JP7538361B2 - 再生水中の痕跡量低分子有機物の除去方法 - Google Patents
再生水中の痕跡量低分子有機物の除去方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7538361B2 JP7538361B2 JP2023557481A JP2023557481A JP7538361B2 JP 7538361 B2 JP7538361 B2 JP 7538361B2 JP 2023557481 A JP2023557481 A JP 2023557481A JP 2023557481 A JP2023557481 A JP 2023557481A JP 7538361 B2 JP7538361 B2 JP 7538361B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- water
- concentration
- urea
- ppb
- mass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 143
- 239000005416 organic matter Substances 0.000 title claims description 23
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 18
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 66
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 claims description 66
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 57
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 30
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 30
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 25
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 claims description 21
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 claims description 16
- 229960002163 hydrogen peroxide Drugs 0.000 claims description 15
- 125000005385 peroxodisulfate group Chemical group 0.000 claims description 14
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 13
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 13
- QDHHCQZDFGDHMP-UHFFFAOYSA-N Chloramine Chemical compound ClN QDHHCQZDFGDHMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 claims description 10
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 claims description 6
- 239000010865 sewage Substances 0.000 claims description 4
- NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(ethenyl)benzene;1-ethenyl-2-ethylbenzene;styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1.CCC1=CC=CC=C1C=C.C=CC1=CC=CC=C1C=C NWUYHJFMYQTDRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000003957 anion exchange resin Substances 0.000 claims description 2
- 239000003729 cation exchange resin Substances 0.000 claims description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 229910021642 ultra pure water Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000012498 ultrapure water Substances 0.000 description 5
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 4
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FHHJDRFHHWUPDG-UHFFFAOYSA-L peroxysulfate(2-) Chemical compound [O-]OS([O-])(=O)=O FHHJDRFHHWUPDG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 3
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 1
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 239000003673 groundwater Substances 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 239000010842 industrial wastewater Substances 0.000 description 1
- 239000003456 ion exchange resin Substances 0.000 description 1
- 229920003303 ion-exchange polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000002262 irrigation Effects 0.000 description 1
- 238000003973 irrigation Methods 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F9/00—Multistage treatment of water, waste water or sewage
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/001—Processes for the treatment of water whereby the filtration technique is of importance
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/30—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation
- C02F1/32—Treatment of water, waste water, or sewage by irradiation with ultraviolet light
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/722—Oxidation by peroxides
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/725—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation by catalytic oxidation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/72—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation
- C02F1/76—Treatment of water, waste water, or sewage by oxidation with halogens or compounds of halogens
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
- C02F2001/422—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange using anionic exchangers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F1/00—Treatment of water, waste water, or sewage
- C02F1/42—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange
- C02F2001/425—Treatment of water, waste water, or sewage by ion-exchange using cation exchangers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/30—Organic compounds
- C02F2101/34—Organic compounds containing oxygen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C02—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F—TREATMENT OF WATER, WASTE WATER, SEWAGE, OR SLUDGE
- C02F2101/00—Nature of the contaminant
- C02F2101/30—Organic compounds
- C02F2101/38—Organic compounds containing nitrogen
Landscapes
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Hydrology & Water Resources (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Water Treatments (AREA)
- Treatment Of Water By Oxidation Or Reduction (AREA)
- Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
- Separation Using Semi-Permeable Membranes (AREA)
Description
本発明は、再生水中の痕跡量低分子有機物の除去方法に関する。
工業廃水／下水処理場の放水の従来の再生処理プロセスは、主に、限外ろ過（ＵＦ）と逆浸透（ＲＯ）を組み合わせた方式であり、この方式は、廃水中の大部分の総有機炭素（ＴＯＣ）、総溶解固体（ＴＤＳ）などの汚染物を効果的に除去し、それによって、比較的に高い品質の再生水を生産することができる。ＵＦ＋ＲＯで処理した再生水のＴＯＣ濃度は極めて低い（一般的にＴＯＣ＜１ｍｇ／Ｌ）。再生水は一般工業生産、農業灌漑、都市景観及び地下水の補充などに用いることができるが、集積回路、フラットディスプレイ、新エネルギーなど、生産の原水に対する要件が高い電子／新エネルギーなどの業界にとって、再生水は電子用超純水の製造に直接用いることができず、ＲＯによる生成水では、ＴＯＣのほとんどが低分子有機物であり、従来の超純水製造システムでは有効に除去することが困難であることがその要因である。活性炭、イオン交換樹脂、逆浸透、ＴＯＣ－ＵＶなどのプロセスユニットは低分子有機物に対する処理作用が限られており、除去率が１０％～２０％でしかなく、そのため、再生水中の低分子有機物は超純水システムの生成水のＴＯＣが基準値を超え、最終的に電子製品の収率に大きな影響をもたらす。
ＵＦ＋ＲＯで処理した再生水中の低分子有機物は、主に尿素、トリハロメタンなどの分子量が小さく、電荷を持たない中性有機物であり、その中で尿素の占める割合が最も大きい。典型的な市政下水処理場の放水は、逆浸透を経ると、水中の尿素の濃度が一般的に８０ｐｐｂ～１２０ｐｐｂであり、市政水道水中の尿素の濃度（１０ｐｐｂ～３０ｐｐｂ）よりはるかに高い。そのため、再生水を電子用超純水の製造に再利用する前に、再生水中の痕跡量低分子有機物、特に尿素を効果的に除去する必要がある。水中の有機物を分解する方法の多くは、有機物濃度に対する処理下限値が有機物濃度１ｐｐｍ程度であるのに対し、再生水中の低分子有機物濃度は８０ｐｐｂ～１２０ｐｐｂであり、従来の処理水中の高濃度有機物の処理下限値よりもはるかに低い。再生水中の痕跡量低分子有機物の既存の処理方法は、プロセスが複雑で、他の問題を引き起こしやすく、除去率が低いという問題がある。
本発明の目的は、プロセスが簡単で、除去率が高い再生水中の痕跡量低分子有機物の除去方法を提供することである。
技術的解決手段
本発明に記載の再生水中の痕跡量低分子有機物の除去方法は、酸化剤を添加した逆浸透再生水を紫外線酸化装置に通し、紫外線の照射下で酸化剤と再生水中の痕跡量低分子有機物を酸化還元反応させ、酸化剤は、成分として、オキシドール６．０質量％～７．０質量％、ペルオキソ二硫酸塩４０．０質量％～４２．０質量％、クロラミン２．０質量％～３．０質量％、及び水４８．０質量％～５０．０質量％を含む。
本発明に記載の再生水中の痕跡量低分子有機物の除去方法は、酸化剤を添加した逆浸透再生水を紫外線酸化装置に通し、紫外線の照射下で酸化剤と再生水中の痕跡量低分子有機物を酸化還元反応させ、酸化剤は、成分として、オキシドール６．０質量％～７．０質量％、ペルオキソ二硫酸塩４０．０質量％～４２．０質量％、クロラミン２．０質量％～３．０質量％、及び水４８．０質量％～５０．０質量％を含む。
反応時間は３０～３００ｓである。反応時間が十分であればあるほど、除去効果が高い。
酸化剤の有効成分濃度と再生水中の尿素の濃度との関係式が、Ｙ＝５．１ｌｎ（Ｘ）＋２．９であり、Ｘは再生水中の尿素の濃度であり、単位がｐｐｂであり、Ｙは酸化剤中の有効成分の総濃度であり、単位がｐｐｍである。有効成分の総濃度は除去効果と正の相関があり、一定範囲内では有効成分の総濃度が高いほど、除去効果が高い。
紫外線照射量と再生水中の尿素の濃度との関係式が、Ｚ＝３．４Ｘ０．８であり、式中、Ｘは再生水中の尿素の濃度であり、単位がｐｐｂであり、Ｚは紫外線照射量であり、単位がｍＪ／ｃｍ２である。紫外線は反応において触媒として作用し、短時間で酸化剤を十分に分解してラジカルを生成し、より優れた触媒効果を得ることを確保するには、十分な照射量の紫外線を照射する必要がある。
前記再生水は、回収した下水処理場の放水を、マルチメディアフィルタ、カートリッジフィルタ、限外ろ過装置、及び逆浸透装置に順次通して、再生水を得る方法によって得られる。
酸化還元反応後の生成水を樹脂カラムに通し、樹脂カラムからの流出水のＴＯＣ濃度を検出することにより酸化還元反応後の生成水中の尿素の濃度を換算する。樹脂カラムからの流出水のＴＯＣ濃度と酸化還元反応後の生成水中の尿素の濃度との関係式が、Ｗ＝０．２Ｘ＋１．３であり、式中、Ｘは酸化還元反応後の生成水中の尿素の濃度であり、単位がｐｐｂであり、Ｗは樹脂カラムからの流出水のＴＯＣ濃度であり、単位がｐｐｂである。
前記樹脂カラム内に強酸性陽イオン交換樹脂と強塩基性陰イオン交換樹脂が充填されている。
本発明の酸化剤は、従来の単一酸化剤で尿素を除去する方法が異なり、ラジカルの発生量が低く、反応時間が長いという従来の単一酸化剤の欠点を克服し、紫外線の触媒作用により、３つの酸化剤は互いに励起して大量のラジカルを発生させ、しかも、これらのラジカルは、すべて強い酸化能力を有するラジカルであり、硫酸ラジカル、ヒドロキシラジカル、塩素ラジカルとの３つのラジカルがその場で協同して尿素を酸化還元する。
有益な効果は以下のとおりである。従来技術に比べ、本発明では、本発明の除去方法は、プロセスが簡単で、再生水中の痕跡量尿素を効果的に除去することができ、尿素の初期濃度が６０ｐｐｂ～１２５ｐｐｂの再生水に対して、生成水中の尿素の濃度を５ｐｐｂまで低下させることができ、再生水を電子用超純水の製造に再利用することを可能にするという顕著な利点がある。
実施例１
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水に酸化剤を添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、酸化剤を添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射した。酸化剤は、成分として、オキシドール６．０質量％、ペルオキソ二硫酸塩４２．０質量％、クロラミン２．０質量％、及び水５０．０質量％を含む。
再生水中の尿素の濃度は１２３ｐｐｂであり、
酸化剤の添加量はＹ＝５．１ｌｎ（１２３）＋２．９＝２７．４ｐｐｍで、３０ｐｐｍ（３０ｐｐｍは酸化剤中の３つの有効成分であるオキシドール、ペルオキソ二硫酸塩、及びクロラミンの合計濃度を指す）とし、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量はＺ＝３．４（１２３）０．８＝１５９．７ｍＪ／ｃｍ２であり、１６０ｍＪ／ｃｍ２とし、
検出した結果、生成水のＴＯＣ濃度は１６．８ｐｐｂであった。
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水のＴＯＣ濃度は６．９ｐｐｂ、尿素濃度は２７ｐｐｂ、尿素除去率は７８．０５％であった。換算すると、生成水の尿素含量はＸ＝（６．９－１．３）／０．２＝２８ｐｐｂであり、極差は１であり、相対偏差は３．７％であり、この式は指導的な意義を持っている。
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水に酸化剤を添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、酸化剤を添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射した。酸化剤は、成分として、オキシドール６．０質量％、ペルオキソ二硫酸塩４２．０質量％、クロラミン２．０質量％、及び水５０．０質量％を含む。
再生水中の尿素の濃度は１２３ｐｐｂであり、
酸化剤の添加量はＹ＝５．１ｌｎ（１２３）＋２．９＝２７．４ｐｐｍで、３０ｐｐｍ（３０ｐｐｍは酸化剤中の３つの有効成分であるオキシドール、ペルオキソ二硫酸塩、及びクロラミンの合計濃度を指す）とし、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量はＺ＝３．４（１２３）０．８＝１５９．７ｍＪ／ｃｍ２であり、１６０ｍＪ／ｃｍ２とし、
検出した結果、生成水のＴＯＣ濃度は１６．８ｐｐｂであった。
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水のＴＯＣ濃度は６．９ｐｐｂ、尿素濃度は２７ｐｐｂ、尿素除去率は７８．０５％であった。換算すると、生成水の尿素含量はＸ＝（６．９－１．３）／０．２＝２８ｐｐｂであり、極差は１であり、相対偏差は３．７％であり、この式は指導的な意義を持っている。
実施例２
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水に酸化剤を添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、酸化剤を添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射した。酸化剤は、成分として、オキシドール６．０質量％、ペルオキソ二硫酸塩４２．０質量％、クロラミン２．０質量％、及び水５０．０質量％を含む。
再生水中の尿素の濃度は８３ｐｐｂであり、
酸化剤の添加量はＹ＝５．１ｌｎ（８３）＋２．９＝２５．４ｐｐｍで、２５ｐｐｍとし、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量はＺ＝３．４（８３）０．８＝１１６．６ｍＪ／ｃｍ２であり、１１９ｍＪ／ｃｍ２とし、
検出した結果、生成水のＴＯＣ濃度は１０．９ｐｐｂであった。
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水のＴＯＣ濃度は３．７ｐｐｂ、尿素濃度は１３ｐｐｂ、尿素除去率は８４．３４％であった。換算すると、生成水の尿素含有量はＸ＝（３．７－１．３）／０．２＝１２ｐｐｂであり、極差は１であり、相対偏差は８．３％であり、この式は指導的な意義を持っている。
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水に酸化剤を添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、酸化剤を添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射した。酸化剤は、成分として、オキシドール６．０質量％、ペルオキソ二硫酸塩４２．０質量％、クロラミン２．０質量％、及び水５０．０質量％を含む。
再生水中の尿素の濃度は８３ｐｐｂであり、
酸化剤の添加量はＹ＝５．１ｌｎ（８３）＋２．９＝２５．４ｐｐｍで、２５ｐｐｍとし、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量はＺ＝３．４（８３）０．８＝１１６．６ｍＪ／ｃｍ２であり、１１９ｍＪ／ｃｍ２とし、
検出した結果、生成水のＴＯＣ濃度は１０．９ｐｐｂであった。
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水のＴＯＣ濃度は３．７ｐｐｂ、尿素濃度は１３ｐｐｂ、尿素除去率は８４．３４％であった。換算すると、生成水の尿素含有量はＸ＝（３．７－１．３）／０．２＝１２ｐｐｂであり、極差は１であり、相対偏差は８．３％であり、この式は指導的な意義を持っている。
実施例３
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水に酸化剤を添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、酸化剤を添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射した。酸化剤は、成分として、オキシドール６．０質量％、ペルオキソ二硫酸塩４２．０質量％、クロラミン２．０質量％、及び水５０．０質量％を含む。
再生水中の尿素の濃度は６８ｐｐｂであり、
酸化剤の添加量はＹ＝５．１ｌｎ（６８）＋２．９＝２４．４ｐｐｍで、２５ｐｐｍとし、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量はＺ＝３．４（６８）０．８＝９９．４ｍＪ／ｃｍ２であり、１００ｍＪ／ｃｍ２とし、
検出した結果、生成水のＴＯＣ濃度は９．７ｐｐｂであった。
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水のＴＯＣ濃度は２．９ｐｐｂ、尿素濃度は８ｐｐｂ、尿素除去率は８８．２４％であった。換算すると、生成水の尿素含有量はＸ＝（２．９－１．３）／０．２＝８ｐｐｂであり、極差は０であり、相対偏差は０％であり、この式は指導的な意義を持っている。
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水に酸化剤を添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、酸化剤を添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射した。酸化剤は、成分として、オキシドール６．０質量％、ペルオキソ二硫酸塩４２．０質量％、クロラミン２．０質量％、及び水５０．０質量％を含む。
再生水中の尿素の濃度は６８ｐｐｂであり、
酸化剤の添加量はＹ＝５．１ｌｎ（６８）＋２．９＝２４．４ｐｐｍで、２５ｐｐｍとし、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量はＺ＝３．４（６８）０．８＝９９．４ｍＪ／ｃｍ２であり、１００ｍＪ／ｃｍ２とし、
検出した結果、生成水のＴＯＣ濃度は９．７ｐｐｂであった。
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水のＴＯＣ濃度は２．９ｐｐｂ、尿素濃度は８ｐｐｂ、尿素除去率は８８．２４％であった。換算すると、生成水の尿素含有量はＸ＝（２．９－１．３）／０．２＝８ｐｐｂであり、極差は０であり、相対偏差は０％であり、この式は指導的な意義を持っている。
実施例４－酸化剤の組成比の調整
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水に酸化剤を添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、酸化剤を添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射した。酸化剤は、成分として、オキシドール７．０質量％、ペルオキソ二硫酸塩４０．０質量％、クロラミン３．０質量％、及び水５０．０質量％を含む。
再生水中の尿素の濃度は６８ｐｐｂであり、
酸化剤の添加量はＹ＝５．１ｌｎ（６８）＋２．９＝２４．４ｐｐｍで、２５ｐｐｍとし、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量はＺ＝３．４（６８）０．８＝９９．４ｍＪ／ｃｍ２であり、１００ｍＪ／ｃｍ２とした。
検出した結果、生成水のＴＯＣ濃度は１０．１ｐｐｂであった。
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水のＴＯＣ濃度は３．０ｐｂ、尿素濃度は９ｐｐｂ、尿素除去率は８６．７６％であった。換算すると、生成水の尿素含有量はＸ＝（３．０－１．３）／０．２＝８．５ｐｐｂであり、極差は０．５であり、相対偏差は５．９％であり、この式は指導的な意義を持っている。
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水に酸化剤を添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、酸化剤を添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射した。酸化剤は、成分として、オキシドール７．０質量％、ペルオキソ二硫酸塩４０．０質量％、クロラミン３．０質量％、及び水５０．０質量％を含む。
再生水中の尿素の濃度は６８ｐｐｂであり、
酸化剤の添加量はＹ＝５．１ｌｎ（６８）＋２．９＝２４．４ｐｐｍで、２５ｐｐｍとし、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量はＺ＝３．４（６８）０．８＝９９．４ｍＪ／ｃｍ２であり、１００ｍＪ／ｃｍ２とした。
検出した結果、生成水のＴＯＣ濃度は１０．１ｐｐｂであった。
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水のＴＯＣ濃度は３．０ｐｂ、尿素濃度は９ｐｐｂ、尿素除去率は８６．７６％であった。換算すると、生成水の尿素含有量はＸ＝（３．０－１．３）／０．２＝８．５ｐｐｂであり、極差は０．５であり、相対偏差は５．９％であり、この式は指導的な意義を持っている。
比較実施例１－酸化剤の添加濃度の調整
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水に酸化剤を添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、酸化剤を添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射した。酸化剤は、成分として、オキシドール６．０質量％、ペルオキソ二硫酸塩４２．０質量％、クロラミン２．０質量％、及び水５０．０質量％を含む。
再生水中の尿素の濃度は１２３ｐｐｂであり、
酸化剤の理論添加量はＹ＝５．１ｌｎ（１２３）＋２．９＝２７．４ｐｐｍで、実際の添加量は２０ｐｐｍであり、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量はＺ＝３．４（１２３）０．８＝１５９．７ｍＪ／ｃｍ２であり、１６０ｍＪ／ｃｍ２とし、
検出した結果、生成水のＴＯＣ濃度は１８．９ｐｐｂであった。
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水のＴＯＣ濃度は１１．２ｐｂ、尿素濃度は４８ｐｐｂ、尿素除去率６０．９８％であり、実施例１より１７．０７％減少した。実施例１と比較実施例１から、酸化剤の添加量が十分でないと、良好な尿素除去効果が得られないことが分かった。
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水に酸化剤を添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、酸化剤を添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射した。酸化剤は、成分として、オキシドール６．０質量％、ペルオキソ二硫酸塩４２．０質量％、クロラミン２．０質量％、及び水５０．０質量％を含む。
再生水中の尿素の濃度は１２３ｐｐｂであり、
酸化剤の理論添加量はＹ＝５．１ｌｎ（１２３）＋２．９＝２７．４ｐｐｍで、実際の添加量は２０ｐｐｍであり、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量はＺ＝３．４（１２３）０．８＝１５９．７ｍＪ／ｃｍ２であり、１６０ｍＪ／ｃｍ２とし、
検出した結果、生成水のＴＯＣ濃度は１８．９ｐｐｂであった。
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水のＴＯＣ濃度は１１．２ｐｂ、尿素濃度は４８ｐｐｂ、尿素除去率６０．９８％であり、実施例１より１７．０７％減少した。実施例１と比較実施例１から、酸化剤の添加量が十分でないと、良好な尿素除去効果が得られないことが分かった。
比較実施例２－単一酸化剤への調整
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水にオキシドールを添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、オキシドールを添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射した。
再生水中の尿素の濃度は１２３ｐｐｂであり、
オキシドールの添加量は３０ｐｐｍ（３０ｐｐｍは混合液中のオキシドールの濃度）であり、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量は１６０ｍＪ／ｃｍ２であり、
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水の尿素濃度は９８ｐｐｂ、尿素除去率は２０．３％であった。
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水にオキシドールを添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、オキシドールを添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射した。
再生水中の尿素の濃度は１２３ｐｐｂであり、
オキシドールの添加量は３０ｐｐｍ（３０ｐｐｍは混合液中のオキシドールの濃度）であり、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量は１６０ｍＪ／ｃｍ２であり、
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水の尿素濃度は９８ｐｐｂ、尿素除去率は２０．３％であった。
比較実施例３－単一酸化剤への調整
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水にペルオキソ二硫酸塩を添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、ペルオキソ二硫酸塩を添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射した。
再生水中の尿素の濃度は１２３ｐｐｂであり、
ペルオキソ二硫酸塩の添加量は３０ｐｐｍであり、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量は１６０ｍＪ／ｃｍ２であり、
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水の尿素濃度は６９ｐｐｂ、尿素除去率は４３．９％であった。
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水にペルオキソ二硫酸塩を添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、ペルオキソ二硫酸塩を添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射した。
再生水中の尿素の濃度は１２３ｐｐｂであり、
ペルオキソ二硫酸塩の添加量は３０ｐｐｍであり、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量は１６０ｍＪ／ｃｍ２であり、
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水の尿素濃度は６９ｐｐｂ、尿素除去率は４３．９％であった。
比較実施例４－単一酸化剤への調整
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水にペルオキシ一硫酸塩を添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、ペルオキシ一硫酸塩を添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射した。
再生水中の尿素の濃度は１２３ｐｐｂであり、
ペルオキシ一硫酸塩の添加量は３０ｐｐｍであり、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量は１６０ｍＪ／ｃｍ２であった。
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水の尿素濃度は１０８ｐｐｂ、尿素除去率は１２．２％であった。
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水にペルオキシ一硫酸塩を添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、ペルオキシ一硫酸塩を添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射した。
再生水中の尿素の濃度は１２３ｐｐｂであり、
ペルオキシ一硫酸塩の添加量は３０ｐｐｍであり、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量は１６０ｍＪ／ｃｍ２であった。
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水の尿素濃度は１０８ｐｐｂ、尿素除去率は１２．２％であった。
比較実施例５－単一酸化剤への調整
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水にクロラミンを添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、クロラミンを添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射した。
再生水中の尿素の濃度は１２３ｐｐｂであり、
クロラミンの添加量は３０ｐｐｍであり、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量は１６０ｍＪ／ｃｍ２であり、
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水の尿素濃度は１１０ｐｐｂ、尿素除去率は１０．６％であった。
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水にクロラミンを添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、クロラミンを添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射した。
再生水中の尿素の濃度は１２３ｐｐｂであり、
クロラミンの添加量は３０ｐｐｍであり、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量は１６０ｍＪ／ｃｍ２であり、
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水の尿素濃度は１１０ｐｐｂ、尿素除去率は１０．６％であった。
比較実施例６－２種類の酸化剤の組み合わせへの調整
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水にオキシドールとペルオキソ二硫酸塩の混合液を添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、混合液を添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射し、混合液にはオキシドール６．０質量％、ペルオキソ二硫酸塩４２．０質量％、及び水５２．０質量％が含まれている。
再生水中の尿素の濃度は１２３ｐｐｂであり、
オキシドールとペルオキソ二硫酸塩の合計添加量は３０ｐｐｍであり、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量は１６０ｍＪ／ｃｍ２であり、
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水の尿素濃度は３７ｐｐｂ、尿素除去率は６９．９％であった。
ＵＦ＋ＲＯ処理により得られた再生水にオキシドールとペルオキソ二硫酸塩の混合液を添加して、紫外線ランプチューブが設けられた紫外線酸化装置に通し、混合液を添加した再生水に紫外線ランプチューブで照射し、混合液にはオキシドール６．０質量％、ペルオキソ二硫酸塩４２．０質量％、及び水５２．０質量％が含まれている。
再生水中の尿素の濃度は１２３ｐｐｂであり、
オキシドールとペルオキソ二硫酸塩の合計添加量は３０ｐｐｍであり、
紫外線酸化装置における水理学的滞留時間は１２０ｓであり、
照射量は１６０ｍＪ／ｃｍ２であり、
生成水を樹脂カラムに通し、検出した結果、樹脂カラムからの流出水の尿素濃度は３７ｐｐｂ、尿素除去率は６９．９％であった。
実施例１と比較実施例２～６から、再生水中の痕跡量尿素の除去に対して、単一の酸化剤又は２種類の酸化剤の組み合わせはいずれも本発明の酸化剤の除去効果を達成できず、具体的な原因としては、尿素自体の分子構造（アミノ基）と関係がある一方で、単一の酸化剤自体およびこれにより生成されるラジカルの量や酸化能力と関係があり、複数の酸化剤が互いに相乗的に協力して尿素と反応するラジカルをより多く生成できることが分かった。本発明の酸化剤は、尿素自体の分子構造に対して強い酸化能を有する親電子性ラジカルを生成することで、再生水中の尿素の効率的な除去を実現することができる。
Claims (6)
- 再生水中の痕跡量低分子有機物の除去方法であって、
酸化剤を添加した逆浸透再生水を紫外線酸化装置に通し、紫外線の照射下で酸化剤と再生水中の痕跡量低分子有機物とを３０～３００ｓ酸化還元反応させ、酸化剤は、成分として、オキシドール６．０質量％～７．０質量％、ペルオキソ二硫酸塩４０．０質量％～４２．０質量％、クロラミン２．０質量％～３．０質量％、及び水４８．０質量％～５０．０質量％を含み、逆浸透再生水中の尿素の初期濃度は６８ｐｐｂ～１２３ｐｐｂであり、処理後の生成水中の尿素の濃度は８ｐｐｂ～２７ｐｐｂであり、
酸化剤の添加量はＹ＝５．１ｌｎ（Ｘ）＋２．９であり、実際の酸化剤の添加量は２５ｐｐｍ以上であり、
式中、Ｘは再生水中の尿素の濃度であり、単位がｐｐｂであり、Ｙは酸化剤中の有効成分の濃度であり、単位がｐｐｍである、ことを特徴とする再生水中の痕跡量低分子有機物の除去方法。 - 紫外線照射量と再生水中の尿素の濃度との関係式がＺ＝３．４Ｘ ０．８ であり、
式中、Ｘは再生水中の尿素の濃度であり、単位がｐｐｂであり、Ｚは紫外線照射量であり、単位がｍＪ／ｃｍ２である、ことを特徴とする請求項１に記載の再生水中の痕跡量低分子有機物の除去方法。 - 前記再生水は、回収した下水処理場の放水を、マルチメディアフィルタ、カートリッジフィルタ（Cartridge filter）、限外ろ過装置、及び逆浸透装置に順次通して、再生水を得る方法によって得られる、ことを特徴とする請求項１に記載の再生水中の痕跡量低分子有機物の除去方法。
- 酸化還元反応後の生成水を樹脂カラムに通し、樹脂カラムからの流出水のＴＯＣ濃度を検出することにより、酸化還元反応後の生成水中の尿素の濃度を換算する、ことを特徴とする請求項１に記載の再生水中の痕跡量低分子有機物の除去方法。
- 樹脂カラムからの流出水のＴＯＣ濃度と酸化還元反応後の生成水中の尿素の濃度との関係式が、Ｗ＝０．２Ｘ＋１．３であり、
式中、Ｘは酸化還元反応後の生成水中の尿素の濃度であり、単位がｐｐｂであり、Ｗは樹脂カラムからの流出水のＴＯＣ濃度であり、単位がｐｐｂである、ことを特徴とする請求項４に記載の再生水中の痕跡量低分子有機物の除去方法。 - 前記樹脂カラム内に強酸性陽イオン交換樹脂と強塩基性陰イオン交換樹脂とが充填されている、ことを特徴とする請求項４に記載の再生水中の痕跡量低分子有機物の除去方法。
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202111184917.8 | 2021-10-12 | ||
| CN202111184917.8A CN113860553B (zh) | 2021-10-12 | 2021-10-12 | 一种再生水中痕量小分子有机物的去除方法 |
| PCT/CN2022/108485 WO2023060986A1 (zh) | 2021-10-12 | 2022-07-28 | 一种再生水中痕量小分子有机物的去除方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2023554167A JP2023554167A (ja) | 2023-12-26 |
| JP7538361B2 true JP7538361B2 (ja) | 2024-08-21 |
Family
ID=78998584
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2023557481A Active JP7538361B2 (ja) | 2021-10-12 | 2022-07-28 | 再生水中の痕跡量低分子有機物の除去方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7538361B2 (ja) |
| CN (1) | CN113860553B (ja) |
| WO (1) | WO2023060986A1 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN113860553B (zh) * | 2021-10-12 | 2022-07-19 | 江苏中电创新环境科技有限公司 | 一种再生水中痕量小分子有机物的去除方法 |
| JP7670103B1 (ja) | 2023-11-02 | 2025-04-30 | 栗田工業株式会社 | 水処理システム |
| CN119643678B (zh) * | 2024-12-02 | 2025-09-16 | 中国科学院广州地球化学研究所 | 超低样量岩石的w元素分离及高精度w同位素测定方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008119658A (ja) | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Kurita Water Ind Ltd | 紫外線酸化装置及び有機物除去装置 |
| JP2008246387A (ja) | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Kurita Water Ind Ltd | 一次純水製造プロセス水の処理方法及び装置 |
| CN104150562A (zh) | 2014-08-23 | 2014-11-19 | 哈尔滨工业大学 | 一种中压紫外催化过一硫酸盐协同氯胺对水厂滤后水消毒的方法 |
| CN109574421A (zh) | 2019-01-31 | 2019-04-05 | 清华大学深圳研究生院 | 一种反渗透浓缩水强化处理方法与设备 |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1199395A (ja) * | 1997-07-29 | 1999-04-13 | Japan Organo Co Ltd | 有機物含有水の処理方法 |
| WO2007146671A2 (en) * | 2006-06-06 | 2007-12-21 | Fluid Lines | Ultaviolet light activated oxidation process for the reduction of organic carbon in semiconductor process water |
| JP5211518B2 (ja) * | 2007-03-16 | 2013-06-12 | 栗田工業株式会社 | 有機物除去方法及び装置 |
| CN101423310A (zh) * | 2008-11-14 | 2009-05-06 | 钱志刚 | 电子超纯水的循环回用处理方法 |
| CN106000080A (zh) * | 2016-06-08 | 2016-10-12 | 浙江奇彩环境科技股份有限公司 | 一种有机废气的处理方法 |
| JP6752693B2 (ja) * | 2016-11-18 | 2020-09-09 | オルガノ株式会社 | 水処理方法および装置 |
| CN108996658A (zh) * | 2018-08-14 | 2018-12-14 | 山东上水环境科技有限公司 | 一种用于去除泳池中尿素的装置及使用方法 |
| CN113860553B (zh) * | 2021-10-12 | 2022-07-19 | 江苏中电创新环境科技有限公司 | 一种再生水中痕量小分子有机物的去除方法 |
-
2021
- 2021-10-12 CN CN202111184917.8A patent/CN113860553B/zh active Active
-
2022
- 2022-07-28 JP JP2023557481A patent/JP7538361B2/ja active Active
- 2022-07-28 WO PCT/CN2022/108485 patent/WO2023060986A1/zh not_active Ceased
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008119658A (ja) | 2006-11-15 | 2008-05-29 | Kurita Water Ind Ltd | 紫外線酸化装置及び有機物除去装置 |
| JP2008246387A (ja) | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Kurita Water Ind Ltd | 一次純水製造プロセス水の処理方法及び装置 |
| CN104150562A (zh) | 2014-08-23 | 2014-11-19 | 哈尔滨工业大学 | 一种中压紫外催化过一硫酸盐协同氯胺对水厂滤后水消毒的方法 |
| CN109574421A (zh) | 2019-01-31 | 2019-04-05 | 清华大学深圳研究生院 | 一种反渗透浓缩水强化处理方法与设备 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2023554167A (ja) | 2023-12-26 |
| CN113860553B (zh) | 2022-07-19 |
| CN113860553A (zh) | 2021-12-31 |
| WO2023060986A1 (zh) | 2023-04-20 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP7538361B2 (ja) | 再生水中の痕跡量低分子有機物の除去方法 | |
| JP6355818B2 (ja) | 廃水を用いて生産された酸化剤を使用する資源再利用方式産業廃水処理方法及び装置 | |
| KR100976903B1 (ko) | 산성 조건하에서 역삼투에 의한 유동체 처리 방법과 장치 | |
| WO2000064568A1 (en) | Apparatus for producing water containing dissolved ozone | |
| JPWO1994018127A1 (ja) | 純水の製造方法 | |
| JP6738145B2 (ja) | 次亜塩素酸ソーダの製造方法及び次亜塩素酸ソーダの製造装置 | |
| KR101476864B1 (ko) | 유기물 제거 방법 및 장치 | |
| Houtz et al. | Poly-and perfluoroalkyl substances destruction via advanced reduction processes: assessing scientific and commercial progress and prospects | |
| CN116535054A (zh) | 一种高盐废水的处理方法 | |
| CN115985539A (zh) | 微纳米臭氧气泡氧化分解含铀含硝酸废液中有机物的方法 | |
| JP3506171B2 (ja) | Ｔｏｃ成分の除去方法及び装置 | |
| JP5678436B2 (ja) | 超純水製造方法及び装置 | |
| TWI499562B (zh) | Wastewater treatment process of semiconductor manufacturing method | |
| CN109019999A (zh) | 一种低浓度含强络合镍废水的处理方法 | |
| JPH10309588A (ja) | 水処理方法、水処理装置及び純水製造装置 | |
| JP3259557B2 (ja) | 有機物の除去方法 | |
| CN116253447B (zh) | 一种煤化工含盐废水资源化的处理方法 | |
| CN111747608B (zh) | 一种电除雾废水和/或电除尘废水的处理回用系统及处理回用方法 | |
| JP4635827B2 (ja) | 超純水製造方法および装置 | |
| JPH1128482A (ja) | 純水製造方法 | |
| JP2002361269A (ja) | 燐含有水の処理方法 | |
| CN115286175A (zh) | 一种自动控制的速效脱氮树脂再生废液的处理方法 | |
| CN119612792B (zh) | 过饱和含氯苯类有机物废水处理方法与装置 | |
| JPS6214358B2 (ja) | ||
| JP2023000376A (ja) | 純水製造装置及び純水製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230605 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240417 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240423 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240610 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240806 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240808 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7538361 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |