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JP7596211B2 - Flexible circuit board, its manufacturing method, and electronic device - Google Patents

Flexible circuit board, its manufacturing method, and electronic device Download PDF

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JP7596211B2
JP7596211B2 JP2021083388A JP2021083388A JP7596211B2 JP 7596211 B2 JP7596211 B2 JP 7596211B2 JP 2021083388 A JP2021083388 A JP 2021083388A JP 2021083388 A JP2021083388 A JP 2021083388A JP 7596211 B2 JP7596211 B2 JP 7596211B2
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flexible circuit
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wiring
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文彦 松田
嘉彦 成澤
赳志 重岡
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Description

本発明は、フレキシブル回路基板およびその製造方法、ならびに電子機器に関し、より詳しくは、曲げ領域が減層構造または中空構造を有するフレキシブル回路基板およびその製造方法、ならびに当該フレキシブル回路基板が設けられた電子機器に関する。 The present invention relates to a flexible circuit board and a manufacturing method thereof, and to an electronic device, and more specifically to a flexible circuit board in which the bending region has a reduced-layer structure or a hollow structure, a manufacturing method thereof, and to an electronic device provided with the flexible circuit board.

近年、第5世代移動通信システム(5G)の普及により、スマートフォン等の電子機器内のアンテナ接続ケーブルの本数が増している。加えて、スマートフォン等の筐体の小型化も進んでいる。このため、アンテナ接続ケーブルがさらに高密度に配線されたフレキシブル回路基板が求められている。 In recent years, the spread of fifth-generation mobile communication systems (5G) has led to an increase in the number of antenna connection cables inside electronic devices such as smartphones. In addition, the housings of smartphones and other devices are becoming smaller. For this reason, there is a demand for flexible circuit boards in which antenna connection cables are wired at even higher densities.

5Gシステムにおいては、SUB6帯の電波とミリ波帯の電波が適用されるとともに、これまでの第4世代移動通信システム(4G)の周波数帯の電波も適用される。したがって、5Gシステムではアンテナ接続ケーブルの本数が増加する。従来は、アナログ信号を伝送する同軸ケーブルと、デジタル信号を伝送するケーブルを各々別個のものとして筐体内部に組み込んでいた。しかし、5Gシステムにおいてアンテナ接続ケーブルの本数が増加するに伴い、それら二種類のケーブルを多層フレキシブル回路基板に統合することが求められている。
なお、特許文献1および特許文献2には、一般的な多層フレキシブル回路基板が記載されている。
In the 5G system, SUB6 and millimeter wave radio waves are applied, and radio waves in the frequency band of the previous fourth generation mobile communication system (4G) are also applied. Therefore, the number of antenna connection cables will increase in the 5G system. Conventionally, coaxial cables that transmit analog signals and cables that transmit digital signals were built into the housing as separate units. However, as the number of antenna connection cables increases in the 5G system, it is required to integrate these two types of cables into a multi-layer flexible circuit board.
In addition, Patent Documents 1 and 2 describe general multilayer flexible circuit boards.

特許第5204871号公報Patent No. 5204871 特開2004-311927号公報JP 2004-311927 A

前述のように、5Gシステムの普及に伴い、スマートフォン等の電子機器内のアンテナ数が増加している。無線信号などのアナログ信号を伝送するケーブルのほか、USB等のデジタル端子が受信するデジタル信号を伝送するケーブル、および電源の電力を伝送するケーブルも必要である。これらのケーブルは、バッテリの上面を跨ぐように配置される。一方、バッテリ上面には、無線給電等に使われるコイルが配置されることが増えている。このため、バッテリ上面に配置するケーブルの省スペース化が求められている。また、スマートフォン等の筐体の側面等にケーブルを配置するなど、ケーブルをバッテリ上面以外に配置する方法が併せて求められている。 As mentioned above, with the spread of 5G systems, the number of antennas in electronic devices such as smartphones is increasing. In addition to cables that transmit analog signals such as wireless signals, cables that transmit digital signals received by digital terminals such as USB, and cables that transmit power from power sources are also required. These cables are arranged so as to straddle the top surface of the battery. Meanwhile, coils used for wireless power supply, etc. are increasingly being arranged on the top surface of the battery. For this reason, there is a demand for reducing the space required for cables arranged on the top surface of the battery. There is also a demand for methods of arranging cables other than on the top surface of the battery, such as arranging the cables on the side of the housing of a smartphone, etc.

本発明は、上記の技術的認識に基づいてなされたものであり、アナログ信号とデジタル信号の両方を伝送させることが可能であり、スマートフォン等の電子機器の筐体内部に曲げた状態で容易に組み込むことが可能なフレキシブル回路基板およびその製造方法ならびに電子機器を提供することを目的とする。 The present invention was made based on the above technical recognition, and aims to provide a flexible circuit board capable of transmitting both analog and digital signals and capable of being easily installed in a bent state inside the housing of an electronic device such as a smartphone, a manufacturing method thereof, and an electronic device.

本発明の第1の態様に係るフレキシブル回路基板は、
アナログ信号を受信する無線通信アンテナおよびデジタル信号を受信するデジタル端子を有する第1モジュールと、前記アナログ信号および前記デジタル信号の信号処理を行う第2モジュールとを電気的に接続するためのフレキシブル回路基板であって、前記フレキシブル回路基板には、信号線領域と、コネクタ領域と、前記信号線領域と前記コネクタ領域とを接続する曲げ領域が設けられており、
前記信号線領域の長手方向に延在するように形成され、前記無線通信アンテナから受信したアナログ信号を伝送する1又は複数のアナログ信号線と、
前記信号線領域の前記長手方向に延在するように形成され、前記デジタル端子から受信したデジタル信号を伝送する1又は複数のデジタル信号線と、
絶縁層を介して前記アナログ信号線を覆うように形成されたグランド層と、
を備え、
前記曲げ領域は、前記信号線領域と比べて配線層および/または絶縁層の数が少ない減層構造を有する、ことを特徴とする。
The flexible circuit board according to the first aspect of the present invention comprises:
A flexible circuit board for electrically connecting a first module having a wireless communication antenna for receiving an analog signal and a digital terminal for receiving a digital signal to a second module for performing signal processing of the analog signal and the digital signal, the flexible circuit board being provided with a signal line region, a connector region, and a bending region for connecting the signal line region and the connector region;
one or more analog signal lines extending in a longitudinal direction of the signal line region and transmitting analog signals received from the wireless communication antenna;
one or more digital signal lines extending in the longitudinal direction of the signal line region and transmitting digital signals received from the digital terminals;
a ground layer formed so as to cover the analog signal line via an insulating layer;
Equipped with
The bent region is characterized by having a reduced-layer structure in which the number of wiring layers and/or insulating layers is smaller than that of the signal line region.

また、前記フレキシブル回路基板において、
前記コネクタ領域も、前記信号線領域と比べて配線層および/または絶縁層の数が少ない減層構造を有してもよい。
In addition, in the flexible circuit board,
The connector region may also have a reduced-layer structure having fewer wiring layers and/or insulating layers than the signal line region.

本発明の第2の態様に係るフレキシブル回路基板は、
アナログ信号を受信する無線通信アンテナおよびデジタル信号を受信するデジタル端子を有する第1モジュールと、前記アナログ信号および前記デジタル信号の信号処理を行う第2モジュールとを電気的に接続するためのフレキシブル回路基板であって、前記フレキシブル回路基板には、信号線領域と、コネクタ領域と、前記信号線領域と前記コネクタ領域とを接続する曲げ領域が設けられており、
前記信号線領域の長手方向に延在するように形成され、前記無線通信アンテナから受信したアナログ信号を伝送する1又は複数のアナログ信号線と、
前記信号線領域の前記長手方向に延在するように形成され、前記デジタル端子から受信したデジタル信号を伝送する1又は複数のデジタル信号線と、
絶縁層を介して前記アナログ信号線を覆うように形成されたグランド層と、
を備え、
前記曲げ領域は、内部に配線層および絶縁層のいずれも設けられない中空領域が設けられた中空構造を有する、ことを特徴とする。
A flexible circuit board according to a second aspect of the present invention comprises:
A flexible circuit board for electrically connecting a first module having a wireless communication antenna for receiving an analog signal and a digital terminal for receiving a digital signal to a second module for performing signal processing of the analog signal and the digital signal, the flexible circuit board being provided with a signal line region, a connector region, and a bending region for connecting the signal line region and the connector region;
one or more analog signal lines extending in a longitudinal direction of the signal line region and transmitting analog signals received from the wireless communication antenna;
one or more digital signal lines extending in the longitudinal direction of the signal line region and transmitting digital signals received from the digital terminals;
a ground layer formed so as to cover the analog signal line via an insulating layer;
Equipped with
The bent region has a hollow structure in which a hollow region is provided in which neither a wiring layer nor an insulating layer is provided.

また、前記フレキシブル回路基板において、
前記フレキシブル回路基板の厚さ方向について前記中空領域の一側または両側の領域に、前記信号線領域の長手方向と直交する幅方向の成分を有する切り込みが設けられてもよい。
In addition, in the flexible circuit board,
A cut having a width direction component perpendicular to the longitudinal direction of the signal line region may be provided in an area on one or both sides of the hollow region in the thickness direction of the flexible circuit board.

また、前記フレキシブル回路基板において、
前記フレキシブル回路基板の厚さ方向について前記中空領域の一側または両側の領域は、前記フレキシブル回路基板を平面視してミアンダ状またはクランク状に形成されてもよい。
In addition, in the flexible circuit board,
The flexible circuit board may have a hollow region on one or both sides in a thickness direction of the flexible circuit board, the hollow region being formed in a meander shape or a crank shape in a plan view of the flexible circuit board.

また、前記フレキシブル回路基板において、
前記コネクタ領域には、前記アナログ信号線または前記デジタル信号線と接続された層間接続路が設けられてもよい。
In addition, in the flexible circuit board,
An interlayer connection path connected to the analog signal line or the digital signal line may be provided in the connector region.

また、前記フレキシブル回路基板において、
前記層間接続路は、前記アナログ信号線または前記デジタル信号線と接続されためっきスルーホールと、導電層を介して前記めっきスルーホールと接続されたフィルドビアとを有してもよい。
In addition, in the flexible circuit board,
The interlayer connection path may include a plated through hole connected to the analog signal line or the digital signal line, and a filled via connected to the plated through hole via a conductive layer.

また、前記フレキシブル回路基板において、
前記コネクタ領域には、前記層間接続路を介して前記アナログ信号線および前記デジタル信号線に電気的に接続されたコネクタ部品が実装されてもよい。
In addition, in the flexible circuit board,
A connector component electrically connected to the analog signal lines and the digital signal lines via the interlayer connection paths may be mounted in the connector region.

本発明に係る電子機器は、
筐体と、
前記筐体内に配置された、前記フレキシブル回路基板と、
前記筐体内に配置された前記第1モジュールと、
前記筐体内に配置された前記第2モジュールと、
前記筐体内において前記第1モジュールと前記第2モジュールの間に配置されたバッテリと、
を備える、ことを特徴とする。
The electronic device according to the present invention comprises:
A housing and
The flexible circuit board is disposed within the housing; and
the first module disposed within the housing;
The second module disposed within the housing;
a battery disposed within the housing between the first module and the second module;
The present invention is characterized by comprising:

また、前記電子機器において、
前記フレキシブル回路基板は、前記筐体の側面と前記バッテリの間を通るように配置されてもよい。
In addition, in the electronic device,
The flexible circuit board may be arranged to pass between a side surface of the housing and the battery.

また、前記電子機器において、
前記フレキシブル回路基板は、前記筐体の背面または正面と前記バッテリの間を通るように配置されてもよい。
In addition, in the electronic device,
The flexible circuit board may be arranged to pass between the rear or front surface of the housing and the battery.

本発明の第1の態様に係るフレキシブル回路基板の製造方法は、
第1主面、および前記第1主面と反対側の第2主面を有する第1絶縁基材と、前記第1絶縁基材の前記第1主面に設けられた第1金属箔と、前記第1絶縁基材の前記第2主面に第1接着剤層を介して設けられた第1保護膜層と、を有する第1片面金属箔張積層板を用意する工程と、
前記第1金属箔をパターニングして第1導電パターンを形成する工程と、
前記第1保護膜層、前記第1接着剤層および前記第1絶縁基材を貫通し、前記第1金属箔まで到達する第1有底孔を形成する工程と、
前記第1有底孔に第1導電ペーストを充填する工程と、
前記第1保護膜層を剥離し、第1配線基材を得る工程と、
第3主面、および前記第3主面と反対側の第4主面を有する第2絶縁基材と、前記第2絶縁基材の前記第3主面に設けられた第2金属箔と、前記第2絶縁基材の前記4主面に設けられた第3金属箔と、を有する第1両面金属箔張積層板を用意する工程と、
前記第2金属箔をパターニングして第2導電パターンを形成する工程と、
前記第3金属箔および前記第2絶縁基材を貫通し、前記第2金属箔まで到達する第2有底孔を形成する工程と、
前記第2有底孔の側壁および底面に第1金属めっきを堆積させる工程と、
前記第3金属箔をパターニングして第3導電パターンを形成する工程と、
前記第3金属箔の前記第3導電パターンと、前記第2有底孔に堆積された前記第1金属めっきを埋設するように、前記第3金属箔の上に、第2接着剤層を形成する工程と、
前記第2接着剤層の上に、第1カバー材層を形成する工程と、
前記第第1カバー材層の上に、第1開口部を有する第3接着剤層を形成する工程と、
前記第3接着剤層の前記第1開口部を充填するように前記第3接着剤層の上に第2保護膜層を形成する工程と、
前記第2保護膜層、前記第3接着剤層、前記第1カバー材層および前記第2接着剤層を貫通し、前記第3金属箔まで到達する第3有底孔を形成する工程と、
前記第3有底孔に第2導電ペーストを充填する工程と、
前記第2保護膜層を剥離し、第2配線基材を得る工程と、
第5主面、および前記第5主面と反対側の第6主面を有する第3絶縁基材と、前記第3絶縁基材の前記第5主面に設けられた第4金属箔と、前記第3絶縁基材の前記6主面に設けられた第5金属箔と、を有する第2両面金属箔張積層板を用意する工程と、
前記第4金属箔をパターニングして第4導電パターンを形成する工程と、
前記第5金属箔をパターニングして第5導電パターンを形成する工程と、
前記第3絶縁基材を貫通し、前記第5金属箔に到達する第4有底孔を形成する工程と、
前記第4有底孔の側壁および底面に第2金属めっきを堆積させる工程と、
前記第4金属箔、前記第3絶縁基材および前記第5金属箔を貫通する第1貫通孔を形成し、第3配線基材を得る工程と、
前記第1導電ペーストが前記第2導電パターンに接触するように前記第1配線基材を前記第2配線基材に積層し、前記第2導電ペーストが前記第3導電パターンに接触するように前記第3配線基材を前記第2配線基材に積層する工程と、
を備えることを特徴とする。
The method for producing a flexible circuit board according to the first aspect of the present invention includes the steps of:
A step of preparing a first single-sided metal foil-clad laminate including a first insulating substrate having a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface, a first metal foil provided on the first main surface of the first insulating substrate, and a first protective film layer provided on the second main surface of the first insulating substrate via a first adhesive layer;
patterning the first metal foil to form a first conductive pattern;
forming a first bottomed hole penetrating the first protective film layer, the first adhesive layer, and the first insulating base material and reaching the first metal foil;
filling the first bottomed hole with a first conductive paste;
removing the first protective film layer to obtain a first wiring substrate;
A step of preparing a first double-sided metal foil-clad laminate including a second insulating substrate having a third main surface and a fourth main surface opposite to the third main surface, a second metal foil provided on the third main surface of the second insulating substrate, and a third metal foil provided on the fourth main surface of the second insulating substrate;
patterning the second metal foil to form a second conductive pattern;
forming a second bottomed hole penetrating the third metal foil and the second insulating base material and reaching the second metal foil;
depositing a first metal plating on a sidewall and a bottom surface of the second blind hole;
patterning the third metal foil to form a third conductive pattern;
forming a second adhesive layer on the third metal foil so as to embed the third conductive pattern of the third metal foil and the first metal plating deposited in the second bottomed hole;
forming a first cover material layer over the second adhesive layer;
forming a third adhesive layer over the first cover material layer, the third adhesive layer having a first opening;
forming a second protective film layer on the third adhesive layer so as to fill the first opening of the third adhesive layer;
forming a third bottomed hole penetrating the second protective film layer, the third adhesive layer, the first cover material layer and the second adhesive layer and reaching the third metal foil;
filling the third bottomed hole with a second conductive paste;
removing the second protective film layer to obtain a second wiring substrate;
preparing a second double-sided metal foil-clad laminate having a third insulating substrate having a fifth main surface and a sixth main surface opposite to the fifth main surface, a fourth metal foil provided on the fifth main surface of the third insulating substrate, and a fifth metal foil provided on the sixth main surface of the third insulating substrate;
patterning the fourth metal foil to form a fourth conductive pattern;
patterning the fifth metal foil to form a fifth conductive pattern;
forming a fourth bottomed hole penetrating the third insulating base material and reaching the fifth metal foil;
depositing a second metal plating on a sidewall and a bottom surface of the fourth blind hole;
forming a first through hole penetrating the fourth metal foil, the third insulating base material, and the fifth metal foil to obtain a third wiring base material;
laminating the first wiring base material on the second wiring base material such that the first conductive paste contacts the second conductive pattern, and laminating the third wiring base material on the second wiring base material such that the second conductive paste contacts the third conductive pattern;
The present invention is characterized by comprising:

本発明の第2の態様に係るフレキシブル回路基板の製造方法は、
第1主面、および前記第1主面と反対側の第2主面を有する第1絶縁基材と、前記第1絶縁基材の前記第1主面に設けられた第1金属箔と、前記第1絶縁基材の前記第2主面に第1接着剤層を介して設けられた第1保護膜層と、を有する第1片面金属箔張積層板を用意する工程と、
前記第1金属箔をパターニングして第1導電パターンを形成する工程と、
前記第1保護膜層、前記第1接着剤層および前記第1絶縁基材を貫通し、前記第1金属箔まで到達する第1有底孔を形成する工程と、
前記第1有底孔に第1導電ペーストを充填する工程と、
前記第1保護膜層を剥離し、第1配線基材を得る工程と、
第3主面、および前記第3主面と反対側の第4主面を有する第2絶縁基材と、前記第2絶縁基材の前記第3主面に設けられた第2金属箔と、前記第2絶縁基材の前記4主面に設けられた第3金属箔と、を有する第1両面金属箔張積層板を用意する工程と、
前記2金属箔パターニングして第2導電パターンを形成する工程と、
前記第3金属箔および前記第2絶縁基材を貫通し、前記第2金属箔まで到達する第2有底孔を形成する工程と、
前記第2有底孔の側壁および底面に第1金属めっきを堆積させる工程と、
前記第3金属箔をパターニングして第3導電パターンを形成する工程と、
前記第3金属箔の前記第3導電パターンと、前記第2有底孔に堆積された前記第1金属めっきを埋設するように、前記第3金属箔の上に、第2接着剤層を形成する工程と、
前記第2接着剤層の上に、第1カバー材層を形成する工程と、
前記第第1カバー材層の上に、第1開口部を有する第3接着剤層を形成する工程と、
前記第3接着剤層の前記第1開口部を充填するように前記第3接着剤層の上に第2保護膜層を形成する工程と、
前記第2保護膜層と、前記第3接着剤層、前記第1カバー材層、および前記第2接着剤層を貫通し、前記第3金属箔まで到達する第3有底孔を形成する工程と、
前記第3有底孔に第2導電ペーストを充填する工程と、
前記第2保護膜層を剥離し、第2配線基材を得る工程と、
第5主面、および前記第5主面と反対側の第6主面を有する第3絶縁基材と、前記第3絶縁基材の前記第5主面に設けられた第4金属箔と、前記第3絶縁基材の前記6主面に設けられた第5金属箔と、を有する第2両面金属箔張積層板を用意する工程と、
前記第4金属箔をパターニングして第4導電パターンを形成する工程と、 前記第5金属箔をパターニングして第5導電パターンを形成する工程と、
前記第3絶縁基材を貫通し、前記第5金属箔に到達する第4有底孔を形成する工程と、
前記第4有底孔の側壁および底面に第2金属めっきを堆積させる工程と、
前記第4金属箔の前記第3導電パターンと、前記第4有底孔に堆積された前記第2金属めっきを埋設するように、前記第4金属箔の上に、第4接着剤層を形成する工程と、
前記第4接着剤層の上に、第2カバー材層を形成する工程と、
前記第2カバー材層の上に、第3保護膜層を形成する工程と、
前記第3保護膜層の上に、第4保護膜層を形成する工程と、
前記第4保護膜層と、前記第3保護膜層と、前記第2カバー材層と、前記第3接着剤層とを貫通し、前記第4金属箔まで到達する第5有底孔を形成する工程と、
前記第5有底孔に第3導電ペーストを充填する工程と、
前記第3保護膜及び前記第4保護膜層を剥離し、第3配線基材を得る工程と、
前記第1導電ペーストが前記第2導電パターンに接触するように前記第1配線基材と前記第2配線基材に積層し、前記第2導電ペーストが前記第3導電パターンに接触するように前記第3配線基材を前記第2配線基材に積層する工程と、
を備えることを特徴とする。
A method for producing a flexible circuit board according to a second aspect of the present invention includes the steps of:
A step of preparing a first single-sided metal foil-clad laminate including a first insulating substrate having a first main surface and a second main surface opposite to the first main surface, a first metal foil provided on the first main surface of the first insulating substrate, and a first protective film layer provided on the second main surface of the first insulating substrate via a first adhesive layer;
patterning the first metal foil to form a first conductive pattern;
forming a first bottomed hole penetrating the first protective film layer, the first adhesive layer, and the first insulating base material and reaching the first metal foil;
filling the first bottomed hole with a first conductive paste;
removing the first protective film layer to obtain a first wiring substrate;
A step of preparing a first double-sided metal foil-clad laminate including a second insulating substrate having a third main surface and a fourth main surface opposite to the third main surface, a second metal foil provided on the third main surface of the second insulating substrate, and a third metal foil provided on the fourth main surface of the second insulating substrate;
patterning the second metal foil to form a second conductive pattern;
forming a second bottomed hole penetrating the third metal foil and the second insulating base material and reaching the second metal foil;
depositing a first metal plating on a sidewall and a bottom surface of the second blind hole;
patterning the third metal foil to form a third conductive pattern;
forming a second adhesive layer on the third metal foil so as to embed the third conductive pattern of the third metal foil and the first metal plating deposited in the second bottomed hole;
forming a first cover material layer over the second adhesive layer;
forming a third adhesive layer over the first cover material layer, the third adhesive layer having a first opening;
forming a second protective film layer on the third adhesive layer so as to fill the first opening of the third adhesive layer;
forming a third bottomed hole penetrating the second protective film layer, the third adhesive layer, the first cover material layer, and the second adhesive layer to reach the third metal foil;
filling the third bottomed hole with a second conductive paste;
removing the second protective film layer to obtain a second wiring substrate;
preparing a second double-sided metal foil-clad laminate having a third insulating substrate having a fifth main surface and a sixth main surface opposite to the fifth main surface, a fourth metal foil provided on the fifth main surface of the third insulating substrate, and a fifth metal foil provided on the sixth main surface of the third insulating substrate;
patterning the fourth metal foil to form a fourth conductive pattern; and patterning the fifth metal foil to form a fifth conductive pattern.
forming a fourth bottomed hole penetrating the third insulating base material and reaching the fifth metal foil;
depositing a second metal plating on a sidewall and a bottom surface of the fourth blind hole;
forming a fourth adhesive layer on the fourth metal foil so as to embed the third conductive pattern of the fourth metal foil and the second metal plating deposited in the fourth bottomed hole;
forming a second cover material layer over the fourth adhesive layer;
forming a third protective film layer on the second cover material layer;
forming a fourth protective film layer on the third protective film layer;
forming a fifth bottomed hole penetrating the fourth protective film layer, the third protective film layer, the second cover material layer, and the third adhesive layer to reach the fourth metal foil;
filling the fifth bottomed hole with a third conductive paste;
removing the third protective film and the fourth protective film layer to obtain a third wiring substrate;
laminating the first wiring base material and the second wiring base material so that the first conductive paste contacts the second conductive pattern, and laminating the third wiring base material on the second wiring base material so that the second conductive paste contacts the third conductive pattern;
The present invention is characterized by comprising:

また、前記フレキシブル回路基板の製造方法において、
前記第2導電パターンはアナログ信号線を含んでいてもよい。
In addition, in the method for producing a flexible circuit board,
The second conductive pattern may include an analog signal line.

また、前記フレキシブル回路基板の製造方法において、
前記第5導電パターンはデジタル信号線を含んでいてもよい。
In addition, in the method for producing a flexible circuit board,
The fifth conductive pattern may include a digital signal line.

本発明によれば、アナログ信号とデジタル信号の両方を高速かつ低損失で伝送させることが可能であり、電子機器の筐体内に曲げた状態で容易に組み込むことが可能なフレキシブル回路基板およびその製造方法ならびに電子機器を提供することできる。 The present invention provides a flexible circuit board that can transmit both analog and digital signals at high speed and with low loss, and can be easily installed in a bent state inside the housing of an electronic device, as well as a manufacturing method thereof and an electronic device.

実施形態に係るフレキシブル回路基板の平面図である。FIG. 1 is a plan view of a flexible circuit board according to an embodiment. 図1の領域Aにおける拡大平面図である。FIG. 2 is an enlarged plan view of region A in FIG. 1 . 図2のB-B線における模式断面図である。3 is a schematic cross-sectional view taken along line BB in FIG. 2. 第1の実施形態に係るフレキシブル回路基板の製造方法を説明するための工程断面図である。5A to 5C are cross-sectional views illustrating steps in a method for manufacturing a flexible circuit board according to the first embodiment. 図4に続く、第1の実施形態に係るフレキシブル回路基板の製造方法を説明するための工程断面図である。5A to 5C are cross-sectional views illustrating steps in the manufacturing method of the flexible circuit board according to the first embodiment, following FIG. 4 . 図5Aに続く、第1の実施形態に係るフレキシブル回路基板の製造方法を説明するための工程断面図である。5B is a cross-sectional view illustrating a process of the manufacturing method of the flexible circuit board according to the first embodiment, following FIG. 5A. 図5Bに続く、第1の実施形態に係るフレキシブル回路基板の製造方法を説明するための工程断面図である。5B, which is a cross-sectional view illustrating a process of the manufacturing method of the flexible circuit board according to the first embodiment. 図5Cに続く、第1の実施形態に係るフレキシブル回路基板の製造方法を説明するための工程断面図である。5C , which is a cross-sectional view illustrating a process of the manufacturing method of the flexible circuit board according to the first embodiment. 図6に続く、第1の実施形態に係るフレキシブル回路基板の製造方法を説明するための工程断面図である。7A to 7C are cross-sectional views illustrating steps in the manufacturing method of the flexible circuit board according to the first embodiment, following FIG. 6 . 第2の実施形態に係る図2のB-B線における模式断面図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view taken along line BB in FIG. 2 according to the second embodiment. 第2の実施形態に係るフレキシブル回路基板の製造方法を説明するための工程断面図である。10A to 10C are cross-sectional views illustrating steps in a method for manufacturing a flexible circuit board according to a second embodiment of the present invention. 図9Aに続く、第2の実施形態に係るフレキシブル回路基板の製造方法を説明するための工程断面図である。9B is a cross-sectional view illustrating a process of the manufacturing method of the flexible circuit board according to the second embodiment, following FIG. 9A. 図9Bに続く、第2の実施形態に係るフレキシブル回路基板の製造方法を説明するための工程断面図である。9C are cross-sectional views illustrating steps in the manufacturing method of a flexible circuit board according to a second embodiment, following FIG. 9B. 図9Cに続く、第2の実施形態に係るフレキシブル回路基板の製造方法を説明するための工程断面図である。9C , which is a cross-sectional view illustrating a process of the manufacturing method of the flexible circuit board according to the second embodiment. 第3の実施形態に係る図2の領域Cにおける模式斜視図である。FIG. 10 is a schematic perspective view of a region C in FIG. 2 according to a third embodiment. 第4の実施形態(ミアンダ形状)に係る図2の領域Cにおける模式斜視図である。FIG. 13 is a schematic perspective view of a region C in FIG. 2 according to a fourth embodiment (meander shape). 第4の実施形態(クランク形状)に係る図2の領域Cにおける模式斜視図である。FIG. 11 is a schematic perspective view of a region C in FIG. 2 according to a fourth embodiment (crank shape). 変形例に係るフレキシブル回路基板の平面図である。FIG. 13 is a plan view of a flexible circuit board according to a modified example. 第5の実施形態に係る電子機器の模式斜視図である。FIG. 13 is a schematic perspective view of an electronic device according to a fifth embodiment. 第6の実施形態に係る電子機器の模式平面図および模式断面図である。13A and 13B are a schematic plan view and a schematic cross-sectional view of an electronic device according to a sixth embodiment.

以下、本発明に係る実施形態について図面を参照しながら説明する。各図において同等の機能を有する構成要素には同一の符号を付している。図面は模式的なものであり、厚みと平面寸法との関係(縦横比)、各層の厚みの比率等は現実のものと必ずしも一致しない。 Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In each drawing, components having equivalent functions are given the same reference numerals. The drawings are schematic, and the relationship between thickness and planar dimensions (aspect ratio), the thickness ratio of each layer, etc. do not necessarily match the actual ones.

<フレキシブル回路基板100の全体構造> <Overall structure of flexible circuit board 100>

まず、図1を参照して、実施形態に係るフレキシブル回路基板100の全体構造について説明する。図1は、フレキシブル回路基板100の平面図を示している。フレキシブル回路基板100には、コネクタ領域110と、信号線領域120と、曲げ領域130とが設けられている。フレキシブル回路基板100は、アナログ信号を受信する無線通信アンテナおよびデジタル信号を受信するデジタル端子を有する第1モジュール(図13Aの第1モジュール200参照)と、前記アナログ信号および前記デジタル信号の信号処理を行う第2モジュール(図13Aの第2モジュール300参照)とを電気的に接続する。 First, referring to FIG. 1, the overall structure of the flexible circuit board 100 according to the embodiment will be described. FIG. 1 shows a plan view of the flexible circuit board 100. The flexible circuit board 100 is provided with a connector region 110, a signal line region 120, and a bending region 130. The flexible circuit board 100 electrically connects a first module (see first module 200 in FIG. 13A) having a wireless communication antenna for receiving analog signals and a digital terminal for receiving digital signals, to a second module (see second module 300 in FIG. 13A) for performing signal processing of the analog signals and the digital signals.

コネクタ領域110は、信号線領域120の両端部に設けられている。一方のコネクタ領域110は、無線信号などのアナログ信号を送受信するアンテナモジュールに接続され、他方のコネクタ領域110は、信号処理チップが実装された信号処理モジュールに接続される。信号線領域120は、その長手方向に延材するように形成され、アナログ信号線とデジタル信号線とを含む。アナログ信号線は無線信号などのアナログ信号を伝送し、デジタル信号線はデジタル信号を伝送する。 The connector regions 110 are provided at both ends of the signal line region 120. One connector region 110 is connected to an antenna module that transmits and receives analog signals such as wireless signals, and the other connector region 110 is connected to a signal processing module equipped with a signal processing chip. The signal line region 120 is formed to extend in its longitudinal direction, and includes an analog signal line and a digital signal line. The analog signal line transmits analog signals such as wireless signals, and the digital signal line transmits digital signals.

なお、アンテナモジュールはデジタル信号を受信するデジタル端子を有してもよい。第1の実施形態のフレキシブル回路基板100において、第1モジュールはアンテナモジュールであり、第2モジュールは信号処理モジュールである。フレキシブル回路基板100は、第1モジュールと第2モジュールを電気的に接続する。具体的には、一方のコネクタ領域110が第1モジュールに電気的に接続され、他方のコネクタ領域110が第2モジュールに電気的に接続される。そして、信号線領域120に含まれるアナログ信号線とデジタル信号線が、それぞれのコネクタ領域110を電気的に接続する。言い換えると、第1モジュールと第2モジュールとは、フレキシブル回路基板100のコネクタ領域110および信号線領域120を介して電気的に接続される。 The antenna module may have a digital terminal for receiving a digital signal. In the flexible circuit board 100 of the first embodiment, the first module is an antenna module, and the second module is a signal processing module. The flexible circuit board 100 electrically connects the first module and the second module. Specifically, one connector region 110 is electrically connected to the first module, and the other connector region 110 is electrically connected to the second module. The analog signal line and the digital signal line included in the signal line region 120 electrically connect the respective connector regions 110. In other words, the first module and the second module are electrically connected via the connector region 110 and the signal line region 120 of the flexible circuit board 100.

次に、図2を参照して、曲げ領域130を説明する。図2は、図1における領域Aの拡大平面図であり、フレキシブル回路基板100の一端部を拡大して図示している。曲げ領域130は、コネクタ領域110と信号線領域120とを接続する。曲げ領域130においても、アナログ信号線とデジタル信号線とが含まれている。詳しくは後述するが、曲げ領域130は、信号線領域120と比べて配線層および/または絶縁層の数が少ない減層構造を有する。または、曲げ領域130は、内部に配線層および絶縁層のいずれも設けられない中空領域が設けられた中空構造を有する。 Next, the bending region 130 will be described with reference to FIG. 2. FIG. 2 is an enlarged plan view of region A in FIG. 1, showing one end of the flexible circuit board 100 in an enlarged manner. The bending region 130 connects the connector region 110 and the signal line region 120. The bending region 130 also includes analog signal lines and digital signal lines. As will be described in detail later, the bending region 130 has a reduced-layer structure with fewer wiring layers and/or insulating layers than the signal line region 120. Alternatively, the bending region 130 has a hollow structure with a hollow region in which neither wiring layers nor insulating layers are provided.

(第1の実施形態)
<フレキシブル回路基板100の構造>
次に、図3を参照して、第1の実施形態に係るフレキシブル回路基板100の断面構造について説明する。図3は、図2のB-B線における模式断面図である。図3では、図面の左側がコネクタ領域110に相当する領域を示し、図面の右側が信号線領域120に相当する領域を示す。そして、曲げ領域130は、コネクタ領域110と信号線領域120との間に位置している。この曲げ領域130は、減層構造を有する。すなわち、第1の実施形態に係るフレキシブル回路基板100の曲げ領域130は、コネクタ領域110および信号線領域120と比べて配線層および/または絶縁層の数が少ない減層構造を有する。
(First embodiment)
<Structure of the flexible circuit board 100>
Next, with reference to Fig. 3, the cross-sectional structure of the flexible circuit board 100 according to the first embodiment will be described. Fig. 3 is a schematic cross-sectional view taken along line B-B in Fig. 2. In Fig. 3, the left side of the drawing shows a region corresponding to the connector region 110, and the right side of the drawing shows a region corresponding to the signal line region 120. The bending region 130 is located between the connector region 110 and the signal line region 120. This bending region 130 has a reduced-layer structure. That is, the bending region 130 of the flexible circuit board 100 according to the first embodiment has a reduced-layer structure in which the number of wiring layers and/or insulating layers is smaller than those of the connector region 110 and the signal line region 120.

より詳細には、曲げ領域130は3層の配線層を有し、信号線領域120は5層の配線層を有している。具体的には、曲げ領域130は配線層として、導電パターン(配線12b、22iおよび23b)を有し、信号線領域120は、配線層として、導電パターン(配線12b、22i、23b、32bおよび33i)を有している。したがって、曲げ領域130は、信号線領域120に比べて2層分の配線層の数が少ない減層構造を有している。同様に、曲げ領域130は2層の絶縁層を有し、信号線領域120は3層の絶縁層を有している。具体的には、曲げ領域130は第1の絶縁層(絶縁基材11と接着剤層13)、第2の絶縁層(絶縁基材21)および第3の絶縁層(接着剤層24とカバー材層71)を有する。他方、信号線領域120は、第1の絶縁層(絶縁基材11と接着剤層13)、第2の絶縁層(絶縁基材21)、第3の絶縁層(接着剤層24とカバー材層71)および第4の絶縁層(絶縁基材31)を有する。したがって、曲げ領域130は、信号線領域120に比べて1層分の絶縁層が少ない減層構造を有している。 More specifically, the bending region 130 has three wiring layers, and the signal line region 120 has five wiring layers. Specifically, the bending region 130 has conductive patterns (wires 12b, 22i, and 23b) as wiring layers, and the signal line region 120 has conductive patterns (wires 12b, 22i, 23b, 32b, and 33i) as wiring layers. Therefore, the bending region 130 has a reduced-layer structure in which the number of wiring layers is two layers less than that of the signal line region 120. Similarly, the bending region 130 has two insulating layers, and the signal line region 120 has three insulating layers. Specifically, the bending region 130 has a first insulating layer (insulating substrate 11 and adhesive layer 13), a second insulating layer (insulating substrate 21), and a third insulating layer (adhesive layer 24 and cover material layer 71). On the other hand, the signal line region 120 has a first insulating layer (insulating substrate 11 and adhesive layer 13), a second insulating layer (insulating substrate 21), a third insulating layer (adhesive layer 24 and cover material layer 71), and a fourth insulating layer (insulating substrate 31). Therefore, the bend region 130 has a reduced-layer structure with one insulating layer less than the signal line region 120.

曲げ領域130は、上記のように、信号線領域120と比べて配線層および絶縁層の数が少ない減層構造を有する。このため、曲げ領域130は、信号線領域120に比べて曲げる際の応力が緩和される。したがって、スマートフォン等の電子機器の筐体内にフレキシブル回路基板100を組み込む際にフレキシブル回路基板100を曲げた状態で組み込むことが容易となる。具体的には、筐体内にフレキシブル回路基板100を曲げた状態で組み込む場合、フレキシブル回路基板100は曲げ領域130で曲げられて筐体に組み込まれる。この際、比較的応力が緩和された曲げ領域130は、比較的容易に曲げることができる。これにより、筐体内へのフレキシブル回路基板100の曲げ組み込みを容易に行うことができる。 As described above, the bending region 130 has a reduced-layer structure with fewer wiring layers and insulating layers than the signal line region 120. Therefore, the bending region 130 is less stressed when bending than the signal line region 120. Therefore, when the flexible circuit board 100 is incorporated into the housing of an electronic device such as a smartphone, it is easy to incorporate the flexible circuit board 100 in a bent state. Specifically, when the flexible circuit board 100 is incorporated into the housing in a bent state, the flexible circuit board 100 is bent in the bending region 130 and incorporated into the housing. At this time, the bending region 130, which has a relatively relaxed stress, can be bent relatively easily. This makes it easy to bend and incorporate the flexible circuit board 100 into the housing.

なお、フレキシブル回路基板100においては、アナログ信号線は配線22iに配置され、デジタル信号線は配線33iに配置される。このように、フレキシブル回路基板100には、アナログ信号線およびデジタル信号線の両方が組み込まれている。これにより、フレキシブル回路基板100を用いることで、アナログ信号線およびデジタル信号線のいずれも配置することができ、電子機器の筐体内の省スペース化を図ることができる。 In addition, in the flexible circuit board 100, the analog signal lines are arranged on the wiring 22i, and the digital signal lines are arranged on the wiring 33i. In this way, both analog signal lines and digital signal lines are incorporated into the flexible circuit board 100. As a result, by using the flexible circuit board 100, both analog signal lines and digital signal lines can be arranged, thereby saving space within the housing of the electronic device.

また、フレキシブル回路基板100においては、絶縁層を介してアナログ信号線を覆うように形成されたグランド層を有する。具体的には、グランド層12bおよび23b(配線12bおよび23b)は、アナログ信号線の配線22iを絶縁層を介して覆う。図3に示すように、配線22iの上には第1の絶縁層(接着剤層13および絶縁基材11)が積層され、第1の絶縁層の上にはグランド層12b(配線12b)が形成されている。同様に、配線22iの下には第2の絶縁層(絶縁基材21)が積層され、第2の絶縁層の下にはグランド層23b(配線23b)が積層されている。このように、フレキシブル回路基板100においては、第1および第2の絶縁層を介してアナログ信号線(配線22i)を覆うように形成されたグランド層12bおよび23b)を有する。すなわち、フレキシブル回路基板100は3層ストリップライン構造を有する。 In addition, the flexible circuit board 100 has a ground layer formed to cover the analog signal line through an insulating layer. Specifically, the ground layers 12b and 23b (wiring 12b and 23b) cover the wiring 22i of the analog signal line through an insulating layer. As shown in FIG. 3, a first insulating layer (adhesive layer 13 and insulating substrate 11) is laminated on the wiring 22i, and a ground layer 12b (wiring 12b) is formed on the first insulating layer. Similarly, a second insulating layer (insulating substrate 21) is laminated under the wiring 22i, and a ground layer 23b (wiring 23b) is laminated under the second insulating layer. In this way, the flexible circuit board 100 has ground layers 12b and 23b) formed to cover the analog signal line (wiring 22i) through the first and second insulating layers. That is, the flexible circuit board 100 has a three-layer stripline structure.

フレキシブル回路基板100のコネクタ領域110には、アナログ信号線またはデジタル信号線と電気的に接続された層間接続路が設けられている。この層間接続路は、図3に示すコネクタ領域110のホールH1~H4に設けられ、アナログ信号線またはデジタル信号線に電気的に接続される。たとえば、ホールH2に設けられた層間接続路と、アナログ信号線(配線22i)とが電気的に接続される。また、ホールH4に設けられた層間接続路と、デジタル信号線(配線33i)とが電気的に接続される。 Interlayer connection paths electrically connected to analog or digital signal lines are provided in the connector region 110 of the flexible circuit board 100. These interlayer connection paths are provided in holes H1 to H4 of the connector region 110 shown in FIG. 3, and are electrically connected to the analog or digital signal lines. For example, the interlayer connection path provided in hole H2 is electrically connected to the analog signal line (wiring 22i). Also, the interlayer connection path provided in hole H4 is electrically connected to the digital signal line (wiring 33i).

なお、コネクタ領域110の層間接続路は、めっきスルーホールにより構成されてもよい。詳しくは、ホールH2には銅めっき61が堆積され、ホールH4には銅めっき62が堆積されて、それぞれめっきスルーホールが形成される。このように、コネクタ領域110の層間接続路は、アナログ信号線(配線22i)またはデジタル信号線(配線33i)に接続されためっきスルーホール(ホールH2またはホールH4)を有する。 The interlayer connection path of the connector region 110 may be formed by a plated through hole. More specifically, copper plating 61 is deposited on hole H2, and copper plating 62 is deposited on hole H4 to form a plated through hole. In this way, the interlayer connection path of the connector region 110 has a plated through hole (hole H2 or hole H4) connected to an analog signal line (wiring 22i) or a digital signal line (wiring 33i).

また、コネクタ領域110の層間接続路は、フィルドビアにより構成されてもよい。より詳細には、ホールH1には、導電ペーストが充填され、フィルドビアが形成されている。そして、ホールH1に形成されたフィルドビアは、配線22iに接続される。同様にして、ホールH3にも導電ペーストが充填され、フィルドビアが形成されている。そして、ホールH3に形成されたフィルドビアは、受けランド32aに接続される。受けランド32aは、ホールH4のめっきスルーホールに接続されている。コネクタ領域110の層間接続路は、めっきスルーホールと、導電層(受けランド22aまたは32a)を介して当該めっきスルーホールと接続されたフィルドビアとを有する。なお、コネクタ領域110には、上記の層間接続路を介してアナログ信号線およびデジタル信号線に電気的に接続されたコネクタ部品(図示せず)が実装されていてもよい。 The interlayer connection path of the connector region 110 may be formed by a filled via. More specifically, the hole H1 is filled with a conductive paste to form a filled via. The filled via formed in the hole H1 is connected to the wiring 22i. Similarly, the hole H3 is filled with a conductive paste to form a filled via. The filled via formed in the hole H3 is connected to the receiving land 32a. The receiving land 32a is connected to the plated through hole of the hole H4. The interlayer connection path of the connector region 110 has a plated through hole and a filled via connected to the plated through hole via a conductive layer (receiving land 22a or 32a). The connector region 110 may be equipped with a connector component (not shown) electrically connected to the analog signal line and the digital signal line via the interlayer connection path.

以上、第1の実施形態に係るフレキシブル回路基板100の概略的な構成について説明した。第1の実施形態によれば、フレキシブル回路基板100の曲げ領域130は、信号線領域120と比べて配線層および絶縁基材の数が少ない減層構造を有する。このため、曲げ領域130を曲げる際の応力が緩和される。したがって、スマートフォン等の電子機器の筐体内へのフレキシブル回路基板100の曲げ組み込みを容易に行うことができる。 The above describes the schematic configuration of the flexible circuit board 100 according to the first embodiment. According to the first embodiment, the bending region 130 of the flexible circuit board 100 has a reduced-layer structure with fewer wiring layers and insulating substrates than the signal line region 120. This reduces stress when bending the bending region 130. This makes it easy to bend and install the flexible circuit board 100 into the housing of an electronic device such as a smartphone.

なお、フレキシブル回路基板100には、アナログ信号線およびデジタル信号線の両方が収容されている。これにより、アナログ信号線用のケーブルとデジタル信号線用のケーブルを別個に電子機器の筐体内に配置する必要がなくなり、スマートフォン等の電子機器の筐体内の省スペース化を図ることができる。 The flexible circuit board 100 houses both analog and digital signal lines. This eliminates the need to place separate cables for the analog and digital signal lines inside the housing of the electronic device, making it possible to save space inside the housing of an electronic device such as a smartphone.

また、曲げ領域130では信号線領域120と比べて配線層および絶縁層の数が削減されることから、フレキシブル回路基板100の製造に要する配線層および絶縁基材の材料を低減することができ、製造コストを低減することができる。 In addition, since the number of wiring layers and insulating layers is reduced in the bending region 130 compared to the signal line region 120, the amount of material for the wiring layers and insulating substrate required to manufacture the flexible circuit board 100 can be reduced, thereby reducing manufacturing costs.

<フレキシブル回路基板100の製造方法>
次に、第1の実施形態に係るフレキシブル回路基板100の製造方法について、図4~6の工程断面図を参照して説明する。
<Method of Manufacturing Flexible Circuit Board 100>
Next, a method for manufacturing the flexible circuit board 100 according to the first embodiment will be described with reference to cross-sectional process views of FIGS.

まず、図4(1)に示すように、片面金属箔張積層板10を用意する。この片面金属箔張積層板10は、絶縁基材11と、この絶縁基材11の上面に設けられた金属箔12と、この絶縁基材11の下面に接着剤層(微粘着層)13を介して設けられた保護膜層14とを有する。金属箔12は、絶縁基材11の主面に形成されたシード層(図示せず)を介して絶縁基材11上に形成されている。絶縁基材11は、液晶ポリマー(LCP)のほか、例えば、ポリイミド(PI)、変性ポリイミド(MPI)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、フッ素樹脂(PFA、PTEE等)などでよく、特に限定されない。 First, as shown in FIG. 4(1), a single-sided metal foil laminate 10 is prepared. The single-sided metal foil laminate 10 has an insulating substrate 11, a metal foil 12 provided on the upper surface of the insulating substrate 11, and a protective film layer 14 provided on the lower surface of the insulating substrate 11 via an adhesive layer (weakly adhesive layer) 13. The metal foil 12 is formed on the insulating substrate 11 via a seed layer (not shown) formed on the main surface of the insulating substrate 11. The insulating substrate 11 may be, in addition to liquid crystal polymer (LCP), for example, polyimide (PI), modified polyimide (MPI), polyethylene naphthalate (PEN), polyether ether ketone (PEEK), fluororesin (PFA, PTEE, etc.), and is not particularly limited.

絶縁基材11の厚さは、例えば、100μmである。金属箔12は、銅のほか、例えば、銀、アルミニウムである。金属箔12の厚さは、例えば、12μmである。保護膜層14は、接着剤層13を介して絶縁基材11の下面に設けられる。保護膜層14は、例えば、PET(ポリエチレンテレフタレート)などの絶縁フィルムである。保護膜層14の厚さは、例えば、10μmである。接着剤層13は、例えば、厚さ10μmである。 The insulating substrate 11 has a thickness of, for example, 100 μm. The metal foil 12 is made of, for example, silver or aluminum, in addition to copper. The metal foil 12 has a thickness of, for example, 12 μm. The protective film layer 14 is provided on the lower surface of the insulating substrate 11 via the adhesive layer 13. The protective film layer 14 is, for example, an insulating film such as PET (polyethylene terephthalate). The protective film layer 14 has a thickness of, for example, 10 μm. The adhesive layer 13 has a thickness of, for example, 10 μm.

次に、図4(2)に示すように、片面金属箔張積層板10の金属箔12を公知のフォトファブリケーション手法によりパターニングして、第1導電パターンを形成する。この第1導電パターンは、受けランド12aおよび配線12bを含む。受けランド12aの径は、例えば、φ350μmである。配線12bは、フレキシブル回路基板100においてグランド層として機能する。 Next, as shown in FIG. 4(2), the metal foil 12 of the single-sided metal foil laminate 10 is patterned by a known photofabrication method to form a first conductive pattern. This first conductive pattern includes a receiving land 12a and a wiring 12b. The diameter of the receiving land 12a is, for example, φ350 μm. The wiring 12b functions as a ground layer in the flexible circuit board 100.

次に、図4(2)に示すように、保護膜層14にレーザ光を照射することにより、保護膜層14、接着剤層13および絶縁基材11を除去して、底面に受けランド12aが露出した有底のホールH1を形成する。ホールH1の径は、例えば、φ150~200μmである。より詳しくは、炭酸ガスレーザである赤外線レーザを用いて、レーザパルスを保護膜層14の所定の位置に照射して穿孔する。赤外線レーザのビーム径は、ホールH1の径と同様の150μmに設定する。また、赤外線レーザのパルス幅は10μ秒に設定し、赤外線レーザの1パルス当たりのエネルギを5mJに設定する。 Next, as shown in FIG. 4 (2), the protective film layer 14 is irradiated with laser light to remove the protective film layer 14, the adhesive layer 13, and the insulating substrate 11, forming a bottomed hole H1 with the receiving land 12a exposed at the bottom. The diameter of the hole H1 is, for example, φ150 to 200 μm. More specifically, a carbon dioxide gas laser is used to irradiate a laser pulse onto a predetermined position of the protective film layer 14 to perforate it. The beam diameter of the infrared laser is set to 150 μm, which is the same as the diameter of the hole H1. The pulse width of the infrared laser is set to 10 μs, and the energy per pulse of the infrared laser is set to 5 mJ.

上記の通り設定された赤外線レーザのレーザ光を、保護膜層14に5ショット照射してホールH1を得る。なお、上記のように、赤外線レーザのビーム径とホールH1の径とは略同一である。言い換えると、ホールH1の径に合わせるように赤外線レーザのビーム径を調整すればよい。このため、ホールH1の形成において、赤外線レーザはビーム径の調整が容易であり、好適である。なお、ホールH1の形成においては、UV-YAGレーザなどを用いてもよく、赤外線レーザに限定されない。 The protective film layer 14 is irradiated with five shots of the laser light of the infrared laser set as described above to obtain hole H1. As described above, the beam diameter of the infrared laser and the diameter of hole H1 are approximately the same. In other words, the beam diameter of the infrared laser can be adjusted to match the diameter of hole H1. For this reason, the infrared laser is suitable for forming hole H1 because it is easy to adjust the beam diameter. Note that the laser used to form hole H1 is not limited to the infrared laser, and a UV-YAG laser or the like may also be used.

赤外線レーザでホールH1を穿孔した後、デスミア処理を行う。デスミア処理では、絶縁基材11と受けランド12aとの境界における樹脂残渣(残膜)、および、受けランド12aの裏面処理膜(NiまたはCrなど)を除去する。 After the hole H1 is drilled with an infrared laser, a desmear process is performed. In the desmear process, the resin residue (residual film) at the boundary between the insulating substrate 11 and the receiving land 12a and the back surface treatment film (Ni, Cr, etc.) of the receiving land 12a are removed.

次に、図4(3)に示すように、スクリーン印刷等の印刷手法により、ホールH1の内部に導電ペースト51を充填する。導電ペースト51は、ペースト状の熱硬化性樹脂である樹脂バインダーに金属粒子を分散させたものである。 Next, as shown in FIG. 4 (3), the inside of the hole H1 is filled with conductive paste 51 by a printing method such as screen printing. The conductive paste 51 is a resin binder, which is a paste-like thermosetting resin, in which metal particles are dispersed.

次に、図4(4)に示すように、接着剤層13から保護膜層14を剥離する。これにより、ホールH1に充填された導電ペースト51の一部が突出し、突出部51aが形成される。なお、この突出部51aの高さは、保護膜層14の厚さと同程度である。
以上の工程により、配線基材101(第1配線基材)が得られる。
4(4), the protective film layer 14 is peeled off from the adhesive layer 13. As a result, a part of the conductive paste 51 filled in the hole H1 protrudes, forming a protrusion 51a. The height of the protrusion 51a is approximately the same as the thickness of the protective film layer 14.
Through the above steps, wiring substrate 101 (first wiring substrate) is obtained.

次に、図5A(1)に示すように、両面金属箔張積層板20を用意する。この両面金属箔張積層板20は、絶縁基材21と、この絶縁基材21の上面に設けられた金属箔22と、この絶縁基材21の下面に設けられた金属箔23とを有する。絶縁基材21は、液晶ポリマー(LCP)のほか、例えば、ポリイミド(PI)、変性ポリイミド(MPI)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、フッ素樹脂(PFA、PTEE等)などでよく、特に限定されない。 Next, as shown in FIG. 5A (1), a double-sided metal foil clad laminate 20 is prepared. This double-sided metal foil clad laminate 20 has an insulating substrate 21, a metal foil 22 provided on the upper surface of this insulating substrate 21, and a metal foil 23 provided on the lower surface of this insulating substrate 21. The insulating substrate 21 may be, in addition to liquid crystal polymer (LCP), for example, polyimide (PI), modified polyimide (MPI), polyethylene naphthalate (PEN), polyether ether ketone (PEEK), fluororesin (PFA, PTEE, etc.), and is not particularly limited.

絶縁基材21の厚さは、例えば、100μmである。金属箔22および金属箔23は、銅のほか、例えば、銀、アルミニウムである。金属箔22および金属箔23の厚さは、例えば、それぞれ12μmである。金属箔22は、絶縁基材21の上面に形成されたシード層(図示せず)を介して絶縁基材21上に形成される。同様に、金属箔23は、絶縁基材21の下面に形成されたシード層(図示せず)を介して絶縁基材21下に形成される。 The thickness of the insulating substrate 21 is, for example, 100 μm. The metal foil 22 and the metal foil 23 are made of, for example, silver or aluminum, in addition to copper. The thickness of the metal foil 22 and the metal foil 23 is, for example, 12 μm each. The metal foil 22 is formed on the insulating substrate 21 via a seed layer (not shown) formed on the upper surface of the insulating substrate 21. Similarly, the metal foil 23 is formed below the insulating substrate 21 via a seed layer (not shown) formed on the lower surface of the insulating substrate 21.

次に、図5A(2)に示すように、両面金属箔張積層板20の金属箔22を公知のフォトファブリケーション手法によりパターニングして、第2導電パターンを形成する。この第2導電パターンは、受けランド22aおよび配線22iを含む。受けランド22aの径は、例えば、φ350μmである。配線22iは、フレキシブル回路基板100においてアナログ信号線として機能する。すなわち、第2導電パターンは、アナログ信号線を含む。 Next, as shown in FIG. 5A (2), the metal foil 22 of the double-sided metal foil laminate 20 is patterned by a known photofabrication method to form a second conductive pattern. This second conductive pattern includes a receiving land 22a and a wiring 22i. The diameter of the receiving land 22a is, for example, φ350 μm. The wiring 22i functions as an analog signal line in the flexible circuit board 100. That is, the second conductive pattern includes an analog signal line.

次に、図5A(3)に示すように、両面金属箔張積層板20の金属箔23を公知のフォトファブリケーション手法によりパターニングして、第3導電パターンを形成する。この第3導電パターンは、受けランド23aおよび配線23bを含む。受けランド23aの径は、例えば、φ350μmである。配線23bは、フレキシブル回路基板100においてグランド層として機能する。 Next, as shown in FIG. 5A (3), the metal foil 23 of the double-sided metal foil laminate 20 is patterned by a known photofabrication method to form a third conductive pattern. This third conductive pattern includes a receiving land 23a and a wiring 23b. The diameter of the receiving land 23a is, for example, φ350 μm. The wiring 23b functions as a ground layer in the flexible circuit board 100.

次に、図5A(4)に示すように、受けランド23aのコンフォーマルマスクにレーザ光を照射することにより、絶縁基材21を除去して、底面に受けランド22aが露出した有底のホールH2を形成する。ホールH2の径は、例えば、φ150~200μmである。以下、ホールH2の形成はホールH1の形成と同様である。すなわち、炭酸ガスレーザである赤外線レーザを用いて、レーザパルスを受けランド23aの所定の位置に照射してホールH2を穿孔する。赤外線レーザのビーム径は、ホールH2の径と同様の150μmに設定する。また、赤外線レーザのパルス幅は10μ秒に設定し、赤外線レーザの1パルス当たりのエネルギを5mJに設定する。 Next, as shown in FIG. 5A (4), the conformal mask of the receiving land 23a is irradiated with laser light to remove the insulating substrate 21, forming a bottomed hole H2 with the receiving land 22a exposed at the bottom. The diameter of the hole H2 is, for example, φ150 to 200 μm. Hereinafter, the formation of the hole H2 is similar to the formation of the hole H1. That is, an infrared laser, which is a carbon dioxide laser, is used to irradiate a laser pulse to a predetermined position of the receiving land 23a to drill the hole H2. The beam diameter of the infrared laser is set to 150 μm, the same as the diameter of the hole H2. The pulse width of the infrared laser is set to 10 μs, and the energy per pulse of the infrared laser is set to 5 mJ.

上記の通り設定された赤外線レーザのレーザ光を、5ショット照射してホールH2を得る。なお、ホールH2の形成においては、UV-YAGレーザなどを用いてもよく、赤外線レーザに限定されない。 The laser beam from the infrared laser set as described above is irradiated five times to obtain hole H2. Note that the laser used to form hole H2 is not limited to infrared laser and may be a UV-YAG laser or the like.

赤外線レーザでホールH2を穿孔した後、デスミア処理を行う。デスミア処理では、絶縁基材21と受けランド23aとの境界における樹脂残渣(残膜)を除去する。また、受けランド23aおよび受けランド22aの裏面処理膜(NiまたはCrなど)を除去する。 After drilling hole H2 with an infrared laser, a desmear process is performed. In the desmear process, resin residue (residual film) at the boundary between the insulating substrate 21 and the receiving land 23a is removed. In addition, the back surface treatment film (Ni, Cr, etc.) of the receiving land 23a and the receiving land 22a is removed.

次に、図5A(5)に示すように、ホールH2の側壁および底面に、第1金属めっき61を堆積させる。第1金属めっき61は、例えば、銅めっきである。また、第1金属めっき61は、部分めっきまたはパネルめっきにより堆積される。第1金属めっき61のめっき厚は、例えば、16μmである。 Next, as shown in FIG. 5A (5), a first metal plating 61 is deposited on the sidewalls and bottom surface of the hole H2. The first metal plating 61 is, for example, copper plating. The first metal plating 61 is deposited by partial plating or panel plating. The plating thickness of the first metal plating 61 is, for example, 16 μm.

次に、図5B(1)に示すように、第3導電パターン(受けランド23aおよび配線23b)と、ホールH2に堆積された第1金属めっき61を埋設するように、接着剤層24を形成する。この接着剤層24は、例えば、厚さ10μmの微粘着層である。次に、図5B(2)に示すように、接着剤層24上にカバー材層71を形成する。カバー材層71は、例えば、絶縁樹脂フィルムである。絶縁樹脂フィルムとして、例えば、液晶ポリマー(LCP)またはポリイミドが用いられる。カバー材層71の厚さは、例えば、12μmである。 Next, as shown in FIG. 5B (1), an adhesive layer 24 is formed so as to bury the third conductive pattern (receiving land 23a and wiring 23b) and the first metal plating 61 deposited in hole H2. This adhesive layer 24 is, for example, a weakly adhesive layer having a thickness of 10 μm. Next, as shown in FIG. 5B (2), a cover material layer 71 is formed on the adhesive layer 24. The cover material layer 71 is, for example, an insulating resin film. For example, a liquid crystal polymer (LCP) or polyimide is used as the insulating resin film. The thickness of the cover material layer 71 is, for example, 12 μm.

次に、図5B(3)に示すように、カバー材層71の上に開口部A1を有する接着剤層25を形成する。接着剤層25は、例えば、厚さ10μmの微粘着層である。次に、図5B(4)に示すように、接着剤層25の開口部A1を充填するように、接着剤層25の上に保護膜層26を形成する。保護膜層26は、例えば、厚さ20μmの微粘着剤付きPETフィルムである。開口部A1の径は、例えば、長手方向に30mmであり、短手方向に2mmである。 Next, as shown in FIG. 5B (3), an adhesive layer 25 having an opening A1 is formed on the cover material layer 71. The adhesive layer 25 is, for example, a weakly adhesive layer having a thickness of 10 μm. Next, as shown in FIG. 5B (4), a protective film layer 26 is formed on the adhesive layer 25 so as to fill the opening A1 of the adhesive layer 25. The protective film layer 26 is, for example, a PET film with a weak adhesive having a thickness of 20 μm. The diameter of the opening A1 is, for example, 30 mm in the longitudinal direction and 2 mm in the lateral direction.

次に、図5C(1)に示すように、保護膜層26にレーザ光を照射することにより、保護膜層26、接着剤層25、カバー材層71および接着剤層24を除去して、底面に受けランド23aが露出した有底のホールH3を穿孔する。ホールH3の径は、例えば、φ150~200μmである。以下、ホールH3の形成はホールH1の形成と同様である。すなわち、炭酸ガスレーザである赤外線レーザを用いて、レーザパルスを保護膜層26の所定の位置に照射して穿孔する。赤外線レーザのビーム径は、ホールH3の径と同様の150μmに設定する。また、赤外線レーザのパルス幅は10μ秒に設定し、赤外線レーザの1パルス当たりのエネルギを5mJに設定する。 Next, as shown in FIG. 5C (1), the protective film layer 26 is irradiated with laser light to remove the protective film layer 26, the adhesive layer 25, the cover material layer 71, and the adhesive layer 24, and a bottomed hole H3 with the receiving land 23a exposed at the bottom is drilled. The diameter of the hole H3 is, for example, φ150 to 200 μm. Hereinafter, the formation of the hole H3 is similar to the formation of the hole H1. That is, an infrared laser, which is a carbon dioxide laser, is used to irradiate a laser pulse onto a predetermined position of the protective film layer 26 to drill a hole. The beam diameter of the infrared laser is set to 150 μm, the same as the diameter of the hole H3. The pulse width of the infrared laser is set to 10 μs, and the energy per pulse of the infrared laser is set to 5 mJ.

次に、図5C(2)に示すように、スクリーン印刷等の印刷手法により、ホールH3の内部に導電ペースト52を充填する。導電ペースト52は、ペースト状の熱硬化性樹脂である樹脂バインダーに金属粒子を分散させたものである。 Next, as shown in FIG. 5C (2), the inside of the hole H3 is filled with conductive paste 52 by a printing method such as screen printing. The conductive paste 52 is made by dispersing metal particles in a resin binder, which is a paste-like thermosetting resin.

次に、図5C(3)に示すように、接着剤層25およびカバー材層71から保護膜層26を剥離する。これにより、ホールH3に充填された導電ペースト52の一部が突出し、突出部52aが形成される。なお、この突出部52aの高さは、接着剤層25上に形成された保護膜層26の厚さと同程度である。
以上の工程により、配線基材102(第2配線基材)が得られる。
5C(3), the protective film layer 26 is peeled off from the adhesive layer 25 and the cover material layer 71. As a result, a part of the conductive paste 52 filled in the hole H3 protrudes, forming a protruding portion 52a. The height of the protruding portion 52a is approximately the same as the thickness of the protective film layer 26 formed on the adhesive layer 25.
Through the above steps, wiring substrate 102 (second wiring substrate) is obtained.

次に、図6(1)に示すように、両面金属箔張積層板30を用意する。この両面金属箔張積層板30は、絶縁基材31と、この絶縁基材31の上面に設けられた金属箔32と、この絶縁基材31の下面に設けられた金属箔33とを有する。絶縁基材31は、液晶ポリマー(LCP)のほか、例えば、ポリイミド(PI)、変性ポリイミド(MPI)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、フッ素樹脂(PFA、PTEE等)などでよく、特に限定されない。 Next, as shown in FIG. 6 (1), a double-sided metal foil clad laminate 30 is prepared. This double-sided metal foil clad laminate 30 has an insulating substrate 31, a metal foil 32 provided on the upper surface of this insulating substrate 31, and a metal foil 33 provided on the lower surface of this insulating substrate 31. The insulating substrate 31 may be, in addition to liquid crystal polymer (LCP), for example, polyimide (PI), modified polyimide (MPI), polyethylene naphthalate (PEN), polyether ether ketone (PEEK), fluororesin (PFA, PTEE, etc.), and is not particularly limited.

絶縁基材31の厚さは、例えば、50μmである。金属箔32および金属箔33は、銅のほか、例えば、銀、アルミニウムである。金属箔32および金属箔33の厚さは、例えば、それぞれ12μmである。金属箔32は、絶縁基材31の上面に形成されたシード層(図示せず)を介して絶縁基材31上に形成されている。同様に、金属箔33は、絶縁基材31の下面に形成されたシード層(図示せず)を介して絶縁基材31下に形成されている。 The thickness of the insulating substrate 31 is, for example, 50 μm. The metal foil 32 and the metal foil 33 are made of, for example, silver or aluminum, in addition to copper. The thickness of the metal foil 32 and the metal foil 33 is, for example, 12 μm each. The metal foil 32 is formed on the insulating substrate 31 via a seed layer (not shown) formed on the upper surface of the insulating substrate 31. Similarly, the metal foil 33 is formed below the insulating substrate 31 via a seed layer (not shown) formed on the lower surface of the insulating substrate 31.

絶縁基材31の厚さを、比較的薄い50μmとすることで、より詳細には、Z=√(L/C)で表される特性インピーダンスに整合した信号線(配線33i)の線幅を狭くすることができる。ここで、Lは単位長さ当たりのインダクタンスであり、Cは線間キャパシタンスである。これにより、信号線の線幅が狭くなることにより、フレキシブル回路基板100の幅を狭くすることができ、フレキシブル回路基板100をスマートフォン等の電子機器の筐体内に組み込む際に省スペース化を図ることができる。 By setting the thickness of the insulating substrate 31 to a relatively thin value of 50 μm, it is possible to narrow the line width of the signal line (wiring 33i) that matches the characteristic impedance expressed by Z 0 =√(L/C), where L is the inductance per unit length and C is the capacitance between the lines. As a result, the line width of the signal line is narrowed, and the width of the flexible circuit board 100 can be narrowed, thereby saving space when the flexible circuit board 100 is incorporated into the housing of an electronic device such as a smartphone.

次に、図6(2)に示すように、金属箔32をパターニングして、コンフォーマルマスクである受けランド32aを含む第4導電パターンを形成した後、図6(3)に示すように、当該コンフォーマルマスクにレーザ光を照射することにより、絶縁基材31を除去して、底面に受けランド33aが露出した有底のホールH4を形成する。ホールH4の径は、例えば、φ150~200μmである。ホールH4はホールH1と同様にして形成される。すなわち、炭酸ガスレーザである赤外線レーザを用いて、レーザパルスをコンフォーマルマスクの開口部に照射してホールH4を穿孔する。赤外線レーザのビーム径は、ホールH4の径と同様の150μmに設定する。なお、図6(2)に示すように、金属箔33をパターニングして第5導電パターン(受けランド33aおよび配線33i)を形成する。受けランド33aの径は、例えば、φ350μmである。なお、配線33iは、フレキシブル回路基板100においてデジタル信号線として機能する。すなわち、第5導電パターンはデジタル信号線を含む。 Next, as shown in FIG. 6(2), the metal foil 32 is patterned to form a fourth conductive pattern including the receiving land 32a, which is a conformal mask, and then, as shown in FIG. 6(3), the conformal mask is irradiated with laser light to remove the insulating substrate 31 to form a bottomed hole H4 with the receiving land 33a exposed at the bottom. The diameter of the hole H4 is, for example, φ150 to 200 μm. The hole H4 is formed in the same manner as the hole H1. That is, an infrared laser, which is a carbon dioxide laser, is used to irradiate a laser pulse onto the opening of the conformal mask to perforate the hole H4. The beam diameter of the infrared laser is set to 150 μm, which is the same as the diameter of the hole H4. Note that, as shown in FIG. 6(2), the metal foil 33 is patterned to form a fifth conductive pattern (the receiving land 33a and the wiring 33i). The diameter of the receiving land 33a is, for example, φ350 μm. Note that the wiring 33i functions as a digital signal line in the flexible circuit board 100. That is, the fifth conductive pattern includes a digital signal line.

赤外線レーザでホールH4を穿孔した後、デスミア処理を行う。デスミア処理では、受けランド33aおよび絶縁基材31との境界における樹脂残渣(残膜)を除去する。また、受けランド33aの裏面処理膜(NiまたはCrなど)を除去する。 After drilling hole H4 with an infrared laser, a desmear process is performed. In the desmear process, resin residue (residual film) at the boundary between the receiving land 33a and the insulating base material 31 is removed. In addition, the back surface treatment film (Ni, Cr, etc.) of the receiving land 33a is removed.

次に、図6(4)に示すように、ホールH4の側壁および底面に、第2金属めっき62を堆積させる。第2金属めっき62は、例えば、銅めっきである。また、第2金属めっき62は、部分めっきまたはパネルめっきにより堆積される。第2金属めっき62のめっき厚は、例えば、16μmである。 Next, as shown in FIG. 6 (4), a second metal plating 62 is deposited on the sidewalls and bottom surface of the hole H4. The second metal plating 62 is, for example, copper plating. The second metal plating 62 is deposited by partial plating or panel plating. The plating thickness of the second metal plating 62 is, for example, 16 μm.

次に、図6(5)に示すように、刃型等で金属箔32、絶縁基材31および受けランド33aの一部を除去して、窓開け部Wを形成する。窓開け部Wの大きさは、例えば、図5B(3)に示す接着剤層25の開口部A1の大きさと同程度であり、例えば、長手方向に30mmであり、短手方向に2mmである。
以上の工程により、配線基材103(第3配線基材)が得られる。
Next, as shown in Fig. 6 (5), a blade or the like is used to remove parts of the metal foil 32, the insulating base material 31, and the receiving land 33a to form a window W. The size of the window W is, for example, approximately the same as the size of the opening A1 of the adhesive layer 25 shown in Fig. 5B (3), and is, for example, 30 mm in the longitudinal direction and 2 mm in the lateral direction.
Through the above steps, wiring substrate 103 (third wiring substrate) is obtained.

なお、上述の工程において、各配線基材101、102、103の金属箔に対して粗化処理を行ってもよい。粗化処理により、金属箔と絶縁基材との接着する強度を向上させることができる。 In the above-mentioned process, the metal foil of each wiring substrate 101, 102, 103 may be subjected to a roughening treatment. The roughening treatment can improve the adhesive strength between the metal foil and the insulating substrate.

以下では、図7を参照して、上述の工程で得られた配線基材101、配線基材102および配線基材103を積層する工程を説明する。 Below, with reference to Figure 7, we will explain the process of stacking the wiring substrate 101, wiring substrate 102, and wiring substrate 103 obtained in the above-mentioned process.

まず、配線基材101を配線基材102の上に積層する。具体的には、導電ペースト51の突出部51aが、受けランド22aに接触するように積層する。 First, the wiring substrate 101 is laminated on the wiring substrate 102. Specifically, the conductive paste 51 is laminated so that the protruding portion 51a of the conductive paste 51 contacts the receiving land 22a.

次に、上記の工程で得られた配線基材101と配線基材102とからなる積層体を、配線基材103の上に積層する。具体的には、導電ペースト52の突出部52aが、受けランド32aに接触するように積層する。このようにして、配線基材101、配線基材102および配線基材103が電気的に層間接続なされる。なお、配線基材101、102、103の積層順序は上記に限られない。 Next, the laminate consisting of wiring substrate 101 and wiring substrate 102 obtained in the above process is laminated on wiring substrate 103. Specifically, the laminate is laminated so that protruding portion 52a of conductive paste 52 contacts receiving land 32a. In this way, wiring substrate 101, wiring substrate 102, and wiring substrate 103 are electrically connected to each other. Note that the stacking order of wiring substrates 101, 102, and 103 is not limited to the above.

配線基材101、配線基材102および配線基材103からなる積層体を形成する上記の積層工程においては、真空プレス装置または真空ラミネータ装置を用いる。この真空プレス装置または真空ラミネータ装置により、積層体を加熱および加圧する。例えば、積層体を約200℃で加熱し、数MPa(例えば、2.0MPa)の圧力で加圧する。フレキシブル回路基板100を加熱する温度は、例えば、絶縁基材11、21および31を構成する液晶ポリマー(LCP)の軟化する温度よりも約50℃以上低い温度である。 In the lamination process for forming a laminate consisting of wiring substrate 101, wiring substrate 102, and wiring substrate 103, a vacuum press or vacuum laminator is used. The laminate is heated and pressurized by the vacuum press or vacuum laminator. For example, the laminate is heated to about 200°C and pressurized at a pressure of several MPa (for example, 2.0 MPa). The temperature to which flexible circuit board 100 is heated is, for example, at least about 50°C lower than the softening temperature of the liquid crystal polymer (LCP) that constitutes insulating substrates 11, 21, and 31.

積層工程において、真空プレス装置を用いる場合は上述の条件で約30~60分間、積層体を加熱および加圧する。このため、真空プレス装置による積層体の加熱および加圧において、接着剤層13、24および25の熱硬化が完了し、導電ペースト51および52の熱硬化についても完了する。 When a vacuum press is used in the lamination process, the laminate is heated and pressurized for approximately 30 to 60 minutes under the above-mentioned conditions. Therefore, when the laminate is heated and pressurized by the vacuum press, the thermal curing of the adhesive layers 13, 24, and 25 is completed, and the thermal curing of the conductive pastes 51 and 52 is also completed.

他方、積層工程において、真空ラミネータ装置を用いる場合は、上述の条件で約数分間、積層体を加熱および加圧する。このため、真空ラミネータ装置により積層体を加熱および加圧した後に、オーブン装置に積層体を移動し、ポストキュア処理を行う。ポストキュア処理では、例えば、積層体を約200℃にて約60分間加熱する。このポストキュア処理により、接着剤層13、24および25の熱硬化が完了し、導電ペースト51および52の熱硬化についても完了する。 On the other hand, when a vacuum laminator is used in the lamination process, the laminate is heated and pressurized for about several minutes under the above-mentioned conditions. Therefore, after the laminate is heated and pressurized by the vacuum laminator, it is moved to an oven device and a post-cure process is performed. In the post-cure process, for example, the laminate is heated at about 200°C for about 60 minutes. This post-cure process completes the thermal curing of the adhesive layers 13, 24, and 25, and also the thermal curing of the conductive pastes 51 and 52.

次に、必要に応じて、外側に露出した第1および第5導電パターンの表面処理、ソルダーレジストを行い、外形加工を行う。
以上の工程により、図3に示す断面構造を有するフレキシブル回路基板100が得られる。
Next, as necessary, surface treatment and solder resist are applied to the first and fifth conductive patterns exposed to the outside, and then the exterior shape is processed.
Through the above steps, a flexible circuit board 100 having the cross-sectional structure shown in FIG. 3 is obtained.

以上のように、第1の実施形態によるフレキシブル回路基板の製造方法によれば、曲げ領域130は、信号線領域120と比べて配線層および/または絶縁層の数が少ない減層構造を有するフレキシブル回路基板100が得られる。このため、曲げ領域130は、信号線領域120に比べて曲げる際の応力が緩和され、スマートフォン等の電子機器の筐体内へのフレキシブル回路基板100の曲げ組み込みを容易に行うことができる。 As described above, according to the manufacturing method of the flexible circuit board according to the first embodiment, the bending region 130 has a reduced-layer structure in which the number of wiring layers and/or insulating layers is smaller than that of the signal line region 120. Therefore, the bending region 130 is subjected to less stress when bent than the signal line region 120, and the flexible circuit board 100 can be easily bent and assembled into the housing of an electronic device such as a smartphone.

さらに、フレキシブル回路基板100においては、アナログ信号線は配線22iとして形成され、デジタル信号線は配線33iとして形成される。図3に示すように、フレキシブル回路基板100には、アナログ信号線およびデジタル信号線が組み込まれている。したがって、スマートフォン等の電子機器の筐体内にフレキシブル回路基板100を組み込むことで、無線通信アンテナが受信したアナログ信号を伝送するアナログ信号線と、USB等のデジタル端子が受信したデジタル信号を伝送するデジタル信号線とを一度にまとめて配置することができる。その結果、スマートフォン等の電子機器の筐体内の省スペース化を図ることができる。 Furthermore, in the flexible circuit board 100, the analog signal line is formed as wiring 22i, and the digital signal line is formed as wiring 33i. As shown in FIG. 3, the flexible circuit board 100 incorporates analog signal lines and digital signal lines. Therefore, by incorporating the flexible circuit board 100 into the housing of an electronic device such as a smartphone, it is possible to arrange an analog signal line that transmits an analog signal received by a wireless communication antenna and a digital signal line that transmits a digital signal received by a digital terminal such as a USB together at the same time. As a result, it is possible to save space inside the housing of an electronic device such as a smartphone.

また、フレキシブル回路基板100の曲げ領域130では、信号線領域120と比べて配線層および絶縁層の数が削減されているため、フレキシブル回路基板100に要する配線層および絶縁基材の材料を低減することができ、製造コストを低減することができる。 In addition, since the number of wiring layers and insulating layers is reduced in the bending region 130 of the flexible circuit board 100 compared to the signal line region 120, the amount of material required for the wiring layers and insulating substrate of the flexible circuit board 100 can be reduced, thereby reducing manufacturing costs.

また、フレキシブル回路基板100は、配線基材101、配線基材102および配線基材103を積層することで製造される。すなわち、フレキシブル回路基板100は、3つの配線基材を積層することで製造されるため、配線基材同士の位置ずれの発生が比較的抑制される。このため、フレキシブル回路基板100の製造工程における歩留まりを抑制することができる。加えて、上記の位置ずれに係るマージンを比較的小さくすることができ、フレキシブル回路基板100の配線層における配線構造を高密度化することができる。 Furthermore, the flexible circuit board 100 is manufactured by laminating the wiring substrate 101, the wiring substrate 102, and the wiring substrate 103. That is, since the flexible circuit board 100 is manufactured by laminating three wiring substrates, the occurrence of misalignment between the wiring substrates is relatively suppressed. Therefore, the yield in the manufacturing process of the flexible circuit board 100 can be suppressed. In addition, the margin related to the above-mentioned misalignment can be relatively small, and the wiring structure in the wiring layer of the flexible circuit board 100 can be made denser.

(第2の実施形態)
<フレキシブル回路基板100Aの構造>
次に、図8を参照して、第2の実施形態に係るフレキシブル回路基板100Aの構造について説明する。第1の実施形態に係るフレキシブル回路基板100は、曲げ領域130に減層構造を有していたが、第2の実施形態に係るフレキシブル回路基板100Aは、曲げ領域130に中空構造を有する。以下、第1の実施形態と異なる部分を中心に説明する。
Second Embodiment
<Structure of Flexible Circuit Board 100A>
Next, the structure of a flexible circuit board 100A according to the second embodiment will be described with reference to Fig. 8. The flexible circuit board 100 according to the first embodiment has a reduced-layer structure in the bending region 130, but the flexible circuit board 100A according to the second embodiment has a hollow structure in the bending region 130. The following description will focus on the differences from the first embodiment.

図8は、図2のB-B線における模式断面図である。図8では、図面の左側がコネクタ領域110に相当する領域を示し、図面の右側が信号線領域120に相当する領域を示す。曲げ領域130は、コネクタ領域110と信号線領域120との間に位置する。この曲げ領域130は中空構造を有する。すなわち、図7が示すように、第2の実施形態に係るフレキシブル回路基板100Aの曲げ領域130は配線層および絶縁層のいずれも設けられない空間(中空領域)HSを有する。 Figure 8 is a schematic cross-sectional view taken along line B-B in Figure 2. In Figure 8, the left side of the drawing shows the area corresponding to the connector region 110, and the right side of the drawing shows the area corresponding to the signal line region 120. The bending region 130 is located between the connector region 110 and the signal line region 120. This bending region 130 has a hollow structure. That is, as shown in Figure 7, the bending region 130 of the flexible circuit board 100A according to the second embodiment has a space (hollow region) HS in which neither a wiring layer nor an insulating layer is provided.

具体的には、曲げ領域130において、カバー材層71とカバー材層72との間に空間HSが設けられている。このため、曲げ領域130は、信号線領域120に比べて曲げる際の応力が緩和される。したがって、スマートフォン等の電子機器の筐体内にフレキシブル回路基板100Aを組み込む際にフレキシブル回路基板100Aを曲げた状態での組み込むことが容易となる。具体的には、筐体内へフレキシブル回路基板100Aを曲げた状態で組み込む場合、フレキシブル回路基板100Aは曲げ領域130で曲げられて筐体内に組み込まれる。この際、比較的応力が緩和された曲げ領域130は、比較的容易に曲げることができる。これにより、筐体内へのフレキシブル回路基板100Aの曲げ組み込みを容易に行うことができる。 Specifically, in the bending region 130, a space HS is provided between the cover material layer 71 and the cover material layer 72. Therefore, the bending stress is reduced in the bending region 130 compared to the signal line region 120 when bending. Therefore, when the flexible circuit board 100A is incorporated into the housing of an electronic device such as a smartphone, it is easy to incorporate the flexible circuit board 100A in a bent state. Specifically, when the flexible circuit board 100A is incorporated into the housing in a bent state, the flexible circuit board 100A is bent in the bending region 130 and incorporated into the housing. At this time, the bending region 130, in which the stress is relatively reduced, can be bent relatively easily. This makes it easy to bend and incorporate the flexible circuit board 100A into the housing.

第1の実施形態の場合と同様に、フレキシブル回路基板100Aにおいては、アナログ信号線は配線22iにより構成され、デジタル信号線は配線33iにより構成される。すなわち、フレキシブル回路基板100Aには、アナログ信号線およびデジタル信号線が組み込まれ、筐体内の省スペース化を図ることができる。 As in the first embodiment, in the flexible circuit board 100A, the analog signal lines are formed by wiring 22i, and the digital signal lines are formed by wiring 33i. In other words, the flexible circuit board 100A incorporates analog signal lines and digital signal lines, which can save space inside the housing.

また、フレキシブル回路基板100Aにおいては、絶縁層を介してアナログ信号線を覆うように形成されたグランド層を有する。具体的には、第1の実施形態と同様に、フレキシブル回路基板100Aにおいては、第1の絶縁層(接着剤層13と絶縁基材11)および第2の絶縁層(絶縁基材21)を介してアナログ信号線(配線22i)を覆うように形成されたグランド層12b、23b(配線12b、23b)を有する。すなわち、フレキシブル回路基板100Aは3層ストリップライン構造を有する。 Furthermore, the flexible circuit board 100A has a ground layer formed to cover the analog signal line via an insulating layer. Specifically, similar to the first embodiment, the flexible circuit board 100A has ground layers 12b, 23b (wirings 12b, 23b) formed to cover the analog signal line (wiring 22i) via a first insulating layer (adhesive layer 13 and insulating substrate 11) and a second insulating layer (insulating substrate 21). That is, the flexible circuit board 100A has a three-layer stripline structure.

フレキシブル回路基板100Aのコネクタ領域110には、アナログ信号線またはデジタル信号線と接続された層間接続路が設けられている。第1実施形態と同様に、この層間接続路は、図8に示すコネクタ領域110のホールH1~H4に設けられる。そして、ホールH2に設けられた層間接続路と、アナログ信号線(配線22i)とが接続される。また、ホールH4に設けられた層間接続路と、デジタル信号線(配線33i)とが接続される。 Interlayer connection paths connected to analog signal lines or digital signal lines are provided in the connector region 110 of the flexible circuit board 100A. As in the first embodiment, these interlayer connection paths are provided in holes H1 to H4 of the connector region 110 shown in FIG. 8. The interlayer connection path provided in hole H2 is connected to the analog signal line (wiring 22i). The interlayer connection path provided in hole H4 is connected to the digital signal line (wiring 33i).

なお、コネクタ領域110の層間接続路は、アナログ信号線またはデジタル信号線と接続されためっきスルーホールを有する。第1の実施形態と同様に、コネクタ領域110の層間接続路は、アナログ信号線(配線22i)またはデジタル信号線(配線33i)に接続されためっきスルーホール(ホールH2またはホールH4)を有する。 The interlayer connection path of the connector region 110 has a plated through hole connected to an analog signal line or a digital signal line. As in the first embodiment, the interlayer connection path of the connector region 110 has a plated through hole (hole H2 or hole H4) connected to an analog signal line (wiring 22i) or a digital signal line (wiring 33i).

また、コネクタ領域110の層間接続路は、フィルドビアにより構成されてもよい。より詳細には、第1の実施形態と同様に、ホールH1、ホールH3およびホールH5に導電ペーストが充填され、フィルドビアが形成される。したがって、上記ように、コネクタ領域110の層間接続路は、めっきスルーホールと、導電層(受けランド22aまたは32a)を介して当該めっきスルーホールと接続されたフィルドビアを有する。なお、コネクタ領域には、上記の層間接続路を介してアナログ信号線およびデジタル信号線に電気的に接続されたコネクタ部品(図示せず)が実装されていてもよい。 The interlayer connection path of the connector region 110 may be formed by a filled via. More specifically, as in the first embodiment, holes H1, H3, and H5 are filled with conductive paste to form filled vias. Therefore, as described above, the interlayer connection path of the connector region 110 has a plated through hole and a filled via connected to the plated through hole via a conductive layer (receiving land 22a or 32a). Note that the connector region may also be equipped with a connector component (not shown) electrically connected to the analog signal line and the digital signal line via the interlayer connection path.

以上が第2の実施形態に係るフレキシブル回路基板100Aの概念的な構成について説明した。第2の実施形態によれば、フレキシブル回路基板100Aの曲げ領域130は、配線層および絶縁基材のいずれもが設けられない中空構造を有する。このため、曲げ領域130の曲げる際の応力が緩和される。したがって、スマートフォン等の電子機器の筐体内へのフレキシブル回路基板100Aの曲げ組み込みを容易に行うことができる。 The above describes the conceptual configuration of the flexible circuit board 100A according to the second embodiment. According to the second embodiment, the bending region 130 of the flexible circuit board 100A has a hollow structure in which neither a wiring layer nor an insulating substrate is provided. This reduces the stress that occurs when bending the bending region 130. This makes it easy to bend and install the flexible circuit board 100A into the housing of an electronic device such as a smartphone.

なお、フレキシブル回路基板100Aには、アナログ信号線およびデジタル信号線の両方が収容されている。これにより、アナログ信号線用のケーブルとデジタル信号線用のケーブルを別個に電子機器の筐体内に配置する必要がなくなり、スマートフォン等の電子機器の筐体内の省スペース化を図ることができる。 The flexible circuit board 100A houses both analog and digital signal lines. This eliminates the need to place separate cables for the analog and digital signal lines inside the housing of the electronic device, making it possible to save space inside the housing of an electronic device such as a smartphone.

また、曲げ領域130では信号線領域120と比べて絶縁層の数が削減されることから、フレキシブル回路基板100Aの製造に要する配線層および絶縁基材の材料を低減することができ、製造コストを低減することができる。 In addition, since the number of insulating layers is reduced in the bending region 130 compared to the signal line region 120, the amount of wiring layer and insulating substrate material required to manufacture the flexible circuit board 100A can be reduced, thereby reducing manufacturing costs.

<フレキシブル回路基板100Aの製造方法>
次に、第2の実施形態に係るフレキシブル回路基板100Aの製造方法について、図9A~図10の工程断面図を参照して説明する。
<Method of Manufacturing Flexible Circuit Board 100A>
Next, a method for manufacturing the flexible circuit board 100A according to the second embodiment will be described with reference to cross-sectional process views of FIGS. 9A to 10. FIG.

第2の実施形態においても、配線基材101(第1配線基材)、配線基材102(第2配線基材)および配線基材103A(第3配線基材)を積層してフレキシブル回路基板100Aを製造する。なお、配線基材101および配線基材102の製造方法は第1実施形態と同様である。すなわち、第2の実施形態における配線基材101の製造方法は図4で示されており、配線基材102の製造方法は図5A~図5Cで示されているため説明は省略する。以下では、配線基材103Aの製造方法を説明する。 In the second embodiment, flexible circuit board 100A is also manufactured by laminating wiring substrate 101 (first wiring substrate), wiring substrate 102 (second wiring substrate), and wiring substrate 103A (third wiring substrate). The manufacturing methods of wiring substrate 101 and wiring substrate 102 are the same as those in the first embodiment. That is, the manufacturing method of wiring substrate 101 in the second embodiment is shown in FIG. 4, and the manufacturing method of wiring substrate 102 is shown in FIGS. 5A to 5C, so the description will be omitted. The manufacturing method of wiring substrate 103A will be described below.

図9A(1)に示すように、両面金属箔張積層板30を用意する。この両面金属箔張積層板30は、絶縁基材31と、この絶縁基材31の上面に設けられた金属箔32と、この絶縁基材31の下面に設けられた金属箔33とを有する。絶縁基材31は、液晶ポリマー(LCP)のほか、例えば、ポリイミド(PI)、変性ポリイミド(MPI)、ポリエチレンナフタレート(PEN)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、フッ素樹脂(PFA、PTEE等)などでよく、特に限定されない。 As shown in FIG. 9A (1), a double-sided metal foil clad laminate 30 is prepared. This double-sided metal foil clad laminate 30 has an insulating substrate 31, a metal foil 32 provided on the upper surface of this insulating substrate 31, and a metal foil 33 provided on the lower surface of this insulating substrate 31. The insulating substrate 31 may be, in addition to liquid crystal polymer (LCP), for example, polyimide (PI), modified polyimide (MPI), polyethylene naphthalate (PEN), polyether ether ketone (PEEK), fluororesin (PFA, PTEE, etc.), and is not particularly limited.

絶縁基材31の厚さは、例えば、50μmである。金属箔32および金属箔33は、銅のほか、例えば、銀、アルミニウムである。金属箔32および金属箔33の厚さは、例えば、それぞれ12μmである。金属箔32は、絶縁基材31の上面に形成されたシード層(図示せず)を介して絶縁基材31上に形成される。同様に、金属箔33は、絶縁基材31の下面に形成されたシード層(図示せず)を介して絶縁基材31下に形成される。 The thickness of the insulating substrate 31 is, for example, 50 μm. The metal foil 32 and the metal foil 33 are, in addition to copper, for example, silver or aluminum. The thickness of the metal foil 32 and the metal foil 33 is, for example, 12 μm each. The metal foil 32 is formed on the insulating substrate 31 via a seed layer (not shown) formed on the upper surface of the insulating substrate 31. Similarly, the metal foil 33 is formed below the insulating substrate 31 via a seed layer (not shown) formed on the lower surface of the insulating substrate 31.

絶縁基材31の厚さを、比較的薄い50μmとすることで、より詳細には、Z=√(L/C)で表される特性インピーダンスに整合した信号線(配線33i)の線幅を狭くすることができる。ここで、Lは単位長さ当たりのインダクタンスであり、Cは線間キャパシタンスである。これにより、信号線の線幅が狭くなることにより、フレキシブル回路基板100Aの幅を狭くすることができ、フレキシブル回路基板100Aをスマートフォン等の電子機器の筐体内に組み込む際に省スペース化を図ることができる。 By setting the thickness of the insulating substrate 31 to a relatively thin value of 50 μm, it is possible to narrow the line width of the signal line (wiring 33i) that matches the characteristic impedance expressed by Z 0 =√(L/C), where L is the inductance per unit length and C is the line capacitance. As a result, the line width of the signal line is narrowed, and the width of the flexible circuit board 100A can be narrowed, thereby saving space when the flexible circuit board 100A is incorporated into the housing of an electronic device such as a smartphone.

次に、図9A(2)に示すように、金属箔32をパターニングして、コンフォーマルマスクとして機能する受けランド32aを含む第4導電パターンを形成する。そして、図9A(3)に示すように、金属箔33をパターニングして、受けランド33aおよび配線33iを含む第5導電パターンを形成する。受けランド33aの径は、例えば、φ350μmである。なお、配線33iは、フレキシブル回路基板100においてデジタル信号線として機能する。すなわち、第5導電パターンはデジタル信号線を含む。 Next, as shown in FIG. 9A (2), the metal foil 32 is patterned to form a fourth conductive pattern including a receiving land 32a that functions as a conformal mask. Then, as shown in FIG. 9A (3), the metal foil 33 is patterned to form a fifth conductive pattern including a receiving land 33a and a wiring 33i. The diameter of the receiving land 33a is, for example, φ350 μm. The wiring 33i functions as a digital signal line in the flexible circuit board 100. That is, the fifth conductive pattern includes a digital signal line.

次に、図9A(4)に示すように、コンフォーマルマスクである受けランド32aにレーザ光を照射することにより、絶縁基材31を除去して、底面に受けランド33aが露出したホールH4を形成する。ホールH4の径は、例えば、φ150~200μmである。なお、ホールH4の形成は第1の実施形態のホールH1の形成と同様である。 Next, as shown in FIG. 9A (4), the insulating substrate 31 is removed by irradiating the receiving land 32a, which is a conformal mask, with laser light to form a hole H4 with the receiving land 33a exposed at the bottom. The diameter of the hole H4 is, for example, φ150 to 200 μm. The formation of the hole H4 is similar to the formation of the hole H1 in the first embodiment.

絶縁基材31を、赤外線レーザで貫通した後、デスミア処理を行う。デスミア処理では、受けランド33aと絶縁基材31との境界における樹脂残渣(残膜)を除去する。また、受けランド33aの裏面処理膜(NiまたはCrなど)を除去する。 After penetrating the insulating substrate 31 with an infrared laser, a desmear process is performed. In the desmear process, the resin residue (residual film) at the boundary between the receiving land 33a and the insulating substrate 31 is removed. In addition, the back surface treatment film (Ni, Cr, etc.) of the receiving land 33a is removed.

次に、図9A(5)に示すように、ホールH4の側壁および底面に、第2金属めっき62を堆積させる。第2金属めっき62は、例えば、銅めっきである。また、第2金属めっき62は、部分めっきまたはパネルめっきにより堆積される。第2金属めっき62のめっき厚は、例えば、16μmである。 Next, as shown in FIG. 9A (5), a second metal plating 62 is deposited on the sidewalls and bottom surface of the hole H4. The second metal plating 62 is, for example, copper plating. The second metal plating 62 is deposited by partial plating or panel plating. The plating thickness of the second metal plating 62 is, for example, 16 μm.

次に、図9B(1)に示すように、金属箔32をパターニングして形成された第4導電パターン(受けランド32a、配線32b)と、ホールH4に堆積された第2金属めっき62を埋設するように、金属箔32の上に接着剤層34を形成する。なお、接着剤層34の厚さは、例えば、10μmである。次に、図8B(2)に示すように、接着剤層34の上にカバー材層72を形成する。なお、カバー材層72は、例えば、絶縁樹脂フィルムである。絶縁樹脂フィルムとして、例えば、液晶ポリマー(LCP)またはポリイミドが用いられる。カバー材層72の厚さは、例えば、12μmである。次に、図8B(3)に示すように、カバー材層72の上に保護膜層35を形成する。なお、保護膜層35の厚さは、例えば、10μmである。 Next, as shown in FIG. 9B (1), an adhesive layer 34 is formed on the metal foil 32 so as to embed the fourth conductive pattern (receiving land 32a, wiring 32b) formed by patterning the metal foil 32 and the second metal plating 62 deposited in the hole H4. The thickness of the adhesive layer 34 is, for example, 10 μm. Next, as shown in FIG. 8B (2), a cover material layer 72 is formed on the adhesive layer 34. The cover material layer 72 is, for example, an insulating resin film. For example, a liquid crystal polymer (LCP) or polyimide is used as the insulating resin film. The thickness of the cover material layer 72 is, for example, 12 μm. Next, as shown in FIG. 8B (3), a protective film layer 35 is formed on the cover material layer 72. The thickness of the protective film layer 35 is, for example, 10 μm.

次に、図9C(1)に示すように、保護膜層35にレーザ光を照射することにより、保護膜層35、カバー材層72および接着剤層34を除去して、底面に受けランド32aが露出した有底のホールH5を穿孔する。ホールH5の径は、例えば、φ150~200μmである。以下、ホールH5の形成は第1の実施形態におけるホールH1の形成と同様である。すなわち、炭酸ガスレーザである赤外線レーザを用いて、レーザパルスを保護膜層35の所定の位置に照射して穿孔する。赤外線レーザのビーム径は、ホールH5の径と同様の150μmに設定する。また、赤外線レーザのパルス幅は10μ秒に設定し、赤外線レーザの1パルス当たりのエネルギを5mJに設定する。 Next, as shown in FIG. 9C (1), the protective film layer 35 is irradiated with laser light to remove the protective film layer 35, the cover material layer 72, and the adhesive layer 34, and a bottomed hole H5 with the receiving land 32a exposed at the bottom is drilled. The diameter of the hole H5 is, for example, φ150 to 200 μm. Hereinafter, the formation of the hole H5 is the same as the formation of the hole H1 in the first embodiment. That is, an infrared laser, which is a carbon dioxide laser, is used to irradiate a laser pulse to a predetermined position of the protective film layer 35 to drill a hole. The beam diameter of the infrared laser is set to 150 μm, the same as the diameter of the hole H5. The pulse width of the infrared laser is set to 10 μs, and the energy per pulse of the infrared laser is set to 5 mJ.

次に、図9C(2)に示すように、スクリーン印刷等の印刷手法により、ホールH5の内部に導電ペースト53を充填する。導電ペースト53は、ペースト状の熱硬化性樹脂である樹脂バインダーに金属粒子を分散させたものである。 Next, as shown in FIG. 9C (2), the inside of the hole H5 is filled with conductive paste 53 by a printing method such as screen printing. The conductive paste 53 is made by dispersing metal particles in a resin binder, which is a paste-like thermosetting resin.

次に、図9C(3)に示すように、カバー材層72から保護膜層35を剥離する。これにより、ホールH5に充填された導電ペースト53の一部が突出し、突出部53aが形成される。なお、この突出部53aの高さは、保護膜層35の厚さと同程度である。
以上の工程により、配線基材103Aが得られる。
9C(3), the protective film layer 35 is peeled off from the cover material layer 72. As a result, a part of the conductive paste 53 filled in the hole H5 protrudes, forming a protruding portion 53a. The height of the protruding portion 53a is approximately the same as the thickness of the protective film layer 35.
Through the above steps, wiring substrate 103A is obtained.

上述の工程において、各配線基材における金属箔の粗化処理を行ってもよい。粗化処理により、金属箔と絶縁基材との接着する強度を向上させることができる。
以下では、図10を参照して、上述の工程で得られた配線基材101、配線基材102および配線基材103Aを積層する工程を説明する。
In the above-mentioned steps, the metal foil of each wiring substrate may be subjected to a roughening treatment, which can improve the adhesive strength between the metal foil and the insulating substrate.
Hereinafter, with reference to FIG. 10, a process of laminating wiring substrate 101, wiring substrate 102, and wiring substrate 103A obtained in the above-mentioned process will be described.

まず、配線基材101を配線基材102の上に積層する。具体的には、導電ペースト51の突出部51aが、受けランド22aに接触するように積層する。 First, the wiring substrate 101 is laminated on the wiring substrate 102. Specifically, the conductive paste 51 is laminated so that the protruding portion 51a of the conductive paste 51 contacts the receiving land 22a.

次に、上記の工程で得られた配線基材101と配線基材102とからなる積層体を、配線基材103Aの上に積層する。具体的には、導電ペースト52の突出部52aが導電ペースト53の突出部53aに接触するように積層する。このようにして、配線基材101、配線基材102および配線基材103Aが電気的に層間接続なされる。なお、配線基材101、102、103Aの積層順序は上記に限られない。 Next, the laminate consisting of wiring substrate 101 and wiring substrate 102 obtained in the above process is laminated on wiring substrate 103A. Specifically, the laminate is laminated so that protruding portion 52a of conductive paste 52 contacts protruding portion 53a of conductive paste 53. In this way, wiring substrate 101, wiring substrate 102, and wiring substrate 103A are electrically connected to each other. Note that the stacking order of wiring substrates 101, 102, and 103A is not limited to the above.

配線基材101、配線基材102および配線基材103Aからなる積層体を形成する上記の積層工程においては、第1の実施形態と同様に、真空プレス装置または真空ラミネータ装置を用いる。この真空プレス装置または真空ラミネータ装置により、積層体を加熱および加圧する。例えば、積層体を約200℃で加熱し、数MPa(例えば、2.0MPa)の圧力で加圧する。積層体を加熱する温度は、例えば、絶縁基材11、21および31の液晶ポリマー(LCP)の軟化する温度よりも約50℃以上低い温度である。 In the lamination process for forming a laminate consisting of wiring substrate 101, wiring substrate 102, and wiring substrate 103A, a vacuum press or vacuum laminator is used as in the first embodiment. The laminate is heated and pressurized by this vacuum press or vacuum laminator. For example, the laminate is heated to about 200°C and pressed at a pressure of several MPa (for example, 2.0 MPa). The temperature at which the laminate is heated is, for example, about 50°C or more lower than the softening temperature of the liquid crystal polymer (LCP) of insulating substrates 11, 21, and 31.

積層体の積層工程において、真空プレス装置を用いる場合は上述の条件で約30~60分間、積層体を加熱および加圧する。このため、真空プレス装置による積層体の加熱および加圧において、接着剤層13、24、25および34の熱硬化が完了し、導電ペースト51および52の熱硬化についても完了する。 When using a vacuum press in the lamination process, the laminate is heated and pressurized for approximately 30 to 60 minutes under the above-mentioned conditions. Therefore, when the laminate is heated and pressurized by the vacuum press, the thermal curing of the adhesive layers 13, 24, 25, and 34 is completed, and the thermal curing of the conductive pastes 51 and 52 is also completed.

他方、積層工程において、真空ラミネータ装置を用いる場合は、上述の条件で約数分間、積層体を加熱および加圧する。このため、真空ラミネータ装置によるフレキシブル回路基板100Aの加熱および加圧の後に、オーブン装置に積層体を移動し、ポストキュア処理を行う。ポストキュア処理では、例えば、約200℃にて約60分間加熱する。このポストキュア処理により、接着剤層13、24、25および34の熱硬化が完了し、導電ペースト51および52の熱硬化についても完了する。 On the other hand, when a vacuum laminator is used in the lamination process, the laminate is heated and pressurized for about several minutes under the above-mentioned conditions. Therefore, after the flexible circuit board 100A is heated and pressurized by the vacuum laminator, the laminate is moved to an oven device and a post-cure process is performed. In the post-cure process, for example, heating is performed at about 200°C for about 60 minutes. This post-cure process completes the thermal curing of the adhesive layers 13, 24, 25, and 34, and also the thermal curing of the conductive pastes 51 and 52.

次に、必要に応じて、外側に露出した第1および第5導電パターンの表面処理、ソルダーレジストを行い、外形加工を行う。
以上の工程により、図8に示す断面構造を有するフレキシブル回路基板100Aが得られる。
Next, as necessary, surface treatment and solder resist are applied to the first and fifth conductive patterns exposed to the outside, and then the exterior shape is processed.
Through the above steps, a flexible circuit board 100A having the cross-sectional structure shown in FIG. 8 is obtained.

以上のように、第2の実施形態によるフレキシブル回路基板100Aの製造方法によれば、曲げ領域130は、内部に配線層および絶縁層のいずれもが設けられない中空構造を有するフレキシブル回路基板100Aが得られる。このため、曲げ領域130は、信号線領域120に比べて曲げる際の応力が緩和され、スマートフォン等の電子機器の筐体内へのフレキシブル回路基板100Aの曲げ組み込みを容易に行うことができる。 As described above, according to the manufacturing method of the flexible circuit board 100A of the second embodiment, the bending region 130 has a hollow structure in which neither a wiring layer nor an insulating layer is provided inside the bending region 130. Therefore, the bending region 130 is subjected to less stress when bent than the signal line region 120, and the flexible circuit board 100A can be easily bent and assembled into the housing of an electronic device such as a smartphone.

さらに、第1の実施形態と同様に、フレキシブル回路基板100Aにおいては、アナログ信号線は配線22iとして形成され、デジタル信号線は配線33iとして形成される。図8に示すように、フレキシブル回路基板100Aには、アナログ信号線およびデジタル信号線が組み込まれている。したがって、スマートフォン等の筐体内にフレキシブル回路基板100Aを組み込むことで、無線通信アンテナが受信したアナログ信号を伝送するアナログ信号線と、USB等のデジタル端子が受信したデジタル信号を伝送するデジタル信号線とを一度にまとめて配置することができる。その結果、スマートフォン等の電子機器の筐体内の省スペース化を図ることができる。 Furthermore, as in the first embodiment, in the flexible circuit board 100A, the analog signal line is formed as wiring 22i, and the digital signal line is formed as wiring 33i. As shown in FIG. 8, the flexible circuit board 100A incorporates analog signal lines and digital signal lines. Therefore, by incorporating the flexible circuit board 100A into the housing of a smartphone or the like, it is possible to arrange the analog signal line that transmits the analog signal received by the wireless communication antenna and the digital signal line that transmits the digital signal received by a digital terminal such as a USB together at the same time. As a result, it is possible to save space inside the housing of an electronic device such as a smartphone.

また、フレキシブル回路基板100Aの曲げ領域130では、信号線領域120と比べて配線層および絶縁層の数が削減されているため、フレキシブル回路基板100Aに要する配線層および絶縁基材の材料を低減することができ、製造コストを低減することができる。 In addition, the number of wiring layers and insulating layers is reduced in the bending region 130 of the flexible circuit board 100A compared to the signal line region 120, so the amount of material required for the wiring layers and insulating substrate of the flexible circuit board 100A can be reduced, thereby reducing manufacturing costs.

また、フレキシブル回路基板100Aは、配線基材101、配線基材102および配線基材103Aを積層することで製造される。すなわち、フレキシブル回路基板100Aは、3つの配線基材を積層することで製造されるため、配線基材同士の位置ずれの発生が比較的抑制される。このため、フレキシブル回路基板100Aの製造工程における歩留まりを抑制することができる。加えて、上記の位置ずれに係るマージンを比較的小さくすることができ、フレキシブル回路基板100Aの配線層における配線構造を高密度化することができる。 Furthermore, flexible circuit board 100A is manufactured by laminating wiring substrate 101, wiring substrate 102, and wiring substrate 103A. That is, flexible circuit board 100A is manufactured by laminating three wiring substrates, so the occurrence of misalignment between the wiring substrates is relatively suppressed. This makes it possible to suppress the yield in the manufacturing process of flexible circuit board 100A. In addition, the margin related to the above-mentioned misalignment can be relatively small, and the wiring structure in the wiring layer of flexible circuit board 100A can be made denser.

(第3の実施形態)
次に、図11Aを参照して、第3の実施形態に係るフレキシブル回路基板100Bについて説明する。第2の実施形態に係るフレキシブル回路基板100Aと同様に、フレキシブル回路基板100Bは曲げ領域130に中空構造を有する。加えて、フレキシブル回路基板100Bは、その曲げ領域130の一側(図11Aでは下面側)に切り込みが設けられている。以下、第2の実施形態と異なる部分を中心に説明する。
Third Embodiment
Next, a flexible circuit board 100B according to a third embodiment will be described with reference to Fig. 11A. Similar to the flexible circuit board 100A according to the second embodiment, the flexible circuit board 100B has a hollow structure in the bending region 130. In addition, the flexible circuit board 100B has a notch on one side of the bending region 130 (the lower side in Fig. 11A). The following mainly describes the differences from the second embodiment.

図11Aは、フレキシブル回路基板100Bの曲げ領域130を示す模式斜視図である。この図11Aは、図2の領域Cに関する模式的な斜視図であり、コネクタ領域110の一部と、信号線領域120の一部と、曲げ領域130とを示している。 Figure 11A is a schematic perspective view showing the bending region 130 of the flexible circuit board 100B. This Figure 11A is a schematic perspective view of region C in Figure 2, and shows a part of the connector region 110, a part of the signal line region 120, and the bending region 130.

より詳細には、フレキシブル回路基板100Bの曲げ領域130は、配線層および絶縁層のいずれもが設けられない空間HSを有している。すなわち、曲げ領域130は中空構造を有する。言い換えると、曲げ領域130における上面130aと、曲げ領域130における下面130bとの間に中空領域である空間HSが設けられている。 More specifically, the bending region 130 of the flexible circuit board 100B has a space HS in which neither a wiring layer nor an insulating layer is provided. That is, the bending region 130 has a hollow structure. In other words, a space HS, which is a hollow region, is provided between the upper surface 130a of the bending region 130 and the lower surface 130b of the bending region 130.

図11Aが示すように、曲げ領域130の下面130bには、切り込みであるスリットST1およびスリットST2が設けられている。具体的には、スリットST1およびスリットST2は、フレキシブル回路基板100Bの厚さ方向について空間HSの一側の領域に設けられている。なお、スリットST1およびスリットST2は、曲げ領域130の両側に設けてもよい。すなわち、スリットST1およびスリットST2は、曲げ領域130の両側である上面130aおよび下面130bに設けてもよい。スリットST1,ST2は信号線領域120の長手方向に直交する幅方向に沿って設けられている。なお、これに限らず、スリットST1、ST2は、曲げ領域130の幅方向と交差する方向に沿って設けられてもよい。一般的に言えば、スリットST1およびスリットST2は、フレキシブル回路基板100Bの信号線領域120の長手方向に直交する幅方向の成分を有するように設けられている。 11A, the lower surface 130b of the bending region 130 is provided with slits ST1 and ST2, which are cuts. Specifically, the slits ST1 and ST2 are provided in a region on one side of the space HS in the thickness direction of the flexible circuit board 100B. The slits ST1 and ST2 may be provided on both sides of the bending region 130. That is, the slits ST1 and ST2 may be provided on the upper surface 130a and the lower surface 130b, which are both sides of the bending region 130. The slits ST1 and ST2 are provided along a width direction perpendicular to the longitudinal direction of the signal line region 120. However, this is not limited to this, and the slits ST1 and ST2 may be provided along a direction intersecting the width direction of the bending region 130. Generally speaking, the slits ST1 and ST2 are provided so as to have a width direction component perpendicular to the longitudinal direction of the signal line region 120 of the flexible circuit board 100B.

フレキシブル回路基板100Bのその他の構造は、第2の実施形態に係るフレキシブル回路基板100Aと同様であるから説明を省略する。また、フレキシブル回路基板100Bの製造方法についても、第2の実施形態に係るフレキシブル回路基板100Aと同様であるから説明を省略する。配線22i,33iは、スリットST1、ST2を避けるように惰行して形成される。 Other structures of the flexible circuit board 100B are similar to those of the flexible circuit board 100A according to the second embodiment, and therefore will not be described. The manufacturing method of the flexible circuit board 100B is also similar to that of the flexible circuit board 100A according to the second embodiment, and therefore will not be described. The wiring 22i, 33i is formed by coasting so as to avoid the slits ST1, ST2.

以上のように、フレキシブル回路基板100Bの曲げ領域130は、配線層および絶縁層のいずれもが設けられない空間HSを有しており、さらに、曲げ領域130の下面130bにスリットST1およびスリットST2を有している。このため、曲げ領域130は、信号線領域120に比べて曲げる際の応力がより緩和され、スマートフォン等の筐体内へのフレキシブル回路基板100Bの曲げ組み込みがより容易に行うことができる。 As described above, the bending region 130 of the flexible circuit board 100B has a space HS where neither a wiring layer nor an insulating layer is provided, and further has slits ST1 and ST2 on the lower surface 130b of the bending region 130. Therefore, the bending region 130 is more resistant to bending stress than the signal line region 120, and the flexible circuit board 100B can be more easily bent and installed inside the housing of a smartphone or the like.

なお、フレキシブル回路基板100Bにおいては、第2の実施形態と同様に、アナログ信号線およびデジタル信号線が組み込まれている。これにより、フレキシブル回路基板100Bを配置することで、アナログ信号線およびデジタル信号線とを一度にまとめて配置することができ、スマートフォン等の筐体内の省スペース化を図ることができる。 As in the second embodiment, analog signal lines and digital signal lines are incorporated in the flexible circuit board 100B. This allows analog signal lines and digital signal lines to be arranged together at once by arranging the flexible circuit board 100B, thereby saving space within the housing of a smartphone or the like.

また、フレキシブル回路基板100Bの曲げ領域130は、信号線領域120と比べて配線層および絶縁層の数が削減されているため、フレキシブル回路基板100Bに要する配線層および絶縁基材の材料を低減することができ、製造コストを低減することができる。 In addition, the number of wiring layers and insulating layers is reduced in the bending region 130 of the flexible circuit board 100B compared to the signal line region 120, so the amount of material required for the wiring layers and insulating substrate of the flexible circuit board 100B can be reduced, thereby reducing manufacturing costs.

また、フレキシブル回路基板100Bは、配線基材101(第1配線基材)、配線基材102(第2配線基材)および配線基材103A(第3配線基材)を積層することで製造される。すなわち、フレキシブル回路基板100Bは、3つの配線基材を積層することで製造されるため、配線基材同士の位置ずれの発生が比較的抑制される。このため、フレキシブル回路基板100Bの製造工程における歩留まりを抑制することができる。加えて、上記の位置ずれに係るマージンを比較的小さくすることができ、フレキシブル回路基板100Bの配線層における配線構造を高密度化することができる。 Furthermore, flexible circuit board 100B is manufactured by laminating wiring substrate 101 (first wiring substrate), wiring substrate 102 (second wiring substrate), and wiring substrate 103A (third wiring substrate). That is, flexible circuit board 100B is manufactured by laminating three wiring substrates, so that the occurrence of misalignment between the wiring substrates is relatively suppressed. Therefore, the yield in the manufacturing process of flexible circuit board 100B can be suppressed. In addition, the margin related to the above-mentioned misalignment can be relatively small, and the wiring structure in the wiring layer of flexible circuit board 100B can be made dense.

(第4の実施形態)
次に、図11Bおよび図11Cを参照して、第4の実施形態に係るフレキシブル回路基板100Cについて説明する。第2の実施形態に係るフレキシブル回路基板100Aと同様に、フレキシブル回路基板100Cは曲げ領域130に中空構造を有する。加えて、フレキシブル回路基板100Cは、その曲げ領域130の一側(図11B,図11Cの下面側)が、ミアンダ状またはクランク状に設けられている。以下、第2の実施形態と異なる部分を中心に説明する。
(Fourth embodiment)
Next, a flexible circuit board 100C according to a fourth embodiment will be described with reference to Figures 11B and 11C. Similar to the flexible circuit board 100A according to the second embodiment, the flexible circuit board 100C has a hollow structure in the bending region 130. In addition, one side of the bending region 130 of the flexible circuit board 100C (the lower surface side in Figures 11B and 11C) is provided in a meandering or crank shape. The following description will focus on the differences from the second embodiment.

図11Bおよび図11Cは、フレキシブル回路基板100Cの曲げ領域130を示す模式斜視図である。この図11Bおよび図11Cは、図2の領域Cに関する模式的な斜視図であり、コネクタ領域110の一部と、信号線領域120の一部と、曲げ領域130とを示している。 11B and 11C are schematic perspective views showing the bending region 130 of the flexible circuit board 100C. These Figs. 11B and 11C are schematic perspective views of region C in Fig. 2, showing a portion of the connector region 110, a portion of the signal line region 120, and the bending region 130.

より詳細には、フレキシブル回路基板100Cの曲げ領域130は、配線層および絶縁層のいずれもが設けられない空間HSを有しており、すなわち、曲げ領域130は中空構造を有する。言い換えると、曲げ領域130における上面130aと、曲げ領域130における下面130bとの間に空間HSを有する。 More specifically, the bending region 130 of the flexible circuit board 100C has a space HS in which neither a wiring layer nor an insulating layer is provided, i.e., the bending region 130 has a hollow structure. In other words, there is a space HS between the upper surface 130a in the bending region 130 and the lower surface 130b in the bending region 130.

まず、図11Bが示すように、曲げ領域130の下面130bは、蛇行するようなミアンダ形状を有する。具体的には、曲げ領域130の下面130bは、フレキシブル回路基板100Cを平面視してミアンダ状に設けられている。言い換えると、このミアンダ状の下面130bは、フレキシブル回路基板100Cの厚さ方向について空間HSの一側の領域に設けられている。なお、曲げ領域130の両側である上面130aおよび下面130bがミアンダ状に設けてもよい。 First, as shown in FIG. 11B, the lower surface 130b of the bending region 130 has a meandering shape. Specifically, the lower surface 130b of the bending region 130 is provided in a meandering shape when the flexible circuit board 100C is viewed in a plan view. In other words, this meandering lower surface 130b is provided in an area on one side of the space HS in the thickness direction of the flexible circuit board 100C. Note that the upper surface 130a and the lower surface 130b, which are both sides of the bending region 130, may also be provided in a meandering shape.

一方で、図11Cが示すように、曲げ領域130の下面130bは、クランク形状を有してもよい。具体的には、曲げ領域130の下面130bは、フレキシブル回路基板100Cを平面視してクランク状に設けられている。言い換えると、このクランク状の下面130bは、フレキシブル回路基板100Cの厚さ方向について空間HSの一側の領域に設けられている。なお、曲げ領域130の両側である上面130aおよび下面130bがクランク状に設けてもよい。 On the other hand, as shown in FIG. 11C, the lower surface 130b of the bending region 130 may have a crank shape. Specifically, the lower surface 130b of the bending region 130 is provided in a crank shape when the flexible circuit board 100C is viewed in a plan view. In other words, this crank-shaped lower surface 130b is provided in an area on one side of the space HS in the thickness direction of the flexible circuit board 100C. Note that the upper surface 130a and the lower surface 130b, which are both sides of the bending region 130, may be provided in a crank shape.

フレキシブル回路基板100Cのその他の構造は、第2の実施形態に係るフレキシブル回路基板100Aと同様であるから説明を省略する。また、フレキシブル回路基板100Cの製造方法についても、第2の実施形態に係るフレキシブル回路基板100Aと同様であるから説明を省略する。配線22i,33iは、ミアンダ形状またはクランク形状に沿って形成される。 Other structures of the flexible circuit board 100C are similar to those of the flexible circuit board 100A according to the second embodiment, and therefore a description thereof will be omitted. In addition, the manufacturing method of the flexible circuit board 100C is also similar to that of the flexible circuit board 100A according to the second embodiment, and therefore a description thereof will be omitted. The wiring 22i, 33i is formed along a meander shape or a crank shape.

以上のように、フレキシブル回路基板100Cの曲げ領域130は、配線層および絶縁層のいずれもが設けられない空間HSを有しており、さらに、曲げ領域130の下面130bは、ミアンダ状またはクランク状に設けられている。このため、曲げ領域130は、信号線領域120に比べて曲げる際の応力がより緩和され、スマートフォン等の筐体内へのフレキシブル回路基板100Cの曲げ組み込みがより容易に行うことができる。 As described above, the bending region 130 of the flexible circuit board 100C has a space HS where neither a wiring layer nor an insulating layer is provided, and further, the lower surface 130b of the bending region 130 is provided in a meandering or crank shape. Therefore, the bending region 130 is more resistant to bending stress than the signal line region 120, and the flexible circuit board 100C can be more easily bent and installed inside the housing of a smartphone or the like.

なお、フレキシブル回路基板100Cにおいては、第2の実施形態と同様に、アナログ信号線およびデジタル信号線が組み込まれている。これにより、フレキシブル回路基板100Cを配置することで、アナログ信号線およびデジタル信号線とを一度にまとめて配置することができ、スマートフォン等の筐体内の省スペース化を図ることができる。 As in the second embodiment, analog signal lines and digital signal lines are incorporated in the flexible circuit board 100C. This allows analog signal lines and digital signal lines to be arranged together at once by arranging the flexible circuit board 100C, thereby saving space within the housing of a smartphone or the like.

また、フレキシブル回路基板100Cの曲げ領域130は、信号線領域120と比べて配線層および絶縁層の数が削減されているため、フレキシブル回路基板100Cに要する配線層および絶縁基材の材料を低減することができ、製造コストを低減することができる。 In addition, the number of wiring layers and insulating layers is reduced in the bending region 130 of the flexible circuit board 100C compared to the signal line region 120, so the amount of material required for the wiring layers and insulating substrate of the flexible circuit board 100C can be reduced, thereby reducing manufacturing costs.

また、フレキシブル回路基板100Cは、配線基材101(第1配線基材)、配線基材102(第2配線基材)および配線基材103A(第3配線基材)を積層することで製造される。すなわち、フレキシブル回路基板100Cは、3つの配線基材を積層することで製造されるため、配線基材同士の位置ずれの発生が比較的抑制される。このため、フレキシブル回路基板100Cの製造工程における歩留まりを抑制することができる。加えて、上記の位置ずれに係るマージンを比較的小さくすることができ、フレキシブル回路基板100Cの配線層における配線構造を高密度化することができる。 Furthermore, the flexible circuit board 100C is manufactured by laminating the wiring substrate 101 (first wiring substrate), the wiring substrate 102 (second wiring substrate), and the wiring substrate 103A (third wiring substrate). That is, since the flexible circuit board 100C is manufactured by laminating three wiring substrates, the occurrence of misalignment between the wiring substrates is relatively suppressed. Therefore, the yield in the manufacturing process of the flexible circuit board 100C can be suppressed. In addition, the margin related to the above-mentioned misalignment can be relatively small, and the wiring structure in the wiring layer of the flexible circuit board 100C can be made dense.

(変形例)
次に、図12を参照して、変形例に係るフレキシブル回路基板100Dの構造について説明する。第1の実施形態に係るフレキシブル回路基板100は、曲げ領域130に減層構造を有していたが、変形例に係るフレキシブル回路基板100Dは、コネクタ領域110Aも減層構造を有する。以下、第1の実施形態と異なる部分を中心に説明する。
(Modification)
Next, the structure of a flexible circuit board 100D according to a modified example will be described with reference to Fig. 12. The flexible circuit board 100 according to the first embodiment has a reduced-layer structure in the bending region 130, but the flexible circuit board 100D according to the modified example also has a reduced-layer structure in the connector region 110A. The following description will focus on the differences from the first embodiment.

図12は、変形例に係るフレキシブル回路基板100Dの模式平面図である。図12に示すように、変形例に係るフレキシブル回路基板100Dは、コネクタ領域110および110Aと、信号線領域120と、曲げ領域130とを備える。なお、図12においては、コネクタ領域110Aにコネクタ部品111が実装されている状態が示されている。 Figure 12 is a schematic plan view of a modified flexible circuit board 100D. As shown in Figure 12, the modified flexible circuit board 100D includes connector regions 110 and 110A, a signal line region 120, and a bend region 130. Note that Figure 12 shows a state in which a connector part 111 is mounted in the connector region 110A.

変形例に係るフレキシブル回路基板100Dにおいても、曲げ領域130は減層構造を有する。すなわち、フレキシブル回路基板100Dの曲げ領域130は、信号線領域120と比べて配線層および/または絶縁層の数が少ない減層構造を有する。 Even in the flexible circuit board 100D according to the modified example, the bending region 130 has a reduced-layer structure. That is, the bending region 130 of the flexible circuit board 100D has a reduced-layer structure in which the number of wiring layers and/or insulating layers is smaller than that of the signal line region 120.

そして変形例においては、コネクタ領域110Aも減層構造を有する。すなわち、コネクタ領域110Aは、信号線領域120と比べて配線層および/または絶縁層の数が少ない減層構造を有する。なお、コネクタ領域110Aの断面構造は、曲げ領域130と同様であってもよい。すなわち、コネクタ領域110Aの断面構造は、図3に示す曲げ領域130の断面構造と同様であってもよい。また、図12に示すフレキシブル回路基板100Dにおいては、一方のコネクタ領域が減層構造を有するコネクタ領域110Aであるように図示されている。変形例に係るフレキシブル回路基板100Dは、両方のコネクタ領域が減層構造を有するコネクタ領域110Aであってもよい。 In the modified example, the connector region 110A also has a reduced-layer structure. That is, the connector region 110A has a reduced-layer structure with fewer wiring layers and/or insulating layers than the signal line region 120. The cross-sectional structure of the connector region 110A may be the same as that of the bending region 130. That is, the cross-sectional structure of the connector region 110A may be the same as that of the bending region 130 shown in FIG. 3. In the flexible circuit board 100D shown in FIG. 12, one of the connector regions is shown as the connector region 110A having a reduced-layer structure. In the flexible circuit board 100D according to the modified example, both connector regions may have the connector region 110A having a reduced-layer structure.

フレキシブル回路基板100Dのその他の構造は、第1の実施形態に係るフレキシブル回路基板100と同様である。また、フレキシブル回路基板100Dの製造方法についても、第1の実施形態に係るフレキシブル回路基板100と同様である。すなわち、フレキシブル回路基板100Dの製造方法において、曲げ領域130の減層構造の形成に係る工程を、コネクタ領域110Aの減層構造の形成に係る工程に適用させればよい。 The other structures of the flexible circuit board 100D are similar to those of the flexible circuit board 100 according to the first embodiment. The manufacturing method of the flexible circuit board 100D is also similar to that of the flexible circuit board 100 according to the first embodiment. That is, in the manufacturing method of the flexible circuit board 100D, the process for forming the reduced layer structure of the bending region 130 can be applied to the process for forming the reduced layer structure of the connector region 110A.

以上のように、変形例に係るフレキシブル回路基板100Dによれば、曲げ領域130に加えてコネクタ領域110Aが、信号線領域120と比べて配線層および/または絶縁層の数が少ない減層構造を有する。このため、フレキシブル回路基板100Dに要する配線層および絶縁基材の材料をより削減することができ、製造コストをより削減することができる。 As described above, according to the modified flexible circuit board 100D, the connector region 110A, in addition to the bending region 130, has a reduced-layer structure with fewer wiring layers and/or insulating layers than the signal line region 120. This allows for a further reduction in the amount of wiring layers and insulating substrate material required for the flexible circuit board 100D, thereby further reducing manufacturing costs.

なお、コネクタ領域110Aおよび曲げ領域130は、信号線領域120に比べて曲げる際の応力が緩和される。このため、第1の実施形態に係るフレキシブル回路基板100と同様に、スマートフォン等の筐体内へのフレキシブル回路基板100Dの曲げ組み込みを容易に行うことができる。 The connector region 110A and the bending region 130 are subjected to less stress when bent than the signal line region 120. Therefore, similar to the flexible circuit board 100 according to the first embodiment, the flexible circuit board 100D can be easily bent and assembled into the housing of a smartphone or the like.

また、フレキシブル回路基板100Dには、アナログ信号線およびデジタル信号線が組み込まれている。これにより、フレキシブル回路基板100Dを配置することで、アナログ信号線およびデジタル信号線を一度にまとめて配置することができ、スマートフォン等の筐体内の省スペース化を図ることができる。 Furthermore, analog signal lines and digital signal lines are incorporated into the flexible circuit board 100D. As a result, by arranging the flexible circuit board 100D, the analog signal lines and digital signal lines can be arranged together at once, thereby saving space within the housing of a smartphone or the like.

また、フレキシブル回路基板100Dは、配線基材101(第1配線基材)、配線基材102(第2配線基材)および配線基材103(第3配線基材)を積層することで製造される。すなわち、フレキシブル回路基板100Dは、3つの配線基材を積層することで製造されるため、配線基材同士の位置ずれの発生が比較的抑制される。このため、フレキシブル回路基板100Dの製造工程における歩留まりを抑制することができる。加えて、上記の位置ずれに係るマージンを比較的小さくすることができ、フレキシブル回路基板100Dの配線層における配線構造を高密度化することができる。 Furthermore, the flexible circuit board 100D is manufactured by laminating the wiring substrate 101 (first wiring substrate), the wiring substrate 102 (second wiring substrate), and the wiring substrate 103 (third wiring substrate). That is, since the flexible circuit board 100D is manufactured by laminating three wiring substrates, the occurrence of misalignment between the wiring substrates is relatively suppressed. Therefore, the yield in the manufacturing process of the flexible circuit board 100D can be suppressed. In addition, the margin related to the above-mentioned misalignment can be relatively small, and the wiring structure in the wiring layer of the flexible circuit board 100D can be made denser.

<フレキシブル回路基板を組み込んだ電子機器>
(第5の実施形態)
次に、図13Aを参照して、上述の第1~第4の実施形態または変形例に係るフレキシブル回路基板100が組み込まれた電子機器の実施形態について説明する。本実施形態に係る電子機器においては、電子機器の筐体内の側面に、フレキシブル回路基板100を曲げて組み込んでいる。
<Electronic devices incorporating flexible circuit boards>
Fifth Embodiment
Next, an embodiment of an electronic device incorporating the flexible circuit board 100 according to the first to fourth embodiments or the modified examples will be described with reference to Fig. 13A. In the electronic device according to this embodiment, the flexible circuit board 100 is bent and incorporated into a side surface inside the housing of the electronic device.

図13Aの右側および中央の図は、フレキシブル回路基板100を曲げる前後の状態を模式的に示す図である。この図13Aの右側および中央の図に示すように、電子機器の筐体内にフレキシブル回路基板100を組み込む際、所望の形状にフレキシブル回路基板100の曲げ領域130を曲げて組み込む。電子機器の筐体内の側面にフレキシブル回路基板100を組み込んでいる。このため、図13Aの右側の図のように、信号線領域120の上にコネクタ領域110aおよび曲げ領域130が直立するような状態から、図13Aの中央の図ように、曲げ領域130を前方に曲げてコネクタ領域110bが前方に倒れるような状態とする。 The right and center diagrams of FIG. 13A are diagrams that show the state of the flexible circuit board 100 before and after bending. As shown in the right and center diagrams of FIG. 13A, when the flexible circuit board 100 is assembled into the housing of an electronic device, the bending region 130 of the flexible circuit board 100 is bent into a desired shape and assembled. The flexible circuit board 100 is assembled on the side of the housing of the electronic device. Therefore, from a state in which the connector region 110a and the bending region 130 stand upright on the signal line region 120 as shown in the right diagram of FIG. 13A, the bending region 130 is bent forward so that the connector region 110b falls forward as shown in the center diagram of FIG. 13A.

図13Aの左側の図は、フレキシブル回路基板100が組み込まれた電子機器UEを模式的に示す図である。電子機器UEには、筐体500内にフレキシブル回路基板100およびその他の電子部品が組み込まれている。具体的には、この電子機器UEは、筐体500と、筐体500内に上述の実施形態または変形例に係るフレキシブル回路基板100とが配置されている。さらに、筐体500の内部には、第1モジュール200および第2モジュール300が配置され、第1モジュール200と第2モジュール300との間にバッテリ400が配置されている。 The diagram on the left side of FIG. 13A is a diagram that shows a schematic diagram of an electronic device UE incorporating a flexible circuit board 100. In the electronic device UE, the flexible circuit board 100 and other electronic components are incorporated in a housing 500. Specifically, this electronic device UE includes a housing 500, and a flexible circuit board 100 according to the above-mentioned embodiment or modification arranged in the housing 500. Furthermore, a first module 200 and a second module 300 are arranged inside the housing 500, and a battery 400 is arranged between the first module 200 and the second module 300.

本実施形態に係る電子機器UEにおいては、第1モジュール200は、アナログ信号を受信する無線通信アンテナ、およびデジタル信号を受信するデジタル端子を有する。第2モジュール300は、第1モジュール200にて受信したアナログ信号およびデジタル信号の信号処理を行う。なお、図13Aに示すように、電子機器UEの全体制御を行うプロセッサ210を、第1モジュール200の上に配置してもよい。 In the electronic device UE according to this embodiment, the first module 200 has a wireless communication antenna for receiving analog signals and a digital terminal for receiving digital signals. The second module 300 performs signal processing of the analog and digital signals received by the first module 200. As shown in FIG. 13A, the processor 210 that performs overall control of the electronic device UE may be disposed on the first module 200.

第1モジュール200にはコネクタ部品220が設けられている。このコネクタ部品220を介して、第1モジュール200とコネクタ領域110aが電気的に接続される。一方で、第2モジュール300にもコネクタ部品310が設けられている。このコネクタ部品310を介して、第2モジュール300とコネクタ領域110bが電気的に接続される。これにより、フレキシブル回路基板100を介して第1モジュール200と第2モジュール300とが電気的に接続される。言い換えると、フレキシブル回路基板100は、第1モジュール200と第2モジュール300とを電気的に接続する。 The first module 200 is provided with a connector part 220. The first module 200 and the connector region 110a are electrically connected via this connector part 220. Meanwhile, the second module 300 is also provided with a connector part 310. The second module 300 and the connector region 110b are electrically connected via this connector part 310. This electrically connects the first module 200 and the second module 300 via the flexible circuit board 100. In other words, the flexible circuit board 100 electrically connects the first module 200 and the second module 300.

上述のようにして本実施形態では、電子機器UEの筐体500内の側面に沿ってフレキシブル回路基板100が組み込まれる。すなわち、コネクタ部品220およびコネクタ部品310が第1モジュール200および第2モジュール300にそれぞれ嵌合するように曲げ領域130を曲げ、信号線領域120が筐体500内の側面を沿うようにフレキシブル回路基板100を筐体500内に組み込む。 As described above, in this embodiment, the flexible circuit board 100 is incorporated along the side surface inside the housing 500 of the electronic device UE. That is, the bending region 130 is bent so that the connector part 220 and the connector part 310 fit into the first module 200 and the second module 300, respectively, and the flexible circuit board 100 is incorporated into the housing 500 so that the signal line region 120 fits along the side surface inside the housing 500.

以上のように、本実施形態によれば、第1モジュール200と第2モジュール300とをフレキシブル回路基板100で電気的に接続することができる。このため、電子機器UEの筐体内の省スペース化を図ることができ、バッテリ400の大型化などが可能となる。また、バッテリ400を跨ぐことなくフレキシブル回路基板100を配置できるので、バッテリ上面に無線給電等に使われるコイルを配置することができる。 As described above, according to this embodiment, the first module 200 and the second module 300 can be electrically connected by the flexible circuit board 100. This allows space to be saved inside the housing of the electronic device UE, and enables the battery 400 to be made larger. In addition, since the flexible circuit board 100 can be placed without straddling the battery 400, a coil used for wireless power supply, etc., can be placed on the top surface of the battery.

(第6の実施形態)
次に、図13Bを参照して、上述の第1~第4の実施形態または変形例に係るフレキシブル回路基板100が組み込まれた電子機器の別の実施形態について説明する。本実施形態においては、電子機器の筐体内の底面に、フレキシブル回路基板100を曲げ領域130が曲げられた状態で組み込む。以下、第5の実施形態と異なる部分を中心に説明する。
Sixth Embodiment
Next, another embodiment of an electronic device incorporating the flexible circuit board 100 according to the first to fourth embodiments or the modified examples will be described with reference to Fig. 13B. In this embodiment, the flexible circuit board 100 is incorporated into the bottom surface of the housing of the electronic device with the bending region 130 bent. The following description will focus on the differences from the fifth embodiment.

図13Bは、フレキシブル回路基板100が組み込まれた電子機器UEを示す図である。図13B(1)は、電子機器UEの平面の模式断面図であり、図13B(2)は、電子機器UEの側面の模式断面図である。この図13B(1),(2)が示すように、電子機器UEには、筐体500内にフレキシブル回路基板100およびその他の電子部品が組み込まれている。具体的には、この電子機器UEは、筐体500と、筐体500内に上述の実施形態または変形例に係るフレキシブル回路基板100とが配置されている。さらに、筐体500の内部には、第1モジュール200および第2モジュール300が配置され、第1モジュール200と第2モジュール300との間にバッテリ400が配置されている。 Figure 13B is a diagram showing an electronic device UE incorporating a flexible circuit board 100. Figure 13B (1) is a schematic cross-sectional view of the electronic device UE in plan, and Figure 13B (2) is a schematic cross-sectional view of the side of the electronic device UE. As shown in Figures 13B (1) and (2), the electronic device UE incorporates the flexible circuit board 100 and other electronic components in a housing 500. Specifically, the electronic device UE includes a housing 500 and a flexible circuit board 100 according to the above-mentioned embodiment or modification within the housing 500. Furthermore, a first module 200 and a second module 300 are arranged inside the housing 500, and a battery 400 is arranged between the first module 200 and the second module 300.

図13B(3)は、筐体500内に組み込まれたフレキシブル回路基板100の斜視画像を示している。この図13B(3)が示すように、フレキシブル回路基板100は、P1およびP2で曲げ領域130Bが曲げられており、P3およびP4で曲げ領域130Aが曲げられている。言い換えると、曲げ領域130Aおよび曲げ領域130Bは、それぞれ2箇所で曲げられている。すなわち、第1~第4の実施形態または変形例に係るフレキシブル回路基板100においては、曲げ領域130を曲げる際の応力が低減されているため、本実施形態のように曲げ領域130の2箇所を曲げることが可能となる。 Figure 13B (3) shows an oblique image of the flexible circuit board 100 incorporated in the housing 500. As shown in this Figure 13B (3), the flexible circuit board 100 has bending region 130B bent at P1 and P2, and bending region 130A bent at P3 and P4. In other words, bending region 130A and bending region 130B are each bent at two locations. That is, in the flexible circuit boards 100 according to the first to fourth embodiments or modifications, the stress when bending the bending region 130 is reduced, so that it is possible to bend the bending region 130 at two locations as in this embodiment.

なお、第5の実施形態と同様に、第1モジュール200と第2モジュール300とをフレキシブル回路基板100で電気的に接続することができる。このため、電子機器UEの筐体内の省スペース化を図ることができ、バッテリ400の大型化などが可能となる。また、バッテリ400の上面を跨ぐことなくフレキシブル回路基板100を配置できるので、バッテリ上面に無線給電等に使われるコイルを配置することができる。 As in the fifth embodiment, the first module 200 and the second module 300 can be electrically connected by the flexible circuit board 100. This allows space to be saved inside the housing of the electronic device UE, and allows the battery 400 to be made larger. In addition, since the flexible circuit board 100 can be arranged without spanning the top surface of the battery 400, a coil used for wireless power supply, etc. can be arranged on the top surface of the battery.

上記の記載に基づいて、当業者であれば、本発明の追加の効果や種々の変形を想到できるかもしれないが、本発明の態様は、上述した個々の実施形態に限定されるものではない。異なる実施形態にわたる構成要素を適宜組み合わせてもよい。特許請求の範囲に規定された内容及びその均等物から導き出される本発明の概念的な思想と趣旨を逸脱しない範囲で種々の追加、変更及び部分的削除が可能である。 Based on the above description, a person skilled in the art may be able to conceive additional effects and various modifications of the present invention, but the aspects of the present invention are not limited to the individual embodiments described above. Components from different embodiments may be combined as appropriate. Various additions, modifications, and partial deletions are possible within the scope that does not deviate from the conceptual idea and intent of the present invention derived from the contents defined in the claims and their equivalents.

10 片面金属箔張積層板
20、30 両面金属箔張積層板
11、21、31 絶縁基材
12、22、23、32、33 金属箔
13、24、25、34 接着剤層
14、26、35 保護膜層
12a、22a、23a、32a、33a 受けランド
12b、23b グランド層(配線)
22i 配線(アナログ信号線)
32b 配線
33i 配線(デジタル信号線)
51、52、53 導電ペースト
61、62 金属めっき
71、72 カバー材層
100 フレキシブル回路基板
101、102、103 配線基材
110、110A コネクタ領域
120 信号線領域
130、130A、130B 曲げ領域
200 第1モジュール
300 第2モジュール
400 バッテリ
500 筐体
A1 開口部
H1、H2、H3、H4、H5 ホール
HS 空間
ST1、ST2 スリット
W 窓開け部
UE 電子機器
10 Single-sided metal foil clad laminate 20, 30 Double-sided metal foil clad laminate 11, 21, 31 Insulating substrate 12, 22, 23, 32, 33 Metal foil 13, 24, 25, 34 Adhesive layer 14, 26, 35 Protective film layer 12a, 22a, 23a, 32a, 33a Receiving land 12b, 23b Ground layer (wiring)
22i Wiring (analog signal line)
32b Wiring 33i Wiring (digital signal line)
51, 52, 53 Conductive paste 61, 62 Metal plating 71, 72 Cover material layer 100 Flexible circuit board 101, 102, 103 Wiring substrate 110, 110A Connector region 120 Signal line region 130, 130A, 130B Bending region 200 First module 300 Second module 400 Battery 500 Housing A1 Openings H1, H2, H3, H4, H5 Hole HS Space ST1, ST2 Slit W Window opening UE Electronic device

Claims (11)

アナログ信号を受信する無線通信アンテナおよびデジタル信号を受信するデジタル端子を有する第1モジュールと、前記アナログ信号および前記デジタル信号の信号処理を行う第2モジュールとを電気的に接続するためのフレキシブル回路基板であって、前記フレキシブル回路基板には、信号線領域と、コネクタ領域と、前記信号線領域と前記コネクタ領域とを接続する曲げ領域が設けられており、
前記信号線領域の長手方向に延在するように形成され、前記無線通信アンテナから受信したアナログ信号を伝送する1又は複数のアナログ信号線と、
前記信号線領域の前記長手方向に延在するように形成され、前記デジタル端子から受信したデジタル信号を伝送する1又は複数のデジタル信号線と、
絶縁層を介して前記アナログ信号線を覆うように形成されたグランド層と、
を備え、
前記曲げ領域は、前記信号線領域と比べて配線層および/または絶縁層の数が少ない減層構造を有する、
フレキシブル回路基板。
A flexible circuit board for electrically connecting a first module having a wireless communication antenna for receiving an analog signal and a digital terminal for receiving a digital signal to a second module for performing signal processing of the analog signal and the digital signal, the flexible circuit board being provided with a signal line region, a connector region, and a bending region for connecting the signal line region and the connector region;
one or more analog signal lines extending in a longitudinal direction of the signal line region and transmitting analog signals received from the wireless communication antenna;
one or more digital signal lines extending in the longitudinal direction of the signal line region and transmitting digital signals received from the digital terminals;
a ground layer formed so as to cover the analog signal line via an insulating layer;
Equipped with
The bent region has a reduced-layer structure in which the number of wiring layers and/or insulating layers is smaller than that in the signal line region.
Flexible circuit board.
前記コネクタ領域も、前記信号線領域と比べて配線層および/または絶縁層の数が少ない減層構造を有することを特徴とする、請求項1に記載のフレキシブル回路基板。 The flexible circuit board according to claim 1, characterized in that the connector region also has a reduced-layer structure in which the number of wiring layers and/or insulating layers is smaller than that of the signal line region. アナログ信号を受信する無線通信アンテナおよびデジタル信号を受信するデジタル端子を有する第1モジュールと、前記アナログ信号および前記デジタル信号の信号処理を行う第2モジュールとを電気的に接続するためのフレキシブル回路基板であって、前記フレキシブル回路基板には、信号線領域と、コネクタ領域と、前記信号線領域と前記コネクタ領域とを接続する曲げ領域が設けられており、
前記信号線領域の長手方向に延在するように形成され、前記無線通信アンテナから受信したアナログ信号を伝送する1又は複数のアナログ信号線と、
前記信号線領域の前記長手方向に延在するように形成され、前記デジタル端子から受信したデジタル信号を伝送する1又は複数のデジタル信号線と、
絶縁層を介して前記アナログ信号線を覆うように形成されたグランド層と、
を備え、
前記曲げ領域は、内部に配線層および絶縁層のいずれも設けられない中空領域が設けられた中空構造を有する、
フレキシブル回路基板。
A flexible circuit board for electrically connecting a first module having a wireless communication antenna for receiving an analog signal and a digital terminal for receiving a digital signal to a second module for performing signal processing of the analog signal and the digital signal, the flexible circuit board being provided with a signal line region, a connector region, and a bending region for connecting the signal line region and the connector region;
one or more analog signal lines extending in a longitudinal direction of the signal line region and transmitting analog signals received from the wireless communication antenna;
one or more digital signal lines extending in the longitudinal direction of the signal line region and transmitting digital signals received from the digital terminals;
a ground layer formed so as to cover the analog signal line via an insulating layer;
Equipped with
the bending region has a hollow structure in which a hollow region is provided inside in which neither a wiring layer nor an insulating layer is provided;
Flexible circuit board.
前記フレキシブル回路基板の厚さ方向について前記中空領域の一側または両側の領域に、前記信号線領域の長手方向と直交する幅方向の成分を有する切り込みが設けられていることを特徴とする、請求項3に記載のフレキシブル回路基板。 The flexible circuit board according to claim 3, characterized in that a cut having a width component perpendicular to the longitudinal direction of the signal line region is provided in one or both sides of the hollow region in the thickness direction of the flexible circuit board. 前記フレキシブル回路基板の厚さ方向について前記中空領域の一側または両側の領域は、前記フレキシブル回路基板を平面視してミアンダ状またはクランク状に形成されていることを特徴とする、請求項3に記載のフレキシブル回路基板。 The flexible circuit board according to claim 3, characterized in that the area on one or both sides of the hollow area in the thickness direction of the flexible circuit board is formed in a meander shape or crank shape when the flexible circuit board is viewed in a plan view. 前記コネクタ領域には、前記アナログ信号線または前記デジタル信号線と接続された層間接続路が設けられていることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか一項に記載のフレキシブル回路基板。 The flexible circuit board according to any one of claims 1 to 5, characterized in that the connector region is provided with an interlayer connection path connected to the analog signal line or the digital signal line. 前記層間接続路は、前記アナログ信号線または前記デジタル信号線と接続されためっきスルーホールと、導電層を介して前記めっきスルーホールと接続されたフィルドビアとを有することを特徴とする、請求項6に記載のフレキシブル回路基板。 The flexible circuit board according to claim 6, characterized in that the interlayer connection path has a plated through hole connected to the analog signal line or the digital signal line, and a filled via connected to the plated through hole via a conductive layer. 前記コネクタ領域には、前記層間接続路を介して前記アナログ信号線および前記デジタル信号線に電気的に接続されたコネクタ部品が実装されていることを特徴とする、
請求項6または7に記載のフレキシブル回路基板。
a connector part electrically connected to the analog signal line and the digital signal line via the interlayer connection path is mounted in the connector region,
The flexible circuit board according to claim 6 or 7.
筐体と、
前記筐体内に配置された、請求項1乃至8のいずれか一項に記載のフレキシブル回路基板と、
前記筐体内に配置された前記第1モジュールと、
前記筐体内に配置された前記第2モジュールと、
前記筐体内において前記第1モジュールと前記第2モジュールの間に配置されたバッテリと、
を備える、
電子機器。
A housing and
The flexible circuit board according to claim 1 , which is disposed in the housing; and
the first module disposed within the housing;
the second module disposed within the housing;
a battery disposed within the housing between the first module and the second module;
Equipped with
Electronic devices.
前記フレキシブル回路基板は、前記筐体の側面と前記バッテリの間を通るように配置されることを特徴とする、請求項9に記載の電子機器。 The electronic device according to claim 9, characterized in that the flexible circuit board is arranged to pass between the side surface of the housing and the battery. 前記フレキシブル回路基板は、前記筐体の背面または正面と前記バッテリの間を通るように配置されることを特徴とする、請求項9に記載の電子機器。 The electronic device according to claim 9, characterized in that the flexible circuit board is arranged to pass between the rear or front surface of the housing and the battery.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006270023A (en) 2005-02-23 2006-10-05 Fujikura Ltd Flexible multilayer printed wiring board
JP2007214876A (en) 2006-02-09 2007-08-23 Sharp Corp Wireless communication device
US20180005224A1 (en) 2016-06-29 2018-01-04 Square, Inc. Near field communication flex circuit

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH10197662A (en) * 1996-12-28 1998-07-31 Casio Comput Co Ltd Receiver
WO2005122657A1 (en) * 2004-06-11 2005-12-22 Ibiden Co., Ltd. Rigid-flex wiring board and method for producing same
JP2006059962A (en) * 2004-08-19 2006-03-02 Sumitomo Bakelite Co Ltd Rigid flex circuit board and manufacturing method thereof
JP4642568B2 (en) * 2005-07-01 2011-03-02 Necカシオモバイルコミュニケーションズ株式会社 Foldable portable electronic device
JP5125115B2 (en) * 2006-01-31 2013-01-23 ソニー株式会社 Printed wiring board assembly
JP6369191B2 (en) * 2014-07-18 2018-08-08 セイコーエプソン株式会社 CIRCUIT DEVICE, ELECTRONIC DEVICE, MOBILE BODY, AND RADIO COMMUNICATION SYSTEM

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006270023A (en) 2005-02-23 2006-10-05 Fujikura Ltd Flexible multilayer printed wiring board
JP2007214876A (en) 2006-02-09 2007-08-23 Sharp Corp Wireless communication device
US20180005224A1 (en) 2016-06-29 2018-01-04 Square, Inc. Near field communication flex circuit

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