JP7650821B2 - ジアミノピリミジン化合物又はその水和物の固体形態、その調製方法及びその適用 - Google Patents
ジアミノピリミジン化合物又はその水和物の固体形態、その調製方法及びその適用 Download PDFInfo
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Description
文脈で他に定義されない限り、本明細書において使用されているすべての技術的及び化学的用語は、当業者により一般的に理解されているものと同一の意味を有することを意図している。本明細書において利用されている技術への言及は、当業者に明白であろうこれらの技術に対する変形又は等価の技術の代替を含む、当該技術分野において一般的に理解されているような技術への言及を意図している。以下の用語の大半は当業者により容易に理解されるであろうと考えられるが、それでもなお、本発明をより良好に説明するために以下の定義を述べる。
一実施形態では、本発明は、化合物A無水物
の結晶形態Iであって:
約11.9±0.2°、12.3±0.2°、13.9±0.2°、19.8±0.2°及び20.3±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、化合物A無水物の結晶形態Iを提供する。
1)化合物Aを水に添加し、続けて酸(例えば有機酸(例えば酢酸又はトリフルオロ酢酸)又は無機酸(例えば塩酸又は硫酸、好ましくは塩酸)を添加し、化合物Aを撹拌して溶解し、溶液を得て、任意選択で濾過して濾液を得るステップ;
2)塩基(例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又はアンモニア)をステップ1)で得られた溶液又は濾液に添加し、沈殿した固体を濾過により収集するステップ;並びに
3)得られた固体を水に添加し、撹拌し(例えば0.5~5時間、好ましくは1~3時間)、濾過して固体を収集し、任意選択で乾燥して結晶形態Iを得るステップを含む、方法を提供する。
の結晶形態IIであって:
約13.0±0.2°、19.5±0.2°及び19.9±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、化合物A一水和物の結晶形態IIを提供する。
の結晶形態IIIであって:
約10.8±0.2°及び20.5±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、化合物A半水和物の結晶形態IIIを提供する。
の結晶形態IVであって:
約12.3±0.2°、21.3±0.2°及び24.1±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、化合物Aセスキ水和物の結晶形態IVを提供する。
の結晶形態Vであって:
約14.1±0.2°、21.0±0.2°及び29.6±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、化合物A一水和物の結晶形態Vを提供する。
の結晶形態VIであって:
約10.4±0.2°、12.1±0.2°、16.6±0.2°、20.7±0.2°、22.8±0.2°及び27.3±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、化合物A一水和物の結晶形態VIを提供する。
の結晶形態VIIであって:
約13.1±0.2°、19.9±0.2°及び20.2±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、化合物Aセスキ水和物の結晶形態VIIを提供する。
の結晶形態VIIIであって:
約13.0±0.2°、16.8±0.2°、19.4±0.2°、21.7±0.2°、22.9±0.2°及び27.4±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、化合物A半水和物の結晶形態VIIIを提供する。
別の実施形態では、本発明は、本発明の結晶形態I、II、III、IV、V、VI、VII又はVIIIのうちのいずれか1つ又は複数及び1つ又は複数の薬学的に許容できる担体を含む、医薬組成物を提供する。
1)好ましい本発明の結晶形態は良好な安定性を有し、結晶形態の色及び特性は、周囲温度で長期保存した後(例えば180日の保存)に未変化のままである。加えて、好ましい本発明の結晶形態は、高温又は高湿条件下でも良好な安定性を有する。例えば、結晶形態Iが高温条件下(例えば60℃)で30日保存された後、その結晶形態は変化しなかった。
(1)粉末X線回折(XRPD)
機器モデル:LynxEye検出器を備えたBruker D8 advance
試験条件:アノードの標的材料は銅であり、ライトパイプを(40KV 40mA)に設定し、試料に対する2θ走査角度を3°~40°とし、走査ステップを0.02°とした。
(2)示差走査熱量測定分析(DSC)
機器モデル:TA Discovery DSC 250(TA Instruments、US)
試験条件:加熱速度を10℃/分として、乾燥窒素をパージガスとして使用した。
(3)熱重量分析(TGA)
機器モデル:Discovery TGA 55(TA Instruments、US)
試験条件:加熱炉中の自動秤量、加熱速度を10℃/分として、乾燥窒素をパージガスとして使用した。
(4)偏光顕微鏡分析(PLM)
機器モデル:偏光顕微鏡ECLIPSE LV100POL(Nikon、JPN)
化合物A-1(100g、0.54mol)を1,4-ジオキサン(700mL)に溶解し、出発材料SM1(136g、0.81mol)、K2CO3(149g、1.08mol)及びPd(PPh3)4(6.2g、5.4mmol)を順次添加し、続けて精製水(35mL)を添加し、窒素でのパージを3回行った。窒素の保護下で、反応を100℃で18時間行った。LC-MSは、出発材料の反応が実質的に完了したことを示した。反応溶液を室温に冷却し、濾過し、濾過ケーキを1,4-ジオキサン(200mL)で洗浄した。濾液を減圧下で濃縮して1,4-ジオキサンを除去し、続けて精製水(200mL)を添加し、酢酸エチル(400mL×3)で抽出した。有機相を合わせ、無水硫酸ナトリウム(100g)で30分乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮して粗生成物を得た。粗生成物をカラムクロマトグラフィーによりシリカゲル上で精製し(石油エーテル:酢酸エチル=20:1~10:1)、化合物A-2を得た(79g、黄色の油状物、収率:99.75%)。
化合物A-2(79g、0.53mol)を無水メタノール(700mL)に溶解し、10% パラジウム/炭素(16g)を添加し、反応を水素下で(0.4MPa)室温で18時間行った。LC-MSは、少量の出発材料が残存していることを示した。パラジウム/炭素(4g)を補充し、反応を水素下で(0.4MPa)室温で18時間続けた。LC-MSは、出発材料の反応が完了したことを示した。反応溶液を濾過し、濾過ケーキをメタノール(100mL)で洗浄し、濾液を減圧下で濃縮し、粗生成物である化合物A-3を得た(80g、橙色の油性液体、収率:99.96%)。
化合物N,N-ジメチルエタノールアミン(46.3g、0.52mol)を、n-ヘキサン(400mL)に溶解した。窒素の保護下で、反応物を-15℃~-20℃に冷却し、2.4M/L n-ブチルリチウム(434mL、1.04mol)をゆっくりと滴下添加した。滴下添加の完了後、反応を該温度で30分保持し、次にトルエン(200mL)中の化合物A-3の溶液(40g、0.26mol)を-15℃~-20℃でゆっくりと滴下添加した。滴下添加の完了後、反応を該温度で30分保持した。反応溶液を-70℃に冷却し、トルエン(500mL)中の四臭化炭素の溶液(172.4g、0.52mol)をゆっくりと滴下添加し、温度を-70℃~-75℃で調節した。滴下添加の完了後、反応を該温度で1時間保持した。LC-MSは、出発材料の反応が完了したことを示した。反応を、水(500mL)を添加することによりクエンチし、酢酸エチル(500mL×3)で抽出した。有機相を合わせ、飽和ブライン(500mL)で1回洗浄し、無水硫酸ナトリウム(400g)で半時間乾燥し、濾過し、濃縮した。粗生成物をカラムクロマトグラフィーによりシリカゲル上で単離し(石油エーテル:酢酸エチル=200:1~50:1)、化合物A-4を得た(25g、淡黄色の油性液体、収率:41.81%)。
化合物A-4(25g、0.11mol)をジクロロメタン(300mL)に溶解した。窒素の保護下で、反応物を0℃~5℃に冷却し、三臭化ホウ素の溶液(140.3g、0.55mol)をゆっくりと添加した。添加の完了後、反応溶液を加温還流し、反応を18時間行った。LC-MSは、出発材料の反応が完了したことを示した。反応溶液を室温に冷却し、500gの氷にゆっくりと滴下添加した。滴下添加の完了後、重炭酸ナトリウムの飽和溶液を滴下添加してpHを7~8に調節した。反応物を濾過し、濾過ケーキを酢酸エチル(400mL)で3回洗浄し、濾液を分離し、水性相を再度酢酸エチル(400mL×3)で抽出した。すべての有機相を合わせ、無水硫酸ナトリウム(500g)で半時間乾燥し、濾過し、濾液を減圧下で濃縮し、化合物A-5を得た(20g、淡黄色の固体、収率:84.17%)。
化合物A-5(10g、0.047mol)をDMF(50mL)に溶解した。窒素の保護下で、炭酸カリウム(12.8g、0.093mol)及びブロモアセトニトリル(8.4g、0.07mol)を順次添加し、反応物を室温で2時間撹拌した。LC-MSは、出発材料の反応が完了したことを示した。反応を、水(50mL)を添加することによりクエンチし、酢酸エチル(50mL×4)で抽出した。合わせた有機相を飽和ブライン(50mL×3)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを添加し、半時間乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、粗生成物をカラムクロマトグラフィーによりシリカゲル上で単離し(石油エーテル:酢酸エチル=20:1~5:1)化合物A-6を得た(4g、淡黄色の固体、収率:33.38%)。
化合物A-6(4g、0.016mol)をDMF(50mL)に溶解した。窒素の保護下で、tert-ブトキシビス(ジメチルアミノ)メタン(8.2g、0.048mol)を添加し、反応物を100℃に加熱し、2時間撹拌した。LC-MSは、出発材料の反応が完了したことを示した。反応溶液を室温に冷却し、水(50mL)を添加することによりクエンチし、次に酢酸エチル(50mL×3)で抽出した。有機相を次に飽和ブライン(50mL×3)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを添加し、半時間乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、粗生成物をカラムクロマトグラフィーによりシリカゲル上で単離し(石油エーテル:酢酸エチル=10:1~5:1)化合物A-7を得た(3.8g、淡黄色の固体、収率:66.90%)。MS m/z (ESI): 309.7 [M-45+H]+.
化合物A-7(3.54g、0.01mol)をDMF(25mL)に溶解した。窒素の保護下で、アニリン臭化水素酸塩(2.08g、0.012mol)を添加し、反応物を100℃に加熱し、2時間撹拌した。LC-MSは、出発材料の反応が完了したことを示した。反応溶液を室温に冷却し、水(25mL)を添加することによりクエンチし、酢酸エチル(20mL×3)で抽出した。有機相を次に飽和ブライン(20mL×3)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムを添加し、半時間乾燥し、濾過した。濾液を減圧下で濃縮し、粗生成物をカラムクロマトグラフィーによりシリカゲル上で単離し(石油エーテル:酢酸エチル=20:1~5:1)化合物A-8を得た(3.1g、淡黄色の固体、収率:86.59%)。
グアニジン塩酸塩(2.4g、25.2mmol)を無水エタノール(50mL)に添加した。窒素の保護下で、ナトリウムメトキシド(2.4g、25.2mmol)を添加し、反応物を室温で半時間撹拌し、続けて化合物A-8(3g、8.4mmol)を添加した。添加の完了後、反応溶液を加熱還流し、反応を18時間行った。LC-MSは、出発材料の反応が完了したことを示した。反応溶液を室温に冷却し、濾過し、濾液を減圧下で濃縮し、粗生成物をカラムクロマトグラフィーによりシリカゲル上で単離し(DCM:MeOH=50:1~20:1)化合物A-9を得た(900mg、淡黄色の固体、収率:33.17%、化合物2)。
化合物A-9(3g、9.29mmol)を1,4-ジオキサン(40mL)に溶解し、トリメチルシリルアセチレン(9g、92.9mmol)、DIEA(12g、92.9mmol)、CuI(0.6g)及びPd(PPh3)2Cl2(0.6g)を順次添加し、窒素でのパージを3回行った。窒素の保護下で、反応を50℃で2時間行った。LC-MSは、出発材料の反応が実質的に完了したことを示した。反応溶液を室温に冷却し、濾過し、濾過ケーキを1,4-ジオキサン(10mL)で洗浄し、濾液を減圧下で濃縮してジオキサンを除去し、続けて精製水(100mL)を添加し、酢酸エチル(100mL×3)で抽出した。有機相を合わせ、無水硫酸ナトリウム(20g)を添加し、30分乾燥し、濾過し、減圧下で濃縮して粗生成物を得、カラムクロマトグラフィーによりシリカゲル上で精製し(石油エーテル:酢酸エチル=20:1~5:1)化合物A-10を得た(2g、収率63.1%)。MS m/z (ESI): 341.9 [M+H]+.
化合物A-10(2g、5.87mmol)をTHF(20mL)に溶解し、TBAF(1.53g、5.87mmol)を添加した。反応を室温で10分行った。LC-MSは、出発材料の反応が完了したことを示した。反応溶液を回転蒸発乾固し、油性の残渣を得た。残渣をカラムクロマトグラフィーによりシリカゲル上で精製し(石油エーテル:酢酸エチル=1:3)、化合物Aを得た(0.7g、黄色の固体、収率44.6%)。
10.0gの化合物Aを100mLの水に添加し、6M塩酸を0℃で固体が完全に溶解するまで滴下添加し、混合物を室温で1時間撹拌した。溶液を濾過した後、濾液を収集し、1M NaOH水溶液を0℃でpHが12になるまで滴下添加し、白色の固体を沈殿させた。固体を濾過後に収集した。得られた固体を100mLの水中で2時間撹拌し、固体を濾取した。固体を50℃で6時間真空乾燥し、得られた固体は標的の結晶形態であった。粉末X線回折検出により得られたXRPDパターンを図1に示し;DSC及びTGA分析により得られたDSC及びTGAグラフを図2に示し;試料を走査型電子顕微鏡下で観察し、結晶形態学を図3に示す。
1.3gの化合物Aを100mLのテトラヒドロフランに添加し、溶解が完了するまで室温で撹拌し、結果として生じた溶液を濾過し、濾液を収集した。300mlのn-ヘプタンを濾液にゆっくりと滴下添加し、混合物を終夜室温で撹拌して固体を沈殿させ、懸濁液を濾過して結晶形態を得た。粉末X線回折検出により得られたXRPDパターンは、図1におけるものと同じである。
2.0gの化合物Aを80mLのテトラヒドロフランに添加し、溶解が完了するまで50℃で撹拌し、熱いうちに濾過した。濾液を5℃に冷却し、100mlのメチルtert-ブチルエーテルを濾液にゆっくりと滴下添加し、混合物を5℃で30分撹拌した。固体を沈殿させ、懸濁液を濾過して結晶形態を得た。粉末X線回折検出により得られたXRPDパターンは、図1におけるものと同じである。
2.0gの化合物Aを100mLのメタノール(1wt%の水を含有する)中に懸濁し、室温で3日撹拌し、固体を濾取した。粉末X線回折検出により得られたXRPDパターンを図4に示し;DSC及びTGA分析により得られたDSC及びTGAグラフを図5に示す。熱重量分析(TGA)は、結晶形態試料が25~100℃の間で6.2%の重量減少を有し、1分子の結晶水を含有する試料の理論的な水含有量が6.27%であるため、結晶形態IIが1分子の結晶水を含有することを示した。
4.0gの化合物Aを50mLのジメチルスルホキシドに添加し、溶解が完了するまで室温で撹拌した。結果として生じた溶液を濾過し、濾液を収集した。100mlの水を濾液にゆっくりと滴下添加し、結果として生じた混合物を室温で終夜撹拌し、固体を沈殿させた。懸濁液を濾過して結晶形態を得た。粉末X線回折検出により得られたXRPDパターンを図6に示し;DSC及びTGA分析により得られたDSC及びTGAグラフを図7に示す。熱重量分析(TGA)は、結晶形態試料が25~80℃の間で3.6%の重量減少を有し、0.5分子の結晶水を含有する試料の理論的な水含有量が3.24%であるため、結晶形態IIIが0.5分子の結晶水を含有することを示した。
2.0gの化合物Aを100mL水中に懸濁し、室温で3日撹拌し、固体を濾取した。粉末X線回折検出により得られたXRPDパターンを図8に示し;DSC及びTGA分析により得られたDSC及びTGAグラフを図9に示す。熱重量分析(TGA)は、結晶形態試料が25~100℃の間で9.4%の重量減少を有し、1.5分子の結晶水を含有する試料の理論的な水含有量が9.12%であるため、結晶形態IVが1.5分子の結晶水を含有することを示した。
1.3gの化合物Aを100mLのテトラヒドロフランに添加し、溶解が完了するまで室温で撹拌した。結果として生じた溶液を濾過し、濾液を収集した。300mlの水を濾液にゆっくりと滴下添加し、混合物を終夜室温で撹拌して固体を沈殿させた。懸濁液を濾過して結晶形態を得た。粉末X線回折検出により得られたXRPDパターンは、図8におけるものと同じである。
4.0gの化合物Aを50mLのジメチルスルホキシドに添加し、溶解が完了するまで室温で撹拌し、濾過後に濾液を収集した。濾液に100mlのメタノール(1wt%の水を含有する)をゆっくりと滴下添加し、終夜室温で撹拌して固体を沈殿させた。懸濁液を濾過して結晶形態を得た。粉末X線回折検出により得られたXRPDパターンを図10に示し;DSC及びTGA分析により得られたDSC及びTGAグラフを図11に示す。熱重量分析(TGA)は、結晶形態試料が25~80℃の間で6.8%の重量減少を有し、1分子の結晶水を含有する試料の理論的な水含有量が6.27%であるため、結晶形態Vが1分子の結晶水を含有することを示した。
5.0gの化合物Aをアセトンと水との100mLの混合溶媒(4/1)に添加して懸濁液を形成し、室温で3日撹拌し、固体を濾取した。粉末X線回折検出により得られたXRPDパターンを図12に示し;DSC及びTGA分析により得られたDSC及びTGAグラフを図13に示す。
2.0gの化合物Aを100mLのエタノールと水との混合溶媒(1/1)に添加し、溶解が完了するまで50℃で撹拌し、熱いうちに濾過した。濾液をゆっくりと5℃に冷却し、固体を濾取した。粉末X線回折検出により得られたXRPDパターンを図14に示し;DSC及びTGA分析により得られたDSC及びTGAグラフを図15に示す。熱重量分析(TGA)は、結晶形態試料が25~75℃の間で9.5%の重量減少を有し、1.5分子の結晶水を含有する試料の理論的な水含有量が9.12%であるため、結晶形態VIIが1.5分子の結晶水を含有することを示した。
2.0gの化合物Aを100mLのアセトンと水との混合溶媒(1/1)に添加し、溶解が完了するまで50℃で撹拌し、熱いうちに濾過した。濾液をゆっくりと5℃に冷却し、固体を濾取した。粉末X線回折検出により得られたXRPDパターンを図16に示し;DSC及びTGA分析により得られたDSC及びTGAグラフを図17に示す。熱重量分析(TGA)は、結晶形態試料が25~105℃の間で3.6%の重量減少を有し、0.5分子の結晶水を含有する試料の理論的な水含有量が3.24%であるため、結晶形態VIIIが0.5分子の結晶水を含有することを示した。
実験例1:室温安定性試験
実施例2において調製した結晶形態I、実施例5において調製した結晶形態II、実施例6において調製した結晶形態III、実施例7において調製した結晶形態IV、実施例9において調製した結晶形態V、実施例10において調製した結晶形態VI、実施例11において調製した結晶形態VII、及び実施例12において調製した結晶形態VIIIを、それぞれ薬用の低密度ポリエチレンバッグに入れ、封をして、180日室温に置いた。XRPDを、Bruker D8 advance粉末X線回折装置で測定した。結果は、結晶形態I、II、III、IV、V、VI、VII及びVIIIの試料が180日後に結晶形態の変化を有さず、安定性が良好であることを示した。図18は、180日室温に置いた前後の結晶形態IのXRPDパターンの比較を示す。
実施例2において調製した結晶形態Iの安定性を60℃で調査し、XRPDパターンを、Bruker D8 advance粉末X線回折装置で測定した(図19を参照されたい)。結果は、結晶形態Iの試料が5、10及び30日後に結晶形態の変化を有さず、結晶形態Iの安定性が優秀であることを示した。
実施例2において調製した結晶形態Iの安定性を92.5%RH/25℃の条件下で調査し、XRPDパターンを、Bruker D8 advance粉末X線回折装置で測定した(図20を参照されたい)。結果は、結晶形態Iの試料が5、10及び30日後に結晶形態の変化を有さず、結晶形態Iの安定性が優秀であることを示した。
実施例2において調製した結晶形態Iを2分物理的に研磨し、次に、XRPDパターンを、Bruker D8 advance粉末X線回折装置で測定した(図21を参照されたい)。結果は、結晶形態Iの試料が結晶形態の変化を有さず、結晶形態Iの安定性が優秀であることを示した。
さらなる実施形態は以下のとおりである。
[実施形態1]
化合物A無水物
の結晶形態Iであって:
約11.9±0.2°、12.3±0.2°、13.9±0.2°、19.8±0.2°及び20.3±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含み、好ましくは約10.1±0.2°、11.9±0.2°、12.3±0.2°、13.9±0.2°、17.8±0.2°、18.6±0.2°、19.8±0.2°及び20.3±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含み、最も好ましくは約6.2±0.2°、10.1±0.2°、11.9±0.2°、12.3±0.2°、13.9±0.2°、16.9±0.2°、17.8±0.2°、18.6±0.2°、19.8±0.2°、20.3±0.2°、21.8±0.2°、23.0±0.2°、23.6±0.2°、24.1±0.2°、26.2±0.2°、26.5±0.2°、27.8±0.2°、28.5±0.2°、29.3±0.2°及び30.6±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、化合物A無水物の結晶形態I。
[実施形態2]
実施形態1に記載の化合物A無水物の結晶形態Iを調製するための方法であって、以下のステップ:
1)化合物Aを水に添加し、続けて酸を添加し、化合物Aを撹拌して溶解し、溶液を得て、任意選択で濾過して濾液を得るステップ;
2)塩基をステップ1)で得られた溶液又は濾液に添加し、沈殿した固体を濾過により収集するステップ;並びに
3)前記得られた固体を水に添加し、撹拌し、濾過して前記固体を収集し、任意選択で乾燥して結晶形態Iを得るステップを含むか;
或いは、化合物Aを良溶媒に溶解して溶液を形成するステップ、次に逆溶媒を溶液に添加し、撹拌し、固体を沈殿させ、濾過して結晶形態を得るステップを含む、方法。
[実施形態3]
化合物A一水和物
の結晶形態IIであって:
約13.0±0.2°、19.5±0.2°及び19.9±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含み、好ましくは約9.6±0.2°、13.0±0.2°、19.5±0.2°、19.9±0.2°及び22.7±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含み、最も好ましくは約9.6±0.2°、10.9±0.2°、13.0±0.2°、14.9±0.2°、15.8±0.2°、16.8±0.2°、19.5±0.2°、19.9±0.2°、22.7±0.2°、23.7±0.2°、25.2±0.2°、26.0±0.2°、28.5±0.2°、29.0±0.2°、30.0±0.2°及び32.5±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、化合物A一水和物の結晶形態II。
[実施形態4]
化合物A半水和物
の結晶形態IIIであって:
約10.8±0.2°及び20.5±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含み、好ましくは約10.8±0.2°、19.3±0.2°、20.5±0.2°、21.7±0.2°及び26.9±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含み、最も好ましくは約10.8±0.2°、13.0±0.2°、15.0±0.2°、15.4±0.2°、16.5±0.2°、17.3±0.2°、19.3±0.2°、19.9±0.2°、20.5±0.2°、21.7±0.2°、23.3±0.2°、25.1±0.2°、26.5±0.2°、26.9±0.2°、28.7±0.2°及び32.2±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、化合物A半水和物の結晶形態III。
[実施形態5]
化合物Aセスキ水和物
の結晶形態IVであって:
約12.3±0.2°、21.3±0.2°及び24.1±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含み、好ましくは約12.3±0.2°、12.6±0.2°、17.2±0.2°、20.0±0.2°、20.6±0.2°、21.3±0.2°、23.8±0.2°、24.1±0.2°、25.0±0.2°及び27.9±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含み、最も好ましくは約12.3±0.2°、12.6±0.2°、14.3±0.2°、17.2±0.2°、20.0±0.2°、20.6±0.2°、21.3±0.2°、23.2±0.2°、23.8±0.2°、24.1±0.2°、25.0±0.2°、25.7±0.2°、27.9±0.2°、31.2±0.2°及び31.7±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、化合物Aセスキ水和物の結晶形態IV。
[実施形態6]
化合物A一水和物
の結晶形態Vであって:
約14.1±0.2°、21.0±0.2°及び29.6±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含み、好ましくは約8.7±0.2°、9.4±0.2°、11.9±0.2°、14.1±0.2°、15.8±0.2°、16.8±0.2°、18.9±0.2°、19.9±0.2°、20.6±0.2°、21.0±0.2°、22.5±0.2°及び29.6±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含み、最も好ましくは約8.7±0.2°、9.4±0.2°、11.6±0.2°、11.9±0.2°、12.4±0.2°、14.1±0.2°、14.5±0.2°、15.8±0.2°、16.2±0.2°、16.8±0.2°、17.6±0.2°、18.2±0.2°、18.9±0.2°、19.9±0.2°、20.6±0.2°、21.0±0.2°、22.5±0.2°、23.0±0.2°、23.6±0.2°、24.4±0.2°、25.2±0.2°、27.0±0.2°及び29.6±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、化合物A一水和物の結晶形態V。
[実施形態7]
化合物A一水和物
の結晶形態VIであって:
約10.4±0.2°、12.1±0.2°、16.6±0.2°、20.7±0.2°、22.8±0.2°及び27.3±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含み、好ましくは約8.7±0.2°、10.4±0.2°、12.1±0.2°、15.4±0.2°、16.6±0.2°、19.5±0.2°、20.7±0.2°、21.2±0.2°、22.8±0.2°及び27.3±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含み、最も好ましくは約8.7±0.2°、10.4±0.2°、12.1±0.2°、13.4±0.2°、14.7±0.2°、15.4±0.2°、16.6±0.2°、17.4±0.2°、19.5±0.2°、20.7±0.2°、21.2±0.2°、22.1±0.2°、22.8±0.2°、23.6±0.2°、26.0±0.2°、27.3±0.2°、28.0±0.2°及び30.4±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、化合物A一水和物の結晶形態VI。
[実施形態8]
化合物Aセスキ水和物
の結晶形態VIIであって:
約13.1±0.2°、19.9±0.2°及び20.2±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含み、好ましくは約13.1±0.2°、16.9±0.2°、19.9±0.2°、20.2±0.2°、24.9±0.2°及び28.8±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含み、最も好ましくは約9.4±0.2°、10.8±0.2°、13.1±0.2°、15.4±0.2°、16.9±0.2°、18.8±0.2°、19.9±0.2°、20.2±0.2°、22.2±0.2°、23.2±0.2°、24.9±0.2°、26.4±0.2°及び28.8±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、化合物Aセスキ水和物の結晶形態VII。
[実施形態9]
化合物A半水和物
の結晶形態VIIIであって:
約13.0±0.2°、16.8±0.2°、19.4±0.2°、21.7±0.2°、22.9±0.2°及び27.4±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含み、好ましくは約10.3±0.2°、13.0±0.2°、16.8±0.2°、19.1±0.2°、19.4±0.2°、21.1±0.2°、21.7±0.2°、22.9±0.2°、25.8±0.2°及び27.4±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含み、最も好ましくは約8.7±0.2°、10.3±0.2°、10.8±0.2°、13.0±0.2°、14.1±0.2°、14.8±0.2°、16.8±0.2°、17.5±0.2°、19.1±0.2°、19.4±0.2°、21.1±0.2°、21.7±0.2°、22.3±0.2°、22.9±0.2°、25.8±0.2°、27.4±0.2°、27.8±0.2°、30.4±0.2°及び31.6±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、化合物A半水和物の結晶形態VIII。
[実施形態10]
実施形態1に記載の結晶形態I、実施形態3に記載の結晶形態II、実施形態4に記載の結晶形態III、実施形態5に記載の結晶形態IV、実施形態6に記載の結晶形態V、実施形態7に記載の結晶形態VI、実施形態8に記載の結晶形態VII又は実施形態9に記載の結晶形態VIII、及び1つ又は複数の薬学的に許容できる担体を含む、医薬組成物。
[実施形態11]
P2X3及び/又はP2X2/3受容体アンタゴニストにより媒介されている疾患の予防又は処置のための医薬の製造における、実施形態1に記載の結晶形態I、実施形態3に記載の結晶形態II、実施形態4に記載の結晶形態III、実施形態5に記載の結晶形態IV、実施形態6に記載の結晶形態V、実施形態7に記載の結晶形態VI、実施形態8に記載の結晶形態VII又は実施形態9に記載の結晶形態VIIIの使用であって;好ましくは、前記疾患が、膀胱容量減少、頻尿、切迫尿失禁、緊張性尿失禁、過活動膀胱、前立腺肥大症、前立腺炎、排尿筋反射亢進、夜間頻尿、尿意逼迫、骨盤内過敏症、尿道炎、骨盤痛症候群、前立腺痛、膀胱炎及び特発性膀胱知覚過敏から選択される尿路系疾患;炎症性疼痛、術後疼痛、内臓痛、歯痛、月経痛、中枢痛、火傷による疼痛、片頭痛及び群発頭痛、神経傷害、神経炎、神経痛、中毒、虚血性障害、間質性膀胱炎、がん疼痛、ウイルス、寄生虫又は細菌感染、外傷後障害並びに過敏性腸症候群に伴う疼痛から選択される疼痛疾患;心血管系疾患、好ましくは高血圧;慢性閉塞性肺疾患、喘息及び気管支痙攣から選択される呼吸器疾患;過敏性腸症候群(好ましくは下痢型過敏性腸症候群)、炎症性腸疾患、胆仙痛、腎疝痛及び胃腸膨満に伴う疼痛から選択される胃腸疾患からなる群から選択される、使用。
Claims (39)
- 10.1±0.2°、11.9±0.2°、12.3±0.2°、13.9±0.2°、17.8±0.2°、18.6±0.2°、19.8±0.2°及び20.3±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、請求項1に記載の化合物A無水物の結晶形態I。
- 6.2±0.2°、10.1±0.2°、11.9±0.2°、12.3±0.2°、13.9±0.2°、16.9±0.2°、17.8±0.2°、18.6±0.2°、19.8±0.2°、20.3±0.2°、21.8±0.2°、23.0±0.2°、23.6±0.2°、24.1±0.2°、26.2±0.2°、26.5±0.2°、27.8±0.2°、28.5±0.2°、29.3±0.2°及び30.6±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、請求項1又は2に記載の化合物A無水物の結晶形態I。
- 245/255℃での吸熱/発熱ピークを含むDSCグラフを有する、請求項1~3のいずれか一項に記載の化合物A無水物の結晶形態I。
- 熱重量分析では、100~150℃に加熱した場合に0.1%の重量減少を有する、請求項1~4のいずれか一項に記載の化合物A無水物の結晶形態I。
- 請求項1~5のいずれか一項に記載の化合物A無水物の結晶形態Iを調製するための方法であって、以下のステップ:
1)化合物Aを水に添加し、続けて酸を添加し、化合物Aを撹拌して溶解し、溶液を得て、任意選択で濾過して濾液を得るステップ;
2)塩基をステップ1)で得られた溶液又は濾液に添加し、沈殿した固体を濾過により収集するステップ;並びに
3)前記得られた固体を水に添加し、撹拌し、濾過して前記固体を収集し、任意選択で乾燥して結晶形態Iを得るステップを含むか;
或いは、化合物Aを良溶媒に溶解して溶液を形成するステップ、次に逆溶媒を溶液に添加し、撹拌し、固体を沈殿させ、濾過して結晶形態を得るステップを含む、方法。 - 前記酸が、酢酸、トリフルオロ酢酸、塩酸又は硫酸である、請求項6に記載の方法。
- 前記塩基が、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム又はアンモニアである、請求項6に記載の方法。
- 前記良溶媒は、3~10個の炭素原子を有する環状エーテルであり、及び/又は
前記逆溶媒は、5~10個の炭素原子を有する炭水化物、又は2~6個の炭素原子を有する直鎖エーテルである、請求項6に記載の方法。 - 前記良溶媒は、テトラヒドロフラン、2-メチルテトラヒドロフラン又はジオキサンである、及び/又は
前記逆溶媒は、ジクロロメタン、トリクロロメタン、n-ヘキサン、n-ヘプタン、トルエン、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル又はメチルtert-ブチルエーテルである、請求項6に記載の方法。 - 前記良溶媒は、テトラヒドロフランであり、
前記逆溶媒は、n-ヘプタン又はメチルtert-ブチルエーテルである、請求項10に記載の方法。 - 化合物Aと前記良溶媒との重量/容積比(g/mL)は、1:(30~120)である、請求項6に記載の方法。
- 化合物Aと前記良溶媒との重量/容積比(g/mL)は、1:40又は1:100である、請求項6に記載の方法。
- 前記良溶媒と前記逆溶媒との容積比は、1:1~1:5である、請求項6に記載の方法。
- 9.6±0.2°、13.0±0.2°、19.5±0.2°、19.9±0.2°及び22.7±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、請求項15に記載の化合物A一水和物の結晶形態II。
- 9.6±0.2°、10.9±0.2°、13.0±0.2°、14.9±0.2°、15.8±0.2°、16.8±0.2°、19.5±0.2°、19.9±0.2°、22.7±0.2°、23.7±0.2°、25.2±0.2°、26.0±0.2°、28.5±0.2°、29.0±0.2°、30.0±0.2°及び32.5±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、請求項15又は16に記載の化合物A一水和物の結晶形態II。
- 10.8±0.2°、19.3±0.2°、20.5±0.2°、21.7±0.2°及び26.9±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、請求項18に記載の化合物A半水和物の結晶形態III。
- 10.8±0.2°、13.0±0.2°、15.0±0.2°、15.4±0.2°、16.5±0.2°、17.3±0.2°、19.3±0.2°、19.9±0.2°、20.5±0.2°、21.7±0.2°、23.3±0.2°、25.1±0.2°、26.5±0.2°、26.9±0.2°、28.7±0.2°及び32.2±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、請求項18又は19に記載の化合物A半水和物の結晶形態III。
- 12.3±0.2°、12.6±0.2°、17.2±0.2°、20.0±0.2°、20.6±0.2°、21.3±0.2°、23.8±0.2°、24.1±0.2°、25.0±0.2°及び27.9±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、請求項21に記載の化合物Aセスキ水和物の結晶形態IV。
- 12.3±0.2°、12.6±0.2°、14.3±0.2°、17.2±0.2°、20.0±0.2°、20.6±0.2°、21.3±0.2°、23.2±0.2°、23.8±0.2°、24.1±0.2°、25.0±0.2°、25.7±0.2°、27.9±0.2°、31.2±0.2°及び31.7±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、請求項21又は22に記載の化合物Aセスキ水和物の結晶形態IV。
- 8.7±0.2°、9.4±0.2°、11.9±0.2°、14.1±0.2°、15.8±0.2°、16.8±0.2°、18.9±0.2°、19.9±0.2°、20.6±0.2°、21.0±0.2°、22.5±0.2°及び29.6±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、請求項24に記載の化合物A一水和物の結晶形態V。
- 8.7±0.2°、9.4±0.2°、11.6±0.2°、11.9±0.2°、12.4±0.2°、14.1±0.2°、14.5±0.2°、15.8±0.2°、16.2±0.2°、16.8±0.2°、17.6±0.2°、18.2±0.2°、18.9±0.2°、19.9±0.2°、20.6±0.2°、21.0±0.2°、22.5±0.2°、23.0±0.2°、23.6±0.2°、24.4±0.2°、25.2±0.2°、27.0±0.2°及び29.6±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、請求項24又は25に記載の化合物A一水和物の結晶形態V。
- 8.7±0.2°、10.4±0.2°、12.1±0.2°、15.4±0.2°、16.6±0.2°、19.5±0.2°、20.7±0.2°、21.2±0.2°、22.8±0.2°及び27.3±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、請求項27に記載の化合物A一水和物の結晶形態VI。
- 8.7±0.2°、10.4±0.2°、12.1±0.2°、13.4±0.2°、14.7±0.2°、15.4±0.2°、16.6±0.2°、17.4±0.2°、19.5±0.2°、20.7±0.2°、21.2±0.2°、22.1±0.2°、22.8±0.2°、23.6±0.2°、26.0±0.2°、27.3±0.2°、28.0±0.2°及び30.4±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、請求項27又は28に記載の化合物A一水和物の結晶形態VI。
- 13.1±0.2°、16.9±0.2°、19.9±0.2°、20.2±0.2°、24.9±0.2°及び28.8±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、請求項30に記載の化合物Aセスキ水和物の結晶形態VII。
- 9.4±0.2°、10.8±0.2°、13.1±0.2°、15.4±0.2°、16.9±0.2°、18.8±0.2°、19.9±0.2°、20.2±0.2°、22.2±0.2°、23.2±0.2°、24.9±0.2°、26.4±0.2°及び28.8±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、請求項30又は31に記載の化合物Aセスキ水和物の結晶形態VII。
- 10.3±0.2°、13.0±0.2°、16.8±0.2°、19.1±0.2°、19.4±0.2°、21.1±0.2°、21.7±0.2°、22.9±0.2°、25.8±0.2°及び27.4±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、請求項33に記載の化合物A半水和物の結晶形態VIII。
- 8.7±0.2°、10.3±0.2°、10.8±0.2°、13.0±0.2°、14.1±0.2°、14.8±0.2°、16.8±0.2°、17.5±0.2°、19.1±0.2°、19.4±0.2°、21.1±0.2°、21.7±0.2°、22.3±0.2°、22.9±0.2°、25.8±0.2°、27.4±0.2°、27.8±0.2°、30.4±0.2°及び31.6±0.2°の回折角度(2θ)での特徴的なピークを含むXRPDパターンを有する、請求項33又は34に記載の化合物A半水和物の結晶形態VIII。
- 請求項1~5のいずれか一項に記載の結晶形態I、請求項15~17のいずれか一項に記載の結晶形態II、請求項18~20のいずれか一項に記載の結晶形態III、請求項21~23のいずれか一項に記載の結晶形態IV、請求項24~26のいずれか一項に記載の結晶形態V、請求項27~29のいずれか一項に記載の結晶形態VI、請求項30~32のいずれか一項に記載の結晶形態VII又は請求項33~35のいずれか一項に記載の結晶形態VIII、及び1つ又は複数の薬学的に許容できる担体を含む、医薬組成物。
- P2X3及び/又はP2X2/3受容体アンタゴニストにより媒介されている疾患の予防又は処置のための医薬の製造における、請求項1~5のいずれか一項に記載の結晶形態I、請求項15~17のいずれか一項に記載の結晶形態II、請求項18~20のいずれか一項に記載の結晶形態III、請求項21~23のいずれか一項に記載の結晶形態IV、請求項24~26のいずれか一項に記載の結晶形態V、請求項27~29のいずれか一項に記載の結晶形態VI、請求項30~32のいずれか一項に記載の結晶形態VII又は請求項33~35のいずれか一項に記載の結晶形態VIIIの使用。
- 前記疾患が、膀胱容量減少、頻尿、切迫尿失禁、緊張性尿失禁、過活動膀胱、前立腺肥大症、前立腺炎、排尿筋反射亢進、夜間頻尿、尿意逼迫、骨盤内過敏症、尿道炎、骨盤痛症候群、前立腺痛、膀胱炎及び特発性膀胱知覚過敏から選択される尿路系疾患;炎症性疼痛、術後疼痛、内臓痛、歯痛、月経痛、中枢痛、火傷による疼痛、片頭痛及び群発頭痛、神経傷害、神経炎、神経痛、中毒、虚血性障害、間質性膀胱炎、がん疼痛、ウイルス、寄生虫又は細菌感染、外傷後障害並びに過敏性腸症候群に伴う疼痛から選択される疼痛疾患;心血管系疾患;慢性閉塞性肺疾患、喘息及び気管支痙攣から選択される呼吸器疾患;過敏性腸症候群、炎症性腸疾患、胆仙痛、腎疝痛及び胃腸膨満に伴う疼痛から選択される胃腸疾患からなる群から選択される、請求項37に記載の使用。
- 前記心血管系疾患が高血圧であり、前記過敏性腸症候群が下痢型過敏性腸症候群である、請求項38に記載の使用。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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