JP7687167B2 - R-t-b系焼結磁石の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明者らは、R1-T-B系焼結磁石素材と前記R2-M系合金を加熱して、R2およびMをR1-T-B系焼結磁石素材内部に拡散させる方法について詳細に検討した。その結果、Ceを特定範囲含有したR-T-B系焼結磁石素材に対してTbおよびDyの少なくとも一方と、NdおよびPrの少なくとも一方を必ず含むR2-M系合金を拡散させると、耐食性が向上することを見出した。後述する実施例に示すように、拡散を行わなかった場合は、Ceを含有することによる耐食性向上効果はみとめられず、むしろ悪化する場合がある。これに対し、Ceを含有した素材に対してR2-M系合金を拡散することで耐食性が向上した原因としては、拡散により粒界相中に素材中のCeとR2-M系合金のM元素とのCe-M化合物が形成され、何らかの理由により耐食性が向上したと考えられる。
さらに発明者らは検討の結果、拡散による磁石特性改善効果を最適化するには、粒界の厚さや構成を制御する必要があり、そのためにはR、O、およびCの含有量が適切な関係を満足する必要があることが分かった。これは、主相であるR2-T14-B化合物中のBと置換していたCが、焼結工程により、粒界中の希土類酸化物と結合することで主相中のC量が変化し、それにより主相比率や粒界の厚さが変化するためだと考えられる。そして、発明者らはさらに検討の結果、Ndの含有量(mass%)を[Nd]、Prの含有量(mass%)を[Pr]、Ceの含有量(mass%)を[Ce]、Dyの含有量(mass%)を[Dy]、Tbの含有量(mass%)を[Tb]、Oの含有量(mass%)を[O]、Cの含有量(mass%)を[C]とするとき、25.8mass%≦([Nd]+[Pr]+[Ce]+[Dy]+[Tb])-(9×[O]+12×[C])≦27.3の範囲に調整したR1-T-B系焼結磁石素材に対して、R2とMを拡散させると、R2およびMの拡散を適切に進行させる(高いBrを維持しつつ、HcJを向上させる)ことができることを見出した。これにより、Ceを使用しつつ、高いBr及び高いHcJが維持され、耐食性に優れたR-T-B系焼結磁石の製造方法を提供することができる。
以下、本開示のR-T-B系焼結磁石の製造方法の実施形態を説明する。
なお、本開示において、拡散工程前および拡散工程中のR-T-B系焼結磁石を「R-T-B系焼結磁石素材」と称し、拡散工程後のR-T-B系焼結磁石を単に「R-T-B系焼結磁石」と称する。
以下、これらの各工程をより詳細に説明する。
まず、R1-T-B系焼結磁石素材の組成に説明する
R1:26.6mass%以上31.5mass%以下(R1は希土類元素であり、Nd、PrおよびCeを少なくとも含む。)、
B:0.8mass%以上1.0mass%以下、
好ましくはR1-T-B系焼結磁石素材全体の0.88mass%以上0.97mass%以下である、Ce含有等の効果が特に顕著になる。
M:0mass%以上1.0mass%以下(Mは、Ga、Cu、ZnおよびSiから
なる群から選択された少なくとも一種である)、
M1:0mass%以上2.0mass%以下(M1は、Al、Ti、V、Cr、Mn
、Ni,Zr、Nb、Mo、Ag、In、Sn、Hf、Ta、W、Pb、およびBiから
なる群から選択された少なくとも1種)
残部T(TはFe又はFeとCo)、および不可避的不純物からなる。
まず、R2-M系合金の組成について説明する。
R2-M系合金におけるR2は希土類元素であり、TbおよびDyの少なくとも一方と、NdおよびPrの少なくとも一方を必ず含み、Mは、Cu、Ga、Fe、Co、Ni、およびAlからなる群から選択された少なくとも1つである。好ましくは、R2がR2-M系合金全体の65mass%以上97mass%以下であり、MはR2-M系合金全体の3mass%以上35mass%以下である。さらに好ましくは、R2がR2-M系合金全体の85mass%以上95mass%以下であり、MはR2-M系合金全体の5mass%以上15mass%以下である。より高いHcJを得ることができる。R2におけるTbおよびDyの含有量はR2-M系合金全体の3mass%以上24mass以下であることが好ましい。また、R2におけるPrの含有量はR2-M系合金全体の65mass%以上86mass%以下が好ましい。また、Mは、好ましくはGaおよびCuの少なくとも一方を必ず含む。より高いHcJを得ることが出来る。好ましくは、R2-M系合金のPrの含有量は、R2全体の50mass%以上であり、更に好ましくは、R2はPrとTbのみからなる。Prを含有することにより粒界相中の拡散が進みやすくなるため、Tbをさらに効率よく拡散することが可能となり、より高いHcJを得ることができる。
前述の方法によって準備した前記R1-T-B系焼結磁石素材と前記R2-M系合金を真空又は不活性ガス雰囲気中、700℃以上1100℃以下の温度で加熱し、R2およびMをR1-T-B系焼結磁石素材内部に拡散させる拡散工程を行う。これにより、R2-M系合金からR2およびMを含む液相が生成し、その液相がR1-T-B系焼結磁石素材中の粒界を経由して焼結体表面から内部に拡散導入される。このとき、R1-T-B系焼結磁石素材に含有される重希土類元素RH(好ましくはTb)の含有量を0.05mass%以上0.30mass%以下という極めて微量な範囲で増加させることが好ましい。これにより、重希土類元素RHの消費量を抑制しながら、極めて高いHcJ向上効果を得ることができる。R1-T-B系焼結磁石素材に含有されるRHの含有量を0.05mass%以上0.30mass%以下増加させるためにR2-M系合金の量、処理時の加熱温度、粒子径(R2-M系合金が粒子状の場合)、処理時間等の各種条件を調整してよい。これらのなかでも、R2-M系合金の量および処理時の加熱温度を調整することにより、比較的容易に重希土類元素RHの導入量(増加量)を制御できる。
拡散処理工程後のR-T-B系焼結磁石に対して、真空又は不活性ガス雰囲気中、450℃以上750℃以下で、かつ、前記拡散処理で実施した温度よりも低い温度で熱処理を行ってもよい。熱処理を行うことにより、高いHcJを得ることができる。
[R1-T-B系焼結磁石素材を準備する工程]
表1のNo.A~Jに示すR1-T-B系焼結磁石素材の組成になるように各元素を秤量し、ストリップキャスト法により原料合金を作製した。得られた各合金を水素粉砕法により粗粉砕し粗粉砕粉を得た。次に、前記粗粉砕粉に気流式粉砕機(ジェットミル装置)を用いて、窒素気流中で粉砕し、粒径D50:3.3μmの微粉砕粉を得た。得られた微粉砕粉を分散媒と混合しスラリーを作製した。前記スラリーを磁界中で成形して成形体を得た。なお、成形装置には、磁界印加方向と加圧方向とが直交するいわゆる直角磁界成形装置(横磁界成形装置)を用いた。得られた成形体を、真空中で、1020℃以上かつ1060℃以下で焼結(焼結による緻密化が十分起こる温度を選定)した後、急冷しR1-T-B系焼結磁石素材を得た。得られたR1-T-B系焼結磁石素材の密度は7.5Mg/m3以上であった。得られたR-T-B系焼結磁石素材の成分の結果を表1に示す。なお、Nd、Pr、Ce、Dy、B、Co、Al、Cu、Ga、Tbの含有量は高周波誘導結合プラズマ発光分光分析法(ICP-OES)を使用して測定し、C、O、Nの含有量はガス融解-赤外線吸収法によるガス分析装置を使用して測定した。また、R1-T-B系焼結磁石素材における、[Nd]+[Pr]+[Ce]+[Dy]+[Tb])-(9×[O]+12×[C])の値、および、R1中のCeの含有割合([Ce]/[Nd]+[Pr]+[Ce]+[Dy]+[Tb])の値を表1に示す。
表2のNo.aに示す合金の組成になるように、各元素を秤量し、それらの原料を溶解して、ディスクアトマイズ法により合金粉末を得た。得られた合金粉末の組成を表2に示す。なお、表2における各成分は、高周波誘導結合プラズマ発光分光分析法を使用して測定した。
表1のNo.A~JのR1-T-B系焼結磁石素材を切断、切削加工し、7.2mm×7.2mm×7.2mmの立方体とした。次に、前記No.A~JのR1-T-B系焼結磁石素材100mass%に対して全面にR2-M系合金(No.a)を3mass%散布した。
前記拡散工程で加熱したR1-T-B系焼結磁石素材に対し、真空熱処理炉を用いて50Paに制御した減圧アルゴン中にて900℃で4時間の熱処理を行った後、室温まで冷却を行った。これにより、第一の熱処理が実施されたR-T-B系焼結磁石を得た。更に、熱処理が実施されたR-T-B系焼結磁石に対して、50Paに制御した減圧アルゴン中で、480℃以上520℃以下で1時間の熱処理を行った後室温まで冷却を行い、R1-T-B系焼結磁石(No.1~10)を作製した。
Claims (3)
- R1-T-B系焼結磁石素材(R1は希土類元素であり、Nd、PrおよびCeを少なくとも含み、TはFeまたはFeとCoである)を準備する工程と、
R2-M系合金(R2は希土類元素であり、TbおよびDyの少なくとも一方と、NdおよびPrの少なくとも一方を必ず含み、Mは、Cu、Ga、Fe、Co、Ni、およびAlからなる群から選択された少なくとも1つである)を準備する工程と、
前記R1-T-B系焼結磁石素材と前記R2-M系合金を真空又は不活性ガス雰囲気中、700℃以上1100℃以下の温度で加熱し、R2およびMをR1-T-B系焼結磁石素材内部に拡散させる拡散工程と、を含み、
前記R1-T-B系焼結磁石素材において、R1中のCeの含有割合は、5mass%以上25mass%以下であり、前記R1-T-B系焼結磁石素材中のNdの含有量(mass%)を[Nd]、Prの含有量(mass%)を[Pr]、Ceの含有量(mass%)を[Ce]、Dyの含有量(mass%)を[Dy]、Tbの含有量(mass%)を[Tb]、Oの含有量(mass%)を[O]、Cの含有量(mass%)を[C]とするとき、25.8mass%≦([Nd]+[Pr]+[Ce]+[Dy]+[Tb]-(9×[O]+12×[C])≦27.3mass%、0.08mass%≦[O]≦0.30mass%の関係を満足する、
R-T-B系焼結磁石の製造方法。 - 前記R1-T-B系焼結磁石素材において、Bの含有量はR1-T-B系焼結磁石素材全体の0.88mass%以上0.97mass%以下である、請求項1に記載のR-T-B系焼結磁石の製造方法。
- 前記R2-M系合金において、R2がR2-M系合金全体の65mass%以上97mass%以下であり、MはR2-M系合金全体の3mass%以上35mass%以下である、請求項1に記載のR-T-B系焼結磁石の製造方法。
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