JP7666330B2 - ポリイミド樹脂、ポリイミド樹脂組成物、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム - Google Patents
ポリイミド樹脂、ポリイミド樹脂組成物、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム Download PDFInfo
- Publication number
- JP7666330B2 JP7666330B2 JP2021567416A JP2021567416A JP7666330B2 JP 7666330 B2 JP7666330 B2 JP 7666330B2 JP 2021567416 A JP2021567416 A JP 2021567416A JP 2021567416 A JP2021567416 A JP 2021567416A JP 7666330 B2 JP7666330 B2 JP 7666330B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- structural unit
- polyimide
- polyimide resin
- film
- group
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J5/00—Manufacture of articles or shaped materials containing macromolecular substances
- C08J5/18—Manufacture of films or sheets
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
- C08L101/02—Compositions of unspecified macromolecular compounds characterised by the presence of specified groups, e.g. terminal or pendant functional groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L27/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L27/02—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C08L27/12—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by a halogen; Compositions of derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment containing fluorine atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L33/00—Compositions of homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides or nitriles thereof; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L33/04—Homopolymers or copolymers of esters
- C08L33/14—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing halogen, nitrogen, sulfur, or oxygen atoms in addition to the carboxy oxygen
- C08L33/16—Homopolymers or copolymers of esters containing halogen atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L79/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
- C08L79/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08L79/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L83/00—Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen or carbon only; Compositions of derivatives of such polymers
- C08L83/04—Polysiloxanes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D179/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen, with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C09D161/00 - C09D177/00
- C09D179/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C09D179/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2379/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen, or carbon only, not provided for in groups C08J2361/00 - C08J2377/00
- C08J2379/04—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08J2379/08—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Non-Metallic Protective Coatings For Printed Circuits (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
Description
さらに、ポリイミドフィルムの要求特性として複屈折による位相差が小さく、リタデーションが低い(光学的等方性が良好である)ことが求められる。
特許文献2には、耐熱性、透過率、低線膨張係数及び低リタデーションに優れたフィルムを与えるポリイミド樹脂として、特定構造のテトラカルボン酸残基及びジアミン残基と、屈曲部位を有するテトラカルボン残基及び/又はジアミン残基とを含むポリイミド樹脂が開示され、具体的に、3,3’,4,4’-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、3,3’,4,4’-ビシクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸無水物、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、及び4,4’-ジアミノジフェニルスルホンを用いて得られるポリイミド樹脂が開示されている。
したがって、本発明の課題は、透明性と光学的等方性に優れ、延性にも優れるフィルムの形成が可能なポリイミド樹脂、ポリイミド樹脂組成物、並びにポリイミドワニス及びポリイミドフィルムを提供することである。
[1]
テトラカルボン酸二無水物に由来する構成単位A及びジアミンに由来する構成単位Bを有するポリイミド樹脂であって、構成単位Aが、下記式(a1)で表される化合物に由来する構成単位(A1)、及び下記式(a2)で表される化合物に由来する構成単位(A2)からなる群から選ばれる少なくとも1つの構成単位を含み、構成単位Bが、下記式(b11)で表される化合物に由来する構成単位、下記式(b12)で表される化合物に由来する構成単位、及び下記式(b13)で表される化合物に由来する構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1つの構成単位(B1)と、下記一般式(b21)で表される化合物に由来する構成単位、及び下記一般式(b22)で表される化合物に由来する構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1つの構成単位(B2)とを含み、構成単位(B1)と構成単位(B2)のモル比[(B1)/(B2)]が、45/55~75/25である、ポリイミド樹脂。
(式(b11)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、メチル基又はトリフルオロメチル基を示し、式(b21)及び(b22)中、X1~X4はそれぞれ独立に、単結合、炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基、-S-、-SO-、-SO2-、-O-又は-CO-を示す。)
JIS K 7127に準拠して測定された破壊点伸び率が10%以上である、上記[1]に記載のポリイミド樹脂。
[3]
構成単位(B2)が、下記式(b211)で表される化合物に由来する構成単位、下記式(b212)で表される化合物に由来する構成単位、及び下記式(b213)で表される化合物に由来する構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1つの構成単位を含む、上記[1]又は[2]のいずれかに記載のポリイミド樹脂。
上記[1]~[3]のいずれか1つに記載のポリイミド樹脂、並びにフッ素含有ポリマー及びシリコーン含有ポリマーからなる群から選ばれる少なくとも1つを含む、ポリイミド樹脂組成物。
[5]
前記フッ素含有ポリマー及びシリコーン含有ポリマーの合計含有量が、前記ポリイミド樹脂100質量部に対して、0.01~2質量部である、上記[4]に記載のポリイミド樹脂組成物。
[6]
前記フッ素含有ポリマーが、フッ素含有アクリルポリマーである、上記[4]又は[5]に記載のポリイミド樹脂組成物。
[7]
上記[1]~[3]のいずれか1つに記載のポリイミド樹脂、又は上記[4]~[6]のいずれか1つに記載のポリイミド樹脂組成物が有機溶媒に溶解してなるポリイミドワニス。
[8]
上記[1]~[3]のいずれか1つに記載のポリイミド樹脂、又は上記[4]~[6]のいずれか1つに記載のポリイミド樹脂組成物を含む、ポリイミドフィルム。
本発明のポリイミド樹脂は、テトラカルボン酸二無水物に由来する構成単位A及びジアミンに由来する構成単位Bを有するポリイミド樹脂であって、構成単位Aが、下記式(a1)で表される化合物に由来する構成単位(A1)、及び下記式(a2)で表される化合物に由来する構成単位(A2)からなる群から選ばれる少なくとも1つの構成単位を含み、構成単位Bが、下記式(b11)で表される化合物に由来する構成単位(以下、構成単位(B11)ともいう。)、下記式(b12)で表される化合物に由来する構成単位(以下、構成単位(B12)ともいう。)、及び下記式(b13)で表される化合物に由来する構成単位(以下、構成単位(B13)ともいう。)からなる群から選ばれる少なくとも1つの構成単位(B1)と、下記一般式(b21)で表される化合物に由来する構成単位(以下、構成単位(B21)ともいう。)、及び下記一般式(b22)で表される化合物に由来する構成単位(以下、構成単位(B22)ともいう。)からなる群から選ばれる少なくとも1つの構成単位(B2)とを含み、構成単位(B1)と構成単位(B2)のモル比[(B1)/(B2)]が、45/55~75/25である。
(式(b11)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、メチル基又はトリフルオロメチル基を示し、式(b21)及び(b22)中、X1~X4はそれぞれ独立に、単結合、炭素数1~5のアルキレン基、炭素数2~5のアルキリデン基、-S-、-SO-、-SO2-、-O-又は-CO-を示す。)
構成単位Aは、ポリイミド樹脂に占めるテトラカルボン酸二無水物に由来する構成単位であって、構成単位Aは、下記式(a1)で表される化合物に由来する構成単位(A1)、及び下記式(a2)で表される化合物に由来する構成単位(A2)からなる群から選ばれる少なくとも1つの構成単位を含む。
構成単位Aが構成単位(A1)を含むことによって、フィルムの透明性と光学的等方性を向上させることができ、更に耐熱性や熱安定性も良好となる。
式(a2)で表される化合物は、4,4’-(ヘキサフルオロイソプロピリデン)ジフタル酸無水物である。
構成単位Aが構成単位(A2)を含むことよって、フィルムの透明性が向上し、ポリイミドの有機溶剤に対する溶解性が向上する。
構成単位Aが構成単位(A2)を含む場合、構成単位A中における構成単位(A2)の比率は、好ましくは45モル%以上、より好ましくは70モル%以上、更に好ましくは90モル%以上、特に好ましくは99モル%以上である。その比率の上限値は特に限定されず、即ち、100モル%である。同様に、構成単位A中における構成単位(A2)の比率は、好ましくは45~100モル%、より好ましくは70~100モル%、更に好ましくは90~100モル%、特に好ましくは99~100モル%である。
構成単位Aが構成単位(A3)を含む場合、構成単位Aは、好ましくは構成単位(A1)及び構成単位(A3)を含み、より好ましくは構成単位(A1)及び構成単位(A3)からなる。
なお、本明細書において、芳香族テトラカルボン酸二無水物とは芳香環を1つ以上含むテトラカルボン酸二無水物を意味し、脂環式テトラカルボン酸二無水物とは脂環を1つ以上含み、かつ芳香環を含まないテトラカルボン酸二無水物を意味し、脂肪族テトラカルボン酸二無水物とは芳香環も脂環も含まないテトラカルボン酸二無水物を意味する。
構成単位Aに任意に含まれる構成単位(A1)~(A3)以外の構成単位は、1種でもよいし、2種以上であってもよい。
構成単位Aは、前記構成単位(A1)~(A3)以外の構成単位を含まないことが好ましい。
構成単位Bは、ポリイミド樹脂に占めるジアミンに由来する構成単位であって、下記式(b11)で表される化合物に由来する構成単位(B11)、下記式(b12)で表される化合物に由来する構成単位(B12)、及び下記式(b13)で表される化合物に由来する構成単位(B13)からなる群から選ばれる少なくとも1つの構成単位(B1)と、下記一般式(b21)で表される化合物に由来する構成単位(B21)、及び下記一般式(b22)で表される化合物に由来する構成単位(B22)からなる群から選ばれる少なくとも1つの構成単位(B2)とを含み、
構成単位(B1)と構成単位(B2)のモル比[(B1)/(B2)]が、45/55~75/25である。
構成単位(B1)は、下記式(b11)で表される化合物に由来する構成単位(B11)、下記式(b12)で表される化合物に由来する構成単位(B12)、及び下記式(b13)で表される化合物に由来する構成単位(B13)からなる群から選ばれる少なくとも1つの構成単位である。
式(b12)で表される化合物は、4,4’-ジアミノジフェニルエーテルであり、
式(b13)で表される化合物は、1,4-ビス[2-(4-アミノフェニル)-2-プロピル]ベンゼンである。
構成単位Bは、構成単位(B11)~(B13)のうち2種以上を含んでいてもよいが、構成単位(B11)~(B13)のうち1種の構成単位を含むことが好ましい。つまり、構成単位Bが構成単位(B11)、構成単位(B12)、又は構成単位(B13)を含むことが好ましい。
構成単位(B2)は、下記一般式(b21)で表される化合物に由来する構成単位(B21)、及び下記一般式(b22)で表される化合物に由来する構成単位(B22)からなる群から選ばれる少なくとも1つの構成単位である。
一般式(b21)におけるX1及びX2は、それぞれ異なる基を有していてもよいが、同一の基であることが好ましい。同様に、式(b22)におけるX3及びX4は、それぞれ異なる基を有していてもよいが、同一の基であることが好ましい。
一般式(b21)及び(b22)におけるアミノ基は、各々のアミノ基が結合するベンゼン環と結合するX1~X4のいずれかに対して、このベンゼン環のパラ位又はメタ位に結合することが好ましく、このベンゼン環のパラ位に結合することがより好ましい。
一般式(b21)及び(b22)におけるX1~X4が示す炭素数2~5のアルキリデン基としては、エチリデン基、プロピリデン基、イソプロピリデン基、ブチリデン基、イソブチリデン基、ペンチリデン基、イソペンチリデン基等が挙げられる。該アルキリデン基としては、炭素数3~5のアルキリデン基が好ましく、イソプロピリデン基がより好ましい。
式(b212)で表される化合物は、1,3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼンであり、
式(b213)で表される化合物は、1,3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼンである。
構成単位Bは構成単位(B1)及び(B2)以外の構成単位を含んでもよい。そのような構成単位を与えるジアミンとしては、特に限定されないが、1,4-フェニレンジアミン、p-キシリレンジアミン、3,5-ジアミノ安息香酸、1,5-ジアミノナフタレン、2,2’-ジメチルビフェニル-4,4’-ジアミン、2,2’-ビス(トリフルオロメチル)ベンジジン、4,4’-ジアミノジフェニルメタン、2,2-ビス(4-アミノフェニル)ヘキサフルオロプロパン、4,4’-ジアミノジフェニルスルホン、4,4’-ジアミノベンズアニリド、3,4’-ジアミノジフェニルエーテル、1-(4-アミノフェニル)-2,3-ジヒドロ-1,3,3-トリメチル-1H-インデン-5-アミン、N,N’-ビス(4-アミノフェニル)テレフタルアミド、4,4’-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、2,2-ビス(3-アミノ-4-ヒドロキシフェニル)ヘキサフルオロプロパン及び9,9-ビス(4-アミノフェニル)フルオレン、1,4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン等の芳香族ジアミン(ただし、式(b11)~(b13)で表される化合物及び式(b21)~(b22)で表される化合物を除く);1,3-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン及び1,4-ビス(アミノメチル)シクロヘキサン等の脂環式ジアミン;並びにエチレンジアミン及びヘキサメチレンジアミン等の脂肪族ジアミンが挙げられる。
なお、本明細書において、芳香族ジアミンとは芳香環を1つ以上含むジアミンを意味し、脂環式ジアミンとは脂環を1つ以上含み、かつ芳香環を含まないジアミンを意味し、脂肪族ジアミンとは芳香環も脂環も含まないジアミンを意味する。
構成単位Bに任意に含まれる構成単位(B1)及び(B2)以外の構成単位は、1種でもよいし、2種以上であってもよい。
構成単位Bは、構成単位(B1)と構成単位(B2)とを含み、構成単位(B1)と構成単位(B2)のモル比が、45/55~75/25であるが、好適な構成について以下に説明する。
構成単位Bは、構成単位(B1)として式(b11)で表される化合物に由来する構成単位(B11)を含み、構成単位(B2)として式(b211)で表される化合物に由来する構成単位を含む組み合わせが好ましい。本発明のポリイミド樹脂は、構成単位Aとして式(a1)で表される化合物に由来する構成単位(A1)を含み、かつ構成単位Bとして前記組み合わせを有する構成単位を含むことが好ましい。
本発明のポリイミド樹脂の数平均分子量は、得られるポリイミドフィルムの機械的強度の観点から、好ましくは5,000~100,000である。なお、ポリイミド樹脂の数平均分子量は、例えば、ゲルろ過クロマトグラフィー測定による標準ポリメチルメタクリレート(PMMA)換算値より求めることができる。
本発明のポリイミド樹脂は、ポリイミド鎖(構成単位Aと構成単位Bとがイミド結合してなる構造)を主たる構造として含むことが好ましい。したがって、本発明のポリイミド樹脂中に占めるポリイミド鎖の比率は、好ましくは50質量%以上であり、より好ましくは70質量%以上であり、更に好ましくは90質量%以上であり、特に好ましくは99質量%以上である。
全光線透過率は、厚さ30μmのフィルムとした際に、好ましくは85%以上であり、より好ましくは87%以上であり、更に好ましくは88%以上、より更に好ましくは89%以上である。
イエローインデックス(YI)は、厚さ30μmのフィルムとした際に、好ましくは6.5以下であり、より好ましくは4.0以下であり、更に好ましくは3.0以下であり、より更に好ましくは2.0以下、より更に好ましく1.5以下である。
ヘイズは、厚さ30μmのフィルムとした際に、好ましくは1.0%以下であり、より好ましくは0.5%以下であり、更に好ましくは0.1%以下である。
厚み位相差(Rth)は、厚さ30μmのフィルムとした際に、好ましくは40nm以下、より好ましくは30nm以下、更に好ましくは20nm以下、より更に好ましくは18nm以下である。
また、本発明のポリイミド樹脂は、JIS K 7127に準拠して測定された破壊点伸び率が好ましくは10%以上、より好ましくは18%以上、更に好ましくは20%以上、より更に好ましくは30%以上である。
なお、本発明における上述の物性値は、具体的には実施例に記載の方法で測定することができる。
本発明のポリイミド樹脂は、上述の構成単位(A1)を与える化合物及び上述の構成単位(A2)を与える化合物からなる群から選ばれる少なくとも1つを含むテトラカルボン酸成分と、上述の構成単位(B1)を与える化合物と上述の構成単位(B2)を与える化合物とを含むジアミン成分とを反応させることにより製造することができる。
同様に、構成単位(A2)を与える化合物としては、式(a2)で表される化合物が挙げられるが、それに限られず、同じ構成単位を与える範囲でその誘導体であってもよい。当該誘導体としては、式(a2)で表されるテトラカルボン酸二無水物に対応するテトラカルボン酸及び当該テトラカルボン酸のアルキルエステルが挙げられる。構成単位(A2)を与える化合物としては、式(a2)で表される化合物(即ち、二無水物)が好ましい。
構成単位(A3)を与える化合物としては、式(a3)で表される化合物が挙げられるが、それに限られず、同じ構成単位を与える範囲でその誘導体であってもよい。当該誘導体としては、式(a3)で表されるテトラカルボン酸二無水物に対応するテトラカルボン酸及び当該テトラカルボン酸のアルキルエステルが挙げられる。構成単位(A3)を与える化合物としては、式(a3)で表される化合物(即ち、二無水物)が好ましい。
テトラカルボン酸成分に任意に含まれる構成単位(A1)~(A3)を与える化合物以外の化合物は、1種でもよいし、2種以上であってもよい。
ジアミン成分に任意に含まれる構成単位(B1)を与える化合物及び構成単位(B2)を与える化合物以外の化合物は、1種でもよいし、2種以上であってもよい。
具体的な反応方法としては、(1)テトラカルボン酸成分、ジアミン成分、及び反応溶剤を反応器に仕込み、0~80℃で0.5~30時間撹拌し、その後に昇温してイミド化反応を行う方法、(2)ジアミン成分及び反応溶剤を反応器に仕込んで溶解させた後、テトラカルボン酸成分を仕込み、必要に応じて0~80℃で0.5~30時間撹拌し、その後に昇温してイミド化反応を行う方法、(3)テトラカルボン酸成分、ジアミン成分、及び反応溶剤を反応器に仕込み、直ちに昇温してイミド化反応を行う方法等が挙げられる。
エーテル系溶剤の具体例としては、1,2-ジメトキシエタン、ビス(2-メトキシエチル)エーテル、1,2-ビス(2-メトキシエトキシ)エタン、ビス〔2-(2-メトキシエトキシ)エチル〕エーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン等が挙げられる。
カーボネート系溶剤の具体的な例としては、ジエチルカーボネート、メチルエチルカーボネート、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等が挙げられる。
上記反応溶剤の中でも、アミド系溶剤又はラクトン系溶剤が好ましい。上記の反応溶剤は単独で又は2種以上混合して用いてもよい。
塩基触媒としては、ピリジン、キノリン、イソキノリン、α-ピコリン、β-ピコリン、2,4-ルチジン、2,6-ルチジン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリエチレンジアミン、イミダゾール、N,N-ジメチルアニリン、N,N-ジエチルアニリン等の有機塩基触媒、水酸化カリウムや水酸化ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基触媒が挙げられる。
また、酸触媒としては、クロトン酸、アクリル酸、トランス-3-ヘキセノイック酸、桂皮酸、安息香酸、メチル安息香酸、オキシ安息香酸、テレフタル酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸等が挙げられる。上記のイミド化触媒は単独で又は2種以上を組み合わせて用いてもよい。
上記のうち、取り扱い性の観点から、塩基触媒を用いることが好ましく、有機塩基触媒を用いることがより好ましく、トリエチルアミン及びトリエチレンジアミンから選ばれる1種以上を用いることが更に好ましく、トリエチルアミンを用いること、又はトリエチルアミンとトリエチレンジアミンを組み合わせて用いることが特に好ましい。
本発明のポリイミド樹脂組成物は、前記本発明のポリイミド樹脂、並びにフッ素含有ポリマー及びシリコーン含有ポリマーからなる群から選ばれる少なくとも1つを含む。フッ素含有ポリマー及びシリコーン含有ポリマーからなる群から選ばれる少なくとも1つを含むことによって、高い透明性と光学的等方性を維持しつつ、延性を著しく向上させることができる。フッ素含有ポリマー及びシリコーン含有ポリマーの中でも、フッ素含有ポリマーが好ましい。
本発明のポリイミド樹脂組成物におけるフッ素含有ポリマーは、フッ素を含むモノマー由来の構成単位を有するポリマーであることが好ましく、フッ化アルキル基を含むモノマー由来の構成単位を有するポリマーであることがより好ましい。
本発明におけるフッ素含有ポリマーは、フッ素含有アクリルポリマーであることが好ましい。
親水性基を有するアクリルモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、ポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド等が挙げられる。
フッ素含有アクリルポリマーは、疎水性基を有するアクリルモノマーを含有していてもよい。疎水性基を有するアクリルモノマーとしては、アルキル(メタ)アクリレート、シリコーン含有(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレート等が挙げられる。
ここで「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート又はメタクリレート」を意味する。
フッ素を含むアクリルモノマーには、その他のビニル基を有するモノマーが共重合されていてもよい。
本発明のポリイミド樹脂組成物におけるシリコーン含有ポリマーは、シリコーン骨格の主鎖に各種有機変性基の側鎖又は各種有機変性基の末端を導入した変性シリコーン、アクリルポリマーの主鎖にシリコーン側鎖を導入したシリコーン含有アクリルポリマーが挙げられ、シリコーン含有アクリルポリマーであることが好ましい。
ポリエーテル変性シリコーンのポリエーテル基としては、ポリエチレングリコール基、ポリプロピレングリコール基が挙げられ、ポリエチレングリコール基が好ましい。
変性シリコーンのシリコーン骨格の主鎖としてはポリジメチルシロキサンが好ましい。
親水性基を有するアクリルモノマーとしては、アクリル酸、メタクリル酸、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート、ポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド等が挙げられる。
シリコーン含有アクリルポリマーは、疎水性基を有するアクリルモノマーを含有していてもよい。疎水性基を有するアクリルモノマーとしては、アルキル(メタ)アクリレート、シリコーン含有(メタ)アクリレート、アリール(メタ)アクリレート等が挙げられる。
ここで「(メタ)アクリレート」とは、「アクリレート又はメタクリレート」を意味する。
シリコーンを含むアクリルモノマーには、その他のビニル基を有するモノマーが共重合されていてもよい。
本発明のポリイミドワニスは、本発明のポリイミド樹脂又は本発明のポリイミド樹脂組成物が有機溶媒に溶解してなるものである。即ち、本発明のポリイミドワニスは、本発明のポリイミド樹脂又は本発明のポリイミド樹脂組成物と、有機溶媒を含み、当該ポリイミド樹脂又はポリイミド樹脂組成物は当該有機溶媒に溶解している。
有機溶媒はポリイミド樹脂及びポリイミド樹脂組成物に含まれるフッ素含有ポリマー及びシリコーン含有ポリマーが溶解するものであればよく、特に限定されないが、ポリイミド樹脂の製造に用いられる反応溶剤として上述した化合物を、単独又は2種以上を混合して用いることが好ましい。
本発明のポリイミドワニスは、重合法により得られるポリイミド樹脂が反応溶剤に溶解したポリイミド溶液そのものであってもよいし、又は当該ポリイミド溶液に対して更に希釈溶剤を追加したものであってもよい。また、重合法により得られるポリイミド樹脂が反応溶剤に溶解したポリイミド溶液に前記フッ素含有ポリマー、前記シリコーン含有ポリマー、又はこれらの混合物を溶解させたものでもよいし、更に希釈溶剤を追加したものであってもよい。
本発明のポリイミドワニスは、本発明のポリイミド樹脂が沸点130℃以下の低沸点溶媒に溶解してなるものであってもよい。有機溶媒として当該低沸点溶媒を用いることで、後述するポリイミドフィルムを製造する際の加熱温度を低くすることができる。当該低沸点溶媒としては、四塩化炭素、ジクロロメタン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、アセトン等が挙げられ、中でもジクロロメタンが好ましい。
また、本発明のポリイミドワニスは、ポリイミドフィルムの要求特性を損なわない範囲で、無機フィラー、接着促進剤、剥離剤、難燃剤、紫外線安定剤、界面活性剤、レベリング剤、消泡剤、蛍光増白剤、架橋剤、重合開始剤、感光剤等各種添加剤を含んでもよい。
本発明のポリイミドワニスの製造方法は特に限定されず、公知の方法を適用することができる。
本発明のポリイミドフィルムは、本発明のポリイミド樹脂又は本発明のポリイミド樹脂組成物を含む。したがって、本発明のポリイミドフィルムは、透明性と光学的等方性に優れ、更に延性にも優れる。本発明のポリイミドフィルムが有する好適な物性値は上述の通りである。
本発明のポリイミドフィルムの製造方法には特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。例えば、本発明のポリイミドワニスを、ガラス板、金属板、プラスチックなどの平滑な支持体上に塗布、又はフィルム状に成形した後、該ワニス中に含まれる反応溶剤や希釈溶剤等の有機溶媒を加熱により除去する方法等が挙げられる。前記支持体の表面には、必要に応じて、予め離形剤を塗布しておいてもよい。
ワニス中に含まれる有機溶媒を加熱により除去する方法としては、以下の方法が好ましい。即ち、120℃以下の温度で有機溶媒を蒸発させて自己支持性フィルムとした後、該自己支持性フィルムを支持体より剥離し、該自己支持性フィルムの端部を固定し、用いた有機溶媒の沸点以上の温度で乾燥してポリイミドフィルムを製造することが好ましい。また、窒素雰囲気下で乾燥することが好ましい。乾燥雰囲気の圧力は、減圧、常圧、加圧のいずれでもよい。自己支持性フィルムを乾燥してポリイミドフィルムを製造する際の加熱温度は、特に限定されないが、200~400℃が好ましい。
本発明のポリイミドワニスに含まれる有機溶媒が沸点130℃以下の低沸点溶媒である場合には、自己支持性フィルムの加熱温度は、100~180℃が好ましい。さらに、低沸点溶媒を除去して得られたポリイミドフィルムをさらにガラス転移温度以上の温度で加熱するアニール処理を行うことが好ましい。
前記ポリアミド酸ワニスに含まれるポリアミド酸は、本発明のポリイミド樹脂の前駆体であって、上述の構成単位(A1)を与える化合物及び上述の構成単位(A2)を与える化合物からなる群から選ばれる少なくとも1つを含むテトラカルボン酸成分と上述の構成単位(B1)を与える化合物及び上述の構成単位(B2)を与える化合物を含むジアミン成分との重付加反応の生成物である。このポリアミド酸をイミド化(脱水閉環)することで、最終生成物である本発明のポリイミド樹脂が得られる。
前記ポリアミド酸ワニスに含まれる有機溶媒としては、本発明のポリイミドワニスに含まれる有機溶媒を用いることができる。
本発明において、ポリアミド酸ワニスは、上述の構成単位(A1)を与える化合物及び上述の構成単位(A2)を与える化合物からなる群から選ばれる少なくとも1つを含むテトラカルボン酸成分と上述の構成単位(B1)を与える化合物及び上述の構成単位(B2)を与える化合物を含むジアミン成分とを反応溶剤中で重付加反応させて得られるポリアミド酸溶液そのものであってもよいし、又は当該ポリアミド酸溶液に対して更に希釈溶剤を追加したものであってもよい。
ポリアミド酸ワニスを乾燥させてポリアミド酸フィルムを得る際の加熱温度としては、好ましくは50~120℃である。ポリアミド酸を加熱によりイミド化する際の加熱温度としては好ましくは200~400℃である。
なお、イミド化の方法は熱イミド化に限定されず、化学イミド化を適用することもできる。
ポリイミドフィルムの厚さは、ポリイミドワニスの固形分濃度や粘度を調整することにより、容易に制御することができる。
実施例及び比較例で得たワニスの固形分濃度及びフィルムの各物性は以下に示す方法によって測定した。
ワニスの固形分濃度の測定は、アズワン株式会社製の小型電気炉「MMF-1」で試料を280℃×120minで加熱し、加熱前後の試料の質量差から算出した。
(2)フィルム厚さ
フィルム厚さは、株式会社ミツトヨ製のマイクロメーターを用いて測定した。
全光線透過率、ヘイズ及びYIは、日本電色工業株式会社製の色彩・濁度同時測定器「COH7700」を用いて測定した。全光線透過率及びYIの測定はJIS K7361-1:1997に準拠し、ヘイズの測定はJIS K7136:2000に準拠した
(4)厚み位相差(Rth)(光学的等方性の評価)
厚み位相差(Rth)は、日本分光株式会社製のエリプソメーター「M-220」を用いて測定した。測定波長550nmにおける、厚み位相差の値を測定した。なおRthは、ポリイミドフィルムの面内の屈折率のうち最大のものをnx、最小のものをnyとし、厚み方向の屈折率をnzとし、フィルムの厚さをdとしたとき、下記式によって表されるものである。
Rth=[{(nx+ny)/2}-nz]×d
破壊点伸び率は、JIS K 7127に準拠した引張試験(伸び率の測定)によって行った。試験片は幅10mm、厚さ10~60μmのものを用いた。
(6)延性(延性の評価)
実施例及び比較例で得られたポリイミドフィルムを幅10mm、厚さ10~60μmの試験片とし、JIS K 7127に準拠した引張試験(試験速度50mm/min)で行い、延性の評価を行った。製造時や製品での破断抑制の点から、延性が有ることが好ましい。前記試験の結果、降伏点を超え塑性変形が生じたものは、延性有りとし、弾性領域でフィルムが破断したものは、延性無しとした。
(7)外観
実施例及び比較例で得られたポリイミドフィルムの表面の欠陥(ムラ及び空隙(ボイド))の有無を以下の基準で評価した。
A:フィルム表面に欠陥が見られない。
B:フィルム表面にわずかに欠陥が見られる(実使用上問題がない。)。
C:フィルム表面に明らかに欠陥が見られる(実使用上問題がある。)。
<テトラカルボン酸成分>
HPMDA:1,2,4,5-シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物(三菱ガス化学株式会社製;式(a1)で表される化合物)
<ジアミン成分>
BAPP:2,2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン(和歌山精化工業株式会社製、式(b11)で表される化合物)
BisAM:1,3-ビス[2-(4-アミノフェニル)-2-プロピル]ベンゼン(三井化学ファイン株式会社製、式(b211)で表される化合物)
γ-ブチロラクトン(三菱ケミカル株式会社製)
N,N-ジメチルアセトアミド(三菱ガス化学株式会社製)
トリエチレンジアミン(東京化成工業株式会社製)
トリエチルアミン(関東化学株式会社製)
反応装置としてステンレス製半月型撹拌翼、窒素導入管、冷却管を取り付けたディーンスターク装置、温度計、及びガラス製エンドキャップを備えた0.3Lの5ツ口ガラス製丸底フラスコを使用し、該丸底フラスコ中で、BAPPを28.858g(0.070モル)、BisAMを10.373g(0.030モル)、γ-ブチロラクトンを52.2g、及び触媒として、トリエチレンジアミンを0.056g、トリエチルアミンを5.060g入れ、窒素雰囲気下、150rpmで撹拌しながら80℃まで昇温し溶液を得た。この溶液に、HPMDAを22.439g(0.100モル)とγ-ブチロラクトンを23.0g、それぞれ一括で加えた後、マントルヒーターで加熱し、約20分かけて反応系内温度を190℃まで上げた。留去される成分を捕集し、反応系内温度を190℃に1時間45分維持した。N,N-ジメチルアセトアミドを156.4g添加後、100℃付近で約1時間撹拌して、固形分濃度20質量%の均一なポリイミドワニス(1)を得た。
実施例1と同じ反応装置を使用し、丸底フラスコ中で、BAPPを24.641g(0.060モル)、BisAMを13.831g(0.040モル)γ-ブチロラクトンを49.4g、及び触媒として、トリエチルアミンを10.12g入れ、窒素雰囲気下、150rpmで撹拌しながら80℃まで昇温し溶液を得た。この溶液に、HPMDAを22.439g(0.100モル)とγ-ブチロラクトンを11.4g、それぞれ一括で加えた後、マントルヒーターで加熱し、約20分かけて反応系内温度を190℃まで上げた。留去される成分を捕集し、反応系内温度を190℃に4.5時間維持した。N,N-ジメチルアセトアミドを168.1g添加後、100℃付近で約1時間撹拌して、固形分濃度20質量%の均一なポリイミドワニス(2)を得た。
実施例1と同じ反応装置を使用し、丸底フラスコ中で、BAPPを20.534g(0.050モル)、BisAMを17.289g(0.050モル)、γ-ブチロラクトンを49.1g、及び触媒として、トリエチルアミンを10.13g入れ、窒素雰囲気下、150rpmで撹拌しながら80℃まで昇温し溶液を得た。この溶液に、HPMDAを22.439g(0.100モル)とγ-ブチロラクトンを11.1g、それぞれ一括で加えた後、マントルヒーターで加熱し、約20分かけて反応系内温度を190℃まで上げた。留去される成分を捕集し、反応系内温度を190℃に7時間維持した。N,N-ジメチルアセトアミドを166.1g添加後、100℃付近で約1時間撹拌して、固形分濃度20質量%の均一なポリイミドワニス(3)を得た。
実施例3で得られたポリイミドワニス(3)に、フッ素含有ポリマー(LE-607DM、共栄社化学株式会社製、30%ジメチルアセトアミド溶液)をポリイミド樹脂100質量部に対して0.1質量部(有効分換算)添加してポリイミドワニス(4)を得た。
実施例3で得られたポリイミドワニス(3)に、フッ素含有ポリマー(LE-607DM、共栄社化学株式会社製、30%ジメチルアセトアミド溶液)をポリイミド樹脂100質量部に対して0.5質量部(有効分換算)添加してポリイミドワニス(5)を得た。
実施例1と同じ反応装置を使用し、丸底フラスコ中で、BAPPを16.427g(0.040モル)、BisAMを20.747g(0.060モル)、γ-ブチロラクトンを48.5g、及び触媒として、トリエチルアミンを10.10g入れ、窒素雰囲気下、150rpmで撹拌しながら80℃まで昇温し溶液を得た。この溶液に、HPMDAを22.439g(0.100モル)とγ-ブチロラクトンを11.0g、それぞれ一括で加えた後、マントルヒーターで加熱し、約20分かけて反応系内温度を190℃まで上げた。留去される成分を捕集し、反応系内温度を190℃に7.5時間維持した。N,N-ジメチルアセトアミドを164.2g添加後、100℃付近で約1時間撹拌して、固形分濃度20質量%の均一なポリイミドワニス(6)を得た。
比較例1で得られたポリイミドワニス(6)に、フッ素含有ポリマー(LE-607DM、共栄社化学株式会社製、30%ジメチルアセトアミド溶液)をポリイミド樹脂100質量部に対して0.1質量部(有効分換算)添加してポリイミドワニス(7)を得た。
比較例1で得られたポリイミドワニス(6)に、フッ素含有ポリマー(LE-607DM、共栄社化学株式会社製、30%ジメチルアセトアミド溶液)をポリイミド樹脂100質量部に対して0.5質量部(有効分換算)添加してポリイミドワニス(8)を得た。
比較例1で得られたポリイミドワニス(6)に、フッ素含有ポリマー(LE-607DM、共栄社化学株式会社製、30%ジメチルアセトアミド溶液)をポリイミド樹脂100質量部に対して1.0質量部(有効分換算)添加してポリイミドワニス(9)を得た。
実施例1と同じ反応装置を使用し、丸底フラスコ中で、BAPPを43.745g(0.107モル)、γ-ブチロラクトンを81.4g、及び触媒として、トリエチルアミンを0.54g入れ、窒素雰囲気下、150rpmで撹拌しながら70℃まで昇温し溶液を得た。この溶液に、HPMDAを23.887g(0.107モル)とγ-ブチロラクトン(三菱化学株式会社製)を20.3g、それぞれ一括で加えた後、マントルヒーターで加熱し、約20分かけて反応系内温度を190℃まで上げた。留去される成分を捕集し、反応系内温度を190℃に4.0時間維持した。γ-ブチロラクトン(三菱化学株式会社製)を154.2g添加後、100℃付近で約1時間撹拌して、固形分濃度20質量%の均一なポリイミドワニス(10)を得た。
続いて、得られたポリイミドワニス(10)をPET基板上に塗布し、100℃で20分保持し、溶媒を揮発させることで自己支持性を有する透明な一次乾燥フィルムを得た。更に該フィルムをステンレス枠に固定し、210℃で空気雰囲気下、20分間乾燥することにより溶媒を除去し、フィルムを得た。このポリイミドフィルムの評価結果を表1に示す。
Claims (7)
- テトラカルボン酸二無水物に由来する構成単位A及びジアミンに由来する構成単位Bを有するポリイミド樹脂であって、
構成単位Aが、下記式(a1)で表される化合物に由来する構成単位(A1)を含み、
構成単位Bが、下記式(b11)で表される化合物に由来する構成単位(B1)と、
下記式(b211)で表される化合物に由来する構成単位、下記式(b212)で表される化合物に由来する構成単位、及び下記式(b213)で表される化合物に由来する構成単位からなる群から選ばれる少なくとも1つの構成単位(B2)とを含み、
構成単位A中における構成単位(A1)の比率が100モル%であり、
構成単位(B1)と構成単位(B2)のモル比[(B1)/(B2)]が、60/40~75/25であり、
構成単位B中における構成単位(B1)と構成単位(B2)の合計が占める比率が70~100モル%である、ポリイミド樹脂。
(式(b11)中、R1及びR2はそれぞれ独立に、メチル基又はトリフルオロメチル基を示す。) - JIS K 7127に準拠して測定された破壊点伸び率が10%以上43.8%以下である、請求項1に記載のポリイミド樹脂。
- 請求項1又は2に記載のポリイミド樹脂、並びにフッ素含有ポリマー及びシリコーン含有ポリマーからなる群から選ばれる少なくとも1つを含む、ポリイミド樹脂組成物。
- 前記フッ素含有ポリマー及びシリコーン含有ポリマーの合計含有量が、前記ポリイミド樹脂100質量部に対して、0.01~2質量部である、請求項3に記載のポリイミド樹脂組成物。
- 前記フッ素含有ポリマーが、フッ素含有アクリルポリマーである、請求項3又は4に記載のポリイミド樹脂組成物。
- 請求項1若しくは2に記載のポリイミド樹脂、又は請求項3~5のいずれか1つに記載のポリイミド樹脂組成物が有機溶媒に溶解してなるポリイミドワニス。
- 請求項1若しくは2に記載のポリイミド樹脂、又は請求項3~5のいずれか1つに記載のポリイミド樹脂組成物を含む、ポリイミドフィルム。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2019236888 | 2019-12-26 | ||
| JP2019236888 | 2019-12-26 | ||
| PCT/JP2020/047567 WO2021132109A1 (ja) | 2019-12-26 | 2020-12-18 | ポリイミド樹脂、ポリイミド樹脂組成物、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPWO2021132109A1 JPWO2021132109A1 (ja) | 2021-07-01 |
| JP7666330B2 true JP7666330B2 (ja) | 2025-04-22 |
Family
ID=76574211
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021567416A Active JP7666330B2 (ja) | 2019-12-26 | 2020-12-18 | ポリイミド樹脂、ポリイミド樹脂組成物、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7666330B2 (ja) |
| KR (1) | KR20220123392A (ja) |
| CN (1) | CN114846052B (ja) |
| TW (1) | TWI875901B (ja) |
| WO (1) | WO2021132109A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20230134903A (ko) * | 2022-03-15 | 2023-09-22 | 주식회사 엘지화학 | 고분자 수지 조성물, 고분자 수지 필름의 제조방법, 고분자 수지 필름 및 이를 이용한 디스플레이 장치용 기판, 및 광학 장치 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009158897A (ja) | 2007-12-28 | 2009-07-16 | Ist Corp | 金属配線回路保護方法 |
| JP2011178855A (ja) | 2010-02-26 | 2011-09-15 | Pi R & D Co Ltd | 半導体装置用ポリイミド樹脂組成物並びにそれを用いた半導体装置中の膜形成方法及び半導体装置 |
| JP7463964B2 (ja) | 2018-08-24 | 2024-04-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH08134211A (ja) | 1994-11-14 | 1996-05-28 | Hitachi Chem Co Ltd | 光部品用ポリイミドおよび光部品 |
| CN106029743B (zh) | 2014-02-21 | 2019-03-29 | 三菱化学株式会社 | 含聚酰亚胺前驱体和/或聚酰亚胺的组合物,以及聚酰亚胺膜 |
| JP7479781B2 (ja) * | 2017-02-28 | 2024-05-09 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | 金属張積層板、接着シート、接着性ポリイミド樹脂組成物及び回路基板 |
| CN107828210B (zh) * | 2017-11-15 | 2020-06-12 | 江苏亚宝绝缘材料股份有限公司 | 一种石墨烯复合聚酰亚胺薄膜及其制备方法 |
| US11674920B2 (en) * | 2018-03-29 | 2023-06-13 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Moisture-sensitive film and sensor using same |
-
2020
- 2020-12-18 JP JP2021567416A patent/JP7666330B2/ja active Active
- 2020-12-18 KR KR1020227021101A patent/KR20220123392A/ko active Pending
- 2020-12-18 WO PCT/JP2020/047567 patent/WO2021132109A1/ja not_active Ceased
- 2020-12-18 CN CN202080089433.2A patent/CN114846052B/zh active Active
- 2020-12-22 TW TW109145430A patent/TWI875901B/zh active
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009158897A (ja) | 2007-12-28 | 2009-07-16 | Ist Corp | 金属配線回路保護方法 |
| JP2011178855A (ja) | 2010-02-26 | 2011-09-15 | Pi R & D Co Ltd | 半導体装置用ポリイミド樹脂組成物並びにそれを用いた半導体装置中の膜形成方法及び半導体装置 |
| JP7463964B2 (ja) | 2018-08-24 | 2024-04-09 | 三菱瓦斯化学株式会社 | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW202130713A (zh) | 2021-08-16 |
| WO2021132109A1 (ja) | 2021-07-01 |
| TWI875901B (zh) | 2025-03-11 |
| CN114846052B (zh) | 2025-01-07 |
| CN114846052A (zh) | 2022-08-02 |
| KR20220123392A (ko) | 2022-09-06 |
| JPWO2021132109A1 (ja) | 2021-07-01 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP7424284B2 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
| JP7463964B2 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
| JP7666507B2 (ja) | イミド-アミド酸共重合体及びその製造方法、ワニス、並びにポリイミドフィルム | |
| JP7384170B2 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
| JPWO2019069723A1 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
| WO2020110948A1 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
| JP7687213B2 (ja) | ポリイミド樹脂、ワニス及びポリイミドフィルム | |
| JP7647567B2 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
| JP7666506B2 (ja) | イミド-アミド酸共重合体及びその製造方法、ワニス、並びにポリイミドフィルム | |
| JP7687212B2 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
| JP7666330B2 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミド樹脂組成物、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
| JP7771955B2 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
| JP7647589B2 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
| KR102883095B1 (ko) | 폴리이미드 수지, 폴리이미드 바니시 및 폴리이미드 필름 | |
| JP7524894B2 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
| JP7726200B2 (ja) | ポリイミドフィルムの製造方法 | |
| JP7666500B2 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
| JP7694563B2 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
| JP7548236B2 (ja) | ポリイミド樹脂組成物、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
| WO2019065522A1 (ja) | ポリイミド樹脂、ポリイミドワニス及びポリイミドフィルム | |
| WO2025121335A1 (ja) | ポリイミドワニスの製造方法 | |
| WO2023234085A1 (ja) | ポリイミド樹脂前駆体及びポリイミド樹脂 | |
| WO2025121334A1 (ja) | ポリイミド樹脂 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20231020 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20241001 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20241128 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20241210 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20250206 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20250311 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20250324 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7666330 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |