JP7519745B2 - 積層体及びその製造方法 - Google Patents
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- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 28
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 497
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 497
- -1 ether ketone Chemical class 0.000 claims description 274
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N ether Substances CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 255
- 229920000412 polyarylene Polymers 0.000 claims description 252
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 182
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 118
- 239000011256 inorganic filler Substances 0.000 claims description 62
- 229910003475 inorganic filler Inorganic materials 0.000 claims description 61
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims description 44
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims description 44
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 39
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 38
- 229920006259 thermoplastic polyimide Polymers 0.000 claims description 37
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 claims description 29
- 239000010445 mica Substances 0.000 claims description 26
- 229910052618 mica group Inorganic materials 0.000 claims description 26
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 claims description 19
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 claims description 18
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 18
- 239000000454 talc Substances 0.000 claims description 17
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 16
- 238000003860 storage Methods 0.000 claims description 11
- PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N Boron nitride Chemical compound N#B PZNSFCLAULLKQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 8
- 229910052582 BN Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 description 170
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 84
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 81
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 37
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 36
- 239000012778 molding material Substances 0.000 description 35
- 238000000034 method Methods 0.000 description 34
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 34
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 26
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 25
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 25
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 24
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 22
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 19
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 19
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 19
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 18
- 229920004695 VICTREX™ PEEK Polymers 0.000 description 17
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 17
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 17
- RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] Chemical compound [O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[O--].[F-].[F-].[Mg++].[Mg++].[Mg++].[Al+3].[Si+4].[Si+4].[Si+4].[K+] RJDOZRNNYVAULJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 15
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 14
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 13
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 12
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 12
- 239000004697 Polyetherimide Substances 0.000 description 11
- 229920001601 polyetherimide Polymers 0.000 description 11
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 11
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000002411 thermogravimetry Methods 0.000 description 9
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 9
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 8
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 7
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 7
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 7
- HEFNNWSXXWATRW-UHFFFAOYSA-N Ibuprofen Chemical compound CC(C)CC1=CC=C(C(C)C(O)=O)C=C1 HEFNNWSXXWATRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 6
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 6
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 6
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 5
- 229920000491 Polyphenylsulfone Polymers 0.000 description 5
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 5
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UTEKWVTZAYINIU-UHFFFAOYSA-N [F].[Si].[Si].[Si].[Si] Chemical compound [F].[Si].[Si].[Si].[Si] UTEKWVTZAYINIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 4
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 4
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 4
- 229920001643 poly(ether ketone) Polymers 0.000 description 4
- 229920001652 poly(etherketoneketone) Polymers 0.000 description 4
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 4
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 4
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 4
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229920004748 ULTEM® 1010 Polymers 0.000 description 3
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 3
- 150000001768 cations Chemical group 0.000 description 3
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 3
- 229920006351 engineering plastic Polymers 0.000 description 3
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 3
- 238000009830 intercalation Methods 0.000 description 3
- 230000002687 intercalation Effects 0.000 description 3
- 238000005065 mining Methods 0.000 description 3
- 239000012766 organic filler Substances 0.000 description 3
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 150000000000 tetracarboxylic acids Chemical class 0.000 description 3
- WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 1,3-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=CC(N)=C1 WZCQRUWWHSTZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRPRVQWGKLEFKN-UHFFFAOYSA-N 3-(3-aminopropoxy)propan-1-amine Chemical compound NCCCOCCCN KRPRVQWGKLEFKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003295 Radel® Polymers 0.000 description 2
- QLBRROYTTDFLDX-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCCC(CN)C1 QLBRROYTTDFLDX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 2
- 239000002585 base Substances 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 150000004649 carbonic acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 229920006038 crystalline resin Polymers 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 description 2
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 2
- CBFCDTFDPHXCNY-UHFFFAOYSA-N icosane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCC CBFCDTFDPHXCNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 2
- FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M iron chloride Chemical compound [Cl-].[Fe] FBAFATDZDUQKNH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 2
- 229910052628 phlogopite Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- 238000003746 solid phase reaction Methods 0.000 description 2
- 238000010671 solid-state reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- KUPLEGDPSCCPJI-UHFFFAOYSA-N tetracontane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC KUPLEGDPSCCPJI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- JXTPJDDICSTXJX-UHFFFAOYSA-N triacontane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC JXTPJDDICSTXJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 1,4-phenylenediamine Chemical compound NC1=CC=C(N)C=C1 CBCKQZAAMUWICA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 2,4-diaminotoluene Chemical compound CC1=CC=C(N)C=C1N VOZKAJLKRJDJLL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MXPYJVUYLVNEBB-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-carboxybenzoyl)oxycarbonylbenzoyl]oxycarbonylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O MXPYJVUYLVNEBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 3-(4-aminophenoxy)aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(N)=C1 ZBMISJGHVWNWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 3-[3-(3-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=C(OC=3C=C(N)C=CC=3)C=CC=2)=C1 DKKYOQYISDAQER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 3-[4-[4-(3-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound NC1=CC=CC(OC=2C=CC(=CC=2)S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=C(N)C=CC=3)=CC=2)=C1 WCXGOVYROJJXHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxybenzoyl)phthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 UITKHKNFVCYWNG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AVCOFPOLGHKJQB-UHFFFAOYSA-N 4-(3,4-dicarboxyphenyl)sulfonylphthalic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 AVCOFPOLGHKJQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 4-Aminophenyl ether Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 HLBLWEWZXPIGSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGSBHTZEJMPDSZ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3-methylcyclohexyl)methyl]-2-methylcyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)C(C)CC1CC1CC(C)C(N)CC1 IGSBHTZEJMPDSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 4-[3-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=CC(OC=2C=CC(N)=CC=2)=C1 WUPRYUDHUFLKFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-aminophenoxy)phenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 JCRRFJIVUPSNTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[2-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]propan-2-yl]phenoxy]aniline Chemical compound C=1C=C(OC=2C=CC(N)=CC=2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OC1=CC=C(N)C=C1 KMKWGXGSGPYISJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 4-[4-[4-(4-aminophenoxy)phenyl]sulfonylphenoxy]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1OC1=CC=C(S(=O)(=O)C=2C=CC(OC=3C=CC(N)=CC=3)=CC=2)C=C1 UTDAGHZGKXPRQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 5-phenylbenzene-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C=2C=CC=CC=2)=C1C(O)=O JVERADGGGBYHNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPAKUZKMGJJMAA-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane-1,2,4,5-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC(C(O)=O)C(C(O)=O)CC1C(O)=O ZPAKUZKMGJJMAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N Dapsone Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(N)C=C1 MQJKPEGWNLWLTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M Fluoride anion Chemical compound [F-] KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241001024304 Mino Species 0.000 description 1
- 229910000990 Ni alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004813 Perfluoroalkoxy alkane Substances 0.000 description 1
- 229920008285 Poly(ether ketone) PEK Polymers 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)cyclohexyl]methanamine Chemical compound NCC1CCC(CN)CC1 OXIKYYJDTWKERT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N [4-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=C(CN)C=C1 ISKQADXMHQSTHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006096 absorbing agent Substances 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003963 antioxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000002216 antistatic agent Substances 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920006231 aramid fiber Polymers 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004984 aromatic diamines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- XMSVKICKONKVNM-UHFFFAOYSA-N bicyclo[2.2.1]heptane-3,4-diamine Chemical compound C1CC2(N)C(N)CC1C2 XMSVKICKONKVNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052626 biotite Inorganic materials 0.000 description 1
- QVYARBLCAHCSFJ-UHFFFAOYSA-N butane-1,1-diamine Chemical compound CCCC(N)N QVYARBLCAHCSFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000003851 corona treatment Methods 0.000 description 1
- 239000013039 cover film Substances 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- CURBACXRQKTCKZ-UHFFFAOYSA-N cyclobutane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1C(C(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O CURBACXRQKTCKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WOSVXXBNNCUXMT-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,2,3,4-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1C(O)=O WOSVXXBNNCUXMT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- YGANSGVIUGARFR-UHFFFAOYSA-N dipotassium dioxosilane oxo(oxoalumanyloxy)alumane oxygen(2-) Chemical compound [O--].[K+].[K+].O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O YGANSGVIUGARFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- JMLPVHXESHXUSV-UHFFFAOYSA-N dodecane-1,1-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCCC(N)N JMLPVHXESHXUSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000005007 epoxy-phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 229920000840 ethylene tetrafluoroethylene copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000010433 feldspar Substances 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 238000007667 floating Methods 0.000 description 1
- 150000004673 fluoride salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 1
- HBWCZOSIPPDASE-UHFFFAOYSA-N heptadecane-1,1-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCC(N)N HBWCZOSIPPDASE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZKZIDXHCDIZKY-UHFFFAOYSA-N heptane-1,1-diamine Chemical compound CCCCCCC(N)N IZKZIDXHCDIZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBQUUIXMSDZPEB-UHFFFAOYSA-N hexadecane-1,1-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(N)N FBQUUIXMSDZPEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYECJBOWSGTPLU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diamine Chemical compound CCCCCC(N)N SYECJBOWSGTPLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 150000002484 inorganic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007689 inspection Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 238000007561 laser diffraction method Methods 0.000 description 1
- 239000004611 light stabiliser Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 229940018564 m-phenylenediamine Drugs 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052627 muscovite Inorganic materials 0.000 description 1
- YDLYQMBWCWFRAI-UHFFFAOYSA-N n-Hexatriacontane Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC YDLYQMBWCWFRAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLAPPGSPBNVTRF-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,4,5,8-tetracarboxylic acid Chemical compound C1=CC(C(O)=O)=C2C(C(=O)O)=CC=C(C(O)=O)C2=C1C(O)=O OLAPPGSPBNVTRF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,5-diamine Chemical compound C1=CC=C2C(N)=CC=CC2=C1N KQSABULTKYLFEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOGZBMRXLADNEV-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-diamine Chemical compound C1=C(N)C=CC2=CC(N)=CC=C21 GOGZBMRXLADNEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYMBMZSWTJBJPE-UHFFFAOYSA-N nonadecane-1,1-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)N GYMBMZSWTJBJPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDLUSQPEQUJVOY-UHFFFAOYSA-N nonane-1,1-diamine Chemical compound CCCCCCCCC(N)N DDLUSQPEQUJVOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNVQYOQLKGNUBZ-UHFFFAOYSA-N octadecane-1,1-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)N YNVQYOQLKGNUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- PFLUOWJPZLHUEA-UHFFFAOYSA-N pentacontane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC PFLUOWJPZLHUEA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XHDCCRKCHZGNFM-UHFFFAOYSA-N pentadecane-1,1-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCC(N)N XHDCCRKCHZGNFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJOMYNHMBRNCNY-UHFFFAOYSA-N pentane-1,1-diamine Chemical compound CCCCC(N)N KJOMYNHMBRNCNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920011301 perfluoro alkoxyl alkane Polymers 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 1
- 229920003223 poly(pyromellitimide-1,4-diphenyl ether) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006260 polyaryletherketone Polymers 0.000 description 1
- 229920005668 polycarbonate resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004431 polycarbonate resin Substances 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N propylenediamine Chemical compound CC(N)CN AOHJOMMDDJHIJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 238000009774 resonance method Methods 0.000 description 1
- 238000000790 scattering method Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- XGSHEASGZHYHBU-UHFFFAOYSA-N tetradecane-1,1-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCCC(N)N XGSHEASGZHYHBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002076 thermal analysis method Methods 0.000 description 1
- 230000000930 thermomechanical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
- OLTHARGIAFTREU-UHFFFAOYSA-N triacontane Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(C)CCCCCCCC OLTHARGIAFTREU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRXCPDXZCDMUGX-UHFFFAOYSA-N tridecane-1,1-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCCCC(N)N FRXCPDXZCDMUGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XJIAZXYLMDIWLU-UHFFFAOYSA-N undecane-1,1-diamine Chemical compound CCCCCCCCCCC(N)N XJIAZXYLMDIWLU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
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Description
また、樹脂接着層の厚さを、4μm以上20μm以下とすることができる。
また、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層は、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂100質量部に対し、無機フィラーが15質量部以上80質量部以下配合されることが好ましい。
また、無機フィラーのアスペクト比を、10以上200以下とすることが好ましい。
また、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層の線膨張係数を、1ppm/℃以上50ppm/℃以下とすることができる。
また、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層の330℃における貯蔵弾性率を、450MPa以下とすることが好ましい。
ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層と結晶性熱可塑性ポリイミド樹脂含有の樹脂接着層とをそれぞれ成形し、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層の少なくとも片面に樹脂接着層を積層し、この樹脂接着層の厚さを0.5μm以上30μm以下とし、樹脂接着層には金属層を積層してこれら樹脂接着層と金属層とを熱圧着するとともに、樹脂接着層と金属層の熱圧着時における加工温度を、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層の融点温度をTmA、樹脂接着層の溶融成形可能温度の最小温度をTmBとした場合に、TmB以上TmA以下とすることを特徴としている。
請求項4記載の発明によれば、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂100質量部に対し、無機フィラーが15質量部以上80質量部以下配合されるので、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層の線膨張係数を充分に低下させることができ、熱寸法安定性の向上も期待できる。また、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層の機械的強度を維持し、ハンドリング性の確保も期待できる。
請求項7記載の発明によれば、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層の線膨張係数を、1ppm/℃以上50ppm/℃以下とするので、積層体のカールを実用上問題ない範囲に抑制することが可能となる。
請求項9記載の発明によれば、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層の330℃における貯蔵弾性率を、450MPa以下とするので、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層と樹脂接着層の密着性を向上させることができる。
一般式:X1/3~1.0Y2~3(Z4O10)F1.5~2.0
先ず、実施例と比較例で使用する12種類のポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム1~12を図4に示す製造装置でフィルム幅530mmに溶融押出成形し、溶融押出成形した各ポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルムの吸水率、線膨張係数(CTE)、融点TmA、算術平均粗さRa、貯蔵弾性率E’をそれぞれ測定して表1、2にまとめた。
先ず、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂を、同方向回転二軸押出機〔φ25mm、L/D=41、日本製鋼所社製 製品名:TEX25αIII〕のスクリュー根元付近に設けられた第一供給口であるホッパーに投入した。また、無機フィラーは、同方向回転二軸押出機の大気圧に開放されたベント口のすぐ隣のサイドフィーダーの第二供給口より強制圧入した。
成形材料を、Tダイスを備えたφ40mm単軸押出成形機にセットして溶融混練し、この溶融混練した成形材料を単軸押出成形機のTダイスから連続的に押し出し、その後、230℃の冷却ロールである金属ロールで冷却することにより、厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルムを製造した。ここで、φ40mm単軸押出成形機の温度は360℃~400℃、Tダイスの温度は400℃、単軸押出成形機とTダイスとを連結する連結管の温度は400℃にそれぞれ調整した。
ポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルムの貯蔵弾性率は、溶融押出成形したポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルムの押出方向の貯蔵弾性率(E’)を測定した。具体的には、成形したポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルムの押出方向60mm×幅方向(押出方向の直角方向)6mmの大きさに切り出し、動的粘弾性測定装置〔ティー・エス・インスルメント・ジャパン社製 製品名:RSA-G2〕を用いた引張モードにより、周波数1Hz、歪み0.1 % 、昇温速度3℃ /min、チャック間21mmの条件で測定した。測定温度範囲は-60℃~360℃として、330℃の貯蔵弾性率を読み取った。
・TPI TO-65 5μm 吸水率:0.65%
・TPI TO-65 8μm 吸水率:0.65%
・TPI TO-65 15μm 吸水率:0.72%
・TPI TO-65 25μm 吸水率:0.73%
・TPI TO-65 35μm 吸水率:0.73%
・PEI 1010 5μm 吸水率:1.1%
320mm×320mmにカットした銅箔、300×210mmにカットしたイミド基含有の樹脂接着層、300×210mmにカットした厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム1、300×210mmにカットした樹脂接着層、及び320mm×320mmにカットした銅箔を順次積層し、この積層体を厚み1mmのSUS板で挟み、熱板を330℃に設定した熱プレス機で、面圧4MPa、5分間熱圧着してから取り出すことで、五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表3にまとめた。
積層体の熱収縮率については、積層された銅箔を塩化鉄水溶液で溶かして銅箔を除去した樹脂接着層付きのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルムを試験体として調製し、150℃×30分の条件下で測定し、積層体のMD方向とTD方向について測定した。具体的には、先ず、加熱前の積層体の長さを測定し、市販されているポリイミド樹脂フィルム[東レ ・デュポン会社製 製品名:カプトン100H]上に積層体を置き、熱風循環式恒温槽内に、規定する時間、及び温度で処理した後、室温まで冷却し、先に測定した同じ部分について積層体の長さを測定した。寸法を測定する際には、2次元測長機[ミノグループ社製 製品名:VMH600]を用いた。
寸法変化率(%)=100×(Lo-L)/Lo
Lo:試験前の積層体長さ
L :試験後の積層体長さ
積層体の比誘電率・誘電正接については、電子計測器[製品名 コンパクトUSBベクトルネットワークアナライザ MS46122B:Anritsu社製]を用い、開放型共振器法の一種であるファブリペロー法により、周波数28GHz付近の乾燥時と浸水24時間後の比誘電率・誘電正接をそれぞれ測定した。
△:0.0060以上0.0072未満
×:0.0072以上
積層体のはんだ耐熱については、積層体を30mm×30mmにカットし、この積層体の銅箔が積層された面側がはんだ浴に直接接するように288℃のはんだ浴に10秒間浮かべたときの外観変化や、室温まで冷却した後、積層体の変形やシワの発生の有無を目視により観察して○△×評価した。
い場合
△:積層体にはんだ浴に浮かべた際に一部溶融と考えられる外観変化があるが、変形
やシワの発生が認められず、実用上問題がない場合
×:積層体に変形やシワの発生が認められ、実用上問題がある場合
積層体の密着性については、積層体をカットして幅25mmの試験体とし、JIS Z0237:2009(粘着テープ・粘着シート試験方法)を参考に、剥離速度0.3mm/min、剥離角180°にて積層体を支持体に固定するとともに、銅箔を引張治具に固定し、積層体から銅箔を引張った際の剥離強度を測定することにより、密着強度(密着性)を測定した。密着性は、以下の基準で〇△×評価した。
△:密着性が5N/cm以上7N/cm未満で、不具合が発生する危険性が示唆され
るものの、実用上問題ない場合
×:密着性が5N/cm未満で実用上問題が発生する場合
実施例及び比較例に示す積層体の密着性試験における剥離界面は、全てポリアリーレンエーテルケトン樹脂層と樹脂接着層であった。
厚さ12μmの銅箔、厚さ5μmの樹脂接着層、厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム2、厚さ5μmの樹脂接着層、及び厚さ12μmの銅箔を順次積層して330℃で熱圧着することにより、五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表3にまとめた。その他の部分については、実施例1と同様とした。
厚さ12μmの銅箔、厚さ5μmの樹脂接着層、厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム3、厚さ5μmの樹脂接着層、及び厚さ12μmの銅箔を順次積層して330℃で熱圧着することにより、五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表3にまとめた。その他の部分については、実施例1と同様とした。
厚さ12μmの銅箔、厚さ5μmの樹脂接着層、厚さ50μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム3、厚さ5μmの樹脂接着層、及び厚さ12μmの銅箔を順次積層して330℃で熱圧着することにより、五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表3にまとめた。その他の部分については、実施例1と同様とした。
厚さ12μmの銅箔、樹脂接着層、厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム3、樹脂接着層、及び厚さ12μmの銅箔を順次積層して330℃で熱圧着することにより、五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表3に記載した。
各樹脂接着層は、ガラス転移温度が217℃のポリエーテルイミド(PEI)樹脂[製品名 ULTEM1010:SABIC社製]に変更して厚さ5μmに溶融押出成形した。その他の部分については、実施例1と同様とした。
厚さ12μmの銅箔、樹脂接着層、厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム3、樹脂接着層、及び厚さ12μmの銅箔を順次積層して330℃で熱圧着することにより、五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表3に記載した。
各樹脂接着層は、熱可塑性ポリイミド樹脂[製品名 サープリム(登録商標)TO65:三菱ガス化学社製]を用いて厚さ8μmに溶融押出成形した。その他の部分については、実施例1と同様とした。
厚さ12μmの銅箔、厚さ15μmの樹脂接着層、厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム3、厚さ15μmの樹脂接着層、及び厚さ12μmの銅箔を順次積層して330℃で熱圧着することにより、五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表3に記載した。その他の部分については、実施例1と同様とした。
厚さ12μmの銅箔、厚さ25μmの樹脂接着層、厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム3、厚さ25μmの樹脂接着層、及び厚さ12μmの銅箔を順次積層して330℃で熱圧着することにより、五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表3に記載した。その他の部分については、実施例1と同様とした。
厚さ12μmの銅箔、厚さ5μmの樹脂接着層、厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム4、厚さ5μmの樹脂接着層、及び厚さ12μmの銅箔を順次積層して330℃で熱圧着することにより、五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表3にまとめた。その他の部分については、実施例1と同様とした。
厚さ12μmの銅箔、厚さ5μmの樹脂接着層、厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム5、厚さ5μmの樹脂接着層、及び厚さ12μmの銅箔を順次積層して330℃で熱圧着することにより、五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表4にまとめた。その他の部分については、実施例1と同様である。
厚さ12μmの銅箔、厚さ5μmの樹脂接着層、厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム6、厚さ5μmの樹脂接着層、及び厚さ12μmの銅箔を順次積層して330℃で熱圧着することにより、五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表4にまとめた。その他の部分については、実施例1と同様である。
厚さ12μmの銅箔、厚さ5μmの樹脂接着層、厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム7、厚さ5μmの樹脂接着層、及び厚さ12μmの銅箔を順次積層して330℃で熱圧着することにより、五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表4にまとめた。その他の部分については、実施例1と同様である。
厚さ12μmの銅箔、厚さ5μmの樹脂接着層、厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム8、厚さ5μmの樹脂接着層、及び厚さ12μmの銅箔を順次積層して330℃で熱圧着することにより、五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表4に記載した。その他の部分については、実施例1と同様である。
厚さ12μmの銅箔、厚さ5μmの樹脂接着層、厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム9、厚さ5μmの樹脂接着層、及び厚さ12μmの銅箔を順次積層して330℃で熱圧着することにより、五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表4に記載した。その他の部分については、実施例1と同様である。
厚さ12μmの銅箔、厚さ5μmの樹脂接着層、厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム3、及び厚さ5μmの樹脂接着層を順次積層して330℃で熱圧着することにより、四層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表4に記載した。その他の部分については、実施例1と同様である。
厚さ12μmの銅箔、厚さ5μmの樹脂接着層、及び厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム3を順次積層して330℃で熱圧着することにより、三層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表4に記載した。その他の部分については、実施例1と同様である。
厚さ12μmの銅箔、厚さ5μmの樹脂接着層、及び厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム10を順次積層して330℃で熱圧着することにより、三層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表4にまとめた。その他の部分については、実施例1と同様である。
厚さ12μmの銅箔、厚さ5μmの樹脂接着層、及び厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム11を順次積層して330℃で熱圧着することにより、三層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表4にまとめた。その他の部分については、実施例1と同様である。
厚さ12μmの銅箔、厚さ5μmの樹脂接着層、及び厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム12を順次積層して330℃で熱圧着することにより、三層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表4に記載した。その他の部分については、実施例1と同様である。
厚さ12μmの銅箔、厚さ35μmの樹脂接着層、厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム3、厚さ35μmの樹脂接着層、及び厚さ12μmの銅箔を順次積層して330℃で熱圧着することにより、五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表5にまとめた。その他の部分については、実施例1と同様とした。
厚さ12μmの銅箔、厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム3、及び厚さ12μmの銅箔を順次積層して360℃で熱圧着することにより、樹脂接着層を有しない三層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表5にまとめた。その他の部分については、実施例1と同様とした。
厚さ12μmの銅箔、厚さ100μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム3、及び厚さ12μmの銅箔を順次積層して330℃で熱圧着することにより、樹脂接着層を有しない三層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表5にまとめた。その他の部分については、実施例1と同様とした。
厚さ12μmの銅箔、厚さ50μmのポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム3、及び厚さ12μmの銅箔を順次積層して360℃で熱圧着することにより、樹脂接着層を有しない三層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表5にまとめた。その他の部分については、実施例1と同様とした。
樹脂接着層を、イミド基を含有しない樹脂であるポリフェニルスルホン(PPSU)樹脂 R‐5500[SOLVAY会社製 製品名:レーデル(登録商標)]により厚さ8μmに溶融押出成形し、その他は実施例6と同様にして五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表5にまとめた。
樹脂接着層を、イミド基を含有しない樹脂であるポリエーテルスルホン(PESU)樹脂 R‐3100[SOLVAY会社製 製品名:ベラデル(登録商標)]により厚さ8μmに溶融押出成形し、その他は実施例6と同様にして五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表5にまとめた。
樹脂接着層を、イミド基を含有しない樹脂であるポリスルホン(PSU)樹脂 R‐1700[SOLVAY会社製 製品名:ユーデル(登録商標)]により厚さ8μmに溶融押出成形し、その他は実施例6と同様にして五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表5にまとめた。
樹脂接着層を、イミド基を含有しない樹脂であるポリスルホン(PSU)樹脂 R‐1700[SOLVAY会社製 製品名:ユーデル(登録商標)]により厚さ8μmに溶融押出成形し、その他は実施例16と同様にして五層構造の積層体を作製し、この積層体の熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を測定してその結果を表5にまとめた。
実施例1~4、6、7、9~12、14~16の積層体の場合、イミド基含有の樹脂接着層の溶融成形可能温度がポリアリーレンエーテルケトン樹脂層の融点よりも低く、樹脂接着層の厚さが0.5μm以上30μm以下なので、優れた熱収縮率、比誘電率、誘電正接、はんだ耐熱、密着性を得ることができた。実施例5、8の積層体の場合、浸水後の誘電正接が多少上昇したが、実用上、問題の無い範囲であった。また、実施例13、17~19の積層体の場合、密着性がやや低下したが、実用上、問題の無い範囲であった。
2 ポリアリーレンエーテルケトン樹脂フィルム(ポリアリーレンエーテルケトン
樹脂層)
3 成形材料
4 樹脂接着層
5 銅箔(金属層)
10 溶融押出成形機
15 Tダイス
16 冷却ロール
17 圧着ロール
19 巻取機
Claims (10)
- 無機フィラー含有のポリアリーレンエーテルケトン樹脂層の少なくとも片面に、溶融成形可能温度がポリアリーレンエーテルケトン樹脂層の融点よりも低い温度に含まれる樹脂接着層を積層し、この樹脂接着層の厚さを0.5μm以上30μm以下とし、樹脂接着層に結晶性熱可塑性ポリイミド樹脂を含有させるとともに、樹脂接着層には金属層を積層したことを特徴とする積層体。
- 樹脂接着層のガラス転移温度を、150℃よりも高い温度とした請求項1記載の積層体。
- 樹脂接着層の厚さを、4μm以上20μm以下とした請求項1又は2記載の積層体。
- ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層は、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂100質量部に対し、無機フィラーが15質量部以上80質量部以下配合される請求項1、2、又は3記載の積層体。
- ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層の無機フィラーを、平均粒子径が0.3μm以上50μm以下のマイカ、タルク、及び窒化ホウ素の少なくともいずれかとした請求項1ないし4のいずれかに記載の積層体。
- 無機フィラーのアスペクト比を、10以上200以下とした請求項5記載の積層体。
- ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層の線膨張係数を、1ppm/℃以上50ppm/℃以下とした請求項1ないし6のいずれかに記載の積層体。
- ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層の算術平均粗さRaを、0.1μm以上3μm以下とした請求項1ないし7のいずれかに記載の積層体。
- ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層の330℃における貯蔵弾性率を、450MPa以下とした請求項1ないし8のいずれかに記載の積層体。
- 請求項1ないし9のいずれかに記載の積層体の製造方法であって、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層と結晶性熱可塑性ポリイミド樹脂含有の樹脂接着層とをそれぞれ成形し、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層の少なくとも片面に樹脂接着層を積層し、この樹脂接着層の厚さを0.5μm以上30μm以下とし、樹脂接着層には金属層を積層してこれら樹脂接着層と金属層とを熱圧着するとともに、樹脂接着層と金属層の熱圧着時における加工温度を、ポリアリーレンエーテルケトン樹脂層の融点温度をTmA、樹脂接着層の溶融成形可能温度の最小温度をTmBとした場合に、TmB以上TmA以下とすることを特徴とする積層体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2021050278A JP7519745B2 (ja) | 2021-03-24 | 2021-03-24 | 積層体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2022148546A JP2022148546A (ja) | 2022-10-06 |
| JP7519745B2 true JP7519745B2 (ja) | 2024-07-22 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2021050278A Active JP7519745B2 (ja) | 2021-03-24 | 2021-03-24 | 積層体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7519745B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2023145135A1 (ja) * | 2022-01-28 | 2023-08-03 | 信越ポリマー株式会社 | 積層体、及び該積層体を有する金属張積層板 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003026914A (ja) | 2001-07-17 | 2003-01-29 | Otsuka Chem Co Ltd | プリント配線板用フィルム及びプリント配線板 |
| JP2006008986A (ja) | 2004-03-31 | 2006-01-12 | Mitsubishi Plastics Ind Ltd | 熱可塑性樹脂フィルム及びその製造方法 |
| WO2006006508A1 (ja) | 2004-07-09 | 2006-01-19 | Mitsubishi Plastics, Inc. | 積層体 |
| JP2013508491A (ja) | 2009-10-21 | 2013-03-07 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | ポリアリーレンエーテルケトンより成るフィルム |
-
2021
- 2021-03-24 JP JP2021050278A patent/JP7519745B2/ja active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003026914A (ja) | 2001-07-17 | 2003-01-29 | Otsuka Chem Co Ltd | プリント配線板用フィルム及びプリント配線板 |
| JP2006008986A (ja) | 2004-03-31 | 2006-01-12 | Mitsubishi Plastics Ind Ltd | 熱可塑性樹脂フィルム及びその製造方法 |
| WO2006006508A1 (ja) | 2004-07-09 | 2006-01-19 | Mitsubishi Plastics, Inc. | 積層体 |
| JP2013508491A (ja) | 2009-10-21 | 2013-03-07 | エボニック デグサ ゲーエムベーハー | ポリアリーレンエーテルケトンより成るフィルム |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2022148546A (ja) | 2022-10-06 |
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