JP7537601B2 - 投射装置、制御方法、およびプログラム - Google Patents
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Description
まず、第1の実施形態に係る投射装置について図面を参照しながら説明する。本実施形態の投射装置は、光ファイバなどの媒体を用いずに、空間を伝播する光信号(以下、空間光信号とも呼ぶ)を送受信し合う光空間通信や、投射面における画像の表示、測距等に用いられる。本実施形態の投射装置は、空間光を投射する用途であれば、光空間通信や、画像表示、測距以外の用途に用いられてもよい。
図1は、本実施形態の投射装置10の構成の一例を示す概念図である。投射装置10は、光源11、空間光変調器13、制御部15、および投射光学系17を有する。光源11、空間光変調器13、および投射光学系17は、投射部100を構成する。図1は、投射装置10の内部構成を横方向から見た図である。図1には、光の軌跡を示す線を図示する。図1は、概念的なものであり、各構成要素間の位置関係や、光の進行方向などを正確に表したものではない。
続いて、空間光変調器13の変調部130に設定されるタイリングについて、いくつか例をあげて説明する。以下においては、一般的なタイリング(比較例)と、本実施形態に係るタイリング(タイリング例)とについて説明する。
図3は、一般的なタイリングの一例(比較例1)について説明するための概念図である。図3は、変調部130の一部分のタイリングに関する。図3の例では、全てのタイルが、256×256画素に設定される。図4は、1080×1920画素の変調部130に、256×256画素の複数のタイルが設定された例である。図4の例において、変調部130の右端と下端のタイルには、十分な画素数が割り当てられていないが、それらのタイルにも同様の位相画像が設定される。また、図4の例においては、左端を起点として複数のタイルを変調部130に配置しているが、複数のタイルを変調部130に配置する方法は図4の例に限定されない。
図7は、一般的なタイリングの別の一例(比較例2)について説明するための概念図である。比較例2では、解像度を上げることによって、ドット間の隙間の補完を試みる。図7は、変調部130の一部分のタイリングに関する。図7の例では、全てのタイルが、比較例1(256×256画素)と比べて高解像度(512×512画素)に設定される。図8は、1080×1920画素の変調部130に、512×512画素のタイルが設定された例である。図8の例において、変調部130の右端と下端のタイルには、十分な画素数が割り当てられていないが、それらのタイルにも同様の位相画像が設定される。また、図8の例においては、左端を起点として複数のタイルを変調部130に配置しているが、複数のタイルを変調部130に配置する方法は図8の例に限定されない。
図11は、本実施形態に係るタイリングの一例(タイリング例1)について説明するための概念図である。図11は、変調部130の一部分のタイリングに関する。図11の例では、空間光変調器13の変調部130に、256行の画素からなるタイルと、253行の画素からなるタイルとが交互に設定される。すなわち、変調部130には、256×256画素のタイルの行と、253×256画素のタイルの行とが、交互に設定される。本タイリング例においては、256×256画素のタイルを第1解像度のタイルと呼び、253×256画素のタイルを第2解像度のタイルと呼ぶ。図12は、1080×1920画素の変調部130に、256×256画素(第1解像度)のタイルの行と、253×256画素(第2解像度)のタイルの行とが、交互に設定された例である。図12の例において、変調部130の右端と下端のタイルには、十分な画素数が割り当てられていないが、それらのタイルにも同様の位相画像が設定される。また、図12の例においては、左端を起点として複数のタイルを変調部130に配置しているが、複数のタイルを変調部130に配置する方法は図12の例に限定されない。
図16は、本実施形態に係るタイリングの別の一例(タイリング例2)について説明するための概念図である。図16は、変調部130の一部分のタイリングに関する。図16の例では、空間光変調器13の変調部130に、256列の画素からなるタイルと、253列の画素からなるタイルとが交互に設定される。すなわち、変調部130には、256×256画素のタイルの列と、256×253画素のタイルの列とが、交互に設定される。以下においては、256×256画素のタイルを第1解像度のタイルと呼び、256×253画素のタイルを第3解像度のタイルと呼ぶ。図17は、1080×1920画素の変調部130に、256×256画素(第1解像度)のタイルの列と、256×253画素(第3解像度)のタイルの列とが、交互に設定された例である。図17の例において、変調部130の右端と下端のタイルには、十分な画素数が割り当てられていないが、それらのタイルにも同様の位相画像が設定される。また、図17の例においては、左端を起点として複数のタイルを変調部130に配置しているが、複数のタイルを変調部130に配置する方法は図17の例に限定されない。
図19は、本実施形態に係るタイリングの別の一例(タイリング例3)について説明するための概念図である。図19は、変調部130の一部分のタイリングに関する。図19の例では、空間光変調器13の変調部130に、256行の画素からなるタイルと、253行の画素からなるタイルとが交互に設定される。また、図19の例では、空間光変調器13の変調部130に、256列の画素からなるタイルと、253列の画素からなるタイルとが交互に設定される。すなわち、変調部130には、256×256画素のタイル、256×253画素のタイル、253×256画素のタイル、253×253画素のタイルが設定される。以下においては、256×256画素のタイルを第1解像度のタイル、253×256画素のタイルを第2解像度のタイル、256×253画素のタイルを第3解像度のタイル、253×253画素のタイルを第4解像度のタイルと呼ぶ。図20は、1080×1920画素の変調部130に、256×256画素(第1解像度)のタイル、253×256画素(第2解像度)のタイル、256×253画素(第3解像度)のタイル、253×253画素(第4解像度)のタイルが設定された例である。図20の例において、変調部130の右端と下端のタイルには、十分な画素数が割り当てられていないが、それらのタイルにも同様の位相画像が設定される。また、図20の例においては、左端を起点として複数のタイルを変調部130に配置しているが、複数のタイルを変調部130に配置する方法は図20の例に限定されない。
次に、第2の実施形態に係る投射装置について図面を参照しながら説明する。本実施形態の投射装置は、水平方向と垂直方向とで異なる拡大率で投射光を拡大して投射する投射レンズを備える。以下においては、二つのシリンドリカルレンズを組み合わせる例について説明する。
図22は、本実施形態の投射装置20の構成の一例を示す概念図である。投射装置20は、光源21、空間光変調器23、制御部25、および投射光学系27を有する。光源21、空間光変調器23、および投射光学系27は、投射部200を構成する。図22は、投射装置20の内部構成を横方向から見た図である。図22には、光の軌跡を示す線を図示する。図22は、概念的なものであり、各構成要素間の位置関係や、光の進行方向などを正確に表したものではない。
次に、第3の実施形態に係る投射装置について図面を参照しながら説明する。本実施形態の投射装置は、空間光変調器の変調部に設定されるタイルの解像度を調節することによって、投射光の投射方向を制御する。
図25は、本実施形態の投射装置30の構成の一例を示す概念図である。投射装置30は、光源31、空間光変調器33、制御部35、および投射光学系37を有する。光源31、空間光変調器33、および投射光学系37は、投射部300を構成する。図25は、投射装置30の内部構成を横方向から見た図である。図25には、光の軌跡を示す線を図示する。図25は、概念的なものであり、各構成要素間の位置関係や、光の進行方向などを正確に表したものではない。
次に、第4の実施形態に係る投射装置について図面を参照しながら説明する。本実施形態の投射装置は、第1~第3の実施形態の投射装置を簡略化した構成である。
図28は、本実施形態の投射装置40の構成の一例を示すブロック図である。投射装置40は、光源41、空間光変調器43、制御部45、および投射光学系47を有する。光源41、空間光変調器43、および投射光学系47は、投射部400を構成する。図28は、投射装置40の内部構成を横方向から見た図である。図28には、光の軌跡を示す線を図示する。図28は、概念的なものであり、各構成要素間の位置関係や、光の進行方向などを正確に表したものではない。
ここで、本開示の各実施形態に係る制御部の処理を実行するハードウェア構成について、図29の制御装置90を一例として挙げて説明する。例えば、制御装置90は、マイクロコンピュータの形態で実現される。なお、図29の制御装置90は、各実施形態の制御部の処理を実行するための構成例であって、本開示の範囲を限定するものではない。
11、21、31、41 光源
13、23、33、43 空間光変調器
15、25、35、45 制御部
17、27、37、47 投射光学系
111、211、311 出射器
112、212、312 コリメータ
171、271、371 フーリエ変換レンズ
173、273、373 アパーチャ
175、275、375 投射レンズ
Claims (10)
- 平行光を出射する光源と、
前記光源から出射された前記平行光の位相を変調する変調部を有する空間光変調器と、
投射光によって表示される画像に対応する位相画像が設定される少なくとも二つの解像度のタイルを前記変調部にタイリングし、前記タイリングされた複数のタイルの各々に前記位相画像を設定し、前記位相画像が設定された前記変調部に向けて前記平行光が照射されるように前記光源を制御する制御手段と、
前記空間光変調器によって変調された光を前記投射光として投射する投射光学系と、を備える投射装置。 - 前記制御手段は、
行数と列数が同じである第1解像度の複数のタイルと、前記第1解像度とは行数が異なる第2解像度の複数のタイルとを、前記空間光変調器の前記変調部に設定する請求項1に記載の投射装置。 - 前記制御手段は、
行数と列数が同じである第1解像度の複数のタイルと、前記第1解像度とは列数が異なる第3解像度の複数のタイルとを、前記空間光変調器の前記変調部に設定する請求項1に記載の投射装置。 - 前記制御手段は、
行数と列数が同じである第1解像度の複数のタイルと、前記第1解像度とは行数が異なる第2解像度の複数のタイルと、前記第1解像度とは列数が異なる第3解像度の複数のタイルと、前記第1解像度とは行数および列数が異なる第4解像度の複数のタイルとを、前記空間光変調器の前記変調部に設定する請求項1に記載の投射装置。 - 前記投射光学系は、
前記空間光変調器の前記変調部に設定された前記位相画像によって形成される画像のアスペクト比を変更して投射する投射レンズを含み、
前記制御手段は、
前記投射レンズによって投射される前記投射光によって表示される画像が拡張される方向に対して垂直な方向の画素数が調整された複数のタイルを、前記空間光変調器の前記変調部に設定する請求項1乃至4のいずれか一項に記載の投射装置。 - 前記制御手段は、
前記空間光変調器の前記変調部に設定された複数のタイルの解像度を変更して、前記投射光によって表示される画像の表示位置を変更させる請求項1乃至5のいずれか一項に記載の投射装置。 - 前記制御手段は、
同じ画像に対応する前記位相画像が設定された複数のタイルを同じ解像度に変更する請求項6に記載の投射装置。 - 前記制御手段は、
同じ画像に対応する前記位相画像が設定された複数のタイルの各々を異なる解像度に変更する請求項6に記載の投射装置。 - コンピュータが、
投射光によって表示される画像に対応する位相画像が設定される少なくとも二つの解像度のタイルを空間光変調器の変調部にタイリングし、
タイリングされた複数の前記タイルの各々に前記位相画像を設定し、
前記位相画像が設定された前記変調部に向けて、平行光が照射されるように光源を制御する制御方法。 - 投射光によって表示される画像に対応する位相画像が設定される少なくとも二つの解像度のタイルを空間光変調器の変調部にタイリングする処理と、
タイリングされた複数の前記タイルの各々に前記位相画像を設定する処理と、
前記位相画像が設定された前記変調部に向けて、平行光が照射されるように光源を制御する処理と、をコンピュータに実行させるプログラム。
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