JP7597565B2 - Method for processing plate-like object and method for processing package substrate - Google Patents
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Description
本発明は、紫外線硬化型の樹脂組成物及び樹脂組成物を利用した加工方法に関するものであり、より詳しくは、熱剥離の機能を備えるものに関する。 The present invention relates to an ultraviolet-curable resin composition and a processing method using the resin composition, and more specifically, to a composition that has a thermal peeling function.
従来、例えば特許文献1に開示されるように、凹部を備えたパッケージ基板において、凹部に形成されるバリを適切に除去する技術が知られている。 Conventionally, a technique has been known for appropriately removing burrs formed in a recess in a package substrate having a recess, as disclosed in Patent Document 1, for example.
特許文献1では、加工対象となるパッケージ基板の表面において、分割予定ラインに交差する凹部(キャビティ)が形成され、パッケージ基板が個々のチップに分割された後に凹部に電極が形成される構成としている。分割加工の際に、凹部の内側面に沿ってバリが形成されるため、このバリを高圧洗浄水で除去することとしている。 In Patent Document 1, a recess (cavity) that intersects with the planned division line is formed on the surface of the package substrate to be processed, and electrodes are formed in the recess after the package substrate is divided into individual chips. During the division process, burrs are formed along the inner side surface of the recess, and these burrs are removed with high-pressure cleaning water.
このように、パッケージ基板の分割加工後にバリを除去することで、パッケージの実装時にバリが落下して実装不良を引き起こすなどの不具合を防止することができる。 In this way, by removing the burrs after dividing the package substrate, it is possible to prevent problems such as the burrs falling off during package mounting and causing mounting defects.
パッケージの小型化に伴い、パッケージ基板に形成される電極のサイズや凹部のサイズも小さくなっており、今後もより小さくなっていくことが想定される。 As packages become smaller, the size of the electrodes and recesses formed on the package substrate are also becoming smaller, and are expected to continue to become smaller in the future.
ここで、凹部が小さくなると、隙間が小さくなるため、高圧洗浄水ではバリを除去することがより困難なものとなる。 Here, as the recesses become smaller, the gaps become smaller, making it more difficult to remove burrs using high-pressure cleaning water.
特に、電極の内側に凹部が形成されるパッケージ基板においては、分割加工時において電極部分が切削ブレードで切削された際に、電極の内側の凹部に電極のバリが入り込み、この電極のバリが高圧洗浄水では十分に除去できずに異物として残ってしまうことが懸念される。 In particular, in package substrates in which recesses are formed on the inside of the electrodes, there is a concern that when the electrode portion is cut with a cutting blade during the separation process, burrs from the electrodes may get into the recesses on the inside of the electrodes, and these burrs may not be able to be sufficiently removed with high-pressure cleaning water and may remain as foreign matter.
以上に鑑み、本発明は、凹部を切削ブレードで切削した場合にバリを生じにくくするために、板状物の表面に保護層を形成するのに好適な新規の樹脂組成物や、樹脂組成物を利用した新規な加工方法を提案するものである。 In view of the above, the present invention proposes a new resin composition suitable for forming a protective layer on the surface of a plate-shaped object to prevent burrs from forming when a recess is cut with a cutting blade, and a new processing method using the resin composition.
また、特に、凹部が形成されるものについては、凹部が小さいと凹部に入り込んだ樹脂組成物が除去できず、異物として残存してしまうことが懸念される。 In particular, when recesses are formed, there is a concern that if the recesses are small, the resin composition that gets into the recesses cannot be removed and remains as foreign matter.
さらに、凹部が形成されるパッケージ基板等の板状物の他、凹部がない板状物についても、樹脂組成物にて保護層を形成した場合には後に保護層が除去されるものであるが、この場合も異物が残存しないようにする必要がある。 Furthermore, in addition to plate-shaped objects such as package substrates in which recesses are formed, plate-shaped objects without recesses also require that, when a protective layer is formed from a resin composition, the protective layer is later removed, but even in this case, care must be taken to ensure that no foreign matter remains.
そこで、本発明は、保護層を形成した後に除去されやすい樹脂組成物や、樹脂組成物を利用した新規な加工方法を提案するものである。 The present invention therefore proposes a resin composition that is easily removed after forming a protective layer, and a new processing method that uses the resin composition.
本発明の解決しようとする課題は以上の如くであり、次にこの課題を解決するための手段を説明する。 The problem that the present invention aims to solve is as described above, and the means for solving this problem will be explained next.
本発明の一態様によれば、
液状の紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物であって、
(メタ)アクリレートと、
光重合開始剤と、
加熱によって膨張する発泡剤と、を含む液状の紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物とする。
According to one aspect of the present invention,
A liquid ultraviolet-curable heat-peelable resin composition,
(meth)acrylate,
A photopolymerization initiator;
and a foaming agent that expands when heated, to form a liquid ultraviolet-curable, heat-peelable resin composition.
また、本発明の一態様によれば、
該発泡剤は、可塑性樹脂からなる外殻と、該外殻に内包される低沸点炭化水素と、を有する、こととする。
According to another aspect of the present invention,
The foaming agent has an outer shell made of a plastic resin and a low-boiling point hydrocarbon encapsulated in the outer shell.
また、本発明の一態様によれば、
液状の該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物を用いた板状物の加工方法であって、
板状物の表面に液状の該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物を供給する供給ステップと、
液状の該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物に紫外線を照射して硬化させ板状物の該表面に保護層を形成する硬化ステップと、
該保護層が形成された板状物を切削する切削ステップと、
該切削ステップを実施した後、該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物を加熱して板状物から該保護層を剥離する剥離ステップと、を備えた板状物の加工方法とする。
According to another aspect of the present invention,
A method for processing a plate-shaped object using the liquid ultraviolet-curable heat-peelable resin composition, comprising the steps of:
A supplying step of supplying the liquid ultraviolet-curable heat-removable resin composition onto a surface of a plate-like object;
a curing step of irradiating the liquid ultraviolet-curable heat-peelable resin composition with ultraviolet light to cure the composition and form a protective layer on the surface of the plate-shaped object;
a cutting step of cutting the plate-shaped object on which the protective layer is formed;
After carrying out the cutting step, the method for processing a plate-shaped article includes a peeling step of heating the ultraviolet-curable heat-peelable resin composition to peel off the protective layer from the plate-shaped article.
また、本発明の一態様によれば、
液状の紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物を用いたパッケージ基板の加工方法であって、
該パッケージ基板は、表面に複数の分割予定ラインと、該分割予定ラインを横断する電極と、が形成されるとともに該電極には表面に開口する該分割予定ラインを横断する凹部がそれぞれ形成され、
該パッケージ基板の表面に液状の該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物を供給する供給ステップと、
該供給ステップを実施した後、該パッケージ基板を真空雰囲気中に配設することで液状の該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物を該凹部に充填する充填ステップと、
該充填ステップを実施した後、液状の該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物に紫外線を照射して硬化させる硬化ステップと、
該硬化ステップを実施した後、切削ブレードで該分割予定ラインに沿って該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物とともに該パッケージ基板を切削する切削ステップと、
該切削ステップを実施した後、該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物を加熱して該パッケージ基板から該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物を除去する除去ステップと、を備えたパッケージ基板の加工方法とする。
According to another aspect of the present invention,
A method for processing a package substrate using a liquid ultraviolet-curable heat-peelable resin composition, comprising:
the package substrate has a surface on which a plurality of division lines and electrodes crossing the division lines are formed, and recesses opening on the surface and crossing the division lines are formed in the electrodes;
a supplying step of supplying the ultraviolet-curable heat-removable resin composition in liquid form onto a surface of the package substrate;
a filling step of filling the concave portion with the liquid ultraviolet-curable heat-peelable resin composition by disposing the package substrate in a vacuum atmosphere after the supplying step;
a curing step of curing the liquid ultraviolet-curable heat-removable resin composition by irradiating the ultraviolet ray thereto after the filling step;
a cutting step of cutting the package substrate together with the ultraviolet-curable heat-peelable resin composition along the intended division line with a cutting blade after the curing step is performed;
After the cutting step, the method for processing a package substrate includes a removing step of heating the ultraviolet-curable, heat-peelable resin composition to remove the ultraviolet-curable, heat-peelable resin composition from the package substrate.
本発明の一態様によれば、液状の樹脂組成物を用いることにより、表面に凹部が形成される板状物について、凹部への充填がされやすいものとなり、また、凹部に充填された状態で紫外線の照射によって樹脂組成物を硬化させることで、凹部を樹脂組成物で埋めることができる。これにより、凹部の周囲の電極部分を切削することで生じたバリが凹部の空間に伸長してしまうことを防止できる。さらに、発泡剤を含むことで加工後の加熱により樹脂組成物を膨張させることができ、樹脂組成物が凹部や表面から剥離しやすいものとすることができる。 According to one aspect of the present invention, by using a liquid resin composition, the resin composition can be easily filled into the recesses of a plate-like object having recesses formed on the surface, and by curing the resin composition by irradiating it with ultraviolet light while it is filled into the recesses, the recesses can be filled with the resin composition. This makes it possible to prevent burrs generated by cutting the electrode portion around the recesses from extending into the space of the recesses. Furthermore, by including a foaming agent, the resin composition can be expanded by heating after processing, making it easier for the resin composition to peel off from the recesses and the surface.
また、本発明の一態様によれば、凹部の有無に関わらず板状物の表面に保護層を形成するための樹脂組成物として用いることができ、剥離しやすい保護層を実現することが可能となる。 Furthermore, according to one aspect of the present invention, the resin composition can be used to form a protective layer on the surface of a plate-like object, regardless of whether or not it has a recess, making it possible to realize a protective layer that is easily peeled off.
図1は、被加工物となる板状物の一例としてのパッケージ基板1を示すものである。 Figure 1 shows a package substrate 1 as an example of a plate-like workpiece.
パッケージ基板1は、基板11の表面11aの第1の方向F1に延びる複数の第1の分割予定ライン21と、第1の分割予定ライン21と直交する第2の方向F2に延びる第2の分割予定ライン22と、が格子状に設定される。 The package substrate 1 has a plurality of first planned division lines 21 extending in a first direction F1 on the surface 11a of the substrate 11, and second planned division lines 22 extending in a second direction F2 perpendicular to the first planned division lines 21, which are arranged in a grid pattern.
第1の分割予定ライン21と第2の分割予定ライン22によって区画される実装領域15の基板11の裏面11bには、図示しない半導体デバイスチップが実装され、合成樹脂16で封止されている。 A semiconductor device chip (not shown) is mounted on the back surface 11b of the substrate 11 in the mounting area 15 defined by the first planned division line 21 and the second planned division line 22, and is sealed with synthetic resin 16.
基板11の表面11a側において、各実装領域15の間には各分割予定ライン21,22が設定され、分割予定ライン21,22を横断するように電極30が配置される。 On the front surface 11a side of the substrate 11, planned division lines 21, 22 are set between each mounting area 15, and electrodes 30 are arranged so as to cross the planned division lines 21, 22.
各電極30には、各電極30の長さ方向に長い溝状の凹部32がそれぞれ形成されており、分割予定ライン21,22に沿って切削加工がされると、各電極30と各凹部32が二分割される。 Each electrode 30 has a long groove-shaped recess 32 formed in the longitudinal direction of the electrode 30, and when cutting is performed along the intended division lines 21, 22, each electrode 30 and each recess 32 is divided into two.
本発明では、図2(A)(B)に示すように、各電極30の各凹部32に樹脂組成物5を充填して空間を埋めることで、電極30の切削時に空間に向けてバリが伸長してしまうことを防ぐこととする。なお、電極30以外の箇所に凹部が形成される板状物についても、本発明は適用することができる。 In the present invention, as shown in Figures 2(A) and 2(B), the resin composition 5 is filled into each recess 32 of each electrode 30 to fill the space, thereby preventing burrs from extending into the space when the electrode 30 is cut. Note that the present invention can also be applied to plate-like objects in which recesses are formed in places other than the electrodes 30.
図2(A)(B)に示すように、樹脂組成物5は、液状の紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物であって、(メタ)アクリレートと、光重合開始剤と、加熱によって膨張する発泡剤と、を含んで構成される。 As shown in Figures 2(A) and (B), the resin composition 5 is a liquid ultraviolet-curable, heat-peelable resin composition that contains (meth)acrylate, a photopolymerization initiator, and a foaming agent that expands when heated.
各成分の配合比率については、特に限定されるものではないが、加熱によって膨張する発泡剤については、例えば、(メタ)アクリレートの全量に対して5重量%以上45重量%以下とすることができる。発泡剤が少な過ぎると後述する剥離性が悪くなり、逆に、発泡剤が多すぎると硬化不良が生じることや、粘土が高くなり過ぎて均一な塗布や凹部に充填がされ難くなる。 The blending ratio of each component is not particularly limited, but the foaming agent that expands when heated can be, for example, 5% by weight to 45% by weight based on the total amount of (meth)acrylate. If there is too little foaming agent, the peelability described below will be poor, and conversely, if there is too much foaming agent, curing will be poor or the viscosity will be too high, making it difficult to apply evenly or fill recesses.
(メタ)アクリレートとは、アクリル酸化合物であるアクリレート、又はメタクリル酸化合物であるメタクリレートを示し、(メタ)アクリレートは、ウレタン結合を有する(メタ)アクリレート、又は、ウレタン結合を有さない(メタ)アクリレート、のいずれか、もしくは混合からなる、こととする。 (Meth)acrylate refers to acrylate, which is an acrylic acid compound, or methacrylate, which is a methacrylic acid compound, and (meth)acrylate is defined as either (meth)acrylate with a urethane bond or (meth)acrylate without a urethane bond, or a mixture thereof.
ウレタン結合(ウレタン基)を有する(メタ)アクリレートは、分子内にウレタン基を有するものをいう。例としては、ライトアクリレートIAA、AT-600、UA-306H、UA-306T、UA-306I、UA-510H、UF-8001G、DAUA-167、UF-07DF(いずれも共栄社化学株式会社製)、R-1235、R-1220、RST-201、RST-402、R-1301、R-1304、R-1214、R- 1302XT、GX-8801A、R-1603、R-1150D、DOCR-102、DOCR-206(いずれも第一工業製薬株式会社製)、UX-3204、UX-4101、UXT-6100、UX-6101、UX-7101、UX-8101、UX-0937、UXF-4001-M35、UXF-4002、DPHA-40H、UX-5000、UX-5102D-M20、UX-5103D、UX-5005、UX-3204、UX-4101、UX-6101、UX-7101、UX-8101、UX-0937、UXF-4001-M35、UXF-4002、UXT-6100、DPHA-40H、UX-5000、UX-5102D-M20、UX-5103、UX-5005(いずれも日本化薬株式会社製)、等である。 (Meth)acrylates having a urethane bond (urethane group) are those having a urethane group in the molecule. Examples include Light Acrylate IAA, AT-600, UA-306H, UA-306T, UA-306I, UA-510H, UF-8001G, DAUA-167, UF-07DF (all manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), R-1235, R-1220, RST-201, RST-402, R-1301, R-1304, R-1214, R- 1302XT, GX-8801A, R-1603, R-1150D, DOCR-102, DOCR-206 (all manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), UX-3204, UX-4101, UXT-6100, UX-6101, UX-7101, UX-8101, UX-0937, UXF-4001-M35, UXF-4002, DPHA-40H, UX-5000, UX-5102 D-M20, UX-5103D, UX-5005, UX-3204, UX-4101, UX-6101, UX-7101, UX-8101, UX-0937, UXF-4001-M35, UXF-4002, UXT-6100, DPHA-40H, UX-5000, UX-5102D-M20, UX-5103, UX-5005 (all manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), etc.
ウレタン結合を有しない(メタ)アクリレートは、分子内に(ウレタン基)を有しないものをいう。例としては、テトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、フェニルグリシジルエーテルアクリレート、1,9-ノナンジオールジアクリレート、等である。 (Meth)acrylates that do not have a urethane bond are those that do not have a urethane group in the molecule. Examples include tetrahydrofurfuryl acrylate, isobornyl acrylate, phenyl glycidyl ether acrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, etc.
光重合開始剤は、樹脂組成物の光(紫外線)重合を開始させるためのものをいう。例えば、1-ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(例えば、BASF社製のIrgacure(登録商標)184等)、α-ヒドロキシアルキルフェノン(例えば、IGM Resins B.V.社製のOmnirad(登録商標)184等)、等である。 The photopolymerization initiator is used to initiate photopolymerization (ultraviolet light) of the resin composition. Examples include 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (e.g., Irgacure (registered trademark) 184 manufactured by BASF), α-hydroxyalkylphenone (e.g., Omnirad (registered trademark) 184 manufactured by IGM Resins B.V.), etc.
加熱によって膨張する発泡剤は、可塑性樹脂からなる外殻と、該外殻に内包される低沸点炭化水素と、を有するもので構成される。例えば、クレハマイクロスフェアー(登録商標)(株式会社クレハ社製)、アドバンセル(登録商標)EM(積水化学工業株式会社製)、等である。 The foaming agent that expands when heated is composed of an outer shell made of a plastic resin and a low-boiling point hydrocarbon encapsulated in the outer shell. Examples include Kureha Microsphere (registered trademark) (manufactured by Kureha Corporation), Advancell (registered trademark) EM (manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.), etc.
次に、本発明にかかる板状物の加工方法の実施例について説明する。図3は、加工方法の一実施形態の手順を示すフローチャートである。以下順に各ステップについて説明する。 Next, an example of a method for processing a plate-like object according to the present invention will be described. Figure 3 is a flow chart showing the steps of one embodiment of the processing method. Each step will be described in order below.
<供給ステップ>
図2(A)(B)に示すように、パッケージ基板1の基板11の表面11aに液状の樹脂組成物5を供給するステップである。
<Supply step>
As shown in FIGS. 2A and 2B, this is a step of supplying a liquid resin composition 5 onto the surface 11 a of the substrate 11 of the package substrate 1 .
図2(A)のように、供給ノズル6から液状の樹脂組成物5を基板11の表面11aに滴下し、表面11aの全体に樹脂組成物5が行き渡るようにする。滴下後に図示せぬ塗布装置により、樹脂組成物5を広げるようにして表面11aの全体に塗布することとしてもよい。また、全体ではなく凹部の箇所にのみ供給し、凹部が樹脂組成物を埋めるようにしてもよい。 As shown in FIG. 2(A), liquid resin composition 5 is dripped from a supply nozzle 6 onto the surface 11a of the substrate 11 so that the resin composition 5 spreads over the entire surface 11a. After dripping, the resin composition 5 may be spread and applied over the entire surface 11a using an application device (not shown). Alternatively, the resin composition may be applied only to the recesses rather than over the entire surface, so that the recesses are filled with the resin composition.
<充填ステップ>
供給ステップを実施した後、図4に示すように、パッケージ基板1を真空雰囲気中に配設することで液状の樹脂組成物5を凹部32(図2(B))に充填するステップである。
<Filling step>
After the supplying step is performed, as shown in FIG. 4, the package substrate 1 is placed in a vacuum atmosphere, thereby filling the liquid resin composition 5 into the recess 32 (FIG. 2(B)).
図4の例では、バルブ9aを介して真空源9bに接続される真空チャンバー8内にパッケージ基板1をセットし、所定時間真空引きすることで、真空チャンバー8内を真空雰囲気にする。この際に、図2(B)に示すように、凹部32に残存していた気体が抜き出されるとともに、凹部32内へと樹脂組成物5が隙間なく充填される。 In the example of FIG. 4, the package substrate 1 is set in a vacuum chamber 8 connected to a vacuum source 9b via a valve 9a, and a vacuum is drawn for a predetermined period of time to create a vacuum atmosphere in the vacuum chamber 8. At this time, as shown in FIG. 2(B), the gas remaining in the recess 32 is extracted, and the resin composition 5 is filled into the recess 32 without leaving any gaps.
<硬化ステップ>
充填ステップを実施した後、図5に示すように、液状の樹脂組成物5に紫外線を照射して硬化させるステップである。
<Curing step>
After the filling step, as shown in FIG. 5, the liquid resin composition 5 is irradiated with ultraviolet light to harden it.
図5の例では、紫外線ランプ等で構成される光源14より紫外線をパッケージ基板1の表面側に所定時間照射し、樹脂組成物5を硬化させる。樹脂組成物5が硬化することで、パッケージ基板1の表面側には、保護層50が形成される。保護層50の厚みは、例えば200μm程度とし、切削ステップにおいて剥離しない十分な厚みに設定することが好ましい。 In the example of FIG. 5, ultraviolet light is irradiated from a light source 14, such as an ultraviolet lamp, onto the surface side of the package substrate 1 for a predetermined period of time to harden the resin composition 5. As the resin composition 5 hardens, a protective layer 50 is formed on the surface side of the package substrate 1. The thickness of the protective layer 50 is preferably set to, for example, about 200 μm, which is a sufficient thickness so that it does not peel off during the cutting step.
<切削ステップ>
硬化ステップを実施した後、図6に示すように、切削ブレード60で分割予定ライン21,22(図1)に沿って樹脂組成物5(保護層50)とともにパッケージ基板を切削するステップである。
<Cutting step>
After the curing step, as shown in FIG. 6, the package substrate is cut together with the resin composition 5 (protective layer 50) by a cutting blade 60 along the intended division lines 21 and 22 (FIG. 1).
図6の例では、保持テーブル62の上に切削用治具64が設置され、切削用治具64にパッケージ基板1が吸引保持されるようにしている。切削用治具64には、パッケージ基板1の分割予定ライン21,22(図1)に沿って逃げ溝64aが形成されており、パッケージ基板1に切削ブレード60が切り込んだ際には、逃げ溝64aに切削ブレード60が入り込むようになっている。 In the example of FIG. 6, a cutting jig 64 is placed on a holding table 62, and the package substrate 1 is held by suction on the cutting jig 64. The cutting jig 64 has an escape groove 64a formed along the planned division lines 21, 22 (FIG. 1) of the package substrate 1, and when the cutting blade 60 cuts into the package substrate 1, the cutting blade 60 fits into the escape groove 64a.
保持テーブル62は、バルブ62aを介して吸引源62bに接続され、切削用治具64の保持面に負圧を生じさせることで、パッケージ基板1が吸引保持される。 The holding table 62 is connected to a suction source 62b via a valve 62a, and the package substrate 1 is held by suction by generating negative pressure on the holding surface of the cutting jig 64.
切削の際には、切削ブレード60を所定の切込み高さに位置づけるとともに高速回転させた状態とし、図示しないノズルから切削ブレード60とパッケージ基板1とに切削水を供給しつつ保持テーブル62を加工送り方向に移動させることで、第1の方向F1に伸びる分割予定ライン21に沿って切削加工を行う。次いで、保持テーブル62を90度回転させて、第2の方向F2に伸びる分割予定ライン22(図1)に沿って切削加工を行うことで、パッケージ基板1が複数のチップ1C(図8)に分割される。 When cutting, the cutting blade 60 is positioned at a predetermined cutting height and rotated at high speed, and cutting water is supplied to the cutting blade 60 and the package substrate 1 from a nozzle (not shown) while the holding table 62 is moved in the processing feed direction, thereby performing cutting along the planned division line 21 extending in the first direction F1. Next, the holding table 62 is rotated 90 degrees, and cutting is performed along the planned division line 22 (Figure 1) extending in the second direction F2, thereby dividing the package substrate 1 into multiple chips 1C (Figure 8).
図6に示すように、切削ブレード60により樹脂組成物5とともにパッケージ基板1が切削されることで、図7に示すように、分割予定ライン21に沿って切削溝25が形成される。この切削の際には、凹部32に隙間なく充填された樹脂組成物5が硬化されているため、凹部32に存在していた空間に向けてバリが伸長してしまうことを防ぐことができる。 As shown in FIG. 6, the cutting blade 60 cuts the package substrate 1 together with the resin composition 5, forming a cutting groove 25 along the intended division line 21 as shown in FIG. 7. During this cutting, the resin composition 5 that has filled the recess 32 without any gaps has hardened, so that burrs can be prevented from extending toward the space that existed in the recess 32.
<除去ステップ>
切削ステップを実施した後、図8に示すように、樹脂組成物5を加熱してパッケージ基板1から樹脂組成物5を除去するステップである。
<Removal step>
After the cutting step, the resin composition 5 is heated to remove it from the package substrate 1, as shown in FIG.
図8の例では、ヒーター80の下方にパッケージ基板1をセットし、ヒーター80によりパッケージ基板1の表面に形成された樹脂組成物5を所定時間加熱する。樹脂組成物5の温度が上昇すると、樹脂組成物5に含まれる発泡剤が膨張する。即ち、発泡剤の可塑性樹脂からなる外殻が軟化するとともに、内包される低沸点炭化水素が気体に変化することで発泡した状態となり、樹脂組成物5が全体として膨張し、凹部32の内壁面や各チップ1Cの表面から剥離しやすい状況となり、高い剥離性が実現できる。なお、ヒーター80を用いて加熱するほか、ランプ、オーブン、ホットプレートなどの他の加熱手段による加熱を行うこととしてもよい。 In the example of FIG. 8, the package substrate 1 is set under the heater 80, and the resin composition 5 formed on the surface of the package substrate 1 is heated by the heater 80 for a predetermined time. When the temperature of the resin composition 5 rises, the foaming agent contained in the resin composition 5 expands. That is, the outer shell of the foaming agent made of a plastic resin softens, and the encapsulated low-boiling point hydrocarbons turn into gas and become foamed, and the resin composition 5 expands as a whole, making it easy to peel off from the inner wall surface of the recess 32 and the surface of each chip 1C, achieving high peelability. In addition to heating using the heater 80, heating may be performed using other heating means such as a lamp, oven, or hot plate.
図8では、樹脂組成物5が全体として膨張して反り上がった状態を示しており、この状態となった樹脂組成物5を図示せぬ洗浄装置により洗浄液で洗い流すことによって容易に除去することができる。また、図8の拡大部分では、樹脂組成物5が膨張して凹部32内で膨らんで内壁面を押圧するとともに、その膨らみが抑えらず上側に盛り上がり、さらに、樹脂組成物5が全体として反り上がることで、凹部32の内壁面の間に隙間が生じ、剥離しやすくなるイメージが示される。なお、樹脂組成物5は洗浄によって洗い流すほか、エアブローによって除去することとしてもよい。 In FIG. 8, the resin composition 5 is shown in a state in which it has expanded and warped as a whole, and the resin composition 5 in this state can be easily removed by washing it away with a cleaning solution using a cleaning device (not shown). In addition, the enlarged portion of FIG. 8 shows an image in which the resin composition 5 expands and swells inside the recess 32, pressing against the inner wall surface, and the bulge cannot be suppressed and rises upward, and further, the resin composition 5 warps as a whole, creating a gap between the inner wall surface of the recess 32 and making it easier to peel off. In addition to washing away the resin composition 5, it may also be removed by blowing air.
以上のようにして本発明の液状の樹脂組成物5を用いることにより、図2(A)(B)に示すように表面に凹部32が形成されるパッケージ基板1等の板状物について、凹部32への充填がされやすいものとなり、また、凹部32に充填された状態で紫外線の照射によって樹脂組成物5を硬化させることで、凹部32を樹脂組成物5で埋めることができる。これにより、凹部32の周囲の電極30を接触することで生じたバリが凹部32の空間に伸長してしまうことを防止できる。さらに、図8に示すように発泡剤を含むことで加工後の加熱により樹脂組成物5を膨張させることができ、樹脂組成物5が凹部32や表面11aから剥離しやすいものとすることができる。 By using the liquid resin composition 5 of the present invention as described above, the recess 32 can be easily filled in a plate-like object such as a package substrate 1 having a recess 32 formed on the surface as shown in Figures 2 (A) and (B), and the recess 32 can be filled with the resin composition 5 by curing the resin composition 5 by irradiating it with ultraviolet light while the resin composition 5 is filled in the recess 32. This prevents burrs generated by contacting the electrodes 30 around the recess 32 from extending into the space of the recess 32. Furthermore, by including a foaming agent as shown in Figure 8, the resin composition 5 can be expanded by heating after processing, and the resin composition 5 can be easily peeled off from the recess 32 and the surface 11a.
また、以上の実施例では、パッケージ基板1を例として説明したが、凹部の有無に限らず、板状物の表面に樹脂組成物を供給して保護層を形成することによれば、必要な加工後において、容易に保護層を剥離して除去することができ、樹脂組成物が異物として残留することを防ぐことができる。この保護層は、例えば、半導体ウェーハの表面に形成されるデバイスの保護を目的として形成されるものである。 In the above examples, the package substrate 1 has been described as an example, but regardless of whether or not there is a recess, by supplying a resin composition to the surface of a plate-like object to form a protective layer, the protective layer can be easily peeled off and removed after necessary processing, and the resin composition can be prevented from remaining as a foreign matter. This protective layer is formed, for example, for the purpose of protecting a device formed on the surface of a semiconductor wafer.
この場合の加工方法としては、板状物の表面に液状の樹脂組成物を供給する供給ステップと、液状の樹脂組成物に紫外線を照射して硬化させ板状物の表面に保護層を形成する硬化ステップと、保護層が形成された板状物を切削する切削ステップと、切削ステップを実施した後、樹脂組成物を加熱して板状物から保護層を剥離する剥離ステップと、を備えた加工方法とするものであり、この場合、上述した真空引きによる充填ステップは省略されるものとする。 The processing method in this case includes a supplying step of supplying a liquid resin composition to the surface of the plate-like object, a curing step of irradiating the liquid resin composition with ultraviolet light to cure it and form a protective layer on the surface of the plate-like object, a cutting step of cutting the plate-like object on which the protective layer has been formed, and a peeling step of heating the resin composition to peel off the protective layer from the plate-like object after the cutting step has been performed. In this case, the filling step by vacuum drawing described above is omitted.
1 パッケージ基板
1C チップ
5 樹脂組成物
6 供給ノズル
8 真空チャンバー
9a バルブ
9b 真空源
11 基板
11a 表面
11b 裏面
14 光源
15 実装領域
16 合成樹脂
21 分割予定ライン
22 分割予定ライン
25 切削溝
30 電極
32 凹部
50 保護層
60 切削ブレード
62 保持テーブル
64 切削用治具
80 ヒーター
F1 方向
F2 方向
REFERENCE SIGNS LIST 1 Package substrate 1C Chip 5 Resin composition 6 Supply nozzle 8 Vacuum chamber 9a Valve 9b Vacuum source 11 Substrate 11a Front surface 11b Back surface 14 Light source 15 Mounting area 16 Synthetic resin 21 Planned division line 22 Planned division line 25 Cutting groove 30 Electrode 32 Recess 50 Protective layer 60 Cutting blade 62 Holding table 64 Cutting jig 80 Heater F1 Direction F2 Direction
Claims (4)
表面に凹部が形成される板状物の該表面に液状の該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物を供給する供給ステップと、
該供給ステップを実施した後、該板状物を真空雰囲気中に配設することで液状の該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物を該凹部に充填する充填ステップと、
液状の該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物に紫外線を照射して硬化させ該板状物の該表面に保護層を形成する硬化ステップと、
該保護層が形成された該板状物を切削する切削ステップと、
該切削ステップを実施した後、該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物を加熱して該板状物から該保護層を剥離する剥離ステップと、を備えた板状物の加工方法。 A method for processing a plate-shaped object using a liquid ultraviolet-curable heat-peelable resin composition containing a (meth)acrylate, a photopolymerization initiator, and a foaming agent that expands when heated, comprising :
a supplying step of supplying the liquid ultraviolet-curable heat-removable resin composition onto a surface of a plate-like object on which a recess is to be formed ;
a filling step of filling the concave portion with the liquid ultraviolet-curable heat-peelable resin composition by disposing the plate-like object in a vacuum atmosphere after the supplying step;
a curing step of irradiating the liquid ultraviolet-curable heat-peelable resin composition with ultraviolet light to cure the composition and form a protective layer on the surface of the plate- shaped article;
a cutting step of cutting the plate -shaped object on which the protective layer is formed;
After carrying out the cutting step, the method for processing a plate-shaped article includes a peeling step of heating the ultraviolet-curable heat-peelable resin composition to peel off the protective layer from the plate- shaped article.
該パッケージ基板は、表面に複数の分割予定ラインと、該分割予定ラインを横断する電極と、が形成されるとともに該電極には該表面に開口する該分割予定ラインを横断する凹部がそれぞれ形成され、
該パッケージ基板の該表面に液状の該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物を供給する供給ステップと、
該供給ステップを実施した後、該パッケージ基板を真空雰囲気中に配設することで液状の該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物を該凹部に充填する充填ステップと、
該充填ステップを実施した後、液状の該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物に紫外線を照射して硬化させる硬化ステップと、
該硬化ステップを実施した後、切削ブレードで該分割予定ラインに沿って該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物とともに該パッケージ基板を切削する切削ステップと、
該切削ステップを実施した後、該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物を加熱して該パッケージ基板から該紫外線硬化型熱剥離樹脂組成物を除去する除去ステップと、を備えたパッケージ基板の加工方法。 A method for processing a package substrate using a liquid ultraviolet-curable heat-peelable resin composition containing a (meth)acrylate, a photopolymerization initiator, and a foaming agent that expands when heated, comprising the steps of :
the package substrate has a surface on which a plurality of division lines and electrodes crossing the division lines are formed, and recesses opening on the surface and crossing the division lines are formed in the electrodes;
a supplying step of supplying the ultraviolet-curable heat-removable resin composition in liquid form onto the surface of the package substrate;
a filling step of filling the concave portion with the liquid ultraviolet-curable heat-peelable resin composition by disposing the package substrate in a vacuum atmosphere after the supplying step;
a curing step of curing the liquid ultraviolet-curable heat-removable resin composition by irradiating the ultraviolet ray thereto after the filling step;
a cutting step of cutting the package substrate together with the ultraviolet-curable heat-peelable resin composition along the intended division line with a cutting blade after the curing step is performed;
After carrying out the cutting step, a removing step is performed in which the ultraviolet-curable, heat-peelable resin composition is heated to remove the ultraviolet-curable, heat-peelable resin composition from the package substrate.
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| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2020207655A Active JP7597565B2 (en) | 2020-12-15 | 2020-12-15 | Method for processing plate-like object and method for processing package substrate |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP7597565B2 (en) |
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