹脂パターンの製造方法。
＜１１＞ ＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料における感光性層側が基板と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる工程と、上記仮支持体を剥離する工程と、上記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程とをこの順で含む積層体の製造方法。
＜１２＞ ＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料における感光性層側が導電層を有する基板における上記導電層と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる工程と、上記仮支持体を剥離する工程と、上記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程と、上記パターンが配置されていない領域における上記導電層をエッチング処理する工程とをこの順に含む回路配線の製造方法。
＜１３＞ ＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料における感光性層側が導電層を有する基板における上記導電層と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる工程と、上記仮支持体を剥離する工程と、上記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程と、上記パターンが配置されていない領域における上記導電層をエッチング処理する工程とをこの順に含む電子デバイスの製造方法。
＜１＞ 仮支持体と、中間層と、感光性層とをこの順で有し、上記感光性層が、重合開始剤、及び、重合性化合物を含み、上記重合開始剤が、カチオン重合開始剤を含み、上記重合性化合物が、カチオン重合性化合物を含む感光性転写材料。
＜２＞ 上記カチオン重合開始剤から発生する酸のｐＫａが、－５以下である＜１＞に記載の感光性転写材料。
＜３＞ 上記カチオン重合性化合物の分子量又は重量平均分子量が、２，０００以下である＜１＞又は＜２＞に記載の感光性転写材料。
＜４＞ 上記重合開始剤が、ラジカル重合開始剤を更に含むか、又は、上記カチオン重合開始剤が、ラジカル及び酸を発生する重合開始剤を含み、
上記重合性化合物が、ラジカル重合性化合物を更に含む＜１＞～＜３＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料。
＜５＞ 上記重合開始剤が、上記カチオン重合開始剤及び上記ラジカル重合開始剤を含む＜４＞に記載の感光性転写材料。
＜６＞ 上記ラジカル重合性化合物の分子量又は重量平均分子量が、２，０００以下である＜４＞又は＜５＞に記載の感光性転写材料。
＜７＞ 上記ラジカル重合性化合物が、２官能以上のラジカル重合性化合物を含む＜４＞～＜６＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料。
＜８＞ 上記ラジカル重合性化合物が、３官能以上のラジカル重合性化合物を含む＜４＞～＜７＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料。
＜９＞ 上記ラジカル重合性化合物が、ポリエチレンオキサイド構造を有するラジカル重合性化合物を含む＜４＞～＜８＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料。
＜１０＞ ＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料における感光性層側が基板と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる工程と、上記仮支持体を剥離する工程と、上記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程とをこの順に含む樹脂パターンの製造方法。
＜１１＞ ＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料における感光性層側が基板と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる工程と、上記仮支持体を剥離する工程と、上記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程とをこの順で含む積層体の製造方法。
＜１２＞ ＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料における感光性層側が導電層を有する基板における上記導電層と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる工程と、上記仮支持体を剥離する工程と、上記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程と、上記パターンが配置されていない領域における上記導電層をエッチング処理する工程とをこの順に含む回路配線の製造方法。
＜１３＞ ＜１＞～＜９＞のいずれか１つに記載の感光性転写材料における感光性層側が導電層を有する基板における上記導電層と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる工程と、上記仮支持体を剥離する工程と、上記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程と、上記パターンが配置されていない領域における上記導電層をエッチング処理する工程とをこの順に含む電子デバイスの製造方法。
本発明の一実施形態によれば、感光性層を仮支持体を介さず直接露光した場合であっても、工程汚染抑制性に優れる感光性転写材料を提供することができる。
また、本発明の他の実施形態によれば、上記感光性転写材料を用いた樹脂パターンの製造方法、積層体の製造方法、回路配線の製造方法、及び、電子デバイスの製造方法を提供することができる。
また、本発明の他の実施形態によれば、上記感光性転写材料を用いた樹脂パターンの製造方法、積層体の製造方法、回路配線の製造方法、及び、電子デバイスの製造方法を提供することができる。
以下、本開示の内容について説明する。なお、添付の図面を参照しながら説明するが、符号は省略する場合がある。
また、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」はアクリロイル及びメタクリロイルの双方、又は、いずれかを表す。
更に、本明細書において組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する該当する複数の物質の合計量を意味する。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も含む。また、露光に用いられる光としては、一般的に、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線（活性エネルギー線）が挙げられる。
また、本明細書における化学構造式は、水素原子を省略した簡略構造式で記載する場合もある。
本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶剤ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
本明細書において「全固形分」とは、組成物の全組成から溶剤を除いた成分の総質量をいう。また、「固形分」とは、上述のように、溶剤を除いた成分であり、例えば、２５℃において固体であっても、液体であってもよい。
また、本明細書において「～」を用いて表される数値範囲は、「～」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートの双方、又は、いずれかを表し、「（メタ）アクリロイル」はアクリロイル及びメタクリロイルの双方、又は、いずれかを表す。
更に、本明細書において組成物中の各成分の量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する該当する複数の物質の合計量を意味する。
本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけでなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても工程の所期の目的が達成されれば、本用語に含まれる。
本明細書における基（原子団）の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基（無置換アルキル基）のみならず、置換基を有するアルキル基（置換アルキル基）をも包含するものである。
本明細書において「露光」とは、特に断らない限り、光を用いた露光のみならず、電子線、イオンビーム等の粒子線を用いた描画も含む。また、露光に用いられる光としては、一般的に、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザに代表される遠紫外線、極紫外線（ＥＵＶ光）、Ｘ線、電子線等の活性光線（活性エネルギー線）が挙げられる。
また、本明細書における化学構造式は、水素原子を省略した簡略構造式で記載する場合もある。
本開示において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）は、特に断りのない限り、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（何れも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析装置により、溶剤ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
本明細書において「全固形分」とは、組成物の全組成から溶剤を除いた成分の総質量をいう。また、「固形分」とは、上述のように、溶剤を除いた成分であり、例えば、２５℃において固体であっても、液体であってもよい。
（感光性転写材料）
本開示に係る感光性転写材料は、仮支持体と、中間層と、感光性層とをこの順で有し、上記感光性層が、重合開始剤、及び、重合性化合物を含み、上記重合開始剤が、カチオン重合開始剤を含み、上記重合性化合物が、カチオン重合性化合物を含む。
本開示に係る感光性転写材料は、仮支持体と、中間層と、感光性層とをこの順で有し、上記感光性層が、重合開始剤、及び、重合性化合物を含み、上記重合開始剤が、カチオン重合開始剤を含み、上記重合性化合物が、カチオン重合性化合物を含む。
従来の感光性転写材料を用いた配線形成プロセスにおいて、基板に貼り合わせた感光性層を仮支持体を剥離して露光する際に、大気中に存在する酸素が感光性層に浸透し、重合阻害が生じ、感光性層が十分硬化せず、工程汚染が生じる場合があることを本発明者らは見出した。
なお、本開示における「工程汚染」とは、搬送時及び各工程時において感光性転写材料又は転写した感光性層等から生じる粉及び汚れ、並びに、転写した感光性層等の剥がれにより生じる製造装置等の汚染のことである。
本発明者らが詳細に検討した結果、上記態様とすることにより、感光性層を仮支持体を介さず直接露光した場合であっても、工程汚染抑制性に優れることを本発明者らは見出した。
本開示に係る感光性転写材料では、酸素による重合への影響の小さいカチオン重合反応を用いること、及び、酸素遮断層としても機能する中間層を有することにより、酸素による重合阻害の影響を受けにくい感光性層とすることができ、感光性層を仮支持体を介さず直接露光した場合であっても、感光性層が十分に硬化し、工程汚染抑制性に優れると推定している。
なお、本開示における「工程汚染」とは、搬送時及び各工程時において感光性転写材料又は転写した感光性層等から生じる粉及び汚れ、並びに、転写した感光性層等の剥がれにより生じる製造装置等の汚染のことである。
本発明者らが詳細に検討した結果、上記態様とすることにより、感光性層を仮支持体を介さず直接露光した場合であっても、工程汚染抑制性に優れることを本発明者らは見出した。
本開示に係る感光性転写材料では、酸素による重合への影響の小さいカチオン重合反応を用いること、及び、酸素遮断層としても機能する中間層を有することにより、酸素による重合阻害の影響を受けにくい感光性層とすることができ、感光性層を仮支持体を介さず直接露光した場合であっても、感光性層が十分に硬化し、工程汚染抑制性に優れると推定している。
本開示に係る感光性転写材料は、仮支持体と、中間層と、感光性層とをこの順に有し、仮支持体と、中間層と、感光性層と、保護フィルムとをこの順に有することが好ましい。
また、本開示に係る感光性転写材料は、仮支持体と中間層との間、中間層と感光性層との間、感光性層と保護フィルムとの間等に他の層を有していてもよい。
本開示に係る感光性転写材料は、本開示における効果をより発揮する観点から、ロール状の感光性転写材料であることが好ましい。
また、本開示に係る感光性転写材料は、仮支持体と中間層との間、中間層と感光性層との間、感光性層と保護フィルムとの間等に他の層を有していてもよい。
本開示に係る感光性転写材料は、本開示における効果をより発揮する観点から、ロール状の感光性転写材料であることが好ましい。
本開示に係る感光性転写材料の態様の一例を以下に示すが、これに制限されない。
（１）「仮支持体／中間層／感光性層／保護フィルム」
（２）「仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性層／保護フィルム」
なお、上記各構成において、感光性層は、ネガ型感光性層であることが好ましい。また、感光性層が着色樹脂層であることも好ましい。本開示に係る感光性転写材料は、エッチングレジスト用感光性転写材料として使用されることが好ましい。
エッチングレジスト用感光性転写材料とする場合、感光性転写材料の構成としては、例えば、上述した（１）及び（２）の構成であることが好ましい。
（１）「仮支持体／中間層／感光性層／保護フィルム」
（２）「仮支持体／熱可塑性樹脂層／中間層／感光性層／保護フィルム」
なお、上記各構成において、感光性層は、ネガ型感光性層であることが好ましい。また、感光性層が着色樹脂層であることも好ましい。本開示に係る感光性転写材料は、エッチングレジスト用感光性転写材料として使用されることが好ましい。
エッチングレジスト用感光性転写材料とする場合、感光性転写材料の構成としては、例えば、上述した（１）及び（２）の構成であることが好ましい。
感光性転写材料において、感光性層の仮支持体側とは反対側にその他の層を更に有する構成の場合、感光性層の仮支持体側とは反対側に配置されるその他の層の合計厚みは、感光性層の層厚に対して、０．１％～３０％であることが好ましく、０．１％～２０％であることがより好ましい。
以下において、具体的な実施形態の一例を挙げて、本開示に係る感光性転写材料について説明する。
以下において、感光性転写材料について、一例を挙げて説明する。
図１に示す感光性転写材料２０は、仮支持体１１と、熱可塑性樹脂層１３、中間層１５、及び、感光性層１７を含む転写層１２と、保護フィルム１９とを、この順に有する。
また、図１で示す感光性転写材料２０は熱可塑性樹脂層１３及び中間層１５を配置した形態であるが、熱可塑性樹脂層１３及び保護フィルム１９は、配置されなくてもよい。
なお、上記転写層に含まれる層としては、感光性層、中間層、及び、後述する熱可塑性樹脂層等が挙げられる。また、仮支持体、及び、後述する保護フィルムは、上記転写層には含まれないものとする。
以下において、感光性転写材料を構成する各要素について説明する。
図１に示す感光性転写材料２０は、仮支持体１１と、熱可塑性樹脂層１３、中間層１５、及び、感光性層１７を含む転写層１２と、保護フィルム１９とを、この順に有する。
また、図１で示す感光性転写材料２０は熱可塑性樹脂層１３及び中間層１５を配置した形態であるが、熱可塑性樹脂層１３及び保護フィルム１９は、配置されなくてもよい。
なお、上記転写層に含まれる層としては、感光性層、中間層、及び、後述する熱可塑性樹脂層等が挙げられる。また、仮支持体、及び、後述する保護フィルムは、上記転写層には含まれないものとする。
以下において、感光性転写材料を構成する各要素について説明する。
〔仮支持体〕
本開示に用いられる感光性転写材料は、仮支持体を有する。
仮支持体は、感光性層又は感光性層を含む積層体を支持し、且つ、剥離可能な支持体である。
本開示に用いられる感光性転写材料は、仮支持体を有する。
仮支持体は、感光性層又は感光性層を含む積層体を支持し、且つ、剥離可能な支持体である。
仮支持体は、感光性層をパターン露光する際に、仮支持体を介した感光性層の露光が可能になる観点から、光透過性を有することが好ましい。なお、本明細書において「光透過性を有する」とは、パターン露光に使用する波長の光の透過率が５０％以上であることを意味する。
仮支持体は、感光性層の露光感度向上の観点から、パターン露光に使用する波長（より好ましくは波長３６５ｎｍ）の光の透過率が６０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましい。
なお、感光性転写材料が備える層の透過率とは、層の主面に垂直な方向（厚さ方向）に光を入射させたときの、入射光の強度に対する層を通過して出射した出射光の強度の比率であり、大塚電子（株）製ＭＣＰＤ Ｓｅｒｉｅｓを用いて測定される。
仮支持体は、感光性層の露光感度向上の観点から、パターン露光に使用する波長（より好ましくは波長３６５ｎｍ）の光の透過率が６０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましい。
なお、感光性転写材料が備える層の透過率とは、層の主面に垂直な方向（厚さ方向）に光を入射させたときの、入射光の強度に対する層を通過して出射した出射光の強度の比率であり、大塚電子（株）製ＭＣＰＤ Ｓｅｒｉｅｓを用いて測定される。
仮支持体を構成する材料としては、例えば、ガラス基板、樹脂フィルム及び紙が挙げられ、強度、可撓性及び光透過性の観点から、樹脂フィルムが好ましい。
樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ：ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）フィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム及びポリカーボネートフィルムが挙げられる。中でも、ＰＥＴフィルムが好ましく、２軸延伸ＰＥＴフィルムがより好ましい。
樹脂フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ：ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ ｔｅｒｅｐｈｔｈａｌａｔｅ）フィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム及びポリカーボネートフィルムが挙げられる。中でも、ＰＥＴフィルムが好ましく、２軸延伸ＰＥＴフィルムがより好ましい。
仮支持体の厚さ（層厚）は、特に制限されず、支持体としての強度、回路配線形成用基板との貼り合わせに求められる可撓性、及び、最初の露光時に要求される光透過性の観点から、材質に応じて選択すればよい。
仮支持体の厚さは、５μｍ～１００μｍの範囲が好ましく、取扱い易さ及び汎用性の点から、１０μｍ～５０μｍの範囲がより好ましく、１０μｍ～２０μｍの範囲が更に好ましく、１０μｍ～１６μｍの範囲が特に好ましい。
また、仮支持体の厚さは、樹脂パターンの欠陥抑制性、解像性及び直線性の観点から、５０μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以下であることが特に好ましい。
仮支持体の厚さは、５μｍ～１００μｍの範囲が好ましく、取扱い易さ及び汎用性の点から、１０μｍ～５０μｍの範囲がより好ましく、１０μｍ～２０μｍの範囲が更に好ましく、１０μｍ～１６μｍの範囲が特に好ましい。
また、仮支持体の厚さは、樹脂パターンの欠陥抑制性、解像性及び直線性の観点から、５０μｍ以下であることが好ましく、２５μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以下であることが特に好ましい。
また、仮支持体として使用するフィルムには、シワ等の変形、傷、欠陥などがないことが好ましい。
仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、及び、仮支持体の透明性の観点から、仮支持体に含まれる微粒子、異物、欠陥、析出物などの数は少ない方が好ましい。直径１μｍ以上の微粒子や異物や欠陥の数は、５０個／１０ｍｍ２以下であることが好ましく、１０個／１０ｍｍ２以下であることがより好ましく、３個／１０ｍｍ２以下であることが更に好ましく、０個／１０ｍｍ２であることが特に好ましい。
仮支持体を介するパターン露光時のパターン形成性、及び、仮支持体の透明性の観点から、仮支持体に含まれる微粒子、異物、欠陥、析出物などの数は少ない方が好ましい。直径１μｍ以上の微粒子や異物や欠陥の数は、５０個／１０ｍｍ２以下であることが好ましく、１０個／１０ｍｍ２以下であることがより好ましく、３個／１０ｍｍ２以下であることが更に好ましく、０個／１０ｍｍ２であることが特に好ましい。
樹脂パターンの欠陥抑制性、解像性、及び、仮支持体の透明性の観点から、仮支持体のヘイズは小さい方が好ましい。具体的には、仮支持体のヘイズ値が、２％以下が好ましく、１．５％以下がより好ましく、１．０％未満が更に好ましく、０．５％以下が特に好ましい。
本開示におけるヘイズ値は、ヘイズメーター（ＮＤＨ－２０００、日本電色工業（株）製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ ７１０５：１９８１に準ずる方法により測定する。
本開示におけるヘイズ値は、ヘイズメーター（ＮＤＨ－２０００、日本電色工業（株）製）を用いて、ＪＩＳ Ｋ ７１０５：１９８１に準ずる方法により測定する。
仮支持体の表面に、ハンドリング性を付与する観点で、微小な粒子を含有する層（滑剤層）を設けてもよい。滑剤層は、仮支持体の片面に設けてもよいし、両面に設けてもよい。滑剤層に含まれる粒子の直径は、例えば、０．０５μｍ～０．８μｍとすることができる。また、滑剤層の層厚は、例えば、０．０５μｍ～１．０μｍとすることができる。
仮支持体における上記感光性層側とは反対側の面の算術平均粗さＲａは、搬送性、樹脂パターンの欠陥抑制性、及び、解像性の観点から、仮支持体における上記感光性層側の面の算術平均粗さＲａ以上であることが好ましい。
仮支持体における上記感光性層側とは反対側の面の算術平均粗さＲａは、搬送性、樹脂パターンの欠陥抑制性、及び、解像性の観点から、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることが更に好ましく、１０ｎｍ以下であることが特に好ましい。
仮支持体における上記感光性層側の面の算術平均粗さＲａは、仮支持体の剥離性、樹脂パターンの欠陥抑制性、及び、解像性の観点から、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることが更に好ましく、１０ｎｍ以下であることが特に好ましい。
また、仮支持体における上記感光性層側とは反対側の面の算術平均粗さＲａ－仮支持体における上記感光性層側の面の算術平均粗さＲａの値は、搬送性、樹脂パターンの欠陥抑制性、及び、解像性の観点から、０ｎｍ～１０ｎｍであることが好ましく、０ｎｍ～５ｎｍであることがより好ましい。
仮支持体における上記感光性層側とは反対側の面の算術平均粗さＲａは、搬送性、樹脂パターンの欠陥抑制性、及び、解像性の観点から、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることが更に好ましく、１０ｎｍ以下であることが特に好ましい。
仮支持体における上記感光性層側の面の算術平均粗さＲａは、仮支持体の剥離性、樹脂パターンの欠陥抑制性、及び、解像性の観点から、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、２０ｎｍ以下であることが更に好ましく、１０ｎｍ以下であることが特に好ましい。
また、仮支持体における上記感光性層側とは反対側の面の算術平均粗さＲａ－仮支持体における上記感光性層側の面の算術平均粗さＲａの値は、搬送性、樹脂パターンの欠陥抑制性、及び、解像性の観点から、０ｎｍ～１０ｎｍであることが好ましく、０ｎｍ～５ｎｍであることがより好ましい。
本開示における仮支持体又は保護フィルムの表面の算術平均粗さＲａは、以下の方法により測定するものとする。
３次元光学プロファイラー（Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ７３００、Ｚｙｇｏ社製）を用いて、以下の条件にて仮支持体又は保護フィルムの表面を測定し、フィルムの表面プロファイルを得る。
測定・解析ソフトとしては、ＭｅｔｒｏＰｒｏ ｖｅｒ８．３．２のＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎを用いる。次に、上記解析ソフトにてＳｕｒｆａｃｅ Ｍａｐ画面を表示し、Ｓｕｒｆａｃｅ Ｍａｐ画面中でヒストグラムデータを得る。得られたヒストグラムデータから、算術平均粗さを算出し、仮支持体又は保護フィルムの表面のＲａ値を得る。
仮支持体又は保護フィルムが感光性層等に貼り合わされている場合は、感光性層から仮支持体又は保護フィルムを剥離して、剥離した側の表面のＲａ値を測定すればよい。
３次元光学プロファイラー（Ｎｅｗ Ｖｉｅｗ７３００、Ｚｙｇｏ社製）を用いて、以下の条件にて仮支持体又は保護フィルムの表面を測定し、フィルムの表面プロファイルを得る。
測定・解析ソフトとしては、ＭｅｔｒｏＰｒｏ ｖｅｒ８．３．２のＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎを用いる。次に、上記解析ソフトにてＳｕｒｆａｃｅ Ｍａｐ画面を表示し、Ｓｕｒｆａｃｅ Ｍａｐ画面中でヒストグラムデータを得る。得られたヒストグラムデータから、算術平均粗さを算出し、仮支持体又は保護フィルムの表面のＲａ値を得る。
仮支持体又は保護フィルムが感光性層等に貼り合わされている場合は、感光性層から仮支持体又は保護フィルムを剥離して、剥離した側の表面のＲａ値を測定すればよい。
仮支持体の剥離力、具体的には、仮支持体と感光性層又は熱可塑性樹脂層との間の剥離力は、巻き取られた積層体をロールツーロール方式によって再び搬送する際に、上下に積み重なった積層体と積層体との接着に起因する仮支持体の剥離抑制性の観点から、０．５ｍＮ／ｍｍ以上であることが好ましく、０．５ｍＮ／ｍｍ～２．０ｍＮ／ｍｍであることがより好ましい。
本開示における仮支持体の剥離力は、以下のように測定するものとする。
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に、スパッタ法にて厚さ２００ｎｍの銅層を作製し、銅層付きＰＥＴ基板を作製する。
作製した感光性転写材料から保護フィルムを剥離し、ラミネートロール温度１００℃、線圧０．６ＭＰａ、線速度（ラミネート速度）１．０ｍ／ｍｉｎのラミネート条件で上記銅層付きＰＥＴ基板にラミネートする。次に、仮支持体の表面にテープ（日東電工（株）製ＰＲＩＮＴＡＣＫ）を貼りつけた後に、銅層付きＰＥＴ基板上に少なくとも仮支持体及び感光性層を有する積層体を、７０ｍｍ×１０ｍｍにカットしてサンプルを作製する。上記サンプルのＰＥＴ基板側を資料台の上に固定する。
引張圧縮試験機（（株）今田製作所製、ＳＶ－５５）を用いて、１８０度の方向に、５．５ｍｍ／秒でテープを引っ張って、感光性層又は熱可塑性樹脂層と仮支持体との間で剥離して、剥離に必要な力（剥離力）密着力を測定する。
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に、スパッタ法にて厚さ２００ｎｍの銅層を作製し、銅層付きＰＥＴ基板を作製する。
作製した感光性転写材料から保護フィルムを剥離し、ラミネートロール温度１００℃、線圧０．６ＭＰａ、線速度（ラミネート速度）１．０ｍ／ｍｉｎのラミネート条件で上記銅層付きＰＥＴ基板にラミネートする。次に、仮支持体の表面にテープ（日東電工（株）製ＰＲＩＮＴＡＣＫ）を貼りつけた後に、銅層付きＰＥＴ基板上に少なくとも仮支持体及び感光性層を有する積層体を、７０ｍｍ×１０ｍｍにカットしてサンプルを作製する。上記サンプルのＰＥＴ基板側を資料台の上に固定する。
引張圧縮試験機（（株）今田製作所製、ＳＶ－５５）を用いて、１８０度の方向に、５．５ｍｍ／秒でテープを引っ張って、感光性層又は熱可塑性樹脂層と仮支持体との間で剥離して、剥離に必要な力（剥離力）密着力を測定する。
仮支持体の好ましい態様としては、例えば、特開２０１４－８５６４３号公報の段落００１７～段落００１８、特開２０１６－２７３６３号公報の段落００１９～００２６、国際公開第２０１２／０８１６８０号の段落００４１～００５７、国際公開第２０１８／１７９３７０号の段落００２９～００４０、特開２０１９－１０１４０５号公報の段落００１２～段落００３２に記載があり、これらの公報の内容は本明細書に組み込まれる。
〔感光性層〕
本開示に係る感光性転写材料は、感光性層を有し、上記感光性層が、重合開始剤、及び、重合性化合物を含み、上記重合開始剤が、カチオン重合開始剤を含み、上記重合性化合物が、カチオン重合性化合物を含む。
感光性層は、ネガ型感光性層である。
感光性層は、アルカリ可溶性樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含むことが好ましく、上記感光性層の全質量基準で、アルカリ可溶性樹脂：１０質量％～９０質量％；重合性化合物：５質量％～７０質量％；及び重合開始剤：０．０１質量％～２０質量％を含むことがより好ましい。
以下、各成分を順に説明する。
本開示に係る感光性転写材料は、感光性層を有し、上記感光性層が、重合開始剤、及び、重合性化合物を含み、上記重合開始剤が、カチオン重合開始剤を含み、上記重合性化合物が、カチオン重合性化合物を含む。
感光性層は、ネガ型感光性層である。
感光性層は、アルカリ可溶性樹脂、重合性化合物及び重合開始剤を含むことが好ましく、上記感光性層の全質量基準で、アルカリ可溶性樹脂：１０質量％～９０質量％；重合性化合物：５質量％～７０質量％；及び重合開始剤：０．０１質量％～２０質量％を含むことがより好ましい。
以下、各成分を順に説明する。
＜重合開始剤＞
感光性層は、重合開始剤を含み、上記重合開始剤が、カチオン重合開始剤を含む。
重合開始剤は、光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤は、紫外線、可視光線及びＸ線等の活性光線を受けて、重合性化合物の重合を開始する化合物である。光重合開始剤としては、特に制限されず、公知の光重合開始剤を用いることができる。
光重合開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤が挙げられる。
中でも、感光性層は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、ラジカル重合開始剤及びカチオン重合開始剤を含むことが好ましく、光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤を含むことがより好ましい。
また、感光性層において、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、上記重合開始剤が、ラジカル重合開始剤を更に含むか、又は、上記カチオン重合開始剤が、後述するラジカル及び酸を発生する重合開始剤を含み、上記重合性化合物が、ラジカル重合性化合物を更に含むことが好ましい。
感光性層は、重合開始剤を含み、上記重合開始剤が、カチオン重合開始剤を含む。
重合開始剤は、光重合開始剤であることが好ましい。
光重合開始剤は、紫外線、可視光線及びＸ線等の活性光線を受けて、重合性化合物の重合を開始する化合物である。光重合開始剤としては、特に制限されず、公知の光重合開始剤を用いることができる。
光重合開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤が挙げられる。
中でも、感光性層は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、ラジカル重合開始剤及びカチオン重合開始剤を含むことが好ましく、光ラジカル重合開始剤及び光カチオン重合開始剤を含むことがより好ましい。
また、感光性層において、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、上記重合開始剤が、ラジカル重合開始剤を更に含むか、又は、上記カチオン重合開始剤が、後述するラジカル及び酸を発生する重合開始剤を含み、上記重合性化合物が、ラジカル重合性化合物を更に含むことが好ましい。
＜＜カチオン重合開始剤＞＞
カチオン重合開始剤としては、光カチオン重合開始剤であることが好ましい。
また、カチオン重合開始剤は、後述するラジカル及び酸を発生する重合開始剤であってもよい。
カチオン重合開始剤としては、光カチオン重合開始剤であることが好ましい。
また、カチオン重合開始剤は、後述するラジカル及び酸を発生する重合開始剤であってもよい。
また、上記カチオン重合開始剤から発生する酸のｐＫａは、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、０以下であることが好ましく、－２以下であることがより好ましく、－５以下であることが更に好ましく、－１０～－３０であることが特に好ましい。
本開示における酸のｐＫａは、Advanced Chemistry Development (ACD/Labs) Software V11. 02 (1994-2014 ACD/Labs)による計算値、あるいは文献値（例えば、J. Phys. Chem. A 2011, 115, 6641-6645等）に記載の値を用いることができる。
なお、上記計算値と上記文献とが異なる場合は、上記計算値を優先する。
なお、上記計算値と上記文献とが異なる場合は、上記計算値を優先する。
光カチオン重合開始剤（光酸発生剤）は、活性光線を受けて酸を発生する化合物である。光カチオン重合開始剤としては、波長３００ｎｍ以上、好ましくは波長３００～４５０ｎｍの活性光線に感応し、酸を発生する化合物が好ましいが、その化学構造は制限されない。また、波長３００ｎｍ以上の活性光線に直接感応しない光カチオン重合開始剤についても、増感剤と併用することによって波長３００ｎｍ以上の活性光線に感応し、酸を発生する化合物であれば、増感剤と組み合わせて好ましく用いることができる。
光カチオン重合開始剤としては、イオン性光カチオン重合開始剤及び非イオン性光カチオン重合開始剤が挙げられる。
イオン性光カチオン重合開始剤として、例えば、ジアリールヨードニウム塩類及びトリアリールスルホニウム塩類等のオニウム塩化合物、並びに、第４級アンモニウム塩類が挙げられる。
イオン性光カチオン重合開始剤としては、特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１１４～０１３３に記載のイオン性光カチオン重合開始剤を用いてもよい。
イオン性光カチオン重合開始剤として、例えば、ジアリールヨードニウム塩類及びトリアリールスルホニウム塩類等のオニウム塩化合物、並びに、第４級アンモニウム塩類が挙げられる。
イオン性光カチオン重合開始剤としては、特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１１４～０１３３に記載のイオン性光カチオン重合開始剤を用いてもよい。
非イオン性光カチオン重合開始剤としては、例えば、トリクロロメチル－ｓ－トリアジン類、ジアゾメタン化合物、イミドスルホネート化合物、及び、オキシムスルホネート化合物が挙げられる。トリクロロメチル－ｓ－トリアジン類、ジアゾメタン化合物及びイミドスルホネート化合物としては、特開２０１１－２２１４９４号公報の段落００８３～００８８に記載の化合物を用いてもよい。また、オキシムスルホネート化合物としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００８４～００８８に記載された化合物を用いてもよい。
カチオン重合開始剤は、ラジカル及び酸を発生する重合開始剤であってもよい。
ラジカル及び酸を発生する重合開始剤は、１つの化合物からラジカル及び酸の両方を発生するかできる化合物であり、例えば、オキシムスルホネート化合物、ラジカル発生構造及び酸発生構造を有する化合物が挙げられる。
また、重合開始剤としては、カチオン重合開始剤と、ラジカル及び酸を発生する重合開始剤とを併用してもよい。
ラジカル及び酸を発生する重合開始剤は、１つの化合物からラジカル及び酸の両方を発生するかできる化合物であり、例えば、オキシムスルホネート化合物、ラジカル発生構造及び酸発生構造を有する化合物が挙げられる。
また、重合開始剤としては、カチオン重合開始剤と、ラジカル及び酸を発生する重合開始剤とを併用してもよい。
感光性層は、カチオン重合開始剤を、１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
感光性層におけるカチオン重合開始剤の含有量は、特に制限されないが、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、感光性層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．２５質量％以上がより好ましく、０．５質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、感光性層の全質量に対し、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。
感光性層におけるカチオン重合開始剤の含有量は、特に制限されないが、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、感光性層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．２５質量％以上がより好ましく、０．５質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、感光性層の全質量に対し、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。
＜＜ラジカル重合開始剤＞＞
重合開始剤は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、ラジカル重合開始剤を更に含むことが好ましい。
ラジカル重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
重合開始剤は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、ラジカル重合開始剤を更に含むことが好ましい。
ラジカル重合開始剤としては、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、オキシムエステル構造を有する光重合開始剤、α－アミノアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤、α－ヒドロキシアルキルフェノン構造を有する光重合開始剤、アシルフォスフィンオキサイド構造を有する光重合開始剤、Ｎ－フェニルグリシン構造を有する光重合開始剤、及び、ビイミダゾール化合物が挙げられる。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、特開２０１１－９５７１６号公報の段落００３１～００４２、特開２０１５－１４７８３号公報の段落００６４～００８１に記載された重合開始剤を用いてもよい。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ジメチルアミノ安息香酸エチル（ＤＢＥ、ＣＡＳ Ｎｏ．１０２８７－５３－３）、ベンゾインメチルエーテル、アニシル（ｐ，ｐ’－ジメトキシベンジル）、ＴＡＺ－１１０（商品名：みどり化学（株）製）、ベンゾフェノン、ＴＡＺ－１１１（商品名：みどり化学（株）製）、ＩｒｇａｃｕｒｅＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＯＸＥ０３、ＯＸＥ０４（ＢＡＳＦ社製）、Ｏｍｎｉｒａｄ６５１及び３６９（商品名：ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．社製）、及び、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニル－１，２’－ビイミダゾール（東京化成工業（株）製）が挙げられる。
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えば、１－［４－（フェニルチオ）フェニル］－１，２－オクタンジオン－２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ（登録商標） ＯＸＥ－０１、ＢＡＳＦ社製）、１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］エタノン－１－（Ｏ－アセチルオキシム）（商品名：ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ－０２、ＢＡＳＦ社製）、ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ－０３（ＢＡＳＦ社製）、２－（ジメチルアミノ）－２－［（４－メチルフェニル）メチル］－１－［４－（４－モルフォリニル）フェニル］－１－ブタノン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ３７９ＥＧ、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－メチル－１－（４－メチルチオフェニル）－２－モルフォリノプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ９０７、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－ヒドロキシ－１－｛４－［４－（２－ヒドロキシ－２－メチルプロピオニル）ベンジル］フェニル｝－２－メチルプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ １２７、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルフォリノフェニル）ブタノン－１（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ３６９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ １１７３、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ １８４、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２，２－ジメトキシ－１，２－ジフェニルエタン－１－オン（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ６５１、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、２，４，６－トリメチルベンゾリル－ジフェニルフォスフィンオキサイド（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ＴＰＯ Ｈ、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、ビス（２，４，６－トリメチルベンゾリル）フェニルフォスフィンオキサイド（商品名：Ｏｍｎｉｒａｄ ８１９、ＩＧＭ Ｒｅｓｉｎｓ Ｂ．Ｖ．製）、オキシムエステル系の光重合開始剤（商品名：Ｌｕｎａｒ ６、ＤＫＳＨジャパン（株）製）、２，２’－ビス（２－クロロフェニル）－４，４’，５，５’－テトラフェニルビスイミダゾール（２－（２－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体）（商品名：Ｂ－ＣＩＭ、Ｈａｍｐｆｏｒｄ社製）、及び、２－（ｏ－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体（商品名：ＢＣＴＢ、東京化成工業（株）製）が挙げられる。
感光性層は、ラジカル重合開始剤を、１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
感光性層におけるラジカル重合開始剤の含有量は、特に制限されないが、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、感光性層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．２５質量％以上がより好ましく、０．５質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、感光性層の全質量に対し、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましい。
感光性層におけるラジカル重合開始剤の含有量は、特に制限されないが、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、感光性層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．２５質量％以上がより好ましく、０．５質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、感光性層の全質量に対し、１０質量％以下が好ましく、５質量％以下がより好ましい。
重合開始剤として、カチオン重合開始剤とラジカル重合開始剤とを併用する場合、感光性層におけるラジカル重合開始剤の含有量Ｍｒｉとカチオン重合開始剤の含有量Ｍｃｉとの質量比Ｍｒｉ／Ｍｃｉの値は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、０．２～５であることが好ましく、０．５～２であることがより好ましく、０．６６～１．５であることが更に好ましく、０．８～１．２であることが特に好ましい。
感光性層は、重合開始剤を、１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
感光性層における重合開始剤の総含有量は、特に制限されないが、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、感光性層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１．０質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、感光性層の全質量に対し、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。
感光性層における重合開始剤の総含有量は、特に制限されないが、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、感光性層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１．０質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されないが、感光性層の全質量に対し、２０質量％以下が好ましく、１０質量％以下がより好ましい。
＜重合性化合物＞
感光性層は、重合性化合物を含み、上記重合性化合物が、カチオン重合性化合物を含む。
なお、本明細書において「重合性化合物」とは、上述した重合開始剤の作用を受けて重合する化合物であって、後述するアルカリ可溶性樹脂とは異なる化合物を意味する。
感光性層は、重合性化合物を含み、上記重合性化合物が、カチオン重合性化合物を含む。
なお、本明細書において「重合性化合物」とは、上述した重合開始剤の作用を受けて重合する化合物であって、後述するアルカリ可溶性樹脂とは異なる化合物を意味する。
重合性化合物が有する重合性基としては、重合反応に関与する基であれば特に制限されず、例えば、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基及びマレイミド基等のエチレン性不飽和基を有する基；並びに、エポキシ基及びオキセタン基等のカチオン性重合性基を有する基が挙げられる。
重合性化合物は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、ラジカル重合性化合物を更に含むことことが好ましい。
また、重合性化合物は、ラジカル重合性基と上記ラジカル重合性基とは異なるカチオン重合性基とを有する化合物を含んでいてもよい。
重合性化合物は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、ラジカル重合性化合物を更に含むことことが好ましい。
また、重合性化合物は、ラジカル重合性基と上記ラジカル重合性基とは異なるカチオン重合性基とを有する化合物を含んでいてもよい。
＜＜カチオン重合性化合物＞＞
感光性層は、カチオン重合性化合物を含む。
カチオン重合性化合物におけるカチオン重合性基としては、環状エーテル基、アリル基又はビニルエーテル基が好ましく、環状エーテル基がより好ましく、エポキシ基又はオキセタニル基が特に好ましい。
また、カチオン重合性化合物としては、環状エーテル化合物、アリル化合物又はビニルエーテル化合物が好ましく、環状エーテル化合物がより好ましく、エポキシ化合物又はオキセタン化合物が特に好ましい。
感光性層は、カチオン重合性化合物を含む。
カチオン重合性化合物におけるカチオン重合性基としては、環状エーテル基、アリル基又はビニルエーテル基が好ましく、環状エーテル基がより好ましく、エポキシ基又はオキセタニル基が特に好ましい。
また、カチオン重合性化合物としては、環状エーテル化合物、アリル化合物又はビニルエーテル化合物が好ましく、環状エーテル化合物がより好ましく、エポキシ化合物又はオキセタン化合物が特に好ましい。
カチオン重合性化合物は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、２官能以上のカチオン重合性化合物を含むことが好ましく、３官能以上のカチオン重合性化合物を含むことがより好ましい。
また、カチオン重合性化合物は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、２官能カチオン重合性化合物と３官能以上のカチオン重合性化合物とを含むことが好ましく、２官能カチオン重合性化合物と３官能又は４官能カチオン重合性化合物とを含むことがより好ましい。
ここで、２官能以上のカチオン重合性化合物とは、一分子中にカチオン重合性基を２つ以上有する化合物を意味する。
また、カチオン重合性化合物は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、２官能カチオン重合性化合物と３官能以上のカチオン重合性化合物とを含むことが好ましく、２官能カチオン重合性化合物と３官能又は４官能カチオン重合性化合物とを含むことがより好ましい。
ここで、２官能以上のカチオン重合性化合物とは、一分子中にカチオン重合性基を２つ以上有する化合物を意味する。
カチオン重合性化合物としては、エポキシ化合物、オキセタン化合物、アリル化合物、オキサゾリン化合物、ビニルエーテル化合物、ビニルエステル化合物等の公知のカチオン重合性化合物を用いることができる。
中でも、硬化性、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、エポキシ化合物、オキセタン化合物、アリル化合物、又は、ビニルエーテル化合物を含むことが好ましく、エポキシ化合物、又は、オキセタン化合物を含むことがより好ましく、エポキシ化合物、及び、オキセタン化合物を含むことが特に好ましい。
カチオン重合性化合物は、硬化性、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、２個～２０個のカチオン重合性基を有するモノマーを含むことが好ましく、２個～１２個のカチオン重合性基を有するモノマーを含むことがより好ましく、２個～６個のカチオン重合性基を有するモノマーを含むことが特に好ましい。
中でも、硬化性、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、エポキシ化合物、オキセタン化合物、アリル化合物、又は、ビニルエーテル化合物を含むことが好ましく、エポキシ化合物、又は、オキセタン化合物を含むことがより好ましく、エポキシ化合物、及び、オキセタン化合物を含むことが特に好ましい。
カチオン重合性化合物は、硬化性、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、２個～２０個のカチオン重合性基を有するモノマーを含むことが好ましく、２個～１２個のカチオン重合性基を有するモノマーを含むことがより好ましく、２個～６個のカチオン重合性基を有するモノマーを含むことが特に好ましい。
カチオン重合性化合物としては、例えば、特開平６－９７１４号、特開２００１－３１８９２号、同２００１－４００６８号、同２００１－５５５０７号、同２００１－３１０９３８号、同２００１－３１０９３７号、同２００１－２２０５２６号などの各公報に記載されているエポキシ化合物、ビニルエーテル化合物、オキセタン化合物などが挙げられる。
エポキシ化合物としては、芳香族エポキシド、脂環式エポキシド、脂肪族エポキシドなどが挙げられる。
芳香族エポキシドとしては、例えば、ビスフェノールＡ若しくはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡ若しくはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
脂環式エポキシドとしては、少なくとも１個のシクロへキセン環又はシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られる、シクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましく挙げられる。
脂肪族エポキシドとしては、脂肪族多価アルコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル等が挙げられる。その代表例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル又は１，６－ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリンあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテルに代表されるポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
また、エポキシ化合物としては、イソシアヌル酸トリグリシジル等のイソシアヌル環を有する化合物が好ましく挙げられる。
芳香族エポキシドとしては、例えば、ビスフェノールＡ若しくはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル、水素添加ビスフェノールＡ若しくはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
脂環式エポキシドとしては、少なくとも１個のシクロへキセン環又はシクロペンテン環等のシクロアルカン環を有する化合物を、過酸化水素、過酸等の適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られる、シクロヘキセンオキサイド又はシクロペンテンオキサイド含有化合物が好ましく挙げられる。
脂肪族エポキシドとしては、脂肪族多価アルコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はポリグリシジルエーテル等が挙げられる。その代表例としては、エチレングリコールのジグリシジルエーテル、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル又は１，６－ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル等のアルキレングリコールのジグリシジルエーテル、グリセリンあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジ又はトリグリシジルエーテル等の多価アルコールのポリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールあるいはそのアルキレンオキサイド付加体のジグリシジルエーテルに代表されるポリアルキレングリコールのジグリシジルエーテル等が挙げられる。ここでアルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド等が挙げられる。
また、エポキシ化合物としては、イソシアヌル酸トリグリシジル等のイソシアヌル環を有する化合物が好ましく挙げられる。
オキセタン化合物は、オキセタニル基を有する化合物であればよく、例えば、特開２００１－２２０５２６号、特開２００１－３１０９３７号、特開２００３－３４１２１７号の各公報に記載されるオキセタン化合物を用いることができる。
また、分子内に１～４個のオキセタン環を有する化合物として、特開２００７－９１９４６号公報の段落００３７～段落００５１に記載された、一般式（１）～（４）で示される化合物も挙げられる。
また、分子内に１～４個のオキセタン環を有する化合物として、特開２００７－９１９４６号公報の段落００３７～段落００５１に記載された、一般式（１）～（４）で示される化合物も挙げられる。
アリル化合物としては、公知のアリル化合物を用いることができる。
アリル化合物として具体的には、イソシアヌル酸トリアリル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、トリメチロールプロパントリアリルエーテル、ペンタエリスリトールトリアリルエーテル、ペンタエリスリトールテトラアリルエーテル、１，１，２，２－テトラアリロキシエタン、ジアリリデンペンタエリスリット、トリアリルシアヌレート、１，２，４－トリビニルシクロヘキサン、１，４－ブタンジオールジアリルエーテル、ノナンジオールジアリルエーテル、１，４－シクロへキサンジメタノールジアリルエーテル、トリエチレングリコールジアリルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ビスフェノールＳのジアリルエーテル、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、１，３－ジイソプロペニルベンゼン、１，４－ジイソプロペニルベンゼン、１，３－ビス（アリルオキシ）アダマンタン、１，３－ビス（ビニルオキシ）アダマンタン、１，３，５－トリス（アリルオキシ）アダマンタン、１，３，５－トリス（ビニルオキシ）アダマンタン、ジシクロペンタジエン、ビニルシクロへキセン、１，５－ヘキサジエン、１，９－デカジエン、ジアリルエーテル、ビスフェノールＡジアリルエーテル、２，５－ジアリルフェノールアリルエーテル等が挙げられる。
アリル化合物として具体的には、イソシアヌル酸トリアリル、ジアリルフタレート、トリアリルトリメリテート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、トリメチロールプロパンジアリルエーテル、トリメチロールプロパントリアリルエーテル、ペンタエリスリトールトリアリルエーテル、ペンタエリスリトールテトラアリルエーテル、１，１，２，２－テトラアリロキシエタン、ジアリリデンペンタエリスリット、トリアリルシアヌレート、１，２，４－トリビニルシクロヘキサン、１，４－ブタンジオールジアリルエーテル、ノナンジオールジアリルエーテル、１，４－シクロへキサンジメタノールジアリルエーテル、トリエチレングリコールジアリルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル、ペンタエリスリトールテトラビニルエーテル、ビスフェノールＳのジアリルエーテル、ジビニルベンゼン、ジビニルビフェニル、１，３－ジイソプロペニルベンゼン、１，４－ジイソプロペニルベンゼン、１，３－ビス（アリルオキシ）アダマンタン、１，３－ビス（ビニルオキシ）アダマンタン、１，３，５－トリス（アリルオキシ）アダマンタン、１，３，５－トリス（ビニルオキシ）アダマンタン、ジシクロペンタジエン、ビニルシクロへキセン、１，５－ヘキサジエン、１，９－デカジエン、ジアリルエーテル、ビスフェノールＡジアリルエーテル、２，５－ジアリルフェノールアリルエーテル等が挙げられる。
ビニルエーテル化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、プロピレングリコールジビニルエーテル、ジプロピレングリコールジビニルエーテル、ブタンジオールジビニルエーテル、ヘキサンジオールジビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、トリメチロールプロパントリビニルエーテル等のジ又はトリビニルエーテル化合物、エチルビニルエーテル、ｎ－ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、２－エチルヘキシルビニルエーテル、シクロヘキサンジメタノールモノビニルエーテル、ｎ－プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、イソプロペニルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル等のモノビニルエーテル化合物等が挙げられる。
カチオン重合性化合物の分子量又は重量平均分子量（分布を有する場合は、重量平均分子量（Ｍｗ））としては、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、３，０００以下であることが好ましく、２，０００以下であることがより好ましく、５０～１，５００であることが更に好ましく、１００～１，０００であることが特に好ましい。
カチオン重合性化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよいが、２種以上併用することが好ましい。
感光性層におけるカチオン重合性化合物の含有量は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、感光性層の全質量に対し、５質量％～８０質量％が好ましく、８質量％～７０質量％がより好ましく、１０質量％～６０質量％が更に好ましく、２０質量％～５０質量％が特に好ましい。
感光性層におけるカチオン重合性化合物の含有量は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、感光性層の全質量に対し、５質量％～８０質量％が好ましく、８質量％～７０質量％がより好ましく、１０質量％～６０質量％が更に好ましく、２０質量％～５０質量％が特に好ましい。
＜＜ラジカル重合性化合物＞＞
感光性層は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、ラジカル重合性化合物を更に含むことが好ましい。
ラジカル重合性化合物におけるラジカル重合性基としては、エチレン性不飽和基が好ましく、アクリロイル基又はメタクリロイル基がより好ましい。
また、ラジカル重合性化合物としては、エチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、（メタ）アクリレート化合物を含むことがより好ましい。
エチレン性不飽和化合物は、１つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物である。
感光性層は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、ラジカル重合性化合物を更に含むことが好ましい。
ラジカル重合性化合物におけるラジカル重合性基としては、エチレン性不飽和基が好ましく、アクリロイル基又はメタクリロイル基がより好ましい。
また、ラジカル重合性化合物としては、エチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、（メタ）アクリレート化合物を含むことがより好ましい。
エチレン性不飽和化合物は、１つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物である。
ラジカル重合性化合物は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、２官能以上のラジカル重合性化合物を含むことが好ましく、３官能以上のラジカル重合性化合物を含むことがより好ましい。
また、ラジカル重合性化合物は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、２官能ラジカル重合性化合物と３官能以上のラジカル重合性化合物とを含むことが好ましく、２官能ラジカル重合性化合物と３官能ラジカル重合性化合物とを含むことがより好ましい。
ここで、２官能以上のラジカル重合性化合物とは、一分子中にラジカル重合性基を２つ以上有する化合物を意味する。
また、ラジカル重合性化合物は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、２官能ラジカル重合性化合物と３官能以上のラジカル重合性化合物とを含むことが好ましく、２官能ラジカル重合性化合物と３官能ラジカル重合性化合物とを含むことがより好ましい。
ここで、２官能以上のラジカル重合性化合物とは、一分子中にラジカル重合性基を２つ以上有する化合物を意味する。
ラジカル重合性化合物としては、感光性層の感光性がより優れる点で、一分子中に２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物（多官能エチレン性不飽和化合物）を含むことが好ましい。
また、解像性及び剥離性により優れる点で、エチレン性不飽和化合物が一分子中に有するエチレン性不飽和基の数は、６つ以下が好ましく、３つ以下がより好ましい。
また、解像性及び剥離性により優れる点で、エチレン性不飽和化合物が一分子中に有するエチレン性不飽和基の数は、６つ以下が好ましく、３つ以下がより好ましい。
感光性層は、感光性層の感光性と解像性及び剥離性とのバランスがより優れる点で、一分子中に２つ又は３つのエチレン性不飽和基を有する２官能又は３官能エチレン性不飽和化合物を含有することが好ましく、一分子中に２つのエチレン性不飽和基を有する２官能エチレン性不飽和化合物を含有することがより好ましい。
感光性層における、エチレン性不飽和化合物の含有量に対する２官能エチレン性不飽和化合物の含有量は、剥離性に優れる点から、６０質量％以上が好ましく、７０質量％超がより好ましく、９０質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されず、１００質量％であってもよい。即ち、感光性層に含まれるエチレン性不飽和化合物が全て２官能エチレン性不飽和化合物であってもよい。
感光性層における、エチレン性不飽和化合物の含有量に対する２官能エチレン性不飽和化合物の含有量は、剥離性に優れる点から、６０質量％以上が好ましく、７０質量％超がより好ましく、９０質量％以上が更に好ましい。上限は特に制限されず、１００質量％であってもよい。即ち、感光性層に含まれるエチレン性不飽和化合物が全て２官能エチレン性不飽和化合物であってもよい。
ラジカル重合性化合物は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、ポリアルキレンオキサイド構造を有するラジカル重合性化合物を含むことが好ましく、ポリエチレンオキサイド構造を有するラジカル重合性化合物を含むことがより好ましい。
ポリアルキレンオキサイド構造を有するラジカル重合性化合物としては、後述する、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、アルキレンオキサイド変性物等が好ましく挙げられる。
ポリアルキレンオキサイド構造を有するラジカル重合性化合物としては、後述する、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、アルキレンオキサイド変性物等が好ましく挙げられる。
－エチレン性不飽和化合物Ｂ１－
感光性層は、芳香環及び２つのエチレン性不飽和基を有するエチレン性不飽和化合物Ｂ１を含有することが好ましい。エチレン性不飽和化合物Ｂ１は、上述したエチレン性不飽和化合物のうち、一分子中に１つ以上の芳香環を有する２官能エチレン性不飽和化合物である。
感光性層は、芳香環及び２つのエチレン性不飽和基を有するエチレン性不飽和化合物Ｂ１を含有することが好ましい。エチレン性不飽和化合物Ｂ１は、上述したエチレン性不飽和化合物のうち、一分子中に１つ以上の芳香環を有する２官能エチレン性不飽和化合物である。
感光性層中、エチレン性不飽和化合物の含有量に対するエチレン性不飽和化合物Ｂ１の含有量の質量比は、解像性がより優れる点から、４０質量％以上であることが好ましく、５０質量％以上であることがより好ましく、５５質量％以上であることが更に好ましく、６０質量％以上であることが特に好ましい。上限は特に制限されないが、剥離性の点から、９９質量％以下が好ましく、９５質量％以下がより好ましく、９０質量％以下が更に好ましく、８５質量％以下が特に好ましい。
エチレン性不飽和化合物Ｂ１が有する芳香環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環及びアントラセン環等の芳香族炭化水素環、チオフェン環、フラン環、ピロール環、イミダゾール環、トリアゾール環及びピリジン環等の芳香族複素環、並びに、それらの縮合環が挙げられ、芳香族炭化水素環が好ましく、ベンゼン環がより好ましい。なお、上記芳香環は、置換基を有してもよい。
エチレン性不飽和化合物Ｂ１は、芳香環を１つのみ有してもよく、２つ以上の芳香環を有してもよい。
エチレン性不飽和化合物Ｂ１は、芳香環を１つのみ有してもよく、２つ以上の芳香環を有してもよい。
エチレン性不飽和化合物Ｂ１は、現像液による感光性層の膨潤を抑制することにより、解像性が向上する点から、ビスフェノール構造を有することが好ましい。
ビスフェノール構造としては、例えば、ビスフェノールＡ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン）に由来するビスフェノールＡ構造、ビスフェノールＦ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン）に由来するビスフェノールＦ構造、及び、ビスフェノールＢ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン）に由来するビスフェノールＢ構造が挙げられ、ビスフェノールＡ構造が好ましい。
ビスフェノール構造としては、例えば、ビスフェノールＡ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）プロパン）に由来するビスフェノールＡ構造、ビスフェノールＦ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）メタン）に由来するビスフェノールＦ構造、及び、ビスフェノールＢ（２，２－ビス（４－ヒドロキシフェニル）ブタン）に由来するビスフェノールＢ構造が挙げられ、ビスフェノールＡ構造が好ましい。
ビスフェノール構造を有するエチレン性不飽和化合物Ｂ１としては、例えば、ビスフェノール構造と、そのビスフェノール構造の両端に結合した２つの重合性基（好ましくは（メタ）アクリロイル基）とを有する化合物が挙げられる。
ビスフェノール構造の両端と２つの重合性基とは、直接結合してもよく、１つ以上のアルキレンオキシ基を介して結合してもよい。ビスフェノール構造の両端に付加するアルキレンオキシ基としては、エチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基が好ましく、エチレンオキシ基がより好ましい。ビスフェノール構造に付加するアルキレンオキシ基の付加数は特に制限されないが、１分子あたり４～１６個が好ましく、６～１４個がより好ましい。
ビスフェノール構造を有するエチレン性不飽和化合物Ｂ１については、特開２０１６－２２４１６２号公報の段落００７２～００８０に記載されており、この公報に記載の内容は本明細書に組み込まれる。
ビスフェノール構造の両端と２つの重合性基とは、直接結合してもよく、１つ以上のアルキレンオキシ基を介して結合してもよい。ビスフェノール構造の両端に付加するアルキレンオキシ基としては、エチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基が好ましく、エチレンオキシ基がより好ましい。ビスフェノール構造に付加するアルキレンオキシ基の付加数は特に制限されないが、１分子あたり４～１６個が好ましく、６～１４個がより好ましい。
ビスフェノール構造を有するエチレン性不飽和化合物Ｂ１については、特開２０１６－２２４１６２号公報の段落００７２～００８０に記載されており、この公報に記載の内容は本明細書に組み込まれる。
エチレン性不飽和化合物Ｂ１としては、ビスフェノールＡ構造を有する２官能エチレン性不飽和化合物が好ましく、２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリアルコキシ）フェニル）プロパンがより好ましい。
２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリアルコキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン（ＦＡ－３２４Ｍ、日立化成（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシエトキシプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－５００、新中村化学工業（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシドデカエトキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン（ＦＡ－３２００ＭＹ、日立化成（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－１３００、新中村化学工業（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－２００、新中村化学工業（株）製）、及び、エトキシ化（１０）ビスフェノールＡジアクリレート（ＮＫエステルＡ－ＢＰＥ－１０、新中村化学工業（株）製）が挙げられる。
２，２－ビス（４－（（メタ）アクリロキシポリアルコキシ）フェニル）プロパンとしては、例えば、２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン（ＦＡ－３２４Ｍ、日立化成（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシエトキシプロポキシ）フェニル）プロパン、２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－５００、新中村化学工業（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシドデカエトキシテトラプロポキシ）フェニル）プロパン（ＦＡ－３２００ＭＹ、日立化成（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシペンタデカエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－１３００、新中村化学工業（株）製）、２，２－ビス（４－（メタクリロキシジエトキシ）フェニル）プロパン（ＢＰＥ－２００、新中村化学工業（株）製）、及び、エトキシ化（１０）ビスフェノールＡジアクリレート（ＮＫエステルＡ－ＢＰＥ－１０、新中村化学工業（株）製）が挙げられる。
エチレン性不飽和化合物Ｂ１としては、下記式（Ｂｉｓ）で表される化合物を使用することができる。
式（Ｂｉｓ）中、Ｒ１及びＲ２はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表し、ＡはＣ２Ｈ４であり、ＢはＣ３Ｈ６であり、ｎ１及びｎ３はそれぞれ独立に、１～３９の整数であり、かつｎ１＋ｎ３は２～４０の整数であり、ｎ２及びｎ４はそれぞれ独立に、０～２９の整数であり、かつｎ２＋ｎ４は０～３０の整数であり、－（Ａ－Ｏ）－及び－（Ｂ－Ｏ）－の繰り返し単位の配列は、ランダムであってもブロックであってもよい。そして、ブロックの場合、－（Ａ－Ｏ）－と－（Ｂ－Ｏ）－とのいずれがビスフェノール構造側でもよい。
一態様において、ｎ１＋ｎ２＋ｎ３＋ｎ４は、２～２０の整数が好ましく、２～１６の整数がより好ましく、４～１２の整数が更に好ましい。また、ｎ２＋ｎ４は、０～１０の整数が好ましく、０～４の整数がより好ましく、０～２の整数が更に好ましく、０が特に好ましい。
一態様において、ｎ１＋ｎ２＋ｎ３＋ｎ４は、２～２０の整数が好ましく、２～１６の整数がより好ましく、４～１２の整数が更に好ましい。また、ｎ２＋ｎ４は、０～１０の整数が好ましく、０～４の整数がより好ましく、０～２の整数が更に好ましく、０が特に好ましい。
エチレン性不飽和化合物Ｂ１は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
感光性層における、エチレン性不飽和化合物Ｂ１の含有量は、解像性がより優れる点から、感光性層の全質量に対して、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、転写性及びエッジフュージョン（感光性転写材料の端部から感光性層中の成分が滲み出す現象）の点から、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。
感光性層における、エチレン性不飽和化合物Ｂ１の含有量は、解像性がより優れる点から、感光性層の全質量に対して、１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、転写性及びエッジフュージョン（感光性転写材料の端部から感光性層中の成分が滲み出す現象）の点から、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましい。
感光性層は、上述したエチレン性不飽和化合物Ｂ１以外のエチレン性不飽和化合物を含有してもよい。
エチレン性不飽和化合物Ｂ１以外のエチレン性不飽和化合物は、特に制限されず、公知の化合物の中から適宜選択できる。例えば、一分子中に１つのエチレン性不飽和基を有する化合物（単官能エチレン性不飽和化合物）、芳香環を有さない２官能エチレン性不飽和化合物、及び、３官能以上のエチレン性不飽和化合物が挙げられる。
エチレン性不飽和化合物Ｂ１以外のエチレン性不飽和化合物は、特に制限されず、公知の化合物の中から適宜選択できる。例えば、一分子中に１つのエチレン性不飽和基を有する化合物（単官能エチレン性不飽和化合物）、芳香環を有さない２官能エチレン性不飽和化合物、及び、３官能以上のエチレン性不飽和化合物が挙げられる。
単官能エチレン性不飽和化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２－（メタ）アクリロイルオキシエチルサクシネート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、及び、フェノキシエチル（メタ）アクリレートが挙げられる。
芳香環を有さない２官能エチレン性不飽和化合物としては、例えば、アルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレート、ウレタンジ（メタ）アクリレート、及び、トリメチロールプロパンジアクリレートが挙げられる。
アルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ－ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート（ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、１，９－ノナンジオールジアクリレート（Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（Ａ－ＨＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）、エチレングリコールジメタクリレート、１，１０－デカンジオールジアクリレート、及び、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、及び、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
ウレタンジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、プロピレンオキサイド変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、並びに、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド変性ウレタンジ（メタ）アクリレートが挙げられる。の市販品としては、例えば、８ＵＸ－０１５Ａ（大成ファインケミカル（株）製）、ＵＡ－３２Ｐ（新中村化学工業（株）製）、及び、ＵＡ－１１００Ｈ（新中村化学工業（株）製）が挙げられる。
アルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート（Ａ－ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート（ＤＣＰ、新中村化学工業（株）製）、１，９－ノナンジオールジアクリレート（Ａ－ＮＯＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）、１，６－ヘキサンジオールジアクリレート（Ａ－ＨＤ－Ｎ、新中村化学工業（株）製）、エチレングリコールジメタクリレート、１，１０－デカンジオールジアクリレート、及び、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
ポリアルキレングリコールジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、及び、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレートが挙げられる。
ウレタンジ（メタ）アクリレートとしては、例えば、プロピレンオキサイド変性ウレタンジ（メタ）アクリレート、並びに、エチレンオキサイド及びプロピレンオキサイド変性ウレタンジ（メタ）アクリレートが挙げられる。の市販品としては、例えば、８ＵＸ－０１５Ａ（大成ファインケミカル（株）製）、ＵＡ－３２Ｐ（新中村化学工業（株）製）、及び、ＵＡ－１１００Ｈ（新中村化学工業（株）製）が挙げられる。
３官能以上のエチレン性不飽和化合物としては、例えば、ジペンタエリスリトール（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトール（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、並びに、これらのアルキレンオキサイド変性物が挙げられる。
ここで、「（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート、ペンタ（メタ）アクリレート、及びヘキサ（メタ）アクリレートを包含する概念であり、「（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート及びテトラ（メタ）アクリレートを包含する概念である。一態様において、感光性層は、上述したエチレン性不飽和化合物Ｂ１及び３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、上述したエチレン性不飽和化合物Ｂ１及び２種以上の３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましい。この場合、エチレン性不飽和化合物Ｂ１と３官能以上のエチレン性不飽和化合物の質量比は、（エチレン性不飽和化合物Ｂ１の合計質量）：（３官能以上のエチレン性不飽和化合物の合計質量）＝１：１～５：１が好ましく、１．２：１～４：１がより好ましく、１．５：１～３：１が更に好ましい。
また、一態様において、感光性層は、上述したエチレン性不飽和化合物Ｂ１及び２種以上の３官能のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
ここで、「（トリ／テトラ／ペンタ／ヘキサ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート、テトラ（メタ）アクリレート、ペンタ（メタ）アクリレート、及びヘキサ（メタ）アクリレートを包含する概念であり、「（トリ／テトラ）（メタ）アクリレート」は、トリ（メタ）アクリレート及びテトラ（メタ）アクリレートを包含する概念である。一態様において、感光性層は、上述したエチレン性不飽和化合物Ｂ１及び３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、上述したエチレン性不飽和化合物Ｂ１及び２種以上の３官能以上のエチレン性不飽和化合物を含むことがより好ましい。この場合、エチレン性不飽和化合物Ｂ１と３官能以上のエチレン性不飽和化合物の質量比は、（エチレン性不飽和化合物Ｂ１の合計質量）：（３官能以上のエチレン性不飽和化合物の合計質量）＝１：１～５：１が好ましく、１．２：１～４：１がより好ましく、１．５：１～３：１が更に好ましい。
また、一態様において、感光性層は、上述したエチレン性不飽和化合物Ｂ１及び２種以上の３官能のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましい。
３官能以上のエチレン性不飽和化合物のアルキレンオキサイド変性物としては、カプロラクトン変性（メタ）アクリレート化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）ＤＰＣＡ－２０、新中村化学工業（株）製Ａ－９３００－１ＣＬ等）、アルキレンオキサイド変性（メタ）アクリレート化合物（日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ ＲＰ－１０４０、新中村化学工業（株）製ＡＴＭ－３５Ｅ及びＡ－９３００、ダイセル・オルネクス社製ＥＢＥＣＲＹＬ（登録商標） １３５等）、エトキシル化グリセリントリアクリレート（新中村化学工業（株）製Ａ－ＧＬＹ－９Ｅ等）、アロニックス（登録商標）ＴＯ－２３４９（東亞合成（株）製）、アロニックスＭ－５２０（東亞合成（株）製）、並びに、アロニックスＭ－５１０（東亞合成（株）製）が挙げられる。
また、エチレン性不飽和化合物Ｂ１以外のエチレン性不飽和化合物としては、特開２００４－２３９９４２号公報の段落００２５～００３０に記載の酸基を有するエチレン性不飽和化合物を用いてもよい。
感光性層におけるエチレン性不飽和化合物の含有量Ｍｍとアルカリ可溶性樹脂の含有量Ｍｂとの比Ｍｍ／Ｍｂの値は、解像性及び直線性の観点から、１．０以下であることが好ましく、０．９以下であることがより好ましく、０．５以上０．９以下であることが特に好ましい。
また、感光性層におけるエチレン性不飽和化合物は、硬化性、及び、解像性の観点から、（メタ）アクリル化合物を含むことが好ましい。
更に、感光性層におけるエチレン性不飽和化合物は、硬化性、解像性及び直線性の観点から、（メタ）アクリル化合物を含み、かつ感光性層に含まれる上記（メタ）アクリル化合物の全質量に対するアクリル化合物の含有量が、６０質量％以下であることがより好ましい。
また、感光性層におけるエチレン性不飽和化合物は、硬化性、及び、解像性の観点から、（メタ）アクリル化合物を含むことが好ましい。
更に、感光性層におけるエチレン性不飽和化合物は、硬化性、解像性及び直線性の観点から、（メタ）アクリル化合物を含み、かつ感光性層に含まれる上記（メタ）アクリル化合物の全質量に対するアクリル化合物の含有量が、６０質量％以下であることがより好ましい。
ラジカル重合性化合物の分子量又は重量平均分子量（分布を有する場合は、重量平均分子量（Ｍｗ））としては、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、３，０００以下であることが好ましく、２，０００以下であることがより好ましく、１００～１，５００であることが更に好ましく、２００～１，０００であることが特に好ましい。
ラジカル重合性化合物は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよいが、２種以上併用することが好ましい。
感光性層におけるラジカル重合性化合物の含有量は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、感光性層の全質量に対し、５質量％～６５質量％が好ましく、８質量％～５０質量％がより好ましく、１０質量％～３０質量％が特に好ましい。
感光性層におけるラジカル重合性化合物の含有量は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、感光性層の全質量に対し、５質量％～６５質量％が好ましく、８質量％～５０質量％がより好ましく、１０質量％～３０質量％が特に好ましい。
重合性化合物として、カチオン重合性化合物とラジカル重合性化合物とを併用する場合、感光性層におけるラジカル重合性化合物の含有量Ｍｒｍとカチオン重合性化合物の含有量Ｍｃｍとの質量比Ｍｒｍ／Ｍｃｍの値は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、０．２～５であることが好ましく、０．５～２であることがより好ましく、０．６６～１．５であることが更に好ましく、０．８～１．２であることが特に好ましい。
感光性層における重合性化合物の総含有量は、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、感光性層の全質量に対し、１０質量％～８０質量％が好ましく、２０質量％～７０質量％がより好ましく、２０質量％～６０質量％が更に好ましい。
＜アルカリ可溶性樹脂＞
感光性層は、アルカリ可溶性樹脂を含むことが好ましい。
なお、本明細書において、「アルカリ可溶性」とは、液温２２℃において炭酸ナトリウムの１質量％水溶液１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。
アルカリ可溶性樹脂としては、特に制限はなく、例えば、エッチングレジストに用いられる公知のアルカリ可溶性樹脂が好適に挙げられる。
また、アルカリ可溶性樹脂は、バインダーポリマーであることが好ましい。
アルカリ可溶性樹脂としては、酸基を有するアルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。
中でも、アルカリ可溶性樹脂としては、後述する重合体Ａが好ましい。
感光性層は、アルカリ可溶性樹脂を含むことが好ましい。
なお、本明細書において、「アルカリ可溶性」とは、液温２２℃において炭酸ナトリウムの１質量％水溶液１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。
アルカリ可溶性樹脂としては、特に制限はなく、例えば、エッチングレジストに用いられる公知のアルカリ可溶性樹脂が好適に挙げられる。
また、アルカリ可溶性樹脂は、バインダーポリマーであることが好ましい。
アルカリ可溶性樹脂としては、酸基を有するアルカリ可溶性樹脂であることが好ましい。
中でも、アルカリ可溶性樹脂としては、後述する重合体Ａが好ましい。
－重合体Ａ－
アルカリ可溶性樹脂としては、重合体Ａを含むことが好ましい。
重合体Ａの酸価は、現像液による感光性層の膨潤を抑制することにより、解像性がより優れる点から、２２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ未満がより好ましく、１９０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満が更に好ましい。
重合体Ａの酸価の下限は特に制限されないが、現像性がより優れる点から、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましく、１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が特に好ましい。
アルカリ可溶性樹脂としては、重合体Ａを含むことが好ましい。
重合体Ａの酸価は、現像液による感光性層の膨潤を抑制することにより、解像性がより優れる点から、２２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下が好ましく、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ未満がより好ましく、１９０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満が更に好ましい。
重合体Ａの酸価の下限は特に制限されないが、現像性がより優れる点から、６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が好ましく、１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上がより好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が更に好ましく、１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上が特に好ましい。
なお、酸価は、試料１ｇを中和するのに必要な水酸化カリウムの質量［ｍｇ］であり、
本明細書においては、単位をｍｇＫＯＨ／ｇと記載する。酸価は、例えば、化合物中における酸基の平均含有量から算出できる。
重合体Ａの酸価は、重合体Ａを構成する構成単位の種類及び酸基を含有する構成単位の含有量により調整すればよい。
本明細書においては、単位をｍｇＫＯＨ／ｇと記載する。酸価は、例えば、化合物中における酸基の平均含有量から算出できる。
重合体Ａの酸価は、重合体Ａを構成する構成単位の種類及び酸基を含有する構成単位の含有量により調整すればよい。
重合体Ａの重量平均分子量は、５，０００～５００，０００であることが好ましい。重量平均分子量を５００，０００以下にすることは、解像性及び現像性を向上させる観点から好ましい。重量平均分子量を１００，０００以下にすることがより好ましく、６０，０００以下にすることが更に好ましく、５０，０００以下にすることが特に好ましい。一方で、重量平均分子量を５，０００以上にすることは、現像凝集物の性状、並びに感光性樹脂積層体とした場合のエッジフューズ性及びカットチップ性等の未露光膜の性状を制御する観点から好ましい。重量平均分子量を１０，０００以上にすることがより好ましく、２０，０００以上にすることが更に好ましく、３０，０００以上にすることが特に好ましい。エッジフューズ性とは、感光性転写材料をロール状に巻き取った場合に、ロールの端面からの、感光性層のはみ出し易さの程度をいう。カットチップ性とは、未露光膜をカッターで切断した場合に、チップの飛び易さの程度をいう。このチップが感光性樹脂積層体の上面等に付着すると、後のパターン形成工程等でマスクに転写して、不良品の原因となる。重合体Ａの分散度は、１．０～６．０であることが好ましく、１．０～５．０であることがより好ましく、１．０～４．０であることが更に好ましく、１．０～３．０であることが更に好ましい。本開示で、分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて測定される値である。また分散度は、数平均分子量に対する重量平均分子量の比（重量平均分子量／数平均分子量）である。
感光性層は、露光時の焦点位置がずれたときの線幅太りや解像度の悪化を抑制する観点から、重合体Ａとして、芳香族炭化水素基を有する単量体成分を含むものであることが好ましい。なお、このような芳香族炭化水素基としては、例えば、置換又は非置換のフェニル基や、置換又は非置換のアラルキル基が挙げられる。重合体Ａにおける芳香族炭化水素基を有する単量体成分の含有割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、２０質量％以上であることが好ましく、３０質量％以上であることがより好ましく、４０質量％以上であることが更に好ましく、４５質量％以上であることが特に好ましく、５０質量％以上であることが最も好ましい。上限としては特に限定されないが、好ましくは９５質量％以下、より好ましくは８５質量％以下である。なお、重合体Ａを複数種類含有する場合における、芳香族炭化水素基を有する単量体成分の含有割合は、重量平均値として求めた。
上記芳香族炭化水素基を有する単量体としては、例えば、アラルキル基を有するモノマー、スチレン、及び重合可能なスチレン誘導体（例えば、メチルスチレン、ビニルトルエン、ｔｅｒｔ－ブトキシスチレン、アセトキシスチレン、４－ビニル安息香酸、スチレンダイマー、スチレントリマー等）が挙げられる。中でも、アラルキル基を有するモノマー、又はスチレンが好ましい。一態様において、重合体Ａにおける芳香族炭化水素基を有する単量体成分がスチレンである場合、スチレン単量体成分の含有割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、２０質量％～５０質量％であることが好ましく、２５質量％～４５質量％であることがより好ましく、３０質量％～４０質量％であることが更に好ましく、３０質量％～３５質量％であることが特に好ましい。
アラルキル基としては、置換又は非置換のフェニルアルキル基（ベンジル基を除く）や、置換又は非置換のベンジル基等が挙げられ、置換又は非置換のベンジル基が好ましい。
フェニルアルキル基を有する単量体としては、フェニルエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
ベンジル基を有する単量体としては、ベンジル基を有する（メタ）アクリレート、例えば、ベンジル（メタ）アクリレート、クロロベンジル（メタ）アクリレート等；ベンジル基を有するビニルモノマー、例えば、ビニルベンジルクロライド、ビニルベンジルアルコール等が挙げられる。中でもベンジル（メタ）アクリレートが好ましい。一態様において、重合体Ａにおける芳香族炭化水素基を有する単量体成分がベンジル（メタ）アクリレートである場合、ベンジル（メタ）アクリレート単量体成分の含有割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、５０質量％～９５質量％であることが好ましく、６０質量％～９０質量％であることがより好ましく、７０質量％～９０質量％であることが更に好ましく、７５質量％～９０質量％であることが特に好ましい。
芳香族炭化水素基を有する単量体成分を含有する重合体Ａは、芳香族炭化水素基を有する単量体と、後述する第一の単量体の少なくとも１種及び／又は後述する第二の単量体の少なくとも１種とを重合することにより得られることが好ましい。
芳香族炭化水素基を有する単量体成分を含有しない重合体Ａは、後述する第一の単量体の少なくとも１種を重合することにより得られることが好ましく、第一の単量体の少なくとも１種と後述する第二の単量体の少なくとも１種とを共重合することにより得られることがより好ましい。
第一の単量体は、分子中にカルボキシ基を有する単量体である。第一の単量体としては、例えば、（メタ）アクリル酸、フマル酸、ケイ皮酸、クロトン酸、イタコン酸、４－ビニル安息香酸、マレイン酸無水物、マレイン酸半エステル等が挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリル酸が好ましい。
重合体Ａにおける第一の単量体の含有割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～４０質量％であることがより好ましく、１５質量％～３０質量％であることが更に好ましい。
重合体Ａにおける第一の単量体の含有割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～４０質量％であることがより好ましく、１５質量％～３０質量％であることが更に好ましい。
第一の単量体の共重合割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、１０質量％～５０質量％であることが好ましい。上記共重合割合を１０質量％以上にすることは、良好な現像性を発現させる観点、エッジフューズ性を制御するなどの観点から好ましく、１５質量％以上がより好ましく、２０質量％以上が更に好ましい。上記共重合割合を５０質量％以下にすることは、レジストパターンの高解像性及びスソ形状の観点から、更にはレジストパターンの耐薬品性の観点から好ましく、これらの観点においては、３５質量％以下がより好ましく、３０質量％以下が更に好ましく、２７質量％以下が特に好ましい。
第二の単量体は、非酸性であり、かつ分子中に重合性不飽和基を少なくとも１個有する単量体である。第二の単量体としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ－プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ｎ－ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ－ブチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２－ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート類；酢酸ビニル等のビニルアルコールのエステル類；並びに（メタ）アクリロニトリル等が挙げられる。中でも、メチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート、及びｎ－ブチル（メタ）アクリレートが好ましく、メチル（メタ）アクリレートが特に好ましい。
重合体Ａにおける第二の単量体の含有割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、５質量％～６０質量％であることが好ましく、１５質量％～５０質量％であることがより好ましく、２０質量％～４５質量％であることが更に好ましい。
重合体Ａにおける第二の単量体の含有割合は、全単量体成分の合計質量を基準として、５質量％～６０質量％であることが好ましく、１５質量％～５０質量％であることがより好ましく、２０質量％～４５質量％であることが更に好ましい。
アラルキル基を有する単量体、及び／又はスチレンを単量体として含有することが、露光時の焦点位置がずれたときの線幅太りや解像度の悪化を抑制する観点から好ましい。例えば、メタクリル酸とベンジルメタクリレートとスチレンを含む共重合体、メタクリル酸とメチルメタクリレートとベンジルメタクリレートとスチレンを含む共重合体等が好ましい。
一態様において、重合体Ａは、芳香族炭化水素基を有する単量体成分を２５質量％～４０質量％、第一の単量体成分を２０質量％～３５質量％、第二の単量体成分を３０質量％～４５質量％含む重合体であることが好ましい。また、別の態様において、芳香族炭化水素基を有する単量体成分を７０質量％～９０質量％、第一の単量体成分を１０質量％～２５質量％含む重合体であることが好ましい。
一態様において、重合体Ａは、芳香族炭化水素基を有する単量体成分を２５質量％～４０質量％、第一の単量体成分を２０質量％～３５質量％、第二の単量体成分を３０質量％～４５質量％含む重合体であることが好ましい。また、別の態様において、芳香族炭化水素基を有する単量体成分を７０質量％～９０質量％、第一の単量体成分を１０質量％～２５質量％含む重合体であることが好ましい。
重合体Ａは、側鎖に分岐構造や脂環構造を有してもよい。側鎖に分岐構造を有する基を含有するモノマー、又は側鎖に脂環構造を有する基を含有するモノマーを使用することによって、重合体Ａの側鎖に分岐構造や脂環構造を導入することができる。
側鎖に分岐構造を有する基を含有するモノマーの具体例としては、例えば（メタ）アクリル酸ｉ－プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｓ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ－アミル、（メタ）アクリル酸ｔ－アミル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ－ｉｓｏ－アミル、（メタ）アクリル酸２－オクチル、（メタ）アクリル酸３－オクチル、（メタ）アクリル酸ｔ－オクチル等が挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリル酸ｉ－プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ－ブチル、又は、メタクリル酸ｔ－ブチルが好ましく、メタクリル酸ｉ－プロピル、又は、メタクリル酸ｔ－ブチルがより好ましい。
側鎖に脂環構造を有する基を含有するモノマーとしては、単環の脂肪族炭化水素基を有するモノマー、多環の脂肪族炭化水素基を有するモノマーが挙げられ、炭素数（炭素原子数）５～２０個の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレートが挙げられる。より具体的な例としては、例えば（メタ）アクリル酸（ビシクロ［２．２．１］ヘプチル－２）、（メタ）アクリル酸－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－メチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５－ジメチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－エチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－メチル－５－エチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５，８－トリエチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５－ジメチル－８－エチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸２－メチル－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸２－エチル－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸３－ヒドロキシ－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ－４，７－メンタノインデン－５－イル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ－４，７－メンタノインデン－１－イルメチル、（メタ）アクリル酸－１－メンチル、（メタ）アクリル酸トリシクロデカン、（メタ）アクリル酸－３－ヒドロキシ－２，６，６－トリメチル－ビシクロ［３．１．１］ヘプチル、（メタ）アクリル酸－３，７，７－トリメチル－４－ヒドロキシビシクロ［４．１．０］ヘプチル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸フェンチル、（メタ）アクリル酸－２，２，５－トリメチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等が挙げられる。これら（メタ）アクリル酸エステルの中でも、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸フェンチル、（メタ）アクリル酸１－メンチル、又は、（メタ）アクリル酸トリシクロデカンが好ましく、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸－２－アダマンチル、又は、（メタ）アクリル酸トリシクロデカンが特に好ましい。
側鎖に分岐構造を有する基を含有するモノマーの具体例としては、例えば（メタ）アクリル酸ｉ－プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｓ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ－ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ－アミル、（メタ）アクリル酸ｔ－アミル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ－ｉｓｏ－アミル、（メタ）アクリル酸２－オクチル、（メタ）アクリル酸３－オクチル、（メタ）アクリル酸ｔ－オクチル等が挙げられる。これらの中でも、（メタ）アクリル酸ｉ－プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ－ブチル、又は、メタクリル酸ｔ－ブチルが好ましく、メタクリル酸ｉ－プロピル、又は、メタクリル酸ｔ－ブチルがより好ましい。
側鎖に脂環構造を有する基を含有するモノマーとしては、単環の脂肪族炭化水素基を有するモノマー、多環の脂肪族炭化水素基を有するモノマーが挙げられ、炭素数（炭素原子数）５～２０個の脂環式炭化水素基を有する（メタ）アクリレートが挙げられる。より具体的な例としては、例えば（メタ）アクリル酸（ビシクロ［２．２．１］ヘプチル－２）、（メタ）アクリル酸－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－メチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５－ジメチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－エチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸－３－メチル－５－エチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５，８－トリエチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－３，５－ジメチル－８－エチル－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸２－メチル－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸２－エチル－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸３－ヒドロキシ－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ－４，７－メンタノインデン－５－イル、（メタ）アクリル酸オクタヒドロ－４，７－メンタノインデン－１－イルメチル、（メタ）アクリル酸－１－メンチル、（メタ）アクリル酸トリシクロデカン、（メタ）アクリル酸－３－ヒドロキシ－２，６，６－トリメチル－ビシクロ［３．１．１］ヘプチル、（メタ）アクリル酸－３，７，７－トリメチル－４－ヒドロキシビシクロ［４．１．０］ヘプチル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸フェンチル、（メタ）アクリル酸－２，２，５－トリメチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル等が挙げられる。これら（メタ）アクリル酸エステルの中でも、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸－１－アダマンチル、（メタ）アクリル酸－２－アダマンチル、（メタ）アクリル酸フェンチル、（メタ）アクリル酸１－メンチル、又は、（メタ）アクリル酸トリシクロデカンが好ましく、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸（ノル）ボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸－２－アダマンチル、又は、（メタ）アクリル酸トリシクロデカンが特に好ましい。
重合体Ａは、１種単独で使用することができ、或いは２種以上を混合して使用してもよい。２種以上を混合して使用する場合には、芳香族炭化水素基を有する単量体成分を含む重合体Ａを２種類混合使用すること、又は芳香族炭化水素基を有する単量体成分を含む重合体Ａと、芳香族炭化水素基を有する単量体成分を含まない重合体Ａと、を混合使用することが好ましい。後者の場合、芳香族炭化水素基を有する単量体成分を含む重合体Ａの使用割合は、重合体Ａの全部に対して、５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましく、８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましい。
重合体Ａの合成は、上記で説明された単数又は複数の単量体を、アセトン、メチルエチルケトン、イソプロパノール等の溶剤で希釈した溶液に、過酸化ベンゾイル、アゾイソブチロニトリル等のラジカル重合開始剤を適量添加し、加熱撹拌することにより行われることが好ましい。混合物の一部を反応液に滴下しながら合成を行う場合もある。反応終了後、さらに溶剤を加えて、所望の濃度に調整する場合もある。合成手段としては、溶液重合以外に、塊状重合、懸濁重合、又は乳化重合を用いてもよい。
重合体Ａのガラス転移温度Ｔｇは、３０℃以上１３５℃以下であることが好ましい。感光性層において、１３５℃以下のＴｇを有する重合体Ａを使用することによって、露光時の焦点位置がずれたときの線幅太りや解像度の悪化を抑制することができる。この観点から、重合体ＡのＴｇは、１３０℃以下であることがより好ましく、１２０℃以下であることが更に好ましく、１１０℃以下であることが特に好ましい。また、３０℃以上のＴｇを有する重合体Ａを使用することは、耐エッジフューズ性を向上させる観点から好ましい。この観点から、重合体ＡのＴｇは、４０℃以上であることがより好ましく、５０℃以上であることが更に好ましく、６０℃以上であることが特に好ましく、７０℃以上であることが最も好ましい。
感光性層は、アルカリ可溶性樹脂以外の樹脂を含有してもよい。
アルカリ可溶性樹脂以外の樹脂としては、アクリル樹脂、スチレン－アクリル共重合体（但し、スチレン含有率が４０質量％以下であるもの）、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリシロキサン樹脂、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、及び、ポリアルキレングリコールが挙げられる。
アルカリ可溶性樹脂以外の樹脂としては、アクリル樹脂、スチレン－アクリル共重合体（但し、スチレン含有率が４０質量％以下であるもの）、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリシロキサン樹脂、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、及び、ポリアルキレングリコールが挙げられる。
アルカリ可溶性樹脂は、１種単独で使用することができ、或いは２種以上を混合して使用してもよい。
アルカリ可溶性樹脂の、感光性層の全質量に対する割合は、好ましくは１０質量％～９０質量％の範囲であり、より好ましくは３０質量％～７０質量％であり、更に好ましくは４０質量％～６０質量％である。感光性層に対するアルカリ可溶性樹脂の割合を９０質量％以下にすることは、現像時間を制御する観点から好ましい。一方で、感光性層に対するアルカリ可溶性樹脂の割合を１０質量％以上にすることは、耐エッジフューズ性を向上させる観点から好ましい。
アルカリ可溶性樹脂の、感光性層の全質量に対する割合は、好ましくは１０質量％～９０質量％の範囲であり、より好ましくは３０質量％～７０質量％であり、更に好ましくは４０質量％～６０質量％である。感光性層に対するアルカリ可溶性樹脂の割合を９０質量％以下にすることは、現像時間を制御する観点から好ましい。一方で、感光性層に対するアルカリ可溶性樹脂の割合を１０質量％以上にすることは、耐エッジフューズ性を向上させる観点から好ましい。
＜色素＞
感光性層は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、色素を含有することが好ましく、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、かつ、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素（単に「色素Ｎ」ともいう。）を含有することがより好ましい。色素Ｎを含有すると、詳細なメカニズムは不明であるが、隣接する層（例えば仮支持体及び第１樹脂層）との密着性が向上し、解像性により優れる。
感光性層は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、色素を含有することが好ましく、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、かつ、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素（単に「色素Ｎ」ともいう。）を含有することがより好ましい。色素Ｎを含有すると、詳細なメカニズムは不明であるが、隣接する層（例えば仮支持体及び第１樹脂層）との密着性が向上し、解像性により優れる。
本明細書において、色素が「酸、塩基又はラジカルにより極大吸収波長が変化する」とは、発色状態にある色素が酸、塩基又はラジカルにより消色する態様、消色状態にある色素が酸、塩基又はラジカルにより発色する態様、及び、発色状態にある色素が他の色相の発色状態に変化する態様のいずれの態様を意味してもよい。
具体的には、色素Ｎは、露光により消色状態から変化して発色する化合物であってもよいし、露光により発色状態から変化して消色する化合物であってもよい。この場合、露光により酸、塩基又はラジカルが感光性層内において発生し作用することにより、発色又は消色の状態が変化する色素でもよく、酸、塩基又はラジカルにより感光性層内の状態（例えばｐＨ）が変化することで発色又は消色の状態が変化する色素でもよい。また、露光を介さずに、酸、塩基又はラジカルを刺激として直接受けて発色又は消色の状態が変化する色素でもよい。
具体的には、色素Ｎは、露光により消色状態から変化して発色する化合物であってもよいし、露光により発色状態から変化して消色する化合物であってもよい。この場合、露光により酸、塩基又はラジカルが感光性層内において発生し作用することにより、発色又は消色の状態が変化する色素でもよく、酸、塩基又はラジカルにより感光性層内の状態（例えばｐＨ）が変化することで発色又は消色の状態が変化する色素でもよい。また、露光を介さずに、酸、塩基又はラジカルを刺激として直接受けて発色又は消色の状態が変化する色素でもよい。
中でも、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の観点から、色素Ｎは、酸又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素が好ましく、ラジカルにより最大吸収波長が変化する色素がより好ましい。
感光性層は、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の観点から、色素Ｎとしてラジカルにより最大吸収波長が変化する色素、及び、光ラジカル重合開始剤の両者を含有することが好ましい。
また、露光部及び非露光部の視認性の観点から、色素Ｎは、酸、塩基、又はラジカルにより発色する色素であることが好ましい。
感光性層は、露光部及び非露光部の視認性並びに解像性の観点から、色素Ｎとしてラジカルにより最大吸収波長が変化する色素、及び、光ラジカル重合開始剤の両者を含有することが好ましい。
また、露光部及び非露光部の視認性の観点から、色素Ｎは、酸、塩基、又はラジカルにより発色する色素であることが好ましい。
本開示における色素Ｎの発色機構の例としては、感光性層に光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤（光酸発生剤）又は光塩基発生剤を添加して、露光後に光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤又は光塩基発生剤から発生するラジカル、酸又は塩基によって、ラジカル反応性色素、酸反応性色素又は塩基反応性色素（例えばロイコ色素）が発色する態様が挙げられる。
色素Ｎは、露光部及び非露光部の視認性の観点から、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける極大吸収波長が、５５０ｎｍ以上であることが好ましく、５５０ｎｍ～７００ｎｍであることがより好ましく、５５０ｎｍ～６５０ｎｍであることが更に好ましい。
また、色素Ｎは、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける極大吸収波長を１つのみ有していてもよく、２つ以上有していてもよい。色素Ｎが発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける極大吸収波長を２つ以上有する場合は、２つ以上の極大吸収波長のうち吸光度が最も高い極大吸収波長が４５０ｎｍ以上であればよい。
また、色素Ｎは、発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける極大吸収波長を１つのみ有していてもよく、２つ以上有していてもよい。色素Ｎが発色時の波長範囲４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける極大吸収波長を２つ以上有する場合は、２つ以上の極大吸収波長のうち吸光度が最も高い極大吸収波長が４５０ｎｍ以上であればよい。
色素Ｎの極大吸収波長は、大気雰囲気下で、分光光度計：ＵＶ３１００（（株）島津製作所製）を用いて、４００ｎｍ～７８０ｎｍの範囲で色素Ｎを含有する溶液（液温２５℃）の透過スペクトルを測定し、光の強度が極小となる波長（極大吸収波長）を検出することにより、得られる。
露光により発色又は消色する色素としては、例えば、ロイコ化合物が挙げられる。
露光により消色する色素としては、例えば、ロイコ化合物、ジアリールメタン系色素、オキザジン系色素、キサンテン系色素、イミノナフトキノン系色素、アゾメチン系色素及びアントラキノン系色素が挙げられる。
色素Ｎとしては、露光部及び非露光部の視認性の観点から、ロイコ化合物が好ましい。
露光により消色する色素としては、例えば、ロイコ化合物、ジアリールメタン系色素、オキザジン系色素、キサンテン系色素、イミノナフトキノン系色素、アゾメチン系色素及びアントラキノン系色素が挙げられる。
色素Ｎとしては、露光部及び非露光部の視認性の観点から、ロイコ化合物が好ましい。
ロイコ化合物としては、例えば、トリアリールメタン骨格を有するロイコ化合物（トリアリールメタン系色素）、スピロピラン骨格を有するロイコ化合物（スピロピラン系色素）、フルオラン骨格を有するロイコ化合物（フルオラン系色素）、ジアリールメタン骨格を有するロイコ化合物（ジアリールメタン系色素）、ローダミンラクタム骨格を有するロイコ化合物（ローダミンラクタム系色素）、インドリルフタリド骨格を有するロイコ化合物（インドリルフタリド系色素）、及び、ロイコオーラミン骨格を有するロイコ化合物（ロイコオーラミン系色素）が挙げられる。
中でも、トリアリールメタン系色素又はフルオラン系色素が好ましく、トリフェニルメタン骨格を有するロイコ化合物（トリフェニルメタン系色素）又はフルオラン系色素がより好ましい。
中でも、トリアリールメタン系色素又はフルオラン系色素が好ましく、トリフェニルメタン骨格を有するロイコ化合物（トリフェニルメタン系色素）又はフルオラン系色素がより好ましい。
ロイコ化合物としては、露光部及び非露光部の視認性の観点から、ラクトン環、スルチン環又はスルトン環を有することが好ましい。これにより、ロイコ化合物が有するラクトン環、スルチン環又はスルトン環を、光ラジカル重合開始剤から発生するラジカル又は光カチオン重合開始剤から発生する酸と反応させて、ロイコ化合物を閉環状態に変化させて消色させるか、又は、ロイコ化合物を開環状態に変化させて発色させることができる。ロイコ化合物としては、ラクトン環、スルチン環又はスルトン環を有し、ラジカル又は酸によりラクトン環、スルチン環又はスルトン環が開環して発色する化合物が好ましく、ラクトン環を有し、ラジカル又は酸によりラクトン環が開環して発色する化合物がより好ましい。
色素Ｎとしては、例えば、以下の染料及びロイコ化合物が挙げられる。
色素Ｎのうち染料の具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α－ナフチルレッド、ナイルブルー２Ｂ、ナイルブルーＡ、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ（保土谷化学工業（株）製）、オイルブルー＃６０３（オリヱント化学工業（株）製）、オイルピンク＃３１２（オリヱント化学工業（株）製）、オイルレッド５Ｂ（オリヱント化学工業（株）製）、オイルスカーレット＃３０８（オリヱント化学工業（株）製）、オイルレッドＯＧ（オリヱント化学工業（株）製）、オイルレッドＲＲ（オリヱント化学工業（株）製）、オイルグリーン＃５０２（オリヱント化学工業（株）製）、スピロンレッドＢＥＨスペシャル（保土谷化学工業（株）製）、ｍ－クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、スルホローダミンＢ、オーラミン、４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２－カルボキシアニリノ－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２－カルボキシステアリルアミノ－４－ｐ－Ｎ，Ｎ－ビス（ヒドロキシエチル）アミノ－フェニルイミノナフトキノン、１－フェニル－３－メチル－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノ－５－ピラゾロン、及び、１－β－ナフチル－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノ－５－ピラゾロンが挙げられる。
色素Ｎのうち染料の具体例としては、ブリリアントグリーン、エチルバイオレット、メチルグリーン、クリスタルバイオレット、ベイシックフクシン、メチルバイオレット２Ｂ、キナルジンレッド、ローズベンガル、メタニルイエロー、チモールスルホフタレイン、キシレノールブルー、メチルオレンジ、パラメチルレッド、コンゴーフレッド、ベンゾプルプリン４Ｂ、α－ナフチルレッド、ナイルブルー２Ｂ、ナイルブルーＡ、メチルバイオレット、マラカイトグリーン、パラフクシン、ビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ（保土谷化学工業（株）製）、オイルブルー＃６０３（オリヱント化学工業（株）製）、オイルピンク＃３１２（オリヱント化学工業（株）製）、オイルレッド５Ｂ（オリヱント化学工業（株）製）、オイルスカーレット＃３０８（オリヱント化学工業（株）製）、オイルレッドＯＧ（オリヱント化学工業（株）製）、オイルレッドＲＲ（オリヱント化学工業（株）製）、オイルグリーン＃５０２（オリヱント化学工業（株）製）、スピロンレッドＢＥＨスペシャル（保土谷化学工業（株）製）、ｍ－クレゾールパープル、クレゾールレッド、ローダミンＢ、ローダミン６Ｇ、スルホローダミンＢ、オーラミン、４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２－カルボキシアニリノ－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノナフトキノン、２－カルボキシステアリルアミノ－４－ｐ－Ｎ，Ｎ－ビス（ヒドロキシエチル）アミノ－フェニルイミノナフトキノン、１－フェニル－３－メチル－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノ－５－ピラゾロン、及び、１－β－ナフチル－４－ｐ－ジエチルアミノフェニルイミノ－５－ピラゾロンが挙げられる。
色素Ｎのうちロイコ化合物の具体例としては、ｐ，ｐ’，ｐ”－ヘキサメチルトリアミノトリフェニルメタン（ロイコクリスタルバイオレット）、Ｐｅｒｇａｓｃｒｉｐｔ Ｂｌｕｅ ＳＲＢ（チバガイギー社製）、クリスタルバイオレットラクトン、マラカイトグリーンラクトン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、２－（Ｎ－フェニル－Ｎ－メチルアミノ）－６－（Ｎ－ｐ－トリル－Ｎ－エチル）アミノフルオラン、２－アニリノ－３－メチル－６－（Ｎ－エチル－ｐ－トルイジノ）フルオラン、３，６－ジメトキシフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－５－メチル－７－（Ｎ，Ｎ－ジベンジルアミノ）フルオラン、３－（Ｎ－シクロヘキシル－Ｎ－メチルアミノ）－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メチル－７－キシリジノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メチル－７－クロロフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－６－メトキシ－７－アミノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７－（４－クロロアニリノ）フルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７－クロロフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７－ベンジルアミノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジエチルアミノ）－７，８－ベンゾフロオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－（Ｎ，Ｎ－ジブチルアミノ）－６－メチル－７－キシリジノフルオラン、３－ピペリジノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３－ピロリジノ－６－メチル－７－アニリノフルオラン、３，３－ビス（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）フタリド、３，３－ビス（１－ｎ－ブチル－２－メチルインドール－３－イル）フタリド、３，３－ビス（ｐ－ジメチルアミノフェニル）－６－ジメチルアミノフタリド、３－（４－ジエチルアミノ－２－エトキシフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）－４－ザフタリド、３－（４－ジエチルアミノフェニル）－３－（１－エチル－２－メチルインドール－３－イル）フタリド、及び、３’，６’－ビス（ジフェニルアミノ）スピロイソベンゾフラン－１（３Ｈ），９’－［９Ｈ］キサンテン－３－オンが挙げられる。
色素Ｎは、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、ラジカルにより最大吸収波長が変化する色素であることが好ましく、ラジカルにより発色する色素であることがより好ましい。
色素Ｎとしては、ロイコクリスタルバイオレット、クリスタルバイオレットラクトン、ブリリアントグリーン、又は、ビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩が好ましい。
色素Ｎとしては、ロイコクリスタルバイオレット、クリスタルバイオレットラクトン、ブリリアントグリーン、又は、ビクトリアピュアブルー－ナフタレンスルホン酸塩が好ましい。
色素は、１種単独で使用しても、２種以上を使用してもよい。
色素の含有量は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、感光性層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．１質量％～１０質量％がより好ましく、０．１質量％～５質量％が更に好ましく、０．１質量％～１質量％が特に好ましい。
また、色素Ｎの含有量は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、感光性層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．１質量％～１０質量％がより好ましく、０．１質量％～５質量％が更に好ましく、０．１質量％～１質量％が特に好ましい。
色素の含有量は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、感光性層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．１質量％～１０質量％がより好ましく、０．１質量％～５質量％が更に好ましく、０．１質量％～１質量％が特に好ましい。
また、色素Ｎの含有量は、露光部及び非露光部の視認性、現像後のパターン視認性、及び、解像性の観点から、感光性層の全質量に対し、０．１質量％以上が好ましく、０．１質量％～１０質量％がより好ましく、０．１質量％～５質量％が更に好ましく、０．１質量％～１質量％が特に好ましい。
色素Ｎの含有量は、感光性層に含まれる色素Ｎの全てを発色状態にした場合の色素の含有量を意味する。以下に、ラジカルにより発色する色素を例に、色素Ｎの含有量の定量方法を説明する。
メチルエチルケトン１００ｍＬに、色素０．００１ｇ又は０．０１ｇを溶かした２種類の溶液を調製する。得られた各溶液に、光ラジカル重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０１（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社）を加え、３６５ｎｍの光を照射することによりラジカルを発生させ、全ての色素を発色状態にする。その後、大気雰囲気下で、分光光度計（ＵＶ３１００、（株）島津製作所製）を用いて、液温が２５℃である各溶液の吸光度を測定し、検量線を作成する。
次に、色素に代えて感光性層３ｇをメチルエチルケトンに溶かすこと以外は上記と同様の方法で、色素を全て発色させた溶液の吸光度を測定する。得られた感光性層を含有する溶液の吸光度から、検量線に基づいて感光性層に含まれる色素の含有量を算出する。
メチルエチルケトン１００ｍＬに、色素０．００１ｇ又は０．０１ｇを溶かした２種類の溶液を調製する。得られた各溶液に、光ラジカル重合開始剤Ｉｒｇａｃｕｒｅ ＯＸＥ０１（商品名、ＢＡＳＦジャパン株式会社）を加え、３６５ｎｍの光を照射することによりラジカルを発生させ、全ての色素を発色状態にする。その後、大気雰囲気下で、分光光度計（ＵＶ３１００、（株）島津製作所製）を用いて、液温が２５℃である各溶液の吸光度を測定し、検量線を作成する。
次に、色素に代えて感光性層３ｇをメチルエチルケトンに溶かすこと以外は上記と同様の方法で、色素を全て発色させた溶液の吸光度を測定する。得られた感光性層を含有する溶液の吸光度から、検量線に基づいて感光性層に含まれる色素の含有量を算出する。
＜熱架橋性化合物＞
感光性層は、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、熱架橋性化合物を含むことが好ましい。なお、本明細書においては、後述するエチレン性不飽和基を有する熱架橋性化合物は、重合性化合物としては扱わず、熱架橋性化合物として扱うものとする。
熱架橋性化合物としては、メチロール化合物、及びブロックイソシアネート化合物が挙げられる。中でも、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、ブロックイソシアネート化合物が好ましい。
ブロックイソシアネート化合物は、ヒドロキシ基及びカルボキシ基と反応するため、例えば、樹脂及び／又は重合性化合物等が、ヒドロキシ基及びカルボキシ基の少なくとも一方を有する場合には、形成される膜の親水性が下がり、感光性層を硬化した膜を保護膜として使用する場合の機能が強化される傾向がある。
なお、ブロックイソシアネート化合物とは、「イソシアネートのイソシアネート基をブロック剤で保護（いわゆる、マスク）した構造を有する化合物」を指す。
感光性層は、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、熱架橋性化合物を含むことが好ましい。なお、本明細書においては、後述するエチレン性不飽和基を有する熱架橋性化合物は、重合性化合物としては扱わず、熱架橋性化合物として扱うものとする。
熱架橋性化合物としては、メチロール化合物、及びブロックイソシアネート化合物が挙げられる。中でも、得られる硬化膜の強度、及び、得られる未硬化膜の粘着性の観点から、ブロックイソシアネート化合物が好ましい。
ブロックイソシアネート化合物は、ヒドロキシ基及びカルボキシ基と反応するため、例えば、樹脂及び／又は重合性化合物等が、ヒドロキシ基及びカルボキシ基の少なくとも一方を有する場合には、形成される膜の親水性が下がり、感光性層を硬化した膜を保護膜として使用する場合の機能が強化される傾向がある。
なお、ブロックイソシアネート化合物とは、「イソシアネートのイソシアネート基をブロック剤で保護（いわゆる、マスク）した構造を有する化合物」を指す。
ブロックイソシアネート化合物の解離温度は、特に制限されないが、１００℃～１６０℃が好ましく、１３０℃～１５０℃がより好ましい。
ブロックイソシアネートの解離温度とは、「示差走査熱量計を用いて、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ ｓｃａｎｎｉｎｇ ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）分析にて測定した場合における、ブロックイソシアネートの脱保護反応に伴う吸熱ピークの温度」を意味する。
示差走査熱量計としては、例えば、セイコーインスツルメンツ（株）製の示差走査熱量計（型式：ＤＳＣ６２００）を好適に使用できる。但し、示差走査熱量計は、これに限定されない。
ブロックイソシアネートの解離温度とは、「示差走査熱量計を用いて、ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ ｓｃａｎｎｉｎｇ ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）分析にて測定した場合における、ブロックイソシアネートの脱保護反応に伴う吸熱ピークの温度」を意味する。
示差走査熱量計としては、例えば、セイコーインスツルメンツ（株）製の示差走査熱量計（型式：ＤＳＣ６２００）を好適に使用できる。但し、示差走査熱量計は、これに限定されない。
解離温度が１００℃～１６０℃であるブロック剤としては、活性メチレン化合物〔マロン酸ジエステル（マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル、マロン酸ジｎ－ブチル、マロン酸ジ２－エチルヘキシル等）〕、オキシム化合物（ホルムアルドオキシム、アセトアルドオキシム、アセトオキシム、メチルエチルケトオキシム、及びシクロヘキサノンオキシム等の分子内に－Ｃ（＝Ｎ－ＯＨ）－で表される構造を有する化合物）が挙げられる。
これらの中でも、解離温度が１００℃～１６０℃であるブロック剤としては、例えば、保存安定性の観点から、オキシム化合物を含むことが好ましい。
これらの中でも、解離温度が１００℃～１６０℃であるブロック剤としては、例えば、保存安定性の観点から、オキシム化合物を含むことが好ましい。
ブロックイソシアネート化合物は、例えば、膜の脆性改良、被転写体との密着力向上等の観点から、イソシアヌレート構造を有することが好ましい。
イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物は、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートをイソシアヌレート化して保護することにより得られる。
イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物の中でも、オキシム化合物をブロック剤として用いたオキシム構造を有する化合物が、オキシム構造を有さない化合物よりも解離温度を好ましい範囲にしやすく、且つ、現像残渣を少なくしやすいという観点から好ましい。
イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物は、例えば、ヘキサメチレンジイソシアネートをイソシアヌレート化して保護することにより得られる。
イソシアヌレート構造を有するブロックイソシアネート化合物の中でも、オキシム化合物をブロック剤として用いたオキシム構造を有する化合物が、オキシム構造を有さない化合物よりも解離温度を好ましい範囲にしやすく、且つ、現像残渣を少なくしやすいという観点から好ましい。
ブロックイソシアネート化合物は、重合性基を有していてもよい。
重合性基としては、特に制限はなく、公知の重合性基を用いることができ、ラジカル重合性基が好ましい。
重合性基としては、（メタ）アクリロキシ基、（メタ）アクリルアミド基及びスチリル基等のエチレン性不飽和基、並びに、グリシジル基等のエポキシ基を有する基が挙げられる。
中でも、重合性基としては、エチレン性不飽和基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましく、アクリロキシ基が更に好ましい。
重合性基としては、特に制限はなく、公知の重合性基を用いることができ、ラジカル重合性基が好ましい。
重合性基としては、（メタ）アクリロキシ基、（メタ）アクリルアミド基及びスチリル基等のエチレン性不飽和基、並びに、グリシジル基等のエポキシ基を有する基が挙げられる。
中でも、重合性基としては、エチレン性不飽和基が好ましく、（メタ）アクリロキシ基がより好ましく、アクリロキシ基が更に好ましい。
ブロックイソシアネート化合物としては、市販品を使用できる。
ブロックイソシアネート化合物の市販品の例としては、カレンズ（登録商標） ＡＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標） ＭＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標） ＭＯＩ－ＢＰ等（以上、昭和電工（株）製）、ブロック型のデュラネートシリーズ（例えば、デュラネート（登録商標） ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、デュラネート（登録商標） ＷＴ３２－Ｂ７５Ｐ等、旭化成ケミカルズ（株）製）が挙げられる。
また、ブロックイソシアネート化合物として、下記の構造の化合物を用いることもできる。
ブロックイソシアネート化合物の市販品の例としては、カレンズ（登録商標） ＡＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標） ＭＯＩ－ＢＭ、カレンズ（登録商標） ＭＯＩ－ＢＰ等（以上、昭和電工（株）製）、ブロック型のデュラネートシリーズ（例えば、デュラネート（登録商標） ＴＰＡ－Ｂ８０Ｅ、デュラネート（登録商標） ＷＴ３２－Ｂ７５Ｐ等、旭化成ケミカルズ（株）製）が挙げられる。
また、ブロックイソシアネート化合物として、下記の構造の化合物を用いることもできる。
熱架橋性化合物は、１種単独で使用してもよく、２種以上使用してもよい。
感光性層が熱架橋性化合物を含む場合、熱架橋性化合物の含有量は、感光性層の全質量に対して、１質量％～５０質量％が好ましく、５質量％～３０質量％がより好ましい。
感光性層が熱架橋性化合物を含む場合、熱架橋性化合物の含有量は、感光性層の全質量に対して、１質量％～５０質量％が好ましく、５質量％～３０質量％がより好ましい。
＜その他の成分＞
感光性層は、上述したアルカリ可溶性樹脂、重合開始剤、重合性化合物、色素、及び、熱架橋性化合物以外の成分を含有してもよい。
感光性層は、上述したアルカリ可溶性樹脂、重合開始剤、重合性化合物、色素、及び、熱架橋性化合物以外の成分を含有してもよい。
－界面活性剤－
感光性層は、厚さ均一性の観点から、界面活性剤を含有することが好ましい。
界面活性剤としては、例えば、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性（非イオン性）界面活性剤、及び、両性界面活性剤が挙げられ、ノニオン性界面活性剤が好ましい。
界面活性剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、及び、特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～００７１に記載の界面活性剤が挙げられる。
感光性層は、厚さ均一性の観点から、界面活性剤を含有することが好ましい。
界面活性剤としては、例えば、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、ノニオン性（非イオン性）界面活性剤、及び、両性界面活性剤が挙げられ、ノニオン性界面活性剤が好ましい。
界面活性剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１７、及び、特開２００９－２３７３６２号公報の段落００６０～００７１に記載の界面活性剤が挙げられる。
界面活性剤としては、フッ素系界面活性剤又はシリコーン系界面活性剤が好ましい。
フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファック（商品名）Ｆ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４４４、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５１－Ａ、Ｆ－５５２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６５、Ｆ－５６３、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ.ＭＦＳ－３３０、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５７８、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５７８－２、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５７９、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５８６、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５８７、ＥＸＰ．ＭＦＳ－６２８、ＥＸＰ．ＭＦＳ－６３１、ＥＸＰ．ＭＦＳ－６０３、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラード（商品名）ＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロン（商品名）Ｓ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ（商品名）ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント（商品名）７１０ＦＬ、７１０ＦＭ、６１０ＦＭ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、２１５Ｍ、２４５Ｆ２５１、２１２Ｍ、２５０、２０９Ｆ、２２２Ｆ、２０８Ｇ、７１０ＬＡ、７１０ＦＳ、７３０ＬＭ、６５０ＡＣ、６８１、６８３（以上、（株）ＮＥＯＳ製）、Ｕ－１２０Ｅ（ユニケム株式会社）等が挙げられる。
また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファック（商品名）ＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えばメガファック（商品名）ＤＳ－２１が挙げられる。
フッ素系界面活性剤の市販品としては、例えば、メガファック（商品名）Ｆ－１７１、Ｆ－１７２、Ｆ－１７３、Ｆ－１７６、Ｆ－１７７、Ｆ－１４１、Ｆ－１４２、Ｆ－１４３、Ｆ－１４４、Ｆ－４３７、Ｆ－４４４、Ｆ－４７５、Ｆ－４７７、Ｆ－４７９、Ｆ－４８２、Ｆ－５５１－Ａ、Ｆ－５５２、Ｆ－５５４、Ｆ－５５５－Ａ、Ｆ－５５６、Ｆ－５５７、Ｆ－５５８、Ｆ－５５９、Ｆ－５６０、Ｆ－５６１、Ｆ－５６５、Ｆ－５６３、Ｆ－５６８、Ｆ－５７５、Ｆ－７８０、ＥＸＰ.ＭＦＳ－３３０、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５７８、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５７８－２、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５７９、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５８６、ＥＸＰ．ＭＦＳ－５８７、ＥＸＰ．ＭＦＳ－６２８、ＥＸＰ．ＭＦＳ－６３１、ＥＸＰ．ＭＦＳ－６０３、Ｒ－４１、Ｒ－４１－ＬＭ、Ｒ－０１、Ｒ－４０、Ｒ－４０－ＬＭ、ＲＳ－４３、ＴＦ－１９５６、ＲＳ－９０、Ｒ－９４、ＲＳ－７２－Ｋ、ＤＳ－２１（以上、ＤＩＣ（株）製）、フロラード（商品名）ＦＣ４３０、ＦＣ４３１、ＦＣ１７１（以上、住友スリーエム（株）製）、サーフロン（商品名）Ｓ－３８２、ＳＣ－１０１、ＳＣ－１０３、ＳＣ－１０４、ＳＣ－１０５、ＳＣ－１０６８、ＳＣ－３８１、ＳＣ－３８３、Ｓ－３９３、ＫＨ－４０（以上、ＡＧＣ（株）製）、ＰｏｌｙＦｏｘ（商品名）ＰＦ６３６、ＰＦ６５６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ７００２（以上、ＯＭＮＯＶＡ社製）、フタージェント（商品名）７１０ＦＬ、７１０ＦＭ、６１０ＦＭ、６０１ＡＤ、６０１ＡＤＨ２、６０２Ａ、２１５Ｍ、２４５Ｆ２５１、２１２Ｍ、２５０、２０９Ｆ、２２２Ｆ、２０８Ｇ、７１０ＬＡ、７１０ＦＳ、７３０ＬＭ、６５０ＡＣ、６８１、６８３（以上、（株）ＮＥＯＳ製）、Ｕ－１２０Ｅ（ユニケム株式会社）等が挙げられる。
また、フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を含有する官能基を持つ分子構造を有し、熱を加えるとフッ素原子を含有する官能基の部分が切断されてフッ素原子が揮発するアクリル系化合物も好適に使用できる。このようなフッ素系界面活性剤としては、ＤＩＣ（株）製のメガファック（商品名）ＤＳシリーズ（化学工業日報（２０１６年２月２２日）、日経産業新聞（２０１６年２月２３日））、例えばメガファック（商品名）ＤＳ－２１が挙げられる。
また、フッ素系界面活性剤は、フッ素化アルキル基又はフッ素化アルキレンエーテル基を有するフッ素原子含有ビニルエーテル化合物と、親水性のビニルエーテル化合物との重合体を用いることも好ましい。
フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する構成単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する構成単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。
フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。メガファック（商品名）ＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ（以上、ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。
フッ素系界面活性剤は、ブロックポリマーを用いることもできる。フッ素系界面活性剤は、フッ素原子を有する（メタ）アクリレート化合物に由来する構成単位と、アルキレンオキシ基（好ましくはエチレンオキシ基、プロピレンオキシ基）を２以上（好ましくは５以上）有する（メタ）アクリレート化合物に由来する構成単位と、を含む含フッ素高分子化合物も好ましく用いることができる。
フッ素系界面活性剤は、エチレン性不飽和基を側鎖に有する含フッ素重合体を用いることもできる。メガファック（商品名）ＲＳ－１０１、ＲＳ－１０２、ＲＳ－７１８Ｋ、ＲＳ－７２－Ｋ（以上、ＤＩＣ（株）製）等が挙げられる。
ノニオン系界面活性剤としては、グリセロール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン並びにそれらのエトキシレート及びプロポキシレート（例えば、グリセロールプロポキシレート、グリセロールエトキシレート等）、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート、ソルビタン脂肪酸エステル、等が挙げられる。
具体例としては、プルロニック（商品名）Ｌ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（以上、ＢＡＳＦ社製）、テトロニック（商品名）３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１、ＨＹＤＲＯＰＡＬＡＴ ＷＥ ３３２３（以上、ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース（商品名）２００００（以上、日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（以上、富士フイルム和光純薬（株）製）、パイオニン（商品名）Ｄ－１１０５、Ｄ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（以上、竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（以上、日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
また、近年、炭素数が７以上の直鎖状パーフルオロアルキル基を有する化合物は、環境適性が懸念されるため、パーフルオロオクタン酸（ＰＦＯＡ）、及び、パーフルオロオクタンスルホン酸（ＰＦＯＳ）の代替材料を使用した界面活性剤を用いることが好ましい。
具体例としては、プルロニック（商品名）Ｌ１０、Ｌ３１、Ｌ６１、Ｌ６２、１０Ｒ５、１７Ｒ２、２５Ｒ２（以上、ＢＡＳＦ社製）、テトロニック（商品名）３０４、７０１、７０４、９０１、９０４、１５０Ｒ１、ＨＹＤＲＯＰＡＬＡＴ ＷＥ ３３２３（以上、ＢＡＳＦ社製）、ソルスパース（商品名）２００００（以上、日本ルーブリゾール（株）製）、ＮＣＷ－１０１、ＮＣＷ－１００１、ＮＣＷ－１００２（以上、富士フイルム和光純薬（株）製）、パイオニン（商品名）Ｄ－１１０５、Ｄ－６１１２、Ｄ－６１１２－Ｗ、Ｄ－６３１５（以上、竹本油脂（株）製）、オルフィンＥ１０１０、サーフィノール１０４、４００、４４０（以上、日信化学工業（株）製）などが挙げられる。
また、近年、炭素数が７以上の直鎖状パーフルオロアルキル基を有する化合物は、環境適性が懸念されるため、パーフルオロオクタン酸（ＰＦＯＡ）、及び、パーフルオロオクタンスルホン酸（ＰＦＯＳ）の代替材料を使用した界面活性剤を用いることが好ましい。
シリコーン系界面活性剤としては、シロキサン結合からなる直鎖状ポリマー、及び、側鎖や末端に有機基を導入した変性シロキサンポリマーが挙げられる。
シリコーン系界面活性剤の具体例としては、ＥＸＰ．Ｓ－３０９－２、ＥＸＰ．Ｓ－３１５、ＥＸＰ．Ｓ－５０３－２、ＥＸＰ．Ｓ－５０５－２（以上、ＤＩＣ株式会社製）、ＤＯＷＳＩＬ（商品名）８０３２ ＡＤＤＩＴＩＶＥ、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）並びに、Ｘ－２２－４９５２、Ｘ－２２－４２７２、Ｘ－２２－６２６６、ＫＦ－３５１Ａ、Ｋ３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６４０、ＫＦ－６４２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－６１９１、Ｘ－２２－４５１５、ＫＦ－６００４、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２、ＫＰ－１０１、ＫＰ－１０３、ＫＰ－１０４、ＫＰ－１０５、ＫＰ－１０６、ＫＰ－１０９、ＫＰ－１１２、ＫＰ－１２０、ＫＰ－１２１、ＫＰ－１２４、ＫＰ－１２５、ＫＰ－３０１、ＫＰ－３０６、ＫＰ－３１０、ＫＰ－３２２、ＫＰ－３２３、ＫＰ－３２７、ＫＰ－３４１、ＫＰ－３６８、ＫＰ－３６９、ＫＰ－６１１、ＫＰ－６２０、ＫＰ－６２１、ＫＰ－６２６、ＫＰ－６５２（以上、信越化学工業（株）製）、Ｆ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＢＹＫ３００、ＢＹＫ３０６、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３１０、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３２５、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３１３、ＢＹＫ３１５Ｎ、ＢＹＫ３３１、ＢＹＫ３３３、ＢＹＫ３４５、ＢＹＫ３４７、ＢＹＫ３４８、ＢＹＫ３４９、ＢＹＫ３７０、ＢＹＫ３７７、ＢＹＫ３７８（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
シリコーン系界面活性剤の具体例としては、ＥＸＰ．Ｓ－３０９－２、ＥＸＰ．Ｓ－３１５、ＥＸＰ．Ｓ－５０３－２、ＥＸＰ．Ｓ－５０５－２（以上、ＤＩＣ株式会社製）、ＤＯＷＳＩＬ（商品名）８０３２ ＡＤＤＩＴＩＶＥ、トーレシリコーンＤＣ３ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ７ＰＡ、トーレシリコーンＤＣ１１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２１ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２８ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ２９ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ３０ＰＡ、トーレシリコーンＳＨ８４００（以上、東レ・ダウコーニング（株）製）並びに、Ｘ－２２－４９５２、Ｘ－２２－４２７２、Ｘ－２２－６２６６、ＫＦ－３５１Ａ、Ｋ３５４Ｌ、ＫＦ－３５５Ａ、ＫＦ－９４５、ＫＦ－６４０、ＫＦ－６４２、ＫＦ－６４３、Ｘ－２２－６１９１、Ｘ－２２－４５１５、ＫＦ－６００４、ＫＰ－３４１、ＫＦ－６００１、ＫＦ－６００２、ＫＰ－１０１、ＫＰ－１０３、ＫＰ－１０４、ＫＰ－１０５、ＫＰ－１０６、ＫＰ－１０９、ＫＰ－１１２、ＫＰ－１２０、ＫＰ－１２１、ＫＰ－１２４、ＫＰ－１２５、ＫＰ－３０１、ＫＰ－３０６、ＫＰ－３１０、ＫＰ－３２２、ＫＰ－３２３、ＫＰ－３２７、ＫＰ－３４１、ＫＰ－３６８、ＫＰ－３６９、ＫＰ－６１１、ＫＰ－６２０、ＫＰ－６２１、ＫＰ－６２６、ＫＰ－６５２（以上、信越化学工業（株）製）、Ｆ－４４４０、ＴＳＦ－４３００、ＴＳＦ－４４４５、ＴＳＦ－４４６０、ＴＳＦ－４４５２（以上、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ社製）、ＢＹＫ３００、ＢＹＫ３０６、ＢＹＫ３０７、ＢＹＫ３１０、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３２３、ＢＹＫ３２５、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３１３、ＢＹＫ３１５Ｎ、ＢＹＫ３３１、ＢＹＫ３３３、ＢＹＫ３４５、ＢＹＫ３４７、ＢＹＫ３４８、ＢＹＫ３４９、ＢＹＫ３７０、ＢＹＫ３７７、ＢＹＫ３７８（以上、ビックケミー社製）等が挙げられる。
感光性層は、界面活性剤を、１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
界面活性剤の含有量は、感光性層の全質量に対し、０．００１質量％～１０質量％が好ましく、０．０１質量％～３質量％がより好ましい。
界面活性剤の含有量は、感光性層の全質量に対し、０．００１質量％～１０質量％が好ましく、０．０１質量％～３質量％がより好ましい。
－添加剤－
感光性層は、上記成分以外に、必要に応じて公知の添加剤を含有してもよい。
添加剤としては、例えば、重合禁止剤、増感剤、可塑剤、ヘテロ環状化合物、ベンゾトリアゾール類、カルボキシベンゾトリアゾール類、ピリジン類（イソニコチンアミド等）、プリン塩基（アデニン等）、及び、溶剤が挙げられる。感光性層は、各添加剤を１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
感光性層は、上記成分以外に、必要に応じて公知の添加剤を含有してもよい。
添加剤としては、例えば、重合禁止剤、増感剤、可塑剤、ヘテロ環状化合物、ベンゾトリアゾール類、カルボキシベンゾトリアゾール類、ピリジン類（イソニコチンアミド等）、プリン塩基（アデニン等）、及び、溶剤が挙げられる。感光性層は、各添加剤を１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
感光性層は、重合禁止剤を含有してもよい。重合禁止剤としては、ラジカル重合禁止剤が好ましい。
重合禁止剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載された熱重合防止剤が挙げられる。中でも、フェノチアジン、フェノキサジン又は４－メトキシフェノールが好ましい。その他の重合禁止剤としては、ナフチルアミン、塩化第一銅、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩、ジフェニルニトロソアミン等が挙げられる。感光性樹脂組成物の感度を損なわないために、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩を重合禁止剤として使用することが好ましい。
重合禁止剤としては、例えば、特許第４５０２７８４号公報の段落００１８に記載された熱重合防止剤が挙げられる。中でも、フェノチアジン、フェノキサジン又は４－メトキシフェノールが好ましい。その他の重合禁止剤としては、ナフチルアミン、塩化第一銅、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩、ジフェニルニトロソアミン等が挙げられる。感光性樹脂組成物の感度を損なわないために、ニトロソフェニルヒドロキシアミンアルミニウム塩を重合禁止剤として使用することが好ましい。
ベンゾトリアゾール類としては、例えば、１，２，３－ベンゾトリアゾール、１－クロロ－１，２，３－ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ－２－エチルヘキシル）アミノメチレン－１，２，３－ベンゾトリアゾール、ビス（Ｎ－２－エチルヘキシル）アミノメチレン－１，２，３－トリルトリアゾール、ビス（Ｎ－２－ヒドロキシエチル）アミノメチレン－１，２，３－ベンゾトリアゾール等が挙げられる。
カルボキシベンゾトリアゾール類としては、例えば、４－カルボキシ－１，２，３－ベンゾトリアゾール、５－カルボキシ－１，２，３－ベンゾトリアゾール、Ｎ－（Ｎ，Ｎ－ジ－２－エチルヘキシル）アミノメチレンカルボキシベンゾトリアゾール、Ｎ－（Ｎ，Ｎ－ジ－２－ヒドロキシエチル）アミノメチレンカルボキシベンゾトリアゾール、Ｎ－（Ｎ，Ｎ－ジ－２－エチルヘキシル）アミノエチレンカルボキシベンゾトリアゾール等が挙げられる。カルボキシベンゾトリアゾール類としては、例えば、ＣＢＴ－１（城北化学工業（株）製、商品名）などの市販品を用いることができる。
重合禁止剤、ベンゾトリアゾ－ル類、及びカルボキシベンゾトリアゾ－ル類の合計含有量は、感光性層の全質量に対し、０．０１質量％～３質量％であることが好ましく、０．０５質量％～１質量％であることがより好ましい。上記含有量を０．０１質量％以上にすることは、感光性樹脂組成物に保存安定性を付与するという観点から好ましい。一方で、上記含有量を３質量％以下にすることは、感度を維持し、染料の脱色を抑える観点から好ましい。
感光性層は、増感剤を含有してもよい。
増感剤は、特に制限されず、公知の増感剤、染料及び顔料を用いることができる。増感剤としては、例えば、ジアルキルアミノベンゾフェノン化合物、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物、クマリン化合物、キサントン化合物、チオキサントン化合物、アクリドン化合物、オキサゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、トリアゾール化合物（例えば、１，２，４－トリアゾール）、スチルベン化合物、トリアジン化合物、チオフェン化合物、ナフタルイミド化合物、トリアリールアミン化合物、及び、アミノアクリジン化合物が挙げられる。
増感剤は、特に制限されず、公知の増感剤、染料及び顔料を用いることができる。増感剤としては、例えば、ジアルキルアミノベンゾフェノン化合物、ピラゾリン化合物、アントラセン化合物、クマリン化合物、キサントン化合物、チオキサントン化合物、アクリドン化合物、オキサゾール化合物、ベンゾオキサゾール化合物、チアゾール化合物、ベンゾチアゾール化合物、トリアゾール化合物（例えば、１，２，４－トリアゾール）、スチルベン化合物、トリアジン化合物、チオフェン化合物、ナフタルイミド化合物、トリアリールアミン化合物、及び、アミノアクリジン化合物が挙げられる。
感光性層は、増感剤を１種単独で含有してもよいし、２種以上を含有してもよい。
感光性層が増感剤を含有する場合、増感剤の含有量は、目的により適宜選択できるが、光源に対する感度の向上、及び、重合速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、感光性層の全質量に対して、０．０１質量％～５質量％が好ましく、０．０５質量％～１質量％がより好ましい。
感光性層が増感剤を含有する場合、増感剤の含有量は、目的により適宜選択できるが、光源に対する感度の向上、及び、重合速度と連鎖移動のバランスによる硬化速度の向上の観点から、感光性層の全質量に対して、０．０１質量％～５質量％が好ましく、０．０５質量％～１質量％がより好ましい。
感光性層は、可塑剤及びヘテロ環状化合物よりなる群から選択される少なくとも１種を含有してもよい。
可塑剤及びヘテロ環状化合物としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００９７～０１０３及び０１１１～０１１８に記載された化合物が挙げられる。
可塑剤及びヘテロ環状化合物としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００９７～０１０３及び０１１１～０１１８に記載された化合物が挙げられる。
感光性層は、溶剤を含有してもよい。溶剤を含む感光性樹脂組成物により感光性層を形成した場合、感光性層に溶剤が残留することがある。
また、感光性層は、金属酸化物粒子、酸化防止剤、分散剤、酸増殖剤、現像促進剤、導電性繊維、熱ラジカル重合開始剤、熱酸発生剤、紫外線吸収剤、増粘剤、架橋剤、及び、有機又は無機の沈殿防止剤等の公知の添加剤を更に含有してもよい。
感光性層に含有される添加剤については特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１６５～０１８４に記載されており、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
感光性層に含有される添加剤については特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１６５～０１８４に記載されており、この公報の内容は本明細書に組み込まれる。
＜不純物等＞
感光性層は、所定量の不純物を含んでいてもよい。
不純物の具体例としては、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、鉄、マンガン、銅、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、亜鉛、スズ、ハロゲン及びこれらのイオンが挙げられる。中でも、ハロゲン化物イオン、ナトリウムイオン、及びカリウムイオンは不純物として混入し易いため、下記の含有量にすることが好ましい。
感光性層は、所定量の不純物を含んでいてもよい。
不純物の具体例としては、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、鉄、マンガン、銅、アルミニウム、チタン、クロム、コバルト、ニッケル、亜鉛、スズ、ハロゲン及びこれらのイオンが挙げられる。中でも、ハロゲン化物イオン、ナトリウムイオン、及びカリウムイオンは不純物として混入し易いため、下記の含有量にすることが好ましい。
感光性層における不純物の含有量は、質量基準で、８０ｐｐｍ以下が好ましく、１０ｐｐｍ以下がより好ましく、２ｐｐｍ以下が更に好ましい。不純物の含有量は、質量基準で、１ｐｐｂ以上とすることができ、０．１ｐｐｍ以上としてもよい。
不純物を上記範囲にする方法としては、組成物の原料として不純物の含有量が少ないものを選択すること、感光性層の作製時に不純物の混入を防ぐこと、及び洗浄して除去することが挙げられる。このような方法により、不純物量を上記範囲内とすることができる。
不純物は、例えば、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma）発光分光分析法、原子吸光分光法、及びイオンクロマトグラフィー法等の公知の方法で定量できる。
感光性層における、ベンゼン、ホルムアルデヒド、トリクロロエチレン、１，３－ブタジエン、四塩化炭素、クロロホルム、Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ－ジメチルアセトアミド、及びヘキサン等の化合物の含有量は、少ないことが好ましい。これら化合物の感光性層の全質量に対する含有量としては、質量基準で、１００ｐｐｍ以下が好ましく、２０ｐｐｍ以下がより好ましく、４ｐｐｍ以下が更に好ましい。
下限は、質量基準で、感光性層の全質量に対して、１０ｐｐｂ以上とすることができ、１００ｐｐｂ以上とすることができる。これら化合物は、上記の金属の不純物と同様の方法で含有量を抑制できる。また、公知の測定法により定量できる。
下限は、質量基準で、感光性層の全質量に対して、１０ｐｐｂ以上とすることができ、１００ｐｐｂ以上とすることができる。これら化合物は、上記の金属の不純物と同様の方法で含有量を抑制できる。また、公知の測定法により定量できる。
感光性層における水の含有量は、信頼性及びラミネート性を向上させる観点から、０．０１質量％～１．０質量％が好ましく、０．０５質量％～０．５質量％がより好ましい。
＜残存モノマー＞
感光性層は、上述したアルカリ可溶性樹脂の各構成単位に対応する残存モノマーを含む場合がある。
残存モノマーの含有量は、パターニング性、及び、信頼性の点から、アルカリ可溶性樹脂全質量に対して、５，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、２，０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１０質量ｐｐｍ以上がより好ましい。
アルカリ可溶性樹脂の各構成単位の残存モノマーは、パターニング性、及び、信頼性の点から、感光性層の全質量に対して、３，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、６００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、０．１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１質量ｐｐｍ以上がより好ましい。
感光性層は、上述したアルカリ可溶性樹脂の各構成単位に対応する残存モノマーを含む場合がある。
残存モノマーの含有量は、パターニング性、及び、信頼性の点から、アルカリ可溶性樹脂全質量に対して、５，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、２，０００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、５００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１０質量ｐｐｍ以上がより好ましい。
アルカリ可溶性樹脂の各構成単位の残存モノマーは、パターニング性、及び、信頼性の点から、感光性層の全質量に対して、３，０００質量ｐｐｍ以下が好ましく、６００質量ｐｐｍ以下がより好ましく、１００質量ｐｐｍ以下が更に好ましい。下限は特に制限されないが、０．１質量ｐｐｍ以上が好ましく、１質量ｐｐｍ以上がより好ましい。
高分子反応でアルカリ可溶性樹脂を合成する際のモノマーの残存モノマー量も、上記範囲とすることが好ましい。例えば、カルボン酸側鎖にアクリル酸グリシジルを反応させてアルカリ可溶性樹脂を合成する場合には、アクリル酸グリシジルの含有量を上記範囲にすることが好ましい。
残存モノマーの量は、液体クロマトグラフィー、及び、ガスクロマトグラフィー等の公知の方法で測定できる。
残存モノマーの量は、液体クロマトグラフィー、及び、ガスクロマトグラフィー等の公知の方法で測定できる。
＜物性等＞
感光性層の層厚は、０．１μｍ～３００μｍが好ましく、０．２μｍ～１００μｍがより好ましく、０．５μｍ～５０μｍが更に好ましく、０．５μｍ～１５μｍがより更に好ましく、０．５μｍ～１０μｍが特に好ましく、０．５μｍ～８μｍが最も好ましい。これにより、感光性層の現像性が向上し、解像性を向上させることができる。
また、一態様において、０．５μｍ～５μｍが好ましく、０．５μｍ～４μｍがより好ましく、０．５μｍ～３μｍが更に好ましい。
更に、感光性層の層厚は、解像性の観点から、１０μｍ以下であることが好ましく、８μｍ以下であることがより好ましい。
感光性転写材料が備える各層の層厚は、感光性転写材料の主面に対し垂直な方向の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）により観察し、得られた観察画像に基づいて各層の厚さを１０点以上計測し、その平均値を算出することにより、測定される。
感光性層の層厚は、０．１μｍ～３００μｍが好ましく、０．２μｍ～１００μｍがより好ましく、０．５μｍ～５０μｍが更に好ましく、０．５μｍ～１５μｍがより更に好ましく、０．５μｍ～１０μｍが特に好ましく、０．５μｍ～８μｍが最も好ましい。これにより、感光性層の現像性が向上し、解像性を向上させることができる。
また、一態様において、０．５μｍ～５μｍが好ましく、０．５μｍ～４μｍがより好ましく、０．５μｍ～３μｍが更に好ましい。
更に、感光性層の層厚は、解像性の観点から、１０μｍ以下であることが好ましく、８μｍ以下であることがより好ましい。
感光性転写材料が備える各層の層厚は、感光性転写材料の主面に対し垂直な方向の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）により観察し、得られた観察画像に基づいて各層の厚さを１０点以上計測し、その平均値を算出することにより、測定される。
また、密着性により優れる点から、感光性層の波長３６５ｎｍの光の透過率は、１０％以上が好ましく、３０％以上が好ましく、５０％以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、９９．９％以下が好ましい。
＜形成方法＞
感光性層の形成方法は、上記の成分を含有する層を形成可能な方法であれば特に制限されない。
感光性層の形成方法としては、例えば、重合性化合物、光重合開始剤及び溶剤等を含有する感光性組成物を調製し、仮支持体等の表面に感光性組成物を塗布し、感光性組成物の塗膜を乾燥することにより形成する方法が挙げられる。
感光性層の形成方法は、上記の成分を含有する層を形成可能な方法であれば特に制限されない。
感光性層の形成方法としては、例えば、重合性化合物、光重合開始剤及び溶剤等を含有する感光性組成物を調製し、仮支持体等の表面に感光性組成物を塗布し、感光性組成物の塗膜を乾燥することにより形成する方法が挙げられる。
感光性層の形成に使用される感光性組成物としては、例えば、重合性化合物、光重合開始剤、上記の任意成分及び溶剤を含有する組成物が挙げられる。
感光性組成物は、感光性組成物の粘度を調節し、感光性層の形成を容易にするため、溶剤を含有することが好ましい。
感光性組成物は、感光性組成物の粘度を調節し、感光性層の形成を容易にするため、溶剤を含有することが好ましい。
－溶剤－
感光性組成物に含有される溶剤としては、重合性化合物、光重合開始剤及び上記の任意成分を溶解又は分散可能であれば特に制限されず、公知の溶剤を使用できる。
溶剤としては、例えば、アルキレングリコールエーテル溶剤、アルキレングリコールエーテルアセテート溶剤、アルコール溶剤（メタノール及びエタノール等）、ケトン溶剤（アセトン及びメチルエチルケトン等）、芳香族炭化水素溶剤（トルエン等）、非プロトン性極性溶剤（Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等）、環状エーテル溶剤（テトラヒドロフラン等）、エステル溶剤、アミド溶剤、ラクトン溶剤、並びにこれらの２種以上を含む混合溶剤が挙げられる。
仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、感光性層及び保護フィルムを備える感光性転写材料を作製する場合、感光性組成物は、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種を含有することが好ましい。中でも、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種と、ケトン溶剤及び環状エーテル溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種とを含む混合溶剤がより好ましく、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種、ケトン溶剤、並びに環状エーテル溶剤の３種を少なくとも含む混合溶剤が更に好ましい。
感光性組成物に含有される溶剤としては、重合性化合物、光重合開始剤及び上記の任意成分を溶解又は分散可能であれば特に制限されず、公知の溶剤を使用できる。
溶剤としては、例えば、アルキレングリコールエーテル溶剤、アルキレングリコールエーテルアセテート溶剤、アルコール溶剤（メタノール及びエタノール等）、ケトン溶剤（アセトン及びメチルエチルケトン等）、芳香族炭化水素溶剤（トルエン等）、非プロトン性極性溶剤（Ｎ，Ｎ－ジメチルホルムアミド等）、環状エーテル溶剤（テトラヒドロフラン等）、エステル溶剤、アミド溶剤、ラクトン溶剤、並びにこれらの２種以上を含む混合溶剤が挙げられる。
仮支持体、熱可塑性樹脂層、中間層、感光性層及び保護フィルムを備える感光性転写材料を作製する場合、感光性組成物は、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種を含有することが好ましい。中でも、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種と、ケトン溶剤及び環状エーテル溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種とを含む混合溶剤がより好ましく、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種、ケトン溶剤、並びに環状エーテル溶剤の３種を少なくとも含む混合溶剤が更に好ましい。
アルキレングリコールエーテル溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノアルキルエーテル、エチレングリコールジアルキルエーテル、プロピレングリコールモノアルキルエーテル、プロピレングリコールジアルキルエーテル、ジエチレングリコールジアルキルエーテル、ジプロピレングリコールモノアルキルエーテル及びジプロピレングリコールジアルキルエーテルが挙げられる。
アルキレングリコールエーテルアセテート溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート及びジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートが挙げられる。
溶剤としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００９２～００９４に記載された溶剤、及び、特開２０１８－１７７８８９公報の段落００１４に記載された溶剤を用いてもよく、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
アルキレングリコールエーテルアセテート溶剤としては、例えば、エチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート及びジプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートが挙げられる。
溶剤としては、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落００９２～００９４に記載された溶剤、及び、特開２０１８－１７７８８９公報の段落００１４に記載された溶剤を用いてもよく、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
感光性組成物は、溶剤を１種単独で含有してもよく、２種以上を含有してもよい。
感光性組成物を塗布する際における溶剤の含有量は、感光性組成物中の全固形分１００質量部に対し、５０質量部～１，９００質量部が好ましく、１００質量部～９００質量部がより好ましい。
感光性組成物を塗布する際における溶剤の含有量は、感光性組成物中の全固形分１００質量部に対し、５０質量部～１，９００質量部が好ましく、１００質量部～９００質量部がより好ましい。
感光性組成物の調製方法は特に制限されず、例えば、各成分を上記溶剤に溶解させた溶液を予め調製し、得られた溶液を所定の割合で混合することにより、感光性組成物を調製する方法が挙げられる。
感光性組成物は、感光性層を形成する前に、孔径０．２μｍ～３０μｍのフィルターを用いてろ過することが好ましい。
感光性組成物は、感光性層を形成する前に、孔径０．２μｍ～３０μｍのフィルターを用いてろ過することが好ましい。
感光性組成物の塗布方法は特に制限されず、公知の方法で塗布すればよい。塗布方法としては、例えば、スリット塗布、スピン塗布、カーテン塗布及びインクジェット塗布が挙げられる。
また、感光性層は、感光性組成物を後述する保護フィルム上に塗布し、乾燥することにより形成してもよい。
また、感光性層は、感光性組成物を後述する保護フィルム上に塗布し、乾燥することにより形成してもよい。
また、本開示における感光性転写材料は、解像性、及び、仮支持体の剥離性の観点から、上記仮支持体と上記感光性層との間に、他の層を有することが好ましい。
他の層としては、中間層、熱可塑性樹脂層、保護フィルム等が好ましく挙げられる。
中でも、上記他の層として、中間層を有することが好ましく、熱可塑性樹脂層、及び、中間層を有することがより好ましい。
他の層としては、中間層、熱可塑性樹脂層、保護フィルム等が好ましく挙げられる。
中でも、上記他の層として、中間層を有することが好ましく、熱可塑性樹脂層、及び、中間層を有することがより好ましい。
〔中間層〕
感光性転写材料は、仮支持体と感光性層との間に、中間層を有する。中間層によれば、複数の層を形成する際、及び保存の際における成分の混合を抑制できる。
後述する熱可塑性樹脂層を有する場合は、熱可塑性樹脂層と感光性層との間に、中間層を有することが好ましい。
感光性転写材料は、仮支持体と感光性層との間に、中間層を有する。中間層によれば、複数の層を形成する際、及び保存の際における成分の混合を抑制できる。
後述する熱可塑性樹脂層を有する場合は、熱可塑性樹脂層と感光性層との間に、中間層を有することが好ましい。
中間層は、現像性、並びに、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制する観点から、水溶性の層であることが好ましい。本開示において、「水溶性」とは、液温が２２℃であるｐＨ７．０の水１００ｇへの溶解度が０．１ｇ以上であることを意味する。
中間層としては、例えば、特開平５－７２７２４号公報に「分離層」として記載されている、酸素遮断機能のある酸素遮断層が挙げられる。中間層が酸素遮断層であることで、露光時の感度が向上し、露光機の時間負荷が低減する結果、生産性が向上する。中間層として用いられる酸素遮断層は、公知の層から適宜選択すればよい。中間層として用いられる酸素遮断層は、低い酸素透過性を示し、水、若しくはアルカリ水溶液（２２℃の炭酸ナトリウムの１質量％水溶液）に分散、又は溶解する酸素遮断層であることが好ましい。
中間層は、樹脂を含むことが好ましい。中間層に含まれる樹脂としては、例えば、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂、アクリルアミド系樹脂、ポリエチレンオキサイド系樹脂、ゼラチン、ビニルエーテル系樹脂、ポリアミド樹脂、及びこれらの共重合体が挙げられる。中間層に含まれる樹脂は、水溶性樹脂であることが好ましい。
中間層に含まれる樹脂は、複数の層間の成分の混合を抑制する観点から、ネガ型感光性層に含まれる重合体Ａ、及び熱可塑性樹脂層に含まれる熱可塑性樹脂（アルカリ可溶性樹脂）のいずれとも異なる樹脂であることが好ましい。
また、中間層は、酸素遮断性、現像性、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、水溶性化合物を含むことが好ましく、水溶性樹脂を含むことがより好ましい。
水溶性化合物としては、特に制限はないが、酸素遮断性、現像性、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、水溶性セルロース誘導体、多価アルコール類、多価アルコール類のオキサイド付加物、ポリエーテル類、フェノール誘導体、及び、アミド化合物よりなる群から選ばれる群より選ばれる１種以上の化合物であることが好ましく、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース及びヒドロキシプロピルメチルセルロースよりなる群から選ばれる少なくとも１種の水溶性樹脂であることがより好ましく、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース及びヒドロキシプロピルメチルセルロースよりなる群から選ばれる少なくとも２種の水溶性樹脂であることが更に好ましく、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース及びヒドロキシプロピルメチルセルロースよりなる群から選ばれる少なくとも３種の水溶性樹脂であることが特に好ましい。
水溶性樹脂としては、例えば、水溶性セルロース誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミド樹脂、（メタ）アクリレート樹脂、ポリエチレンオキサイド樹脂、ゼラチン、ビニルエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、及びこれらの共重合体などの樹脂が挙げられる。
中でも、水溶性化合物は、酸素遮断性、現像性、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、ポリビニルアルコールを含むことが好ましく、ポリビニルアルコールであることがより好ましい。
ポリビニルアルコールの加水分解度は、特に制限はないが、酸素遮断性、現像性、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、７３ｍｏｌ％～９９ｍｏｌ％であることが好ましい。
また、ポリビニルアルコールは、酸素遮断性、現像性、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、エチレンをモノマーユニットとして含むことが好ましい。
水溶性化合物としては、特に制限はないが、酸素遮断性、現像性、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、水溶性セルロース誘導体、多価アルコール類、多価アルコール類のオキサイド付加物、ポリエーテル類、フェノール誘導体、及び、アミド化合物よりなる群から選ばれる群より選ばれる１種以上の化合物であることが好ましく、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース及びヒドロキシプロピルメチルセルロースよりなる群から選ばれる少なくとも１種の水溶性樹脂であることがより好ましく、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース及びヒドロキシプロピルメチルセルロースよりなる群から選ばれる少なくとも２種の水溶性樹脂であることが更に好ましく、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシプロピルセルロース及びヒドロキシプロピルメチルセルロースよりなる群から選ばれる少なくとも３種の水溶性樹脂であることが特に好ましい。
水溶性樹脂としては、例えば、水溶性セルロース誘導体、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、アクリルアミド樹脂、（メタ）アクリレート樹脂、ポリエチレンオキサイド樹脂、ゼラチン、ビニルエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、及びこれらの共重合体などの樹脂が挙げられる。
中でも、水溶性化合物は、酸素遮断性、現像性、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、ポリビニルアルコールを含むことが好ましく、ポリビニルアルコールであることがより好ましい。
ポリビニルアルコールの加水分解度は、特に制限はないが、酸素遮断性、現像性、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、７３ｍｏｌ％～９９ｍｏｌ％であることが好ましい。
また、ポリビニルアルコールは、酸素遮断性、現像性、工程汚染抑制性、及び、パターン形成性の観点から、エチレンをモノマーユニットとして含むことが好ましい。
加水分解度は、測定方法に特に制限はないが、例えばＪＩＳ Ｋ ６７２６：１９９４に記載の方法にて測定することができる。
中間層は、酸素遮断性、並びに、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制する観点から、ポリビニルアルコールを含むことが好ましく、ポリビニルアルコール、及びポリビニルピロリドンを含むことがより好ましい。
中間層は、１種単独、又は２種以上の樹脂を含んでもよい。
中間層における水溶性化合物の含有割合は、酸素遮断性、並びに、複数層を塗布する際及び塗布後の保存の際における成分の混合を抑制する観点から、中間層の全質量に対して、５０質量％～１００質量％であることが好ましく、７０質量％～１００質量％であることがより好ましく、８０質量％～１００質量％であることが更に好ましく、９０質量％～１００質量％であることが特に好ましい。
また、中間層は、必要に応じて添加剤を含んでもよい。添加剤としては、例えば、界面活性剤が挙げられる。
中間層の厚さは、制限されない。中間層の平均厚さは、０．１μｍ～５μｍであることが好ましく、０．５μｍ～３μｍであることがより好ましい。中間層の厚さが上記範囲であることで、酸素遮断性を低下させることがなく、複数の層を形成する際、及び保存の際における成分の混合を抑制でき、また、現像時の中間層の除去時間の増大を抑制できる。
中間層の形成方法は、上記の成分を含む層を形成可能な方法であれば制限されない。中間層の形成方法としては、例えば、熱可塑性樹脂層、又はネガ型感光性層の表面に、中間層組成物を塗布した後、中間層組成物の塗膜を乾燥する方法が挙げられる。
中間層組成物としては、例えば、樹脂、及び任意の添加剤を含む組成物が挙げられる。中間層組成物は、中間層組成物の粘度を調節し、中間層の形成を容易にするため、溶剤を含むことが好ましい。溶剤としては、樹脂を溶解、又は分散可能な溶剤であれば制限されない。溶剤は、水、及び水混和性の有機溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましく、水、又は水と水混和性の有機溶剤との混合溶剤であることがより好ましい。
水混和性の有機溶剤としては、例えば、炭素数が１～３であるアルコール、アセトン、エチレングリコール、及びグリセリンが挙げられる。水混和性の有機溶剤は、炭素数が１～３であるアルコールであることが好ましく、メタノール、又はエタノールであることがより好ましい。
〔熱可塑性樹脂層〕
本開示に係る感光性転写材料は、熱可塑性樹脂層を有してもよい。感光性転写材料は、仮支持体と感光性層との間に熱可塑性樹脂層を有することが好ましい。感光性転写材料が仮支持体と感光性層との間に熱可塑性樹脂層を有することで、被着物への追従性が向上して、被着物と感光性転写材料との間の気泡の混入が抑制される結果、層間の密着性が向上するためである。
本開示に係る感光性転写材料は、熱可塑性樹脂層を有してもよい。感光性転写材料は、仮支持体と感光性層との間に熱可塑性樹脂層を有することが好ましい。感光性転写材料が仮支持体と感光性層との間に熱可塑性樹脂層を有することで、被着物への追従性が向上して、被着物と感光性転写材料との間の気泡の混入が抑制される結果、層間の密着性が向上するためである。
熱可塑性樹脂層は、熱可塑性樹脂として、アルカリ可溶性樹脂を含むことが好ましい。
アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、アクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、スチレン－アクリル共重合体、ポリウレタン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリアセタール樹脂、ポリヒドロキシスチレン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリベンゾオキサゾール樹脂、ポリシロキサン樹脂、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、及びポリアルキレングリコールが挙げられる。
アルカリ可溶性樹脂は、現像性、及び熱可塑性樹脂層に隣接する層との密着性の観点から、アクリル樹脂であることが好ましい。ここで、「アクリル樹脂」とは、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位、及び（メタ）アクリル酸アミドに由来する構成単位よりなる群から選択される少なくとも１種を有する樹脂を意味する。
アクリル樹脂において、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位、及び（メタ）アクリル酸アミドに由来する構成単位の合計含有量の割合は、アクリル樹脂の全質量に対して、５０質量％以上であることが好ましい。アクリル樹脂において、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位、及び（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の合計含有量の割合は、アクリル樹脂の全質量に対して、３０質量％～１００質量％であることが好ましく、５０質量％～１００質量％であることがより好ましい。
また、アルカリ可溶性樹脂は、酸基を有する重合体であることが好ましい。酸基としては、例えば、カルボキシ基、スルホ基、リン酸基、及びホスホン酸基が挙げられ、カルボキシ基が好ましい。
アルカリ可溶性樹脂は、現像性の観点から、酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であるアルカリ可溶性樹脂であることが好ましく、酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であるカルボキシ基含有アクリル樹脂であることがより好ましい。酸価の上限は、制限されない。アルカリ可溶性樹脂の酸価は、２００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、１５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。
酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であるカルボキシ基含有アクリル樹脂としては、制限されず、公知の樹脂から適宜選択して用いることができる。酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であるカルボキシ基含有アクリル樹脂としては、例えば、特開２０１１－９５７１６号公報の段落００２５に記載のポリマーのうち酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であるカルボキシ基含有アクリル樹脂、特開２０１０－２３７５８９号公報の段落００３３～段落００５２に記載のポリマーのうち酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であるカルボキシ基含有アクリル樹脂、及び特開２０１６－２２４１６２号公報の段落００５３～段落００６８に記載のバインダーポリマーのうち酸価が６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であるカルボキシ基含有アクリル樹脂が挙げられる。
カルボキシ基含有アクリル樹脂におけるカルボキシ基を有する構成単位の含有割合は、カルボキシ基含有アクリル樹脂の全質量に対して、５質量％～５０質量％であることが好ましく、１０質量％～４０質量％であることがより好ましく、１２質量％～３０質量％であることが特に好ましい。
アルカリ可溶性樹脂は、現像性、及び熱可塑性樹脂層に隣接する層との密着性の観点から、（メタ）アクリル酸に由来する構成単位を有するアクリル樹脂であることが特に好ましい。
アルカリ可溶性樹脂は、反応性基を有してもよい。反応性基は、例えば、付加重合可能な基であればよい。反応性基としては、例えば、エチレン性不飽和基、重縮合性基（例えば、ヒドロキシ基、及びカルボキシ基）、及び重付加反応性基（例えば、エポキシ基、及び（ブロック）イソシアネート基）が挙げられる。
アルカリ可溶性樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、１，０００以上であることが好ましく、１万～１０万であることがより好ましく、２万～５万であることが特に好ましい。
熱可塑性樹脂層は、１種単独、又は２種以上のアルカリ可溶性樹脂を含んでもよい。
アルカリ可溶性樹脂の含有割合は、現像性、及び熱可塑性樹脂層に隣接する層との密着性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、１０質量％～９９質量％であることが好ましく、２０質量％～９０質量％であることがより好ましく、４０質量％～８０質量％であることが更に好ましく、５０質量％～７０質量％であることが特に好ましい。
熱可塑性樹脂層は、発色時の波長範囲である４００ｎｍ～７８０ｎｍにおける最大吸収波長が４５０ｎｍ以上であり、かつ、酸、塩基、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素（以下、「色素Ｂ」という場合がある。）を含むことが好ましい。色素Ｂの好ましい態様は、後述する点以外は、上記した色素Ｎの好ましい態様と同様である。
色素Ｂは、露光部の視認性、非露光部の視認性、及び解像性の観点から、酸、又はラジカルにより最大吸収波長が変化する色素であることが好ましく、酸により最大吸収波長が変化する色素であることがより好ましい。
熱可塑性樹脂層は、露光部の視認性、非露光部の視認性、及び解像性の観点から、色素Ｂとして酸により最大吸収波長が変化する色素と、後述する光により酸を発生する化合物と、を含むことが好ましい。
熱可塑性樹脂層は、１種単独、又は２種以上の色素Ｂを含んでもよい。
色素Ｂの含有割合は、露光部の視認性、非露光部の視認性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、０．２質量％以上であることが好ましく、０．２質量％～６質量％であることがより好ましく、０．２質量％～５質量％であることが更に好ましく、０．２５質量％～３．０質量％であることが特に好ましい。
ここで、色素Ｂの含有割合は、熱可塑性樹脂層に含まれる色素Ｂの全てを発色状態にした場合の色素の含有割合を意味する。以下、ラジカルにより発色する色素を例として、色素Ｂの含有割合の定量方法を説明する。メチルエチルケトン（１００ｍＬ）に、色素（０．００１ｇ）、及び色素（０．０１ｇ）をそれぞれ溶かした２つの溶液を調製する。得られた各溶液に、光ラジカル重合開始剤としてＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ－０１（ＢＡＳＦ社）を加えた後、３６５ｎｍの光を照射することによりラジカルを発生させ、全ての色素を発色状態にする。次に、大気雰囲気下で、分光光度計（ＵＶ３１００、株式会社島津製作所）を用いて、液温が２５℃である各溶液の吸光度を測定し、検量線を作成する。次に、色素に代えて熱可塑性樹脂層（０．１ｇ）をメチルエチルケトンに溶かすこと以外は上記と同様の方法で、色素を全て発色させた溶液の吸光度を測定する。得られた熱可塑性樹脂層を含有する溶液の吸光度から、検量線に基づいて熱可塑性樹脂層に含まれる色素の量を算出する。
熱可塑性樹脂層は、光により酸、塩基、又はラジカルを発生する化合物（以下、「化合物Ｃ」という場合がある。）を含んでもよい。化合物Ｃは、活性光線（例えば、紫外線、及び可視光線）を受けて、酸、塩基、又はラジカルを発生する化合物であることが好ましい。化合物Ｃとしては、公知の、光酸発生剤、光塩基発生剤、及び光ラジカル重合開始剤（光ラジカル発生剤）が挙げられる。化合物Ｃは、光酸発生剤であることが好ましい。
熱可塑性樹脂層は、解像性の観点から、光酸発生剤を含むことが好ましい。光酸発生剤としては、上述したネガ型感光性層に含まれてもよい光カチオン重合開始剤が挙げられ、後述する点以外は好ましい態様も同じである。
光酸発生剤は、感度、及び解像性の観点から、オニウム塩化合物、及びオキシムスルホネート化合物よりなる群から選択された少なくとも１種を含むことが好ましく、感度、解像性、及び密着性の観点から、オキシムスルホネート化合物を含むことがより好ましい。
また、光酸発生剤は、以下の構造を有する光酸発生剤であることも好ましい。
熱可塑性樹脂層は、光塩基発生剤を含んでもよい。光塩基発生剤としては、例えば、２－ニトロベンジルシクロヘキシルカルバメート、トリフェニルメタノール、Ｏ－カルバモイルヒドロキシルアミド、Ｏ－カルバモイルオキシム、［［（２，６－ジニトロベンジル）オキシ］カルボニル］シクロヘキシルアミン、ビス［［（２－ニトロベンジル）オキシ］カルボニル］ヘキサン１，６－ジアミン、４－（メチルチオベンゾイル）－１－メチル－１－モルホリノエタン、（４－モルホリノベンゾイル）－１－ベンジル－１－ジメチルアミノプロパン、Ｎ－（２－ニトロベンジルオキシカルボニル）ピロリジン、ヘキサアンミンコバルト（ＩＩＩ）トリス（トリフェニルメチルボレート）、２－ベンジル－２－ジメチルアミノ－１－（４－モルホリノフェニル）－ブタノン、２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２－ニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジン、及び２，６－ジメチル－３，５－ジアセチル－４－（２，４－ジニトロフェニル）－１，４－ジヒドロピリジンが挙げられる。
熱可塑性樹脂層は、光ラジカル重合開始剤を含んでもよい。光ラジカル重合開始剤としては、例えば、上述したネガ型感光性層に含まれてもよい光ラジカル重合開始剤が挙げられ、好ましい態様も同じである。
熱可塑性樹脂層は、１種単独、又は２種以上の化合物Ｃを含んでもよい。
化合物Ｃの含有割合は、露光部の視認性、非露光部の視認性、及び解像性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、０．１質量％～１０質量％であることが好ましく、０．５質量％～５質量％であることがより好ましい。
熱可塑性樹脂層は、解像性、熱可塑性樹脂層に隣接する層との密着性、及び現像性の観点から、可塑剤を含むことが好ましい。
可塑剤の分子量（オリゴマー又はポリマーの分子量については重量平均分子量（Ｍｗ）をいう。以下、本段落において同じ。）は、アルカリ可溶性樹脂の分子量よりも小さいことが好ましい。可塑剤の分子量は、２００～２，０００であることが好ましい。
可塑剤は、アルカリ可溶性樹脂と相溶して可塑性を発現する化合物であれば制限されない。可塑剤は、可塑性付与の観点から、分子中にアルキレンオキシ基を有する化合物であることが好ましく、ポリアルキレングリコール化合物であることがより好ましい。可塑剤に含まれるアルキレンオキシ基は、ポリエチレンオキシ構造、又はポリプロピレンオキシ構造を有することが好ましい。
可塑剤は、解像性、及び保存安定性の観点から、（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましい。相溶性、解像性、及び熱可塑性樹脂層に隣接する層との密着性の観点から、アルカリ可溶性樹脂がアクリル樹脂であり、かつ、可塑剤が（メタ）アクリレート化合物を含むことがより好ましい。
可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、上記エチレン性不飽和化合物において記載した（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。感光性転写材料において、熱可塑性樹脂層とネガ型感光性層とが直接接触して配置される場合、熱可塑性樹脂層、及びネガ型感光性層は、それぞれ、同じ（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましい。熱可塑性樹脂層、及びネガ型感光性層が、それぞれ、同じ（メタ）アクリレート化合物を含むことで、層間の成分拡散が抑制され、保存安定性が向上するためである。
熱可塑性樹脂層が可塑剤として（メタ）アクリレート化合物を含む場合、熱可塑性樹脂層に隣接する層との密着性の観点から、露光後の露光部においても（メタ）アクリレート化合物は重合しないことが好ましい。
ある実施形態において、可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物は、解像性、熱可塑性樹脂層に隣接する層との密着性、及び現像性の観点から、一分子中に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物であることが好ましい。
ある実施形態において、可塑剤として用いられる（メタ）アクリレート化合物は、酸基を有する（メタ）アクリレート化合物、又はウレタン（メタ）アクリレート化合物であることが好ましい。
熱可塑性樹脂層は、１種単独、又は２種以上の可塑剤を含んでもよい。
可塑剤の含有割合は、解像性、熱可塑性樹脂層に隣接する層との密着性、及び現像性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、１質量％～７０質量％であることが好ましく、１０質量％～６０質量％であることがより好ましく、２０質量％～５０質量％であることが特に好ましい。
熱可塑性樹脂層は、厚さの均一性の観点から、界面活性剤を含むことが好ましい。界面活性剤としては、例えば、上述したネガ型感光性層に含まれてもよい界面活性剤が挙げられ、好ましい態様も同じである。
熱可塑性樹脂層は、１種単独、又は２種以上の界面活性剤を含んでもよい。
界面活性剤の含有割合は、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、０．００１質量％～１０質量％であることが好ましく、０．０１質量％～３質量％であることがより好ましい。
熱可塑性樹脂層は、増感剤を含んでもよい。増感剤としては、例えば、上述したネガ型感光性層に含まれてもよい増感剤が挙げられる。
熱可塑性樹脂層は、１種単独、又は２種以上の増感剤を含んでもよい。
増感剤の含有割合は、光源に対する感度の向上、露光部の視認性、及び非露光部の視認性の観点から、熱可塑性樹脂層の全質量に対して、０．０１質量％～５質量％であることが好ましく、０．０５質量％～１質量％であることがより好ましい。
熱可塑性樹脂層は、上記成分以外に、必要に応じて公知の添加剤を含んでもよい。
また、熱可塑性樹脂層については、特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１８９～段落０１９３に記載されている。上記公報の内容は、参照により本明細書に組み込まれる。
熱可塑性樹脂層の厚さは、制限されない。熱可塑性樹脂層の平均厚さは、熱可塑性樹脂層に隣接する層との密着性の観点から、１μｍ以上であることが好ましく、２μｍ以上であることがより好ましい。熱可塑性樹脂層の平均厚さの上限は、制限されない。熱可塑性樹脂層の平均厚さは、現像性、及び解像性の観点から、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、５μｍ以下であることが特に好ましい。
熱可塑性樹脂層の形成方法は、上記の成分を含む層を形成可能な方法であれば制限されない。熱可塑性樹脂層の形成方法としては、例えば、仮支持体の表面に、熱可塑性樹脂組成物を塗布し、熱可塑性樹脂組成物の塗膜を乾燥する方法が挙げられる。
熱可塑性樹脂組成物としては、例えば、上記の成分を含む組成物が挙げられる。熱可塑性樹脂組成物は、熱可塑性樹脂組成物の粘度を調節し、熱可塑性樹脂層の形成を容易にするため、溶剤を含むことが好ましい。
熱可塑性樹脂組成物に含まれる溶剤としては、熱可塑性樹脂層に含まれる成分を溶解、又は分散可能な溶剤であれば制限されない。溶剤としては、上述した感光性樹脂組成物が含んでもよい溶剤が挙げられ、好ましい態様も同じである。
熱可塑性樹脂組成物は、１種単独、又は２種以上の溶剤を含んでもよい。
熱可塑性樹脂組成物における溶剤の含有割合は、熱可塑性樹脂組成物中の全固形分１００質量部に対して、５０質量部～１，９００質量部であることが好ましく、１００質量部～９００質量部であることがより好ましい。
熱可塑性樹脂組成物の調製、及び熱可塑性樹脂層の形成は、上述した感光性樹脂組成物の調製方法、及びネガ型感光性層の形成方法に準じて行えばよい。例えば、熱可塑性樹脂層に含まれる各成分を溶剤に溶解した溶液を予め調製し、得られた各溶液を所定の割合で混合することにより、熱可塑性樹脂組成物を調製した後、得られた熱可塑性樹脂組成物を仮支持体の表面に塗布し、熱可塑性樹脂組成物の塗膜を乾燥させることにより、熱可塑性樹脂層を形成することができる。また、保護フィルム上に、ネガ型感光性層を形成した後、ネガ型感光性層の表面に熱可塑性樹脂層を形成してもよい。
〔保護フィルム〕
感光性転写材料は、保護フィルムを有する。
感光性層と保護フィルムとは、直接接していることが好ましい。
感光性転写材料は、保護フィルムを有する。
感光性層と保護フィルムとは、直接接していることが好ましい。
保護フィルムを構成する材料としては、樹脂フィルム及び紙が挙げられ、強度及び可撓性の観点から、樹脂フィルムが好ましい。
樹脂フィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、及び、ポリカーボネートフィルムが挙げられる。中でも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、又は、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
樹脂フィルムとしては、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリ酢酸セルロースフィルム、ポリスチレンフィルム、及び、ポリカーボネートフィルムが挙げられる。中でも、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、又は、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。
保護フィルムの厚さ（層厚）は、特に制限されないが、５μｍ～１００μｍが好ましく、１０μｍ～５０μｍがより好ましい。
保護フィルムにおける上記感光性層側とは反対側の面の算術平均粗さＲａは、搬送性、樹脂パターンの欠陥抑制性、及び、解像性の観点から、保護フィルムにおける上記感光性層側の面の算術平均粗さＲａ以下であることが好ましく、保護フィルムにおける上記感光性層側の面の算術平均粗さＲａより小さいことがより好ましい。
保護フィルムにおける上記感光性層側とは反対側の面の算術平均粗さＲａは、搬送性及び巻き取り性の観点から、３００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましく、７０ｎｍ以下が更に好ましく、５０ｎｍ以下であることが特に好ましい。
また、保護フィルムにおける上記感光性層側の面の算術平均粗さＲａは、解像性により優れる点から、３００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましく、７０ｎｍ以下が更に好ましく、５０ｎｍ以下であることが特に好ましい。保護フィルムの表面のＲａ値が上記範囲であることにより、感光性層及び形成される樹脂パターンの層厚の均一性が向上するためと考えられる。
保護フィルムの表面のＲａ値の下限は、特に制限されないが、両面ともそれぞれ、１ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましく、２０ｎｍ以上が特に好ましい。
また、保護フィルムの剥離力は、仮支持体の剥離力よりも小さいことが好ましい。
保護フィルムにおける上記感光性層側とは反対側の面の算術平均粗さＲａは、搬送性、樹脂パターンの欠陥抑制性、及び、解像性の観点から、保護フィルムにおける上記感光性層側の面の算術平均粗さＲａ以下であることが好ましく、保護フィルムにおける上記感光性層側の面の算術平均粗さＲａより小さいことがより好ましい。
保護フィルムにおける上記感光性層側とは反対側の面の算術平均粗さＲａは、搬送性及び巻き取り性の観点から、３００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましく、７０ｎｍ以下が更に好ましく、５０ｎｍ以下であることが特に好ましい。
また、保護フィルムにおける上記感光性層側の面の算術平均粗さＲａは、解像性により優れる点から、３００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましく、７０ｎｍ以下が更に好ましく、５０ｎｍ以下であることが特に好ましい。保護フィルムの表面のＲａ値が上記範囲であることにより、感光性層及び形成される樹脂パターンの層厚の均一性が向上するためと考えられる。
保護フィルムの表面のＲａ値の下限は、特に制限されないが、両面ともそれぞれ、１ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましく、２０ｎｍ以上が特に好ましい。
また、保護フィルムの剥離力は、仮支持体の剥離力よりも小さいことが好ましい。
感光性転写材料は、上述した層以外の層（以下「その他の層」ともいう。）を備えてもよい。その他の層としては、例えば、コントラストエンハンスメント層が挙げられる。
コントラストエンハンスメント層については、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落０１３４に記載されている。また、その他の層については特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１９４～０１９６に記載されている。これらの公報の内容は本明細書に組み込まれる。
コントラストエンハンスメント層については、国際公開第２０１８／１７９６４０号の段落０１３４に記載されている。また、その他の層については特開２０１４－８５６４３号公報の段落０１９４～０１９６に記載されている。これらの公報の内容は本明細書に組み込まれる。
感光性転写材料の総厚みは、５μｍ～５５μｍであることが好ましく、１０μｍ～５０μｍであることがより好ましく、２０μｍ～４０μｍであることが特に好ましい。感光性転写材料の総厚みは、上記各層の厚みの測定方法に準ずる方法によって測定する。
感光性転写材料における仮支持体及び保護フィルムを除く各層の総厚みは、本開示における効果をより発揮する観点から、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、８μｍ以下であることが更に好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることが特に好ましい。
また、感光性転写材料における感光性層、中間層及び熱可塑性樹脂層の総厚みは、本開示における効果をより発揮する観点から、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、８μｍ以下であることが更に好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることが特に好ましい。
感光性転写材料における仮支持体及び保護フィルムを除く各層の総厚みは、本開示における効果をより発揮する観点から、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、８μｍ以下であることが更に好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることが特に好ましい。
また、感光性転写材料における感光性層、中間層及び熱可塑性樹脂層の総厚みは、本開示における効果をより発揮する観点から、２０μｍ以下であることが好ましく、１０μｍ以下であることがより好ましく、８μｍ以下であることが更に好ましく、２μｍ以上８μｍ以下であることが特に好ましい。
〔感光性転写材料の製造方法〕
本開示に係る感光性転写材料の製造方法は、特に制限されず、公知の製造方法、例えば、公知の各層の形成方法を用いることができる。
以下、図１を参照しながら、本開示に係る感光性転写材料の製造方法について説明する。但し、本開示に係る感光性転写材料は、図１に示す構成を有するものに制限されない。
図１は、本開示に係る感光性転写材料の一実施態様における層構成の一例を示す概略断面図である。図１に示す感光性転写材料２０は、仮支持体１１と、熱可塑性樹脂層１３と、中間層１５と、感光性層１７と、保護フィルム１９とがこの順に積層された構成を有する。
本開示に係る感光性転写材料の製造方法は、特に制限されず、公知の製造方法、例えば、公知の各層の形成方法を用いることができる。
以下、図１を参照しながら、本開示に係る感光性転写材料の製造方法について説明する。但し、本開示に係る感光性転写材料は、図１に示す構成を有するものに制限されない。
図１は、本開示に係る感光性転写材料の一実施態様における層構成の一例を示す概略断面図である。図１に示す感光性転写材料２０は、仮支持体１１と、熱可塑性樹脂層１３と、中間層１５と、感光性層１７と、保護フィルム１９とがこの順に積層された構成を有する。
上記の感光性転写材料２０の製造方法としては、例えば、仮支持体１１の表面に熱可塑性樹脂組成物を塗布した後、熱可塑性樹脂組成物の塗膜を乾燥させることにより、熱可塑性樹脂層１２を形成する工程と、熱可塑性樹脂層１３の表面に中間層組成物を塗布した後、中間層組成物の塗膜を乾燥させて中間層１５を形成する工程と、中間層１５の表面に重合開始剤及び重合性化合物を含有する感光性組成物を塗布した後、感光性組成物の塗膜を乾燥させて感光性層１６を形成する工程とを含む方法が挙げられる。
上記の製造方法において、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種を含有する熱可塑性樹脂組成物と、水及び水混和性の有機溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種を含有する中間層組成物と、重合性化合物、重合開始剤、並びに、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種を含有する感光性組成物とを使用することが好ましい。これにより、熱可塑性樹脂層１３の表面への中間層組成物の塗布、及び／又は、中間層組成物の塗膜を有する積層体の保存期間における、熱可塑性樹脂層１３に含有される成分と中間層１５に含有される成分との混合を抑制でき、なおかつ、中間層１５の表面への感光性組成物の塗布、及び／又は、感光性組成物の塗膜を有する積層体の保存期間における、中間層１５に含有される成分と感光性層１６に含有される成分との混合を抑制できる。
上記の製造方法において、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種を含有する熱可塑性樹脂組成物と、水及び水混和性の有機溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種を含有する中間層組成物と、重合性化合物、重合開始剤、並びに、アルキレングリコールエーテル溶剤及びアルキレングリコールエーテルアセテート溶剤よりなる群から選択される少なくとも１種を含有する感光性組成物とを使用することが好ましい。これにより、熱可塑性樹脂層１３の表面への中間層組成物の塗布、及び／又は、中間層組成物の塗膜を有する積層体の保存期間における、熱可塑性樹脂層１３に含有される成分と中間層１５に含有される成分との混合を抑制でき、なおかつ、中間層１５の表面への感光性組成物の塗布、及び／又は、感光性組成物の塗膜を有する積層体の保存期間における、中間層１５に含有される成分と感光性層１６に含有される成分との混合を抑制できる。
上記の製造方法により製造された積層体の感光性層１７に、保護フィルム１９を圧着させることにより、感光性転写材料２０が製造される。
本開示に用いられる感光性転写材料の製造方法としては、感光性層１７に接するように保護フィルム１９を設ける工程を含むことにより、仮支持体１１、熱可塑性樹脂層１３、中間層１５、感光性層１７及び保護フィルム１９を備える感光性転写材料２０を製造することが好ましい。
上記の製造方法により感光性転写材料２０を製造した後、感光性転写材料２０を巻き取ることにより、ロール形態の感光性転写材料を作製及び保管してもよい。ロール形態の感光性転写材料は、後述するロールツーロール方式での基板との貼り合わせ工程にそのままの形態で提供できる。
本開示に用いられる感光性転写材料の製造方法としては、感光性層１７に接するように保護フィルム１９を設ける工程を含むことにより、仮支持体１１、熱可塑性樹脂層１３、中間層１５、感光性層１７及び保護フィルム１９を備える感光性転写材料２０を製造することが好ましい。
上記の製造方法により感光性転写材料２０を製造した後、感光性転写材料２０を巻き取ることにより、ロール形態の感光性転写材料を作製及び保管してもよい。ロール形態の感光性転写材料は、後述するロールツーロール方式での基板との貼り合わせ工程にそのままの形態で提供できる。
本開示に係る感光性転写材料は、フォトリソグラフィによる精密微細加工が必要な各種用途に好適に用いることができる。感光性層をパターニング後に、感光性層を被膜としてエッチングをしてもよいし、電気めっきを主体とするエレクトロフォーミングを行ってもよい。また、パターニングによって得られた硬化膜は、永久膜として使用してもよく、例えば、層間絶縁膜、配線保護膜、インデックスマッチング層を有する配線保護膜などとして用いてもよい。また、本開示に係る感光性転写材料は、半導体パッケージ、プリント基板、センサー基板の各種配線形成用途、タッチパネル、電磁波シールド材、フィルムヒーターのような導電性フィルム、液晶シール材、マイクロマシン又はマイクロエレクトロニクス分野における構造物の形成等の用途に好適に使用し得る。
また、本開示に係る感光性転写材料は、感光性層が顔料を含む着色樹脂層である態様も好ましく挙げられる。
着色樹脂層の用途としては、上述した以外に、例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ）、並びに、固体撮像素子〔例えば、ＣＣＤ（charge-coupled device）及びＣＭＯＳ（complementary metal oxide semiconductor）〕に用いられるカラーフィルタ等の着色画素又はブラックマトリクスを形成する用途に好適である。
着色樹脂層における顔料以外の態様については、上述した態様と同様である。
着色樹脂層の用途としては、上述した以外に、例えば、液晶表示装置（ＬＣＤ）、並びに、固体撮像素子〔例えば、ＣＣＤ（charge-coupled device）及びＣＭＯＳ（complementary metal oxide semiconductor）〕に用いられるカラーフィルタ等の着色画素又はブラックマトリクスを形成する用途に好適である。
着色樹脂層における顔料以外の態様については、上述した態様と同様である。
＜顔料＞
感光性層は、顔料を含む着色樹脂層となっていてもよい。
近年の電子機器が有する液晶表示窓には、液晶表示窓を保護するために、透明なガラス基板等の裏面周縁部に黒色の枠状遮光層が形成されたカバーガラスが取り付けられている場合がある。このような遮光層を形成するために着色樹脂層が使用し得る。
顔料としては、所望とする色相に合わせて適宜選択すればよく、黒色顔料、白色顔料、黒色及び白色以外の有彩色の顔料の中から選択できる。中でも、黒色系のパターンを形成する場合には、顔料として黒色顔料が好適に選択される。
感光性層は、顔料を含む着色樹脂層となっていてもよい。
近年の電子機器が有する液晶表示窓には、液晶表示窓を保護するために、透明なガラス基板等の裏面周縁部に黒色の枠状遮光層が形成されたカバーガラスが取り付けられている場合がある。このような遮光層を形成するために着色樹脂層が使用し得る。
顔料としては、所望とする色相に合わせて適宜選択すればよく、黒色顔料、白色顔料、黒色及び白色以外の有彩色の顔料の中から選択できる。中でも、黒色系のパターンを形成する場合には、顔料として黒色顔料が好適に選択される。
黒色顔料としては、本開示における効果を損なわない範囲であれば、公知の黒色顔料（有機顔料又は無機顔料等）を適宜選択することができる。中でも、光学濃度の観点から、黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、酸化チタン、チタンカーバイド、酸化鉄、酸化チタン及び黒鉛等が好適に挙げられ、カーボンブラックが特に好ましい。カーボンブラックとしては、表面抵抗の観点から、表面の少なくとも一部が樹脂で被覆されたカーボンブラックが好ましい。
黒色顔料の粒径は、分散安定性の観点から、数平均粒径で０．００１μｍ～０．１μｍが好ましく、０．０１μｍ～０．０８μｍがより好ましい。
ここで、粒径とは、電子顕微鏡で撮影した顔料粒子の写真像から顔料粒子の面積を求め、顔料粒子の面積と同面積の円を考えた場合の円の直径を指し、数平均粒径は、任意の１００個の粒子について上記の粒径を求め、求められた１００個の粒径を平均して得られる平均値である。
ここで、粒径とは、電子顕微鏡で撮影した顔料粒子の写真像から顔料粒子の面積を求め、顔料粒子の面積と同面積の円を考えた場合の円の直径を指し、数平均粒径は、任意の１００個の粒子について上記の粒径を求め、求められた１００個の粒径を平均して得られる平均値である。
黒色顔料以外の顔料として、白色顔料については、特開２００５－００７７６５号公報の段落００１５及び０１１４に記載の白色顔料を使用できる。具体的には、白色顔料のうち、無機顔料としては、酸化チタン、酸化亜鉛、リトポン、軽質炭酸カルシウム、ホワイトカーボン、酸化アルミニウム、水酸化アルミニウム、又は硫酸バリウムが好ましく、酸化チタン又は酸化亜鉛がより好ましく、酸化チタンが更に好ましい。無機顔料としては、ルチル型又はアナターゼ型の酸化チタンが更に好ましく、ルチル型の酸化チタンが特に好ましい。
また、酸化チタンの表面は、シリカ処理、アルミナ処理、チタニア処理、ジルコニア処理、又は有機物処理が施されていてもよく、二つ以上の処理が施されてもよい。これにより、酸化チタンの触媒活性が抑制され、耐熱性及び褪光性等が改善される。
加熱後の感光性層の厚みを薄くする観点から、酸化チタンの表面への表面処理としては、アルミナ処理及びジルコニア処理の少なくとも一方が好ましく、アルミナ処理及びジルコニア処理の両方が特に好ましい。
また、酸化チタンの表面は、シリカ処理、アルミナ処理、チタニア処理、ジルコニア処理、又は有機物処理が施されていてもよく、二つ以上の処理が施されてもよい。これにより、酸化チタンの触媒活性が抑制され、耐熱性及び褪光性等が改善される。
加熱後の感光性層の厚みを薄くする観点から、酸化チタンの表面への表面処理としては、アルミナ処理及びジルコニア処理の少なくとも一方が好ましく、アルミナ処理及びジルコニア処理の両方が特に好ましい。
また、感光性層が着色樹脂層である場合、転写性の観点から、感光性層は、黒色顔料及び白色顔料以外の有彩色の顔料を更に含んでいることも好ましい。有彩色の顔料を含む場合、有彩色の顔料の粒径としては、分散性がより優れる点で、０．１μｍ以下が好ましく、０．０８μｍ以下がより好ましい。
有彩色の顔料としては、例えば、ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃｏｌｏｒ Ｉｎｄｅｘ（以下Ｃ．Ｉ．）４２５９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、ファット・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、モノライト・エローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１２）、パーマネント・エローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１７）、パーマネント・エローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー８３）、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、ホスターバームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１）、ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）、モナストラル・ファースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５）、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１）及びカーボン、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６４、及びＣ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３等が挙げられる。中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７が好ましい。
有彩色の顔料としては、例えば、ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃｏｌｏｒ Ｉｎｄｅｘ（以下Ｃ．Ｉ．）４２５９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、ファット・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、モノライト・エローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１２）、パーマネント・エローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１７）、パーマネント・エローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー８３）、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、ホスターバームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１）、ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）、モナストラル・ファースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５）、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１）及びカーボン、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６４、及びＣ．Ｉ．ピグメント・バイオレット２３等が挙げられる。中でも、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７が好ましい。
感光性層が顔料を含む場合、顔料の含有量としては、感光性層の全質量に対して、３質量％超４０質量％以下が好ましく、３質量％超３５質量％以下がより好ましく、５質量％超３５質量％以下が更に好ましく、１０質量％以上３５質量％以下が特に好ましい。
感光性層が黒色顔料以外の顔料（白色顔料及び有彩色の顔料）を含む場合、黒色顔料以外の顔料の含有量は、黒色顔料に対して、３０質量％以下が好ましく、１質量％～２０質量％がより好ましく、３質量％～１５質量％が更に好ましい。
なお、感光性層が黒色顔料を含み、且つ、感光性層が感光性樹脂組成物で形成される場合、黒色顔料（好ましくはカーボンブラック）は、顔料分散液の形態で感光性樹脂組成物に導入されることが好ましい。
分散液は、黒色顔料と顔料分散剤とをあらかじめ混合して得られる混合物を、有機溶剤（又はビヒクル）に加えて分散機で分散させることによって調製されるものでもよい。顔料分散剤は、顔料及び溶剤に応じて選択すればよく、例えば市販の分散剤を使用することができる。なお、ビヒクルとは、顔料分散液とした場合に顔料を分散させている媒質の部分を指し、液状であり、黒色顔料を分散状態で保持するバインダー成分と、バインダー成分を溶解及び希釈する溶剤成分（有機溶剤）と、を含む。
分散液は、黒色顔料と顔料分散剤とをあらかじめ混合して得られる混合物を、有機溶剤（又はビヒクル）に加えて分散機で分散させることによって調製されるものでもよい。顔料分散剤は、顔料及び溶剤に応じて選択すればよく、例えば市販の分散剤を使用することができる。なお、ビヒクルとは、顔料分散液とした場合に顔料を分散させている媒質の部分を指し、液状であり、黒色顔料を分散状態で保持するバインダー成分と、バインダー成分を溶解及び希釈する溶剤成分（有機溶剤）と、を含む。
分散機としては、特に制限はなく、例えば、ニーダー、ロールミル、アトライター、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、及びサンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に、機械的摩砕により摩擦力を利用して微粉砕してもよい。分散機及び微粉砕については、「顔料の事典」（朝倉邦造著、第一版、朝倉書店、２０００年、４３８頁、３１０頁）の記載を参照することができる。
（樹脂パターンの製造方法、積層体の製造方法、及び、回路配線の製造方法）
本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、本開示に係る感光性転写材料を用いて基板上に樹脂パターンを形成する樹脂パターンの製造方法である。
本開示に係る樹脂パターンの製造方法としては、本開示に係る感光性転写材料における感光性層側が基板と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる工程（以下「貼り合わせ工程」ともいう。）と、上記仮支持体を剥離する工程（以下「仮支持体剥離工程」ともいう。）と、上記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程（以下「パターン形成工程」ともいう。）とをこの順に含む方法が好ましい。
また、本開示に係る樹脂パターンの製造方法としては、上記貼り合わせ工程の前に、上記保護フィルムを剥離する工程（以下「保護フィルム剥離工程」ともいう。）を含むことが好ましい。
なお、樹脂パターンの製造方法、積層体の製造方法、回路配線の製造方法、及び、電子デバイスの製造方法での貼り合わせ工程において上記基板と貼り合わせる上記感光性転写材料は、保護フィルムを有しないものとする。保護フィルムを有する感光性転写材料である場合は、樹脂パターンの製造方法、積層体の製造方法、回路配線の製造方法、又は、電子デバイスの製造方法はそれぞれ、貼り合わせ工程の前に、保護フィルムを剥離する工程を含む。
本開示に係る樹脂パターンの製造方法は、本開示に係る感光性転写材料を用いて基板上に樹脂パターンを形成する樹脂パターンの製造方法である。
本開示に係る樹脂パターンの製造方法としては、本開示に係る感光性転写材料における感光性層側が基板と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる工程（以下「貼り合わせ工程」ともいう。）と、上記仮支持体を剥離する工程（以下「仮支持体剥離工程」ともいう。）と、上記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程（以下「パターン形成工程」ともいう。）とをこの順に含む方法が好ましい。
また、本開示に係る樹脂パターンの製造方法としては、上記貼り合わせ工程の前に、上記保護フィルムを剥離する工程（以下「保護フィルム剥離工程」ともいう。）を含むことが好ましい。
なお、樹脂パターンの製造方法、積層体の製造方法、回路配線の製造方法、及び、電子デバイスの製造方法での貼り合わせ工程において上記基板と貼り合わせる上記感光性転写材料は、保護フィルムを有しないものとする。保護フィルムを有する感光性転写材料である場合は、樹脂パターンの製造方法、積層体の製造方法、回路配線の製造方法、又は、電子デバイスの製造方法はそれぞれ、貼り合わせ工程の前に、保護フィルムを剥離する工程を含む。
本開示に係る積層体の製造方法は、本開示に係る感光性転写材料を用いて基板上に樹脂パターンを有する積層体の製造方法である。
本開示に係る積層体の製造方法としては、本開示に係る感光性転写材料における感光性層側が基板と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる工程と、上記仮支持体を剥離する工程と、上記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程とをこの順に含む方法が好ましい。
また、本開示に係る積層体の製造方法としては、上記貼り合わせ工程の前に、上記保護フィルムを剥離する工程を含むことが好ましい。
本開示に係る積層体の製造方法としては、本開示に係る感光性転写材料における感光性層側が基板と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる工程と、上記仮支持体を剥離する工程と、上記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程とをこの順に含む方法が好ましい。
また、本開示に係る積層体の製造方法としては、上記貼り合わせ工程の前に、上記保護フィルムを剥離する工程を含むことが好ましい。
本開示に係る回路配線の製造方法は、本開示に係る感光性転写材料を用いる方法であれば、特に制限されない。
本開示に係る回路配線の製造方法としては、本開示にかかる感光性転写材料における感光性層側が導電層を有する基板における上記導電層と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる工程と、上記仮支持体を剥離する工程と、上記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程と、上記パターンが配置されていない領域における上記導電層をエッチング処理する工程（以下「エッチング工程」ともいう。）とをこの順に含む方法が好ましい。
また、本開示に係る回路配線の製造方法としては、上記貼り合わせ工程の前に、上記保護フィルムを剥離する工程を含むことが好ましい。
以下、樹脂パターンの製造方法、積層体の製造方法及び回路配線の製造方法が含む各工程について説明するが、特に言及した場合を除き、樹脂パターンの製造方法又は積層体の製造方法に含まれる各工程について説明した内容は、回路配線の製造方法に含まれる各工程についても適用されるものとする。
本開示に係る回路配線の製造方法としては、本開示にかかる感光性転写材料における感光性層側が導電層を有する基板における上記導電層と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる工程と、上記仮支持体を剥離する工程と、上記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程と、上記パターンが配置されていない領域における上記導電層をエッチング処理する工程（以下「エッチング工程」ともいう。）とをこの順に含む方法が好ましい。
また、本開示に係る回路配線の製造方法としては、上記貼り合わせ工程の前に、上記保護フィルムを剥離する工程を含むことが好ましい。
以下、樹脂パターンの製造方法、積層体の製造方法及び回路配線の製造方法が含む各工程について説明するが、特に言及した場合を除き、樹脂パターンの製造方法又は積層体の製造方法に含まれる各工程について説明した内容は、回路配線の製造方法に含まれる各工程についても適用されるものとする。
＜保護フィルム剥離工程＞
樹脂パターンの製造方法又は積層体の製造方法は、本開示に係る感光性転写材料から上記保護フィルムを剥離する工程を含むことが好ましい。保護フィルムを剥離する方法は、制限されず、公知の方法を適用することができる。
樹脂パターンの製造方法又は積層体の製造方法は、本開示に係る感光性転写材料から上記保護フィルムを剥離する工程を含むことが好ましい。保護フィルムを剥離する方法は、制限されず、公知の方法を適用することができる。
＜貼り合わせ工程＞
樹脂パターンの製造方法又は積層体の製造方法は、貼り合わせ工程を含むことが好ましい。
貼り合わせ工程においては、感光性転写材料における上記仮支持体に対して感光性層を有する側の最外層に基板（基板の表面に導電層が設けられている場合は導電層）を接触させ、感光性転写材料と基板とを圧着させることが好ましい。上記態様であると、感光性転写材料における上記仮支持体に対して感光性層を有する側の最外層と基板との密着性が向上するため、露光及び現像後のパターン形成された感光性層は、導電層をエッチングする際のエッチングレジストとして好適に用いることができる。
樹脂パターンの製造方法又は積層体の製造方法は、貼り合わせ工程を含むことが好ましい。
貼り合わせ工程においては、感光性転写材料における上記仮支持体に対して感光性層を有する側の最外層に基板（基板の表面に導電層が設けられている場合は導電層）を接触させ、感光性転写材料と基板とを圧着させることが好ましい。上記態様であると、感光性転写材料における上記仮支持体に対して感光性層を有する側の最外層と基板との密着性が向上するため、露光及び現像後のパターン形成された感光性層は、導電層をエッチングする際のエッチングレジストとして好適に用いることができる。
また、貼り合わせ工程は、感光性転写材料が感光性層の仮支持体と対向していない側の表面に保護フィルム以外の層（例えば高屈折率層及び／又は低屈折率層）を更に備える場合、感光性層の仮支持体を有していない側の表面と基板とがその層を介して貼り合わされる態様となる。
基板と感光性転写材料とを圧着する方法としては、特に制限されず、公知の転写方法、及び、ラミネート方法を用いることができる。
感光性転写材料の基板への貼り合わせは、感光性転写材料における上記仮支持体に対して感光性層を有する側の最外層と基板と重ね、ロール等の手段を用いて加圧及び加熱を施すことにより、行われることが好ましい。貼り合わせには、ラミネーター、真空ラミネーター、及び、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターが使用できる。
ラミネート温度としては、特に制限されないが、例えば、７０℃～１３０℃であることが好ましい。
感光性転写材料の基板への貼り合わせは、感光性転写材料における上記仮支持体に対して感光性層を有する側の最外層と基板と重ね、ロール等の手段を用いて加圧及び加熱を施すことにより、行われることが好ましい。貼り合わせには、ラミネーター、真空ラミネーター、及び、より生産性を高めることができるオートカットラミネーター等の公知のラミネーターが使用できる。
ラミネート温度としては、特に制限されないが、例えば、７０℃～１３０℃であることが好ましい。
貼り合わせ工程を含む樹脂パターンの製造方法及び積層体の製造方法は、ロールツーロール方式により行われることが好ましい。
以下、ロールツーロール方式について説明する。
ロールツーロール方式とは、基板として、巻き取り及び巻き出しが可能な基板を用い、樹脂パターンの製造方法又はエッチング方法に含まれるいずれかの工程の前に、基板又は基板を含む構造体を巻き出す工程（「巻き出し工程」ともいう。）と、いずれかの工程の後に、基板又は基板を含む構造体を巻き取る工程（「巻き取り工程」ともいう。）と、を含み、少なくともいずれかの工程（好ましくは、全ての工程、又は加熱工程以外の全ての工程）を、基板又は基板を含む構造体を搬送しながら行う方式をいう。
巻き出し工程における巻き出し方法、及び巻き取り工程における巻取り方法としては、特に制限されず、ロールツーロール方式を適用する製造方法において、公知の方法を用いればよい。
以下、ロールツーロール方式について説明する。
ロールツーロール方式とは、基板として、巻き取り及び巻き出しが可能な基板を用い、樹脂パターンの製造方法又はエッチング方法に含まれるいずれかの工程の前に、基板又は基板を含む構造体を巻き出す工程（「巻き出し工程」ともいう。）と、いずれかの工程の後に、基板又は基板を含む構造体を巻き取る工程（「巻き取り工程」ともいう。）と、を含み、少なくともいずれかの工程（好ましくは、全ての工程、又は加熱工程以外の全ての工程）を、基板又は基板を含む構造体を搬送しながら行う方式をいう。
巻き出し工程における巻き出し方法、及び巻き取り工程における巻取り方法としては、特に制限されず、ロールツーロール方式を適用する製造方法において、公知の方法を用いればよい。
＜基板＞
本開示に係る樹脂パターンの製造方法に用いられる基板としては、公知の基板を用いればよいが、導電層を有する基板が好ましく、基板の表面に導電層を有することがより好ましい。
基板は、必要に応じて導電層以外の任意の層を有してもよい。
基板としては、例えば、樹脂基板、ガラス基板、及び、半導体基板が挙げられる。
基板の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落０１４０に記載が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
本開示に係る樹脂パターンの製造方法に用いられる基板としては、公知の基板を用いればよいが、導電層を有する基板が好ましく、基板の表面に導電層を有することがより好ましい。
基板は、必要に応じて導電層以外の任意の層を有してもよい。
基板としては、例えば、樹脂基板、ガラス基板、及び、半導体基板が挙げられる。
基板の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落０１４０に記載が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
基板を構成する基材としては、例えば、ガラス、シリコン及びフィルムが挙げられる。
基板を構成する基材は、透明であることが好ましい。本明細書において「透明である」とは、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの光の透過率が８０％以上であることを意味する。
また、基板を構成する基板の屈折率は、１．５０～１．５２であることが好ましい。
基板を構成する基材は、透明であることが好ましい。本明細書において「透明である」とは、波長４００ｎｍ～７００ｎｍの光の透過率が８０％以上であることを意味する。
また、基板を構成する基板の屈折率は、１．５０～１．５２であることが好ましい。
透明なガラス基板としては、コーニング社のゴリラガラスに代表される強化ガラスが挙げられる。また、透明なガラス基板としては、特開２０１０－８６６８４号公報、特開２０１０－１５２８０９号公報及び特開２０１０－２５７４９２号公報に用いられている材料を用いることができる。
基板としてフィルム基板を用いる場合は、光学的に歪みが小さく、かつ／又は、透明度が高いフィルム基板を用いることが好ましい。そのようなフィルム基板としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース及びシクロオレフィンポリマーが挙げられる。
基板としては、ロールツーロール方式で製造する場合、フィルム基板が好ましい。また、ロールツーロール方式によりタッチパネル用の回路配線を製造する場合、基板がシート状樹脂組成物であることが好ましい。
基板が有する導電層としては、一般的な回路配線又はタッチパネル配線に用いられる導電層が挙げられる。
導電層としては、導電性及び細線形成性の観点から、金属層、導電性金属酸化物層、グラフェン層、カーボンナノチューブ層及び導電ポリマー層よりなる群から選ばれた少なくとも１種の層が好ましく、金属層がより好ましく、銅層又は銀層が更に好ましい。
基板は、導電層を１層単独で有してよく、２層以上有してもよい。２層以上の導電層を有する場合は、異なる材質の導電層を有することが好ましい。
導電層としては、導電性及び細線形成性の観点から、金属層、導電性金属酸化物層、グラフェン層、カーボンナノチューブ層及び導電ポリマー層よりなる群から選ばれた少なくとも１種の層が好ましく、金属層がより好ましく、銅層又は銀層が更に好ましい。
基板は、導電層を１層単独で有してよく、２層以上有してもよい。２層以上の導電層を有する場合は、異なる材質の導電層を有することが好ましい。
導電層の材料としては、金属及び導電性金属酸化物が挙げられる。
金属としては、Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｇ及びＡｕが挙げられる。
導電性金属酸化物としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）及びＳｉＯ２が挙げられる。
なお、本明細書において「導電性」とは、体積抵抗率が１×１０６Ωｃｍ未満であることをいう。導電性金属酸化物の体積抵抗率は、１×１０４Ωｃｍ未満が好ましい。
金属としては、Ａｌ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ａｇ及びＡｕが挙げられる。
導電性金属酸化物としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｔｉｎ Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ Ｚｉｎｃ Ｏｘｉｄｅ）及びＳｉＯ２が挙げられる。
なお、本明細書において「導電性」とは、体積抵抗率が１×１０６Ωｃｍ未満であることをいう。導電性金属酸化物の体積抵抗率は、１×１０４Ωｃｍ未満が好ましい。
複数の導電層を有する基板を用いて樹脂パターンを製造する場合、複数の導電層のうち少なくとも一つの導電層は導電性金属酸化物を含有することが好ましい。
導電層としては、静電容量型タッチパネルに用いられる視認部のセンサーに相当する電極パターン又は周辺取り出し部の配線が好ましい。
導電層の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落０１４１に記載が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
導電層としては、静電容量型タッチパネルに用いられる視認部のセンサーに相当する電極パターン又は周辺取り出し部の配線が好ましい。
導電層の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落０１４１に記載が挙げられ、この内容は本明細書に組み込まれる。
導電層を有する基板としては、透明電極及び引き回し配線の少なくとも一方を有する基板が好ましい。上記のような基板は、タッチパネル用基板として好適に使用できる。
透明電極は、タッチパネル用電極として好適に機能し得る。透明電極は、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、及び、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の金属酸化膜、並びに、金属メッシュ、及び、銀ナノワイヤー等の金属細線により構成されることが好ましい。
金属細線としては、銀、銅等の細線が挙げられる。なかでも、銀メッシュ、銀ナノワイヤー等の銀導電性材料が好ましい。
透明電極は、タッチパネル用電極として好適に機能し得る。透明電極は、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、及び、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の金属酸化膜、並びに、金属メッシュ、及び、銀ナノワイヤー等の金属細線により構成されることが好ましい。
金属細線としては、銀、銅等の細線が挙げられる。なかでも、銀メッシュ、銀ナノワイヤー等の銀導電性材料が好ましい。
引き回し配線の材質としては、金属が好ましい。
引き回し配線の材質である金属としては、金、銀、銅、モリブデン、アルミニウム、チタン、クロム、亜鉛、及び、マンガン、並びに、これらの金属元素の２種以上からなる合金が挙げられる。引き回し配線の材質としては、銅、モリブデン、アルミニウム、又は、チタンが好ましく、銅が特に好ましい。
引き回し配線の材質である金属としては、金、銀、銅、モリブデン、アルミニウム、チタン、クロム、亜鉛、及び、マンガン、並びに、これらの金属元素の２種以上からなる合金が挙げられる。引き回し配線の材質としては、銅、モリブデン、アルミニウム、又は、チタンが好ましく、銅が特に好ましい。
本開示に係る感光性転写材料を用いて形成されたタッチパネル用電極保護膜は、電極等（すなわち、タッチパネル用電極及びタッチパネル用配線の少なくとも一方）を保護する目的で、電極等を直接又は他の層を介して覆うように設けられることが好ましい。
＜仮支持体剥離工程＞
樹脂パターンの製造方法又は積層体の製造方法は、貼り合わせ工程とパターン形成工程との間に、仮支持体を剥離する仮支持体剥離工程を含むことが好ましい。
仮支持体の剥離方法は特に制限されず、特開２０１０－０７２５８９号公報の段落０１６１～０１６２に記載されたカバーフィルム剥離機構と同様の機構を使用できる。
樹脂パターンの製造方法又は積層体の製造方法は、貼り合わせ工程とパターン形成工程との間に、仮支持体を剥離する仮支持体剥離工程を含むことが好ましい。
仮支持体の剥離方法は特に制限されず、特開２０１０－０７２５８９号公報の段落０１６１～０１６２に記載されたカバーフィルム剥離機構と同様の機構を使用できる。
＜パターン形成工程＞
樹脂パターンの製造方法又は積層体の製造方法は、上記貼り合わせ工程の後、上記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程（パターン形成工程）を含むことが好ましい。
上記露光処理は、パターン状の露光処理（「パターン露光」ともいう。）、すなわち、露光部と非露光部とが存在する形態の露光処理である。
パターン露光における露光領域と未露光領域との位置関係は特に制限されず、適宜調整される。
樹脂パターンの製造方法又は積層体の製造方法は、上記貼り合わせ工程の後、上記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程（パターン形成工程）を含むことが好ましい。
上記露光処理は、パターン状の露光処理（「パターン露光」ともいう。）、すなわち、露光部と非露光部とが存在する形態の露光処理である。
パターン露光における露光領域と未露光領域との位置関係は特に制限されず、適宜調整される。
パターン露光におけるパターンの詳細な配置及び具体的サイズは特に制限されない。例えば、エッチング方法により製造される回路配線を有する入力装置を備えた表示装置（例えばタッチパネル）の表示品質を高め、また、取り出し配線の占める面積が小さくなるように、パターンの少なくとも一部（好ましくはタッチパネルの電極パターン及び／又は取り出し配線の部分）は幅が２０μｍ以下である細線を含むことが好ましく、幅が１０μｍ以下の細線を含むことがより好ましい。
露光に使用する光源は、感光性層を露光可能な波長の光（例えば、３６５ｎｍ又は４０５ｎｍ）を照射する光源であれば、適宜選定して用いることができる。具体的には、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、メタルハライドランプ及びＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ Ｅｍｉｔｔｉｎｇ Ｄｉｏｄｅ）が挙げられる。
露光量としては、５ｍＪ／ｃｍ２～２００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ２～１００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
露光に使用する光源、露光量及び露光方法の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落０１４６～０１４７に記載が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
露光量としては、５ｍＪ／ｃｍ２～２００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、１０ｍＪ／ｃｍ２～１００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
露光に使用する光源、露光量及び露光方法の好ましい態様としては、例えば、国際公開第２０１８／１５５１９３号の段落０１４６～０１４７に記載が挙げられ、これらの内容は本明細書に組み込まれる。
パターン形成工程においては、感光性層から仮支持体を剥離した後にパターン露光してもよく、仮支持体を剥離する前に、仮支持体を介してパターン露光し、その後、仮支持体を剥離してもよい。マスクは、露光前に仮支持体を剥離した場合には、感光性層と接触させて露光してもよいし、接触せずに近接させて露光してもよい。仮支持体を剥離せずに露光する場合には、マスクは、仮支持体と接触させて露光してもよいし、接触せずに近接させて露光してもよい。感光性層とマスクとの接触によるマスク汚染の防止、及びマスクに付着した異物による露光への影響を避けるためには、仮支持体を剥離せずにパターン露光することが好ましい。なお、露光方式は、接触露光の場合は、コンタクト露光方式、非接触露光方式の場合は、プロキシミティ露光方式、レンズ系又はミラー系のプロジェクション露光方式、露光レーザー等を用いたダイレクト露光方式を適宜選択して用いることができる。レンズ系又はミラー系のプロジェクション露光の場合、必要な解像力、焦点深度に応じて、適当なレンズの開口数（ＮＡ）を有する露光機を用いることができる。ダイレクト露光方式の場合は、直接感光性層に描画を行ってもよいし、レンズを介して感光性層に縮小投影露光をしてもよい。また、露光は大気下で行うだけでなく、減圧、真空下で行ってもよく、また、光源と感光性層との間に水等の液体を介在させて露光してもよい。
パターン形成工程においては、露光後、露光された感光性層を現像処理してパターンを形成する。
パターン形成工程における露光された感光性層の現像は、現像液を用いて行うことができる。
現像液としては、感光性層の非画像部を除去することができれば特に制限されず、例えば、特開平５－７２７２４号公報に記載の現像液等の公知の現像液が使用できる。
現像液としては、ｐＫａ＝７～１３の化合物を０．０５ｍｏｌ／Ｌ～５ｍｏｌ／Ｌ（リットル）の濃度で含むアルカリ水溶液系の現像液が好ましい。現像液は、水溶性の有機溶剤及び／又は界面活性剤を含有してもよい。
アルカリ性水溶液に含まれ得るアルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、及び、コリン（２－ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド）が挙げられる。
現像液としては、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落０１９４に記載の現像液も好ましく挙げられる。好適に用いられる現像方式としては、例えば、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落０１９５に記載の現像方式が挙げられる。
現像液としては、感光性層の非画像部を除去することができれば特に制限されず、例えば、特開平５－７２７２４号公報に記載の現像液等の公知の現像液が使用できる。
現像液としては、ｐＫａ＝７～１３の化合物を０．０５ｍｏｌ／Ｌ～５ｍｏｌ／Ｌ（リットル）の濃度で含むアルカリ水溶液系の現像液が好ましい。現像液は、水溶性の有機溶剤及び／又は界面活性剤を含有してもよい。
アルカリ性水溶液に含まれ得るアルカリ性化合物としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、及び、コリン（２－ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムヒドロキシド）が挙げられる。
現像液としては、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落０１９４に記載の現像液も好ましく挙げられる。好適に用いられる現像方式としては、例えば、国際公開第２０１５／０９３２７１号の段落０１９５に記載の現像方式が挙げられる。
現像方式としては、特に制限されず、パドル現像、シャワー現像、シャワー及びスピン現像、並びに、ディップ現像のいずれであってもよい。シャワー現像とは、露光後の感光性層に現像液をシャワーにより吹き付けることにより、非画像部を除去する現像処理である。
パターン形成工程の後に、洗浄剤をシャワーにより吹き付け、ブラシで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。
現像液の液温は特に制限されないが、２０℃～４０℃が好ましい。
パターン形成工程の後に、洗浄剤をシャワーにより吹き付け、ブラシで擦りながら、現像残渣を除去することが好ましい。
現像液の液温は特に制限されないが、２０℃～４０℃が好ましい。
＜ポスト露光工程及びポストベーク工程＞
樹脂パターンの製造方法又は積層体の製造方法は、上記パターン形成工程によって得られた樹脂パターンを、露光する工程（ポスト露光工程）、及び／又は、加熱する工程（ポストベーク工程）を有していてもよい。
ポスト露光工程及びポストベーク工程の両方を含む場合、ポスト露光の後、ポストベークを実施することが好ましい。
樹脂パターンの製造方法又は積層体の製造方法は、上記パターン形成工程によって得られた樹脂パターンを、露光する工程（ポスト露光工程）、及び／又は、加熱する工程（ポストベーク工程）を有していてもよい。
ポスト露光工程及びポストベーク工程の両方を含む場合、ポスト露光の後、ポストベークを実施することが好ましい。
＜エッチング工程＞
回路配線の製造方法は、上記パターンが配置されていない領域における上記導電層をエッチング処理する工程（エッチング工程）を含むことが好ましい。
回路配線の製造方法は、上記パターンが配置されていない領域における上記導電層をエッチング処理する工程（エッチング工程）を含むことが好ましい。
エッチング工程では、感光性層から形成された樹脂パターンを、エッチングレジストとして使用し、導電層のエッチング処理を行う。
エッチング処理の方法としては、公知の方法を適用でき、例えば、特開２０１７－１２０４３５号公報の段落０２０９～段落０２１０に記載の方法、特開２０１０－１５２１５５号公報の段落００４８～段落００５４に記載の方法、エッチング液に浸漬するウェットエッチング法、及び、プラズマエッチング等のドライエッチングによる方法が挙げられる。
エッチング処理の方法としては、公知の方法を適用でき、例えば、特開２０１７－１２０４３５号公報の段落０２０９～段落０２１０に記載の方法、特開２０１０－１５２１５５号公報の段落００４８～段落００５４に記載の方法、エッチング液に浸漬するウェットエッチング法、及び、プラズマエッチング等のドライエッチングによる方法が挙げられる。
ウェットエッチングに用いられるエッチング液は、エッチングの対象に合わせて酸性又はアルカリ性のエッチング液を適宜選択すればよい。
酸性のエッチング液としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、フッ酸、シュウ酸及びリン酸から選択される酸性成分単独の水溶液、並びに、酸性成分と、塩化第２鉄、フッ化アンモニウム及び過マンガン酸カリウムから選択される塩との混合水溶液が挙げられる。酸性成分は、複数の酸性成分を組み合わせた成分であってもよい。
アルカリ性のエッチング液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、有機アミン、及び、有機アミンの塩（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド等）から選択されるアルカリ成分単独の水溶液、並びに、アルカリ成分と塩（過マンガン酸カリウム等）との混合水溶液が挙げられる。アルカリ成分は、複数のアルカリ成分を組み合わせた成分であってもよい。
酸性のエッチング液としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸、フッ酸、シュウ酸及びリン酸から選択される酸性成分単独の水溶液、並びに、酸性成分と、塩化第２鉄、フッ化アンモニウム及び過マンガン酸カリウムから選択される塩との混合水溶液が挙げられる。酸性成分は、複数の酸性成分を組み合わせた成分であってもよい。
アルカリ性のエッチング液としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア、有機アミン、及び、有機アミンの塩（テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド等）から選択されるアルカリ成分単独の水溶液、並びに、アルカリ成分と塩（過マンガン酸カリウム等）との混合水溶液が挙げられる。アルカリ成分は、複数のアルカリ成分を組み合わせた成分であってもよい。
＜除去工程＞
回路配線の製造方法においては、残存する樹脂パターンを除去する工程（除去工程）を行うことが好ましい。
除去工程は、特に制限されず、必要に応じて行うことができるが、エッチング工程の後に行うことが好ましい。
残存する樹脂パターンを除去する方法としては特に制限されないが、薬品処理により除去する方法が挙げられ、除去液を用いて除去する方法が好ましい。
感光性層の除去方法としては、液温が好ましくは３０℃～８０℃、より好ましくは５０℃～８０℃である撹拌中の除去液に、残存する樹脂パターンを有する基板を、１分間～３０分間浸漬する方法が挙げられる。
回路配線の製造方法においては、残存する樹脂パターンを除去する工程（除去工程）を行うことが好ましい。
除去工程は、特に制限されず、必要に応じて行うことができるが、エッチング工程の後に行うことが好ましい。
残存する樹脂パターンを除去する方法としては特に制限されないが、薬品処理により除去する方法が挙げられ、除去液を用いて除去する方法が好ましい。
感光性層の除去方法としては、液温が好ましくは３０℃～８０℃、より好ましくは５０℃～８０℃である撹拌中の除去液に、残存する樹脂パターンを有する基板を、１分間～３０分間浸漬する方法が挙げられる。
除去液としては、例えば、無機アルカリ成分又は有機アルカリ成分を、水、ジメチルスルホキシド、Ｎ－メチルピロリドン又はこれらの混合溶液に溶解させた除去液が挙げられる。無機アルカリ成分としては、例えば、水酸化ナトリウム及び水酸化カリウムが挙げられる。有機アルカリ成分としては、第一級アミン化合物、第二級アミン化合物、第三級アミン化合物及び第四級アンモニウム塩化合物が挙げられる。
また、除去液を使用し、スプレー法、シャワー法及びパドル法等の公知の方法により除去してもよい。
また、除去液を使用し、スプレー法、シャワー法及びパドル法等の公知の方法により除去してもよい。
＜その他の工程＞
樹脂パターンの製造方法、積層体の製造方法及び回路配線の製造方法は、上述した工程以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。例えば、以下の工程が挙げられるが、これらの工程に制限されない。
また、回路配線の製造方法に適用可能なパターン形成工程、及びその他の工程としては、特開２００６－２３６９６号公報の段落００３５～００５１に記載の工程が挙げられる。
更に、その他の工程としては、例えば、国際公開第２０１９／０２２０８９号の段落０１７２に記載の可視光線反射率を低下させる工程、国際公開第２０１９／０２２０８９号の段落０１７２に記載の絶縁膜上に新たな導電層を形成する工程等が挙げられるが、これらの工程に制限されない。
樹脂パターンの製造方法、積層体の製造方法及び回路配線の製造方法は、上述した工程以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。例えば、以下の工程が挙げられるが、これらの工程に制限されない。
また、回路配線の製造方法に適用可能なパターン形成工程、及びその他の工程としては、特開２００６－２３６９６号公報の段落００３５～００５１に記載の工程が挙げられる。
更に、その他の工程としては、例えば、国際公開第２０１９／０２２０８９号の段落０１７２に記載の可視光線反射率を低下させる工程、国際公開第２０１９／０２２０８９号の段落０１７２に記載の絶縁膜上に新たな導電層を形成する工程等が挙げられるが、これらの工程に制限されない。
－可視光線反射率を低下させる工程－
回路配線の製造方法は、基板が有する複数の導電層の一部又は全ての可視光線反射率を低下させる処理を行う工程を含んでいてもよい。
可視光線反射率を低下させる処理としては、酸化処理が挙げられる。基板が銅を含有する導電層を有する場合、銅を酸化処理して酸化銅とし、導電層を黒化することにより、導電層の可視光線反射率を低下させることができる。
可視光線反射率を低下させる処理については、特開２０１４－１５０１１８号公報の段落００１７～００２５、並びに、特開２０１３－２０６３１５号公報の段落００４１、段落００４２、段落００４８及び段落００５８に記載されており、これらの公報に記載の内容は本明細書に組み込まれる。
回路配線の製造方法は、基板が有する複数の導電層の一部又は全ての可視光線反射率を低下させる処理を行う工程を含んでいてもよい。
可視光線反射率を低下させる処理としては、酸化処理が挙げられる。基板が銅を含有する導電層を有する場合、銅を酸化処理して酸化銅とし、導電層を黒化することにより、導電層の可視光線反射率を低下させることができる。
可視光線反射率を低下させる処理については、特開２０１４－１５０１１８号公報の段落００１７～００２５、並びに、特開２０１３－２０６３１５号公報の段落００４１、段落００４２、段落００４８及び段落００５８に記載されており、これらの公報に記載の内容は本明細書に組み込まれる。
－絶縁膜を形成する工程、絶縁膜の表面に新たな導電層を形成する工程－
回路配線の製造方法は、回路配線の表面に絶縁膜を形成する工程と、絶縁膜の表面に新たな導電層を形成する工程と、を含むことも好ましい。
上記の工程により、第一の電極パターンと絶縁した第二の電極パターンを形成することができる。
絶縁膜を形成する工程としては、特に制限されず、公知の永久膜を形成する方法が挙げられる。また、絶縁性を有する感光性材料を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの絶縁膜を形成してもよい。
絶縁膜上に新たな導電層を形成する工程は、特に制限されず、例えば、導電性を有する感光性材料を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの新たな導電層を形成してもよい。
回路配線の製造方法は、回路配線の表面に絶縁膜を形成する工程と、絶縁膜の表面に新たな導電層を形成する工程と、を含むことも好ましい。
上記の工程により、第一の電極パターンと絶縁した第二の電極パターンを形成することができる。
絶縁膜を形成する工程としては、特に制限されず、公知の永久膜を形成する方法が挙げられる。また、絶縁性を有する感光性材料を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの絶縁膜を形成してもよい。
絶縁膜上に新たな導電層を形成する工程は、特に制限されず、例えば、導電性を有する感光性材料を用いて、フォトリソグラフィにより所望のパターンの新たな導電層を形成してもよい。
回路配線の製造方法は、基板の両方の表面にそれぞれ複数の導電層を有する基板を用い、基板の両方の表面に形成された導電層に対して逐次又は同時に回路形成することも好ましい。このような構成により、基板の一方の表面に第一の導電パターン、もう一方の表面に第二の導電パターンを形成したタッチパネル用回路配線を形成できる。また、このような構成のタッチパネル用回路配線を、ロールツーロールで基板の両面から形成することも好ましい。
＜用途＞
本開示に係る樹脂パターンの製造方法により製造された樹脂パターン、本開示に係る積層体の製造方法により製造される積層体、及び、本開示に係る回路配線の製造方法により製造される回路配線は、種々の装置に適用することができる。上記積層体を備えた装置としては、例えば、入力装置等が挙げられ、タッチパネルであることが好ましく、静電容量型タッチパネルであることがより好ましい。また、上記入力装置は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、液晶表示装置等の表示装置に適用することができる。
積層体がタッチパネルに適用される場合、形成された樹脂パターンは、タッチパネル用電極又はタッチパネル用配線の保護膜として用いられることが好ましい。つまり、本開示に係る感光性転写材料は、タッチパネル用電極保護膜又はタッチパネル用配線の形成に用いられることが好ましい。
本開示に係る樹脂パターンの製造方法により製造された樹脂パターン、本開示に係る積層体の製造方法により製造される積層体、及び、本開示に係る回路配線の製造方法により製造される回路配線は、種々の装置に適用することができる。上記積層体を備えた装置としては、例えば、入力装置等が挙げられ、タッチパネルであることが好ましく、静電容量型タッチパネルであることがより好ましい。また、上記入力装置は、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、液晶表示装置等の表示装置に適用することができる。
積層体がタッチパネルに適用される場合、形成された樹脂パターンは、タッチパネル用電極又はタッチパネル用配線の保護膜として用いられることが好ましい。つまり、本開示に係る感光性転写材料は、タッチパネル用電極保護膜又はタッチパネル用配線の形成に用いられることが好ましい。
（電子デバイスの製造方法）
本開示に係る電子デバイスの製造方法は、本開示に係る感光性転写材料を用いる方法であれば、特に制限されない。
本開示に係る電子デバイスの製造方法としては、本開示にかかる感光性転写材料における感光性層側が導電層を有する基板における上記導電層と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる工程と、上記仮支持体を剥離する工程と、上記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程と、上記パターンが配置されていない領域における上記導電層をエッチング処理する工程とをこの順に含む方法が好ましい。
また、本開示に係る電子デバイスの製造方法としては、上記貼り合わせ工程の前に、上記保護フィルムを剥離する工程を含むことが好ましい。
本開示に係る電子デバイスの製造方法は、本開示に係る感光性転写材料を用いる方法であれば、特に制限されない。
本開示に係る電子デバイスの製造方法としては、本開示にかかる感光性転写材料における感光性層側が導電層を有する基板における上記導電層と接するように、上記感光性転写材料と上記基板とを貼り合わせる工程と、上記仮支持体を剥離する工程と、上記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程と、上記パターンが配置されていない領域における上記導電層をエッチング処理する工程とをこの順に含む方法が好ましい。
また、本開示に係る電子デバイスの製造方法としては、上記貼り合わせ工程の前に、上記保護フィルムを剥離する工程を含むことが好ましい。
電子デバイスの製造方法における、各工程の具体的な態様、及び、各工程を行う順序等の実施態様については、上述の「樹脂パターンの製造方法」及び「エッチング方法」の項において説明した通りであり、好ましい態様も同様である。
電子デバイスの製造方法は、上記の方法により電子デバイス用配線を形成すること以外は、公知の電子デバイスの製造方法を参照すればよい。
また、電子デバイスの製造方法は、上述した以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。
電子デバイスの製造方法は、上記の方法により電子デバイス用配線を形成すること以外は、公知の電子デバイスの製造方法を参照すればよい。
また、電子デバイスの製造方法は、上述した以外の任意の工程（その他の工程）を含んでもよい。
電子デバイスとしては、特に制限はないが、半導体パッケージ、プリント基板、センサー基板の各種配線形成用途、タッチパネル、電磁波シールド材、フィルムヒーターのような導電性フィルム、液晶シール材、マイクロマシン又はマイクロエレクトロニクス分野における構造物が好適に挙げられる。
上記樹脂パターンは、上記電子デバイスにおいて、永久膜である、例えば、層間絶縁膜、配線保護膜、インデックスマッチング層を有する配線保護膜などとして用いることが好ましい。
中でも、電子デバイスとしては、タッチパネルが特に好適に挙げられる。
上記樹脂パターンは、上記電子デバイスにおいて、永久膜である、例えば、層間絶縁膜、配線保護膜、インデックスマッチング層を有する配線保護膜などとして用いることが好ましい。
中でも、電子デバイスとしては、タッチパネルが特に好適に挙げられる。
タッチパネルの製造に用いられるマスクのパターンの一例を、図２及び図３に示す。
図２に示されるパターンＡ、及び、図３に示されるパターンＢにおいて、ＧＲは非画像部（遮光部）であり、ＥＸは画像部（露光部）であり、ＤＬはアライメント合わせの枠を仮想的に示したものである。タッチパネルの製造方法において、例えば、図２に示されるパターンＡを有するマスクを介して上記感光性層を露光することで、ＥＸに対応するパターンＡを有する回路配線が形成されたタッチパネルを製造できる。具体的には、国際公開第２０１６／１９０４０５号の図１に記載の方法で作製できる。製造されたタッチパネルの一例においては、露光部ＥＸの中央部（資格が連結したパターン部分）は透明電極（タッチパネル用電極）が形成される部分であり、露光部ＥＸの周縁部（細線部分）は周辺取出し部の配線が形成される部分である。
図２に示されるパターンＡ、及び、図３に示されるパターンＢにおいて、ＧＲは非画像部（遮光部）であり、ＥＸは画像部（露光部）であり、ＤＬはアライメント合わせの枠を仮想的に示したものである。タッチパネルの製造方法において、例えば、図２に示されるパターンＡを有するマスクを介して上記感光性層を露光することで、ＥＸに対応するパターンＡを有する回路配線が形成されたタッチパネルを製造できる。具体的には、国際公開第２０１６／１９０４０５号の図１に記載の方法で作製できる。製造されたタッチパネルの一例においては、露光部ＥＸの中央部（資格が連結したパターン部分）は透明電極（タッチパネル用電極）が形成される部分であり、露光部ＥＸの周縁部（細線部分）は周辺取出し部の配線が形成される部分である。
上記電子デバイスの製造方法により、電子デバイス用配線を少なくとも有する電子デバイスが製造され、好ましくは、例えば、タッチパネル用配線を少なくとも有するタッチパネルが製造される。
タッチパネルは、透明基板と、電極と、絶縁層又は保護層とを有することが好ましい。
タッチパネルにおける検出方法としては、抵抗膜方式、静電容量方式、超音波方式、電磁誘導方式、及び、光学方式等の公知の方式が挙げられる。中でも、静電容量方式が好ましい。
タッチパネルは、透明基板と、電極と、絶縁層又は保護層とを有することが好ましい。
タッチパネルにおける検出方法としては、抵抗膜方式、静電容量方式、超音波方式、電磁誘導方式、及び、光学方式等の公知の方式が挙げられる。中でも、静電容量方式が好ましい。
タッチパネル型としては、いわゆるインセル型（例えば、特表２０１２－５１７０５１号公報の図５、図６、図７及び図８に記載のもの）、いわゆるオンセル型（例えば、特開２０１３－１６８１２５号公報の図１９に記載のもの、並びに、特開２０１２－８９１０２号公報の図１及び図５に記載のもの）、ＯＧＳ（Ｏｎｅ Ｇｌａｓｓ Ｓｏｌｕｔｉｏｎ）型、ＴＯＬ（Ｔｏｕｃｈ－ｏｎ－Ｌｅｎｓ）型（例えば、特開２０１３－５４７２７号公報の図２に記載のもの）、各種アウトセル型（いわゆる、ＧＧ、Ｇ１・Ｇ２、ＧＦＦ、ＧＦ２、ＧＦ１及びＧ１Ｆ等）並びにその他の構成（例えば、特開２０１３－１６４８７１号公報の図６に記載のもの）が挙げられる。
タッチパネルとしては、例えば、特開２０１７－１２０４３５号公報の段落０２２９に記載のものが挙げられる。
タッチパネルとしては、例えば、特開２０１７－１２０４３５号公報の段落０２２９に記載のものが挙げられる。
以下に実施例を挙げて本発明の実施形態を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、及び、処理手順等は、本発明の実施形態の趣旨を逸脱しない限り、適宜、変更することができる。したがって、本発明の実施形態の範囲は以下に示す具体例に限定されない。なお、特に断りのない限り、「部」、「％」は質量基準である。
＜重合体＞
以下の合成例において、以下の略語はそれぞれ以下の化合物を表す。
Ｓｔ：スチレン（富士フイルム和光純薬（株）製）
ＭＡＡ：メタクリル酸（富士フイルム和光純薬（株）製）
ＭＭＡ：メタクリル酸メチル（富士フイルム和光純薬（株）製）
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（昭和電工（株）製）
Ｖ－６０１：ジメチル ２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）（富士フイルム和光純薬（株）製）
以下の合成例において、以下の略語はそれぞれ以下の化合物を表す。
Ｓｔ：スチレン（富士フイルム和光純薬（株）製）
ＭＡＡ：メタクリル酸（富士フイルム和光純薬（株）製）
ＭＭＡ：メタクリル酸メチル（富士フイルム和光純薬（株）製）
ＰＧＭＥＡ：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（昭和電工（株）製）
Ｖ－６０１：ジメチル ２，２’－アゾビス（２－メチルプロピオネート）（富士フイルム和光純薬（株）製）
＜重合体Ａ－１の合成＞
３つ口フラスコにＰＧＭＥＡ（１１６．５部）を入れ、窒素雰囲気下において９０℃に昇温した。Ｓｔ（５２．０部）、ＭＭＡ（１９．０部）、ＭＡＡ（２９．０部）、Ｖ－６０１（４．０部）、ＰＧＭＥＡ（１１６．５部）を加えた溶液を、９０℃±２℃に維持した３つ口フラスコ溶液中に２時間かけて滴下した。滴下終了後，９０℃±２℃にて２時間撹拌することで、重合体Ａ－１（固形分濃度３０．０％）を得た。
３つ口フラスコにＰＧＭＥＡ（１１６．５部）を入れ、窒素雰囲気下において９０℃に昇温した。Ｓｔ（５２．０部）、ＭＭＡ（１９．０部）、ＭＡＡ（２９．０部）、Ｖ－６０１（４．０部）、ＰＧＭＥＡ（１１６．５部）を加えた溶液を、９０℃±２℃に維持した３つ口フラスコ溶液中に２時間かけて滴下した。滴下終了後，９０℃±２℃にて２時間撹拌することで、重合体Ａ－１（固形分濃度３０．０％）を得た。
＜重合性化合物＞
Ｂ－１：ＮＫエステルＢＰＥ－５００（エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、新中村化学工業（株）製）
Ｂ－２：アロニックスＭ－２７０（ポリプロピレングリコールジアクリレート、東亞合成（株）製）
Ｂ－３：ビスフェノールＡの両端にそれぞれ平均５モルずつのエチレンオキサイドを付加したポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル（上記ＢＰＥ－５００のグリシジルエーテル（ジメタクリロキシ基をジグリシジルエーテル基に変換したもの））
Ｂ－４：ペンタエリスリトールに平均９モルずつのエチレンオキサイドを付加したポリエチレングリコールのテトラグリシジルエーテル
Ｂ－５：３－エチル－３－｛［（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ］メチル｝オキセタン
Ｂ－６：ＳＲ４５４（３モルエトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、サートマー社製）
Ｂ－１：ＮＫエステルＢＰＥ－５００（エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレート、新中村化学工業（株）製）
Ｂ－２：アロニックスＭ－２７０（ポリプロピレングリコールジアクリレート、東亞合成（株）製）
Ｂ－３：ビスフェノールＡの両端にそれぞれ平均５モルずつのエチレンオキサイドを付加したポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル（上記ＢＰＥ－５００のグリシジルエーテル（ジメタクリロキシ基をジグリシジルエーテル基に変換したもの））
Ｂ－４：ペンタエリスリトールに平均９モルずつのエチレンオキサイドを付加したポリエチレングリコールのテトラグリシジルエーテル
Ｂ－５：３－エチル－３－｛［（３－エチルオキセタン－３－イル）メトキシ］メチル｝オキセタン
Ｂ－６：ＳＲ４５４（３モルエトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、サートマー社製）
＜重合開始剤（光酸発生剤（光カチオン重合開始剤）、及び、光ラジカル重合開始剤）、及び、増感剤＞
Ｃ－１：下記に示す構造の化合物（光酸発生剤、発生するトシル酸のｐＫａ：－２．６、特開２０１３－４７７６５号公報の段落０２２７に記載の化合物、段落０２２７に記載の方法に従って合成した。）
Ｃ－１：下記に示す構造の化合物（光酸発生剤、発生するトシル酸のｐＫａ：－２．６、特開２０１３－４７７６５号公報の段落０２２７に記載の化合物、段落０２２７に記載の方法に従って合成した。）
Ｃ－２：ＢＩＭＤ（光ラジカル重合開始剤、２－（２－クロロフェニル）－４，５－ジフェニルイミダゾール二量体、Ｈａｍｐｆｏｒｄ社製Ｂ－ＣＩＭ）
Ｃ－３：ＥＡＢ－Ｆ（増感剤、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、東京化成工業（株）製）
Ｃ－４：ＣＰＩ－１０１Ａ（光酸発生剤、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモン酸塩化合物、発生するヘキサフルオロアンチモン酸のｐＫａ：－２５、サンアプロ（株）製）
Ｃ－５：Ｎ－フェニルカルバモイルメチル－Ｎ－カルボキシメチルアニリン（増感剤、富士フイルム和光純薬（株）製）：０．０２部
Ｃ－３：ＥＡＢ－Ｆ（増感剤、４，４’－ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、東京化成工業（株）製）
Ｃ－４：ＣＰＩ－１０１Ａ（光酸発生剤、トリアリールスルホニウムヘキサフルオロアンチモン酸塩化合物、発生するヘキサフルオロアンチモン酸のｐＫａ：－２５、サンアプロ（株）製）
Ｃ－５：Ｎ－フェニルカルバモイルメチル－Ｎ－カルボキシメチルアニリン（増感剤、富士フイルム和光純薬（株）製）：０．０２部
＜添加剤＞
Ｄ－１：ＣＢＴ－１（カルボキシベンゾトリアゾール、城北化学工業（株）製）
Ｄ－２：ＬＣＶ（ロイコクリスタルバイオレット、山田化学工業（株）製、ラジカルにより発色する色素）
Ｄ－３：フェノチアジン（精工化学（株）製）
Ｄ－４：４－ヒドロキシメチル－４－メチル－１－フェニル－３－ピラゾリドン（富士フイルム和光純薬（株）製）
Ｄ－１：ＣＢＴ－１（カルボキシベンゾトリアゾール、城北化学工業（株）製）
Ｄ－２：ＬＣＶ（ロイコクリスタルバイオレット、山田化学工業（株）製、ラジカルにより発色する色素）
Ｄ－３：フェノチアジン（精工化学（株）製）
Ｄ－４：４－ヒドロキシメチル－４－メチル－１－フェニル－３－ピラゾリドン（富士フイルム和光純薬（株）製）
＜界面活性剤＞
Ｅ－１：メガファックＦ－５５２（フッ素系界面活性剤、ＤＩＣ（株）製）
Ｅ－２：メガファックＦ－４４４（フッ素系界面活性剤、ＤＩＣ（株）製）
Ｅ－１：メガファックＦ－５５２（フッ素系界面活性剤、ＤＩＣ（株）製）
Ｅ－２：メガファックＦ－４４４（フッ素系界面活性剤、ＤＩＣ（株）製）
＜水溶性樹脂＞
Ｆ－１：クラレポバールＰＶＡ－４－８８ＬＡ（ポリビニルアルコール、ケン化度８８、（株）クラレ製）
Ｆ－２：ポリビニルピロリドンＫ－３０（日本触媒（株）製）
Ｆ－３：メトローズ ６０ＳＨ（ヒドロキシプロピルメチルセルロース、信越化学工業（株）製）
Ｆ－１：クラレポバールＰＶＡ－４－８８ＬＡ（ポリビニルアルコール、ケン化度８８、（株）クラレ製）
Ｆ－２：ポリビニルピロリドンＫ－３０（日本触媒（株）製）
Ｆ－３：メトローズ ６０ＳＨ（ヒドロキシプロピルメチルセルロース、信越化学工業（株）製）
＜感光性組成物１の調製＞
以下の成分を混合し感光性組成物１の調製を行った。なお、各成分の量の単位は、質量部である。
Ａ－１（固形分濃度３０．０％）：２５．２部
Ｂ－１：１．４部
Ｂ－２：０．２９部
Ｂ－３：１．８５部
Ｂ－４：０．６２部
Ｂ－５：０．６２部
Ｂ－６：１．４部
Ｃ－２：０．５２部
Ｃ－３：０．０４５部
Ｃ－４：０．５２部
Ｃ－５：０．０２部
Ｄ－１：０．０１５部
Ｄ－２：０．０６部
Ｄ－３：０．０２部
Ｄ－４：０．００２部
Ｅ－１：０．０４８部
メチルエチルケトン（三協化学（株）製）：４３．８部
ＰＧＭＥＡ（昭和電工（株）製）：１９．７部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＭＦＧ、日本乳化剤（株）製）：３．８９部
以下の成分を混合し感光性組成物１の調製を行った。なお、各成分の量の単位は、質量部である。
Ａ－１（固形分濃度３０．０％）：２５．２部
Ｂ－１：１．４部
Ｂ－２：０．２９部
Ｂ－３：１．８５部
Ｂ－４：０．６２部
Ｂ－５：０．６２部
Ｂ－６：１．４部
Ｃ－２：０．５２部
Ｃ－３：０．０４５部
Ｃ－４：０．５２部
Ｃ－５：０．０２部
Ｄ－１：０．０１５部
Ｄ－２：０．０６部
Ｄ－３：０．０２部
Ｄ－４：０．００２部
Ｅ－１：０．０４８部
メチルエチルケトン（三協化学（株）製）：４３．８部
ＰＧＭＥＡ（昭和電工（株）製）：１９．７部
プロピレングリコールモノメチルエーテル（ＭＦＧ、日本乳化剤（株）製）：３．８９部
＜中間層組成物１の調製＞
以下の成分を混合し中間層組成物１の調製を行った。
イオン交換水：３８．１２部
メタノール（三菱ガス化学（株）製）：５７．１７部
Ｆ－１（クラレポバールＰＶＡ－４－８８ＬＡ、ポリビニルアルコール、（株）クラレ製）：３．２２部
Ｆ－２（ポリビニルピロリドンＫ－３０、日本触媒（株）製）：１．４９部
Ｆ－３（メトローズ ６０ＳＨ、信越化学工業（株）製）：０．０４部
Ｅ－２（メガファックＦ－４４４、フッ素系界面活性剤、ＤＩＣ（株）製）：０．００１部
以下の成分を混合し中間層組成物１の調製を行った。
イオン交換水：３８．１２部
メタノール（三菱ガス化学（株）製）：５７．１７部
Ｆ－１（クラレポバールＰＶＡ－４－８８ＬＡ、ポリビニルアルコール、（株）クラレ製）：３．２２部
Ｆ－２（ポリビニルピロリドンＫ－３０、日本触媒（株）製）：１．４９部
Ｆ－３（メトローズ ６０ＳＨ、信越化学工業（株）製）：０．０４部
Ｅ－２（メガファックＦ－４４４、フッ素系界面活性剤、ＤＩＣ（株）製）：０．００１部
（実施例１）
＜感光性転写材料の作製＞
下記表１に示す構成となるように中間層組成物１を仮支持体となる厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、ルミラー１６ＱＳ６２）の上に、スリット状ノズルを用いて塗布幅が１．０ｍ、層厚１．１μｍとなるように塗布し、８０℃の乾燥ゾーンを４０秒間かけて通過させて、中間層を形成した。更に、中間層の上に感光性樹脂組成物１をスリット状ノズルを用いて塗布幅が１．０ｍ、層厚５．０μｍとなるように塗布し、８０℃の乾燥ゾーンを４０秒間かけて通過させて、感光性層を形成した。
＜感光性転写材料の作製＞
下記表１に示す構成となるように中間層組成物１を仮支持体となる厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ（株）製、ルミラー１６ＱＳ６２）の上に、スリット状ノズルを用いて塗布幅が１．０ｍ、層厚１．１μｍとなるように塗布し、８０℃の乾燥ゾーンを４０秒間かけて通過させて、中間層を形成した。更に、中間層の上に感光性樹脂組成物１をスリット状ノズルを用いて塗布幅が１．０ｍ、層厚５．０μｍとなるように塗布し、８０℃の乾燥ゾーンを４０秒間かけて通過させて、感光性層を形成した。
＜性能評価＞
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に厚さ２００ｎｍでスパッタ法にて銅層を作製した銅層付きＰＥＴ基板を使用した。
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム上に厚さ２００ｎｍでスパッタ法にて銅層を作製した銅層付きＰＥＴ基板を使用した。
－パターン形状－
作製した感光性転写材料を、ロール温度１００℃、線圧１．０ＭＰａ、線速度４．０ｍ／ｍｉｎのラミネート条件で、上記銅層付きＰＥＴ基板にラミネートした。仮支持体及び感光性層を有する基板より、仮支持体を剥離し、投影露光機（ウシオ電機（株）製ＵＸ－２０２３ＳＭ）の基板セットステージに置いた。露光機のマスクホルダーにラインアンドスペースパターン（Ｄｕｔｙ比 １：１、線幅１μｍ～１０μｍまで１μｍおきに段階的に変化）を有するガラスクロムフォトマスクをセットし、投影レンズを介して、露光量１００ｍＪ／ｃｍ２で仮支持体を剥離してから１０分後に露光し、現像した。露光量は１０μｍのラインアンドスペースパターンを形成したとき、レジスト線幅がちょうど１０μｍとなる露光量とした。現像は２５℃の１．０％炭酸ナトリウム水溶液を用い、シャワー現像で３０秒行った。
上記方法にて１０μｍのラインアンドスペースパターンを形成したとき、最小の線幅パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察し、パターン形状を評価した。
Ａ：パターン形状が矩形である
Ｂ：パターン形状がややくびれている
Ｃ：パターンの頂部が丸みを帯び、かつくびれている
Ｄ：パターンが崩れて裾が広がっている
Ａ～Ｃであることが好ましい。
作製した感光性転写材料を、ロール温度１００℃、線圧１．０ＭＰａ、線速度４．０ｍ／ｍｉｎのラミネート条件で、上記銅層付きＰＥＴ基板にラミネートした。仮支持体及び感光性層を有する基板より、仮支持体を剥離し、投影露光機（ウシオ電機（株）製ＵＸ－２０２３ＳＭ）の基板セットステージに置いた。露光機のマスクホルダーにラインアンドスペースパターン（Ｄｕｔｙ比 １：１、線幅１μｍ～１０μｍまで１μｍおきに段階的に変化）を有するガラスクロムフォトマスクをセットし、投影レンズを介して、露光量１００ｍＪ／ｃｍ２で仮支持体を剥離してから１０分後に露光し、現像した。露光量は１０μｍのラインアンドスペースパターンを形成したとき、レジスト線幅がちょうど１０μｍとなる露光量とした。現像は２５℃の１．０％炭酸ナトリウム水溶液を用い、シャワー現像で３０秒行った。
上記方法にて１０μｍのラインアンドスペースパターンを形成したとき、最小の線幅パターンの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）により観察し、パターン形状を評価した。
Ａ：パターン形状が矩形である
Ｂ：パターン形状がややくびれている
Ｃ：パターンの頂部が丸みを帯び、かつくびれている
Ｄ：パターンが崩れて裾が広がっている
Ａ～Ｃであることが好ましい。
－工程汚染抑制性－
作製した感光性転写材料を、ロール温度１００℃、線圧１．０ＭＰａ、線速度４．０ｍ／ｍｉｎのラミネート条件で、上記銅層付きＰＥＴ基板にラミネートした。仮支持体及び感光性層を有する基板より、仮支持体を剥離し、パターン形状を評価した際に決定した露光量で全面を露光した。露光した面に対し、幅１０ｍｍ×長さ５０ｍｍのアルミ板を当てて、アルミ板上に１００ｇの重りを載せ、アルミ板の幅方向と平行な方向にアルミ板を１００ｍｍ間１０往復させた。
アルミ板を走行させた感光性転写材料表面の両端部とアルミ板を顕微鏡で観察し、以下の基準で判定した。
Ａ：感光性転写材料表面の削れはほとんど見らず、アルミ板の汚れもなかった。
Ｂ：感光性転写材料表面が一部削れたがアルミ板の汚れはほとんど見られなかった。
Ｃ：感光性転写材料表面が削れ、感光性転写材料表面とアルミ板に多数の粉が見られた。
Ｄ：感光性転写材料表面が剥がれてアルミ板に膜がついた。
Ａ又はＢであることが好ましい。
作製した感光性転写材料を、ロール温度１００℃、線圧１．０ＭＰａ、線速度４．０ｍ／ｍｉｎのラミネート条件で、上記銅層付きＰＥＴ基板にラミネートした。仮支持体及び感光性層を有する基板より、仮支持体を剥離し、パターン形状を評価した際に決定した露光量で全面を露光した。露光した面に対し、幅１０ｍｍ×長さ５０ｍｍのアルミ板を当てて、アルミ板上に１００ｇの重りを載せ、アルミ板の幅方向と平行な方向にアルミ板を１００ｍｍ間１０往復させた。
アルミ板を走行させた感光性転写材料表面の両端部とアルミ板を顕微鏡で観察し、以下の基準で判定した。
Ａ：感光性転写材料表面の削れはほとんど見らず、アルミ板の汚れもなかった。
Ｂ：感光性転写材料表面が一部削れたがアルミ板の汚れはほとんど見られなかった。
Ｃ：感光性転写材料表面が削れ、感光性転写材料表面とアルミ板に多数の粉が見られた。
Ｄ：感光性転写材料表面が剥がれてアルミ板に膜がついた。
Ａ又はＢであることが好ましい。
（実施例２～６、並びに、比較例１及び２）
中間層及び感光性層に含まれる成分（固形分）を表１に記載の通りに変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２～６、並びに、比較例１及び２の感光性転写材料をそれぞれ作製した。
また、実施例１と同様にして性能評価を行った。評価結果を表１にまとめて示す。
中間層及び感光性層に含まれる成分（固形分）を表１に記載の通りに変更した以外は、実施例１と同様にして、実施例２～６、並びに、比較例１及び２の感光性転写材料をそれぞれ作製した。
また、実施例１と同様にして性能評価を行った。評価結果を表１にまとめて示す。
なお、表１に記載の各成分欄の数値の単位は、質量部である。
上記表１に示すように、実施例１～６の感光性転写材料は、比較例１又は２の感光性転写材料と比べ、感光性層を仮支持体を介さず直接露光した場合であっても、工程汚染抑制性に優れる。
また、上記表１に示すように、実施例１～６の感光性転写材料は、パターン形成性にも優れる。
また、上記表１に示すように、実施例１～６の感光性転写材料は、パターン形成性にも優れる。
（実施例１０１）
１００μｍ厚ＰＥＴ基材上に、第２層の導電層としてＩＴＯをスパッタリングで１５０ｎｍ厚にて成膜し、その上に第１層の導電層として銅を真空蒸着法で２００ｎｍ厚にて成膜して、回路形成用基板とした。
銅層上に実施例１で得られた感光性転写材料を、基板に貼り合わせて（ラミネートロール温度１００℃、線圧０．８ＭＰａ、線速度３．０ｍ／ｍｉｎ．）、積層体とした。得られた積層体を、仮支持体を剥離して一方向に導電層パッドが連結された構成を持つ図２に示すパターンＡを設けたフォトマスクを用いてコンタクトパターン露光した。露光にはｉ線（３６５ｎｍ）を露光主波長とする高圧水銀灯を用いた。
その後、現像、水洗を行ってパターンＡを得た。次いで銅エッチング液（関東化学（株）製Ｃｕ－０２）を用いて銅層をエッチングした後、ＩＴＯエッチング液（関東化学（株）製ＩＴＯ－０２）を用いてＩＴＯ層をエッチングすることで、銅とＩＴＯが共にパターンＡで描画された基板を得た。
次いで、残存しているレジスト（硬化したネガ型感光性層）上に、実施例１で得られた感光性転写材料を、ロール温度１００℃、線圧１．０ＭＰａ、線速度４．０ｍ／ｍｉｎのラミネート条件で、再度貼り合わせた。アライメントを合わせた状態で、仮支持体を剥離して図３に示すパターンＢを設けたフォトマスクを用いてパターン露光し、その後、現像、水洗を行ってパターンＢを得た。次いで、Ｃｕ－０２を用いて銅配線をエッチングし、残った硬化したネガ型感光性層を剥離液（関東化学（株）製ＫＰ－３０１）を用いて剥離し、回路配線基板を得た。
得られた回路配線基板を、顕微鏡で観察したところ、剥がれ、欠けなどは無く、きれいなパターンであった。
１００μｍ厚ＰＥＴ基材上に、第２層の導電層としてＩＴＯをスパッタリングで１５０ｎｍ厚にて成膜し、その上に第１層の導電層として銅を真空蒸着法で２００ｎｍ厚にて成膜して、回路形成用基板とした。
銅層上に実施例１で得られた感光性転写材料を、基板に貼り合わせて（ラミネートロール温度１００℃、線圧０．８ＭＰａ、線速度３．０ｍ／ｍｉｎ．）、積層体とした。得られた積層体を、仮支持体を剥離して一方向に導電層パッドが連結された構成を持つ図２に示すパターンＡを設けたフォトマスクを用いてコンタクトパターン露光した。露光にはｉ線（３６５ｎｍ）を露光主波長とする高圧水銀灯を用いた。
その後、現像、水洗を行ってパターンＡを得た。次いで銅エッチング液（関東化学（株）製Ｃｕ－０２）を用いて銅層をエッチングした後、ＩＴＯエッチング液（関東化学（株）製ＩＴＯ－０２）を用いてＩＴＯ層をエッチングすることで、銅とＩＴＯが共にパターンＡで描画された基板を得た。
次いで、残存しているレジスト（硬化したネガ型感光性層）上に、実施例１で得られた感光性転写材料を、ロール温度１００℃、線圧１．０ＭＰａ、線速度４．０ｍ／ｍｉｎのラミネート条件で、再度貼り合わせた。アライメントを合わせた状態で、仮支持体を剥離して図３に示すパターンＢを設けたフォトマスクを用いてパターン露光し、その後、現像、水洗を行ってパターンＢを得た。次いで、Ｃｕ－０２を用いて銅配線をエッチングし、残った硬化したネガ型感光性層を剥離液（関東化学（株）製ＫＰ－３０１）を用いて剥離し、回路配線基板を得た。
得られた回路配線基板を、顕微鏡で観察したところ、剥がれ、欠けなどは無く、きれいなパターンであった。
２０２０年１２月２５日に出願された日本国特許出願２０２０－２１７７９１号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記載された場合と同程度に、本明細書に参照により取り込まれる。
Claims (12)
- 仮支持体と、
中間層と、
ネガ型の感光性層とをこの順で有し、
前記感光性層が、重合開始剤、及び、重合性化合物を含み、
前記重合開始剤が、カチオン重合開始剤を含み、
前記重合性化合物が、カチオン重合性化合物を含み、
前記カチオン重合性化合物の分子量又は重量平均分子量が、２，０００以下である、
回路配線製造用の感光性転写材料。 - 前記カチオン重合開始剤から発生する酸のｐＫａが、－５以下である請求項１に記載の感光性転写材料。
- 前記重合開始剤が、ラジカル重合開始剤を更に含むか、又は、前記カチオン重合開始剤が、ラジカル及び酸を発生する重合開始剤を含み、
前記重合性化合物が、ラジカル重合性化合物を更に含む請求項１又は請求項２に記載の感光性転写材料。 - 前記重合開始剤が、前記カチオン重合開始剤及び前記ラジカル重合開始剤を含む請求項３に記載の感光性転写材料。
- 前記ラジカル重合性化合物の分子量又は重量平均分子量が、２，０００以下である請求項３又は請求項４に記載の感光性転写材料。
- 前記ラジカル重合性化合物が、２官能以上のラジカル重合性化合物を含む請求項３～請求項５のいずれか１項に記載の感光性転写材料。
- 前記ラジカル重合性化合物が、３官能以上のラジカル重合性化合物を含む請求項３～請求項６のいずれか１項に記載の感光性転写材料。
- 前記ラジカル重合性化合物が、ポリエチレンオキサイド構造を有するラジカル重合性化合物を含む請求項３～請求項７のいずれか１項に記載の感光性転写材料。
- 請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の感光性転写材料における感光性層側が基板と接するように、前記感光性転写材料と前記基板とを貼り合わせる工程と、
前記仮支持体を剥離する工程と、
前記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程とをこの順に含む
樹脂パターンの製造方法。 - 請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の感光性転写材料における感光性層側が基板と接するように、前記感光性転写材料と前記基板とを貼り合わせる工程と、
前記仮支持体を剥離する工程と、
前記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程とをこの順で含む
積層体の製造方法。 - 請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の感光性転写材料における感光性層側が導電層を有する基板における前記導電層と接するように、前記感光性転写材料と前記基板とを貼り合わせる工程と、
前記仮支持体を剥離する工程と、
前記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程と、
前記パターンが配置されていない領域における前記導電層をエッチング処理する工程とをこの順に含む
回路配線の製造方法。 - 請求項１～請求項７のいずれか１項に記載の感光性転写材料における感光性層側が導電層を有する基板における前記導電層と接するように、前記感光性転写材料と前記基板とを貼り合わせる工程と、
前記仮支持体を剥離する工程と、
前記感光性層に対し露光処理及び現像処理を実施して、パターンを形成する工程と、
前記パターンが配置されていない領域における前記導電層をエッチング処理する工程とをこの順に含む
電子デバイスの製造方法。
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