[go: up one dir, main page]

JP7660035B2 - Microbubble generator - Google Patents

Microbubble generator Download PDF

Info

Publication number
JP7660035B2
JP7660035B2 JP2021103175A JP2021103175A JP7660035B2 JP 7660035 B2 JP7660035 B2 JP 7660035B2 JP 2021103175 A JP2021103175 A JP 2021103175A JP 2021103175 A JP2021103175 A JP 2021103175A JP 7660035 B2 JP7660035 B2 JP 7660035B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
tank
water
gas introduction
liquid
tank circulation
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2021103175A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2023002137A (en
Inventor
真也 古川
悠二郎 中島
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Rinnai Corp
Original Assignee
Rinnai Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Rinnai Corp filed Critical Rinnai Corp
Priority to JP2021103175A priority Critical patent/JP7660035B2/en
Priority to KR1020210158627A priority patent/KR20220170728A/en
Priority to CN202210390683.0A priority patent/CN115500717A/en
Publication of JP2023002137A publication Critical patent/JP2023002137A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP7660035B2 publication Critical patent/JP7660035B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • B01F23/23Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A47FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47KSANITARY EQUIPMENT NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; TOILET ACCESSORIES
    • A47K3/00Baths; Douches; Appurtenances therefor
    • A47K3/001Accessories for baths, not provided for in other subgroups of group A47K3/00 ; Insertions, e.g. for babies; Tubs suspended or inserted in baths; Security or alarm devices; Protecting linings or coverings; Devices for cleaning or disinfecting baths; Bath insulation
    • AHUMAN NECESSITIES
    • A47FURNITURE; DOMESTIC ARTICLES OR APPLIANCES; COFFEE MILLS; SPICE MILLS; SUCTION CLEANERS IN GENERAL
    • A47KSANITARY EQUIPMENT NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; TOILET ACCESSORIES
    • A47K3/00Baths; Douches; Appurtenances therefor
    • A47K3/10Wave-producers or the like, e.g. with devices for admitting gas, e.g. air, in the bath-water
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • B01F23/23Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
    • B01F23/232Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids using flow-mixing means for introducing the gases, e.g. baffles
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • B01F23/23Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
    • B01F23/2366Parts; Accessories
    • B01F23/2368Mixing receptacles, e.g. tanks, vessels or reactors, being completely closed, e.g. hermetically closed
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • B01F23/23Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids
    • B01F23/237Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media
    • B01F23/2373Mixing gases with liquids by introducing gases into liquid media, e.g. for producing aerated liquids characterised by the physical or chemical properties of gases or vapours introduced in the liquid media for obtaining fine bubbles, i.e. bubbles with a size below 100 µm
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F23/00Mixing according to the phases to be mixed, e.g. dispersing or emulsifying
    • B01F23/20Mixing gases with liquids
    • B01F23/29Mixing systems, i.e. flow charts or diagrams
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20Measuring; Control or regulation
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20Measuring; Control or regulation
    • B01F35/21Measuring
    • B01F35/211Measuring of the operational parameters
    • B01F35/2112Level of material in a container or the position or shape of the upper surface of the material
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20Measuring; Control or regulation
    • B01F35/21Measuring
    • B01F35/211Measuring of the operational parameters
    • B01F35/2113Pressure
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/20Measuring; Control or regulation
    • B01F35/21Measuring
    • B01F35/212Measuring of the driving system data, e.g. torque, speed or power data
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/71Feed mechanisms
    • B01F35/717Feed mechanisms characterised by the means for feeding the components to the mixer
    • B01F35/7176Feed mechanisms characterised by the means for feeding the components to the mixer using pumps
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/71Feed mechanisms
    • B01F35/717Feed mechanisms characterised by the means for feeding the components to the mixer
    • B01F35/71805Feed mechanisms characterised by the means for feeding the components to the mixer using valves, gates, orifices or openings
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/75Discharge mechanisms
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/75Discharge mechanisms
    • B01F35/754Discharge mechanisms characterised by the means for discharging the components from the mixer
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F35/00Accessories for mixers; Auxiliary operations or auxiliary devices; Parts or details of general application
    • B01F35/75Discharge mechanisms
    • B01F35/754Discharge mechanisms characterised by the means for discharging the components from the mixer
    • B01F35/7544Discharge mechanisms characterised by the means for discharging the components from the mixer using pumps
    • EFIXED CONSTRUCTIONS
    • E03WATER SUPPLY; SEWERAGE
    • E03CDOMESTIC PLUMBING INSTALLATIONS FOR FRESH WATER OR WASTE WATER; SINKS
    • E03C1/00Domestic plumbing installations for fresh water or waste water; Sinks
    • E03C1/02Plumbing installations for fresh water
    • E03C1/08Jet regulators or jet guides, e.g. anti-splash devices
    • E03C1/084Jet regulators with aerating means
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01FMIXING, e.g. DISSOLVING, EMULSIFYING OR DISPERSING
    • B01F2101/00Mixing characterised by the nature of the mixed materials or by the application field
    • B01F2101/305Treatment of water, waste water or sewage

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Epidemiology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Hydrology & Water Resources (AREA)
  • Water Supply & Treatment (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Control For Baths (AREA)
  • Devices For Medical Bathing And Washing (AREA)

Description

本明細書で開示する技術は、微細気泡発生装置に関する。 The technology disclosed in this specification relates to a microbubble generating device.

特許文献1に、液体に気体を加圧溶解するタンクと、前記タンクに前記液体を供給するタンク供給路と、前記タンク供給路に設けられた加圧ポンプと、前記タンクから液槽に前記気体が加圧溶解された前記液体を排出するタンク排出路と、前記タンク排出路に設けられており、前記気体が加圧溶解された前記液体を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズルと、前記タンクに設けられた気体導入機構と、制御装置を備える微細気泡発生装置が開示されている。前記気体導入機構は、前記気体を導入する気体導入口と、前記気体導入口を開閉する気体導入弁を備えている。前記制御装置は、前記気体導入弁を開いた状態で、前記タンクから前記液槽に前記液体を供給することで、前記タンクに前記気体を導入する気体導入運転と、前記気体導入弁を閉じた状態で、前記加圧ポンプを駆動して前記タンク供給路から前記タンクへ液体を加圧して供給するとともに、前記タンクから前記タンク排出路を介して前記液槽へ前記気体が加圧溶解された前記液体を供給する、微細気泡発生運転を交互に実行する。 Patent Document 1 discloses a fine bubble generating device including a tank for pressurizing and dissolving a gas in a liquid, a tank supply path for supplying the liquid to the tank, a pressure pump provided in the tank supply path, a tank discharge path for discharging the liquid in which the gas has been pressurized and dissolved from the tank to a liquid tank, a fine bubble generating nozzle provided in the tank discharge path for reducing the pressure of the liquid in which the gas has been pressurized and dissolved to generate fine bubbles, a gas introduction mechanism provided in the tank, and a control device. The gas introduction mechanism includes a gas introduction port for introducing the gas, and a gas introduction valve for opening and closing the gas introduction port. The control device alternately performs a gas introduction operation in which the gas is introduced into the tank by supplying the liquid from the tank to the liquid tank with the gas introduction valve open, and a fine bubble generation operation in which the gas introduction valve is closed and the pressure pump is driven to pressurize and supply the liquid from the tank supply path to the tank, and the liquid in which the gas is pressurized and dissolved is supplied from the tank to the liquid tank via the tank discharge path.

特開2009-18118号公報JP 2009-18118 A

特許文献1の微細気泡発生装置では、気体導入運転と微細気泡発生運転を同時に実行することができず、気体導入運転でタンクに気体が供給され、微細気泡発生運転でタンクから気体が消費されるので、気体導入運転と微細気泡発生運転を必ず交互に実行しなければならない。しかしながら、気体導入運転の実行中は、タンクから液槽に供給される液体に微細気泡を発生させることができないので、微細気泡発生運転で液槽の液体に発生させた微細気泡が、気体導入運転の実行中に消失してしまい、液槽の液体に微細気泡を安定して発生させ続けることが困難であった。本明細書では、液槽の液体に微細気泡を安定して発生させ続けることが可能な技術を提供する。 In the micro-bubble generator of Patent Document 1, the gas introduction operation and the micro-bubble generation operation cannot be performed simultaneously. Instead, gas is supplied to the tank during the gas introduction operation, and gas is consumed from the tank during the micro-bubble generation operation. Therefore, the gas introduction operation and the micro-bubble generation operation must be performed alternately. However, since micro-bubbles cannot be generated in the liquid supplied from the tank to the liquid tank during the gas introduction operation, the micro-bubbles generated in the liquid in the liquid tank during the micro-bubble generation operation disappear during the gas introduction operation, making it difficult to stably generate micro-bubbles in the liquid in the liquid tank. This specification provides a technology that can stably generate micro-bubbles in the liquid in the liquid tank.

本明細書が開示する微細気泡発生装置は、液体に気体を加圧溶解するタンクと、前記タンクに前記液体を供給するタンク供給路と、前記タンク供給路に設けられた加圧ポンプと、前記タンクから液槽に前記気体が加圧溶解された前記液体を排出するタンク排出路と、前記タンク排出路に設けられており、前記気体が加圧溶解された前記液体を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズルと、前記タンク排出路とは別個に設けられており、前記タンクに接続された流出口から前記タンクに接続された流入口に前記液体を送るタンク循環路と、前記タンク循環路に設けられたタンク循環ポンプと、前記タンク循環路に設けられた気体導入機構と、制御装置を備えている。前記気体導入機構は、前記液体を減圧して通過させる減圧部と、前記減圧部における前記液体の負圧によって前記気体を導入する気体導入口と、前記気体導入口を開閉する気体導入弁を備えている。前記制御装置は、前記加圧ポンプを駆動して前記タンク供給路から前記タンクへ前記液体を加圧して供給するとともに、前記タンクから前記タンク排出路を介して前記液槽へ前記気体が加圧溶解された前記液体を供給する、微細気泡発生運転を実行可能である。前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中に、前記気体導入弁を開いた状態で、前記タンク循環ポンプによって前記タンクの前記液体を前記タンク循環路で循環させる第1タンク循環運転と、前記気体導入弁を閉じた状態で、前記タンク循環ポンプによって前記タンクの前記液体を前記タンク循環路で循環させる第2タンク循環運転を実行可能である。前記制御装置は、前記第1タンク循環運転において、前記タンク循環ポンプを第1回転数で駆動し、前記第2タンク循環運転において、前記タンク循環ポンプを前記第1回転数よりも低い第2回転数で駆動するように構成されている。 The microbubble generating device disclosed in this specification includes a tank for pressurizing and dissolving a gas in a liquid, a tank supply path for supplying the liquid to the tank, a pressure pump provided in the tank supply path, a tank discharge path for discharging the liquid in which the gas is pressurized and dissolved from the tank to a liquid tank, a microbubble generating nozzle provided in the tank discharge path for reducing the pressure of the liquid in which the gas is pressurized and dissolved to generate microbubbles, a tank circulation path provided separately from the tank discharge path for sending the liquid from an outlet connected to the tank to an inlet connected to the tank, a tank circulation pump provided in the tank circulation path, a gas introduction mechanism provided in the tank circulation path, and a control device. The gas introduction mechanism includes a pressure reduction section for reducing the pressure of the liquid and passing it through, a gas introduction port for introducing the gas by the negative pressure of the liquid in the pressure reduction section, and a gas introduction valve for opening and closing the gas introduction port. The control device is capable of executing a fine bubble generating operation in which the pressurizing pump is driven to pressurize and supply the liquid from the tank supply path to the tank, and the liquid in which the gas is pressurized and dissolved is supplied from the tank to the liquid tank via the tank discharge path. The control device is capable of executing a first tank circulation operation in which the tank circulation pump circulates the liquid in the tank through the tank circulation path with the gas introduction valve open during the execution of the fine bubble generating operation, and a second tank circulation operation in which the tank circulation pump circulates the liquid in the tank through the tank circulation path with the gas introduction valve closed. The control device is configured to drive the tank circulation pump at a first rotation speed in the first tank circulation operation, and to drive the tank circulation pump at a second rotation speed lower than the first rotation speed in the second tank circulation operation.

上記の微細気泡発生装置では、微細気泡発生運転を実行中であっても、第1タンク循環運転を実行することによって、気体導入機構で気体が導入されて、タンクに気体を供給することができる。このため、タンクに気体を供給するために微細気泡発生運転を中断する必要がなく、微細気泡発生運転を継続して実行することができる。このような構成とすることによって、液槽の液体に微細気泡を安定して発生させ続けることができる。 In the above-mentioned micro-bubble generating device, even when the micro-bubble generating operation is being performed, the first tank circulation operation can be performed, so that gas is introduced by the gas introduction mechanism and gas can be supplied to the tank. Therefore, there is no need to interrupt the micro-bubble generating operation to supply gas to the tank, and the micro-bubble generating operation can be performed continuously. With this configuration, it is possible to continue stably generating micro-bubbles in the liquid in the liquid tank.

また、上記の微細気泡発生装置では、微細気泡発生運転の実行中に、第1タンク循環運転や第2タンク循環運転を実行すると、タンク内の液体の流動が激しくなる。加圧溶解式のタンクにおいては、タンク内の液体の流動が激しいほど、タンクにおける液体への気体の加圧溶解が促進される。上記の構成によれば、微細気泡発生運転を実行中に、第1タンク循環運転や第2タンク循環運転を実行することによって、タンク内の液体を激しく流動させて、タンクにおける液体への気体の加圧溶解をより促進することができる。 In addition, in the above-mentioned micro-bubble generating device, when the first tank circulation operation or the second tank circulation operation is performed while the micro-bubble generating operation is being performed, the flow of the liquid in the tank becomes more intense. In a pressurized dissolution type tank, the more intense the flow of the liquid in the tank, the more the pressurized dissolution of the gas into the liquid in the tank is promoted. According to the above-mentioned configuration, by performing the first tank circulation operation or the second tank circulation operation while the micro-bubble generating operation is being performed, the liquid in the tank can be caused to flow more intensely, thereby further promoting the pressurized dissolution of the gas into the liquid in the tank.

なお、第1タンク循環運転では、気体導入機構の減圧部に気体が導入されるので、液体への気体の混合により減圧部における液体の負圧が緩和されるものの、第2タンク循環運転では、気体導入機構の減圧部に気体が導入されないので、減圧部における液体の負圧が緩和されない。このため、仮に第1タンク循環運転と第2タンク循環運転でタンク循環ポンプの回転数を同一とすると、第2タンク循環運転では、第1タンク循環運転に比べて、気体導入機構の減圧部における液体の圧力がより低くなる。気体導入機構の減圧部における液体の圧力が過剰に低くなると、減圧部でキャビテーションが発生し、騒音が生じるおそれがある。上記の構成によれば、第2タンク循環運転におけるタンク循環ポンプの回転数を、第1タンク循環運転におけるタンク循環ポンプの回転数よりも低くすることで、第2タンク循環運転において、気体導入機構の減圧部における液体の圧力が過剰に低くなることを抑制することができる、これによって、第2タンク循環運転において、気体導入機構の減圧部でのキャビテーションの発生を抑制し、騒音が生じることを抑制することができる。 In the first tank circulation operation, gas is introduced into the pressure reduction section of the gas introduction mechanism, and the negative pressure of the liquid in the pressure reduction section is alleviated by mixing the gas with the liquid. However, in the second tank circulation operation, gas is not introduced into the pressure reduction section of the gas introduction mechanism, and the negative pressure of the liquid in the pressure reduction section is not alleviated. For this reason, if the rotation speed of the tank circulation pump is the same in the first tank circulation operation and the second tank circulation operation, the pressure of the liquid in the pressure reduction section of the gas introduction mechanism will be lower in the second tank circulation operation than in the first tank circulation operation. If the pressure of the liquid in the pressure reduction section of the gas introduction mechanism becomes excessively low, cavitation may occur in the pressure reduction section, causing noise. According to the above configuration, by setting the rotation speed of the tank circulation pump in the second tank circulation operation lower than the rotation speed of the tank circulation pump in the first tank circulation operation, it is possible to prevent the liquid pressure in the pressure reducing section of the gas introduction mechanism from becoming excessively low in the second tank circulation operation. This makes it possible to prevent the occurrence of cavitation in the pressure reducing section of the gas introduction mechanism and to prevent noise from being generated in the second tank circulation operation.

また、微細気泡発生運転の実行中に、第1タンク循環運転を実行する場合、気体導入機構の減圧部を流れる液体の流量が大きくなると、それだけ減圧部における液体の圧力がより低くなり、気体導入機構でより多くの気体を導入することができる。上記の構成によれば、第1タンク循環運転におけるタンク循環ポンプの回転数を、第2タンク循環運転におけるタンク循環ポンプの回転数よりも高くすることで、第1タンク循環運転において、気体導入機構でより多くの気体を導入することができる。 In addition, when the first tank circulation operation is performed during the microbubble generation operation, as the flow rate of the liquid flowing through the pressure reducing section of the gas introduction mechanism increases, the pressure of the liquid in the pressure reducing section decreases accordingly, and more gas can be introduced by the gas introduction mechanism. According to the above configuration, by making the rotation speed of the tank circulation pump in the first tank circulation operation higher than the rotation speed of the tank circulation pump in the second tank circulation operation, more gas can be introduced by the gas introduction mechanism in the first tank circulation operation.

前記微細気泡発生装置では、前記気体導入機構が、前記タンク循環路において、前記タンク循環ポンプよりも上流側に配置されていてもよい。 In the microbubble generating device, the gas introduction mechanism may be disposed upstream of the tank circulation pump in the tank circulation path.

第1タンク循環運転においては、気体導入機構がタンク循環路においてタンク循環ポンプよりも上流側に配置されている場合、気体導入機構で導入された気体が液体に混合されて、タンク循環ポンプに流入する。このため、気体導入機構がタンク循環路においてタンク循環ポンプよりも下流側に配置されている場合に比べて、タンク循環ポンプの効率が低下し、気体導入機構の減圧部を流れる液体の流量が小さくなる。これに対して、第2タンク循環運転においては、気体導入機構がタンク循環路においてタンク循環ポンプよりも上流側に配置されている場合でも、気体導入機構で気体が導入されないので、気体導入機構がタンク循環路においてタンク循環ポンプよりも下流側に配置されている場合に比べて、タンク循環ポンプの効率は低下せず、気体導入機構の減圧部を流れる液体の流量が小さくなることはない。このため、仮に第1タンク循環運転と第2タンク循環運転でタンク循環ポンプの回転数を同一とすると、第2タンク循環運転では、第1タンク循環運転に比べて、気体導入機構の減圧部を流れる液体の流量がより大きくなり、気体導入機構の減圧部における液体の圧力がより低くなる。これによって、気体導入機構の減圧部でキャビテーションがより発生しやすくなり、より騒音が生じやすくなる。上記の構成によれば、第2タンク循環運転におけるタンク循環ポンプの回転数を、第1タンク循環運転におけるタンク循環ポンプの回転数よりも低くすることで、第2タンク循環運転において、減圧部におけるキャビテーションの発生を抑制し、騒音が生じることを抑制することができる。 In the first tank circulation operation, if the gas introduction mechanism is arranged upstream of the tank circulation pump in the tank circulation path, the gas introduced by the gas introduction mechanism is mixed with the liquid and flows into the tank circulation pump. Therefore, compared to when the gas introduction mechanism is arranged downstream of the tank circulation pump in the tank circulation path, the efficiency of the tank circulation pump decreases, and the flow rate of the liquid flowing through the pressure reduction section of the gas introduction mechanism becomes smaller. In contrast, in the second tank circulation operation, even if the gas introduction mechanism is arranged upstream of the tank circulation pump in the tank circulation path, gas is not introduced by the gas introduction mechanism, so compared to when the gas introduction mechanism is arranged downstream of the tank circulation pump in the tank circulation path, the efficiency of the tank circulation pump does not decrease, and the flow rate of the liquid flowing through the pressure reduction section of the gas introduction mechanism does not become smaller. Therefore, if the rotation speed of the tank circulation pump is the same in the first tank circulation operation and the second tank circulation operation, the flow rate of the liquid flowing through the pressure reduction section of the gas introduction mechanism is larger in the second tank circulation operation than in the first tank circulation operation, and the pressure of the liquid in the pressure reduction section of the gas introduction mechanism is lower. This makes it easier for cavitation to occur in the pressure reduction section of the gas introduction mechanism, which makes it easier for noise to occur. With the above configuration, by setting the rotation speed of the tank circulation pump in the second tank circulation operation lower than the rotation speed of the tank circulation pump in the first tank circulation operation, it is possible to suppress the occurrence of cavitation in the pressure reduction section and suppress the generation of noise during the second tank circulation operation.

また、気体導入機構がタンク循環路においてタンク循環ポンプよりも上流側に配置されている場合、タンク循環ポンプの吸込圧が気体導入機構の減圧部に作用するので、気体導入機構がタンク循環路においてタンク循環ポンプよりも下流側に配置されている場合に比べて、減圧部における液体の圧力がより低くなる。このため、第1タンク循環運転において、気体導入機構で導入される気体の量をより多くすることができる。また、上記の構成によれば、第1タンク循環運転において、気体導入機構で導入された気体とタンク循環路を流れる液体がタンク循環ポンプを通過する際に、タンク循環ポンプのインペラにより攪拌されるので、液体への気体の溶解をより促進することができる。 In addition, when the gas introduction mechanism is disposed upstream of the tank circulation pump in the tank circulation path, the suction pressure of the tank circulation pump acts on the pressure reducing section of the gas introduction mechanism, so the pressure of the liquid in the pressure reducing section is lower than when the gas introduction mechanism is disposed downstream of the tank circulation pump in the tank circulation path. This makes it possible to increase the amount of gas introduced by the gas introduction mechanism in the first tank circulation operation. In addition, according to the above configuration, when the gas introduced by the gas introduction mechanism and the liquid flowing through the tank circulation path pass through the tank circulation pump in the first tank circulation operation, they are agitated by the impeller of the tank circulation pump, which further promotes dissolution of the gas into the liquid.

前記微細気泡発生装置は、前記タンクの液位が第1液位以上であるか否かを検出可能な第1液位電極と、前記タンクの液位が前記第1液位よりも高い第2液位以上であるか否かを検出可能な第2液位電極をさらに備えていてもよい。前記タンク循環路への前記流出口が前記タンクに接続している箇所の液位は、前記第1液位よりも低くてもよい。前記制御装置は、前記微細気泡発生運転を実行しており、かつ前記第1タンク循環運転を実行中に、前記タンクの液位が前記第1液位より低いことが検出された場合に、前記第1タンク循環運転を終了して前記第2タンク循環運転を開始し、前記微細気泡発生運転を実行しており、かつ前記第2タンク循環運転を実行中に、前記タンクの液位が前記第2液位より高いことが検出された場合に、前記第2タンク循環運転を終了して前記第1タンク循環運転を開始するように構成されていてもよい。 The fine-bubble generating device may further include a first level electrode capable of detecting whether the liquid level in the tank is equal to or higher than a first liquid level, and a second level electrode capable of detecting whether the liquid level in the tank is equal to or higher than a second liquid level higher than the first liquid level. The liquid level at the point where the outlet to the tank circulation path is connected to the tank may be lower than the first liquid level. The control device may be configured to terminate the first tank circulation operation and start the second tank circulation operation when the fine-bubble generating operation is being performed and the liquid level in the tank is detected to be lower than the first liquid level while the control device is performing the first tank circulation operation, and to terminate the second tank circulation operation and start the first tank circulation operation when the fine-bubble generating operation is being performed and the liquid level in the tank is detected to be higher than the second liquid level while the control device is performing the second tank circulation operation.

微細気泡発生運転の実行中に、タンクから消費される気体の量が気体導入機構で導入される気体の量よりも少ない場合には、タンクの液位は下降していき、タンクから消費される気体の量が気体導入機構で導入される気体の量よりも多い場合には、タンクの液位は上昇していく。一方で、タンク循環ポンプを駆動している時に、第1タンク循環運転を実行すると、気体導入機構で気体が導入され、第2タンク循環運転を実行すると、気体導入機構で気体が導入されなくなる。上記の構成によれば、制御装置がタンクの液位に応じて第1タンク循環運転と第2タンク循環運転の何れか一方を選択的に実行することで、タンクから消費される気体の量と気体導入機構で導入される気体の量のバランスを取ることができる。 When the amount of gas consumed from the tank during the microbubble generation operation is less than the amount of gas introduced by the gas introduction mechanism, the liquid level in the tank drops, and when the amount of gas consumed from the tank is greater than the amount of gas introduced by the gas introduction mechanism, the liquid level in the tank rises. On the other hand, when the first tank circulation operation is performed while the tank circulation pump is running, gas is introduced by the gas introduction mechanism, and when the second tank circulation operation is performed, gas is not introduced by the gas introduction mechanism. With the above configuration, the control device selectively performs either the first tank circulation operation or the second tank circulation operation depending on the liquid level in the tank, thereby achieving a balance between the amount of gas consumed from the tank and the amount of gas introduced by the gas introduction mechanism.

前記気体導入弁は、前記減圧部における前記液体の負圧によって、前記気体導入弁を閉じる方向の力を受けるように構成されていてもよい。前記制御装置は、前記第1タンク循環運転を終了して前記第2タンク循環運転を開始する際には、前記タンク循環ポンプの駆動を継続しつつ、前記タンク循環ポンプの回転数を前記第1回転数から前記第2回転数まで低減させ、その後に前記気体導入弁を閉じるように構成されていてもよい。 The gas introduction valve may be configured to receive a force in a direction to close the gas introduction valve due to the negative pressure of the liquid in the pressure reducing section. When the first tank circulation operation is terminated and the second tank circulation operation is started, the control device may be configured to reduce the rotation speed of the tank circulation pump from the first rotation speed to the second rotation speed while continuing to drive the tank circulation pump, and then close the gas introduction valve.

上記の構成では、気体導入弁には、減圧部での液体の負圧が、気体導入弁を閉じる方向に作用する。このため、減圧部での液体の圧力が小さい状態で、気体導入弁を開いた状態から閉じた状態に切り換えると、気体導入弁の弁体が弁座に強く衝突してしまい、騒音の発生や気体導入弁の損傷を招くおそれがある。上記の構成では、制御装置は、第1タンク循環運転を終了して第2タンク循環運転を開始する際に、タンク循環ポンプの回転数を低減させて、減圧部での液体の圧力を増加させてから、気体導入弁を開いた状態から閉じた状態へ切り替える。これによって、気体導入弁の弁体が弁座に強く衝突することに起因する、騒音の発生や気体導入弁の損傷を抑制することができる。 In the above configuration, the negative pressure of the liquid in the pressure reducing section acts on the gas introduction valve in a direction that closes the gas introduction valve. Therefore, when the pressure of the liquid in the pressure reducing section is low and the gas introduction valve is switched from an open state to a closed state, the valve element of the gas introduction valve may collide strongly with the valve seat, which may cause noise generation and damage to the gas introduction valve. In the above configuration, when the first tank circulation operation is terminated and the second tank circulation operation is started, the control device reduces the rotation speed of the tank circulation pump to increase the pressure of the liquid in the pressure reducing section, and then switches the gas introduction valve from an open state to a closed state. This makes it possible to suppress noise generation and damage to the gas introduction valve caused by the valve element of the gas introduction valve colliding strongly with the valve seat.

前記気体導入弁は、前記減圧部における前記液体の負圧によって、前記気体導入弁を閉じる方向の力を受けるように構成されていてもよい。前記制御装置は、前記第2タンク循環運転を終了して前記第1タンク循環運転を開始する際には、前記タンク循環ポンプの駆動を継続しつつ、前記気体導入弁を開き、その後に前記タンク循環ポンプの回転数を前記第2回転数から前記第1回転数まで増加させるように構成されていてもよい。 The gas introduction valve may be configured to receive a force in a direction to close the gas introduction valve due to the negative pressure of the liquid in the pressure reducing section. When the second tank circulation operation is terminated and the first tank circulation operation is started, the control device may be configured to open the gas introduction valve while continuing to drive the tank circulation pump, and then to increase the rotation speed of the tank circulation pump from the second rotation speed to the first rotation speed.

上記の構成では、気体導入弁には、減圧部での液体の負圧が、気体導入弁を閉じる方向に作用する。このため、減圧部での液体の圧力が小さい状態で、気体導入弁を閉じた状態から開いた状態に切り換えようとすると、気体導入弁がスムーズに動作しないおそれがある。上記の構成では、制御装置は、第2タンク循環運転を終了して第1タンク循環運転を開始する際に、気体導入弁を閉じた状態から開いた状態へ切り替えてから、タンク循環ポンプの回転数を増加させて、減圧部での液体の圧力を低減させる。これによって、気体導入弁をスムーズに動作させることができる。 In the above configuration, the negative pressure of the liquid in the pressure reduction section acts on the gas introduction valve in a direction to close the gas introduction valve. For this reason, when attempting to switch the gas introduction valve from a closed state to an open state while the pressure of the liquid in the pressure reduction section is low, the gas introduction valve may not operate smoothly. In the above configuration, when the control device ends the second tank circulation operation and starts the first tank circulation operation, it switches the gas introduction valve from a closed state to an open state, and then increases the rotation speed of the tank circulation pump to reduce the pressure of the liquid in the pressure reduction section. This allows the gas introduction valve to operate smoothly.

前記微細気泡発生装置において、前記液体は、水であってもよく、前記液槽は、ユーザが入浴に使用する浴槽であってもよい。 In the microbubble generating device, the liquid may be water, and the liquid tank may be a bathtub used by a user for bathing.

上記の構成によれば、ユーザが入浴に使用する浴槽の水に、微細気泡を安定して発生させ続けることができる。 The above configuration allows fine bubbles to be generated stably and continuously in the water in the bathtub used by the user for bathing.

実施例の温水装置2の構成を模式的に示す図である。1 is a diagram showing a schematic configuration of a hot water device 2 of an embodiment; 実施例の温水装置2の浴槽アダプタ132の断面を模式的に示す図である。2 is a schematic diagram showing a cross section of a bathtub adapter 132 of the hot water device 2 of the embodiment. FIG. 実施例の温水装置2の湯はり運転において制御装置150が実行する処理のフローチャートである。13 is a flowchart of the processing executed by the control device 150 during hot water filling operation of the hot water device 2 of the embodiment. 実施例の温水装置2における水の流れの例を模式的に示す図である。3 is a diagram showing a schematic example of a water flow in the hot water device 2 of the embodiment. FIG. 実施例の温水装置2における水の流れの別の例を模式的に示す図である。10 is a diagram showing another example of the water flow in the hot water device 2 of the embodiment. FIG. 実施例の温水装置2の微細気泡発生運転において制御装置150が実行する処理のフローチャートである。10 is a flowchart of a process executed by a control device 150 during a fine bubble generating operation of the hot water device 2 of the embodiment. 実施例の温水装置2における水の流れのさらに別の例を模式的に示す図である。FIG. 10 is a diagram showing a schematic diagram of still another example of the water flow in the hot water device 2 of the embodiment. 実施例の温水装置2における水の流れのさらに別の例を模式的に示す図である。FIG. 10 is a diagram showing a schematic diagram of still another example of the water flow in the hot water device 2 of the embodiment. 変形例の温水装置2の微細気泡発生運転において制御装置150が実行する処理のフローチャートである。10 is a flowchart of a process executed by a control device 150 during a fine bubble generating operation of a hot water device 2 according to a modified example. 別の変形例の温水装置2の構成を模式的に示す図である。FIG. 10 is a diagram showing a schematic configuration of a hot water device 2 according to another modified example.

(実施例)
図1に示すように、本実施例の温水装置2は、熱源ユニット10と、空気加圧溶解ユニット50と、浴槽アダプタ132と、制御装置150と、を備える。温水装置2は、水道などの給水源200から供給される水を加熱して、所望の温度まで加熱された水を、台所等に設置されたカラン250や、浴室に設置された浴槽130に供給することができる。また、温水装置2は、ユーザが入浴に使用する浴槽130の水に、微細気泡を発生させることができる。
(Example)
1, the hot water device 2 of this embodiment includes a heat source unit 10, an air pressurized dissolution unit 50, a bathtub adapter 132, and a control device 150. The hot water device 2 heats water supplied from a water supply source 200 such as a tap, and can supply the water heated to a desired temperature to a faucet 250 installed in a kitchen or the like, or to a bathtub 130 installed in a bathroom. The hot water device 2 can also generate fine air bubbles in the water in the bathtub 130 that a user uses for bathing.

(熱源ユニット10の構成)
熱源ユニット10は、第1熱源機12と、第2熱源機14と、給水路16と、出湯路18と、バイパス路20と、バイパスサーボ22と、注湯路24と、湯はり弁26と、水量センサ28と、循環往路30と、循環復路32と、浴槽循環ポンプ34と、水流スイッチ36を備えている。
(Configuration of heat source unit 10)
The heat source unit 10 includes a first heat source unit 12, a second heat source unit 14, a water supply passage 16, a hot water outlet passage 18, a bypass passage 20, a bypass servo 22, a hot water inlet passage 24, a hot water filling valve 26, a water volume sensor 28, a forward circulation passage 30, a return circulation passage 32, a bathtub circulation pump 34, and a water flow switch 36.

給水路16の上流端は、給水源200に接続されており、給水路16の下流端は、第1熱源機12に接続されている。また、出湯路18の上流端は、第1熱源機12に接続されており、出湯路18の下流端は、カラン250に接続されている。第1熱源機12は、例えばガスの燃焼によって水を加熱する燃焼熱源機である。第1熱源機12は、給水路16から流れ込む水を加熱して、加熱された水を出湯路18に送り出す。 The upstream end of the water supply passage 16 is connected to the water supply source 200, and the downstream end of the water supply passage 16 is connected to the first heat source unit 12. The upstream end of the hot water outlet passage 18 is connected to the first heat source unit 12, and the downstream end of the hot water outlet passage 18 is connected to a faucet 250. The first heat source unit 12 is a combustion heat source unit that heats water, for example, by burning gas. The first heat source unit 12 heats the water flowing in from the water supply passage 16 and sends the heated water to the hot water outlet passage 18.

バイパス路20の上流端は、給水路16に接続されており、バイパス路20の下流端は、出湯路18に接続されている。バイパスサーボ22は、バイパス路20が給水路16に接続する箇所に設けられている。バイパスサーボ22は、内蔵された弁体の開度を調整することによって、給水路16から第1熱源機12を経由して出湯路18に流れる水の流量と、給水路16からバイパス路20を経由して出湯路18に流れる水の流量の割合を調整可能である。バイパスサーボ22の開度を調整することで、バイパス路20が接続する箇所よりも下流側の出湯路18には、第1熱源機12から流れ込む高温の水と、バイパス路20から流れ込む低温の水が所望の割合で混合されて、所望の温度に調温された水が供給される。バイパス路20が接続する箇所よりも下流側の出湯路18には、出湯路18の水の温度を検出する出湯温度サーミスタ18aが設けられている。 The upstream end of the bypass passage 20 is connected to the water supply passage 16, and the downstream end of the bypass passage 20 is connected to the hot water outlet passage 18. The bypass servo 22 is provided at the point where the bypass passage 20 connects to the water supply passage 16. The bypass servo 22 can adjust the ratio of the flow rate of water flowing from the water supply passage 16 to the hot water outlet passage 18 via the first heat source unit 12 and the flow rate of water flowing from the water supply passage 16 to the hot water outlet passage 18 via the bypass passage 20 by adjusting the opening degree of the built-in valve body. By adjusting the opening degree of the bypass servo 22, the hot water outlet passage 18 downstream of the point where the bypass passage 20 connects is supplied with water whose temperature has been adjusted to the desired temperature by mixing high-temperature water flowing from the first heat source unit 12 and low-temperature water flowing from the bypass passage 20 at a desired ratio. The hot water outlet passage 18 downstream of the point where the bypass passage 20 connects is provided with an outlet hot water temperature thermistor 18a that detects the temperature of the water in the hot water outlet passage 18.

注湯路24の上流端は、バイパス路20が接続する箇所よりも下流側の出湯路18に接続されており、注湯路24の下流端は、循環復路32に接続されている。湯はり弁26は、注湯路24に設けられており、注湯路24を開閉する。湯はり弁26は、通常時は閉状態とされている。水量センサ28は、注湯路24に設けられており、注湯路24を流れる水の水量を検出する。 The upstream end of the molten metal pouring passage 24 is connected to the molten metal outlet passage 18 downstream of the point where the bypass passage 20 is connected, and the downstream end of the molten metal pouring passage 24 is connected to the circulation return passage 32. The molten metal filling valve 26 is provided in the molten metal pouring passage 24 and opens and closes the molten metal pouring passage 24. The molten metal filling valve 26 is normally kept in a closed state. The water volume sensor 28 is provided in the molten metal pouring passage 24 and detects the amount of water flowing through the molten metal pouring passage 24.

循環復路32の上流端は、空気加圧溶解ユニット50の熱源復路60(詳細は後述する)に接続されており、循環復路32の下流端は、第2熱源機14に接続されている。また、循環往路30の上流端は、第2熱源機14に接続されており、循環往路30の下流端は、空気加圧溶解ユニット50の熱源往路68(詳細は後述する)に接続されている。第2熱源機14は、例えばガスの燃焼によって水を加熱する燃焼熱源機である。第2熱源機14は、循環復路32から流れ込む水を加熱して、加熱された水を循環往路30に送り出す。循環復路32の上流端近傍には、循環復路32の水の温度を検出する循環復路サーミスタ32aが設けられている。循環往路30の下流端近傍には、循環往路30の水の温度を検出する循環往路サーミスタ30aが設けられている。 The upstream end of the circulation return path 32 is connected to the heat source return path 60 (details will be described later) of the air pressurized dissolution unit 50, and the downstream end of the circulation return path 32 is connected to the second heat source device 14. The upstream end of the circulation outward path 30 is connected to the second heat source device 14, and the downstream end of the circulation outward path 30 is connected to the heat source outward path 68 (details will be described later) of the air pressurized dissolution unit 50. The second heat source device 14 is a combustion heat source device that heats water by, for example, burning gas. The second heat source device 14 heats the water flowing in from the circulation return path 32 and sends the heated water to the circulation outward path 30. A circulation return path thermistor 32a that detects the temperature of the water in the circulation return path 32 is provided near the upstream end of the circulation return path 32. A circulation outward path thermistor 30a that detects the temperature of the water in the circulation outward path 30 is provided near the downstream end of the circulation outward path 30.

浴槽循環ポンプ34は、注湯路24の接続箇所よりも下流側の循環復路32に設けられており、循環復路32の水を第2熱源機14に向けて送り出す。水流スイッチ36は、循環復路32において浴槽循環ポンプ34と第2熱源機14の間に設けられており、循環復路32を水が流れているか否かを検出する。 The bathtub circulation pump 34 is provided in the circulation return path 32 downstream of the connection point of the hot water supply path 24, and sends water in the circulation return path 32 toward the second heat source unit 14. The water flow switch 36 is provided in the circulation return path 32 between the bathtub circulation pump 34 and the second heat source unit 14, and detects whether water is flowing in the circulation return path 32.

(空気加圧溶解ユニット50の構成)
空気加圧溶解ユニット50は、タンク52と、熱源復路60と、熱源往路68と、タンク復路74と、タンク接続路76と、タンク往路64と、連通路66と、第1三方弁80と、第2三方弁82と、逆止弁84と、タンク給水弁86と、第1加圧ポンプ88と、第2加圧ポンプ90と、タンク吸引路92と、タンク循環ポンプ94と、気体導入機構96を備えている。
(Configuration of the air pressurized dissolving unit 50)
The air pressurization dissolution unit 50 includes a tank 52, a heat source return path 60, a heat source outward path 68, a tank return path 74, a tank connection path 76, a tank outward path 64, a communicating path 66, a first three-way valve 80, a second three-way valve 82, a check valve 84, a tank water supply valve 86, a first pressurization pump 88, a second pressurization pump 90, a tank suction path 92, a tank circulation pump 94, and a gas introduction mechanism 96.

タンク52は、内部に水を貯留することができる。タンク52の内部には、タンク52内の水位を検出するための低水位電極52a、高水位電極52bおよびアース電極52cが設置されている。低水位電極52aによって検出される水位(以下では下限水位ともいう)は、高水位電極52bによって検出される水位(以下では上限水位ともいう)よりも低い。低水位電極52a、高水位電極52bは、タンク52内に貯留されている水の水面に接触すると、アース電極52cとの間で電流が流れて、制御装置150にON信号を出力する。タンク52は、水に空気を加圧溶解して空気溶解水を生成するために利用される。 The tank 52 can store water inside. Inside the tank 52, a low water level electrode 52a, a high water level electrode 52b, and an earth electrode 52c are installed to detect the water level inside the tank 52. The water level detected by the low water level electrode 52a (hereinafter also referred to as the lower limit water level) is lower than the water level detected by the high water level electrode 52b (hereinafter also referred to as the upper limit water level). When the low water level electrode 52a and the high water level electrode 52b come into contact with the water surface stored in the tank 52, a current flows between them and the earth electrode 52c, and an ON signal is output to the control device 150. The tank 52 is used to pressurize and dissolve air in water to generate air-dissolved water.

熱源復路60の一端は、連通路66に接続されており、熱源復路60の他端は、熱源ユニット10の循環復路32に接続されている。連通路66は、第1三方弁80と第2三方弁82とを接続する。第1三方弁80には、連通路66、第1浴槽水路62、及び、タンク往路64が接続されている。第1三方弁80は、タンク往路64と第1浴槽水路62が連通している第1連通状態(図7、図8参照)と、タンク往路64と連通路66が連通している第2連通状態(図1参照)と、第1浴槽水路62、タンク往路64、及び、連通路66が連通している第3連通状態(図4、図5参照)と、を切替えることができる。タンク往路64の上流端は、タンク52の下部に接続されており、タンク往路64の下流端は、第1三方弁80に接続されている。タンク往路64には、タンク52から第1三方弁80に向かって水が流れることを許容し、第1三方弁80からタンク52に向かって水が流れることを禁止する逆止弁84が設けられている。第1浴槽水路62の一端は、第1三方弁80に接続されており、第1浴槽水路62の他端は、浴槽アダプタ132に接続されている。 One end of the heat source return line 60 is connected to the communication passage 66, and the other end of the heat source return line 60 is connected to the circulation return line 32 of the heat source unit 10. The communication passage 66 connects the first three-way valve 80 and the second three-way valve 82. The first three-way valve 80 is connected to the communication passage 66, the first bathtub water passage 62, and the tank forward line 64. The first three-way valve 80 can be switched between a first communication state (see Figures 7 and 8) in which the tank forward line 64 and the first bathtub water passage 62 are connected, a second communication state (see Figure 1) in which the tank forward line 64 and the communication passage 66 are connected, and a third communication state (see Figures 4 and 5) in which the first bathtub water passage 62, the tank forward line 64, and the communication passage 66 are connected. The upstream end of the tank outgoing line 64 is connected to the bottom of the tank 52, and the downstream end of the tank outgoing line 64 is connected to the first three-way valve 80. The tank outgoing line 64 is provided with a check valve 84 that allows water to flow from the tank 52 to the first three-way valve 80 and prohibits water from flowing from the first three-way valve 80 to the tank 52. One end of the first bathtub water passage 62 is connected to the first three-way valve 80, and the other end of the first bathtub water passage 62 is connected to the bathtub adapter 132.

熱源往路68の一端は、熱源ユニット10の循環往路30に接続されており、熱源往路68の他端は、第2三方弁82に接続されている。第2三方弁82には、連通路66と、熱源往路68と、第2浴槽水路70と、が接続されている。第2三方弁82は、第2浴槽水路70と連通路66が連通する第4連通状態(図7、図8参照)と、熱源往路68と第2浴槽水路70が連通する第5連通状態(図1、図4、図5参照)と、を切替えることができる。第2浴槽水路70の一端は、第2三方弁82に接続されており、第2浴槽水路70の他端は、浴槽アダプタ132に接続されている。 One end of the heat source outgoing line 68 is connected to the circulation outgoing line 30 of the heat source unit 10, and the other end of the heat source outgoing line 68 is connected to the second three-way valve 82. The second three-way valve 82 is connected to the communication passage 66, the heat source outgoing line 68, and the second bathtub water passage 70. The second three-way valve 82 can switch between a fourth communication state (see Figures 7 and 8) in which the second bathtub water passage 70 and the communication passage 66 are connected, and a fifth communication state (see Figures 1, 4, and 5) in which the heat source outgoing line 68 and the second bathtub water passage 70 are connected. One end of the second bathtub water passage 70 is connected to the second three-way valve 82, and the other end of the second bathtub water passage 70 is connected to the bathtub adapter 132.

タンク復路74の上流端は、熱源往路68に接続されており、タンク復路74の下流端は、タンク接続路76の上流端に接続されている。タンク接続路76の下流端(以下では、流入口76aともいう)は、タンク52の頂部に接続されている。タンク接続路76の流入口76aがタンク52に接続されている箇所の水位は、高水位電極52bによって検出される上限水位よりも高い。タンク給水弁86は、タンク復路74に設けられており、タンク復路74を開閉する。タンク給水弁86は、通常時は閉状態とされている。第1加圧ポンプ88と第2加圧ポンプ90は、タンク復路74において、タンク給水弁86よりも下流側に設けられている。第1加圧ポンプ88と第2加圧ポンプ90は、タンク復路74の水を加圧してタンク接続路76に向けて送り出す。タンク復路74において、第1加圧ポンプ88は第2加圧ポンプ90よりも上流側に配置されている。タンク復路74からタンク接続路76に送られた水は、流入口76aを介してタンク52に流入する。 The upstream end of the tank return line 74 is connected to the heat source outward line 68, and the downstream end of the tank return line 74 is connected to the upstream end of the tank connection line 76. The downstream end of the tank connection line 76 (hereinafter also referred to as the inlet 76a) is connected to the top of the tank 52. The water level at the point where the inlet 76a of the tank connection line 76 is connected to the tank 52 is higher than the upper water level detected by the high water level electrode 52b. The tank water supply valve 86 is provided in the tank return line 74 and opens and closes the tank return line 74. The tank water supply valve 86 is normally closed. The first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 are provided downstream of the tank water supply valve 86 in the tank return line 74. The first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 pressurize the water in the tank return line 74 and send it toward the tank connection line 76. In the tank return line 74, the first pressure pump 88 is disposed upstream of the second pressure pump 90. Water sent from the tank return line 74 to the tank connection line 76 flows into the tank 52 through the inlet 76a.

タンク吸引路92の上流端(以下では、流出口92aともいう)は、タンク52の底部に接続されている。タンク吸引路92の流出口92aがタンク52に接続されている箇所の水位は、低水位電極52aによって検出される下限水位よりも低い。タンク吸引路92の下流端は、タンク接続路76の上流端に接続されている。タンク循環ポンプ94は、タンク吸引路92に設けられている。タンク循環ポンプ94は、タンク52内の水を流出口92aを介してタンク吸引路92に吸入するとともに、タンク吸引路92の水をタンク接続路76に向けて送り出す。タンク吸引路92からタンク接続路76に送られた水は、流入口76aを介してタンク52に流入する。 The upstream end of the tank suction passage 92 (hereinafter also referred to as the outlet 92a) is connected to the bottom of the tank 52. The water level at the point where the outlet 92a of the tank suction passage 92 is connected to the tank 52 is lower than the lower limit water level detected by the low water level electrode 52a. The downstream end of the tank suction passage 92 is connected to the upstream end of the tank connection passage 76. The tank circulation pump 94 is provided in the tank suction passage 92. The tank circulation pump 94 draws water from the tank 52 into the tank suction passage 92 through the outlet 92a, and sends water from the tank suction passage 92 toward the tank connection passage 76. The water sent from the tank suction passage 92 to the tank connection passage 76 flows into the tank 52 through the inlet 76a.

気体導入機構96は、タンク循環ポンプ94よりも上流側のタンク吸引路92に設けられている。気体導入機構96は、入水管98と、出水管100と、ベンチュリ管102と、気体導入路104と、気体導入弁106を備えている。入水管98には、タンク吸引路92の上流側から水が流入する。出水管100は、タンク吸引路92の下流側へ水を流出させる。ベンチュリ管102は、入水管98と出水管100を連通している。ベンチュリ管102の径は、入水管98および出水管100の径よりも小さい。気体導入機構96を流れる水は、入水管98からベンチュリ管102へ流れる際に大気圧よりも低い圧力まで減圧され、ベンチュリ管102から出水管100へ流れる際に元の圧力まで増圧される。気体導入路104の上流端(以下では、気体導入口104aともいう)は、大気に開放されており、下流端はベンチュリ管102に接続されている。気体導入弁106は、気体導入路104に設けられており、気体導入路104を開閉する。気体導入弁106は、弁体(図示せず)と、弁座(図示せず)と、弁体を弁座に着座する方向に付勢するバネ(図示せず)と、弁体を弁座から離反する方向に移動させるソレノイド(図示せず)を備えている。バネの付勢力によって弁体が弁座に着座している状態では、気体導入弁106は閉じられる。ソレノイドの駆動により弁体が弁座から離反すると、気体導入弁106は開かれる。気体導入機構96を水が流れる際に、気体導入弁106が開いている場合には、気体導入口104aから気体導入路104に空気が吸入され、ベンチュリ管102を流れる水に空気が混合される。気体導入路104で導入された空気は、タンク吸引路92を流れる水と混合されて、タンク接続路76を介してタンク52へ流入する。気体導入弁106は、通常時は閉状態とされており、後述する制御装置150によってソレノイドが駆動されると開状態とされる。気体導入弁106には、ベンチュリ管102での水の負圧が、気体導入弁106を閉じる方向に作用する。 The gas introduction mechanism 96 is provided in the tank suction passage 92 upstream of the tank circulation pump 94. The gas introduction mechanism 96 includes a water inlet pipe 98, a water outlet pipe 100, a Venturi tube 102, a gas introduction passage 104, and a gas introduction valve 106. Water flows into the water inlet pipe 98 from the upstream side of the tank suction passage 92. The water outlet pipe 100 causes water to flow out to the downstream side of the tank suction passage 92. The Venturi tube 102 connects the water inlet pipe 98 and the water outlet pipe 100. The diameter of the Venturi tube 102 is smaller than the diameters of the water inlet pipe 98 and the water outlet pipe 100. The water flowing through the gas introduction mechanism 96 is reduced to a pressure lower than atmospheric pressure when it flows from the water inlet pipe 98 to the Venturi tube 102, and is increased to the original pressure when it flows from the Venturi tube 102 to the water outlet pipe 100. The upstream end of the gas introduction passage 104 (hereinafter, also referred to as a gas introduction port 104a) is open to the atmosphere, and the downstream end is connected to the Venturi tube 102. The gas introduction valve 106 is provided in the gas introduction passage 104 and opens and closes the gas introduction passage 104. The gas introduction valve 106 includes a valve body (not shown), a valve seat (not shown), a spring (not shown) that biases the valve body in a direction to seat on the valve seat, and a solenoid (not shown) that moves the valve body in a direction to move away from the valve seat. When the valve body is seated on the valve seat by the biasing force of the spring, the gas introduction valve 106 is closed. When the valve body is moved away from the valve seat by the drive of the solenoid, the gas introduction valve 106 is opened. When water flows through the gas introduction mechanism 96, if the gas introduction valve 106 is open, air is drawn into the gas introduction passage 104 from the gas introduction port 104a, and the air is mixed with the water flowing through the Venturi tube 102. The air introduced through the gas introduction passage 104 is mixed with the water flowing through the tank suction passage 92 and flows into the tank 52 through the tank connection passage 76. The gas introduction valve 106 is normally closed, and is opened when the solenoid is driven by the control device 150 described below. The negative pressure of the water in the Venturi tube 102 acts on the gas introduction valve 106 in a direction to close the gas introduction valve 106.

仮に、上記のような気体導入機構96をタンク復路74に設けた場合でも、タンク復路74からタンク52へ水が供給される際に気体導入機構96で空気を導入することができる。しかしながら、このような構成とした場合、タンク復路74の圧力損失が大きくなってしまい、第1加圧ポンプ88と第2加圧ポンプ90によってタンク52へ送られる水の圧力が低下してしまう。また、このような構成とした場合、気体導入機構96において導入される空気量を増加させると、タンク52へ送られる水の圧力が低減してしまい、タンク52へ送られる水の圧力を増加させると、気体導入機構96において導入される空気量が低減してしまう。これに対して、本実施例では、タンク復路74とは別個に設けられたタンク吸引路92に気体導入機構96が設けられているので、タンク復路74の圧力損失を小さくすることができる。また、タンク復路74からタンク52へ高い圧力で水を送りつつ、気体導入機構96で多くの量の空気を導入することができる。 Even if the gas introduction mechanism 96 as described above is provided in the tank return line 74, air can be introduced by the gas introduction mechanism 96 when water is supplied from the tank return line 74 to the tank 52. However, with such a configuration, the pressure loss of the tank return line 74 increases, and the pressure of the water sent to the tank 52 by the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 decreases. Also, with such a configuration, if the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96 is increased, the pressure of the water sent to the tank 52 decreases, and if the pressure of the water sent to the tank 52 is increased, the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96 decreases. In contrast, in this embodiment, the gas introduction mechanism 96 is provided in the tank suction path 92 provided separately from the tank return line 74, so that the pressure loss of the tank return line 74 can be reduced. Also, a large amount of air can be introduced by the gas introduction mechanism 96 while sending water from the tank return line 74 to the tank 52 at high pressure.

(浴槽アダプタ132の構成)
続いて、図2(a)、(b)を参照して、浴槽130の壁部130aに設けられた浴槽アダプタ132について説明する。図2(a)は、第1浴槽水路62から浴槽130に向けて水が流れ、浴槽130から第2浴槽水路70に向けて水が流れる状態(例えば、図7の状態)である場合の浴槽アダプタ132での水の流れを示している。図2(b)は、浴槽130から第1浴槽水路62に向けて水が流れ、第2浴槽水路70から浴槽130に向けて水が流れる状態(例えば、図5の状態)である場合の浴槽アダプタ132での水の流れを示している。
(Configuration of bathtub adaptor 132)
Next, the bathtub adapter 132 provided on the wall 130a of the bathtub 130 will be described with reference to Figures 2(a) and (b). Figure 2(a) shows the flow of water in the bathtub adapter 132 when water flows from the first bathtub water channel 62 toward the bathtub 130 and from the bathtub 130 toward the second bathtub water channel 70 (for example, the state of Figure 7). Figure 2(b) shows the flow of water in the bathtub adapter 132 when water flows from the bathtub 130 toward the first bathtub water channel 62 and from the second bathtub water channel 70 toward the bathtub 130 (for example, the state of Figure 5).

浴槽アダプタ132は、第1水路136と、第2水路138と、を備える。第1水路136は、第1浴槽水路62と連通しており、第2水路138は、第2浴槽水路70と連通している。第1水路136は、第1吐出路136aと、第1吸込路136bと、に分岐している。第1吐出路136aは、浴槽アダプタ132の前面132aに設けられた第1吐出口134aと連通している。第1吐出口134aから浴槽130に吐出される水は、浴槽130の壁部130aの前方、即ち、浴槽130の壁部130aに垂直な方向に吐出される。第1吐出路136aには、浴槽130から第1浴槽水路62に向かう水の流れを防止する逆止部140aと、逆止部140aよりも上流側(第1浴槽水路62側)に配置された微細気泡発生ノズル142と、が設けられている。微細気泡発生ノズル142は、微細気泡発生ノズル142を通過する水を減圧させる。第1吸込路136bは、浴槽アダプタ132の前面132aに設けられた第1吸込口134bと連通している。第1吸込路136bには、第1浴槽水路62から浴槽130に向かう水の流れを防止する逆止部140bが設けられている。 The bathtub adapter 132 has a first water passage 136 and a second water passage 138. The first water passage 136 is connected to the first bathtub water passage 62, and the second water passage 138 is connected to the second bathtub water passage 70. The first water passage 136 branches into a first discharge passage 136a and a first suction passage 136b. The first discharge passage 136a is connected to a first discharge port 134a provided on the front surface 132a of the bathtub adapter 132. The water discharged from the first discharge port 134a into the bathtub 130 is discharged in front of the wall portion 130a of the bathtub 130, that is, in a direction perpendicular to the wall portion 130a of the bathtub 130. The first discharge passage 136a is provided with a backflow prevention portion 140a that prevents water from flowing from the bathtub 130 toward the first bathtub water passage 62, and a fine bubble generating nozzle 142 that is arranged upstream of the backflow prevention portion 140a (on the first bathtub water passage 62 side). The fine bubble generating nozzle 142 reduces the pressure of the water passing through the fine bubble generating nozzle 142. The first suction passage 136b is connected to a first suction port 134b provided on the front surface 132a of the bathtub adapter 132. The first suction passage 136b is provided with a backflow prevention portion 140b that prevents water from flowing from the first bathtub water passage 62 toward the bathtub 130.

第2水路138は、第2吐出路138aと、第2吸込路138bと、に分岐している。第2吸込路138bは、浴槽アダプタ132の前面132aに設けられた第2吸込口134cと連通している。第2吸込路138bには、第2浴槽水路70から浴槽130に向かう水の流れを防止する逆止部140cが設けられている。第2吐出路138aは、浴槽アダプタ132の下面132bに設けられた第2吐出口134dと連通している。第2吐出口134dから吐出される水は、下方、即ち、浴槽130の壁部130aに平行な方向に吐出される。第2吐出路138aには、浴槽130から第2浴槽水路70に向かう水の流れを防止する逆止部140dが設けられている。 The second water passage 138 branches into a second discharge passage 138a and a second suction passage 138b. The second suction passage 138b is connected to a second suction port 134c provided on the front surface 132a of the bathtub adapter 132. The second suction passage 138b is provided with a check valve 140c that prevents water from flowing from the second bathtub water passage 70 toward the bathtub 130. The second discharge passage 138a is connected to a second discharge port 134d provided on the lower surface 132b of the bathtub adapter 132. The water discharged from the second discharge port 134d is discharged downward, that is, in a direction parallel to the wall portion 130a of the bathtub 130. The second discharge passage 138a is provided with a check valve 140d that prevents water from flowing from the bathtub 130 toward the second bathtub water passage 70.

(制御装置150の構成)
図1に示す制御装置150は、熱源ユニット10、空気加圧溶解ユニット50の各構成要素の動作を制御する。制御装置150は、ユーザによって操作可能なリモコン154と通信可能に構成されている。制御装置150は、メモリ152を備えており、ユーザが入力した湯はり運転における設定温度や設定水量、追い焚き運転における設定温度等の各種の設定を記憶可能である。ユーザは、リモコン154を介して、後述する湯はり運転や微細気泡発生運転、追い焚き運転の開始や終了を指示することができる。
(Configuration of the control device 150)
The control device 150 shown in Fig. 1 controls the operation of each component of the heat source unit 10 and the air pressurized dissolution unit 50. The control device 150 is configured to be able to communicate with a remote control 154 that can be operated by a user. The control device 150 includes a memory 152, and is capable of storing various settings input by the user, such as the set temperature and set water volume for the water filling operation, and the set temperature for the reheating operation. The user can use the remote control 154 to instruct the start and end of the water filling operation, the fine bubble generation operation, and the reheating operation, which will be described later.

(湯はり運転)
湯はり運転は、ユーザがリモコン154において湯はり運転の開始を指示した場合に開始する。あるいは、湯はり運転は、ユーザがリモコン154において湯はり運転の開始時刻を設定しておき、制御装置150が湯はり運転の開始時刻が到来したと判断した場合に開始してもよい。制御装置150は、湯はり運転を開始する際に、第1三方弁80、第2三方弁82を、それぞれ、第3連通状態、第5連通状態とする(図4、図5参照)。この状態から、制御装置150は、図3に示す処理を実行する。
(Bath filling operation)
The water filling operation starts when the user issues a command to start the water filling operation on the remote control 154. Alternatively, the water filling operation may start when the user sets the start time of the water filling operation on the remote control 154 and the control device 150 determines that the start time of the water filling operation has arrived. When starting the water filling operation, the control device 150 sets the first three-way valve 80 and the second three-way valve 82 to the third communication state and the fifth communication state, respectively (see Figures 4 and 5). From this state, the control device 150 executes the process shown in Figure 3.

S2では、制御装置150は、空気抜き処理を実行する。具体的には、制御装置150は、湯はり弁26を開くとともに、第1熱源機12による水の加熱を開始する。これによって、図4に示すように、設定温度に調温された水が、出湯路18から注湯路24を介して循環復路32に流れ込む。循環復路32に流れ込んだ水は、上流側(すなわち熱源復路60)に向かう流れと、下流側(すなわち第2熱源機14)に向かう流れに分岐する。循環復路32から熱源復路60に流れる水は、連通路66、第1三方弁80、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に流れ込む。また、循環復路32から第2熱源機14に流れる水は、循環往路30、熱源往路68、第2三方弁82、第2浴槽水路70、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に流れ込む。これによって、第1浴槽水路62と第2浴槽水路70の内部が水で満たされて、第1浴槽水路62や第2浴槽水路70の内部に残留している空気が浴槽130へ排出される。制御装置150は、水量センサ28で検出される積算水量が所定値(例えば6L)に達すると、湯はり弁26を閉じるとともに、第1熱源機12による加熱を終了して、空気抜き処理を終了する。 In S2, the control device 150 executes the air removal process. Specifically, the control device 150 opens the water filling valve 26 and starts heating the water by the first heat source unit 12. As a result, as shown in FIG. 4, water adjusted to the set temperature flows from the hot water outlet path 18 through the hot water inlet path 24 into the circulation return path 32. The water that flows into the circulation return path 32 branches into a flow toward the upstream side (i.e., the heat source return path 60) and a flow toward the downstream side (i.e., the second heat source unit 14). The water flowing from the circulation return path 32 to the heat source return path 60 flows into the bathtub 130 via the communication passage 66, the first three-way valve 80, the first bathtub water passage 62, and the bathtub adapter 132. In addition, the water flowing from the circulation return line 32 to the second heat source unit 14 flows into the bathtub 130 via the circulation return line 30, the heat source return line 68, the second three-way valve 82, the second bathtub water channel 70, and the bathtub adapter 132. This causes the first bathtub water channel 62 and the second bathtub water channel 70 to fill with water, and the air remaining in the first bathtub water channel 62 and the second bathtub water channel 70 is discharged into the bathtub 130. When the accumulated water volume detected by the water volume sensor 28 reaches a predetermined value (for example, 6 L), the control device 150 closes the water filling valve 26, stops heating by the first heat source unit 12, and ends the air removal process.

S4では、制御装置150は、浴槽130の残水検知処理を実行する。具体的には、図5に示すように、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を駆動して、水流スイッチ36が水流を検知するか否かに基づいて、浴槽130に残水があるか否かを判断する。浴槽130に残水がなく、浴槽アダプタ132が水に浸かっていない場合には、浴槽循環ポンプ34を駆動しても、水流スイッチ36が水流を検知しない。これとは異なり、浴槽130に残水があり、浴槽アダプタ132が水に浸かっている場合には、浴槽循環ポンプ34を駆動すると、水流スイッチ36が水流を検知する。S4で浴槽130に残水がある場合(YESの場合)、処理はS6へ進む。S4で浴槽130に残水がない場合(NOの場合)、処理はS10へ進む。 In S4, the control device 150 executes a process to detect remaining water in the bathtub 130. Specifically, as shown in FIG. 5, the control device 150 drives the bathtub circulation pump 34 and determines whether there is remaining water in the bathtub 130 based on whether the water flow switch 36 detects a water flow. If there is no remaining water in the bathtub 130 and the bathtub adapter 132 is not submerged in water, the water flow switch 36 will not detect a water flow even if the bathtub circulation pump 34 is driven. In contrast, if there is remaining water in the bathtub 130 and the bathtub adapter 132 is submerged in water, the water flow switch 36 will detect a water flow when the bathtub circulation pump 34 is driven. If there is remaining water in the bathtub 130 in S4 (YES), the process proceeds to S6. If there is no remaining water in the bathtub 130 in S4 (NO), the process proceeds to S10.

S6では、制御装置150は、浴槽130の残水量の判定処理を行う。具体的には、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を駆動して、循環復路サーミスタ32aで検出される温度を、加熱前温度として記憶する。その後、制御装置150は、第2熱源機14による水の加熱を開始する。これによって、図5に示すように、浴槽130の残水が、浴槽アダプタ132、第1浴槽水路62、第1三方弁80、連通路66、熱源復路60、循環復路32を経由して第2熱源機14に送られる。第2熱源機14で加熱された残水は、循環往路30、熱源往路68、第2三方弁82、第2浴槽水路70、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に戻される。循環復路サーミスタ32aで検出される温度が設定温度以上となると、制御装置150は、循環復路サーミスタ32aで検出される温度を加熱後温度として記憶した後、浴槽循環ポンプ34を停止するとともに、第2熱源機14による水の加熱を終了する。そして、制御装置150は、加熱後温度から加熱前温度を減算した昇温幅と、S6での第2熱源機14における積算加熱量から、浴槽130の残水量を算出する。 In S6, the control device 150 performs a process to determine the amount of water remaining in the bathtub 130. Specifically, the control device 150 drives the bathtub circulation pump 34 and stores the temperature detected by the circulation return thermistor 32a as the pre-heating temperature. The control device 150 then starts heating the water using the second heat source unit 14. As a result, as shown in FIG. 5, the remaining water in the bathtub 130 is sent to the second heat source unit 14 via the bathtub adapter 132, the first bathtub water passage 62, the first three-way valve 80, the communication passage 66, the heat source return passage 60, and the circulation return passage 32. The remaining water heated by the second heat source unit 14 is returned to the bathtub 130 via the circulation outward passage 30, the heat source outward passage 68, the second three-way valve 82, the second bathtub water passage 70, and the bathtub adapter 132. When the temperature detected by the circulation return thermistor 32a becomes equal to or higher than the set temperature, the control device 150 stores the temperature detected by the circulation return thermistor 32a as the post-heating temperature, stops the bathtub circulation pump 34, and ends the heating of the water by the second heat source unit 14. The control device 150 then calculates the amount of remaining water in the bathtub 130 from the temperature rise obtained by subtracting the pre-heating temperature from the post-heating temperature and the accumulated amount of heat in the second heat source unit 14 in S6.

S8では、制御装置150は、湯はり運転における設定水量から、S6で判定された浴槽130の残水量を減算して、湯はり運転における設定水量を更新する。 In S8, the control device 150 subtracts the remaining water volume in the bathtub 130 determined in S6 from the set water volume for the water filling operation to update the set water volume for the water filling operation.

S10では、制御装置150は、湯はり弁26を開くとともに、第1熱源機12による加熱を開始する。これによって、図4に示すように、設定温度に調温された水が、出湯路18から注湯路24を介して循環復路32に流れ込む。循環復路32に流れ込んだ水は、上流側(すなわち熱源復路60)に向かう流れと下流側(すなわち第2熱源機14)に向かう流れに分岐する。循環復路32から熱源復路60に流れる水は、連通路66、第1三方弁80、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に流れ込む。循環復路32から第2熱源機14に流れる水は、循環往路30、熱源往路68、第2三方弁82、第2浴槽水路70、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に流れ込む。 In S10, the control device 150 opens the water filling valve 26 and starts heating by the first heat source unit 12. As a result, as shown in FIG. 4, water adjusted to the set temperature flows from the water outlet line 18 through the water inlet line 24 into the circulation return line 32. The water that flows into the circulation return line 32 branches into a flow toward the upstream side (i.e., the heat source return line 60) and a flow toward the downstream side (i.e., the second heat source unit 14). The water flowing from the circulation return line 32 to the heat source return line 60 flows into the bathtub 130 via the communication passage 66, the first three-way valve 80, the first bathtub water passage 62, and the bathtub adapter 132. The water flowing from the circulation return line 32 to the second heat source unit 14 flows into the bathtub 130 via the circulation outward line 30, the heat source outward line 68, the second three-way valve 82, the second bathtub water passage 70, and the bathtub adapter 132.

S12では、制御装置150は、水量センサ28が検出する積算水量が、湯はり運転における設定水量に達するまで待機する。なお、ここでいう積算水量は、S2の空気抜き処理で水量センサ28が検出した積算水量と、S10で浴槽130への湯はりを開始してからの積算水量を合算したものである。積算水量が設定水量に達すると(YESになると)、処理はS14へ進む。 In S12, the control device 150 waits until the accumulated water volume detected by the water volume sensor 28 reaches the set water volume for the water filling operation. The accumulated water volume here is the sum of the accumulated water volume detected by the water volume sensor 28 during the air removal process in S2 and the accumulated water volume since the water filling of the bathtub 130 began in S10. When the accumulated water volume reaches the set water volume (YES), processing proceeds to S14.

S14では、制御装置150は、湯はり弁26を閉じるとともに、第1熱源機12による水の加熱を終了する。 In S14, the control device 150 closes the water filling valve 26 and terminates the heating of water by the first heat source unit 12.

S16では、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を駆動して、循環復路サーミスタ32aで検出される温度を、浴槽水温度として取得する。そして、制御装置150は、浴槽水温度が設定温度以上であるか否かを判断する。浴槽水温度が設定温度に満たない場合(NOの場合)、処理はS18へ進む。浴槽水温度が設定温度以上の場合(YESの場合)、処理はS20へ進む。 In S16, the control device 150 drives the bathtub circulation pump 34 and obtains the temperature detected by the circulation return thermistor 32a as the bathtub water temperature. The control device 150 then determines whether the bathtub water temperature is equal to or higher than the set temperature. If the bathtub water temperature is less than the set temperature (NO), processing proceeds to S18. If the bathtub water temperature is equal to or higher than the set temperature (YES), processing proceeds to S20.

S18では、制御装置150は、浴槽130の水の追い焚き処理を行う。具体的には、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を駆動するとともに、第2熱源機14による水の加熱を開始する。これによって、図5に示すように、浴槽130の水が、浴槽アダプタ132、第1浴槽水路62、第1三方弁80、連通路66、熱源復路60、循環復路32を経由して第2熱源機14に送られる。第2熱源機14で加熱された水は、循環往路30、熱源往路68、第2三方弁82、第2浴槽水路70、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に戻される。循環復路サーミスタ32aで検出される温度が設定温度以上となると、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を停止するとともに、第2熱源機14による水の加熱を終了する。 In S18, the control device 150 performs a reheating process for the water in the bathtub 130. Specifically, the control device 150 drives the bathtub circulation pump 34 and starts heating the water with the second heat source unit 14. As a result, as shown in FIG. 5, the water in the bathtub 130 is sent to the second heat source unit 14 via the bathtub adapter 132, the first bathtub water passage 62, the first three-way valve 80, the communication passage 66, the heat source return path 60, and the circulation return path 32. The water heated by the second heat source unit 14 is returned to the bathtub 130 via the circulation outward path 30, the heat source outward path 68, the second three-way valve 82, the second bathtub water passage 70, and the bathtub adapter 132. When the temperature detected by the circulation return thermistor 32a becomes equal to or higher than the set temperature, the control device 150 stops the bathtub circulation pump 34 and ends the heating of the water by the second heat source unit 14.

S20では、制御装置150は、湯はり運転が完了した事を、リモコン154を介してユーザに報知する。S20の後、図3の処理は終了する。 In S20, the control device 150 notifies the user via the remote control 154 that the water filling operation has been completed. After S20, the processing in FIG. 3 ends.

(微細気泡発生運転)
微細気泡発生運転は、ユーザがリモコン154において微細気泡発生運転の開始を指示した場合に開始する。また、本実施例の温水装置2では、上記した湯はり運転が完了した後に、自動的に微細気泡発生運転も開始する。すなわち、湯はり運転の実行に連動して微細気泡発生運転が実行される。制御装置150は、微細気泡発生運転を開始する際に、第1三方弁80、第2三方弁82を、それぞれ、第3連通状態、第5連通状態とする(図4、図5参照)。この状態から、制御装置150は、図6に示す処理を実行する。
(Fine bubble generation operation)
The fine bubble generating operation is started when the user instructs the start of the fine bubble generating operation on the remote control 154. In addition, in the hot water device 2 of this embodiment, the fine bubble generating operation is also started automatically after the above-mentioned water filling operation is completed. In other words, the fine bubble generating operation is executed in conjunction with the execution of the water filling operation. When starting the fine bubble generating operation, the control device 150 sets the first three-way valve 80 and the second three-way valve 82 to the third communication state and the fifth communication state, respectively (see Figures 4 and 5). From this state, the control device 150 executes the process shown in Figure 6.

S32では、制御装置150は、冷水緩和処理を実行する。具体的には、制御装置150は、循環往路サーミスタ30aや循環復路サーミスタ32aで検出される温度が所定温度以下である場合に、浴槽循環ポンプ34を駆動するとともに、第2熱源機14による水の加熱を開始する。この冷水緩和処理によって、循環往路30や循環復路32の内部に低温の水が残留している場合に、図5に示すように、その低温の水は熱源往路68、第2三方弁82、第2浴槽水路70を経由して浴槽アダプタ132に流入し、浴槽アダプタ132の下面132bの第2吐出口134dから浴槽130に排出される。このため、仮にユーザが浴槽130で入浴している場合であっても、低温の水が直接ユーザの身体に向けて吐出されることを抑制することができる。冷水緩和処理の開始から所定時間が経過すると、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を停止するとともに、第2熱源機14による水の加熱を終了して、冷水緩和処理を終了する。 In S32, the control device 150 executes a cold water reduction process. Specifically, when the temperature detected by the circulation forward thermistor 30a or the circulation return thermistor 32a is equal to or lower than a predetermined temperature, the control device 150 drives the bathtub circulation pump 34 and starts heating the water by the second heat source unit 14. When low-temperature water remains inside the circulation forward path 30 or the circulation return path 32 due to this cold water reduction process, as shown in FIG. 5, the low-temperature water flows into the bathtub adapter 132 via the heat source forward path 68, the second three-way valve 82, and the second bathtub water passage 70, and is discharged into the bathtub 130 from the second outlet 134d on the underside 132b of the bathtub adapter 132. Therefore, even if the user is bathing in the bathtub 130, it is possible to prevent low-temperature water from being discharged directly toward the user's body. When a predetermined time has elapsed since the start of the cold water mitigation process, the control device 150 stops the bathtub circulation pump 34 and ends the heating of water by the second heat source unit 14, thereby ending the cold water mitigation process.

S34では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94を駆動する。これによって、タンク52と、タンク吸引路92およびタンク接続路76の間での水の循環が開始する。なお、S34でタンク循環ポンプ94を駆動する際には、制御装置150は、タンク循環ポンプ94の回転数が所定の第2回転数となるように、タンク循環ポンプ94を制御する。第2回転数は、後述する第1回転数よりも低い回転数であり、例えば第1回転数の80%の回転数である。 In S34, the control device 150 drives the tank circulation pump 94. This starts the circulation of water between the tank 52 and the tank suction passage 92 and tank connection passage 76. When driving the tank circulation pump 94 in S34, the control device 150 controls the tank circulation pump 94 so that the rotation speed of the tank circulation pump 94 becomes a predetermined second rotation speed. The second rotation speed is a rotation speed lower than the first rotation speed described below, and is, for example, 80% of the first rotation speed.

S36では、制御装置150は、気体導入弁106を開く。これによって、タンク吸引路92の気体導入機構96を流れる水に、空気が導入される。 In S36, the control device 150 opens the gas introduction valve 106. This introduces air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank suction passage 92.

S38では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94の回転数が所定の第1回転数となるように、タンク循環ポンプ94を制御する。 In S38, the control device 150 controls the tank circulation pump 94 so that the rotation speed of the tank circulation pump 94 becomes a predetermined first rotation speed.

S40では、制御装置150は、タンク52から浴槽130への空気溶解水の供給を開始する。具体的には、図7に示すように、制御装置150は、第1三方弁80を第1連通状態とし、第2三方弁82を第4連通状態とした上で、浴槽循環ポンプ34と、第1加圧ポンプ88と、第2加圧ポンプ90を駆動する。これによって、浴槽130の水が、浴槽アダプタ132、第2浴槽水路70、第2三方弁82、連通路66、熱源復路60、循環復路32、第2熱源機14、循環往路30、熱源往路68、タンク復路74、タンク接続路76を経由して、タンク52に供給される。この際に、タンク52には、第1加圧ポンプ88と第2加圧ポンプ90によって加圧された水が供給される。これによって、タンク52の内部において、水に空気が加圧溶解される。そして、空気が加圧溶解された水は、タンク52から、タンク往路64、第1三方弁80、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に供給される。この際に、空気が加圧溶解された水は、浴槽アダプタ132の第1吐出路136aの微細気泡発生ノズル142を通過する際に、大気圧以下まで減圧され、浴槽130に噴出される際に、大気圧まで増圧されて、浴槽130の水に微細気泡が発生する。 In S40, the control device 150 starts supplying water containing dissolved air from the tank 52 to the bathtub 130. Specifically, as shown in FIG. 7, the control device 150 sets the first three-way valve 80 to the first communication state, sets the second three-way valve 82 to the fourth communication state, and drives the bathtub circulation pump 34, the first pressurizing pump 88, and the second pressurizing pump 90. As a result, water from the bathtub 130 is supplied to the tank 52 via the bathtub adapter 132, the second bathtub water passage 70, the second three-way valve 82, the communication passage 66, the heat source return path 60, the circulation return path 32, the second heat source unit 14, the circulation outward path 30, the heat source outward path 68, the tank return path 74, and the tank connection path 76. At this time, water pressurized by the first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 is supplied to the tank 52. As a result, air is pressurized and dissolved in the water inside the tank 52. The water with the air dissolved under pressure is then supplied to the bathtub 130 from the tank 52 via the tank outflow path 64, the first three-way valve 80, the first bathtub water path 62, and the bathtub adapter 132. At this time, the water with the air dissolved under pressure is depressurized to below atmospheric pressure as it passes through the fine bubble generating nozzle 142 of the first discharge path 136a of the bathtub adapter 132, and is pressurized to atmospheric pressure as it is sprayed into the bathtub 130, generating fine bubbles in the water in the bathtub 130.

S42では、制御装置150は、低水位電極52aからの検出信号に基づいて、タンク52の水位が下限水位を下回るか否かを判断する。本実施例では、気体導入機構96において、気体導入弁106を開いている時に導入される空気量は、浴槽130の水において発生する微細気泡の空気量よりも多い。このため、気体導入弁106を開いた状態では、タンク52内の空気量が増大していき、タンク52の水位は下降していく。タンク52の水位が下限水位を下回る場合(YESの場合)、処理はS44へ進む。タンク52の水位が下限水位以上の場合(NOの場合)、処理はS48へ進む。 In S42, the control device 150 determines whether the water level of the tank 52 falls below the lower limit water level based on the detection signal from the low water level electrode 52a. In this embodiment, the amount of air introduced into the gas introduction mechanism 96 when the gas introduction valve 106 is open is greater than the amount of air in the fine bubbles generated in the water of the bathtub 130. Therefore, when the gas introduction valve 106 is open, the amount of air in the tank 52 increases and the water level of the tank 52 falls. If the water level of the tank 52 falls below the lower limit water level (YES), processing proceeds to S44. If the water level of the tank 52 is equal to or greater than the lower limit water level (NO), processing proceeds to S48.

S44では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94の回転数が第2回転数となるように、タンク循環ポンプ94を制御する。 In S44, the control device 150 controls the tank circulation pump 94 so that the rotation speed of the tank circulation pump 94 becomes the second rotation speed.

S46では、制御装置150は、気体導入弁106を閉じる。これによって、タンク吸引路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が停止される。なお、本実施例では、気体導入弁106を閉じている間も、タンク循環ポンプ94の駆動はそのまま継続する。これによって、タンク52内での水の流動が促進されて、タンク52における水への空気の加圧溶解が促進される。 In S46, the control device 150 closes the gas introduction valve 106. This stops the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank suction passage 92. Note that in this embodiment, the tank circulation pump 94 continues to operate even while the gas introduction valve 106 is closed. This promotes the flow of water within the tank 52, and promotes the pressurized dissolution of air into the water in the tank 52.

S48では、制御装置150は、高水位電極52bからの検出信号に基づいて、タンク52の水位が上限水位以上であるか否かを判断する。気体導入弁106を閉じた状態では、タンク52に空気が供給されないので、タンク52内の空気量が減少していき、タンク52の水位は上昇していく。タンク52の水位が上限水位以上の場合(YESの場合)、処理はS50へ進む。タンク52の水位が上限水位を下回る場合(NOの場合)、処理はS54へ進む。 In S48, the control device 150 determines whether the water level of the tank 52 is equal to or higher than the upper water level based on the detection signal from the high water level electrode 52b. When the gas introduction valve 106 is closed, no air is supplied to the tank 52, so the amount of air in the tank 52 decreases and the water level of the tank 52 rises. If the water level of the tank 52 is equal to or higher than the upper water level (YES), processing proceeds to S50. If the water level of the tank 52 is below the upper water level (NO), processing proceeds to S54.

S50では、制御装置150は、気体導入弁106を開く。これによって、タンク吸引路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が再開される。 In S50, the control device 150 opens the gas introduction valve 106. This resumes the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank suction passage 92.

S52では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94の回転数が第1回転数となるように、タンク循環ポンプ94を制御する。 In S52, the control device 150 controls the tank circulation pump 94 so that the rotation speed of the tank circulation pump 94 becomes the first rotation speed.

S54では、制御装置150は、微細気泡発生運転の運転時間が、設定時間に達したか否かを判断する。ここで、微細気泡発生運転の運転時間は、微細気泡発生運転を開始してからの経過時間である。本実施例の温水装置2では、湯はり運転の実行と連動せずに、微細気泡発生運転が単独で実行される場合、設定時間は例えば10分間に設定されている。これとは異なり、湯はり運転の実行と連動して微細気泡発生運転が実行される場合、設定時間は例えば30分間に設定されている。運転時間が設定時間に達していない場合(NOの場合)、処理はS42に戻る。運転時間が設定時間に達すると(YESとなると)、処理はS56へ進む。 In S54, the control device 150 determines whether the operation time of the fine bubble generating operation has reached the set time. Here, the operation time of the fine bubble generating operation is the elapsed time since the start of the fine bubble generating operation. In the hot water device 2 of this embodiment, when the fine bubble generating operation is performed independently without being linked to the execution of the water filling operation, the set time is set to, for example, 10 minutes. In contrast, when the fine bubble generating operation is performed in conjunction with the execution of the water filling operation, the set time is set to, for example, 30 minutes. If the operation time has not reached the set time (NO), the process returns to S42. When the operation time has reached the set time (YES), the process proceeds to S56.

S56では、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34と、第1加圧ポンプ88と、第2加圧ポンプ90を停止して、タンク52から浴槽130への空気溶解水の供給を終了する。 In S56, the control device 150 stops the bathtub circulation pump 34, the first pressure pump 88, and the second pressure pump 90, and ends the supply of air-dissolved water from the tank 52 to the bathtub 130.

S58では、制御装置150は、気体導入弁106が開かれている場合には、気体導入弁106を閉じる。これによって、タンク吸引路92の気体導入機構96を流れる水への、空気の導入が終了する。 In S58, the control device 150 closes the gas introduction valve 106 if the gas introduction valve 106 is open. This ends the introduction of air into the water flowing through the gas introduction mechanism 96 of the tank suction passage 92.

S60では、制御装置150は、タンク洗浄処理を実行する。具体的には、制御装置150は、湯はり弁26を開くとともに、第1熱源機12による水の加熱を開始する。これによって、図8に示すように、設定温度に調温された水が、出湯路18から注湯路24を介して循環復路32に流れ込む。循環復路32に流れ込んだ水は、上流側(すなわち熱源復路60)に向かう流れと、下流側(すなわち第2熱源機14)に向かう流れに分岐する。循環復路32から熱源復路60に流れる水は、連通路66、第2三方弁82、第2浴槽水路70、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に流れ込む。また、循環復路32から第2熱源機14に流れる水は、循環往路30、熱源往路68、タンク復路74、タンク接続路76、タンク52、タンク往路64、第1三方弁80、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に流れ込む。これによって、タンク52の内部と、タンク吸引路92、タンク接続路76が洗浄される。 In S60, the control device 150 executes the tank cleaning process. Specifically, the control device 150 opens the water filling valve 26 and starts heating the water by the first heat source unit 12. As a result, as shown in FIG. 8, water adjusted to the set temperature flows from the hot water outlet path 18 through the hot water inlet path 24 into the circulation return path 32. The water that flows into the circulation return path 32 branches into a flow toward the upstream side (i.e., the heat source return path 60) and a flow toward the downstream side (i.e., the second heat source unit 14). The water flowing from the circulation return path 32 to the heat source return path 60 flows into the bathtub 130 via the communication passage 66, the second three-way valve 82, the second bathtub water passage 70, and the bathtub adapter 132. In addition, the water flowing from the circulation return path 32 to the second heat source unit 14 flows into the bathtub 130 via the circulation forward path 30, the heat source forward path 68, the tank return path 74, the tank connection path 76, the tank 52, the tank forward path 64, the first three-way valve 80, the first bathtub water path 62, and the bathtub adapter 132. This cleans the inside of the tank 52, the tank suction path 92, and the tank connection path 76.

S62では、制御装置150は、タンク循環ポンプ94を停止する。これによって、タンク52と、タンク吸引路92およびタンク接続路76の間での水の循環が終了する。S62の後、図6の処理は終了する。 In S62, the control device 150 stops the tank circulation pump 94. This ends the circulation of water between the tank 52 and the tank suction passage 92 and tank connection passage 76. After S62, the processing in FIG. 6 ends.

(追い焚き運転)
追い焚き運転は、ユーザがリモコン154において追い焚き運転の開始を指示した場合に開始する。制御装置150は、追い焚き運転を開始する際に、第1三方弁80を第3連通状態とし、かつ、第2三方弁82を第5連通状態とする(図4、図5参照)。この状態から、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を駆動するとともに、第2熱源機14による水の加熱を開始する。これによって、図5に示すように、浴槽130の水が、浴槽アダプタ132、第1浴槽水路62、第1三方弁80、連通路66、熱源復路60、循環復路32を経由して第2熱源機14に送られる。第2熱源機14で加熱された水は、循環往路30、熱源往路68、第2三方弁82、第2浴槽水路70、浴槽アダプタ132を経由して、浴槽130に戻される。循環復路サーミスタ32aで検出される温度が設定温度以上となると、制御装置150は、浴槽循環ポンプ34を停止するとともに、第2熱源機14による水の加熱を終了する。その後、制御装置150は、追い焚き運転が完了した事を、リモコン154を介してユーザに報知して、追い焚き運転を終了する。
(Reheating operation)
The reheating operation starts when the user instructs the start of the reheating operation on the remote control 154. When starting the reheating operation, the control device 150 sets the first three-way valve 80 to the third communication state and the second three-way valve 82 to the fifth communication state (see Figs. 4 and 5). From this state, the control device 150 drives the bathtub circulation pump 34 and starts heating water by the second heat source unit 14. As a result, as shown in Fig. 5, the water in the bathtub 130 is sent to the second heat source unit 14 via the bathtub adapter 132, the first bathtub water passage 62, the first three-way valve 80, the communication passage 66, the heat source return path 60, and the circulation return path 32. The water heated by the second heat source unit 14 is returned to the bathtub 130 via the circulation outward path 30, the heat source outward path 68, the second three-way valve 82, the second bathtub water passage 70, and the bathtub adapter 132. When the temperature detected by the circulation return thermistor 32a reaches or exceeds the set temperature, the control device 150 stops the bathtub circulation pump 34 and ends the heating of water by the second heat source unit 14. The control device 150 then notifies the user via the remote control 154 that the reheating operation has been completed, and ends the reheating operation.

(変形例)
上記の温水装置2において、微細気泡発生運転を実行する際に、制御装置150が、図6に示す処理を実行する代わりに、図9に示す処理を実行してもよい。以下では、図9に示す処理について、図6に示す処理と相違する点について説明する。
(Modification)
In the above-described hot water device 2, when the fine bubble generating operation is performed, the control device 150 may execute the process shown in Fig. 9 instead of executing the process shown in Fig. 6. The following describes the process shown in Fig. 9 in terms of differences from the process shown in Fig. 6.

図9に示す処理では、S40の後、およびS54でNOの場合に、処理はS64へ進む。S64では、制御装置150は、S36またはS50で気体導入弁106を開いてからの経過時間が、第1所定時間に達するまで待機する。第1所定時間は、気体導入弁106を開いた状態において、タンク52の水位が上限水位から下限水位まで下降するまでの想定される時間であり、S54の設定時間よりも短い時間である。気体導入弁106を開いてからの経過時間が第1所定時間に達すると(YESとなると)、処理はS44へ進む。 In the process shown in FIG. 9, after S40 and if NO in S54, the process proceeds to S64. In S64, the control device 150 waits until the time that has elapsed since the gas introduction valve 106 was opened in S36 or S50 reaches a first predetermined time. The first predetermined time is the estimated time it takes for the water level in the tank 52 to drop from the upper limit to the lower limit with the gas introduction valve 106 open, and is shorter than the time set in S54. When the time that has elapsed since the gas introduction valve 106 was opened reaches the first predetermined time (YES), the process proceeds to S44.

また、図9に示す処理では、S46の後、処理はS66へ進む。S66では、制御装置150は、S46で気体導入弁106を閉じてからの経過時間が、第2所定時間に達するまで待機する。第2所定時間は、気体導入弁106を閉じた状態において、タンク52の水位が下限水位から上限水位まで上昇するまでの想定される時間であり、S54の設定時間よりも短い時間である。気体導入弁106を閉じてからの経過時間が第2所定時間に達すると(YESとなると)、処理はS50へ進む。 In the process shown in FIG. 9, after S46, the process proceeds to S66. In S66, the control device 150 waits until the time that has elapsed since the gas introduction valve 106 was closed in S46 reaches a second predetermined time. The second predetermined time is the estimated time it takes for the water level in the tank 52 to rise from the lower limit to the upper limit with the gas introduction valve 106 closed, and is shorter than the time set in S54. When the time that has elapsed since the gas introduction valve 106 was closed reaches the second predetermined time (YES), the process proceeds to S50.

図9に示す処理によれば、低水位電極52aや高水位電極52bからの検出信号を用いることなく、気体導入弁106の開閉を切り換えることができる。 The process shown in FIG. 9 allows the gas introduction valve 106 to be switched between open and closed without using detection signals from the low water level electrode 52a and the high water level electrode 52b.

(その他の変形例)
上記の温水装置2において、湯はり運転の実行に連動して実行される微細気泡発生運転では、図6や図9のS32の冷水緩和処理を省略してもよい。
(Other Modifications)
In the above-described hot water device 2, in the fine bubble generating operation that is executed in conjunction with the execution of the hot water filling operation, the cold water reduction process of S32 in FIG. 6 or FIG. 9 may be omitted.

上記の温水装置2において、図6や図9のS60のタンク洗浄処理を省略してもよい。 In the above-mentioned hot water device 2, the tank cleaning process of S60 in FIG. 6 and FIG. 9 may be omitted.

上記の温水装置2において、図6や図9のS54の運転時間の判定処理で、運転時間が設定時間に達した場合でも、リモコン154を介してユーザによって微細気泡発生運転の終了が指示されるまでは、S56へ進むことなく、S42またはS64へ戻って微細気泡発生運転を継続するようにしてもよい。 In the hot water device 2 described above, even if the operation time reaches the set time in the operation time determination process of S54 in FIG. 6 or FIG. 9, the process may be configured to return to S42 or S64 and continue the fine bubble generating operation without proceeding to S56 until the user issues an instruction to end the fine bubble generating operation via the remote control 154.

上記の温水装置2において、湯はり運転の実行に連動して微細気泡発生運転を実行する場合には、図3のS20の湯はり終了報知を、湯はり運転の終了時には行わず、微細気泡発生運転の実行中に行ってもよい。より詳しくは、微細気泡発生運転の運転時間が浴槽130の水に十分な微細気泡を発生させ得る所定の報知時間(例えば2分)に達した後に、湯はり終了報知を行ってもよい。このような構成とすることで、ユーザが浴室に入るタイミングを遅らせることができ、浴槽130の水に微細気泡を十分に発生させる前にユーザが浴室に入ることを抑制することができる。 In the above-mentioned hot water device 2, when the fine bubble generating operation is performed in conjunction with the execution of the bath filling operation, the notification of the end of bath filling in S20 of FIG. 3 may be performed while the fine bubble generating operation is being performed, rather than at the end of the bath filling operation. More specifically, the notification of the end of bath filling may be performed after the operation time of the fine bubble generating operation reaches a predetermined notification time (e.g., 2 minutes) that allows sufficient fine bubbles to be generated in the water of the bathtub 130. With this configuration, the timing of the user's entry into the bathroom can be delayed, and the user can be prevented from entering the bathroom before sufficient fine bubbles have been generated in the water of the bathtub 130.

上記の温水装置2において、湯はり運転の実行に連動して、微細気泡発生運転を実行するか否かを、ユーザがリモコン154を介して切り替え可能としてもよい。 In the hot water device 2 described above, the user may be able to switch via the remote control 154 whether or not to execute the fine bubble generating operation in conjunction with the execution of the hot water filling operation.

上記の温水装置2では、タンク52に空気が導入されているが、空気に代えて、炭酸ガス、水素、酸素等の気体がタンク52に導入されてもよい。この場合、気体が充填されている気体充填タンク(図示せず)を気体導入路104の気体導入口104aに接続する構成とすればよい。 In the above-described hot water device 2, air is introduced into the tank 52, but instead of air, gas such as carbon dioxide, hydrogen, or oxygen may be introduced into the tank 52. In this case, a gas-filled tank (not shown) filled with gas may be connected to the gas inlet 104a of the gas introduction path 104.

上記の温水装置2では、湯はり運転において、水量センサ28で検出される積算水量に基づいて、浴槽130に設定水量の水を溜めている。これとは異なり、温水装置2は、例えば浴槽130の水位を検出可能な水位センサを設けておいて、湯はり運転において、水位センサにより検出される浴槽130の水位に基づいて、浴槽130に設定水位の水を溜める構成としてもよい。 In the above-mentioned hot water device 2, during the bath filling operation, a set amount of water is stored in the bathtub 130 based on the accumulated water volume detected by the water volume sensor 28. Alternatively, the hot water device 2 may be configured to be provided with a water level sensor capable of detecting the water level of the bathtub 130, for example, and during the bath filling operation, water at the set level is stored in the bathtub 130 based on the water level of the bathtub 130 detected by the water level sensor.

上記の温水装置2では、熱源ユニット10がカラン250に接続され、空気加圧溶解ユニット50が浴槽130に接続されている。これとは異なり、熱源ユニット10が他の温熱利用箇所に接続されていてもよいし、空気加圧溶解ユニット50が他の液槽に接続されていてもよい。 In the above-mentioned hot water device 2, the heat source unit 10 is connected to the faucet 250, and the air pressure dissolution unit 50 is connected to the bathtub 130. Alternatively, the heat source unit 10 may be connected to another heat utilization location, and the air pressure dissolution unit 50 may be connected to another liquid tank.

上記の温水装置2において、タンク吸引路92のタンク循環ポンプ94よりも下流側に、タンク吸引路92の上流側から下流側への水の流れを許容し、タンク吸引路92の下流側から上流側への水の流れを禁止する逆止弁(図示せず)を設けてもよい。タンク吸引路92に逆止弁を設けることで、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90の駆動中に、タンク循環ポンプ94を停止させた場合であっても、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90によってタンク復路74から送り出される水がタンク吸引路92を逆流してしまうことを抑制することができる。 In the above-described hot water device 2, a check valve (not shown) may be provided downstream of the tank circulation pump 94 in the tank suction passage 92 to allow water to flow from the upstream side to the downstream side of the tank suction passage 92 and to prohibit water from flowing from the downstream side to the upstream side of the tank suction passage 92. By providing a check valve in the tank suction passage 92, it is possible to prevent water pumped from the tank return passage 74 by the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 from flowing back up the tank suction passage 92 even if the tank circulation pump 94 is stopped while the first pressure pump 88 and the second pressure pump 90 are operating.

上記の温水装置2では、タンク吸引路92において、気体導入機構96がタンク循環ポンプ94よりも上流側に配置されている。これとは異なり、タンク吸引路92において、気体導入機構96がタンク循環ポンプ94よりも下流側に配置されていてもよい。 In the above-described hot water device 2, the gas introduction mechanism 96 is disposed upstream of the tank circulation pump 94 in the tank suction passage 92. Alternatively, the gas introduction mechanism 96 may be disposed downstream of the tank circulation pump 94 in the tank suction passage 92.

上記の温水装置2では、タンク復路74の下流端と、タンク吸引路92の下流端が、共通のタンク接続路76を介して、タンク52に接続している。これとは異なり、図10に示すように、空気加圧溶解ユニット50がタンク接続路76を備えておらず、タンク復路74の下流端(以下では、流入口74aともいう)と、タンク吸引路92の下流端(以下では、流入口92bともいう)が、それぞれ別個に、タンク52に接続する構成としてもよい。この場合、タンク復路74を流れる水は、流入口74aを介してタンク52に流入し、タンク吸引路92を流れる水は、流入口92bを介してタンク52に流入する。 In the hot water device 2 described above, the downstream end of the tank return path 74 and the downstream end of the tank suction path 92 are connected to the tank 52 via a common tank connection path 76. Alternatively, as shown in FIG. 10, the air pressurized dissolution unit 50 may not have the tank connection path 76, and the downstream end of the tank return path 74 (hereinafter also referred to as the inlet 74a) and the downstream end of the tank suction path 92 (hereinafter also referred to as the inlet 92b) may be configured to be connected to the tank 52 separately. In this case, the water flowing through the tank return path 74 flows into the tank 52 via the inlet 74a, and the water flowing through the tank suction path 92 flows into the tank 52 via the inlet 92b.

以上のように、1またはそれ以上の実施形態において、温水装置2(微細気泡発生装置の例)は、水(液体の例)に空気(気体の例)を加圧溶解するタンク52と、タンク52に水を供給するタンク復路74、タンク接続路76(タンク供給路の例)と、タンク復路74に設けられた第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90(加圧ポンプの例)と、タンク52から浴槽130(液槽の例)に空気が加圧溶解された水を排出するタンク往路64、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132(タンク排出路の例)と、浴槽アダプタ132に設けられており、空気が加圧溶解された水を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズル142と、タンク往路64、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132とは別個に設けられており、タンク52に接続された流出口92aからタンク52に接続された流入口76aに水を送るタンク吸引路92、タンク接続路76(タンク循環路の例)と、タンク吸引路92に設けられたタンク循環ポンプ94と、タンク吸引路92に設けられた気体導入機構96と、制御装置150を備えている。気体導入機構96は、水を減圧して通過させるベンチュリ管102(減圧部の例)と、ベンチュリ管102における水の負圧によって空気を導入する気体導入口104aと、気体導入口104aを開閉する気体導入弁106を備えている。制御装置150は、第1加圧ポンプ88、第2加圧ポンプ90を駆動してタンク復路74、タンク接続路76からタンク52へ水を加圧して供給するとともに、タンク52からタンク往路64、第1浴槽水路62、浴槽アダプタ132を介して浴槽130へ空気が加圧溶解された水を供給する、微細気泡発生運転を実行可能である。制御装置150は、微細気泡発生運転の実行中に、気体導入弁106を開いた状態で、タンク循環ポンプ94によってタンク52の水をタンク吸引路92、タンク接続路76で循環させる第1タンク循環運転と、気体導入弁106を閉じた状態で、タンク循環ポンプ94によってタンク52の水をタンク吸引路92、タンク接続路76で循環させる第2タンク循環運転を実行可能である。制御装置150は、第1タンク循環運転において、タンク循環ポンプ94を第1回転数で駆動し、第2タンク循環運転において、タンク循環ポンプ94を第1回転数よりも低い第2回転数で駆動するように構成されている。 As described above, in one or more embodiments, the hot water device 2 (an example of a fine bubble generating device) comprises a tank 52 that pressurizes and dissolves air (an example of a gas) in water (an example of a liquid), a tank return line 74 that supplies water to the tank 52, a tank connection line 76 (an example of a tank supply line), a first pressure pump 88 and a second pressure pump 90 (an example of a pressure pump) provided in the tank return line 74, a tank forward line 64 that discharges water in which air has been pressurized and dissolved from the tank 52 to a bathtub 130 (an example of a liquid tank), a first bathtub water line 62, and a bathtub adapter 132 (an example of a tank discharge line), The apparatus includes a fine bubble generating nozzle 142 provided in the bathtub adaptor 132, which generates fine bubbles by reducing the pressure of water in which air is pressurized and dissolved, a tank suction path 92 provided separately from the tank outflow path 64, the first bathtub water path 62, and the bathtub adaptor 132, which sends water from an outlet 92a connected to the tank 52 to an inlet 76a connected to the tank 52, a tank connection path 76 (an example of a tank circulation path), a tank circulation pump 94 provided in the tank suction path 92, a gas introduction mechanism 96 provided in the tank suction path 92, and a control device 150. The gas introduction mechanism 96 includes a Venturi tube 102 (an example of a pressure reducing section) which reduces the pressure of the water and passes it through, a gas introduction port 104a which introduces air by the negative pressure of the water in the Venturi tube 102, and a gas introduction valve 106 which opens and closes the gas introduction port 104a. The control device 150 can execute a fine bubble generating operation in which the first pressurizing pump 88 and the second pressurizing pump 90 are driven to pressurize and supply water from the tank return line 74 and the tank connection line 76 to the tank 52, and water in which air is pressurized and dissolved is supplied from the tank 52 to the bathtub 130 via the tank outward line 64, the first bathtub water line 62, and the bathtub adapter 132. During the execution of the fine bubble generating operation, the control device 150 can execute a first tank circulation operation in which the tank circulation pump 94 circulates the water in the tank 52 through the tank suction line 92 and the tank connection line 76 with the gas introduction valve 106 open, and a second tank circulation operation in which the tank circulation pump 94 circulates the water in the tank 52 through the tank suction line 92 and the tank connection line 76 with the gas introduction valve 106 closed. The control device 150 is configured to drive the tank circulation pump 94 at a first rotation speed during the first tank circulation operation, and to drive the tank circulation pump 94 at a second rotation speed lower than the first rotation speed during the second tank circulation operation.

上記の温水装置2では、微細気泡発生運転を実行中であっても、第1タンク循環運転を実行することによって、気体導入機構96で空気が導入されて、タンク52に空気を供給することができる。このため、タンク52に空気を供給するために微細気泡発生運転を中断する必要がなく、微細気泡発生運転を継続して実行することができる。このような構成とすることによって、浴槽130の水に微細気泡を安定して発生させ続けることができる。 In the hot water device 2 described above, even when the fine bubble generating operation is being performed, the first tank circulation operation can be performed, whereby air can be introduced by the gas introduction mechanism 96 and supplied to the tank 52. Therefore, there is no need to interrupt the fine bubble generating operation to supply air to the tank 52, and the fine bubble generating operation can be performed continuously. With this configuration, fine bubbles can be stably generated continuously in the water of the bathtub 130.

また、上記の温水装置2では、微細気泡発生運転の実行中に、第1タンク循環運転や第2タンク循環運転を実行すると、タンク52内の水の流動が激しくなる。加圧溶解式のタンク52においては、タンク52内の水の流動が激しいほど、タンク52における水への空気の加圧溶解が促進される。上記の構成によれば、微細気泡発生運転を実行中に、第1タンク循環運転や第2タンク循環運転を実行することによって、タンク52内の水を激しく流動させて、タンク52における水への空気の加圧溶解をより促進することができる。 In addition, in the above-mentioned hot water device 2, when the first tank circulation operation or the second tank circulation operation is performed while the fine bubble generation operation is being performed, the flow of water in the tank 52 becomes more intense. In the pressurized dissolution type tank 52, the more intense the flow of water in the tank 52, the more the pressurized dissolution of air in the water in the tank 52 is promoted. According to the above-mentioned configuration, by performing the first tank circulation operation or the second tank circulation operation while the fine bubble generation operation is being performed, the water in the tank 52 can be caused to flow more intensely, and the pressurized dissolution of air in the water in the tank 52 can be further promoted.

なお、第1タンク循環運転では、気体導入機構96のベンチュリ管102に空気が導入されるので、水への空気の混合によりベンチュリ管102における水の負圧が緩和されるものの、第2タンク循環運転では、気体導入機構96のベンチュリ管102に空気が導入されないので、ベンチュリ管102における水の負圧が緩和されない。このため、仮に第1タンク循環運転と第2タンク循環運転でタンク循環ポンプ94の回転数を同一とすると、第2タンク循環運転では、第1タンク循環運転に比べて、気体導入機構96のベンチュリ管102における水の圧力がより低くなる。気体導入機構96のベンチュリ管102における水の圧力が過剰に低くなると、ベンチュリ管102でキャビテーションが発生し、騒音が生じるおそれがある。上記の構成によれば、第2タンク循環運転におけるタンク循環ポンプ94の回転数を、第1タンク循環運転におけるタンク循環ポンプ94の回転数よりも低くすることで、第2タンク循環運転において、気体導入機構96のベンチュリ管102における水の圧力が過剰に低くなることを抑制することができる、これによって、第2タンク循環運転において、気体導入機構96のベンチュリ管102でのキャビテーションの発生を抑制し、騒音が生じることを抑制することができる。 In the first tank circulation operation, air is introduced into the Venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96, and the negative pressure of the water in the Venturi tube 102 is alleviated by mixing the air with the water. However, in the second tank circulation operation, air is not introduced into the Venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96, and the negative pressure of the water in the Venturi tube 102 is not alleviated. For this reason, if the rotation speed of the tank circulation pump 94 is the same in the first tank circulation operation and the second tank circulation operation, the water pressure in the Venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96 will be lower in the second tank circulation operation than in the first tank circulation operation. If the water pressure in the Venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96 becomes excessively low, cavitation may occur in the Venturi tube 102, causing noise. According to the above configuration, by setting the rotation speed of the tank circulation pump 94 during the second tank circulation operation lower than the rotation speed of the tank circulation pump 94 during the first tank circulation operation, it is possible to prevent the water pressure in the Venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96 from becoming excessively low during the second tank circulation operation. This makes it possible to prevent the occurrence of cavitation in the Venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96 during the second tank circulation operation, and to prevent the generation of noise.

また、微細気泡発生運転の実行中に、第1タンク循環運転を実行する場合、気体導入機構96のベンチュリ管102を流れる水の流量が大きくなると、それだけベンチュリ管102における水の圧力がより低くなり、気体導入機構96でより多くの空気を導入することができる。上記の構成によれば、第1タンク循環運転におけるタンク循環ポンプ94の回転数を、第2タンク循環運転におけるタンク循環ポンプ94の回転数よりも高くすることで、第1タンク循環運転において、気体導入機構96でより多くの空気を導入することができる。 In addition, when the first tank circulation operation is performed during the micro-bubble generation operation, the greater the flow rate of water flowing through the Venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96, the lower the water pressure in the Venturi tube 102, allowing the gas introduction mechanism 96 to introduce more air. According to the above configuration, by making the rotation speed of the tank circulation pump 94 in the first tank circulation operation higher than the rotation speed of the tank circulation pump 94 in the second tank circulation operation, the gas introduction mechanism 96 can introduce more air in the first tank circulation operation.

1またはそれ以上の実施形態において、気体導入機構96は、タンク吸引路92において、タンク循環ポンプ94よりも上流側に配置されている。 In one or more embodiments, the gas introduction mechanism 96 is disposed upstream of the tank circulation pump 94 in the tank suction passage 92.

第1タンク循環運転においては、気体導入機構96がタンク吸引路92においてタンク循環ポンプ94よりも上流側に配置されている場合、気体導入機構96で導入された空気が水に混合されて、タンク循環ポンプ94に流入する。このため、気体導入機構96がタンク吸引路92においてタンク循環ポンプ94よりも下流側に配置されている場合に比べて、タンク循環ポンプ94の効率が低下し、気体導入機構96のベンチュリ管102を流れる水の流量が小さくなる。これに対して、第2タンク循環運転においては、気体導入機構96がタンク吸引路92においてタンク循環ポンプ94よりも上流側に配置されている場合でも、気体導入機構96で空気が導入されないので、気体導入機構96がタンク吸引路92においてタンク循環ポンプ94よりも下流側に配置されている場合に比べて、タンク循環ポンプ94の効率は低下せず、気体導入機構96のベンチュリ管102を流れる水の流量が小さくなることはない。このため、仮に第1タンク循環運転と第2タンク循環運転でタンク循環ポンプ94の回転数を同一とすると、第2タンク循環運転では、第1タンク循環運転に比べて、気体導入機構96のベンチュリ管102を流れる水の流量がより大きくなり、気体導入機構96のベンチュリ管102における水の圧力がより低くなる。これによって、気体導入機構96のベンチュリ管102でキャビテーションがより発生しやすくなり、より騒音が生じやすくなる。上記の構成によれば、第2タンク循環運転におけるタンク循環ポンプ94の回転数を、第1タンク循環運転におけるタンク循環ポンプ94の回転数よりも低くすることで、第2タンク循環運転において、ベンチュリ管102におけるキャビテーションの発生を抑制し、騒音が生じることを抑制することができる。 In the first tank circulation operation, when the gas introduction mechanism 96 is disposed upstream of the tank circulation pump 94 in the tank suction path 92, the air introduced by the gas introduction mechanism 96 is mixed with the water and flows into the tank circulation pump 94. Therefore, compared to when the gas introduction mechanism 96 is disposed downstream of the tank circulation pump 94 in the tank suction path 92, the efficiency of the tank circulation pump 94 decreases, and the flow rate of water flowing through the Venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96 becomes smaller. In contrast, in the second tank circulation operation, even when the gas introduction mechanism 96 is disposed upstream of the tank circulation pump 94 in the tank suction path 92, air is not introduced by the gas introduction mechanism 96, so compared to when the gas introduction mechanism 96 is disposed downstream of the tank circulation pump 94 in the tank suction path 92, the efficiency of the tank circulation pump 94 does not decrease, and the flow rate of water flowing through the Venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96 does not become smaller. For this reason, if the rotation speed of the tank circulation pump 94 is the same in the first tank circulation operation and the second tank circulation operation, the flow rate of water flowing through the venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96 is greater in the second tank circulation operation than in the first tank circulation operation, and the water pressure in the venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96 is lower. This makes it easier for cavitation to occur in the venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96, making it easier for noise to occur. According to the above configuration, by setting the rotation speed of the tank circulation pump 94 in the second tank circulation operation lower than the rotation speed of the tank circulation pump 94 in the first tank circulation operation, it is possible to suppress the occurrence of cavitation in the venturi tube 102 and suppress the generation of noise in the second tank circulation operation.

また、気体導入機構96がタンク吸引路92においてタンク循環ポンプ94よりも上流側に配置されている場合、タンク循環ポンプ94の吸込圧が気体導入機構96のベンチュリ管102に作用するので、気体導入機構96がタンク吸引路92においてタンク循環ポンプ94よりも下流側に配置されている場合に比べて、ベンチュリ管102における水の圧力がより低くなる。このため、第1タンク循環運転において、気体導入機構96で導入される空気の量をより多くすることができる。また、上記の構成によれば、第1タンク循環運転において、気体導入機構96で導入された空気とタンク吸引路92を流れる水がタンク循環ポンプ94を通過する際に、タンク循環ポンプ94のインペラにより攪拌されるので、水への空気の溶解をより促進することができる。 In addition, when the gas introduction mechanism 96 is disposed upstream of the tank circulation pump 94 in the tank suction passage 92, the suction pressure of the tank circulation pump 94 acts on the Venturi tube 102 of the gas introduction mechanism 96, so the water pressure in the Venturi tube 102 is lower than when the gas introduction mechanism 96 is disposed downstream of the tank circulation pump 94 in the tank suction passage 92. Therefore, the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96 can be increased in the first tank circulation operation. In addition, according to the above configuration, when the air introduced by the gas introduction mechanism 96 and the water flowing through the tank suction passage 92 pass through the tank circulation pump 94 in the first tank circulation operation, they are agitated by the impeller of the tank circulation pump 94, which further promotes dissolution of air into the water.

1またはそれ以上の実施形態において、温水装置2は、タンク52の水位(液位の例)が下限水位(第1液位の例)以上であるか否かを検出可能な低水位電極52a(第1液位電極の例)と、タンク52の水位が下限水位よりも高い上限水位(第2液位の例)以上であるか否かを検出可能な高水位電極52b(第2液位電極の例)をさらに備えている。タンク吸引路92への流出口92aがタンク52に接続している箇所の水位は、下限水位よりも低い。制御装置150は、微細気泡発生運転を実行しており、かつ第1タンク循環運転を実行中に、タンク52の水位が下限水位より低いことが検出された場合に、第1タンク循環運転を終了して第2タンク循環運転を開始し、微細気泡発生運転を実行しており、かつ第2タンク循環運転を実行中に、タンク52の水位が上限水位より高いことが検出された場合に、第2タンク循環運転を終了して第1タンク循環運転を開始するように構成されている。 In one or more embodiments, the hot water device 2 further includes a low water level electrode 52a (an example of a first liquid level electrode) capable of detecting whether the water level (an example of a liquid level) of the tank 52 is equal to or higher than a lower limit water level (an example of a first liquid level), and a high water level electrode 52b (an example of a second liquid level electrode) capable of detecting whether the water level of the tank 52 is equal to or higher than an upper limit water level (an example of a second liquid level) that is higher than the lower limit water level. The water level at the point where the outlet 92a to the tank suction path 92 is connected to the tank 52 is lower than the lower limit water level. The control device 150 is configured to terminate the first tank circulation operation and start the second tank circulation operation when the fine bubble generation operation is being performed and the first tank circulation operation is being performed and it is detected that the water level of the tank 52 is lower than the lower limit water level, and to terminate the second tank circulation operation and start the first tank circulation operation when the fine bubble generation operation is being performed and the second tank circulation operation is being performed and it is detected that the water level of the tank 52 is higher than the upper limit water level.

微細気泡発生運転の実行中に、タンク52から消費される空気の量が気体導入機構96で導入される空気の量よりも少ない場合には、タンク52の水位は下降していき、タンク52から消費される空気の量が気体導入機構96で導入される空気の量よりも多い場合には、タンク52の水位は上昇していく。一方で、タンク循環ポンプ94を駆動している時に、第1タンク循環運転を実行すると、気体導入機構96で空気が導入され、第2タンク循環運転を実行すると、気体導入機構96で空気が導入されなくなる。上記の構成によれば、制御装置150がタンク52の水位に応じて第1タンク循環運転と第2タンク循環運転の何れか一方を選択的に実行することで、タンク52から消費される空気の量と気体導入機構96で導入される空気の量のバランスを取ることができる。 During the execution of the fine bubble generating operation, if the amount of air consumed from the tank 52 is less than the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96, the water level of the tank 52 will drop, and if the amount of air consumed from the tank 52 is greater than the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96, the water level of the tank 52 will rise. On the other hand, when the first tank circulation operation is executed while the tank circulation pump 94 is driven, air is introduced by the gas introduction mechanism 96, and when the second tank circulation operation is executed, air is not introduced by the gas introduction mechanism 96. According to the above configuration, the control device 150 selectively executes either the first tank circulation operation or the second tank circulation operation according to the water level of the tank 52, thereby making it possible to balance the amount of air consumed from the tank 52 and the amount of air introduced by the gas introduction mechanism 96.

1またはそれ以上の実施形態において、気体導入弁106は、ベンチュリ管102における水の負圧によって、気体導入弁106を閉じる方向の力を受けるように構成されている。制御装置150は、第1タンク循環運転を終了して第2タンク循環運転を開始する際には、タンク循環ポンプ94の駆動を継続しつつ、タンク循環ポンプ94の回転数を第1回転数から第2回転数まで低減させ、その後に気体導入弁106を閉じるように構成されている。 In one or more embodiments, the gas introduction valve 106 is configured to receive a force in a direction to close the gas introduction valve 106 due to the negative pressure of the water in the Venturi tube 102. When the first tank circulation operation is terminated and the second tank circulation operation is started, the control device 150 is configured to reduce the rotation speed of the tank circulation pump 94 from the first rotation speed to the second rotation speed while continuing to drive the tank circulation pump 94, and then close the gas introduction valve 106.

上記の構成では、気体導入弁106には、ベンチュリ管102での水の負圧が、気体導入弁106を閉じる方向に作用する。このため、ベンチュリ管102での水の圧力が小さい状態で、気体導入弁106を開いた状態から閉じた状態に切り換えると、気体導入弁106の弁体が弁座に強く衝突してしまい、騒音の発生や気体導入弁106の損傷を招くおそれがある。上記の構成では、制御装置150は、第1タンク循環運転を終了して第2タンク循環運転を開始する際に、タンク循環ポンプ94の回転数を低減させて、ベンチュリ管102での水の圧力を増加させてから、気体導入弁106を開いた状態から閉じた状態へ切り替える。これによって、気体導入弁106の弁体が弁座に強く衝突することに起因する、騒音の発生や気体導入弁106の損傷を抑制することができる。 In the above configuration, the negative pressure of the water in the Venturi tube 102 acts on the gas introduction valve 106 in a direction to close the gas introduction valve 106. Therefore, when the water pressure in the Venturi tube 102 is low and the gas introduction valve 106 is switched from an open state to a closed state, the valve body of the gas introduction valve 106 strongly collides with the valve seat, which may cause noise generation and damage to the gas introduction valve 106. In the above configuration, when the control device 150 ends the first tank circulation operation and starts the second tank circulation operation, it reduces the rotation speed of the tank circulation pump 94 to increase the water pressure in the Venturi tube 102, and then switches the gas introduction valve 106 from an open state to a closed state. This makes it possible to suppress noise generation and damage to the gas introduction valve 106 caused by the valve body of the gas introduction valve 106 strongly colliding with the valve seat.

1またはそれ以上の実施形態において、気体導入弁106は、ベンチュリ管102における水の負圧によって、気体導入弁106を閉じる方向の力を受けるように構成されている。制御装置150は、第2タンク循環運転を終了して第1タンク循環運転を開始する際には、タンク循環ポンプ94の駆動を継続しつつ、気体導入弁106を開き、その後にタンク循環ポンプ94の回転数を第2回転数から第1回転数まで増加させるように構成されている。 In one or more embodiments, the gas introduction valve 106 is configured to receive a force in a direction to close the gas introduction valve 106 due to the negative pressure of the water in the Venturi tube 102. When the second tank circulation operation is terminated and the first tank circulation operation is started, the control device 150 is configured to open the gas introduction valve 106 while continuing to drive the tank circulation pump 94, and then to increase the rotation speed of the tank circulation pump 94 from the second rotation speed to the first rotation speed.

上記の構成では、気体導入弁106には、ベンチュリ管102での水の負圧が、気体導入弁106を閉じる方向に作用する。このため、ベンチュリ管102での水の圧力が小さい状態で、気体導入弁106を閉じた状態から開いた状態に切り換えようとすると、気体導入弁106がスムーズに動作しないおそれがある。上記の構成では、制御装置150は、第2タンク循環運転を終了して第1タンク循環運転を開始する際に、気体導入弁106を閉じた状態から開いた状態へ切り替えてから、タンク循環ポンプ94の回転数を増加させて、ベンチュリ管102での水の圧力を低減させる。これによって、気体導入弁106をスムーズに動作させることができる。 In the above configuration, the negative pressure of the water in the Venturi tube 102 acts on the gas introduction valve 106 in a direction to close the gas introduction valve 106. Therefore, when the water pressure in the Venturi tube 102 is low and the gas introduction valve 106 is switched from a closed state to an open state, the gas introduction valve 106 may not operate smoothly. In the above configuration, when the control device 150 ends the second tank circulation operation and starts the first tank circulation operation, it switches the gas introduction valve 106 from a closed state to an open state, and then increases the rotation speed of the tank circulation pump 94 to reduce the water pressure in the Venturi tube 102. This allows the gas introduction valve 106 to operate smoothly.

以上、各実施例について詳細に説明したが、これらは例示に過ぎず、特許請求の範囲を限定するものではない。特許請求の範囲に記載の技術には、以上に例示した具体例を様々に変形、変更したものが含まれる。本明細書または図面に説明した技術要素は、単独であるいは各種の組合せによって技術的有用性を発揮するものであり、出願時請求項記載の組合せに限定されるものではない。また、本明細書または図面に例示した技術は複数目的を同時に達成し得るものであり、そのうちの一つの目的を達成すること自体で技術的有用性を持つものである。 Although each embodiment has been described in detail above, these are merely examples and do not limit the scope of the claims. The technology described in the claims includes various modifications and variations of the specific examples exemplified above. The technical elements described in this specification or drawings exert technical utility alone or in various combinations, and are not limited to the combinations described in the claims at the time of filing. Furthermore, the technology exemplified in this specification or drawings can achieve multiple objectives simultaneously, and achieving one of those objectives is itself technically useful.

2 :温水装置
10 :熱源ユニット
12 :第1熱源機
14 :第2熱源機
16 :給水路
18 :出湯路
18a :出湯温度サーミスタ
20 :バイパス路
22 :バイパスサーボ
24 :注湯路
26 :湯はり弁
28 :水量センサ
30 :循環往路
30a :循環往路サーミスタ
32 :循環復路
32a :循環復路サーミスタ
34 :浴槽循環ポンプ
36 :水流スイッチ
50 :空気加圧溶解ユニット
52 :タンク
52a :低水位電極
52b :高水位電極
52c :アース電極
60 :熱源復路
62 :第1浴槽水路
64 :タンク往路
66 :連通路
68 :熱源往路
70 :第2浴槽水路
74 :タンク復路
74a :流入口
76 :タンク接続路
76a :流入口
80 :第1三方弁
82 :第2三方弁
84 :逆止弁
86 :タンク給水弁
88 :第1加圧ポンプ
90 :第2加圧ポンプ
92 :タンク吸引路
92a :流出口
92b :流入口
94 :タンク循環ポンプ
96 :気体導入機構
98 :入水管
100 :出水管
102 :ベンチュリ管
104 :気体導入路
104a :気体導入口
106 :気体導入弁
130 :浴槽
130a :壁部
132 :浴槽アダプタ
132a :前面
132b :下面
134a :第1吐出口
134b :第1吸込口
134c :第2吸込口
134d :第2吐出口
136 :第1水路
136a :第1吐出路
136b :第1吸込路
138 :第2水路
138a :第2吐出路
138b :第2吸込路
140a :逆止部
140b :逆止部
140c :逆止部
140d :逆止部
142 :微細気泡発生ノズル
150 :制御装置
152 :メモリ
154 :リモコン
200 :給水源
250 :カラン
2: Hot water device 10: Heat source unit 12: First heat source unit 14: Second heat source unit 16: Water supply passage 18: Hot water outlet passage 18a: Outlet water temperature thermistor 20: Bypass passage 22: Bypass servo 24: Hot water supply passage 26: Water filling valve 28: Water volume sensor 30: Circulation forward passage 30a: Circulation forward passage thermistor 32: Circulation return passage 32a: Circulation return passage thermistor 34: Bathtub circulation pump 36: Water flow switch 50: Air pressure dissolving unit 52: Tank 52a: Low water level electrode 52b: High water level electrode 52c: Earth electrode 60: Heat source return passage 62: First bathtub water passage 64: Tank forward passage 66: Communication passage 68: Heat source forward passage 70: Second bathtub water passage 74: Tank return passage 74a: Inlet 76 : Tank connection passage 76a : Inlet 80 : First three-way valve 82 : Second three-way valve 84 : Check valve 86 : Tank water supply valve 88 : First pressurizing pump 90 : Second pressurizing pump 92 : Tank suction passage 92a : Outlet 92b : Inlet 94 : Tank circulation pump 96 : Gas introduction mechanism 98 : Inlet pipe 100 : Outlet pipe 102 : Venturi tube 104 : Gas introduction passage 104a : Gas introduction port 106 : Gas introduction valve 130 : Bathtub 130a : Wall 132 : Bathtub adapter 132a : Front surface 132b : Bottom surface 134a : First outlet 134b : First suction port 134c : Second suction port 134d : Second outlet 136 : First water passage 136a : First discharge passage 136b : First suction passage 138 : Second water passage 138a : Second discharge passage 138b : Second suction passage 140a : Non-return section 140b : Non-return section 140c : Non-return section 140d : Non-return section 142 : Microbubble generating nozzle 150 : Control device 152 : Memory 154 : Remote control 200 : Water supply source 250 : Faucet

Claims (6)

液体に気体を加圧溶解するタンクと、
前記タンクに前記液体を供給するタンク供給路と、
前記タンク供給路に設けられた加圧ポンプと、
前記タンクから液槽に前記気体が加圧溶解された前記液体を排出するタンク排出路と、
前記タンク排出路に設けられており、前記気体が加圧溶解された前記液体を減圧して微細気泡を発生させる微細気泡発生ノズルと、
前記タンク排出路とは別個に設けられており、前記タンクに接続された流出口から前記タンクに接続された流入口に前記液体を送るタンク循環路と、
前記タンク循環路に設けられたタンク循環ポンプと、
前記タンク循環路に設けられた気体導入機構と、
制御装置を備えており、
前記気体導入機構は、
前記液体を減圧して通過させる減圧部と、
前記減圧部における前記液体の負圧によって前記気体を導入する気体導入口と、
前記気体導入口を開閉する気体導入弁を備えており、
前記制御装置は、前記加圧ポンプを駆動して前記タンク供給路から前記タンクへ前記液体を加圧して供給するとともに、前記タンクから前記タンク排出路を介して前記液槽へ前記気体が加圧溶解された前記液体を供給する、微細気泡発生運転を実行可能であり、
前記制御装置は、前記微細気泡発生運転の実行中に、前記気体導入弁を開いた状態で、前記タンク循環ポンプによって前記タンクの前記液体を前記タンク循環路で循環させる第1タンク循環運転と、前記気体導入弁を閉じた状態で、前記タンク循環ポンプによって前記タンクの前記液体を前記タンク循環路で循環させる第2タンク循環運転を実行可能であり、
前記制御装置は、前記第1タンク循環運転において、前記タンク循環ポンプを第1回転数で駆動し、前記第2タンク循環運転において、前記タンク循環ポンプを前記第1回転数よりも低い第2回転数で駆動するように構成されている、微細気泡発生装置。
A tank for dissolving gas under pressure in liquid;
a tank supply line for supplying the liquid to the tank;
a pressure pump provided in the tank supply line;
a tank discharge passage for discharging the liquid in which the gas is pressurized and dissolved from the tank to a liquid tank;
a fine bubble generating nozzle provided in the tank discharge path for generating fine bubbles by reducing the pressure of the liquid in which the gas is pressurized and dissolved;
a tank circulation path that is provided separately from the tank discharge path and that sends the liquid from an outlet connected to the tank to an inlet connected to the tank;
a tank circulation pump provided in the tank circulation path;
a gas introduction mechanism provided in the tank circulation path;
A control device is provided.
The gas introduction mechanism includes:
a pressure reducing section for reducing the pressure of the liquid and passing the liquid therethrough;
a gas inlet port that introduces the gas by negative pressure of the liquid in the pressure reducing section;
A gas introduction valve is provided for opening and closing the gas introduction port,
the control device is capable of executing a fine bubble generating operation in which the pressurizing pump is driven to pressurize and supply the liquid from the tank supply path to the tank, and the liquid in which the gas is pressurized and dissolved is supplied from the tank to the liquid tank via the tank discharge path,
the control device is capable of executing a first tank circulation operation in which, during the fine bubble generating operation, the liquid in the tank is circulated through the tank circulation path by the tank circulation pump with the gas introduction valve open, and a second tank circulation operation in which, during the fine bubble generating operation, the liquid in the tank is circulated through the tank circulation path by the tank circulation pump with the gas introduction valve closed,
The control device is configured to drive the tank circulation pump at a first rotation speed during the first tank circulation operation, and to drive the tank circulation pump at a second rotation speed lower than the first rotation speed during the second tank circulation operation.
前記気体導入機構が、前記タンク循環路において、前記タンク循環ポンプよりも上流側に配置されている、請求項1の微細気泡発生装置。 The microbubble generator of claim 1, wherein the gas introduction mechanism is disposed upstream of the tank circulation pump in the tank circulation path. 前記タンクの液位が第1液位以上であるか否かを検出可能な第1液位電極と、
前記タンクの液位が前記第1液位よりも高い第2液位以上であるか否かを検出可能な第2液位電極をさらに備えており、
前記タンク循環路への前記流出口が前記タンクに接続している箇所の液位が、前記第1液位よりも低く、
前記制御装置は、
前記微細気泡発生運転を実行しており、かつ前記第1タンク循環運転を実行中に、前記タンクの液位が前記第1液位より低いことが検出された場合に、前記第1タンク循環運転を終了して前記第2タンク循環運転を開始し、
前記微細気泡発生運転を実行しており、かつ前記第2タンク循環運転を実行中に、前記タンクの液位が前記第2液位より高いことが検出された場合に、前記第2タンク循環運転を終了して前記第1タンク循環運転を開始するように構成されている、請求項1または2の微細気泡発生装置。
a first liquid level electrode capable of detecting whether the liquid level in the tank is equal to or higher than a first liquid level;
The liquid level detecting device further includes a second liquid level electrode capable of detecting whether the liquid level in the tank is equal to or higher than a second liquid level that is higher than the first liquid level,
a liquid level at a location where the outlet to the tank circulation path is connected to the tank is lower than the first liquid level;
The control device includes:
when it is detected that the liquid level in the tank is lower than the first liquid level while the fine bubble generating operation is being performed and the first tank circulation operation is being performed, the first tank circulation operation is terminated and the second tank circulation operation is started;
3. The fine-bubble generating device of claim 1 or 2, configured to terminate the second tank circulation operation and start the first tank circulation operation when it is detected that the liquid level in the tank is higher than the second liquid level while the fine-bubble generating operation is being performed and the second tank circulation operation is being performed.
前記気体導入弁は、前記減圧部における前記液体の負圧によって、前記気体導入弁を閉じる方向の力を受けるように構成されており、
前記制御装置は、前記第1タンク循環運転を終了して前記第2タンク循環運転を開始する際には、前記タンク循環ポンプの駆動を継続しつつ、前記タンク循環ポンプの回転数を前記第1回転数から前記第2回転数まで低減させ、その後に前記気体導入弁を閉じるように構成されている、請求項1から3の何れか一項の微細気泡発生装置。
the gas introduction valve is configured to receive a force in a direction to close the gas introduction valve by a negative pressure of the liquid in the pressure reducing section,
4. The fine-bubble generating device of claim 1, wherein the control device is configured to, when terminating the first tank circulation operation and starting the second tank circulation operation, reduce the rotation speed of the tank circulation pump from the first rotation speed to the second rotation speed while continuing to drive the tank circulation pump, and then close the gas introduction valve.
前記気体導入弁は、前記減圧部における前記液体の負圧によって、前記気体導入弁を閉じる方向の力を受けるように構成されており、
前記制御装置は、前記第2タンク循環運転を終了して前記第1タンク循環運転を開始する際には、前記タンク循環ポンプの駆動を継続しつつ、前記気体導入弁を開き、その後に前記タンク循環ポンプの回転数を前記第2回転数から前記第1回転数まで増加させるように構成されている、請求項1から4の何れか一項の微細気泡発生装置。
the gas introduction valve is configured to receive a force in a direction to close the gas introduction valve by a negative pressure of the liquid in the pressure reducing section,
5. The fine-bubble generating device according to claim 1, wherein the control device is configured to, when terminating the second tank circulation operation and starting the first tank circulation operation, open the gas introduction valve while continuing to drive the tank circulation pump, and then increase the rotation speed of the tank circulation pump from the second rotation speed to the first rotation speed.
前記液体が、水であり、
前記液槽が、ユーザが入浴に使用する浴槽である、請求項1から5の何れか一項の微細気泡発生装置。
the liquid is water,
The fine bubble generating device according to claim 1 , wherein the liquid tank is a bathtub used by a user for bathing.
JP2021103175A 2021-06-22 2021-06-22 Microbubble generator Active JP7660035B2 (en)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021103175A JP7660035B2 (en) 2021-06-22 2021-06-22 Microbubble generator
KR1020210158627A KR20220170728A (en) 2021-06-22 2021-11-17 Fine bubble generating device
CN202210390683.0A CN115500717A (en) 2021-06-22 2022-04-14 Micro-bubble generating device

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2021103175A JP7660035B2 (en) 2021-06-22 2021-06-22 Microbubble generator

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2023002137A JP2023002137A (en) 2023-01-10
JP7660035B2 true JP7660035B2 (en) 2025-04-10

Family

ID=84500900

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2021103175A Active JP7660035B2 (en) 2021-06-22 2021-06-22 Microbubble generator

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JP7660035B2 (en)
KR (1) KR20220170728A (en)
CN (1) CN115500717A (en)

Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001179241A (en) 1999-12-22 2001-07-03 Noritz Corp Fine air bubble generator
JP2002336668A (en) 2001-05-17 2002-11-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Fine bubble generator
JP2007190466A (en) 2006-01-17 2007-08-02 Toshio Miyashita Microbubble generating apparatus and gas-liquid mixing tank
JP2007203285A (en) 2006-01-05 2007-08-16 Asahi Organic Chem Ind Co Ltd Dispersing method and dispersing apparatus
JP2009056442A (en) 2007-09-03 2009-03-19 Sharp Corp Ozone water production equipment
WO2010067454A1 (en) 2008-12-12 2010-06-17 三菱電機株式会社 Water heating method and water heater
WO2011064880A1 (en) 2009-11-27 2011-06-03 三菱電機株式会社 Bubble generation method and bubble generator
JP2013111502A (en) 2011-11-25 2013-06-10 Gastar Corp Device with fine bubble generating function
JP2019181460A (en) 2018-04-10 2019-10-24 リンナイ株式会社 Fine bubble generating device
JP2020178846A (en) 2019-04-24 2020-11-05 リンナイ株式会社 Bath system

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5121336B2 (en) 2007-07-13 2013-01-16 リンナイ株式会社 Microbubble generator

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001179241A (en) 1999-12-22 2001-07-03 Noritz Corp Fine air bubble generator
JP2002336668A (en) 2001-05-17 2002-11-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Fine bubble generator
JP2007203285A (en) 2006-01-05 2007-08-16 Asahi Organic Chem Ind Co Ltd Dispersing method and dispersing apparatus
JP2007190466A (en) 2006-01-17 2007-08-02 Toshio Miyashita Microbubble generating apparatus and gas-liquid mixing tank
JP2009056442A (en) 2007-09-03 2009-03-19 Sharp Corp Ozone water production equipment
WO2010067454A1 (en) 2008-12-12 2010-06-17 三菱電機株式会社 Water heating method and water heater
WO2011064880A1 (en) 2009-11-27 2011-06-03 三菱電機株式会社 Bubble generation method and bubble generator
JP2013111502A (en) 2011-11-25 2013-06-10 Gastar Corp Device with fine bubble generating function
JP2019181460A (en) 2018-04-10 2019-10-24 リンナイ株式会社 Fine bubble generating device
JP2020178846A (en) 2019-04-24 2020-11-05 リンナイ株式会社 Bath system

Also Published As

Publication number Publication date
CN115500717A (en) 2022-12-23
KR20220170728A (en) 2022-12-30
JP2023002137A (en) 2023-01-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP7265891B2 (en) Fine bubble generator
JP5121331B2 (en) Microbubble generator
JP7257241B2 (en) bath system
JP2008284109A (en) Fine bubble generator and fine bubble generation method
CN114601358B (en) Micro-bubble generating device
JP7660035B2 (en) Microbubble generator
JP7660038B2 (en) Microbubble generator
JP7390183B2 (en) bath equipment
JP7709924B2 (en) Microbubble generator
JP7213135B2 (en) bath system
JP7660034B2 (en) Microbubble generator
JP2024167954A (en) Microbubble generator
JP2018099424A (en) Bath device
JP7492911B2 (en) Bath System
JP7474655B2 (en) Bath System
JP7369658B2 (en) bath equipment
JP7709925B2 (en) Microbubble generator
JP7720265B2 (en) Microbubble generator
JP2024168721A (en) Bath System
JP2021164581A (en) Bath device
JP2025165460A (en) Gas-liquid dissolving device and microbubble generating system
JP2023184103A (en) bath equipment
JP2024054610A (en) Bath System
JPH04241860A (en) Minute air bubble generating device
JPH04241861A (en) Minute air bubble generating device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20240521

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20250219

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20250318

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20250331

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 7660035

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150