JP7751265B2 - Cultivation method - Google Patents
Cultivation methodInfo
- Publication number
- JP7751265B2 JP7751265B2 JP2021144985A JP2021144985A JP7751265B2 JP 7751265 B2 JP7751265 B2 JP 7751265B2 JP 2021144985 A JP2021144985 A JP 2021144985A JP 2021144985 A JP2021144985 A JP 2021144985A JP 7751265 B2 JP7751265 B2 JP 7751265B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- irradiation
- light
- irradiated
- peak wavelength
- plants
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P60/00—Technologies relating to agriculture, livestock or agroalimentary industries
- Y02P60/14—Measures for saving energy, e.g. in green houses
Landscapes
- Cultivation Of Plants (AREA)
Description
本発明は、ウイルス病の発病を低減可能な、キク科またはナス科の植物の栽培方法および栽培装置に関する。 The present invention relates to a method and apparatus for cultivating plants of the Asteraceae or Solanaceae family that can reduce the incidence of viral diseases.
黄化えそウイルス(以下、「TSWV」と略称する)およびトマトモザイクウイルス(以下、「ToMV」と略称する)等の、植物にえそ症状を発症させるウイルスは、微小昆虫または感染した植物汁液を介して容易に伝搬する。そのため、これらのウイルスはキク科またはナス科の植物の管理作業または土壌汚染等を介して伝染し、これらの植物の生産に大きな被害をもたらす。このような被害は日本をはじめ、全世界的に広がっており、重大な問題となっている。 Viruses that cause necrotic symptoms in plants, such as Tomato Spotted Wilt Virus (TSWV) and Tomato Mosaic Virus (ToMV), are easily transmitted by tiny insects or infected plant sap. Therefore, these viruses are transmitted through the management practices or soil contamination of Asteraceae or Solanaceae plants, causing significant damage to the production of these plants. This damage is spreading throughout the world, including Japan, and is becoming a serious problem.
特許文献1には、波長280~290nmの深紫外光(UV-B)をトマト苗に0.7~1.4kJ/m2の照射量で照射することで、トマトに抵抗性を誘導し、ToMVへの感染および発病を低減する技術が開示されている。なお、非特許文献1には、特許文献1に記載の深紫外光の照射実験が明期に行われたものであることが示されている。 Patent Document 1 discloses a technology for inducing resistance in tomatoes and reducing infection and disease occurrence by irradiating tomato seedlings with deep ultraviolet light (UV-B) having a wavelength of 280 to 290 nm at an irradiation dose of 0.7 to 1.4 kJ/ m2 . Note that Non-Patent Document 1 indicates that the deep ultraviolet light irradiation experiment described in Patent Document 1 was conducted during the light period.
また、特許文献2には、上述の深紫外光をトマト苗に、1日当たり暗期に0.3~0.4kJ/m2の照射量で照射することで、UV障害を低減しながら、ToMVへの感染および発病を低減する技術が開示されている。 Furthermore, Patent Document 2 discloses a technology in which the above-mentioned deep ultraviolet light is irradiated on tomato seedlings at an irradiation dose of 0.3 to 0.4 kJ/ m2 per day during the dark period, thereby reducing UV damage and reducing ToMV infection and disease onset.
しかしながら、特許文献1および特許文献2に記載の技術は、トマトへのToMVの感染および発病は低減できるが、葉の褐変および巻葉等のUV障害の発生については、未だ改善の余地がある。UV障害の程度をさらに低減できれば、作物の品質への悪影響が回避でき商品価値のさらなる向上が期待できる。これは、キク等の鑑賞用植物では葉も商品に含まれるため、特に重要である。また、特許文献1および特許文献2に記載の技術は、トマト以外の植物に対する効果は不明である。 However, while the technologies described in Patent Documents 1 and 2 can reduce ToMV infection and disease in tomatoes, there is still room for improvement in terms of the occurrence of UV damage such as leaf browning and leaf curl. If the level of UV damage could be further reduced, adverse effects on crop quality could be avoided, and further improvements in commercial value could be expected. This is particularly important for ornamental plants such as chrysanthemums, whose leaves are also included in the commercial product. Furthermore, it is unclear whether the technologies described in Patent Documents 1 and 2 are effective on plants other than tomatoes.
本発明の一態様は、キク科またはナス科の植物において、ウイルス病の発病を低減しながら、UV障害の発生を十分に低減できる栽培方法等を実現することを目的とする。 One aspect of the present invention aims to realize a cultivation method that can sufficiently reduce the occurrence of UV damage while reducing the incidence of viral diseases in plants of the Asteraceae or Solanaceae family.
前記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る栽培方法は、LED光源を用いてキク科またはナス科の植物に光を照射する工程を含み、当該工程では、287nm以上295nm以下の範囲にピーク波長を有する光を、1日当たり暗期に0.6kJ/m2以上1.2kJ/m2未満の照射量で、前記植物に照射する。 In order to solve the above-mentioned problems, a cultivation method according to one aspect of the present invention includes a step of irradiating a plant of the Asteraceae or Solanaceae family with light using an LED light source, in which the plant is irradiated with light having a peak wavelength in the range of 287 nm or more and 295 nm or less at an irradiation dose of 0.6 kJ/ m2 or more and less than 1.2 kJ/ m2 per day during the dark period.
本発明の一態様に係る栽培方法は、前記光は、半値幅が、ピーク波長±6nmの波長範囲に含まれてもよい。 In a cultivation method according to one aspect of the present invention, the light may have a half-width within a wavelength range of the peak wavelength ±6 nm.
本発明の一態様に係る栽培方法は、前記暗期は、前記光の照射量に対する可視光の照射量の割合が10%以下となる期間であってもよい。 In a cultivation method according to one aspect of the present invention, the dark period may be a period during which the ratio of the amount of visible light irradiation to the amount of light irradiation is 10% or less.
前記の課題を解決するために、本発明の一態様に係る栽培装置は、287nm以上295nm以下の範囲にピーク波長を有する光を、1日当たり暗期に0.6kJ/m2以上1.2kJ/m2未満の照射量で、キク科またはナス科の植物に照射可能なLED光源を備える。 In order to solve the above-mentioned problems, a cultivation device according to one aspect of the present invention is provided with an LED light source capable of irradiating Asteraceae or Solanaceae plants with light having a peak wavelength in the range of 287 nm or more and 295 nm or less at an irradiation dose of 0.6 kJ/ m2 or more and less than 1.2 kJ/ m2 per day during the dark period.
本発明の一態様によれば、キク科またはナス科の植物において、ウイルス病の発病を防止しながら、UV障害の発生を十分に低減できる栽培方法等を実現できる。 One aspect of the present invention makes it possible to realize a cultivation method that can sufficiently reduce the occurrence of UV damage while preventing the onset of viral diseases in plants of the Asteraceae or Solanaceae family.
以下、本発明の一実施形態について説明する。なお、以下の記載は発明の趣旨をより良く理解させるためのものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。また、本明細書において「A~B」とは、特に指定しない限りA以上B以下であることを示している。 One embodiment of the present invention will be described below. Please note that the following description is intended to provide a better understanding of the spirit of the invention and does not limit the present invention unless otherwise specified. Furthermore, in this specification, "A to B" means greater than or equal to A and less than or equal to B, unless otherwise specified.
〔栽培装置〕
図1の符号101は、本発明の一実施形態に係る植物の栽培装置10の概要構成を示す模式図である。また、図1の符号102は、栽培装置10が備える光照射モジュール1の外観構成を示す模式図である。図1の符号101に示すように、栽培装置10は、光照射モジュール1と、支持棒2と、電気コード3とを備える。光照射モジュール1は、ガラス温室またはビニールハウス内で、所定の波長のUV(紫外線)を、所定の照射量により均一照射できるモジュールである。光照射モジュール1が照射するUVは、特許請求の範囲に記載の「光」の一例である。
[Cultivation equipment]
Reference numeral 101 in Fig. 1 is a schematic diagram showing the general configuration of a plant cultivation device 10 according to one embodiment of the present invention. Reference numeral 102 in Fig. 1 is a schematic diagram showing the external configuration of a light irradiation module 1 provided in the cultivation device 10. As indicated by reference numeral 101 in Fig. 1, the cultivation device 10 includes the light irradiation module 1, a support rod 2, and an electric cord 3. The light irradiation module 1 is a module that can uniformly irradiate UV (ultraviolet rays) of a predetermined wavelength at a predetermined irradiation amount within a glass greenhouse or vinyl greenhouse. The UV irradiated by the light irradiation module 1 is an example of "light" as defined in the claims.
支持棒2は、針金を介して天井から吊り下げられており、1本の支持棒2に対して複数台の光照射モジュール1が設置されている。なお、支持棒2の設置方法は、このような態様に限定されず、光照射モジュール1からのUVが植物4に問題なく照射され、光照射モジュール1を備えた支持棒2の設置位置を固定できる態様であれば、どのような設置方法を採用してもよい。 The support rods 2 are suspended from the ceiling via wires, and multiple light irradiation modules 1 are installed on each support rod 2. Note that the installation method for the support rods 2 is not limited to this; any installation method may be used as long as the UV from the light irradiation modules 1 can be irradiated onto the plants 4 without any problems and the installation position of the support rods 2 equipped with light irradiation modules 1 can be fixed.
植物4は、光照射モジュール1からUVを照射することで、えそ症状の原因となるウイルス(以下、単に「ウイルス」と称する場合がある)への感染および発病が低減され得る植物である。このようなウイルスとしては、例えば、TSWV、茎えそウイルス(CSNV)およびToMVが挙げられる。植物4は、キク科の植物またはナス科の植物である。キク科の植物としては、例えば、キク、ガーベラ、ダリア、マリーゴールド、マーガレット、レタスおよびシュンギクが挙げられる。ナス科の植物としては、例えば、トマト、タバコ、ナス、ジャガイモ、トウガラシ、シシトウ、ピーマンおよびペチュニアが挙げられる。ただし、植物4の例はこれに限られず、キク科またはナス科の植物であれば、特に限定されない。 Plant 4 is a plant whose infection with and disease onset by viruses that cause necrotic symptoms (hereinafter sometimes simply referred to as "viruses") can be reduced by irradiating it with UV light from light irradiation module 1. Examples of such viruses include TSWV, stem necrosis virus (CSNV), and ToMV. Plant 4 is a plant of the Asteraceae family or Solanaceae family. Examples of Asteraceae plants include chrysanthemums, gerberas, dahlias, marigolds, daisies, lettuce, and garland chrysanthemums. Examples of Solanaceae plants include tomatoes, tobacco, eggplants, potatoes, chili peppers, shishito peppers, bell peppers, and petunias. However, examples of plant 4 are not limited to these, and are not particularly limited as long as they are plants of the Asteraceae family or Solanaceae family.
図1の符号102に示すように、光照射モジュール1は、LED(Light Emitting Diode)光源1aと、電気コード3とを備える。光照射モジュール1は、電気コード3によって電源(不図示)に電気的に接続されている。また、光照射モジュール1は、全体形状が略直方体形状を為している。LED光源1aは、光照射モジュール1の略直方体形状の一面を為す略四角形状の底面の中央付近に設けられている。本実施形態では、1台の光照射モジュール1に対して1つのLED光源1a(実装LEDチップ)を設けている。なお、1台の光照射モジュール1に対して2つ以上のLED光源1aを設けてもよい。また、光照射モジュール1は、湿度対策のためLEDチップを石英ガラスで覆ったタイプのモジュールでもよい。 As shown by reference numeral 102 in FIG. 1 , the light irradiation module 1 includes an LED (Light Emitting Diode) light source 1a and an electrical cord 3. The light irradiation module 1 is electrically connected to a power source (not shown) via the electrical cord 3. The light irradiation module 1 has an overall shape that is approximately rectangular. The LED light source 1a is provided near the center of the approximately rectangular bottom surface that forms one side of the approximately rectangular shape of the light irradiation module 1. In this embodiment, one LED light source 1a (mounted LED chip) is provided for one light irradiation module 1. However, two or more LED light sources 1a may be provided for one light irradiation module 1. The light irradiation module 1 may also be a type in which the LED chip is covered with quartz glass to protect against humidity.
LED光源1aは、287nm以上295nm以下の範囲にピーク波長を有するUVを照射可能な光源である。LED光源1aは、290nm以上292nm以下の範囲にピーク波長を有するUVを照射可能であることがより好ましい。光照射モジュール1は、LED光源1aによりUVを照射する。 The LED light source 1a is a light source capable of emitting UV light with a peak wavelength in the range of 287 nm to 295 nm. It is more preferable that the LED light source 1a be capable of emitting UV light with a peak wavelength in the range of 290 nm to 292 nm. The light irradiation module 1 irradiates UV light using the LED light source 1a.
従来、有効波長成分として280nm以上290nm以下の波長域の深紫外光(以下、「従来のUV」と称する場合がある)をトマトに照射すると、ToMV感染および発病を低減できることが知られていた。これは、従来のUVが照射されたトマトにおいて、感染特異的タンパク質(Pathogenesis-related protein)をコードする遺伝子等、ウイルスに対して抵抗性を示す遺伝子の発現が誘導されることが要因と考えられる。このような遺伝子発現誘導の結果、従来のUVが照射されたトマトは、ウイルスに対して抵抗性を獲得し、ウイルス感染および発病が低減すると考えられる。 It has previously been known that irradiating tomatoes with deep ultraviolet light with an effective wavelength range of 280 nm to 290 nm (hereinafter sometimes referred to as "conventional UV") can reduce ToMV infection and disease onset. This is thought to be due to the induction of gene expression that confers resistance to the virus, such as genes that encode infection-specific proteins (pathogenesis-related proteins), in tomatoes irradiated with conventional UV. As a result of this induction of gene expression, tomatoes irradiated with conventional UV are thought to acquire resistance to the virus, resulting in reduced viral infection and disease onset.
しかしながら、トマト等の植物に対してこのような従来のUVを照射すると、UV障害が生じてしまう。UV障害とは、植物へのUV照射に起因して起こり得る植物の変化のうち、形態上好ましくない変化である。UV障害としては、例えば、褐変等の葉色の変化、巻葉等の葉形状の変化およびクチクラ層の発達による葉の光沢上昇が挙げられる。 However, when plants such as tomatoes are irradiated with this type of conventional UV, UV damage occurs. UV damage refers to undesirable morphological changes that can occur in plants due to UV exposure. Examples of UV damage include changes in leaf color such as browning, changes in leaf shape such as leaf curling, and increased leaf gloss due to the development of the cuticle layer.
これまで、トマトに生じるUV障害を低減するために、従来のUVの照射量を制限する等の試みがなされてきた。しかしながら、植物へのウイルス感染の低減と、UV障害の低減とを両立するために最適なUVの特性については、明らかではなかった。 To date, attempts have been made to reduce UV damage in tomatoes by limiting the amount of conventional UV radiation. However, it was unclear what UV characteristics would be optimal for achieving both a reduction in virus infection in plants and a reduction in UV damage.
本発明者らは、照射可能なUVの波長が段階的に異なる複数のLED光源を用いて、植物4へのUV照射実験を行った。その結果、本発明者らは、287nm以上295nm以下の範囲にピーク波長を有するUVであれば、植物4に対するウイルス抵抗性の誘導効果と、UV障害の低減効果とのバランスが最適であることを突き止めた。そのため、このようなUVであれば、植物4へのウイルス感染の低減とUV障害程度の低減とを、従来よりも高い次元で両立できることを見出した。すなわち、本発明者らの鋭意検討によって、植物へのウイルス感染の低減と、UV障害程度の低減とを両立するために最適なUVの特性が初めて明らかとなった。 The inventors conducted UV irradiation experiments on plants 4 using multiple LED light sources that emit UV light at varying wavelengths. As a result, the inventors discovered that UV light with a peak wavelength in the range of 287 nm to 295 nm provides the optimal balance between the effect of inducing viral resistance in plants 4 and the effect of reducing UV damage. Therefore, they found that such UV light can reduce viral infection in plants 4 and the level of UV damage to a higher degree than ever before. In other words, through their diligent research, the inventors have, for the first time, identified the optimal UV characteristics for achieving both a reduction in viral infection in plants and a reduction in the level of UV damage.
また、287nm以上295nm以下の範囲にピーク波長を有するUVは、従来のUVよりも、波長領域が長波長側にシフトしている。そのため、仮に287nm以上295nm以下の範囲にピーク波長を有するUVが人体に照射されてしまっても、従来のUVよりも人体への毒性は低い。すなわち、本実施形態に係る栽培装置10が照射するUVは、人体への安全性の観点からも優れている。 In addition, UV rays with a peak wavelength in the range of 287 nm to 295 nm have a wavelength range shifted toward the longer wavelength side compared to conventional UV rays. Therefore, even if UV rays with a peak wavelength in the range of 287 nm to 295 nm are irradiated onto the human body, they are less toxic to the human body than conventional UV rays. In other words, the UV rays irradiated by the cultivation device 10 according to this embodiment are superior in terms of safety for the human body.
LED光源1aが照射可能なUVは、半値幅が、ピーク波長±6nmの波長範囲に含まれる光であることが好ましい。ここでいう半値幅とは、半値全幅である。このような構成であれば、LED光源1aが照射するUVは、ピーク波長から大きく外れた波長成分をほとんど含まない。したがって、植物4に照射した場合に、ピーク波長およびその近傍の波長成分により植物4のウイルスに対する抵抗性を効果的に誘導しながら、ピーク波長よりも短い波長成分は最小限となるため、UV障害を最小限にコントロールできる。 The UV that can be irradiated by the LED light source 1a is preferably light whose half-width falls within a wavelength range of the peak wavelength ±6 nm. Here, half-width refers to the full width at half maximum. With this configuration, the UV irradiated by the LED light source 1a contains almost no wavelength components that deviate significantly from the peak wavelength. Therefore, when irradiated onto a plant 4, the peak wavelength and wavelength components in its vicinity effectively induce resistance to viruses in the plant 4, while wavelength components shorter than the peak wavelength are minimized, minimizing UV damage.
LED光源1aは光の指向特性が鋭いため、植物体に均一にUVを照射するためには、栽培装置10において、光照射モジュール1を一定間隔で配置することが好ましい。なお、図1の符号101では、1つの光照射モジュール1に対して2つの植物4が対応している様子が示されている。しかしながら、1つの光照射モジュール1に対して1つの植物4を対応させてもよいし、3つ以上の植物4を対応させてもよい。また、光照射モジュール1は、二条並列または二条千鳥となるように配置されてもよい。要するに、光照射モジュール1は、植物草冠上で一定の均一な照射強度が得られるような配置にするのが望ましい。また、このような配置方法については、簡単な光学的計算により算出することが可能である。 Because the LED light source 1a has a sharp light directionality, it is preferable to arrange the light irradiation modules 1 at regular intervals in the cultivation device 10 in order to uniformly irradiate the plants with UV. Note that reference numeral 101 in Figure 1 shows two plants 4 corresponding to one light irradiation module 1. However, one plant 4 may be associated with one light irradiation module 1, or three or more plants 4 may be associated with one light irradiation module 1. Furthermore, the light irradiation modules 1 may be arranged in two parallel rows or two staggered rows. In short, it is desirable to arrange the light irradiation modules 1 so that a constant, uniform irradiation intensity is obtained over the plant canopy. Furthermore, such an arrangement method can be calculated using simple optical calculations.
LED光源1aは、UVを、1日当たり暗期に0.6kJ/m2以上1.2kJ/m2未満の照射量で照射可能である。植物4におけるUV障害を軽減しながら、ウイルス病の低減に必要な照射量は、1日当たり暗期に0.6kJ/m2以上1.2kJ/m2未満である。「暗期」については後述する。 The LED light source 1a is capable of irradiating UV at an irradiation dose of 0.6 kJ/ m2 or more and less than 1.2 kJ/ m2 per day during the dark period. The irradiation dose required to reduce viral diseases while mitigating UV damage in the plant 4 is 0.6 kJ/ m2 or more and less than 1.2 kJ/ m2 per day during the dark period. The "dark period" will be described later.
植物4に照射されるUVの照射量が1.2kJ/m2以上となる場合、LED光源1aが照射するUVであっても、植物4にUV障害を引き起こす可能性がある。植物4のUV障害を最小レベルにするため、LED光源1aによる1日当たりの照射量は1.2kJ/m2未満とする。 If the amount of UV radiation irradiated onto the plant 4 is 1.2 kJ/ m2 or more, even UV irradiated by the LED light source 1a may cause UV damage to the plant 4. In order to minimize UV damage to the plant 4, the amount of radiation irradiated per day by the LED light source 1a is set to less than 1.2 kJ/ m2 .
また、植物4に照射するUVの照射量が0.6kJ/m2未満である場合、植物4におけるウイルス抵抗性が十分に誘導されない可能性がある。このため、LED光源1aによる、植物4への1日当たりの照射量は0.6kJ/m2以上とする。 Furthermore, if the amount of UV irradiation applied to the plant 4 is less than 0.6 kJ/ m2 , there is a possibility that virus resistance will not be sufficiently induced in the plant 4. For this reason, the amount of irradiation per day by the LED light source 1a onto the plant 4 is set to 0.6 kJ/ m2 or more.
以上の通り、LED光源1aは、1日当たり暗期に0.6kJ/m2以上1.2kJ/m2未満の照射量で照射可能な出力を備えていればよい。なお、栽培装置10が、1つの植物4に対して複数のLED光源1aにより照射を行うよう構成されている場合、当該複数のLED光源1aが、合計すれば上述の照射量で照射可能な出力を備えていればよい。 As described above, the LED light source 1a only needs to have an output capable of irradiating a plant 4 with an irradiation amount of 0.6 kJ/ m2 or more and less than 1.2 kJ/ m2 per day during the dark period. Note that, when the cultivation device 10 is configured to irradiate one plant 4 with multiple LED light sources 1a, the multiple LED light sources 1a only need to have an output capable of irradiating the plant 4 with the above-mentioned irradiation amount in total.
〔栽培方法〕
本実施形態に係る栽培方法では、LED光源1aを用いて植物4にUVを照射する工程を含む。また、前記工程では、287nm以上295nm以下の範囲にピーク波長を有するUVを、1日当たり暗期に0.6kJ/m2以上1.2kJ/m2未満の照射量で植物4に照射する。本実施形態に係る栽培方法に使用するLED光源1aは、上述の栽培装置10が備えるものであってよい。
[Cultivation method]
The cultivation method according to this embodiment includes a step of irradiating the plant 4 with UV light using the LED light source 1a. In this step, the plant 4 is irradiated with UV light having a peak wavelength in the range of 287 nm to 295 nm at an irradiation dose of 0.6 kJ/ m2 or more and less than 1.2 kJ/ m2 per day during the dark period. The LED light source 1a used in the cultivation method according to this embodiment may be the LED light source included in the cultivation device 10 described above.
本実施形態に係る栽培方法では、UVを暗期に照射する。ここで、暗期とは、植物4への、LED光源1aによるUV照射量に対する可視光の照射量の割合が10%以下となる期間であってよい。可視光とは、360nm以上830nm以下の波長を有する光であり、自然光および人工光の両方を含み得る。 In the cultivation method according to this embodiment, UV light is irradiated during the dark period. Here, the dark period may be the period during which the ratio of the amount of visible light irradiated to the plant 4 by the LED light source 1a to the amount of UV irradiated is 10% or less. Visible light is light having a wavelength of 360 nm or more and 830 nm or less, and may include both natural light and artificial light.
暗期として、例えば、日没後から日の出前までの(自然光が全く存在しないか、または若干の自然光が存在する薄明の状態も含む)任意の期間のことであってよい。言い換えれば、暗期とは大半が真っ暗な状態であるが、薄明も含まれ得る状態のことである。また、薄明とは日の出の約30分前から日の出までの時期、または日没から日没の約30分後までの時期のことである。 The dark period may refer to any period from after sunset to before sunrise (including twilight, when there is no natural light or when there is some natural light). In other words, the dark period is a state in which it is mostly dark, but may also include twilight. Twilight may also refer to the period from approximately 30 minutes before sunrise to sunrise, or the period from sunset to approximately 30 minutes after sunset.
LED光源1aが照射可能なUVは、従来の280nm以上290nm以下の波長域のUVよりは安全性が向上しているが、依然として人体に有害となり得る波長である。そのため、植物4へのUVの照射を、人間が作業を行わない夜間や夜明け前等の暗期に実施することは、人体への安全性の観点から好ましい。 The UV that the LED light source 1a can irradiate is safer than conventional UV in the wavelength range of 280 nm to 290 nm, but it is still a wavelength that can be harmful to humans. Therefore, from the perspective of human safety, it is preferable to irradiate the plants 4 with UV during dark periods such as at night or before dawn, when humans are not working.
また、暗期は、室内への自然光の入光を制限したり、室内の光源を制御したりする方法により、植物4が受ける可視光の割合を人工的に低減する期間であってもよい。この場合、暗期は、1日のうちのいずれの時期に設定してもよい。 The dark period may also be a period in which the proportion of visible light received by the plant 4 is artificially reduced by limiting the amount of natural light entering the room or by controlling the light source inside the room. In this case, the dark period may be set at any time of the day.
このように、UV照射を暗期に行う構成によれば、植物4に対して、可視光の影響を最小限にした状態でUVを照射できる。したがって、植物4に照射される光の波長を容易にコントロールできるため、植物4におけるUV障害の低減およびウイルス病の発病の低減の両立を、容易に実現できる。この観点からは、UV照射は、暗期の中でも完全に真っ暗な時期に行われることが最も好ましい。 In this way, by configuring UV irradiation to occur during the dark period, UV can be irradiated onto the plants 4 while minimizing the impact of visible light. Therefore, the wavelength of light irradiated onto the plants 4 can be easily controlled, making it easy to simultaneously reduce UV damage and the incidence of viral diseases in the plants 4. From this perspective, it is most preferable to perform UV irradiation during the dark period when it is completely dark.
なお、上述のように植物4に対するUVの照射を暗期(例えば、夜間)のみに限定した場合、例えば、特許文献1において安全性向上のため設置が好ましいとされている報告灯等の設備を用いない運用が可能となる。さらに、暗期は作業者が植物4のメンテナンス等の作業を行わないため、作業者が誤ってUVを直視する危険性が回避できるなど、実用的なメリットが複数ある。 Note that if UV irradiation of plants 4 is limited to dark periods (e.g., at night) as described above, it becomes possible to operate without using equipment such as report lights, which Patent Document 1 recommends installing to improve safety. Furthermore, since workers do not perform maintenance on plants 4 during the dark periods, there are several practical benefits, such as avoiding the risk of workers accidentally looking directly at UV light.
光照射モジュール1は、比較的面積の小さい、太陽光利用のガラス温室またはビニールハウスの育苗床で利用可能である。また、光照射モジュール1は、大面積の本圃でも利用可能であり、その場合、長期に亘り植物4のウイルス病の発病を低減できる可能性がある。 The light irradiation module 1 can be used in relatively small seedbeds in sunlight-utilizing glass greenhouses or vinyl greenhouses. The light irradiation module 1 can also be used in large-area main fields, in which case it may be possible to reduce the incidence of viral diseases in plants 4 over the long term.
また、本実施形態に係る栽培方法におけるUV照射は、既存のウイルス感染防止対策の少なくとも一部を代替し得るものである。植物ウイルスは昆虫等が媒介して伝播することが知られている。そのため、植物4へのウイルス感染防止対策として、殺虫剤の散布が行われている。植物4へのUV照射を行うことで、植物4に対する殺虫剤の散布回数を低減してもよい。これにより、農薬の使用量の低減およびこれらの散布労力の低減が実現できる。 The UV irradiation in the cultivation method according to this embodiment can replace at least part of existing measures to prevent viral infection. Plant viruses are known to be transmitted by insects and other vectors. For this reason, insecticides are sprayed on plants 4 as a measure to prevent viral infection. By irradiating plants 4 with UV light, the number of times insecticides are sprayed on plants 4 can be reduced. This can reduce the amount of pesticides used and the labor required to spray them.
また、ハサミ等の管理用具を用いた植物4の管理作業中に、管理用具に付着した汁液を介してウイルスが伝播する場合がある。そのため、このような管理用具は頻繁に消毒することが好ましい。植物4へのUV照射を行うことで、管理用具の消毒回数および消毒液等の使用量を低減してもよい。これにより、植物4の管理作業コストの低減にも繋がる。 Furthermore, during plant 4 maintenance work using maintenance tools such as scissors, viruses may be transmitted through sap that adheres to the maintenance tools. For this reason, it is preferable to frequently disinfect such maintenance tools. By irradiating the plants 4 with UV light, the number of times the maintenance tools are disinfected and the amount of disinfectant used may be reduced. This also leads to a reduction in the cost of plant 4 maintenance work.
〔1.キク科の植物に対するUV照射の効果〕
キク科の植物の栽培で問題となるTSWVの感染および発病を低減し、かつ、キク科の植物にUV障害を引き起こさない、最適なUVの波長と照射量とを明らかにするために、キク(‘神馬’)へのUV照射実験を行った。
1. Effects of UV irradiation on Asteraceae plants
In order to clarify the optimal UV wavelength and irradiation dose that reduces infection and disease caused by TSWV, which is a problem in the cultivation of Asteraceae plants, and that does not cause UV damage to Asteraceae plants, we conducted a UV irradiation experiment on chrysanthemum ('Jinba').
(方法)
11月に、1a(アール)の鉄骨ハウスにキク(‘神馬’)を定植した。栽培条件は、ドレインベッド隔離床、20cm株間の4条植え、夜温18℃設定、夜間中断電照、養液土耕とした。また、ドレインベッド3ベッドを2分割し、無照射区(Control)1区および照射区4区の計5処理区を設けた。
(method)
In November, chrysanthemums ('Jinba') were planted in a 1a (are) steel-frame greenhouse. The cultivation conditions were drain bed isolation, planted in four rows with 20cm spacing between plants, a night temperature of 18°C, interrupted lighting at night, and nutrient solution soil cultivation. In addition, three drain beds were divided into two, creating a total of five treatment areas: one unirradiated area (control) and four irradiated areas.
各照射区において、光照射モジュールにより照射されるUVの特性および1日当たりの設定照射量は、以下の通りである;
(1)ピーク波長285nm(λp=285nm、Δλ=10nm)、600J/m2、
(2)ピーク波長285nm(λp=285nm、Δλ=10nm)、300J/m2、
(3)ピーク波長291nm(誤差±1nm、λp=290~292nm、Δλ=11~12nm)、1200J/m2、
(4)ピーク波長291nm(誤差±1nm、λp=290~292nm、Δλ=11~12nm)、600J/m2。
In each irradiation area, the characteristics of the UV irradiated by the light irradiation module and the set irradiation amount per day are as follows:
(1) Peak wavelength 285 nm (λp=285 nm, Δλ=10 nm), 600 J/m 2 ,
(2) Peak wavelength 285 nm (λp=285 nm, Δλ=10 nm), 300 J/m 2 ,
(3) Peak wavelength 291 nm (error ±1 nm, λp = 290 to 292 nm, Δλ = 11 to 12 nm), 1200 J/m 2 ,
(4) Peak wavelength 291 nm (error ±1 nm, λp=290 to 292 nm, Δλ=11 to 12 nm), 600 J/m 2 .
「λp」はピーク波長の範囲を示し、「Δλ」は半値幅を示す。前記(1)および(2)では、発光出力30mWの、SMD基板実装タイプの光照射モジュール(日機装技研製)を、前記(3)および(4)では、発光出力31~35mWの、SMD基板実装タイプの光照射モジュール(Dowa製)をそれぞれ用いた。UVの照射量は、植物草冠上層部での照射強度を、UV検出器(UV-3719-4)を接続しX1-1オプトメーターで計測し、1日当たりの照射量を計算した。 "λp" indicates the range of peak wavelengths, and "Δλ" indicates the half-width. In (1) and (2) above, an SMD-mounted light irradiation module (manufactured by Nikkiso Giken) with an optical output of 30 mW was used, while in (3) and (4) above, an SMD-mounted light irradiation module (manufactured by Dowa) with an optical output of 31-35 mW was used. The UV irradiation amount was measured by connecting a UV detector (UV-3719-4) to an X1-1 optometer to measure the irradiation intensity at the upper layers of the plant crown, and the daily irradiation amount was calculated.
照射方法としては、11月から12月にかけて、キク定植の2週間経過後から毎日、夜間に5時間(AM1:00~AM6:00)、前記の照射量をキクに照射した。植物草冠上層部への照射強度は、1日当たりの照射量が300J/m2の条件では1.7μW/cm2、600J/m2の条件では3.3μW/cm2、1200J/m2の条件では6.7μW/cm2に設定した。 The chrysanthemums were irradiated with the above-mentioned dose for 5 hours at night (1:00 AM to 6:00 AM) from November to December, starting two weeks after planting. The irradiance intensity on the upper layers of the plant crown was set to 1.7 μW/ cm2 when the daily dose was 300 J/m2, 3.3 μW/ cm2 when it was 600 J/ m2 , and 6.7 μW/ cm2 when it was 1200 J/ m2 .
ウイルス接種は、照射開始7日後に、タバコ(Nicotiana rustica)により増殖したTSWVキク分離株を、各区指定した8株の上位展開葉3葉にカーボランダム(登録商標)を用いて汁液接種した。カーボランダムは、炭化ケイ素の粉末である。その後も、UVの照射を継続した。 Seven days after the start of irradiation, the virus was inoculated into three uppermost expanded leaves of eight plants in each plot using Carborundum (registered trademark) sap inoculation of the TSWV chrysanthemum isolate propagated in tobacco (Nicotiana rustica). Carborundum is silicon carbide powder. UV irradiation continued thereafter.
接種11日後および接種21日後に、各区指定した8株における発病指数を調査した。UV障害は、目視により観察した。発病指数の評価は、以下の基準で行った;
「0」:無症状、
「1」:接種葉に僅かの黄化えそ斑が観察される、
「2」:接種葉に明瞭な黄化えそ斑が観察される、
「3」:接種葉に多数の黄化えそ斑が観察される。
Eleven and 21 days after inoculation, the disease index of the eight strains designated for each plot was investigated. UV damage was observed visually. The disease index was evaluated according to the following criteria:
"0": No symptoms,
"1": Slight yellowing and necrotic spots are observed on the inoculated leaves.
"2": Clear yellow necrotic spots are observed on the inoculated leaves.
"3": Numerous yellowed necrotic spots are observed on the inoculated leaves.
ここで、「僅か」とは、注意深く観察すれば見つかる程度を示す。発病指数の統計解析は、Kruskal-Wallis検定により、n=8で、P<0.05を有意差ありとして行った。 Here, "slight" refers to the degree to which symptoms can be detected with careful observation. Statistical analysis of the disease index was performed using the Kruskal-Wallis test, n=8, with P<0.05 considered significant.
UV障害の程度については、以下の基準により評価した;
「-」:無障害、
「±」:接種葉に僅かの褐変、縮葉または巻葉が観察される、
「+」:接種葉に明瞭な褐変、縮葉または巻葉が観察される、
「++」:接種葉に、より明瞭な褐変、縮葉または巻葉が観察される。
The degree of UV damage was evaluated according to the following criteria:
"-": no disability,
"±": slight browning, curling or curling of the inoculated leaves was observed;
"+": Obvious browning, curling or curling of the inoculated leaves was observed;
"++": More obvious browning, curling or curling of the leaves is observed in the inoculated leaves.
ここで、「僅か」とは、注意深く観察すれば見つかる程度を示す。なお、UV障害の評価基準については、他の実施例でも同様である。 Here, "slight" means that it can be detected with careful observation. The evaluation criteria for UV damage are the same for other examples.
供試ウイルスであるTSWVの、病斑部に局在するという性質上、上述の方法では、サンプルによってはTSWVを検出することができない。そのため、全葉抽出によってウイルス蓄積量を調査する手法を採用した。ここでは、TSWV接種サンプルの全葉を液体窒素により凍結粉砕後、1サンプルを3本の1.5mLチューブに分けてRNAを抽出し、1本のチューブにまとめて精製した。その後、ノーマライザーとしてPGKタンパク質の遺伝子発現量を用い、比較Ct法による定量PCR解析により、キク葉内のTSWVウイルス蓄積量を調査した。 Due to the nature of the test virus, TSWV, which localizes to lesions, the above-mentioned method cannot detect TSWV in some samples. Therefore, a method was adopted to investigate the amount of virus accumulation by whole leaf extraction. Here, whole leaves of TSWV-inoculated samples were frozen and crushed using liquid nitrogen, and each sample was divided into three 1.5 mL tubes to extract RNA, which was then pooled and purified in one tube. The amount of TSWV virus accumulation in chrysanthemum leaves was then investigated by quantitative PCR analysis using the comparative Ct method, using the gene expression level of PGK protein as a normalizer.
(結果)
図2は、接種21日後における各サンプルの発病指数を示す。また、図3は、各サンプルのTSWV蓄積量を示す。図2に示すように、無照射区では、接種21日後において、接種葉に明瞭な黄化えそ斑が観察されたが、各照射区では、発病指数が有意に低減していた。
(result)
Figure 2 shows the disease index for each sample 21 days after inoculation. Figure 3 shows the amount of TSWV accumulated in each sample. As shown in Figure 2, in the non-irradiated area, clear yellowed necrotic spots were observed on the inoculated leaves 21 days after inoculation, but in each of the irradiated areas, the disease index was significantly reduced.
図2および図3に示すように、各照射区の中で、ピーク波長291nm、600J/m2の照射区がTSWVによる発病の低減効果を表し、かつUV障害が最も軽微であった。一方、ピーク波長291nm、1200J/m2の照射区では、ピーク波長285nm、600J/m2の照射区とほぼ同等のUV障害が発生した。この結果から、ピーク波長291nmのUVにおける1日当たりの照射量は、1200J/m2未満が適正照射量であることが明らかとなった。 As shown in Figures 2 and 3, among the irradiation areas, the area irradiated with a peak wavelength of 291 nm and 600 J/ m² exhibited the greatest effect in reducing TSWV disease incidence and caused the least amount of UV damage. On the other hand, the area irradiated with a peak wavelength of 291 nm and 1200 J/ m² caused UV damage almost equivalent to that of the area irradiated with a peak wavelength of 285 nm and 600 J/ m² . These results demonstrate that the appropriate daily exposure dose for UV with a peak wavelength of 291 nm is less than 1200 J/ m² .
なお、図3に示すように、キク体内のTSWV蓄積量は、ピーク波長291nmでは600J/m2、1200J/m2ともに低く、ピーク波長285nmの場合と、TSWV感染の低減効果に有意差は認められなかった。 As shown in Figure 3, the amount of TSWV accumulated in chrysanthemums was low at both 600 J/m 2 and 1200 J/m 2 at a peak wavelength of 291 nm, and no significant difference in the effect of reducing TSWV infection was observed compared to when the peak wavelength was 285 nm.
以上の結果から、ピーク波長291nmのUVを1日当たり夜間に600J/m2で照射することで、TSWVによるキクえそ病の発病を、UV障害をほぼ完全に回避しながら効果的に低減できた。また、ピーク波長291nmのUVでは、1日当たりの照射量が1200J/m2未満であれば、UV障害を回避できることが示された。 These results indicate that irradiation with 600 J/ m² of UV light with a peak wavelength of 291 nm per day at night effectively reduces the incidence of chrysanthemum necrosis disease caused by TSWV while almost completely avoiding UV damage. Furthermore, it was shown that UV damage can be avoided if the daily irradiation dose of UV light with a peak wavelength of 291 nm is less than 1200 J/ m² .
〔2.ナス科の植物に対するUV照射の効果〕
ナス科の植物の栽培で問題となるTSWVまたはToMVの感染および発病を低減し、かつ、ナス科の植物にUV障害を引き起こさない、最適なUVの波長と照射量とを明らかにするために、タバコ(Nicotinia rustica)およびトマト(‘桃太郎8’)へのUV照射実験を行った。タバコは、ナス科の植物において代表的なモデル植物である。
2. Effects of UV irradiation on Solanaceae plants
To clarify the optimal UV wavelength and dose for reducing infection and disease development by TSWV or ToMV, which are problematic in the cultivation of Solanaceae plants, and for preventing UV damage to Solanaceae plants, we conducted UV irradiation experiments on tobacco (Nicotinia rustica) and tomato ('Momotaro 8'). Tobacco is a representative model plant of the Solanaceae family.
〔2-1.タバコへの600J/m2での照射〕
(方法)
鉄骨PO(ポリオレフィン)フィルムハウスに光照射モジュール4個を50cm四方に設置し、その下部にポット栽培の4.1葉期のタバコ(Nicotinia rustica)を静置した。無照射区(Control)1区および照射区3区の計4処理区を設けた。
2-1. Irradiation of tobacco at 600 J/ m²
(method)
Four light irradiation modules were installed in a 50 cm square steel-framed PO (polyolefin) film greenhouse, and pot-grown tobacco (Nicotinia rustica) at the 4.1 leaf stage was placed underneath. A total of four treatment areas were set up: one unirradiated area (control) and three irradiated areas.
各照射区において、光照射モジュールにより照射されるUVの特性は以下の通りである、;
(1)ピーク波長284nm(誤差±1nm、λp=283~285nm、Δλ=11~12nm)、
(2)ピーク波長291nm(誤差±1nm、λp=290~292nm、Δλ=11~12nm)、
(3)ピーク波長297nm(誤差±1nm、λp=296~298nm、Δλ=11~12nm)。
In each irradiation area, the characteristics of the UV irradiated by the light irradiation module are as follows:
(1) Peak wavelength 284 nm (error ±1 nm, λp = 283 to 285 nm, Δλ = 11 to 12 nm),
(2) Peak wavelength 291 nm (error ±1 nm, λp = 290 to 292 nm, Δλ = 11 to 12 nm),
(3) Peak wavelength 297 nm (error ±1 nm, λp = 296 to 298 nm, Δλ = 11 to 12 nm).
光照射モジュールによる1日当たりの照射量は、600J/m2とした。光照射モジュールは、発光出力30mW、動作電圧5.5Vの、SMD基板実装タイプの光照射モジュール(Dowa製)を用いた。UVの照射量は、植物草冠上層部での照射強度をUV検出器(UV-3719-4)で計測し、1日当たりの照射量を計算した。 The daily irradiation dose from the light irradiation module was 600 J/ m² . The light irradiation module used was an SMD substrate-mounted light irradiation module (manufactured by Dowa) with a light output of 30 mW and an operating voltage of 5.5 V. The UV irradiation dose was calculated by measuring the irradiation intensity at the upper layer of the plant crown using a UV detector (UV-3719-4).
照射方法としては、3月に、4.1葉期のタバコを静置した日から毎日、夜間に14時間(17:00~7:00)かけて、前記の照射量をタバコに照射した。植物草冠上層部への照射強度は1.2μW/cm2とした。ハウス内の温度は、夜間15℃、日中30℃とした。 The irradiating method was to irradiate the tobacco plants at the 4.1 leaf stage with the above-mentioned dose for 14 hours (17:00-7:00) every night starting in March, starting from the day the plants were left standing. The irradiating intensity on the upper layers of the plant crown was 1.2 μW/ cm2 . The temperature inside the greenhouse was 15°C at night and 30°C during the day.
ウイルス接種は、照射開始8日後に、予め準備したタバコのTSWV発病葉により、各群のタバコの第4葉および第5葉に、カーボランダムを用いて汁液接種した。その後も、UVの照射を継続した。 Eight days after the start of irradiation, virus inoculation was performed by inoculating the fourth and fifth leaves of each group of tobacco plants with TSWV-infected leaves prepared in advance using carborundum. UV irradiation continued thereafter.
接種10日後に、接種葉の輪紋病斑数を調査した。UV障害は、目視により観察した。輪紋病斑数の統計解析は、Tukey検定により、n=5で、P<0.05を有意差ありとして行った。 Ten days after inoculation, the number of ring spot lesions on the inoculated leaves was counted. UV damage was observed visually. Statistical analysis of the number of ring spot lesions was performed using Tukey's test with n = 5, with P < 0.05 indicating a significant difference.
(結果)
図4は、接種10日後での、各サンプルの接種葉における輪紋病斑数を示す。図4に示すように、接種葉における輪紋病斑数は、ピーク波長284nmおよび291nmの照射群で有意に少なく、UV照射の効果が認められた。ピーク波長284nmの照射区では、巻葉および葉焼けのUV障害が発生した。ピーク波長291nmの照射区では、僅かにUV障害が発生したが、問題になる程度ではなかった。一方、ピーク波長297nmの照射区では、UV障害は全く発生しなかったが、輪紋病斑数は無照射区と有意差がなく、照射によるウイルス低減効果は認められなかった。
(result)
Figure 4 shows the number of ring spot lesions on the inoculated leaves of each sample 10 days after inoculation. As shown in Figure 4, the number of ring spot lesions on the inoculated leaves was significantly lower in the groups irradiated with peak wavelengths of 284 nm and 291 nm, demonstrating the effectiveness of UV irradiation. In the group irradiated with a peak wavelength of 284 nm, UV damage such as leaf curling and leaf burn occurred. In the group irradiated with a peak wavelength of 291 nm, slight UV damage occurred, but not to a degree that was problematic. On the other hand, in the group irradiated with a peak wavelength of 297 nm, no UV damage occurred at all, but the number of ring spot lesions was not significantly different from the non-irradiated group, demonstrating no virus-reducing effect of irradiation.
以上の結果より、ピーク波長291nmのUVは、1日当たり夜間に600J/m2で照射することで、UV障害を十分に回避しながらウイルス病を低減できる特性を有するUVであることが判明した。 From the above results, it was found that UV with a peak wavelength of 291 nm has the properties to reduce viral diseases while sufficiently avoiding UV damage by irradiating it at night at 600 J/ m2 per day.
〔2-2.タバコへの1000J/m2での照射〕
(方法)
1a(アール)の鉄骨ハウスに、9cmポットに移植したタバコ(Nicotiana rustica)を静置した。ドレインベッド上を3分割し、無照射区(Control)、291nm照射区および285nm照射区の計3処理区を設けた。各区について、タバコ6株とした。
2-2. Irradiation of tobacco at 1000 J/ m²
(method)
Tobacco (Nicotiana rustica) plants transplanted into 9 cm pots were placed in a 1 a (are) steel-frame greenhouse. The drainage bed was divided into three sections: a non-irradiated area (control), an area irradiated with 291 nm light, and an area irradiated with 285 nm light. Six tobacco plants were placed in each section.
各照射区において、光照射モジュールにより照射されるUVの特性は、以下の通りである;
(1)ピーク波長285nm(λp=285nm、Δλ=10nm)、
(2)ピーク波長291nm(誤差±1nm、λp=290~292nm、Δλ=11~12nm)。
In each irradiation area, the characteristics of the UV irradiated by the light irradiation module are as follows:
(1) Peak wavelength 285 nm (λp=285 nm, Δλ=10 nm),
(2) Peak wavelength 291 nm (error ±1 nm, λp = 290 to 292 nm, Δλ = 11 to 12 nm).
光照射モジュールによる1日当たりの照射量は、1000J/m2とした。光照射モジュールは、前記(1)では、発光出力30mWの、SMD基板実装タイプの光照射モジュール(日機装技研製)を、前記(2)では、発光出力31~35mWの、SMD基板実装タイプの光照射モジュール(Dowa製)を用いた。UVの照射量は、植物表面上での照射強度をUV検出器(UV-3719-4)で計測し、1日当たりの照射量を計算した。 The daily irradiation dose by the light irradiation module was 1000 J/ m2 . In the (1) experiment, an SMD substrate-mounted light irradiation module (manufactured by Nikkiso Giken) with a light output of 30 mW was used, and in the (2) experiment, an SMD substrate-mounted light irradiation module (manufactured by Dowa) with a light output of 31 to 35 mW was used. The UV irradiation dose was calculated by measuring the irradiation intensity on the plant surface with a UV detector (UV-3719-4).
照射方法としては、2月に毎日、夜間に5.5時間(PM10:30~AM4:00)、照射強度が植物表面上で約5μW/cm2となるように、前記の照射量をタバコに照射した。 The irradiation method was such that the tobacco was irradiated with the above-mentioned amount of radiation every night in February for 5.5 hours (10:30 PM to 4:00 AM) so that the irradiation intensity on the plant surface was approximately 5 μW/cm 2 .
ウイルス接種は、照射開始5日後に、予め準備したTSWVキク分離株(タバコで増殖)を、各区6株のタバコの第6葉に、カーボランダムを用いて汁液接種した。その後も、UVの照射を継続した。 Five days after the start of irradiation, virus inoculation was carried out by inoculating the sixth leaf of six tobacco plants in each plot with a previously prepared TSWV chrysanthemum isolate (grown in tobacco) using carborundum. UV irradiation continued thereafter.
接種10日後に、接種葉の局部病斑数を計測した。UV障害は、目視により観察した。局部病斑数の統計解析は、Tukey検定により、n=6で、P<0.05を有意差ありとして行った。 Ten days after inoculation, the number of local lesions on the inoculated leaves was counted. UV damage was observed visually. Statistical analysis of the number of local lesions was performed using Tukey's test (n=6) with P<0.05 indicating a significant difference.
(結果)
図5は、接種10日後における各サンプルの接種葉の外観を示す。図6は、接種10日後における各サンプルの接種葉における局部病斑数を示す。図5および図6に示すように、無照射区では、接種10日後において接種葉に平均214個の局部病斑が出現した。一方、ピーク波長285nmの照射区では15個、ピーク波長291nmの照射区では65個の局部病斑がそれぞれ出現していた。これは、無照射区に対して、ピーク波長285nmの照射区では6%、ピーク波長291nmの照射区では31%への、大幅な低減となった。ピーク波長285nmの照射区では、強い縮葉および葉焼けのUV障害が発生したが、ピーク波長291nmの照射区では僅かな縮葉が見られただけで、UV障害はほとんど問題にはならなかった。以上より、ピーク波長291nmのUVを1日当たり1000J/m2で照射することで、UV障害を十分に回避しながら、TSWV感染を有効に低減できることが判明した。
(result)
Figure 5 shows the appearance of the inoculated leaves of each sample 10 days after inoculation. Figure 6 shows the number of local lesions on the inoculated leaves of each sample 10 days after inoculation. As shown in Figures 5 and 6 , an average of 214 local lesions appeared on the inoculated leaves 10 days after inoculation in the non-irradiated area. Meanwhile, 15 local lesions appeared in the area irradiated with a peak wavelength of 285 nm, and 65 local lesions appeared in the area irradiated with a peak wavelength of 291 nm. This was a significant reduction of 6% in the area irradiated with a peak wavelength of 285 nm and 31% in the area irradiated with a peak wavelength of 291 nm compared to the non-irradiated area. In the area irradiated with a peak wavelength of 285 nm, UV damage such as severe leaf curl and leaf burn occurred, but in the area irradiated with a peak wavelength of 291 nm, only slight leaf curl was observed, and UV damage was hardly a problem. From the above, it was found that irradiation with UV rays with a peak wavelength of 291 nm at 1000 J/ m2 per day can effectively reduce TSWV infection while sufficiently avoiding UV damage.
〔2-3.タバコへの500J/m2での照射〕
(方法)
1a(アール)の鉄骨ハウスに、9cmポットに移植したタバコ(Nicotiana rustica)を静置した。ドレインベッド上を3分割し、無照射区(Control)1区および照射区2区を設けた。各区について、タバコ6株とした。
[2-3. Irradiation of tobacco at 500 J/ m2 ]
(method)
Tobacco (Nicotiana rustica) plants transplanted into 9 cm pots were placed in a 1 a (are) steel frame greenhouse. The drainage bed was divided into three sections: unirradiated section 1 (control) and irradiated section 2. Six tobacco plants were placed in each section.
各照射区において、光照射モジュールにより照射されるUVの特性は、以下の通りである;
(1)ピーク波長285nm(λp=285nm、Δλ=10nm)、
(2)ピーク波長291nm(誤差±1nm、λp=290~292nm、Δλ=11~12nm)。
In each irradiation area, the characteristics of the UV irradiated by the light irradiation module are as follows:
(1) Peak wavelength 285 nm (λp=285 nm, Δλ=10 nm),
(2) Peak wavelength 291 nm (error ±1 nm, λp = 290 to 292 nm, Δλ = 11 to 12 nm).
光照射モジュールによる1日当たりの照射量は、500J/m2とした。光照射モジュールは、前記(1)では、発光出力30mWの、SMD基板実装タイプの光照射モジュール(日機装技研製)を、前記(2)では、発光出力31~35mWの、SMD基板実装タイプの光照射モジュール(Dowa製)を用いた。UVの照射量は、植物表面上での照射強度をUV検出器(UV-3719-4)で計測し、1日当たりの照射量を計算した。 The daily irradiation dose by the light irradiation module was 500 J/ m2 . In (1) above, an SMD substrate-mounted light irradiation module (manufactured by Nikkiso Giken) with a light output of 30 mW was used, and in (2) above, an SMD substrate-mounted light irradiation module (manufactured by Dowa) with a light output of 31 to 35 mW was used. The UV irradiation dose was calculated by measuring the irradiation intensity on the plant surface with a UV detector (UV-3719-4).
照射方法としては、1月から2月にかけて毎日、夜間に2時間(AM2:00~AM4:00)、照射強度が植物表面上で7μW/cm2となるように、前記の照射量をタバコに照射した。 The irradiation method was such that the tobacco was irradiated with the above-mentioned amount of radiation for two hours at night (2:00 AM to 4:00 AM) every day from January to February, so that the irradiation intensity on the plant surface was 7 μW/cm 2 .
ウイルス接種は、照射開始6日後に、予め準備したTSWVキク分離株(タバコで増殖)を、各区6株のタバコの第5葉および第6葉に、カーボランダムを用いて汁液接種した。その後も、UVの照射を継続した。 Six days after the start of irradiation, virus inoculation was carried out by inoculating the fifth and sixth leaves of six tobacco plants in each plot with a previously prepared TSWV chrysanthemum isolate (grown in tobacco) using carborundum. UV irradiation continued thereafter.
接種7日後に、接種葉の病斑面積率(%)を計測した。UV障害は、目視により観察した。病斑面積率の統計解析は、Tukey検定により、n=4~6で、P<0.05を有意差ありとして行った。 Seven days after inoculation, the lesion area ratio (%) on the inoculated leaves was measured. UV damage was observed visually. Statistical analysis of the lesion area ratio was performed using Tukey's test with n = 4-6, with P < 0.05 indicating a significant difference.
(結果)
図7は、接種7日後での、各サンプルの接種葉における病斑面積率(%)を示す。図7に示すように、無照射区では、接種7日後において接種葉の病斑面積率は約30%であった。一方、ピーク波長285nmの照射区では12.5%、ピーク波長291nmの照射区では18.3%の病斑面積率であり、両者間に有意差はなく、いずれも病斑形成に対して低減効果が認められた。しかしながら、無照射区とピーク波長291nmの照射区との間にも、病斑面積率に有意差はなかった。すなわち、ピーク波長291nmでは、TSWV感染の低減効果を得るためには、1日当たり500J/m2を超える照射量を要することが判明した。ピーク波長285nmの照射区では、縮葉等のUV障害が発生したが、ピーク波長291nmの照射区では、UV障害は全く認められなかった。
(result)
Figure 7 shows the lesion area ratio (%) on inoculated leaves for each sample 7 days after inoculation. As shown in Figure 7, in the non-irradiated area, the lesion area ratio on inoculated leaves 7 days after inoculation was approximately 30%. On the other hand, the lesion area ratio was 12.5% in the area irradiated with a peak wavelength of 285 nm and 18.3% in the area irradiated with a peak wavelength of 291 nm, with no significant difference between the two, and both were found to have a reducing effect on lesion formation. However, there was no significant difference in lesion area ratio between the non-irradiated area and the area irradiated with a peak wavelength of 291 nm. In other words, it was found that an irradiation dose of more than 500 J/ m² per day was required to achieve a TSWV infection reduction effect at a peak wavelength of 291 nm. UV damage such as leaf curl occurred in the area irradiated with a peak wavelength of 285 nm, but no UV damage was observed in the area irradiated with a peak wavelength of 291 nm.
〔2-4.トマトへのUV照射における発病低減効果およびUV障害回避効果〕
(方法)
1a(アール)の鉄骨ハウスに、9cmポットに移植したトマト(‘桃太郎8’)を静置した。‘桃太郎8’は、ToMVに対する抵抗性遺伝子Tm-2aをヘテロに有する品種である。ドレインベッド上を2分割し、無照射区(Control)および照射区の計2処理区を設けた。各区について、トマト9株とした。
2-4. Effect of UV irradiation on tomato plants to reduce disease occurrence and prevent UV damage
(method)
Tomato plants ('Momotaro 8') transplanted into 9 cm pots were placed in a 1 a (are) steel-frame greenhouse. 'Momotaro 8' is a cultivar that is heterozygous for the ToMV resistance gene Tm- 2a . The drainage bed was divided into two treatment zones: a non-irradiated zone (control) and an irradiated zone. Nine tomato plants were placed in each zone.
照射区において、光照射モジュールにより照射されるUVの特性は、次の通りである;ピーク波長291nm(誤差±1nm、λp=290~292nm、Δλ=11~12nm)。 In the irradiation area, the characteristics of the UV irradiated by the light irradiation module are as follows: peak wavelength 291 nm (error ±1 nm, λp = 290-292 nm, Δλ = 11-12 nm).
光照射モジュールによる1日当たりの照射量は、1170J/m2とした。光照射モジュールは、発光出力31~35mWの、SMD基板実装タイプの光照射モジュール(Dowa製)を用いた。UVの照射量は、植物草冠上層部での照射強度をUV検出器(UV-3719-4)で計測し、1日当たりの照射量を計算した。 The daily irradiation dose from the light irradiation module was 1170 J/ m² . The light irradiation module used was an SMD substrate-mounted light irradiation module (manufactured by Dowa) with a light output of 31 to 35 mW. The UV irradiation dose was calculated by measuring the irradiation intensity at the upper layer of the plant crown using a UV detector (UV-3719-4).
照射方法としては、2月から3月にかけて毎日、夜間に6.5時間(PM10:30~AM5:00)、照射強度が植物草冠上層部で約5μW/cm2となるように、前記の照射量をトマトに照射した。 The irradiation method was as follows: from February to March, the tomatoes were irradiated with the above-mentioned amount of radiation for 6.5 hours at night (10:30 PM to 5:00 AM) every day, so that the irradiation intensity was approximately 5 μW/ cm2 in the upper layer of the plant crown.
ウイルス接種は、照射開始11日後に、抵抗性遺伝子Tm-2a打破系統のToMV株(タバコで増殖)を、各区9株のトマトの本葉2葉期の第1~2葉に、カーボランダムを用いて汁液接種した。その後も、UVの照射を継続した。 For virus inoculation, 11 days after the start of irradiation, the ToMV strain (grown in tobacco) of the resistance gene Tm- 2a- defeated line was inoculated into the first and second leaves of nine tomato plants in each plot at the two-leaf stage using carborundum. UV irradiation was then continued.
接種8日後に、発病指数を調査した。UV障害は、目視により観察した。発病指数の評価は、以下の基準で行った;
「0」:無発病、
「1」:接種葉に僅かの黄化えそ斑が観察される、
「2」:接種葉に明瞭な黄化えそ斑が観察される、
「3」:接種葉に多数の黄化えそ斑が観察される、
「4」:接種葉の枯死が観察される。
Eight days after inoculation, the disease index was investigated. UV damage was observed visually. The disease index was evaluated according to the following criteria:
"0": no disease,
"1": Slight yellowing and necrotic spots are observed on the inoculated leaves.
"2": Clear yellow necrotic spots are observed on the inoculated leaves.
"3": Numerous yellowed necrotic spots are observed on the inoculated leaves.
"4": Withering and death of inoculated leaves is observed.
ここで、「僅か」とは、注意深く観察すれば見つかる程度を示す。発病指数の統計解析は、Mann-Whitney U 検定により、n=9で、P<0.1を有意傾向ありとして行った。 Here, "slight" refers to the degree to which the disease can be detected with careful observation. Statistical analysis of the disease index was performed using the Mann-Whitney U test, n=9, with P<0.1 indicating a significant trend.
また、実施例1と同様、トマト葉におけるウイルス蓄積量を調査した。ここでは、接種8日後の、上記発病指数の調査に用いたトマトの第4~5葉0.15~0.2gをサンプリングして、-80℃に保存したToMV接種サンプルを用いた。このToMV接種サンプルから、市販キットにより全RNAを抽出して精製した。その後、ノーマライザーとしてトマトのEF1a遺伝子の遺伝子発現量を用い、比較Ct法による定量PCR解析により、トマト葉内のToMVウイルス蓄積量を調査した。 Furthermore, as in Example 1, the amount of virus accumulation in tomato leaves was investigated. Here, 0.15 to 0.2 g of the fourth and fifth leaves of the tomatoes used to investigate the disease index above were sampled eight days after inoculation and stored at -80°C to serve as the ToMV-inoculated sample. Total RNA was extracted and purified from this ToMV-inoculated sample using a commercially available kit. Subsequently, the amount of ToMV virus accumulation in tomato leaves was investigated by quantitative PCR analysis using the comparative Ct method, using the gene expression level of the tomato EF1a gene as a normalizer.
(結果)
図8は、接種8日後における各サンプルの発病指数を示す。また、図9は、各サンプルのToMV蓄積量を示す。図8に示すように、無照射区では、接種8日後における発病指数は約2だったのに対し、照射区では約1.1であった。すなわち、トマトにおいて、UV照射によるToMVの発病低減傾向が認められた。また、照射区では、僅かな葉の光沢および縮葉といったUV障害が見られたが、生育にはほとんど影響のない極めて軽微なものであった。
(result)
Figure 8 shows the disease index for each sample 8 days after inoculation. Figure 9 shows the ToMV accumulation for each sample. As shown in Figure 8, the disease index for the non-irradiated area 8 days after inoculation was approximately 2, while the index for the irradiated area was approximately 1.1. In other words, a tendency for UV irradiation to reduce ToMV disease incidence in tomatoes was observed. In addition, in the irradiated area, UV damage such as slight leaf gloss and leaf curl was observed, but this was extremely minor and had almost no effect on growth.
図9に示すように、トマト体内のToMV蓄積量は、照射区では無照射区の約64%であり、照射区の方が少なかった。すなわち、UV照射による、トマト葉でのToMV増殖低減効果が観察された。 As shown in Figure 9, the amount of ToMV accumulated in the tomato plants in the irradiated area was approximately 64% of that in the unirradiated area, meaning that the amount was lower in the irradiated area. In other words, UV irradiation was observed to have a reducing effect on ToMV proliferation in tomato leaves.
以上の結果から、ピーク波長291nmのUVを1日当たり夜間に1170J/m2で照射することで、トマトのToMVによる発病を、UV障害を十分に回避しながら効果的に低減できた。 From the above results, it was found that irradiation of UV with a peak wavelength of 291 nm at 1,170 J/ m² per day at night effectively reduced the incidence of ToMV disease in tomatoes while fully avoiding UV damage.
〔2-5.トマトへのUV照射における感染低減効果〕
(方法)
1a(アール)の鉄骨ハウスに、9cmポットに移植したトマト(‘桃太郎8’)を静置した。ドレインベッド上を2分割し、無照射区(Control)および照射区の計2処理区を設けた。各区について、トマト6株とした。
[2-5. Infection reduction effect of UV irradiation on tomatoes]
(method)
Tomato plants ('Momotaro 8') transplanted into 9 cm pots were placed in a 1 a (are) steel-frame greenhouse. The drainage bed was divided into two treatment areas: a non-irradiated area (control) and an irradiated area. Six tomato plants were placed in each area.
照射区において、光照射モジュールにより照射されるUVの特性は、次の通りである;ピーク波長291nm(誤差±1nm、λp=290~292nm、Δλ=11~12nm)。 In the irradiation area, the characteristics of the UV irradiated by the light irradiation module are as follows: peak wavelength 291 nm (error ±1 nm, λp = 290-292 nm, Δλ = 11-12 nm).
光照射モジュールによる1日当たりの照射量は、1170J/m2とした。光照射モジュールは、発光出力31~35mWの、SMD基板実装タイプの光照射モジュール(Dowa製)を用いた。UVの照射量は、植物草冠上層部での照射強度をUV検出器(UV-3719-4)で計測し、1日当たりの照射量を計算した。 The daily irradiation dose from the light irradiation module was 1170 J/ m² . The light irradiation module used was an SMD substrate-mounted light irradiation module (manufactured by Dowa) with a light output of 31 to 35 mW. The UV irradiation dose was calculated by measuring the irradiation intensity at the upper layer of the plant crown using a UV detector (UV-3719-4).
照射方法としては、3月に毎日、夜間に6.5時間(PM10:30~AM5:00)、照射強度が植物草冠上層部で約5μW/cm2となるように、前記の照射量をトマトに照射した。 The irradiation method was as follows: every day in March, tomatoes were irradiated with the above-mentioned amount of radiation for 6.5 hours at night (10:30 PM to 5:00 AM) so that the radiation intensity was approximately 5 μW/cm 2 at the upper layer of the plant crown.
ウイルス接種は、照射開始3日後に、抵抗性遺伝子Tm-2a打破系統のToMV株(タバコで増殖)を、各区6株のトマトの本葉5.5葉期の第4~5葉に、カーボランダムを用いて汁液接種した。その後も、UVの照射を継続した。 For virus inoculation, three days after the start of irradiation, the ToMV strain (grown in tobacco) of the resistance gene Tm- 2a- defeated line was inoculated into the fourth to fifth leaves of six tomato plants at the 5.5-leaf stage using carborundum. UV irradiation was then continued.
接種7日後に、接種葉の局部病斑数を調査した。局部病斑数の統計解析は、t-検定により、n=6で、P<0.01を有意差ありとして行った。 Seven days after inoculation, the number of local lesions on the inoculated leaves was counted. Statistical analysis of the number of local lesions was performed using a t-test with n = 6, with P < 0.01 indicating a significant difference.
(結果)
図10は、接種7日後における各サンプルの接種葉における局部病斑数を示す。図10に示すように、無照射区では、接種7日後において接種葉に平均79.5個の局部病斑が出現した。一方、照射区では24.8個の局部病斑が出現しており、UV照射によって、トマトのToMVに対する有意かつ明らかな感染低減効果が認められた。
(result)
Figure 10 shows the number of local lesions on the inoculated leaves of each sample 7 days after inoculation. As shown in Figure 10, in the non-irradiated group, an average of 79.5 local lesions appeared on the inoculated leaves 7 days after inoculation. On the other hand, in the irradiated group, 24.8 local lesions appeared, demonstrating that UV irradiation has a significant and clear effect in reducing ToMV infection in tomatoes.
以上より、ピーク波長291nmのUVを1日当たり1170J/m2で照射することで、トマトへのToMVの感染を有効に低減できることが判明した。 From the above, it was found that ToMV infection in tomatoes can be effectively reduced by irradiating them with UV light with a peak wavelength of 291 nm at a dose of 1,170 J/ m² per day.
〔LED光源について〕
LED光源の製造性および流通性の問題から、すべてのピーク波長を連続的に試行することは不可能であり、今回の実験のように約5nm間隔の非連続的なピーク波長で実験データを蓄積した。しかし、この方法でも、最適な波長を絞り込むのに必要かつ十分な精度を有していると判断できる。すなわち、本願の出願時の技術水準においては、上述の各実施例は、UVのピーク波長を最大限に細分化した条件による実験となっている。
[About LED light sources]
Due to issues with the manufacturability and distribution of LED light sources, it is impossible to continuously test all peak wavelengths, and experimental data was accumulated using discontinuous peak wavelengths spaced approximately 5 nm apart, as in this experiment. However, this method is also considered to provide the necessary and sufficient accuracy for narrowing down the optimal wavelength. In other words, at the state of the art at the time of filing this application, the above-mentioned examples were conducted under conditions in which the UV peak wavelength was divided into the smallest possible range.
LED光源におけるピーク波長の誤差を±1nmと考えると、上述の実施例で使用したピーク波長285nmのLED光源は、ピーク波長286nmのUVも照射し得る。また、ピーク波長297nmのLED光源は、ピーク波長296nmのUVも照射し得る。これを考慮すると、上述の各実施例では、287nm以上295nm以下の範囲にピーク波長を有するUVであれば、キク科またはナス科の植物のウイルス病について、最も効果的に、UV障害を回避しながら低減できることが示されたと言える。 Assuming that the peak wavelength error of an LED light source is ±1 nm, the LED light source with a peak wavelength of 285 nm used in the above examples can also irradiate UV with a peak wavelength of 286 nm. Furthermore, an LED light source with a peak wavelength of 297 nm can also irradiate UV with a peak wavelength of 296 nm. Taking this into consideration, it can be said that the above examples demonstrate that UV with a peak wavelength in the range of 287 nm to 295 nm can most effectively reduce viral diseases in plants of the Asteraceae or Solanaceae family while avoiding UV damage.
〔付記事項〕
また、本発明は上述した各実施形態または各実施例に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。異なる実施形態または実施例にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。
[Additional Notes]
Furthermore, the present invention is not limited to the above-described embodiments or examples, and various modifications are possible within the scope of the claims. Embodiments obtained by appropriately combining the technical means disclosed in different embodiments or examples are also included in the technical scope of the present invention.
1 光照射モジュール
1a LED光源
2 支持棒
3 電気コード
4 植物
10 栽培装置
REFERENCE SIGNS LIST 1 Light irradiation module 1a LED light source 2 Support rod 3 Electric cord 4 Plant 10 Cultivation device
Claims (3)
前記暗期は、日没後から日の出前までの所定の期間であることを特徴とする、栽培方法。 The method includes a step of irradiating a plant of the Asteraceae or Solanaceae family with light using an LED light source, in which the plant is irradiated with light having a peak wavelength in the range of 287 nm or more and 295 nm or less at an irradiation dose of 0.6 kJ/ m2 or more and less than 1.2 kJ/ m2 per day during a dark period ;
A cultivation method characterized in that the dark period is a predetermined period from after sunset to before sunrise .
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021038658 | 2021-03-10 | ||
| JP2021038658 | 2021-03-10 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022140237A JP2022140237A (en) | 2022-09-26 |
| JP7751265B2 true JP7751265B2 (en) | 2025-10-08 |
Family
ID=83400042
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021144985A Active JP7751265B2 (en) | 2021-03-10 | 2021-09-06 | Cultivation method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7751265B2 (en) |
Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016007185A (en) | 2014-06-26 | 2016-01-18 | 広島県 | Tomato seedling raising method, seedling raising device and plant factory |
| JP2017506905A (en) | 2014-03-14 | 2017-03-16 | バイオルミック リミテッド | Methods for improving crop yield and / or quality |
| US20180255710A1 (en) | 2015-09-17 | 2018-09-13 | Universite D'avignon Et Des Pays Du Vaucluse | Method for stimulating the resistance of plants to biotic stress by uv radiation exposure |
| WO2018199307A1 (en) | 2017-04-28 | 2018-11-01 | 公立大学法人大阪府立大学 | Method for increasing amount of phenolic compound in plant |
| JP2019162059A (en) | 2018-03-19 | 2019-09-26 | 広島県 | Method and device for raising seedlings of tomato |
| JP2020525002A (en) | 2017-06-29 | 2020-08-27 | バイオルミック リミテッド | Methods for improving crop yield and/or quality |
-
2021
- 2021-09-06 JP JP2021144985A patent/JP7751265B2/en active Active
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017506905A (en) | 2014-03-14 | 2017-03-16 | バイオルミック リミテッド | Methods for improving crop yield and / or quality |
| JP2020039352A (en) | 2014-03-14 | 2020-03-19 | バイオルミック リミテッド | Method for improving yield of crop and/or quality |
| JP2016007185A (en) | 2014-06-26 | 2016-01-18 | 広島県 | Tomato seedling raising method, seedling raising device and plant factory |
| US20180255710A1 (en) | 2015-09-17 | 2018-09-13 | Universite D'avignon Et Des Pays Du Vaucluse | Method for stimulating the resistance of plants to biotic stress by uv radiation exposure |
| WO2018199307A1 (en) | 2017-04-28 | 2018-11-01 | 公立大学法人大阪府立大学 | Method for increasing amount of phenolic compound in plant |
| JP2020525002A (en) | 2017-06-29 | 2020-08-27 | バイオルミック リミテッド | Methods for improving crop yield and/or quality |
| JP2019162059A (en) | 2018-03-19 | 2019-09-26 | 広島県 | Method and device for raising seedlings of tomato |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2022140237A (en) | 2022-09-26 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP3116296B1 (en) | Method to improve crop yield and/or stress resistance | |
| JP6217980B2 (en) | Tomato seedling raising method, seedling raising device and plant factory | |
| US7774979B2 (en) | Process of photomorphogenically enhancing plants | |
| JP2022028655A (en) | Methods of seed treatment and resulting products | |
| Lim et al. | Effects of different light types on root formation of Ocimum basilicum L. cuttings | |
| WO2013088829A1 (en) | Plant-cultivation illumination device | |
| US20160021830A1 (en) | Manipulation of light spectral quality to reduce parasitism by cuscuta and other plant parasites | |
| Valero et al. | Effects of high vineyard temperatures on the grapevine leafroll associated virus elimination from Vitis vinifera L. cv. Napoleon tissue cultures | |
| Morgan et al. | Growth and development of Pinus radiata D. Don: the effect of light quality | |
| JP7751265B2 (en) | Cultivation method | |
| Kudo et al. | Effects of green light irradiation on induction of disease resistance in plants | |
| Chinoy et al. | Effect of Vernalization and Photoperiodic Treatments on Growth and Development of Crop Plants: I. Varietal Differences in Flowering of Wheat and its Correlation with Length of Spike under Varying Photoinductive and Post-Photoinductive Treatments. | |
| Kumar et al. | Effect of photoperiod on growth characteristics in Chrysanthemum morifolium Ramat. cv. Zembla | |
| JP3923480B2 (en) | Seedling method | |
| JP2014131506A (en) | Method for pests control during plant growth using light beam and device using light beam, method for phenol content increase and device using light beam, and method for kjeldahl nitrogen increase | |
| JP6540944B2 (en) | Pest control method of plant body | |
| McCreary et al. | Regulation of Douglas-fir seedling growth and hardiness by controlling photoperiod | |
| JP2019162059A (en) | Method and device for raising seedlings of tomato | |
| Semeniuk et al. | Effects of ultraviolet irradiation on local lesion development of potato virus S on Chenopodium quinoa ‘Valdivia’leaves | |
| JP6362135B2 (en) | Plant production method | |
| Ramlan et al. | Estimation of the sensitivity to photoinhibition in Striga hermonthica-infected sorghum | |
| CN107960251A (en) | A kind of Common zenia germ plasm resource strange land live body preserves new method | |
| CN203951930U (en) | A kind of infrared rays plant growing device | |
| CN203934411U (en) | A kind of plant growing device | |
| Hubert et al. | Essential oil content and physiological response of Mentha genotypes under different UV-treatments |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210914 |
|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20240801 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20250527 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20250603 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20250730 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20250826 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20250916 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7751265 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |