JP7515497B2 - 立体障害アミン安定剤混合物 - Google Patents
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Description
R1、R2、R3、R4、R'1、R'2、R'3及びR'4は、互いに独立して、水素又はC1~C18アルキルであり、
X1及びX'1は、互いに独立して、C2~C12アルキレン又はヒドロキシルにより置換されているC3~C12アルキレンであり、
Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6基の少なくとも1個は、C1~C18アルキルオキシ又はC5~C7シクロアルキルオキシであり、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6基の残りは、互いに独立して、水素、ヒドロキシ、C1~C18アルキルオキシ又はC5~C7シクロアルキルオキシであり、
Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6基の少なくとも1個は、式-CH2-CH=CH-Rの基であり、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6基の残りは、互いに独立して、水素又は式-CH2-CH=CH-Rの基であり、
Rは、水素、C1~C18アルキル又はC5~C7シクロアルキルである)
を含む添加剤混合物に関する。
Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6基の1から5個の基は、式-CH2-CH=CH-Rの基であり、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6基の残りは水素である。
R1、R2、R3、R4、R'1、R'2、R'3及びR'4が、C1~C12アルキルであり、
X1及びX'1がC2~C8アルキレンであり、
Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6基の1から5個の基が、C1~C18アルキルオキシ又はC5~C7シクロアルキルオキシであり、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6基の残りが、水素又はヒドロキシ、とりわけ水素であり、
Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6基の1から5個の基が、式-CH2-CH=CH-Rの基であり、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6基の残りが水素であり、
Rが、水素又はシクロヘキシルである、
添加剤混合物である。C1~C18アルキルオキシとしてのZ1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6は、好ましくはn-プロピルオキシである。
R1、R2、R3、R4、R'1、R'2、R'3及びR'4が、C1~C12アルキルであり、
X1及びX'1がC2~C8アルキレンであり、
Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6基の1から5個の基が、C1~C18アルキルオキシであり、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6基の残りが、水素又はヒドロキシ、とりわけ水素であり、
Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6基の1から5個の基が、式-CH2-CH=CH-Rの基であり、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6基の残りが水素であり、
Rが水素である、
添加剤混合物である。C1~C18アルキルオキシとしてのZ1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6は、好ましくはn-プロピルオキシである。
a)酸化、熱又は光誘導分解に感受性である有機材料、及び
b)式(1)及び(2)の化合物の混合物
を含む組成物である。
1. モノオレフィン及びジオレフィンのポリマー、例えばポリプロピレン、ポリイソブチレン、ポリブタ-1-エン、ポリ-4-メチルペンタ-1-エン、ポリビニルシクロヘキサン、ポリイソプレン又はポリブタジエン、並びにシクロオレフィン、例えばシクロペンテン又はノルボルネンのポリマー、ポリエチレン(任意選択で架橋されていてよい)、例えば高密度ポリエチレン(HDPE)、高密度及び高分子量ポリエチレン(HDPE-HMW)、高密度及び超高分子量ポリエチレン(HDPE-UHMW)、中密度ポリエチレン(MDPE)、低密度ポリエチレン(LDPE)、直鎖状低密度ポリエチレン(LLDPE)、(VLDPE)及び(ULDPE)である。
a)ラジカル重合(普通は高圧下及び昇温状態にて)。
b)普通、周期表の第IVb、Vb、VIb又はVIII族の金属1種又は1種超を含有する触媒を使用した触媒重合。これらの金属は、通常、π-又はσ-配位であり得る1種又は1種超のリガンド、典型的には酸化物、ハロゲン化物、アルコラート、エステル、エーテル、アミン、アルキル、アルケニル及び/又はアリールを有する。これらの金属錯体は、遊離形態であってよく、又は基材、典型的には活性化塩化マグネシウム、塩化チタン(III)、アルミナ又は酸化ケイ素に固定されていてよい。これらの触媒は、重合媒体中で可溶性又は不溶性であり得る。触媒は、重合の際にそれ自体で使用してよく、又はさらなる活性化物質、典型的には金属アルキル、金属水素化物、金属ハロゲン化アルキル、金属アルキル酸化物又は金属アルキルオキサンを使用してよく、前記金属は、周期表の第Ia、IIa及び/又はIIIa族元素である。活性化物質は、さらなるエステル、エーテル、アミン又はシリルエーテル基で都合よく修飾され得る。これらの触媒系は、通常、Phillips、Standard Oil Indiana、Ziegler(-Natta)、TNZ(DuPont)、メタロセン又はシングルサイト触媒(SSC)といわれる。
1. 酸化防止剤
1.1. アルキル化モノフェノール、例えば2,6-ジ-tert-ブチル-4-メチルフェノール、2-tert-ブチル-4,6-ジメチルフェノール、2,6-ジ-tert-ブチル-4-エチルフェノール、2,6-ジ-tert-ブチル-4-n-ブチルフェノール、2,6-ジ-tert-ブチル-4-イソブチルフェノール、2,6-ジシクロペンチル-4-メチルフェノール、2-(α-メチルシクロヘキシル)-4,6-ジメチルフェノール、2,6-ジオクタデシル-4-メチルフェノール、2,4,6-トリシクロヘキシルフェノール、2,6-ジ-tert-ブチル-4-メトキシメチルフェノール、側鎖において直鎖状又は分岐状であるノニルフェノール、例えば、2,6-ジ-ノニル-4-メチルフェノール、2,4-ジメチル-6-(1'-メチルウンデカ-1'-イル)フェノール、2,4-ジメチル-6-(1'-メチルヘプタデカ-1'-イル)フェノール、2,4-ジメチル-6-(1'-メチルトリデカ-1'-イル)フェノール及びそれらの混合物。
2.1. 2-(2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、例えば2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチルフェニル)-ベンゾトリアゾール、2-(3',5'-ジ-tert-ブチル-2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(5'-tert-ブチル-2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3',5'-ジ-tert-ブチル-2'-ヒドロキシフェニル)-5-クロロ-ベンゾトリアゾール、2-(3'-tert-ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-メチルフェニル)-5-クロロ-ベンゾトリアゾール、2-(3'-sec-ブチル-5'-tert-ブチル-2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-4'-オクチルオキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3',5'-ジ-tert-アミル-2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3',5'-ビス-(α,α-ジメチルベンジル)-2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3'-tert-ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-(2-オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)-5-クロロ-ベンゾトリアゾール、2-(3'-tert-ブチル-5'-[2-(2-エチルヘキシルオキシ)-カルボニルエチル]-2'-ヒドロキシフェニル)-5-クロロ-ベンゾトリアゾール、2-(3'-tert-ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-(2-メトキシカルボニルエチル)フェニル)-5-クロロ-ベンゾトリアゾール、2-(3'-tert-ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-(2-メトキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3'-tert-ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-(2-オクチルオキシカルボニルエチル)フェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3'-tert-ブチル-5'-[2-(2-エチルヘキシルオキシ)カルボニルエチル]-2'-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3'-ドデシル-2'-ヒドロキシ-5'-メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2-(3'-tert-ブチル-2'-ヒドロキシ-5'-(2-イソ-オクチルオキシカルボニルエチル)フェニルベンゾトリアゾール、2,2'-メチレン-ビス[4-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)-6-ベンゾトリアゾール-2-イルフェノール];2-[3'-tert-ブチル-5'-(2-メトキシカルボニルエチル)-2'-ヒドロキシフェニル]-2H-ベンゾトリアゾールとポリエチレングリコール300のエステル交換生成物;
2-[2'-ヒドロキシ-3'-(α,α-ジメチルベンジル)-5'-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)-フェニル]ベンゾトリアゾール;2-[2'-ヒドロキシ-3'-(1,1,3,3-テトラメチルブチル)-5'-(α,α-ジメチルベンジル)-フェニル]ベンゾトリアゾール。
トリス(2,4-ジ-tert-ブチルフェニル)ホスファイト(Irgafos 168(RTM、Ciba Inc.)、トリス(ノニルフェニル)ホスファイト、
16.1 リン含有難燃剤、例えばテトラフェニルレゾルシノールジホスファイト(Fyrolflex RDP、RTM、Akzo Nobel)、テトラキス(ヒドロキシメチル)ホスホニウムスルフィド、トリフェニルホスフェート、ジエチル-N,N-ビス(2-ヒドロキシエチル)-アミノメチルホスホネート、亜リン酸のヒドロキシアルキルエステル、アンモニウムポリホスフェート(APP)、レゾルシノールジホスフェートオリゴマー(RDP)、ホスファゼン難燃剤又はエチレンジアミンジホスフェート(EDAP)。
トリス(トリブロモネオペンチル)ホスフェート、レゾルシノール-ビス-ジフェニルホスフェート、ペンタエリスリトール-ジ-メチルホスホネート、グアニジンフェニルホスホネート、メラミンフェニルホスホネート、ジメチルアルミニウムホスフィネート、メチル-エチルアルミニウムホスフィネート、ジエチルアルミニウムホスフィネート、ポリ-[2,4-(ピペラジン-1,4-イル)-6-モルホリン-4-イル)-1,3,5-トリアジン]及びアンモニウムポリホスフェート。
- エマルション又は分散体として(例えばラテックス又はエマルションポリマー)
- ブレンド中に乾燥混合物として
- 加工装置(例えば押出機、密閉式混合機)中に直接導入することにより
- 有機溶媒中に溶液として
- 溶融物として
慎重に組み込むことができる。
R1、R2、R3、R4、R'1、R'2、R'3及びR'4は、互いに独立して、水素又はC1~C18アルキルであり、
X1及びX'1は、互いに独立して、C2~C12アルキレン又はヒドロキシルにより置換されているC3~C12アルキレンであり、
Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6基の1から5個の基は、式-O-CH2-CH2-CH2-Rの基であり、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6基の残りは、水素又はヒドロキシ、とりわけ水素であり、
Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6基の1から5個の基は、式-CH2-CH=CH-Rの基であり、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6基の残りは水素であり、
Rは、水素又はC1~C15アルキルであり、好ましくは水素である)。
の化合物と、式
Hal-CH2-CH=CH-R (4)
(式中、Halは、ハロゲン、好ましくは塩素又はとりわけ臭素であり、Rは、上で定義されている通りである)
のハロゲン化アリルを反応させることにより調製され得る。
合成及び調製例
[実施例1]
70モル%のZ1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6が、n-プロピルオキシであり、これらの基の残りが、水素又はヒドロキシである、式(1-A)の化合物の合成。以下ではこの化合物は、化合物(101)と呼ばれる。
上のステップa)に従って得られた反応混合物を、キシレンで32重量%濃度に希釈し、メカニカルスターラー、熱電対及び滴下漏斗を備えたガラス反応器に入れる。1.13molのNa2CO3を添加する。懸濁液を0℃に冷却し、0.86molの過酢酸溶液(水中35重量%)を、3時間かけてゆっくり添加する。その後、16.7molの水を添加し、混合物を加温し、75℃にて1時間撹拌する。有機相を分離し、0.07molのNa2CO3及び5.56molの水で洗浄する。有機相を、さらなる精製一切なしで以下のステップに直接使用する。変換率:93%
上のステップb)に従って得られた反応混合物から、溶媒を除去して、最終濃度を45から60重量%とする。溶液を、1リットルのオートクレーブ中に、0.14mmolのPd/C(5重量%)と共に充填する。全体の混合物を30bar水素下で70℃にて4時間加熱する。
Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6のすべてがアリル基である、式(2-A)の化合物の合成。以下ではこの化合物は、化合物(202)と呼ばれる。
50モル%のY1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6がアリル基であり、これらの基の残りが水素である、式(2-A)の化合物の合成。以下ではこの化合物は、化合物(203)と呼ばれる。
混合物の調製
化合物(101)、(201)、(202)及び(203)は、上の実施例2で示されているように単離される。以下の適用例1の表1で示されている混合物は、対応する化合物の固体を、指し示されている重量比で均質に混合することにより調製される。
適用例1: LDPE(低密度ポリエチレン)多層フィルムの安定化。
合計10重量%の、以下の表1で指し示されている光安定剤、加工安定剤として、0.4重量%のトリス{2,4-ジ-tert-ブチルフェニル}ホスファイト及び0.1重量%のオクタデシル3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート、並びに残りをポリエチレン粉末(Polimeri Europa Riblene(登録商標)FC 30、0.922g/cm3の密度及び0.27g/10minのメルトフローインデックス(190℃/2.16Kg)を特徴とする)を含有するマスターバッチ配合物を調製する。マスターバッチ配合物は、ターボ混合機で混合される。各マスターバッチ配合物は、実験室規模のOMCツインスクリュー押出機(φ19mm、L/D=25)で、200℃の最大温度にて押し出される。各マスターバッチ配合物で、このように得られた360gの顆粒を、加工安定剤として、0.4重量%のトリス{2,4-ジ-tert-ブチルフェニル}ホスファイト及び0.1重量%のオクタデシル3-(3,5-ジ-tert-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネートを含有する30gのポリエチレンマスターバッチと、また、5610gの上で指し示されているペレット形態の未使用ポリエチレンとRhonrad(登録商標)低速混合機で10分混合し、以下の表1で指し示されている合計0.6%の光安定剤を含有する最終配合物を得る。次いで、各最終配合物を、実験室規模のCollin(登録商標)5層ブロー押出機(φ20-25-30mm、L/D25)で、210℃の最大温度にてブローして、同一の配合物を全層に有する全厚150μm(45-5-50-5-45μm)の5層フィルムを得る。以下の配合物が調製される:
各配合物のフィルム試験片を、促進光耐候試験のために、Q-Panel QUV/se装置(QUV、ASTM G154による、340nmで1.55W/m2、サイクル6)において曝露させる。そのような試験片を、定義された間隔で取り出し、脆化について評価する。脆化までの時間が長いほど、立体障害した安定剤による様々な配合物における安定化効果は良好である。結果は、以下の表2で報告されている。本発明の対象物である化合物(201)をベースとする配合物2は、配合物1Cより良好であること、並びに化合物(201)又はその同族体との混合物をベースとする配合物4、5及び6は、配合物3Cより良好であることが観察され得る。
このテストは、光照射及び農薬の使用の組合せに向けられており、組合せは、農薬に含有される光安定剤の光安定性性能に対して有害作用を有することが公知である。そのような目的を達成するために、農薬処理を、促進耐候試験の前に調製したフィルムで実行する。各配合物のフィルム試験片を、小さい実験温室(地理的座標:Lat.44°25'40"N Long.11°16'39"E)に取り付け、その内側で、農業実務に使用される硫黄系燻蒸剤であるメタムナトリウムを用いた処理を実行する。処理後、続いて日射の効果、したがって、後続する一連のテストで曝露される試料において考えられる差を最小限にするために、小さい温室を単一片の不透明フィルムで覆って、試料が日光に直接曝露することをブロックする。実験条件を入念にモニターし、その結果、誘導結合プラズマにより測定して、フィルム試料における硫黄の望ましいレベルの混入を達成する。
農薬処理は、適用例3に記載されているように実行する。農薬処理後に、各配合物のフィルム試験片を、促進光耐候試験のために、Atlasウェザーオメーター(WOM、ASTM G155による、340nmで0.35W/m2、ドライサイクル)で曝露させる。必要とされる配合物の試験片を、曝露後に定義された時間間隔で取り出し、機械的性質の評価を行う。プラスチックフィルムの機械的性質の劣化を評価するために、残留破断伸びを、酸化後のポリマー分解の結果として、Zwick(登録商標)Z1.0等速張力計(改訂ISO 527による)によって測定する。
適用例3のように、このテストは、光照射及び農薬の使用の組合せに向けられている。このテストでも、農薬処理を、促進耐候試験の前に調製したフィルムで実行する。各配合物のフィルム試験片を、実験用キャビネットの屋外(地理的座標:Lat.44°25'40"N Long.11°16'39"E)に取り付け、その内側で、通例の農業実務に使用されるタイプのバーナーをいくつか置いて、幅広く使用される殺菌剤である元素硫黄を昇華させる。特定の重量の硫黄を燃焼するように、いわゆる「硫黄燃焼」を実行する。燃焼した硫黄の量を調節し、風化条件を入念にモニターし、その結果、誘導結合プラズマにより測定して、フィルム試料における硫黄の望ましいレベルの混入を達成する。
農薬処理は、適用例5に記載されているように実行する。農薬処理後に、各配合物のフィルム試験片は、促進光耐候試験のために、Atlasウェザーオメーター(WOM、ASTM G155による、340nmで0.35W/m2、ドライサイクル)で曝露させる。必要とされる配合物の試験片を、曝露後に定義された時間間隔で取り出し、適用例4に記載されているように機械的性質の評価を行う。結果は、以下の表6で報告されている。
[実施形態1]
式(1)の化合物
R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R' 1 、R' 2 、R' 3 及びR' 4 は、互いに独立して、水素又はC 1 ~C 18 アルキルであり、
X 1 及びX' 1 は、互いに独立して、C 2 ~C 12 アルキレン又はヒドロキシルにより置換されているC 3 ~C 12 アルキレンであり、
Z 1 、Z 2 、Z 3 、Z 4 、Z 5 及びZ 6 基の少なくとも1個は、C 1 ~C 18 アルキルオキシ又はC 5 ~C 7 シクロアルキルオキシであり、Z 1 、Z 2 、Z 3 、Z 4 、Z 5 及びZ 6 基の残りは、互いに独立して、水素、ヒドロキシ、C 1 ~C 18 アルキルオキシ又はC 5 ~C 7 シクロアルキルオキシであり、
Y 1 、Y 2 、Y 3 、Y 4 、Y 5 及びY 6 基の少なくとも1個は、式-CH 2 -CH=CH-Rの基であり、Y 1 、Y 2 、Y 3 、Y 4 、Y 5 及びY 6 基の残りは、互いに独立して、水素又は式-CH 2 -CH=CH-Rの基であり、Rは、水素、C 1 ~C 18 アルキル又はC 5 ~C 7 シクロアルキルである)
を含む添加剤混合物。
[実施形態2]
R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R' 1 、R' 2 、R' 3 及びR' 4 が、C 1 ~C 12 アルキルである、実施形態1に記載の添加剤混合物。
[実施形態3]
X 1 及びX' 1 が、C 2 ~C 8 アルキレンである、実施形態1又は2に記載の添加剤混合物。
[実施形態4]
Z 1 、Z 2 、Z 3 、Z 4 、Z 5 及びZ 6 基の1から5個の基が、C 1 ~C 18 アルキルオキシ又はC 5 ~C 7 シクロアルキルオキシであり、Z 1 、Z 2 、Z 3 、Z 4 、Z 5 及びZ 6 基の残りが、水素又はヒドロキシである、実施形態1から3のいずれかに記載の添加剤混合物。
[実施形態5]
Z 1 、Z 2 、Z 3 、Z 4 、Z 5 及びZ 6 が、C 1 ~C 18 アルキルオキシとしての意味において、式-O-CH 2 -CH 2 -CH 2 -Rの基であり、Rが、水素又はC 1 ~C 15 アルキルである、実施形態1から4のいずれかに記載の添加剤混合物。
[実施形態6]
Y 1 、Y 2 、Y 3 、Y 4 、Y 5 及びY 6 基の1から5個の基が、式-CH 2 -CH=CH-Rの基であり、Y 1 、Y 2 、Y 3 、Y 4 、Y 5 及びY 6 基の残りが水素である、実施形態1から5のいずれかに記載の添加剤混合物。
[実施形態7]
Rが水素である、実施形態1から6のいずれかに記載の添加剤混合物。
[実施形態8]
R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R' 1 、R' 2 、R' 3 及びR' 4 が、C 1 ~C 12 アルキルであり、
X 1 及びX' 1 がC 2 ~C 8 アルキレンであり、
Z 1 、Z 2 、Z 3 、Z 4 、Z 5 及びZ 6 基の1から5個の基が、C 1 ~C 18 アルキルオキシ又はC 5 ~C 7 シクロアルキルオキシであり、Z 1 、Z 2 、Z 3 、Z 4 、Z 5 及びZ 6 基の残りが、水素又はヒドロキシであり、
Y 1 、Y 2 、Y 3 、Y 4 、Y 5 及びY 6 基の1から5個の基が、式-CH 2 -CH=CH-Rの基であり、Y 1 、Y 2 、Y 3 、Y 4 、Y 5 及びY 6 基の残りが水素であり、
Rが水素である、
実施形態1に記載の添加剤混合物。
[実施形態9]
式(1)の化合物と式(2)の化合物との重量比が、5:95から95:5である、実施形態1から8のいずれかに記載の添加剤混合物。
[実施形態10]
a)酸化、熱又は光誘導分解に感受性である有機材料、及び
b)実施形態1に記載の添加剤混合物
を含む組成物。
[実施形態11]
酸化、熱又は光誘導分解に感受性である有機材料を安定化する方法であって、実施形態1に記載の添加剤混合物をそれに組み込むステップ、又はそれに適用するステップを含む、方法。
[実施形態12]
有機材料の難燃性を改善する方法であって、実施形態1に記載の添加剤混合物をそれに組み込むステップ、又はそれに適用するステップを含む、方法。
[実施形態13]
酸化、熱又は光誘導分解に感受性である有機材料を安定化する方法であって、実施形態1に記載の式(2)の化合物をそれに組み込むステップ、又はそれに適用するステップを含む、方法。
[実施形態14]
式(1')の化合物
R 1 、R 2 、R 3 、R 4 、R' 1 、R' 2 、R' 3 及びR' 4 は、互いに独立して、水素又はC 1 ~C 18 アルキルであり、
X 1 及びX' 1 は、互いに独立して、C 2 ~C 12 アルキレン又はヒドロキシルにより置換されているC 3 ~C 12 アルキレンであり、
Z 1 、Z 2 、Z 3 、Z 4 、Z 5 及びZ 6 基の1から5個の基は、式-O-CH 2 -CH 2 -CH 2 -Rの基であり、Z 1 、Z 2 、Z 3 、Z 4 、Z 5 及びZ 6 基の残りは、水素又はヒドロキシであり、
Y 1 、Y 2 、Y 3 、Y 4 、Y 5 及びY 6 基の1から5個の基は、式-CH 2 -CH=CH-Rの基であり、Y 1 、Y 2 、Y 3 、Y 4 、Y 5 及びY 6 基の残りは水素であり、
Rは、水素又はC 1 ~C 15 アルキル、好ましくは水素である)。
Claims (14)
- 式(1)の化合物
及び式(2)の化合物
(式中、
R1、R2、R3、R4、R'1、R'2、R'3及びR'4は、互いに独立して、水素又はC1~C18アルキルであり、
X1及びX'1は、互いに独立して、C2~C12アルキレン又はヒドロキシルにより置換されているC3~C12アルキレンであり、
Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6基の少なくとも1個は、C1~C18アルキルオキシ又はC5~C7シクロアルキルオキシであり、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6基の残りは、互いに独立して、水素、ヒドロキシ、C1~C18アルキルオキシ又はC5~C7シクロアルキルオキシであり、
Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6基の少なくとも1個は、式-CH2-CH=CH-Rの基であり、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6基の残りは、互いに独立して、水素又は式-CH2-CH=CH-Rの基であり、Rは、水素、C1~C18アルキル又はC5~C7シクロアルキルである)
を含む添加剤混合物。 - R1、R2、R3、R4、R'1、R'2、R'3及びR'4が、C1~C12アルキルである、請求項1に記載の添加剤混合物。
- X1及びX'1が、C2~C8アルキレンである、請求項1又は2に記載の添加剤混合物。
- Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6基の1から5個の基が、C1~C18アルキルオキシ又はC5~C7シクロアルキルオキシであり、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6基の残りが、水素又はヒドロキシである、請求項1から3のいずれか一項に記載の添加剤混合物。
- Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6が、C1~C18アルキルオキシとしての意味において、式-O-CH2-CH2-CH2-Rの基であり、Rが、水素又はC1~C15アルキルである、請求項1から4のいずれか一項に記載の添加剤混合物。
- Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6基の1から5個の基が、式-CH2-CH=CH-Rの基であり、Rが請求項1に定義される通りであり、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6基の残りが水素である、請求項1から5のいずれか一項に記載の添加剤混合物。
- Y 1 、Y 2 、Y 3 、Y 4 、Y 5 又はY 6 基が式-CH 2 -CH=CH-Rの基(式中、Rは水素である)である場合に、それぞれ対応するZ 1 、Z 2 、Z 3 、Z 4 、Z 5 又はZ 6 基が式-O-CH 2 -CH 2 -CH 2 -Rの基(式中、Rは水素である)である、請求項1から4及び6のいずれか一項に記載の添加剤混合物。
- R1、R2、R3、R4、R'1、R'2、R'3及びR'4が、C1~C12アルキルであり、
X1及びX'1がC2~C8アルキレンであり、
Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6基の1から5個の基が、C1~C18アルキルオキシ又はC5~C7シクロアルキルオキシであり、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6基の残りが、水素又はヒドロキシであり、
Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6基の1から5個の基が、式-CH2-CH=CH-Rの基であり、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6基の残りが水素であり、
Rが水素である、
請求項1に記載の添加剤混合物。 - 式(1)の化合物と式(2)の化合物との重量比が、5:95から95:5である、請求項1から8のいずれか一項に記載の添加剤混合物。
- a)酸化、熱又は光誘導分解に感受性である有機材料、及び
b)請求項1に記載の添加剤混合物
を含む組成物。 - 酸化、熱又は光誘導分解に感受性である有機材料を安定化する方法であって、請求項1に記載の添加剤混合物をそれに組み込むステップ、又はそれに適用するステップを含む、方法。
- 有機材料の難燃性を改善する方法であって、請求項1に記載の添加剤混合物をそれに組み込むステップ、又はそれに適用するステップを含む、方法。
- 酸化、熱又は光誘導分解に感受性である有機材料を安定化する方法であって、請求項1に記載の式(2)の化合物をそれに組み込むステップ、又はそれに適用するステップを含む、方法。
- 式(1')の化合物
を調製する方法であって、式(2)の化合物を、酸化反応、続いて水素化反応に供するステップを含む、方法
(式中、
R1、R2、R3、R4、R'1、R'2、R'3及びR'4は、互いに独立して、水素又はC1~C18アルキルであり、
X1及びX'1は、互いに独立して、C2~C12アルキレン又はヒドロキシルにより置換されているC3~C12アルキレンであり、
Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6基の1から5個の基は、式-O-CH2-CH2-CH2-Rの基であり、Z1、Z2、Z3、Z4、Z5及びZ6基の残りは、水素又はヒドロキシであり、
Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6基の1から5個の基は、式-CH2-CH=CH-Rの基であり、Y1、Y2、Y3、Y4、Y5及びY6基の残りは水素であり、
Rは、水素又はC1~C15アルキル、好ましくは水素である)。
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