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JP7321115B2 - On-machine development type lithographic printing plate precursor, method for preparing lithographic printing plate, and lithographic printing method - Google Patents

On-machine development type lithographic printing plate precursor, method for preparing lithographic printing plate, and lithographic printing method Download PDF

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JP7321115B2
JP7321115B2 JP2020034240A JP2020034240A JP7321115B2 JP 7321115 B2 JP7321115 B2 JP 7321115B2 JP 2020034240 A JP2020034240 A JP 2020034240A JP 2020034240 A JP2020034240 A JP 2020034240A JP 7321115 B2 JP7321115 B2 JP 7321115B2
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Description

本開示は、機上現像型平版印刷版原版、平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法に関する。 TECHNICAL FIELD The present disclosure relates to an on-press development type lithographic printing plate precursor, a method for preparing a lithographic printing plate, and a lithographic printing method.

一般に、平版印刷版は、印刷過程でインキを受容する親油性の画像部と、湿し水を受容する親水性の非画像部とからなる。平版印刷は、水と油性インキが互いに反発する性質を利用して、平版印刷版の親油性の画像部をインキ受容部、親水性の非画像部を湿し水受容部(インキ非受容部)として、平版印刷版の表面にインキの付着性の差異を生じさせ、画像部のみにインキを着肉させた後、紙などの被印刷体にインキを転写して印刷する方法である。
この平版印刷版を作製するため、従来、親水性の支持体上に親油性の感光性樹脂層(画像記録層)を設けてなる平版印刷版原版(PS版)が広く用いられている。通常は、平版印刷版原版を、リスフィルムなどの原画を通した露光を行った後、画像記録層の画像部となる部分を残存させ、それ以外の不要な画像記録層をアルカリ性現像液又は有機溶剤によって溶解除去し、親水性の支持体表面を露出させて非画像部を形成する方法により製版を行って、平版印刷版を得ている。
In general, a lithographic printing plate consists of oleophilic image areas that accept ink during the printing process and hydrophilic non-image areas that accept dampening water. Lithographic printing utilizes the property that water and oily ink repel each other. The oleophilic image area of the lithographic printing plate is used as the ink receiving area, and the hydrophilic non-image area is used as the dampening water receiving area (non-ink receiving area). In this method, the surface of the lithographic printing plate is made to have different ink adherence properties, the ink is applied only to the image area, and then the ink is transferred to a printing medium such as paper for printing.
Conventionally, a lithographic printing plate precursor (PS plate) comprising a hydrophilic support and a lipophilic photosensitive resin layer (image recording layer) provided thereon has been widely used to prepare the lithographic printing plate. Usually, after the lithographic printing plate precursor is exposed through an original image such as a lith film, the portion of the image-recording layer that will become the image portion is left, and the other unnecessary image-recording layer is removed with an alkaline developer or an organic solvent. A lithographic printing plate is obtained by dissolving and removing with a solvent to expose the surface of the hydrophilic support to form a non-image area.

また、地球環境への関心の高まりから、現像処理などの湿式処理に伴う廃液に関する環境課題がクローズアップされている。
上記の環境課題に対して、現像あるいは製版の簡易化や無処理化が指向されている。簡易な作製方法の一つとしては、「機上現像」と呼ばれる方法が行われている。すなわち、平版印刷版原版を露光後、従来の現像は行わず、そのまま印刷機に装着して、画像記録層の不要部分の除去を通常の印刷工程の初期段階で行う方法である。
In addition, due to growing interest in the global environment, environmental issues related to waste liquid associated with wet processing such as development processing are being highlighted.
In order to deal with the environmental problems described above, there is a trend toward simplification of development or plate making and elimination of processing. As one of the simple production methods, a method called "on-machine development" is performed. That is, in this method, after the lithographic printing plate precursor is exposed, the conventional development is not performed, and the unnecessary portion of the image recording layer is removed at the initial stage of the normal printing process by mounting the plate as it is in the printing press.

従来の平版印刷版原版としては、例えば、特許文献1には、支持体上に、(A)重合開始剤、(B)重合性化合物、及び(C)加熱することで、重合反応を抑制する化学種を発生する化合物を含有する画像記録層を有する平版印刷版原版が記載されている。 As conventional lithographic printing plate precursors, for example, Patent Document 1 discloses that (A) a polymerization initiator, (B) a polymerizable compound, and (C) a polymerization reaction are inhibited by heating on a support. A lithographic printing plate precursor having an image-recording layer containing a chemical species generating compound is described.

また、特許文献2には、支持体上に(A)ラジカル重合開始剤、(B)ラジカル重合性化合物及び(C)多官能重合禁止剤を含有する画像記録層を設けてなり、上記(C)多官能重合禁止剤は分子中に、ラジカルと直接的に結合して共有結合を形成するラジカルトラップ部位を2個以上有する平版印刷版原版が記載されている。 Further, in Patent Document 2, an image recording layer containing (A) a radical polymerization initiator, (B) a radically polymerizable compound, and (C) a polyfunctional polymerization inhibitor is provided on a support. ) A lithographic printing plate precursor is described in which the polyfunctional polymerization inhibitor has two or more radical trapping sites that directly bind to radicals to form covalent bonds in the molecule.

特開2006-001182号公報Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-001182 国際公開第2014/045783号WO2014/045783

本開示の一実施形態が解決しようとする課題は、耐刷性に優れ且つスジ状のムラが抑制された平版印刷版が得られる機上現像型平版印刷版原版を提供することである。
本開示の他の実施形態が解決しようとする課題は、上記機上現像型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法を提供することである。
An object to be solved by an embodiment of the present disclosure is to provide an on-press development type lithographic printing plate precursor that provides a lithographic printing plate that has excellent printing durability and suppresses streak-like unevenness.
A problem to be solved by another embodiment of the present disclosure is to provide a lithographic printing plate making method or a lithographic printing method using the above-described on-press development type lithographic printing plate precursor.

上記課題を解決するための手段には、以下の態様が含まれる。
<1> 支持体、及び、上記支持体上に形成された画像記録層を有し、
上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及びラジカル誘起型重合禁止剤前駆体を含む、機上現像型平版印刷版原版。
Means for solving the above problems include the following aspects.
<1> having a support and an image recording layer formed on the support;
An on-press development type lithographic printing plate precursor, wherein the image-recording layer contains an infrared absorber, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a radical-induced polymerization inhibitor precursor.

<2> 上記ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体が、ラジカル捕捉部位と重合禁止前駆部位とを有する化合物である、<1>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<3> 上記ラジカル捕捉部位が、エチレン性不飽和二重結合を含む部位である、<2>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<4> 上記エチレン性不飽和二重結合を含む部位が(メタ)アクリロキシ基である、<3>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<5> 上記重合禁止前駆部位が水酸基を含む部位である、<4>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<6> 上記ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体が、下記式(1)で表される部分構造を含む化合物である<1>~<5>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<2> The on-press development type lithographic printing plate precursor as described in <1>, wherein the radical-induced polymerization inhibitor precursor is a compound having a radical scavenging site and a polymerization-inhibiting precursor site.
<3> The on-press development type lithographic printing plate precursor as described in <2>, wherein the radical-scavenging site is a site containing an ethylenically unsaturated double bond.
<4> The on-press development type lithographic printing plate precursor as described in <3>, wherein the site containing an ethylenically unsaturated double bond is a (meth)acryloxy group.
<5> The on-press development type lithographic printing plate precursor as described in <4>, wherein the polymerization-inhibited precursor site is a site containing a hydroxyl group.
<6> The on-press development type lithographic printing plate according to any one of <1> to <5>, wherein the radical-induced polymerization inhibitor precursor is a compound containing a partial structure represented by the following formula (1): Original printing plate.

式(1)中、Raは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~15のアルキル基、又はアリール基を表し、Rbは、水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、Xは、(メタ)アクリロキシ基を表す。 In formula (1), Ra each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or an aryl group; Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms; , represents a (meth)acryloxy group.

<7> 上記赤外線吸収剤の含有量Aと上記ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体の含有量Bとの含有比率A/Bが、質量基準にて0.1~2.5である、<1>~<6>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。 <7> The content ratio A/B between the content A of the infrared absorbent and the content B of the radical-induced polymerization inhibitor precursor is 0.1 to 2.5 on a mass basis, <1 > to the on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of <6>.

<8> 上記重合開始剤が、電子供与型重合開始剤及び電子受容型重合開始剤を含む<1>~<7>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<9> 上記赤外線吸収剤のHOMO-上記電子供与型重合開始剤のHOMOの値が、0.70eV以下である、<8>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<10> 上記電子受容型重合開始剤のLUMO-上記赤外線吸収剤のLUMOの値が、0.80eV以下である、<8>又は<9>に記載の機上現像型平版印刷版原版。
<11> 上記重合性化合物が、7官能以上の重合性化合物である、<1>~<10>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<12> 上記重合性化合物が、10官能以上の重合性化合物である、<1>~<11>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版。
<8> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <7>, wherein the polymerization initiator comprises an electron-donating polymerization initiator and an electron-accepting polymerization initiator.
<9> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to <8>, wherein the HOMO value of the infrared absorber-the HOMO value of the electron-donating polymerization initiator is 0.70 eV or less.
<10> The on-press development type lithographic printing plate precursor according to <8> or <9>, wherein the LUMO value of the electron-accepting polymerization initiator-the LUMO value of the infrared absorber is 0.80 eV or less.
<11> The on-press development type lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <10>, wherein the polymerizable compound is a polymerizable compound having a functionality of 7 or more.
<12> The on-press development type lithographic printing plate precursor as described in any one of <1> to <11>, wherein the polymerizable compound is a polymerizable compound having a functionality of 10 or more.

<13> <1>~<12>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
平版印刷版の作製方法。
<14> <1>~<12>のいずれか1つに記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む
平版印刷方法。
<13> imagewise exposing the on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <12>;
supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on a printing press to remove the image-recording layer in the non-image areas.
<14> imagewise exposing the on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of <1> to <12>;
a step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water to remove the image-recording layer in the non-image areas on a printing press to prepare a lithographic printing plate;
and printing with the obtained lithographic printing plate.

本開示の一実施形態によれば、耐刷性に優れ且つスジ状のムラが抑制された平版印刷版が得られる機上現像型平版印刷版原版を提供することができる。
また、本発明の他の実施形態によれば、上記機上現像型平版印刷版原版を用いた平版印刷版の作製方法又は平版印刷方法を提供することができる。
According to one embodiment of the present disclosure, it is possible to provide an on-press development type lithographic printing plate precursor that provides a lithographic printing plate that has excellent printing durability and suppresses streak-like unevenness.
Further, according to another embodiment of the present invention, it is possible to provide a method for preparing a lithographic printing plate or a lithographic printing method using the above-described on-press development type lithographic printing plate precursor.

支持体の一実施形態の模式的断面図である。1 is a schematic cross-sectional view of one embodiment of a support; FIG. 支持体の別の一実施形態の模式的断面図である。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of another embodiment of a support; 支持体の製造方法における電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。4 is a graph showing an example of an alternating waveform current waveform diagram used for electrochemical graining treatment in the method of manufacturing a support. 支持体の製造方法における交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。FIG. 2 is a side view showing an example of a radial type cell in electrochemical graining treatment using alternating current in the support manufacturing method.

以下において、本開示の内容について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本開示の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本開示はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、数値範囲を示す「~」とはその前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。
本開示中に段階的に記載されている数値範囲において、一つの数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示中に記載されている数値範囲において、その数値範囲の上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
また、本明細書における基(原子団)の表記において、置換及び無置換を記していない表記は、置換基を有さないものと共に置換基を有するものをも包含するものである。例えば「アルキル基」とは、置換基を有さないアルキル基(無置換アルキル基)のみならず、置換基を有するアルキル基(置換アルキル基)をも包含するものである。
本明細書において、「(メタ)アクリル」は、アクリル及びメタクリルの両方を包含する概念で用いられる語であり、「(メタ)アクリロイル」は、アクリロイル及びメタクリロイルの両方を包含する概念として用いられる語である。
また、本明細書中の「工程」の用語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であっても、その工程の所期の目的が達成されれば本用語に含まれる。 また、本開示において、「質量%」と「重量%」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
更に、本開示において、2以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
また、本開示における重量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、特に断りのない限り、TSKgel GMHxL、TSKgel G4000HxL、TSKgel G2000HxL(いずれも東ソー(株)製の商品名)のカラムを使用したゲルパーミエーションクロマトグラフィ(GPC)分析装置により、溶剤THF(テトラヒドロフラン)、示差屈折計により検出し、標準物質としてポリスチレンを用いて換算した分子量である。
本明細書において、「平版印刷版原版」の用語は、平版印刷版原版だけでなく、捨て版原版を包含する。また、「平版印刷版」の用語は、平版印刷版原版を、必要により、露光、現像などの操作を経て作製された平版印刷版だけでなく、捨て版を包含する。捨て版原版の場合には、必ずしも、露光、現像の操作は必要ない。なお、捨て版とは、例えばカラーの新聞印刷において一部の紙面を単色又は2色で印刷を行う場合に、使用しない版胴に取り付けるための平版印刷版原版である。
本開示において、「耐刷性に優れる」とは、平版印刷版の印刷可能な枚数が多いことをいい、印刷の際のインクとしてUVインキを用いた場合の耐刷性を、以下、「UV耐刷性」ともいう。
The content of the present disclosure will be described in detail below. The description of the constituent elements described below may be made based on representative embodiments of the present disclosure, but the present disclosure is not limited to such embodiments.
In this specification, the term "to" indicating a numerical range is used to include the numerical values before and after it as lower and upper limits.
In the numerical ranges described step by step in the present disclosure, the upper limit or lower limit of one numerical range may be replaced with the upper or lower limit of another numerical range described step by step. . Moreover, in the numerical ranges described in the present disclosure, the upper or lower limits of the numerical ranges may be replaced with the values shown in the examples.
In addition, in the description of groups (atomic groups) in the present specification, the descriptions that do not indicate substitution or unsubstituted include those having no substituents as well as those having substituents. For example, the term “alkyl group” includes not only alkyl groups having no substituents (unsubstituted alkyl groups) but also alkyl groups having substituents (substituted alkyl groups).
In the present specification, "(meth)acrylic" is a term used as a concept that includes both acrylic and methacrylic, and "(meth)acryloyl" is a term that is used as a concept that includes both acryloyl and methacryloyl. is.
In addition, the term "step" in this specification is not only an independent step, but even if it cannot be clearly distinguished from other steps, if the intended purpose of the step is achieved included. In addition, in the present disclosure, "% by mass" and "% by weight" are synonymous, and "parts by mass" and "parts by weight" are synonymous.
Furthermore, in the present disclosure, a combination of two or more preferred aspects is a more preferred aspect.
In addition, the weight average molecular weight (Mw) and number average molecular weight (Mn) in the present disclosure are TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL, and TSKgel G2000HxL (all trade names manufactured by Tosoh Corporation) columns, unless otherwise specified. It is a molecular weight converted using polystyrene as a standard substance detected with a solvent THF (tetrahydrofuran) and a differential refractometer using a gel permeation chromatography (GPC) analyzer.
As used herein, the term "lithographic printing plate precursor" includes not only a lithographic printing plate precursor but also a waste plate precursor. The term "lithographic printing plate" includes not only a lithographic printing plate prepared by subjecting a lithographic printing plate precursor to exposure, development and the like, but also a waste plate. In the case of a waste plate precursor, the operations of exposure and development are not necessarily required. A discard plate is a lithographic printing plate precursor to be attached to an unused plate cylinder, for example, when printing a part of a page in color newspaper printing in a single color or two colors.
In the present disclosure, the term "excellent in printing durability" means that the lithographic printing plate can print a large number of sheets. It is also called "printing durability".

≪機上現像型平版印刷版原版≫
本開示に係る機上現像型平版印刷版原版は、支持体、及び、上記支持体上に形成された画像記録層を有し、上記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及びラジカル誘起型重合禁止剤前駆体を含む。
以下、本開示に係る機上現像型平版印刷版原版を、単に平版印刷版原版ともいう。
本開示に係る平版印刷版原版は、赤外線露光により露光部が重合する、ネガ型平版印刷版原版である。
≪On-machine development type lithographic printing plate precursor≫
The on-press development type lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has a support and an image-recording layer formed on the support, and the image-recording layer contains an infrared absorber, a polymerization initiator, a polymerizable compounds, and radical-induced polymerization inhibitor precursors.
Hereinafter, the on-press development type lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is also simply referred to as a lithographic printing plate precursor.
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is a negative type lithographic printing plate precursor in which an exposed portion is polymerized by infrared exposure.

近年、平版印刷版原版に対する露光において、GLV(Grating Light Value)技術を採用した露光ヘッドを搭載した露光機が用いられることがある。
この露光機にて露光を行うと、網点画像が走査方向に太ることで、スジ状のムラとして観察される。このスジ状のムラはスワスムラと呼ばれることもある。
このスジ状のムラについて本発明者らが鋭意検討した結果、上記構成をとる平版印刷版原版とすることで、スジ状のムラが抑制された平版印刷版が得られることを見出した。
2. Description of the Related Art In recent years, in the exposure of a lithographic printing plate precursor, an exposure machine equipped with an exposure head employing GLV (Grating Light Value) technology is sometimes used.
When the exposure is performed with this exposure device, the halftone dot image thickens in the scanning direction, and is observed as streak-like unevenness. This streak-like unevenness is sometimes called swath unevenness.
As a result of intensive studies on this streak-like unevenness, the present inventors have found that a lithographic printing plate precursor having the above-described structure can provide a lithographic printing plate in which streak-like unevenness is suppressed.

上記効果が得られる詳細なメカニズムは不明であるが、以下のように推測される。
上記スジ状のムラは、局所的に露光量が積算されることで生じると考えられる。本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層にラジカル誘起型重合禁止剤前駆体を含む。ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体は、後述するように、ラジカルにより誘起されて重合禁止剤が生成される化合物である。そのため、露光により画像記録層中にラジカルが生じてはじめて重合禁止剤が生成される。
画像記録層中にラジカルが生じ、ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体から重合禁止剤が生成されると、局所的に露光量が積算された場合であっても、重合反応を停止又は抑制する機能が働き、積算部分にて重合反応が促進されにくい。
その結果、網点画像の太りを抑制することができ、スジ状のムラが抑制された平版印刷版が得られるものと推測される。
また、ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体からは、露光により画像記録層中にラジカルが生じてはじめて重合禁止剤が生成されることから、重合禁止剤とは異なり、露光部における重合反応を阻害しにくい。
その結果、耐刷性に優れた平版印刷版が得られるものと推測される。
Although the detailed mechanism by which the above effects are obtained is unknown, it is presumed as follows.
The streak-like unevenness is considered to be caused by locally integrating the exposure amount. The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure contains a radical-induced polymerization inhibitor precursor in the image-recording layer. The radical-induced polymerization inhibitor precursor is, as described later, a compound that is induced by radicals to produce a polymerization inhibitor. Therefore, the polymerization inhibitor is generated only when radicals are generated in the image recording layer by exposure.
The function of stopping or suppressing the polymerization reaction when radicals are generated in the image recording layer and the polymerization inhibitor is generated from the radical-induced polymerization inhibitor precursor, even if the amount of exposure is locally accumulated. works, and the polymerization reaction is less likely to be promoted in the integration portion.
As a result, it is presumed that thickening of the halftone dot image can be suppressed, and a lithographic printing plate in which streak-like unevenness is suppressed can be obtained.
In addition, the polymerization inhibitor is generated from the radical-induced polymerization inhibitor precursor only when radicals are generated in the image-recording layer by exposure. Hateful.
As a result, it is presumed that a lithographic printing plate having excellent printing durability can be obtained.

なお、特許文献1又は2に記載の平版印刷版原版では、スジ状のムラについては全く言及していない。 Note that the lithographic printing plate precursors described in Patent Documents 1 and 2 do not mention streak-like unevenness at all.

<画像記録層>
本開示における画像記録層は、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及びラジカル誘起型重合禁止剤前駆体を含む。
本開示における画像記録層は、機上現像型画像記録層であり、また、ネガ型画像記録層である。
<Image recording layer>
The image-recording layer in the present disclosure contains an infrared absorbing agent, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a radical-induced polymerization inhibitor precursor.
The image-recording layer in the present disclosure is an on-machine development image-recording layer and a negative image-recording layer.

以下、画像記録層に含まれる各成分の詳細について説明する。 The details of each component contained in the image recording layer will be described below.

〔ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体〕
本開示における「ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体」は、ラジカルにより誘起されて重合禁止剤が生成される化合物をいう。なお、ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体は、ラジカルにより誘起されない状態では、重合禁止剤として機能しない又は機能しにくい化合物である。
ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体は、上記の機能を発現する観点から、ラジカル捕捉部位と重合禁止前駆部位とを有する化合物である、ことが好ましい。
[Radical Induced Polymerization Inhibitor Precursor]
A “radical-induced polymerization inhibitor precursor” in the present disclosure refers to a compound that is induced by radicals to produce a polymerization inhibitor. The radical-induced polymerization inhibitor precursor is a compound that does not or hardly functions as a polymerization inhibitor in a state where it is not induced by radicals.
The radical-induced polymerization inhibitor precursor is preferably a compound having a radical scavenging site and a polymerization-inhibiting precursor site from the viewpoint of exhibiting the above functions.

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体におけるラジカル捕捉部位としては、特に制限はないが、ラジカル捕捉能の観点から、エチレン性不飽和二重結合(即ち、C=C)を含む部位であることが好ましい。
エチレン性不飽和二重結合を含む部位としては、(メタ)アクリロキシ基、スチリル基、アリル基、ビニル基等が挙げられるが、ラジカル捕捉能の観点から、(メタ)アクリロキシ基であることが好ましい。
The radical scavenging site in the radical-induced polymerization inhibitor precursor is not particularly limited, but from the viewpoint of radical scavenging ability, it is preferably a site containing an ethylenically unsaturated double bond (that is, C=C). .
The site containing an ethylenically unsaturated double bond includes a (meth)acryloxy group, a styryl group, an allyl group, a vinyl group, and the like. From the viewpoint of radical scavenging ability, a (meth)acryloxy group is preferable. .

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体における重合禁止前駆部位とは、重合禁止剤として機能する部位をいう。
ここで、上記重合禁止剤とは、重合反応を停止又は抑制する化合物である。
重合禁止剤として好適なものとしては、フェノール及びキノン系重合禁止剤、アミン系重合禁止剤、ニトロソ系重合禁止剤、フェノチアジン等の従来公知の重合禁止剤が挙げられる。
The polymerization-inhibiting precursor site in the radical-induced polymerization inhibitor precursor refers to a site that functions as a polymerization inhibitor.
Here, the polymerization inhibitor is a compound that terminates or suppresses the polymerization reaction.
Suitable polymerization inhibitors include conventionally known polymerization inhibitors such as phenol and quinone polymerization inhibitors, amine polymerization inhibitors, nitroso polymerization inhibitors, and phenothiazine.

フェノール及びキノン系重合禁止剤としては、例えば、フェノール、p-メトキシフェノール、2,6-ジ-t-ブチル-4-メトキシフェノール、2,6-ジ-t-ブチル-4-クレゾール、ヒドロキノン、カテコール、t-ブチルカテコール、ピロガロール、レゾルシノール、4,4’-チオビス(3-メチル-6-t-ブチルフェノール)、2,2’-メチレンビス(4-メチル-6-t-ブチルフェノール)、フェニルヒドロキノン、ヒドロキノン、t-ブチルヒドロキノン、2,5-ジ-t-ブチルヒドロキノン、ベンゾキノン等が挙げられる。 Examples of phenol and quinone polymerization inhibitors include phenol, p-methoxyphenol, 2,6-di-t-butyl-4-methoxyphenol, 2,6-di-t-butyl-4-cresol, hydroquinone, catechol, t-butylcatechol, pyrogallol, resorcinol, 4,4'-thiobis(3-methyl-6-t-butylphenol), 2,2'-methylenebis(4-methyl-6-t-butylphenol), phenylhydroquinone, hydroquinone, t-butylhydroquinone, 2,5-di-t-butylhydroquinone, benzoquinone and the like.

アミン系重合禁止剤としては、アニリン、メトキシアニリン、アミノフェノール、2,4,6-トリ-t-ブチルアニリン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン、2,2,6,6-テトラメチルピペリジン、及びその誘導体等が挙げられる。
ニトロソ系重合禁止剤としては、例えば、N-ニトロソフェニルヒドロキシルアミン、及びその金属塩等が挙げられる。
Amine polymerization inhibitors include aniline, methoxyaniline, aminophenol, 2,4,6-tri-t-butylaniline, diphenylamine, triphenylamine, 2,2,6,6-tetramethylpiperidine, and derivatives thereof. etc.
Nitroso-based polymerization inhibitors include, for example, N-nitrosophenylhydroxylamine and metal salts thereof.

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体における重合禁止前駆部位としては、重合反応を停止又は抑制する性能の観点から、水酸基(即ちヒドロキシ基)を有する部位であることが好ましい。
水酸基を含む部位としては、フェノール性水酸基を有する部位であることがより好ましい。
The polymerization-inhibiting precursor site in the radical-induced polymerization inhibitor precursor is preferably a site having a hydroxyl group (that is, a hydroxyl group) from the viewpoint of the performance of terminating or suppressing the polymerization reaction.
The site containing a hydroxyl group is more preferably a site having a phenolic hydroxyl group.

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体におけるラジカル捕捉部位と重合禁止前駆部位との間には、必要に応じて、連結基を有していてもよい。 A linking group may be provided between the radical scavenging site and the polymerization inhibiting precursor site in the radical-induced polymerization inhibitor precursor, if necessary.

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体としては、下記式(1)で表される部分構造を含む化合物であることが好ましい。 The radical-induced polymerization inhibitor precursor is preferably a compound containing a partial structure represented by the following formula (1).

式(1)中、Raは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~15のアルキル基、又はアリール基を表し、Rbは、水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、Xは、(メタ)アクリロキシ基を表す。 In formula (1), Ra each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or an aryl group; Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms; , represents a (meth)acryloxy group.

式(1)におけるRaは、それぞれ独立に、炭素数1~15のアルキル基であることが好ましい。
Raで表されるアルキル基は、直鎖状であってもよいし、分岐を有していてもよいし、環状であってもよい。
Raで表されるアルキル基は、炭素数1~10のアルキル基であることがより好ましく、炭素数1~5のアルキル基であることが更に好ましい。
式(1)におけるRaは、より具体的には、メチル基、t-ブチル基、又はジメチルプロピル基が好ましい。
また、式(1)における2つRaは、同一の基であることが好ましい。
なお、式(1)におけるRaがアリール基である場合、アリール基として具体的には、炭素数6~12のアリール基が好ましい。
Each Ra in formula (1) is preferably an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms.
The alkyl group represented by Ra may be linear, branched, or cyclic.
The alkyl group represented by Ra is more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
More specifically, Ra in formula (1) is preferably a methyl group, a t-butyl group, or a dimethylpropyl group.
Moreover, it is preferable that two Ra's in the formula (1) are the same group.
When Ra in formula (1) is an aryl group, the aryl group is preferably an aryl group having 6 to 12 carbon atoms.

式(1)におけるRbは、水素原子、又はメチル基であることが好ましい。 Rb in Formula (1) is preferably a hydrogen atom or a methyl group.

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体としては、下記式(2)で表される化合物及び下記式(3)で表される化合物からなる群より選択される少なくとも1種であることが好ましい。 The radical-induced polymerization inhibitor precursor is preferably at least one selected from the group consisting of compounds represented by the following formula (2) and compounds represented by the following formula (3).

式(2)中、Ra、Rc及びRcは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~15のアルキル基、又はアリール基を表し、Rbは、水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、Xは、(メタ)アクリロキシ基を表す。 In formula (2), Ra, Rc 1 and Rc 2 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or an aryl group, and Rb is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. group, and X represents a (meth)acryloxy group.

式(2)におけるRaは、式(1)におけるRaと同義であり、好ましい態様も同様である。
式(2)におけるRbは、式(1)におけるRbと同義であり、好ましい態様も同様である。
Ra in formula (2) has the same meaning as Ra in formula (1), and preferred embodiments are also the same.
Rb in formula (2) has the same definition as Rb in formula (1), and preferred embodiments are also the same.

式(2)におけるRc及びRcは、それぞれ独立に、炭素数1~15のアルキル基が好ましい。
Rc及びRcで表されるアルキル基は、直鎖状であってもよいし、分岐を有していてもよいし、環状であってもよい。
Rc及びRcで表されるアルキル基は、炭素数1~10のアルキル基であることがより好ましく、炭素数1~5のアルキル基であることが更に好ましい。
式(2)におけるRc及びRcは、より具体的には、メチル基、ブチル基、ジメチルプロピル基、又はメチルシクロヘキシル基が好ましく、メチル基、t-ブチル基、1,1-ジメチルプロピル基、又は1-メチルシクロヘキシル基がより好ましい。
また、式(2)におけるRc及びRcは、同一の基であることが好ましい。
Rc 1 and Rc 2 in formula (2) are each independently preferably an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms.
The alkyl groups represented by Rc 1 and Rc 2 may be linear, branched, or cyclic.
The alkyl group represented by Rc 1 and Rc 2 is more preferably an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms.
More specifically, Rc 1 and Rc 2 in formula (2) are preferably a methyl group, a butyl group, a dimethylpropyl group, or a methylcyclohexyl group, and a methyl group, a t-butyl group, or a 1,1-dimethylpropyl group. , or a 1-methylcyclohexyl group is more preferred.
Moreover, Rc 1 and Rc 2 in formula (2) are preferably the same group.

Rcが水素原子であり、Rcがメチル基である場合、Rcで表されるメチル基は、下記式(2-1)で表される基で置換されていてもよい。 When Rc 1 is a hydrogen atom and Rc 2 is a methyl group, the methyl group represented by Rc 2 may be substituted with a group represented by the following formula (2-1).

式(2-1)中、Raは、水素原子、炭素数1~15のアルキル基、又はアリール基を表し、Rbは、水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、Rdは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~15のアルキル基、又はアリール基を表し、Xは、(メタ)アクリロキシ基を表す。なお、「*」は、Rcで表されるメチル基との結合位置を示す。 In formula (2-1), Ra represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or an aryl group; Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms; Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or an aryl group, and X represents a (meth)acryloxy group. "*" indicates the bonding position with the methyl group represented by Rc2 .

式(2-1)におけるRaは、式(1)におけるRaと同義であり、好ましい態様も同様である。
式(2-1)におけるRbは、式(1)におけるRbと同義であり、好ましい態様も同様である。
式(2-1)におけるRdは、水素原子が好ましい。
Ra in formula (2-1) has the same meaning as Ra in formula (1), and preferred embodiments are also the same.
Rb in formula (2-1) has the same definition as Rb in formula (1), and preferred embodiments are also the same.
Rd in formula (2-1) is preferably a hydrogen atom.

式(3)中、Raは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~15のアルキル基、又はアリール基を表し、Rbは、水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、Xは、(メタ)アクリロキシ基を表す。m及びnは、2以上の整数を表す。 In formula (3), each Ra independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or an aryl group; Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms; , represents a (meth)acryloxy group. m and n represent an integer of 2 or more.

式(3)におけるRaは、式(1)におけるRaと同義であり、好ましい態様も同様である。
式(3)におけるRbは、式(1)におけるRbと同義であり、好ましい態様も同様である。
Ra in formula (3) has the same meaning as Ra in formula (1), and preferred embodiments are also the same.
Rb in formula (3) has the same definition as Rb in formula (1), and preferred embodiments are also the same.

n個の繰り返し単位及びm個の繰り返し単位は、ランダム状に配列されていてもよいし、ブロック状に配列されていてもよい。
式(3)で表される化合物の分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)としては、500~10,000が好ましい。
The n repeating units and the m repeating units may be arranged randomly or in blocks.
The molecular weight of the compound represented by formula (3) (weight average molecular weight when it has a molecular weight distribution) is preferably 500 to 10,000.

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体によれば、例えば、以下のようにして重合開始剤が生成する。
例えば、下記化合物G-1の場合、画像記録層中にラジカル「R・」が発生すると、このラジカル「R・」によって、ラジカル捕捉部位であるアクリロキシ基中のπ結合が切断されて新たにC-R結合ができ、それと共に、水酸基がラジカル「O・」となることで重合禁止能が発現する(即ち、重合禁止剤が生成する)こととなる。
According to the radical-induced polymerization inhibitor precursor, a polymerization initiator is produced, for example, as follows.
For example, in the case of compound G-1 below, when the radical "R." is generated in the image-recording layer, the .pi. A -R bond is formed, and along with this, the hydroxyl group becomes a radical "O."

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体の具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。
中でも、スジ状のムラが抑制された平版印刷版を得る観点からは、下記G-1~G-5が好ましい。
Specific examples of radical-induced polymerization inhibitor precursors are shown below, but the present disclosure is not limited thereto.
Among them, the following G-1 to G-5 are preferable from the viewpoint of obtaining a lithographic printing plate in which streak-like unevenness is suppressed.

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体は、公知の方法にて合成した化合物であってもよいし、上市されている製品であってもよい。
ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体の市販品としては、住友化学(株)製の、スミライザー(登録商標) GM、スミライザー(登録商標) GS、Qingdao Jade New Material Technology社製のAntioxidant GS、Antioxidant GM等が挙げられる。
The radical-induced polymerization inhibitor precursor may be a compound synthesized by a known method or a commercially available product.
Examples of commercially available radical-induced polymerization inhibitor precursors include Sumilizer (registered trademark) GM and Sumilizer (registered trademark) GS manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd. Antioxidant GS and Antioxidant GM manufactured by Qingdao Jade New Material Technology. is mentioned.

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Only one radical-induced polymerization inhibitor precursor may be used, or two or more thereof may be used in combination.

ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体の含有量は、スジ状のムラが抑制された平版印刷版を得る観点から、画像記録層の全質量に対し、0.1質量%~20質量%であることが好ましく、1質量%~12質量%であることがより好ましく、3質量%~12質量%であることが更に好ましく、3質量%~8質量%であることが特に好ましい。 The content of the radical-induced polymerization inhibitor precursor should be 0.1% by mass to 20% by mass with respect to the total mass of the image-recording layer from the viewpoint of obtaining a lithographic printing plate in which streak-like unevenness is suppressed. is preferred, 1% by mass to 12% by mass is more preferred, 3% by mass to 12% by mass is even more preferred, and 3% by mass to 8% by mass is particularly preferred.

本開示における画像記録層中、赤外線吸収剤の含有量Aとラジカル誘起型重合禁止剤前駆体の含有量Bとの含有比率A/Bは、スジ状のムラが抑制された平版印刷版を得る観点から、質量基準にて0.1~2.5であることが好ましく、0.2~2.0であることがより好ましく、0.3~1.0であることが更に好ましく、0.3~0.8であることが特に好ましい。 In the image recording layer of the present disclosure, the content ratio A/B of the content A of the infrared absorbing agent and the content B of the radical-induced polymerization inhibitor precursor provides a lithographic printing plate in which streak-like unevenness is suppressed. From the point of view, it is preferably 0.1 to 2.5, more preferably 0.2 to 2.0, even more preferably 0.3 to 1.0, and 0.1 to 2.5 on a mass basis. 3 to 0.8 are particularly preferred.

〔赤外線吸収剤〕
本開示における画像記録層は、赤外線吸収剤を含む。
赤外線吸収剤としては、特に制限はなく、例えば、顔料及び染料が挙げられる。
赤外線吸収剤として用いられる染料としては、市販の染料及び例えば、「染料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、金属チオレート錯体等の染料が挙げられる。
[Infrared absorber]
The image-recording layer in the present disclosure contains an infrared absorber.
The infrared absorbing agent is not particularly limited, and examples thereof include pigments and dyes.
As the dye used as the infrared absorbing agent, commercially available dyes and known dyes described in literature such as "Dye Handbook" (edited by the Society of Organic Synthetic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, dyes such as azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, and metal thiolate complexes. is mentioned.

これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、ニッケルチオレート錯体、インドレニンシアニン色素が挙げられる。更に、シアニン色素やインドレニンシアニン色素が挙げられる。中でも、シアニン色素が特に好ましい。 Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, nickel thiolate complexes, and indolenine cyanine dyes. Further examples include cyanine dyes and indolenine cyanine dyes. Among them, cyanine dyes are particularly preferred.

上記赤外線吸収剤としては、メソ位に酸素又は窒素原子を有するカチオン性のポリメチン色素であることが好ましい。カチオン性のポリメチン色素としては、シアニン色素、ピリリウム色素、チオピリリウム色素、アズレニウム色素等が好ましく挙げられ、入手の容易性、導入反応時の溶剤溶解性等の観点から、シアニン色素であることが好ましい。 The infrared absorber is preferably a cationic polymethine dye having an oxygen or nitrogen atom at the meso position. As cationic polymethine dyes, cyanine dyes, pyrylium dyes, thiopyrylium dyes, azulenium dyes, and the like are preferably exemplified, and cyanine dyes are preferable from the viewpoints of availability, solvent solubility during the introduction reaction, and the like.

シアニン色素の具体例としては、特開2001-133969号公報の段落0017~0019に記載の化合物、特開2002-023360号公報の段落0016~0021、特開2002-040638号公報の段落0012~0037に記載の化合物、好ましくは特開2002-278057号公報の段落0034~0041、特開2008-195018号公報の段落0080~0086に記載の化合物、特に好ましくは特開2007-90850号公報の段落0035~0043に記載の化合物、特開2012-206495号公報の段落0105~0113に記載の化合物が挙げられる。
また、特開平5-5005号公報の段落0008~0009、特開2001-222101号公報の段落0022~0025に記載の化合物も好ましく使用することができる。
顔料としては、特開2008-195018号公報の段落0072~0076に記載の化合物が好ましい。
Specific examples of cyanine dyes include compounds described in paragraphs 0017 to 0019 of JP-A-2001-133969, paragraphs 0016-0021 of JP-A-2002-023360, and paragraphs 0012-0037 of JP-A-2002-040638. Compounds described in, preferably paragraphs 0034 to 0041 of JP-A-2002-278057, compounds described in paragraphs 0080-0086 of JP-A-2008-195018, particularly preferably paragraph 0035 of JP-A-2007-90850 to 0043, and compounds described in paragraphs 0105 to 0113 of JP-A-2012-206495.
In addition, the compounds described in paragraphs 0008 to 0009 of JP-A-5-5005 and paragraphs 0022-0025 of JP-A-2001-222101 can also be preferably used.
As the pigment, compounds described in paragraphs 0072 to 0076 of JP-A-2008-195018 are preferable.

赤外線吸収剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。
また、赤外線吸収剤として顔料と染料とを併用してもよい。
Only 1 type may be used for an infrared absorber and it may use 2 or more types together.
Also, a pigment and a dye may be used in combination as an infrared absorber.

赤外線吸収剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.1質量%~10.0質量%が好ましく、0.5質量%~5.0質量%がより好ましい。 The content of the infrared absorbing agent is preferably 0.1% by mass to 10.0% by mass, more preferably 0.5% by mass to 5.0% by mass, relative to the total mass of the image recording layer.

〔重合開始剤〕
本開示における画像記録層は、重合開始剤を含む。
重合開始剤としては、電子受容型重合開始剤を含むことが好ましく、電子受容型重合開始剤及び電子供与型重合開始剤を含むことがより好ましい。
[Polymerization initiator]
The image-recording layer in the present disclosure contains a polymerization initiator.
The polymerization initiator preferably contains an electron-accepting polymerization initiator, and more preferably contains an electron-accepting polymerization initiator and an electron-donating polymerization initiator.

[電子受容型重合開始剤]
本開示における画像記録層は、重合開始剤として、電子受容型重合開始剤を含むことが好ましい。
電子受容型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起した際に、分子間電子移動で一電子を受容することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
電子受容型重合開始剤は、光、熱あるいはその両方のエネルギーによりラジカル、カチオン等の重合開始種を発生する化合物であって、公知の熱重合開始剤、結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを適宜選択して用いることができる。
電子受容型重合開始剤としては、ラジカル重合開始剤が好ましく、オニウム塩化合物がより好ましい。
また、電子受容型重合開始剤としては、赤外線感光性重合開始剤であることが好ましい。
電子受容型ラジカル重合開始剤としては、例えば、(a)有機ハロゲン化物、(b)カルボニル化合物、(c)アゾ化合物、(d)有機過酸化物、(e)メタロセン化合物、(f)アジド化合物、(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物、(i)ジスルホン化合物、(j)オキシムエステル化合物、及び、(k)オニウム塩化合物が挙げられる。
[Electron-accepting polymerization initiator]
The image-recording layer in the present disclosure preferably contains an electron-accepting polymerization initiator as a polymerization initiator.
The electron-accepting polymerization initiator is a compound that generates polymerization initiation species such as radicals by accepting one electron through intermolecular electron transfer when electrons of an infrared absorber are excited by infrared exposure.
The electron-accepting polymerization initiator is a compound that generates polymerization initiation species such as radicals and cations by the energy of light, heat, or both. A photopolymerization initiator or the like can be appropriately selected and used.
As the electron-accepting polymerization initiator, a radical polymerization initiator is preferable, and an onium salt compound is more preferable.
Further, the electron-accepting polymerization initiator is preferably an infrared-sensitive polymerization initiator.
Examples of electron-accepting radical polymerization initiators include (a) organic halides, (b) carbonyl compounds, (c) azo compounds, (d) organic peroxides, (e) metallocene compounds, and (f) azide compounds. , (g) hexaarylbiimidazole compounds, (i) disulfone compounds, (j) oxime ester compounds, and (k) onium salt compounds.

(a)有機ハロゲン化物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0022~0023に記載の化合物が好ましい。
(b)カルボニル化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0024に記載の化合物が好ましい。
(c)アゾ化合物としては、例えば、特開平8-108621号公報に記載のアゾ化合物等を使用することができる。
(d)有機過酸化物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0025に記載の化合物が好ましい。
(e)メタロセン化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0026に記載の化合物が好ましい。
(f)アジド化合物としては、例えば、2,6-ビス(4-アジドベンジリデン)-4-メチルシクロヘキサノン等の化合物を挙げることができる。
(g)ヘキサアリールビイミダゾール化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0027に記載の化合物が好ましい。
(i)ジスルホン化合物としては、例えば、特開昭61-166544号、特開2002-328465号の各公報に記載の化合物が挙げられる。
(j)オキシムエステル化合物としては、例えば、特開2008-195018号公報の段落0028~0030に記載の化合物が好ましい。
(a) As the organic halide, for example, compounds described in paragraphs 0022 to 0023 of JP-A-2008-195018 are preferable.
As the (b) carbonyl compound, for example, compounds described in paragraph 0024 of JP-A-2008-195018 are preferable.
(c) As the azo compound, for example, an azo compound described in JP-A-8-108621 can be used.
(d) As the organic peroxide, for example, compounds described in paragraph 0025 of JP-A-2008-195018 are preferable.
(e) As the metallocene compound, for example, compounds described in paragraph 0026 of JP-A-2008-195018 are preferable.
(f) Azide compounds include, for example, compounds such as 2,6-bis(4-azidobenzylidene)-4-methylcyclohexanone.
As the hexaarylbiimidazole compound (g), for example, compounds described in paragraph 0027 of JP-A-2008-195018 are preferable.
(i) Disulfone compounds include, for example, compounds described in JP-A-61-166544 and JP-A-2002-328465.
(j) As the oxime ester compound, for example, compounds described in paragraphs 0028 to 0030 of JP-A-2008-195018 are preferable.

上記電子受容型重合開始剤の中でも好ましいものとして、硬化性の観点から、オキシムエステル化合物及びオニウム塩化合物が挙げられる。中でも、耐刷性の観点から、ヨードニウム塩化合物、スルホニウム塩化合物又はアジニウム塩化合物が好ましく、ヨードニウム塩化合物又はスルホニウム塩化合物がより好ましく、ヨードニウム塩化合物が特に好ましい。
これら化合物の具体例を以下に示すが、本開示はこれに限定されるものではない。
Among the above electron-accepting polymerization initiators, oxime ester compounds and onium salt compounds are preferred from the viewpoint of curability. Among them, from the viewpoint of printing durability, an iodonium salt compound, a sulfonium salt compound or an azinium salt compound is preferable, an iodonium salt compound or a sulfonium salt compound is more preferable, and an iodonium salt compound is particularly preferable.
Specific examples of these compounds are shown below, but the present disclosure is not limited thereto.

ヨードニウム塩化合物の例としては、ジアリールヨードニウム塩化合物が好ましく、特に電子供与性基、例えば、アルキル基又はアルコキシル基で置換されたジフェニルヨードニウム塩化合物がより好ましく、また、非対称のジフェニルヨードニウム塩化合物が好ましい。具体例としては、ジフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-メトキシフェニル-4-(2-メチルプロピル)フェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-(2-メチルプロピル)フェニル-p-トリルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、4-ヘキシルオキシフェニル-2,4-ジエトキシフェニルヨードニウム=テトラフルオロボラート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=1-ペルフルオロブタンスルホナート、4-オクチルオキシフェニル-2,4,6-トリメトキシフェニルヨードニウム=ヘキサフルオロホスファート、ビス(4-t-ブチルフェニル)ヨードニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。 Examples of iodonium salt compounds are preferably diaryliodonium salt compounds, more preferably diphenyliodonium salt compounds substituted with an electron-donating group such as an alkyl group or an alkoxyl group, and more preferably asymmetric diphenyliodonium salt compounds. . Specific examples include diphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-methoxyphenyl-4-(2-methylpropyl)phenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-(2-methylpropyl)phenyl-p-tolyliodonium = hexafluorophosphate. Fluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, 4-hexyloxyphenyl-2,4-diethoxyphenyliodonium = tetrafluoroborate, 4-octyloxy Phenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = 1-perfluorobutanesulfonate, 4-octyloxyphenyl-2,4,6-trimethoxyphenyliodonium = hexafluorophosphate, bis(4-t-butylphenyl ) iodonium hexafluorophosphate.

スルホニウム塩化合物の例としては、トリアリールスルホニウム塩化合物が好ましく、特に電子求引性基、例えば、芳香環上の基の少なくとも一部がハロゲン原子で置換されたトリアリールスルホニウム塩化合物が好ましく、芳香環上のハロゲン原子の総置換数が4以上であるトリアリールスルホニウム塩化合物が更に好ましい。具体例としては、トリフェニルスルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリフェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4-クロロフェニル)フェニルスルホニウム=ベンゾイルホルマート、ビス(4-クロロフェニル)-4-メチルフェニルスルホニウム=テトラフルオロボラート、トリス(4-クロロフェニル)スルホニウム=3,5-ビス(メトキシカルボニル)ベンゼンスルホナート、トリス(4-クロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファート、トリス(2,4-ジクロロフェニル)スルホニウム=ヘキサフルオロホスファートが挙げられる。 Examples of the sulfonium salt compounds are preferably triarylsulfonium salt compounds, particularly preferably triarylsulfonium salt compounds in which at least part of an electron-withdrawing group, such as a group on the aromatic ring, is substituted with a halogen atom. More preferred are triarylsulfonium salt compounds in which the total number of halogen atoms substituted on the ring is 4 or more. Specific examples include triphenylsulfonium hexafluorophosphate, triphenylsulfonium benzoylformate, bis(4-chlorophenyl)phenylsulfonium benzoylformate, bis(4-chlorophenyl)-4-methylphenylsulfonium tetrafluoro borate, tris(4-chlorophenyl)sulfonium 3,5-bis(methoxycarbonyl)benzenesulfonate, tris(4-chlorophenyl)sulfonium hexafluorophosphate, tris(2,4-dichlorophenyl)sulfonium hexafluorophosphate Fart is mentioned.

また、ヨードニウム塩化合物及びスルホニウム塩化合物の対アニオンの例としては、スルホネートアニオン、カルボキシレートアニオン、テトラフルオロボレートアニオン、ヘキサフルオロホスフェートアニオン、p-トルエンスルホネートアニオン、トシレートアニオン、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが挙げられる。
中でも、スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンが好ましく、スルホンイミドアニオンがより好ましい。
スルホンアミドアニオンとしては、アリールスルホンアミドアニオンが好ましい。
また、スルホンイミドアニオンとしては、ビスアリールスルホンイミドアニオンが好ましい。
スルホンアミドアニオン又はスルホンイミドアニオンの具体例を以下に示すが、本開示はこれらに限定されるものではない。下記具体例中、Phはフェニル基を、Meはメチル基を、Etはエチル基を、それぞれ表す。
Examples of counter anions for iodonium salt compounds and sulfonium salt compounds include sulfonate anions, carboxylate anions, tetrafluoroborate anions, hexafluorophosphate anions, p-toluenesulfonate anions, tosylate anions, sulfonamide anions or sulfonimides. Anions are mentioned.
Among them, a sulfonamide anion or a sulfonimide anion is preferable, and a sulfonimide anion is more preferable.
As the sulfonamide anion, an arylsulfonamide anion is preferred.
Moreover, as the sulfonimide anion, a bisarylsulfonimide anion is preferable.
Specific examples of sulfonamide anions or sulfonimide anions are shown below, but the present disclosure is not limited thereto. In the following specific examples, Ph represents a phenyl group, Me represents a methyl group, and Et represents an ethyl group, respectively.

電子受容型重合開始剤の最低空軌道(LUMO)は、感度の向上及び版飛びを発生しにくくする観点から、-3.00eV以下であることが好ましく、-3.02eV以下であることがより好ましい。
また、下限としては、-3.80eV以上であることが好ましく、-3.60eV以上であることがより好ましい。
The lowest unoccupied molecular orbital (LUMO) of the electron-accepting polymerization initiator is preferably −3.00 eV or less, more preferably −3.02 eV or less, from the viewpoint of improving sensitivity and preventing plate skipping. preferable.
The lower limit is preferably -3.80 eV or more, more preferably -3.60 eV or more.

電子受容型重合開始剤は、1種単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。 The electron-accepting polymerization initiator may be used singly or in combination of two or more.

電子受容型重合開始剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.1質量%~50質量%であることが好ましく、0.5質量%~30質量%であることがより好ましく、0.8質量%~20質量%であることが特に好ましい。 The content of the electron-accepting polymerization initiator is preferably 0.1% by mass to 50% by mass, more preferably 0.5% by mass to 30% by mass, relative to the total mass of the image-recording layer. , 0.8% by weight to 20% by weight.

[電子供与型重合開始剤(重合助剤)]
本開示における画像記録層は、重合開始剤として、電子供与型重合開始剤(「重合助剤」ともいう)を含むことが好ましい。
電子供与型重合開始剤は、赤外線露光により赤外線吸収剤の電子が励起又は分子内移動した際に、赤外線吸収剤の一電子抜けた軌道に分子間電子移動で一電子を供与することにより、ラジカル等の重合開始種を発生する化合物である。
電子供与型重合開始剤としては、電子供与型ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
[Electron donating polymerization initiator (polymerization aid)]
The image-recording layer in the present disclosure preferably contains an electron-donating polymerization initiator (also referred to as a "polymerization aid") as a polymerization initiator.
The electron-donating polymerization initiator provides radical It is a compound that generates polymerization initiation species such as
The electron-donating polymerization initiator is preferably an electron-donating radical polymerization initiator.

画像記録層は、耐刷性向上の観点から、以下に挙げられる電子供与型重合開始剤を含有することが好ましい。
(i)アルキル又はアリールアート錯体:酸化的に炭素-ヘテロ結合が解裂し、活性ラジカルを生成すると考えられる。具体的には、ボレート化合物が好ましい。
(ii)N-アリールアルキルアミン化合物:酸化により窒素に隣接した炭素上のC-X結合が解裂し、活性ラジカルを生成するものと考えられる。Xとしては、水素原子、カルボキシル基、トリメチルシリル基又はベンジル基が好ましい。具体的には、例えば、N-フェニルグリシン類(フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。)、N-フェニルイミノジ酢酸(フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。)が挙げられる。
(iii)含硫黄化合物:上述のアミン類の窒素原子を硫黄原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。例えばフェニルチオ酢酸(フェニル基に置換基を有していてもいなくてもよい。)が挙げられる。
(iv)含錫化合物:上述のアミン類の窒素原子を錫原子に置き換えたものが、同様の作用により活性ラジカルを生成し得る。
(v)スルフィン酸塩類:酸化により活性ラジカルを生成し得る。具体的は、アリールスルフィン駿ナトリウム等を挙げることができる。
From the viewpoint of improving printing durability, the image-recording layer preferably contains the following electron-donating polymerization initiators.
(i) Alkyl or arylate complexes: It is believed that the carbon-hetero bond is oxidatively cleaved to generate active radicals. Specifically, borate compounds are preferred.
(ii) N-arylalkylamine compounds: It is believed that oxidation cleaves the C—X bond on the carbon adjacent to the nitrogen to generate an active radical. X is preferably a hydrogen atom, a carboxyl group, a trimethylsilyl group or a benzyl group. Specifically, for example, N-phenylglycines (which may or may not have a substituent on the phenyl group), N-phenyliminodiacetic acid (which may or may not have a substituent on the phenyl group), may be used).
(iii) Sulfur-containing compound: The above-mentioned amines in which the nitrogen atom is replaced with a sulfur atom can generate active radicals by the same action. Examples thereof include phenylthioacetic acid (the phenyl group may or may not have a substituent).
(iv) Tin-containing compounds: The above-mentioned amines in which the nitrogen atom is replaced with a tin atom can generate active radicals by the same action.
(v) Sulfinates: can generate active radicals upon oxidation. Specifically, arylsulfin sodium and the like can be mentioned.

これらの中でも、画像記録層は、耐刷性の観点から、ボレート化合物を含有することが好ましい。
ボレート化合物としては、耐刷性及び発色性の観点から、テトラアリールボレート化合物、又は、モノアルキルトリアリールボレート化合物であることが好ましく、テトラアリールボレート化合物であることがより好ましい。
ボレート化合物が有する対カチオンとしては、特に制限はないが、アルカリ金属イオン、又は、テトラアルキルアンモニウムイオンであることが好ましく、ナトリウムイオン、カリウムイオン、又は、テトラブチルアンモニウムイオンであることがより好ましい。
Among these, the image recording layer preferably contains a borate compound from the viewpoint of printing durability.
The borate compound is preferably a tetraarylborate compound or a monoalkyltriarylborate compound, more preferably a tetraarylborate compound, from the viewpoint of printing durability and color development.
The counter cation of the borate compound is not particularly limited, but is preferably an alkali metal ion or a tetraalkylammonium ion, more preferably a sodium ion, a potassium ion, or a tetrabutylammonium ion.

ボレート化合物として具体的には、ナトリウムテトラフェニルボレートが好ましく挙げられる。 A preferred example of the borate compound is sodium tetraphenylborate.

以下に電子供与型重合開始剤の好ましい具体例として、B-1~B-9を示すが、これらに限定されないことは、言うまでもない。また、下記化学式において、Phはフェニル基を表し、Buはn-ブチル基を表す。 B-1 to B-9 are shown below as preferred specific examples of the electron-donating polymerization initiator, but needless to say, the present invention is not limited to these. In the chemical formulas below, Ph represents a phenyl group and Bu represents an n-butyl group.

また、電子供与型重合開始剤の最高被占軌道(HOMO)は、感度の向上及び版飛びを発生しにくくする観点から、-6.00eV以上であることが好ましく、-5.95eV以上であることがより好ましく、-5.93eV以上であることが更に好ましい。
また、上限としては、-5.00eV以下であることが好ましく、-5.40eV以下であることがより好ましい。
In addition, the highest occupied molecular orbital (HOMO) of the electron-donating polymerization initiator is preferably -6.00 eV or more, and -5.95 eV or more, from the viewpoint of improving sensitivity and preventing plate skipping. is more preferable, and −5.93 eV or more is even more preferable.
The upper limit is preferably -5.00 eV or less, more preferably -5.40 eV or less.

電子供与型重合開始剤は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Only one type of electron-donating polymerization initiator may be used, or two or more types may be used in combination.

電子供与型重合開始剤の含有量としては、感度及び耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対し、0.01質量%~30質量%であることが好ましく、0.05質量%~25質量%であることがより好ましく、0.1質量%~20質量%であることが更に好ましい。 The content of the electron-donating polymerization initiator is preferably 0.01% by mass to 30% by mass, preferably 0.05% by mass, based on the total mass of the image-recording layer, from the viewpoint of sensitivity and printing durability. It is more preferably from 0.1 mass % to 20 mass %, more preferably from 0.1 mass % to 20 mass %.

本開示において、重合開始剤は、電子供与型重合開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成している化合物であってもよい。
例えば、本開示において、電子供与型重合開始剤におけるアニオンと電子受容型重合開始剤におけるカチオンとが対塩を形成してなる化合物であることが好ましく、オニウムカチオンとボレートアニオンとが対塩を形成してなる化合物であることがより好ましく、ヨードニウムカチオン又はスルホニウムカチオンとボレートアニオンとが対塩を形成してなる化合物であることが更に好ましく、ジアリールヨードニウムカチオン又はトリアリールスルホニウムカチオンとテトラアリールボレートアニオンとが対塩を形成してなる化合物であることが特に好ましい。
電子供与型重合開始剤におけるアニオン、及び、電子受容型重合開始剤におけるカチオンの好ましい態様としては、既述の電子供与型重合開始剤におけるアニオン及び既述の電子受容型重合開始剤におけるカチオンの好ましい態様と同様である。
画像記録層が、電子供与型重合開始剤であるアニオンと、電子受容型重合開始剤であるカチオンと、を含む場合(つまり、上記対塩を形成している化合物を含む場合)、画像記録層は電子受容型重合開始剤及び上記電子供与型重合開始剤を含むものとする。
また、電子供与型重合開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成している化合物は、電子供与型重合開始剤として用いてもよいし、電子受容型重合開始剤として用いてもよい。
また、電子供与型重合開始剤と電子受容型重合開始剤とが対塩を形成してなる化合物は、既述の電子供与型重合開始剤と併用してもよいし、既述の電子受容型重合開始剤と併用してもよい。
In the present disclosure, the polymerization initiator may be a compound in which an electron-donating polymerization initiator and an electron-accepting polymerization initiator form a counter salt.
For example, in the present disclosure, a compound in which an anion in an electron-donating polymerization initiator and a cation in an electron-accepting polymerization initiator form a countersalt is preferable, and an onium cation and a borate anion form a countersalt. more preferably a compound formed by forming a counter salt with an iodonium cation or a sulfonium cation and a borate anion, and a compound formed by forming a counter salt with a diaryliodonium cation or triarylsulfonium cation and a tetraarylborate anion is particularly preferred to be a compound formed by forming a counter salt.
As preferred embodiments of the anion in the electron-donating polymerization initiator and the cation in the electron-accepting polymerization initiator, the anion in the electron-donating polymerization initiator and the cation in the electron-accepting polymerization initiator are preferred. It is the same as the aspect.
When the image-recording layer contains an anion that is an electron-donating polymerization initiator and a cation that is an electron-accepting polymerization initiator (that is, when it contains the compound forming the counter salt), the image-recording layer shall include an electron-accepting polymerization initiator and the electron-donating polymerization initiator.
Further, a compound in which an electron-donating polymerization initiator and an electron-accepting polymerization initiator form a counter salt may be used as an electron-donating polymerization initiator or as an electron-accepting polymerization initiator. good.
Further, the compound formed by forming a counter salt between an electron-donating polymerization initiator and an electron-accepting polymerization initiator may be used in combination with the above-described electron-donating polymerization initiator, or may be used in combination with the above-described electron-accepting polymerization initiator. It may be used in combination with a polymerization initiator.

[赤外線吸収剤と電子供与型重合開始剤との好ましい態様]
本開示における画像記録層は、感度の向上及び耐刷性の観点から、赤外線吸収剤のHOMO-電子供与型重合開始剤のHOMOの値が、0.70eV以下であることが好ましく、0.70eV~-0.10eVであることがより好ましい。
なお、マイナスの値は、上記電子供与型重合開始剤のHOMOが、上記赤外線吸収剤のHOMOよりも高くなることを意味する。
[Preferred embodiment of infrared absorbing agent and electron-donating polymerization initiator]
In the image-recording layer of the present disclosure, the HOMO value of the infrared absorber-the HOMO value of the electron-donating polymerization initiator is preferably 0.70 eV or less, from the viewpoint of improving sensitivity and printing durability. It is more preferably ~-0.10 eV.
A negative value means that the HOMO of the electron-donating polymerization initiator is higher than the HOMO of the infrared absorber.

[電子受容型重合開始剤及び赤外線吸収剤の好ましい態様]
本開示における画像記録層は、感度の向上及び耐刷性の観点から、電子受容型重合開始剤のLUMO-赤外線吸収剤のLUMOの値が、0.80eV以下であることが好ましく、0.80eV~-0.10eVであることがより好ましい。
なお、マイナスの値は、上記赤外線吸収剤のLUMOが、上記電子受容型重合開始剤のLUMOよりも高くなることを意味する。
[Preferred Embodiments of Electron Accepting Polymerization Initiator and Infrared Absorber]
In the image recording layer of the present disclosure, the LUMO value of the electron-accepting polymerization initiator and the LUMO value of the infrared absorber is preferably 0.80 eV or less, from the viewpoint of improving sensitivity and printing durability. It is more preferably ~-0.10 eV.
A negative value means that the LUMO of the infrared absorber is higher than the LUMO of the electron-accepting polymerization initiator.

〔重合性化合物〕
本開示における画像記録層は、重合性化合物を含む。
本開示において、重合性化合物とは、重合性基を有する化合物をいう。
重合性基としては、特に限定されず公知の重合性基であればよいが、エチレン性不飽和基であることが好ましい。また、重合性基としては、ラジカル重合性基であってもカチオン重合性基であってもよいが、ラジカル重合性基であることが好ましい。
ラジカル重合性基としては、(メタ)アクリロイル基、アリル基、ビニルフェニル基、ビニル基等が挙げられ、反応性の観点から(メタ)アクリロイル基が好ましい。
重合性化合物の分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)は、50以上2,500未満であることが好ましい。
[Polymerizable compound]
The image-recording layer in the present disclosure contains a polymerizable compound.
In the present disclosure, a polymerizable compound refers to a compound having a polymerizable group.
The polymerizable group is not particularly limited as long as it is a known polymerizable group, but an ethylenically unsaturated group is preferred. The polymerizable group may be a radically polymerizable group or a cationic polymerizable group, but is preferably a radically polymerizable group.
The radically polymerizable group includes a (meth)acryloyl group, an allyl group, a vinylphenyl group, a vinyl group, and the like, and a (meth)acryloyl group is preferable from the viewpoint of reactivity.
The molecular weight of the polymerizable compound (the weight average molecular weight when it has a molecular weight distribution) is preferably 50 or more and less than 2,500.

本開示に用いられる重合性化合物は、例えば、ラジカル重合性化合物であっても、カチオン重合性化合物であってもよいが、少なくとも1個のエチレン性不飽和結合を有する付加重合性化合物(エチレン性不飽和化合物)であることが好ましい。
エチレン性不飽和化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少なくとも1個有する化合物であることが好ましく、末端エチレン性不飽和結合を2個以上有する化合物であることがより好ましい。重合性化合物は、例えばモノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量体若しくはオリゴマー、又は、それらの混合物などの化学的形態をもつ。
中でも、上記重合性化合物としては、UV耐刷性の観点から、3官能以上の重合性化合物を含むことが好ましく、7官能以上の重合性基を含むことがより好ましく、10官能以上の重合性基を含むことが更に好ましい。また、上記重合性化合物は、得られる平版印刷版におけるUV耐刷性の観点から、3官能以上(好ましくは7官能以上、より好ましくは10官能以上)のエチレン性不飽和化合物を含むことが好ましく、3官能以上(好ましくは7官能以上、より好ましくは10官能以上)の(メタ)アクリレート化合物を含むことが更に好ましい。
The polymerizable compound used in the present disclosure may be, for example, a radical polymerizable compound or a cationically polymerizable compound, but an addition polymerizable compound having at least one ethylenically unsaturated bond (ethylenic unsaturated compounds).
The ethylenically unsaturated compound is preferably a compound having at least one terminal ethylenically unsaturated bond, more preferably a compound having two or more terminal ethylenically unsaturated bonds. Polymerizable compounds have chemical forms such as, for example, monomers, prepolymers, ie dimers, trimers or oligomers, or mixtures thereof.
Among them, from the viewpoint of UV printing durability, the polymerizable compound preferably contains a trifunctional or higher polymerizable compound, more preferably contains a heptafunctional or higher polymerizable group, and a 10 or higher functional polymerizable compound. More preferably it contains a group. In addition, the polymerizable compound preferably contains a trifunctional or higher (preferably heptafunctional or higher, more preferably 10 or higher functional) ethylenically unsaturated compound from the viewpoint of the UV printing durability of the resulting lithographic printing plate. , tri- or higher (preferably hepta- or higher, more preferably 10- or higher) (meth)acrylate compound.

[オリゴマー]
画像記録層に含まれる重合性化合物としては、オリゴマーである重合性化合物(以下、単に「オリゴマー」ともいう。)を含有することが好ましい。
本開示においてオリゴマーとは、分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)が600以上10,000以下であり、かつ、重合性基を少なくとも1つ含む重合性化合物を表す。
耐薬品性、UV耐刷性に優れる観点から、オリゴマーの分子量としては、1,000以上5,000以下であることが好ましい。
[Oligomer]
The polymerizable compound contained in the image-recording layer preferably contains a polymerizable compound that is an oligomer (hereinafter also simply referred to as "oligomer").
In the present disclosure, the term "oligomer" refers to a polymerizable compound having a molecular weight (weight average molecular weight when having a molecular weight distribution) of 600 or more and 10,000 or less and containing at least one polymerizable group.
From the viewpoint of excellent chemical resistance and UV printing durability, the molecular weight of the oligomer is preferably 1,000 or more and 5,000 or less.

また、UV耐刷性を向上させる観点から、1分子のオリゴマーにおける重合性基数は、2以上であることが好ましく、3以上であることがより好ましく、6以上であることが更に好ましく、10以上であることが特に好ましい。
また、オリゴマーにおける重合性基の上限値は、特に制限はないが、重合性基の数は20以下であることが好ましい。
From the viewpoint of improving UV printing durability, the number of polymerizable groups in one molecule of the oligomer is preferably 2 or more, more preferably 3 or more, still more preferably 6 or more, and 10 or more. is particularly preferred.
The upper limit of the polymerizable groups in the oligomer is not particularly limited, but the number of polymerizable groups is preferably 20 or less.

UV耐刷性、及び、機上現像性の観点から、オリゴマーとしては、重合性基の数が7以上であり、かつ、分子量が1,000以上10,000以下であることが好ましく、重合性基の数が7以上20以下であり、かつ、分子量が1,000以上5,000以下であることがより好ましい。 From the viewpoint of UV printing durability and on-press developability, the oligomer preferably has 7 or more polymerizable groups and a molecular weight of 1,000 or more and 10,000 or less. More preferably, the number of groups is 7 or more and 20 or less and the molecular weight is 1,000 or more and 5,000 or less.

UV耐刷性、視認性、及び、機上現像性の観点から、オリゴマーは、ウレタン結合を有する化合物、エステル結合を有する化合物及びエポキシ残基を有する化合物からなる群より選ばれる少なくとも1種を有することが好ましく、ウレタン結合を有する化合物を有することが好ましい。
本開示においてエポキシ残基とは、エポキシ基により形成される構造を指し、例えば酸基(カルボン酸基等)とエポキシ基との反応により得られる構造と同様の構造を意味する。
From the viewpoint of UV printing durability, visibility, and on-press developability, the oligomer has at least one selected from the group consisting of a compound having a urethane bond, a compound having an ester bond, and a compound having an epoxy residue. is preferable, and it is preferable to have a compound having a urethane bond.
In the present disclosure, an epoxy residue refers to a structure formed by an epoxy group, and means a structure similar to a structure obtained by reacting an acid group (such as a carboxylic acid group) with an epoxy group, for example.

(ウレタン結合を有する化合物)
オリゴマーの例であるウレタン結合を有する化合物としては、例えば、下記式(Ac-1)又は式(Ac-2)で表される基を少なくとも有する化合物であることが好ましく、下記式(Ac-1)で表される基を少なくとも有する化合物であることがより好ましい。
(Compound with urethane bond)
The compound having a urethane bond, which is an example of an oligomer, is preferably a compound having at least a group represented by the following formula (Ac-1) or formula (Ac-2), and the following formula (Ac-1 ) is more preferably a compound having at least a group represented by

式(Ac-1)及び式(Ac-2)中、L~Lはそれぞれ独立に、炭素数2~20の二価の炭化水素基を表し、波線部分は他の構造との結合位置を表す。
~Lとしては、それぞれ独立に、炭素数2~20のアルキレン基であることが好ましく、炭素数2~10のアルキレン基であることがより好ましく、炭素数4~8のアルキレン基であることが更に好ましい。また、上記アルキレン基は、分岐又は環構造を有していてもよいが、直鎖アルキレン基であることが好ましい。
In formulas (Ac-1) and (Ac-2), L 1 to L 4 each independently represent a divalent hydrocarbon group having 2 to 20 carbon atoms, and the wavy line portion is a bonding position with another structure. represents
L 1 to L 4 are each independently preferably an alkylene group having 2 to 20 carbon atoms, more preferably an alkylene group having 2 to 10 carbon atoms, and an alkylene group having 4 to 8 carbon atoms. It is even more preferable to have Further, the alkylene group may have a branched or ring structure, but is preferably a linear alkylene group.

式(Ac-1)又は式(Ac-2)における波線部はそれぞれ独立に、下記式(Ae-1)又は式(Ae-2)で表される基における波線部と直接結合することが好ましい。 Each wavy line portion in formula (Ac-1) or formula (Ac-2) is preferably directly bonded to the wavy line portion in the group represented by formula (Ae-1) or formula (Ae-2) below. .

式(Ae-1)及び式(Ae-2)中、Rはそれぞれ独立に、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイルオキシ基を表し、波線部分は式(Ac-1)及び式(Ac-2)における波線部との結合位置を表す。 In formula (Ae-1) and formula (Ae-2), R each independently represents an acryloyloxy group or a methacryloyloxy group, and the wavy line portion is the wavy line portion in formula (Ac-1) and formula (Ac-2) represents the binding position with

また、ウレタン結合を有する化合物として、ポリイソシアネート化合物と、ポリオール化合物と、の反応により得られるポリウレタンに、高分子反応により重合性基を導入した化合物を用いてもよい。
例えば、酸基を有するポリオール化合物と、ポリイソシアネート化合物を反応させて得られたポリウレタンオリゴマーに、エポキシ基及び重合性基を有する化合物を反応させることにより、ウレタン結合を有する化合物を得てもよい。
As the compound having a urethane bond, a compound obtained by introducing a polymerizable group through a polymer reaction into a polyurethane obtained by reacting a polyisocyanate compound and a polyol compound may be used.
For example, a compound having a urethane bond may be obtained by reacting a compound having an epoxy group and a polymerizable group with a polyurethane oligomer obtained by reacting a polyol compound having an acid group and a polyisocyanate compound.

(エステル結合を有する化合物)
オリゴマーの例であるエステル結合を有する化合物における重合性基の数は、3以上であることが好ましく、6以上であることが更に好ましい。
(Compound with an ester bond)
The number of polymerizable groups in a compound having an ester bond, which is an example of an oligomer, is preferably 3 or more, more preferably 6 or more.

(エポキシ残基を有する化合物)
オリゴマーの例であるエポキシ残基を有する化合物としては、化合物内にヒドロキシ基を含む化合物が好ましい。
また、エポキシ残基を有する化合物における重合性基の数は、2~6であることが好ましく、2~3であることがより好ましい。
上記エポキシ残基を有する化合物としては、例えば、エポキシ基を有する化合物にアクリル酸を反応することにより得ることができる。
(Compound with epoxy residue)
As the compound having an epoxy residue, which is an example of an oligomer, a compound containing a hydroxy group in the compound is preferable.
The number of polymerizable groups in the compound having an epoxy residue is preferably 2-6, more preferably 2-3.
The compound having an epoxy residue can be obtained, for example, by reacting a compound having an epoxy group with acrylic acid.

オリゴマーの具体例を下記表に示すが、本開示において用いられるオリゴマーはこれに限定されるものではない。
オリゴマーとしては、市販品を用いてもよく、UA510H、UA-306H、UA-306I、UA-306T(いずれも共栄社化学(株)製)、UV-1700B、UV-6300B、UV7620EA(いずれも日本合成化学工業(株)製)、U-15HA(新中村化学工業(株)製)、EBECRYL450、EBECRYL657、EBECRYL885、EBECRYL800、EBECRYL3416、EBECRYL860(いずれもダイセルオルネクス(株)製)等が挙げられるが、これに限定されるものではない。
Specific examples of oligomers are shown in the table below, but the oligomers used in the present disclosure are not limited thereto.
As the oligomer, commercially available products may be used, such as UA510H, UA-306H, UA-306I, UA-306T (all manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), UV-1700B, UV-6300B, UV7620EA (all of Nippon Synthesis Kagaku Kogyo Co., Ltd.), U-15HA (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Industry Co., Ltd.), EBECRYL450, EBECRYL657, EBECRYL885, EBECRYL800, EBECRYL3416, EBECRYL860 (all manufactured by Daicel Allnex Co., Ltd.), etc. It is not limited to this.

オリゴマーの含有量は、耐薬品性、UV耐刷性、及び機上現像カスの抑制性を向上させる観点から、画像記録層における重合性化合物の全質量に対し、30質量%~100質量%であることが好ましく、50質量%~100質量%であることがより好ましく、80質量%~100質量%であることが更に好ましい。 The content of the oligomer is 30% by mass to 100% by mass with respect to the total mass of the polymerizable compounds in the image recording layer from the viewpoint of improving chemical resistance, UV printing durability, and suppression of on-press development scum. preferably 50% by mass to 100% by mass, and even more preferably 80% by mass to 100% by mass.

[低分子重合性化合物]
重合性化合物は、上記オリゴマー以外の重合性化合物を更に含んでいてもよい。
オリゴマー以外の重合性化合物としては、耐薬品性の観点から、低分子重合性化合物であることが好ましい。低分子重合性化合物としては、単量体、2量体、3量体又は、それらの混合物などの化学的形態であってもよい。
また、低分子重合性化合物としては、耐薬品性の観点から、エチレン性不飽和基を3つ以上有する重合性化合物、及びイソシアヌル環構造を有する重合性化合物からなる群より選ばれる少なくとも一方の重合性化合物であることが好ましい。
[Low-molecular polymerizable compound]
The polymerizable compound may further contain a polymerizable compound other than the oligomer.
Polymerizable compounds other than oligomers are preferably low-molecular-weight polymerizable compounds from the viewpoint of chemical resistance. The low-molecular-weight polymerizable compounds may be in chemical forms such as monomers, dimers, trimers, or mixtures thereof.
Further, as the low-molecular-weight polymerizable compound, from the viewpoint of chemical resistance, at least one selected from the group consisting of a polymerizable compound having three or more ethylenically unsaturated groups and a polymerizable compound having an isocyanuric ring structure. It is preferably a chemical compound.

本開示において低分子重合性化合物とは、分子量(分子量分布を有する場合には、重量平均分子量)50以上600未満の重合性化合物を表す。
低分子重合性化合物の分子量としては、耐薬品性、UV耐刷性及び機上現像カスの抑制性に優れる観点から、100以上600未満であることが好ましく、300以上600未満であることがより好ましく、400以上600未満であることが更に好ましい。
In the present disclosure, the low-molecular-weight polymerizable compound represents a polymerizable compound having a molecular weight (weight average molecular weight when having a molecular weight distribution) of 50 or more and less than 600.
The molecular weight of the low-molecular polymerizable compound is preferably 100 or more and less than 600, more preferably 300 or more and less than 600, from the viewpoint of excellent chemical resistance, UV printing durability, and suppression of on-press development scum. It is preferably 400 or more and less than 600, more preferably.

重合性化合物が、オリゴマー以外の重合性化合物として低分子重合性化合物を含む場合(2種以上の低分子重合性化合物を含む場合はその合計量)、耐薬品性、UV耐刷性及び機上現像カスの抑制性の観点から、上記オリゴマーと低分子重合性化合物との比(オリゴマー/低分子重合性化合物)は、質量基準で、10/1~1/10であることが好ましく、10/1~3/7であることがより好ましく、10/1~7/3であることが更に好ましい。 When the polymerizable compound contains a low-molecular-weight polymerizable compound as a polymerizable compound other than an oligomer (if two or more low-molecular-weight polymerizable compounds are included, the total amount thereof), chemical resistance, UV printing durability, and on-press From the viewpoint of suppressing development scum, the ratio of the oligomer to the low-molecular-weight polymerizable compound (oligomer/low-molecular-weight polymerizable compound) on a mass basis is preferably 10/1 to 1/10, and 10/ It is more preferably 1 to 3/7, and even more preferably 10/1 to 7/3.

低分子重合性化合物の例としては、不飽和カルボン酸(例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸など)及び、そのエステル類、アミド類が挙げられ、好ましくは、不飽和カルボン酸と多価アルコール化合物とのエステル類、不飽和カルボン酸と多価アミン化合物とのアミド類が用いられる。また、ヒドロキシ基、アミノ基、メルカプト基等の求核性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類、又は、アミド類と単官能若しくは多官能イソシアネート類又はエポキシ類との付加反応物、及び単官能若しくは多官能のカルボン酸との脱水縮合反応物等も好適に使用される。また、イソシアネート基、エポキシ基等の親電子性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との付加反応物、更にハロゲン原子、トシルオキシ基等の脱離性置換基を有する不飽和カルボン酸エステル類あるいはアミド類と単官能又は多官能のアルコール類、アミン類、チオール類との置換反応物も好適である。また、別の例として、上記の不飽和カルボン酸を、不飽和ホスホン酸、スチレン、ビニルエーテル等に置き換えた化合物群を使用することも可能である。
これらは、特表2006-508380号公報、特開2002-287344号公報、特開2008-256850号公報、特開2001-342222号公報、特開平9-179296号公報、特開平9-179297号公報、特開平9-179298号公報、特開2004-294935号公報、特開2006-243493号公報、特開2002-275129号公報、特開2003-64130号公報、特開2003-280187号公報、特開平10-333321号公報等に記載されている。
Examples of low-molecular-weight polymerizable compounds include unsaturated carboxylic acids (e.g., acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, maleic acid, etc.) and their esters and amides, preferably , esters of unsaturated carboxylic acids and polyhydric alcohol compounds, and amides of unsaturated carboxylic acids and polyvalent amine compounds are used. In addition, unsaturated carboxylic acid esters having a nucleophilic substituent such as a hydroxy group, an amino group, or a mercapto group, or addition reaction products of amides and monofunctional or polyfunctional isocyanates or epoxies, and monofunctional Alternatively, a dehydration condensation reaction product with a polyfunctional carboxylic acid is also preferably used. In addition, addition reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having electrophilic substituents such as isocyanate groups and epoxy groups with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines, and thiols, halogen atoms, Substitution reaction products of unsaturated carboxylic acid esters or amides having a leaving substituent such as a tosyloxy group with monofunctional or polyfunctional alcohols, amines and thiols are also suitable. As another example, it is also possible to use a group of compounds in which the above unsaturated carboxylic acid is replaced with unsaturated phosphonic acid, styrene, vinyl ether, or the like.
These are JP 2006-508380, JP 2002-287344, JP 2008-256850, JP 2001-342222, JP 9-179296, JP 9-179297 , JP-A-9-179298, JP-A-2004-294935, JP-A-2006-243493, JP-A-2002-275129, JP-A-2003-64130, JP-A-2003-280187, Patent It is described in Japanese Laid-Open Patent Publication No. 10-333321.

多価アルコール化合物と不飽和カルボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アクリル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレート、1,3-ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキシド(EO)変性トリアクリレート、ポリエステルアクリレートオリゴマー等がある。メタクリル酸エステルとして、テトラメチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ビス〔p-(3-メタクリルオキシ-2-ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔p-(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタン等がある。
また、多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノマーの具体例としては、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスメタクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビスアクリルアミド、1,6-ヘキサメチレンビスメタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミド等がある。
Specific examples of ester monomers of polyhydric alcohol compounds and unsaturated carboxylic acids include acrylic acid esters such as ethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, propylene glycol diacrylate, Trimethylolpropane triacrylate, hexanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, sorbitol triacrylate, ethylene oxide (EO) isocyanurate modified triacrylate, polyester acrylate oligomer and the like. Methacrylic acid esters such as tetramethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, bis[p-(3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy)phenyl] dimethylmethane, bis[p-(methacryloxyethoxy)phenyl]dimethylmethane and the like.
Further, specific examples of amide monomers of polyvalent amine compounds and unsaturated carboxylic acids include methylenebisacrylamide, methylenebismethacrylamide, 1,6-hexamethylenebisacrylamide, 1,6-hexamethylenebismethacrylamide, Diethylene triamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.

また、イソシアネートとヒドロキシ基の付加反応を用いて製造されるウレタン系付加重合性化合物も好適であり、その具体例としては、例えば、特公昭48-41708号公報に記載されている1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に、下記式(M)で表されるヒドロキシ基を含有するビニルモノマーを付加させた1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有するビニルウレタン化合物等が挙げられる。
CH=C(RM4)COOCHCH(RM5)OH (M)
式(M)中、RM4及びRM5はそれぞれ独立に、水素原子又はメチル基を表す。
Urethane-based addition-polymerizable compounds produced using an addition reaction between an isocyanate and a hydroxy group are also suitable. A vinyl urethane compound containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule obtained by adding a vinyl monomer containing a hydroxyl group represented by the following formula (M) to a polyisocyanate compound having one or more isocyanate groups. etc.
CH2 =C( RM4 ) COOCH2CH ( RM5 )OH (M)
In formula (M), R M4 and R M5 each independently represent a hydrogen atom or a methyl group.

また、特開昭51-37193号公報、特公平2-32293号公報、特公平2-16765号公報、特開2003-344997号公報、特開2006-65210号公報に記載のウレタンアクリレート類、特公昭58-49860号公報、特公昭56-17654号公報、特公昭62-39417号公報、特公昭62-39418号公報、特開2000-250211号公報、特開2007-94138号公報に記載のエチレンオキサイド系骨格を有するウレタン化合物類、米国特許第7153632号明細書、特表平8-505958号公報、特開2007-293221号公報、特開2007-293223号公報に記載の親水基を有するウレタン化合物類も好適である。 In addition, the urethane acrylates described in JP-A-51-37193, JP-B-2-32293, JP-B-2-16765, JP-A-2003-344997, JP-A-2006-65210, JP-B-58-49860, JP-B-56-17654, JP-B-62-39417, JP-B-62-39418, JP-A-2000-250211, ethylene described in JP-A-2007-94138 Urethane compounds having an oxide skeleton, U.S. Pat. No. 7,153,632, Japanese Patent Publication No. 8-505958, JP-A-2007-293221, and urethane compounds having a hydrophilic group described in JP-A-2007-293223 are also suitable.

重合性化合物の構造、単独使用か併用か、添加量等の使用方法の詳細は、任意に設定できる。
中でも、画像記録層は、UV耐刷性の観点から、2種以上の重合性化合物を含むことが好ましい。
重合性化合物の含有量(重合性化合物を2種以上含む場合は、重合性化合物の総含有量)は、画像記録層の全質量に対して、5質量%~75質量%であることが好ましく、10質量%~70質量%であることがより好ましく、15質量%~60質量%であることが更に好ましい。
Details of the method of use, such as the structure of the polymerizable compound, whether it is used alone or in combination, and the amount to be added, can be set arbitrarily.
Above all, the image-recording layer preferably contains two or more polymerizable compounds from the viewpoint of UV printing durability.
The content of polymerizable compounds (the total content of polymerizable compounds when two or more polymerizable compounds are included) is preferably 5% by mass to 75% by mass with respect to the total mass of the image-recording layer. , more preferably 10% by mass to 70% by mass, and even more preferably 15% by mass to 60% by mass.

〔粒子〕
本開示における画像記録層は、現像性、及び、UV耐刷性の観点から、粒子を含むことが好ましい。粒子としては、無機粒子であってもよいし、有機粒子であってもよい。
中でも、粒子として、有機粒子を含むことが好ましく、樹脂粒子を含むことがより好ましい。
無機粒子としては、公知の無機粒子を用いることができ、シリカ粒子、チタニア粒子等の金属酸化物粒子を好適に用いることができる。
〔particle〕
The image recording layer in the present disclosure preferably contains particles from the viewpoint of developability and UV printing durability. The particles may be inorganic particles or organic particles.
Among them, the particles preferably contain organic particles, and more preferably contain resin particles.
As the inorganic particles, known inorganic particles can be used, and metal oxide particles such as silica particles and titania particles can be preferably used.

[樹脂粒子]
樹脂粒子としては、例えば、付加重合型樹脂を含む粒子(即ち、付加重合型樹脂粒子)、重付加型樹脂を含む粒子(即ち、重付加型樹脂粒子)、重縮合型樹脂を含む粒子(即ち、重縮合型樹脂粒子)等が挙げられるが、中でも、付加重合型樹脂粒子、又は重付加型樹脂粒子が好ましい。
また、樹脂粒子としては、熱融着が可能となる観点から、熱可塑性樹脂を含む粒子(即ち、熱可塑性樹脂粒子)であってもよい。
[Resin particles]
Examples of the resin particles include particles containing an addition polymerization resin (i.e., addition polymerization resin particles), particles containing a polyaddition resin (i.e., polyaddition resin particles), and particles containing a polycondensation resin (i.e., , polycondensation type resin particles), etc. Among them, addition polymerization type resin particles or polyaddition type resin particles are preferable.
Moreover, the resin particles may be particles containing a thermoplastic resin (that is, thermoplastic resin particles) from the viewpoint of enabling heat fusion.

また、樹脂粒子は、マイクロカプセル、ミクロゲル(即ち、架橋樹脂粒子)等の形態であってもよい。 Also, the resin particles may be in the form of microcapsules, microgels (that is, crosslinked resin particles) or the like.

樹脂粒子としては、熱可塑性樹脂粒子、熱反応性樹脂粒子、重合性基を有する樹脂粒子、疎水性化合物を内包しているマイクロカプセル、及び、ミクロゲル(架橋樹脂粒子)よりなる群から選ばれることが好ましい。中でも、重合性基を有する樹脂粒子が好ましい。
特に好ましい実施形態では、樹脂粒子は少なくとも1つのエチレン性不飽和基を含む。このような樹脂粒子の存在により、露光部の耐刷性及び未露光部の機上現像性を高める効果が得られる。
The resin particles are selected from the group consisting of thermoplastic resin particles, thermoreactive resin particles, resin particles having a polymerizable group, microcapsules encapsulating a hydrophobic compound, and microgels (crosslinked resin particles). is preferred. Among them, resin particles having a polymerizable group are preferable.
In particularly preferred embodiments, the resin particles contain at least one ethylenically unsaturated group. The presence of such resin particles has the effect of improving the printing durability of the exposed areas and the on-press developability of the unexposed areas.

熱可塑性樹脂粒子としては、1992年1月のResearch Disclosure No.33303、特開平9-123387号公報、同9-131850号公報、同9-171249号公報、同9-171250号公報及び欧州特許第931647号明細書などに記載の熱可塑性樹脂粒子が好ましい。 Thermoplastic resin particles are disclosed in Research Disclosure No. 1, 1992; 33303, JP-A-9-123387, JP-A-9-131850, JP-A-9-171249, JP-A-9-171250 and European Patent No. 931647 are preferable.

熱可塑性樹脂粒子を構成する樹脂の具体例としては、エチレン、スチレン、塩化ビニル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、ビニルカルバゾール、ポリアルキレン構造を有するアクリレート又はメタクリレートなどのモノマーのホモポリマー若しくはコポリマー又はそれらの混合物を挙げることができる。 Specific examples of resins constituting thermoplastic resin particles include ethylene, styrene, vinyl chloride, methyl acrylate, ethyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl methacrylate, vinylidene chloride, acrylonitrile, vinylcarbazole, and polyalkylene structures. Homopolymers or copolymers of monomers such as acrylates or methacrylates or mixtures thereof may be mentioned.

熱可塑性樹脂粒子としては、インキ着肉性及びUV耐刷性の観点から、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位、及び、ニトリル基を有する構成単位を有する樹脂を含むことが好ましい。 From the viewpoint of ink receptivity and UV printing durability, the thermoplastic resin particles preferably contain a resin having structural units formed from an aromatic vinyl compound and structural units having a nitrile group.

上記芳香族ビニル化合物としては、芳香環にビニル基が結合した構造を有する化合物であればよいが、スチレン化合物、ビニルナフタレン化合物等が挙げられ、スチレン化合物が好ましく、スチレンがより好ましい。
スチレン化合物としては、スチレン、p-メチルスチレン、p-メトキシスチレン、β-メチルスチレン、p-メチル-β-メチルスチレン、α-メチルスチレン、及びp-メトキシ-β-メチルスチレン等が挙げられ、スチレンが好ましく挙げられる。
ビニルナフタレン化合物としては、1-ビニルナフタレン、メチル-1-ビニルナフタレン、β-メチル-1-ビニルナフタレン、4-メチル-1-ビニルナフタレン、4-メトキシ-1-ビニルナフタレン等が挙げられ、1-ビニルナフタレンが好ましく挙げられる。
The aromatic vinyl compound may be a compound having a structure in which a vinyl group is bonded to an aromatic ring, and examples include styrene compounds and vinylnaphthalene compounds, with styrene compounds being preferred, and styrene being more preferred.
Styrene compounds include styrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, β-methylstyrene, p-methyl-β-methylstyrene, α-methylstyrene, and p-methoxy-β-methylstyrene. Styrene is preferred.
Examples of vinylnaphthalene compounds include 1-vinylnaphthalene, methyl-1-vinylnaphthalene, β-methyl-1-vinylnaphthalene, 4-methyl-1-vinylnaphthalene, 4-methoxy-1-vinylnaphthalene, and the like. - Vinylnaphthalene is preferred.

また、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位としては、下記式A1で表される構成単位が好ましく挙げられる。 Moreover, as a structural unit formed from an aromatic vinyl compound, a structural unit represented by the following formula A1 is preferably exemplified.

式A1中、RA1及びRA2はそれぞれ独立に、水素原子又はアルキル基を表し、Arは芳香環基を表し、RA3は置換基を表し、nは0以上Arの最大置換基数以下の整数を表す。
式A1中、RA1及びRA2はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、いずれも水素原子であることが更に好ましい。
式A1中、Arはベンゼン環又はナフタレン環であることが好ましく、ベンゼン環であることがより好ましい。
式A1中、RA3はアルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、炭素数1~4のアルキル基又は炭素数1~4のアルコキシ基であることがより好ましく、メチル基又はメトキシ基であることが更に好ましい。
式A1中、RA3が複数存在する場合、複数のRA3は同一であってもよいし、それぞれ異なっていてもよい。
式A1中、nは0~2の整数であることが好ましく、0又は1であることがより好ましく、0であることが更に好ましい。
In formula A1, R A1 and R A2 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group, Ar represents an aromatic ring group, R A3 represents a substituent, and n is an integer of 0 or more and the maximum number of substituents of Ar or less. represents
In formula A1, R A1 and R A2 are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, both of which are hydrogen atoms. is more preferred.
In Formula A1, Ar is preferably a benzene ring or a naphthalene ring, more preferably a benzene ring.
In formula A1, R A3 is preferably an alkyl group or an alkoxy group, more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, and a methyl group or a methoxy group. is more preferred.
In Formula A1, when there are multiple R A3 s , the multiple R A3s may be the same or different.
In formula A1, n is preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, and even more preferably 0.

芳香族ビニル化合物により形成される構成単位の含有量は、インキ着肉性の観点から、後述するニトリル基を有する構成単位の含有量よりも多いことが好ましく、熱可塑性樹脂の全質量に対し、15質量%~85質量%であることがより好ましく、30質量%~70質量%であることが更に好ましい。 From the viewpoint of ink receptivity, the content of structural units formed from the aromatic vinyl compound is preferably greater than the content of structural units having a nitrile group, which will be described later. It is more preferably 15% by mass to 85% by mass, and even more preferably 30% by mass to 70% by mass.

ニトリル基を有する構成単位は、ニトリル基を有するモノマーを用いて導入されることが好ましい。
ニトリル基を有するモノマーとしては、アクリロニトリル化合物が挙げられ、(メタ)アクリロニトリルが好適に挙げられる。
ニトリル基を有する構成単位としては、(メタ)アクリロニトリルにより形成される構成単位が好ましい。
The structural unit having a nitrile group is preferably introduced using a monomer having a nitrile group.
Monomers having a nitrile group include acrylonitrile compounds, preferably (meth)acrylonitrile.
As the structural unit having a nitrile group, a structural unit formed from (meth)acrylonitrile is preferred.

また、ニトリル基を有する構成単位としては、下記式B1で表される構成単位が好ましく挙げられる。 Moreover, as a structural unit having a nitrile group, a structural unit represented by the following formula B1 is preferably exemplified.

式B1中、RB1は水素原子又はアルキル基を表す。
式B1中、RB1は水素原子又は炭素数1~4のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがより好ましく、水素原子であることが更に好ましい。
In Formula B1, R B1 represents a hydrogen atom or an alkyl group.
In formula B1, R 1 B1 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or a methyl group, even more preferably a hydrogen atom.

ニトリル基を有する構成単位の含有量は、インキ着肉性の観点から、上記芳香族ビニル化合物により形成されるよりも少ないことが好ましく、樹脂の全質量に対し、55質量%~90質量%であることがより好ましく、60質量%~85質量%であることがより好ましい。 From the viewpoint of ink receptivity, the content of the structural unit having a nitrile group is preferably less than that formed by the aromatic vinyl compound, and is 55% by mass to 90% by mass with respect to the total mass of the resin. more preferably 60% by mass to 85% by mass.

また、熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂が芳香族ビニル化合物により形成される構成単位及びニトリル基を有する構成単位を含む場合、芳香族ビニル化合物により形成される構成単位及びニトリル基を有する構成単位の含有量比(芳香族ビニル化合物により形成される構成単位:ニトリル基を有する構成単位)としては、質量基準で5:5~9:1であることが好ましく、より好ましくは、6:4~8:2である。 Further, when the resin contained in the thermoplastic resin particles contains structural units formed from an aromatic vinyl compound and structural units having a nitrile group, The content ratio (structural unit formed from the aromatic vinyl compound: structural unit having a nitrile group) is preferably 5:5 to 9:1, more preferably 6:4 to 8 on a mass basis. :2.

熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂は、UV耐刷性及び耐薬品性の観点から、N-ビニル複素環化合物により形成される構成単位を更に有することが好ましい。
N-ビニル複素環化合物としては、例えば、N-ビニルピロリドン、N-ビニルカルバゾール、N-ビニルピロール、N-ビニルフェノチアジン、N-ビニルコハク酸イミド、N-ビニルフタルイミド、N-ビニルカプロラクタム、及びN-ビニルイミダゾールが挙げられ、N-ビニルピロリドンが好ましい。
From the viewpoint of UV printing durability and chemical resistance, the resin contained in the thermoplastic resin particles preferably further contains a structural unit formed of an N-vinyl heterocyclic compound.
Examples of N-vinyl heterocyclic compounds include N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, N-vinylpyrrole, N-vinylphenothiazine, N-vinylsuccinimide, N-vinylphthalimide, N-vinylcaprolactam, and N- Vinylimidazoles may be mentioned, preferably N-vinylpyrrolidone.

また、N-ビニル複素環化合物により形成される構成単位としては、下記式C1で表される構成単位が好ましく挙げられる。 Further, as the structural unit formed from the N-vinyl heterocyclic compound, a structural unit represented by the following formula C1 is preferably exemplified.

式C1中、Arは窒素原子を含む複素環構造を表し、Ar中の窒素原子が*で示した炭素原子と結合する。
式C1中、Arにより表される複素環構造は、ピロリドン環、カルバゾール環、ピロール環、フェノチアジン環、スクシンイミド環、フタルイミド環、カプロラクタム環、及びイミダゾール環であることが好ましく、ピロリドン環であることがより好ましい。
また、Arにより表される複素環構造は公知の置換基を有していてもよい。
In Formula C1, Ar 2 N represents a heterocyclic ring structure containing a nitrogen atom, and the nitrogen atom in Ar 2 N is bonded to the carbon atom indicated by *.
In formula C1, the heterocyclic ring structure represented by Ar N is preferably a pyrrolidone ring, a carbazole ring, a pyrrole ring, a phenothiazine ring, a succinimide ring, a phthalimide ring, a caprolactam ring, and an imidazole ring, and is a pyrrolidone ring. is more preferred.
Also, the heterocyclic ring structure represented by Ar 2 N may have a known substituent.

N-ビニル複素環化合物により形成される構成単位の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対し、5質量%~50質量%であることが好ましく、10質量%~40質量%であることがより好ましい。 The content of the structural unit formed by the N-vinyl heterocyclic compound is preferably 5% by mass to 50% by mass, more preferably 10% by mass to 40% by mass, relative to the total mass of the thermoplastic resin. more preferred.

熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂は、酸性基を有する構成単位を含有してもよいが、機上現像性及びインキ着肉性の観点からは、酸性基を有する構成単位を含有しないことが好ましい。
具体的には、熱可塑性樹脂における酸性基を有する構成単位の含有量は、20質量%以下であることが好ましく、10質量%以下であることがより好ましく、5質量%以下であることが更に好ましい。上記含有量の下限は特に限定されず、0質量%であってもよい。
また、熱可塑性樹脂の酸価は、160mgKOH/g以下であることが好ましく、80mgKOH/g以下であることがより好ましく、40mgKOH/g以下であることが更に好ましい。上記酸価の下限は特に限定されず、0mgKOH/gであってもよい。
本開示において、酸価はJIS K0070:1992に準拠した測定法により求められる。
The resin contained in the thermoplastic resin particles may contain a structural unit having an acidic group, but from the viewpoint of on-press developability and ink receptivity, it is preferable not to contain a structural unit having an acidic group. .
Specifically, the content of the structural unit having an acidic group in the thermoplastic resin is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, and further preferably 5% by mass or less. preferable. The lower limit of the content is not particularly limited, and may be 0% by mass.
The acid value of the thermoplastic resin is preferably 160 mgKOH/g or less, more preferably 80 mgKOH/g or less, and even more preferably 40 mgKOH/g or less. The lower limit of the acid value is not particularly limited, and may be 0 mgKOH/g.
In the present disclosure, the acid value is determined by a measurement method conforming to JIS K0070:1992.

熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂は、インキ着肉性の観点から、疎水性基を含む構成単位を含有してもよい。
上記疎水性基としては、アルキル基、アリール基、アラルキル基等が挙げられる。
疎水性基を含む構成単位としては、アルキル(メタ)アクリレート化合物、アリール(メタ)アクリレート化合物、又は、アラルキル(メタ)アクリレート化合物により形成される構成単位が好ましく、アルキル(メタ)アクリレート化合物により形成される構成単位がより好ましい。
上記アルキル(メタ)アクリレート化合物におけるアルキル基の炭素数は、1~10であることが好ましい。上記アルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、環状構造を有していてもよい。アルキル(メタ)アクリレート化合物としては、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2-エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート等が挙げられる。
上記アリール(メタ)アクリレート化合物におけるアリール基の炭素数は、6~20であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。また、上記アリール基は公知の置換基を有していてもよい。アリール(メタ)アクリレート化合物としては、フェニル(メタ)アクリレートが好ましく挙げられる。
上記アラルキル(メタ)アクリレート化合物におけるアルキル基の炭素数は、1~10であることが好ましい。上記アルキル基は直鎖状であっても分岐鎖状であってもよく、環状構造を有していてもよい。また、上記アラルキル(メタ)アクリレート化合物におけるアリール基の炭素数は、6~20であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。アラルキル(メタ)アクリレート化合物としては、ベンジル(メタ)アクリレートが好ましく挙げられる。
From the viewpoint of ink receptivity, the resin contained in the thermoplastic resin particles may contain a structural unit containing a hydrophobic group.
Examples of the hydrophobic group include an alkyl group, an aryl group and an aralkyl group.
The structural unit containing a hydrophobic group is preferably a structural unit formed of an alkyl (meth)acrylate compound, an aryl (meth)acrylate compound, or an aralkyl (meth)acrylate compound, and a structural unit formed of an alkyl (meth)acrylate compound. is more preferred.
The number of carbon atoms in the alkyl group in the alkyl (meth)acrylate compound is preferably 1-10. The alkyl group may be linear or branched, and may have a cyclic structure. Alkyl (meth)acrylate compounds include methyl (meth)acrylate, ethyl (meth)acrylate, propyl (meth)acrylate, cyclohexyl (meth)acrylate, 2-ethylhexyl (meth)acrylate, dicyclopentanyl (meth)acrylate, and the like. is mentioned.
The aryl group in the aryl (meth)acrylate compound preferably has 6 to 20 carbon atoms, more preferably a phenyl group. Also, the aryl group may have a known substituent. Phenyl (meth)acrylate is preferably used as the aryl (meth)acrylate compound.
The number of carbon atoms in the alkyl group in the aralkyl (meth)acrylate compound is preferably 1-10. The alkyl group may be linear or branched, and may have a cyclic structure. The aryl group in the aralkyl (meth)acrylate compound preferably has 6 to 20 carbon atoms, more preferably a phenyl group. Benzyl (meth)acrylate is preferably mentioned as the aralkyl (meth)acrylate compound.

熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂における、疎水性基を有する構成単位の含有量は、樹脂の全質量に対し、5質量%~50質量%であることが好ましく、10質量%~30質量%であることがより好ましい。 The content of the structural unit having a hydrophobic group in the resin contained in the thermoplastic resin particles is preferably 5% by mass to 50% by mass, more preferably 10% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the resin. It is more preferable to have

熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂は、UV耐刷性及び機上現像性の観点から、親水性基を有することが好ましい。
親水性基としては、親水性を有する構造であれば、特に制限はないが、カルボキシ基等の酸基、ヒドロキシ基、アミノ基、ニトリル基、ポリアルキレンオキシド構造等が挙げられる。
上記親水性基としては、UV耐刷性及び機上現像性の観点から、ポリアルキレンオキシド構造を有する基、ポリエステル構造を有する基、又は、スルホン酸基であることが好ましく、ポリアルキレンオキシド構造を有する基、又は、スルホン酸基であることがより好ましく、ポリアルキレンオキシド構造を有する基であることが更に好ましい。
The thermoplastic resin contained in the thermoplastic resin particles preferably has a hydrophilic group from the viewpoint of UV printing durability and on-press developability.
The hydrophilic group is not particularly limited as long as it has a hydrophilic structure, and examples thereof include an acid group such as a carboxyl group, a hydroxy group, an amino group, a nitrile group, and a polyalkylene oxide structure.
From the viewpoint of UV printing durability and on-press developability, the hydrophilic group is preferably a group having a polyalkylene oxide structure, a group having a polyester structure, or a sulfonic acid group. or a sulfonic acid group, more preferably a group having a polyalkylene oxide structure.

上記ポリアルキレンオキシド構造としては、機上現像性の観点から、ポリエチレンオキシド構造、ポリプロピレンオキシド構造、又は、ポリ(エチレンオキシド/プロピレンオキシド)構造であることが好ましい。
また、機上現像性の観点からは、上記親水性基の中でもポリアルキレンオキシド構造として、ポリプロピレンオキシド構造を有することが好ましく、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有することがより好ましい。
上記ポリアルキレンオキシド構造におけるアルキレンオキシド構造の数は、機上現像性の観点から、2以上であることが好ましく、5以上であることがより好ましく、5~200であることが更に好ましく、8~150であることが特に好ましい。
From the viewpoint of on-press developability, the polyalkylene oxide structure is preferably a polyethylene oxide structure, a polypropylene oxide structure, or a poly(ethylene oxide/propylene oxide) structure.
From the viewpoint of on-machine developability, among the above hydrophilic groups, the polyalkylene oxide structure preferably has a polypropylene oxide structure, and more preferably has a polyethylene oxide structure and a polypropylene oxide structure.
From the viewpoint of on-machine developability, the number of alkylene oxide structures in the polyalkylene oxide structure is preferably 2 or more, more preferably 5 or more, even more preferably 5 to 200, and 8 to 150 is particularly preferred.

また、機上現像性の観点から、上記親水性基として、上記式Zで表される基が好ましい。
熱可塑性樹脂が有する親水性基の中でも、下記式POにより表される基が好ましい。
From the viewpoint of on-press developability, the hydrophilic group is preferably a group represented by formula Z above.
Among the hydrophilic groups possessed by thermoplastic resins, groups represented by the following formula PO are preferred.

式PO中、Lはそれぞれ独立に、アルキレン基を表し、Rは水素原子又はアルキル基を表し、nは1~100の整数を表す。
式PO中、Lはそれぞれ独立に、エチレン基、1-メチルエチレン基又は2-メチルエチレン基であることが好ましく、エチレン基であることがより好ましい。
式PO中、Rは水素原子又は炭素数1~18のアルキル基であることが好ましく、水素原子又は炭素数1~10のアルキル基であることがより好ましく、水素原子又は炭素数1~4のアルキル基であることが更に好ましく、水素原子又はメチル基であることが特に好ましい。
式PO中、nは1~10の整数が好ましく、1~4の整数がより好ましい。
In formula PO, each L P independently represents an alkylene group, R P represents a hydrogen atom or an alkyl group, and n represents an integer of 1-100.
In formula PO, each L P is independently preferably an ethylene group, a 1-methylethylene group or a 2-methylethylene group, more preferably an ethylene group.
In formula PO, R P is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 18 carbon atoms, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, and a hydrogen atom or 1 to 4 carbon atoms. is more preferred, and a hydrogen atom or a methyl group is particularly preferred.
In formula PO, n is preferably an integer of 1-10, more preferably an integer of 1-4.

親水性基を有する構成単位の含有量は、樹脂Aの全質量に対し、5質量%~60質量%であることが好ましく、10質量%~30質量%であることがより好ましい。 The content of the structural unit having a hydrophilic group is preferably 5% by mass to 60% by mass, more preferably 10% by mass to 30% by mass, relative to the total mass of Resin A.

熱可塑性樹脂粒子に含まれる樹脂は、その他の構成単位を更に含有してもよい。その他の構成単位としては、上述の各構成単位以外の構成単位を特に限定なく含有することができ、例えば、アクリルアミド化合物、ビニルエーテル化合物等により形成される構成単位が挙げられる。
アクリルアミド化合物としては、例えば、(メタ)アクリルアミド、N-メチル(メタ)アクリルアミド、N-エチル(メタ)アクリルアミド、N-プロピル(メタ)アクリルアミド、N-ブチル(メタ)アクリルアミド、N,N’-ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N’-ジエチル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシプロピル(メタ)アクリルアミド、N-ヒドロキシブチル(メタ)アクリルアミド等が挙げられる。
ビニルエーテル化合物としては、例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、n-ブチルビニルエーテル、tert-ブチルビニルエーテル、2-エチルヘキシルビニルエーテル、n-ノニルビニルエーテル、ラウリルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、シクロヘキシルメチルビニルエーテル、4-メチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ベンジルビニルエーテル、ジシクロペンテニルビニルエーテル、2-ジシクロペンテノキシエチルビニルエーテル、メトキシエチルビニルエーテル、エトキシエチルビニルエーテル、ブトキシエチルビニルエーテル、メトキシエトキシエチルビニルエーテル、エトキシエトキシエチルビニルエーテル、メトキシポリエチレングリコールビニルエーテル、テトラヒドロフルフリルビニルエーテル、2-ヒドロキシエチルビニルエーテル、2-ヒドロキシプロピルビニルエーテル、4-ヒドロキシブチルビニルエーテル、4-ヒドロキシメチルシクロヘキシルメチルビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ポリエチレングリコールビニルエーテル、クロロエチルビニルエーテル、クロロブチルビニルエーテル、クロロエトキシエチルビニルエーテル、フェニルエチルビニルエーテル、フェノキシポリエチレングリコールビニルエーテル、などが挙げられる。
The resin contained in the thermoplastic resin particles may further contain other structural units. Other structural units may contain structural units other than the above structural units without particular limitation, and examples thereof include structural units formed from acrylamide compounds, vinyl ether compounds, and the like.
Examples of acrylamide compounds include (meth)acrylamide, N-methyl(meth)acrylamide, N-ethyl(meth)acrylamide, N-propyl(meth)acrylamide, N-butyl(meth)acrylamide, N,N'-dimethyl (Meth)acrylamide, N,N'-diethyl(meth)acrylamide, N-hydroxyethyl(meth)acrylamide, N-hydroxypropyl(meth)acrylamide, N-hydroxybutyl(meth)acrylamide and the like.
Examples of vinyl ether compounds include methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, tert-butyl vinyl ether, 2-ethylhexyl vinyl ether, n-nonyl vinyl ether, lauryl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether, cyclohexylmethyl vinyl ether, and 4-methylcyclohexyl. Methyl vinyl ether, benzyl vinyl ether, dicyclopentenyl vinyl ether, 2-dicyclopentenoxyethyl vinyl ether, methoxyethyl vinyl ether, ethoxyethyl vinyl ether, butoxyethyl vinyl ether, methoxyethoxyethyl vinyl ether, ethoxyethoxyethyl vinyl ether, methoxypolyethylene glycol vinyl ether, tetrahydrofuran furyl vinyl ether, 2-hydroxyethyl vinyl ether, 2-hydroxypropyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 4-hydroxymethylcyclohexylmethyl vinyl ether, diethylene glycol monovinyl ether, polyethylene glycol vinyl ether, chloroethyl vinyl ether, chlorobutyl vinyl ether, chloroethoxyethyl vinyl ether, phenylethyl vinyl ether, phenoxy polyethylene glycol vinyl ether, and the like.

熱可塑性樹脂における、その他の構成単位の含有量は、熱可塑性樹脂の全質量に対し、5質量%~50質量%であることが好ましく、10質量%~30質量%であることがより好ましい。 The content of other structural units in the thermoplastic resin is preferably 5% by mass to 50% by mass, more preferably 10% by mass to 30% by mass, based on the total mass of the thermoplastic resin.

熱可塑性樹脂のガラス転移温度(Tg)は、UV耐刷性及びインキ着肉性の観点から、60℃~150℃であることが好ましく、80℃~140℃であることがより好ましく、90℃~130℃であることが更に好ましい。
熱可塑性樹脂粒子が2種以上の熱可塑性樹脂を含む場合には、後述するFOX式により求められた値を、熱可塑性樹脂のガラス転移温度という。
The glass transition temperature (Tg) of the thermoplastic resin is preferably 60° C. to 150° C., more preferably 80° C. to 140° C., and 90° C. from the viewpoint of UV printing durability and ink receptivity. More preferably ~130°C.
When the thermoplastic resin particles contain two or more thermoplastic resins, the value obtained by the FOX formula described below is called the glass transition temperature of the thermoplastic resin.

本開示において、樹脂のガラス転移温度は、示差走査熱量測定(DSC)を用いて測定することができる。
具体的な測定方法は、JIS K 7121(1987年)又はJIS K 6240(2011年)に記載の方法に順じて行なう。本明細書におけるガラス転移温度は、補外ガラス転移開始温度(以下、Tigと称することがある)を用いている。
ガラス転移温度の測定方法をより具体的に説明する。
ガラス転移温度を求める場合、予想される樹脂のTgより約50℃低い温度にて装置が安定するまで保持した後、加熱速度:20℃/分で、ガラス転移が終了した温度よりも約30℃高い温度まで加熱し,示差熱分析(DTA)曲線又はDSC曲線を作成する。
補外ガラス転移開始温度(Tig)、すなわち、本明細書におけるガラス転移温度Tgは、DTA曲線又はDSC曲線における低温側のベースラインを高温側に延長した直線と、ガラス転移の階段状変化部分の曲線の勾配が最大になる点で引いた接線との交点の温度として求める。
In the present disclosure, the glass transition temperature of a resin can be measured using Differential Scanning Calorimetry (DSC).
A specific measuring method is performed according to the method described in JIS K 7121 (1987) or JIS K 6240 (2011). As the glass transition temperature in this specification, an extrapolated glass transition start temperature (hereinafter sometimes referred to as Tig) is used.
A method for measuring the glass transition temperature will be described more specifically.
When determining the glass transition temperature, after holding the apparatus at a temperature about 50° C. below the expected Tg of the resin until it stabilizes, the heating rate: 20° C./min. Heat to elevated temperature and generate a differential thermal analysis (DTA) curve or DSC curve.
The extrapolated glass transition start temperature (Tig), that is, the glass transition temperature Tg in this specification, is a straight line obtained by extending the baseline on the low temperature side of the DTA curve or DSC curve to the high temperature side, and the stepwise change part of the glass transition. It is obtained as the temperature at the point of intersection with the tangent line drawn at the point where the slope of the curve is maximum.

熱可塑性樹脂粒子が2種以上の熱可塑性樹脂を含む場合、熱可塑性樹脂粒子に含まれる熱可塑性樹脂のTgは下記のように求められる。
1つ目の熱可塑性樹脂のTgをTg1(K)、熱可塑性樹脂粒子における熱可塑性樹脂成分の合計質量に対する1つ目の熱可塑性樹脂の質量分率をW1とし、2つ目のTgをTg2(K)とし、熱可塑性樹脂粒子における熱可塑性樹脂成分の合計質量に対する2つ目の樹脂の質量分率をW2としたときに、熱可塑性樹脂粒子のTg0(K)は、以下のFOX式にしたがって推定することが可能である。
FOX式:1/Tg0=(W1/Tg1)+(W2/Tg2)
また、熱可塑性樹脂粒子が3種の樹脂を含むか、含まれる熱可塑性樹脂種の異なる3種の熱可塑性樹脂粒子が前処理液に含有される場合、熱可塑性樹脂粒子のTgは、n個目の樹脂のTgをTgn(K)、熱可塑性樹脂粒子における樹脂成分の合計質量に対するn個目の樹脂の質量分率をWnとしたときに、上記と同様、以下の式にしたがって推定することが可能である。
FOX式:1/Tg0=(W1/Tg1)+(W2/Tg2)+(W3/Tg3)・・・+(Wn/Tgn)
When the thermoplastic resin particles contain two or more thermoplastic resins, the Tg of the thermoplastic resin contained in the thermoplastic resin particles is obtained as follows.
The Tg of the first thermoplastic resin is Tg1 (K), the mass fraction of the first thermoplastic resin with respect to the total mass of the thermoplastic resin components in the thermoplastic resin particles is W1, and the second Tg is Tg2. (K), and the mass fraction of the second resin with respect to the total mass of the thermoplastic resin components in the thermoplastic resin particles is W2, the Tg0 (K) of the thermoplastic resin particles is obtained by the following FOX formula: Therefore, it is possible to estimate
FOX formula: 1/Tg0 = (W1/Tg1) + (W2/Tg2)
Further, when the thermoplastic resin particles contain three kinds of resins, or three kinds of thermoplastic resin particles with different types of thermoplastic resins are contained in the pretreatment liquid, the Tg of the thermoplastic resin particles is n. When the Tg of the second resin is Tgn(K) and the mass fraction of the nth resin with respect to the total mass of the resin components in the thermoplastic resin particles is Wn, the estimation can be made according to the following formula in the same manner as above. is possible.
FOX formula: 1/Tg0 = (W1/Tg1) + (W2/Tg2) + (W3/Tg3) + (Wn/Tgn)

本明細書において、Tgは、示差走査熱量計(DSC:Differential scanning calorimetry)により測定される値である。示差走査熱量計(DSC)としては、例えば、エスアイアイ・ナノテクノロジー社のEXSTAR6220を用いることができる。
As used herein, Tg is a value measured by a differential scanning calorimetry (DSC). As a differential scanning calorimeter (DSC), for example, EXSTAR6220 manufactured by SII Nano Technology Co., Ltd. can be used.

熱反応性樹脂粒子としては、熱反応性基を有する樹脂粒子が挙げられる。熱反応性樹脂粒子は熱反応による架橋及びその際の官能基変化により疎水化領域を形成する。 The heat-reactive resin particles include resin particles having heat-reactive groups. The thermoreactive resin particles form a hydrophobized region by cross-linking due to thermal reaction and functional group change at that time.

熱反応性基を有する樹脂粒子における熱反応性基としては、化学結合が形成されるならば、どのような反応を行う官能基でもよいが、重合性基であることが好ましく、その例として、ラジカル重合反応を行うエチレン性不飽和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など)、カチオン重合性基(例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、エポキシ基、オキセタニル基など)、付加反応を行うイソシアナト基又はそのブロック体、エポキシ基、ビニルオキシ基及びこれらの反応相手である活性水素原子を有する官能基(例えば、アミノ基、ヒドロキシ基、カルボキシ基など)、縮合反応を行うカルボキシ基及び反応相手であるヒドロキシ基又はアミノ基、開環付加反応を行う酸無水物及び反応相手であるアミノ基又はヒドロキシ基などが好ましく挙げられる。
上記熱反応性基を有する樹脂としては、付加重合型樹脂、重付加型樹脂、又は重縮合型樹脂であってもよいし、熱可塑性樹脂であってもよい。
The heat-reactive group in the resin particles having a heat-reactive group may be any functional group that performs any reaction as long as a chemical bond is formed, but is preferably a polymerizable group, examples of which include: Ethylenically unsaturated groups that undergo radical polymerization reactions (e.g., acryloyl groups, methacryloyl groups, vinyl groups, allyl groups, etc.), cationically polymerizable groups (e.g., vinyl groups, vinyloxy groups, epoxy groups, oxetanyl groups, etc.), addition reactions An isocyanato group or a block thereof, an epoxy group, a vinyloxy group and a functional group having an active hydrogen atom that is a reaction partner of these (e.g., amino group, hydroxy group, carboxy group, etc.), a carboxy group that performs a condensation reaction, and a reaction A hydroxy group or amino group as a counterpart, an acid anhydride that undergoes a ring-opening addition reaction, and an amino group or hydroxy group as a reaction partner are preferred.
The resin having a thermoreactive group may be an addition polymerization type resin, a polyaddition type resin, a polycondensation type resin, or a thermoplastic resin.

マイクロカプセルとしては、例えば、特開2001-277740号公報、特開2001-277742号公報に記載のごとく、画像記録層の構成成分の少なくとも一部(好ましくは疎水性化合物)を内包したものが好ましい。樹脂粒子としてマイクロカプセルを含有する画像記録層は、画像記録層の構成成分のうち疎水性成分(即ち、疎水性化合物)をマイクロカプセルに内包し、親水性成分(即ち、親水性化合物)をマイクロカプセル外に含有する構成が好ましい態様である。
ミクロゲル(架橋樹脂粒子)は、その表面又は内部の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、重合性基をその表面に有する反応性ミクロゲルは、平版印刷版原版の感度、及び、得られる平版印刷版の耐刷性の観点から好ましい。
画像記録層の構成成分を含むマイクロカプセルを得るためには、公知の合成法が適用できる。
As the microcapsule, for example, as described in JP-A-2001-277740 and JP-A-2001-277742, those encapsulating at least part of the constituent components of the image-recording layer (preferably a hydrophobic compound) are preferred. . The image-recording layer containing microcapsules as resin particles encloses hydrophobic components (i.e., hydrophobic compounds) among the components of the image-recording layer in microcapsules, and encapsulates hydrophilic components (i.e., hydrophilic compounds) in microcapsules. A configuration in which it is contained outside the capsule is a preferred embodiment.
The microgel (crosslinked resin particles) can contain part of the constituent components of the image recording layer on at least one of its surface and inside. In particular, a reactive microgel having a polymerizable group on its surface is preferable from the viewpoint of the sensitivity of the lithographic printing plate precursor and the printing durability of the resulting lithographic printing plate.
A known synthesis method can be applied to obtain microcapsules containing the components of the image-recording layer.

ミクロゲル(架橋樹脂粒子)は、その表面又は内部の少なくとも一方に、画像記録層の構成成分の一部を含有することができる。特に、重合性基をその表面に有する反応性ミクロゲルは、平版印刷版原版の感度、及び、得られる平版印刷版の耐刷性の観点から好ましい。
画像記録層の構成成分を含むミクロゲルを得るためには、公知の合成法が適用できる。
又はミクロゲル
The microgel (crosslinked resin particles) can contain part of the constituent components of the image recording layer on at least one of its surface and inside. In particular, a reactive microgel having a polymerizable group on its surface is preferable from the viewpoint of the sensitivity of the lithographic printing plate precursor and the printing durability of the resulting lithographic printing plate.
A known synthesis method can be applied to obtain a microgel containing the components of the image recording layer.
or microgel

樹脂粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性、耐汚れ性及び保存安定性の観点から、分子中に2個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる重付加型樹脂粒子が好ましい。
上記多価フェノール化合物としては、フェノール性ヒドロキシ基を有するベンゼン環を複数有している化合物が好ましい。
上記活性水素を有する化合物としては、ポリオール化合物、又は、ポリアミン化合物が好ましく、ポリオール化合物がより好ましく、プロピレングリコール、グリセリン及びトリメチロールプロパンよりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物が更に好ましい。
分子中に2個以上のヒドロキシ基を有する多価フェノール化合物とイソホロンジイソシアネートとの付加物である多価イソシアネート化合物、及び、活性水素を有する化合物の反応により得られる樹脂の粒子としては、特開2012-206495号公報の段落0032~0095に記載の樹脂粒子が好ましく挙げられる。
From the viewpoint of the printing durability, stain resistance and storage stability of the resulting lithographic printing plate, the resin particles are adducts of a polyhydric phenol compound having two or more hydroxy groups in the molecule and isophorone diisocyanate. Polyaddition-type resin particles obtained by reacting a polyvalent isocyanate compound and a compound having active hydrogen are preferred.
As the polyhydric phenol compound, a compound having a plurality of benzene rings with phenolic hydroxy groups is preferable.
The compound having active hydrogen is preferably a polyol compound or a polyamine compound, more preferably a polyol compound, and more preferably at least one compound selected from the group consisting of propylene glycol, glycerin and trimethylolpropane.
A polyvalent isocyanate compound which is an adduct of a polyvalent phenol compound having two or more hydroxy groups in the molecule and isophorone diisocyanate, and a resin particle obtained by the reaction of a compound having an active hydrogen are disclosed in JP-A-2012. The resin particles described in paragraphs 0032 to 0095 of JP-A-206495 are preferred.

更に、樹脂粒子としては、得られる平版印刷版の耐刷性及び耐溶剤性の観点から、疎水性主鎖を有し、i)上記疎水性主鎖に直接的に結合されたニトリル基を有する構成ユニット、及び、ii)親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含む付加重合型樹脂粒子が好ましい。
上記疎水性主鎖としては、アクリル樹脂鎖が好ましく挙げられる。
上記i)の構成ユニットの例としては、-[CHCH(C≡N)]-又は-[CHC(CH)(C≡N)]-が好ましく挙げられる。
また、i)の構成ユニットは、例えば、アクリロニトリル又はメタクリロニトリルから、或いはこれらの組み合わせから容易に得られる。
Furthermore, from the viewpoint of printing durability and solvent resistance of the lithographic printing plate to be obtained, the resin particles have a hydrophobic main chain and i) have a nitrile group directly bonded to the hydrophobic main chain. Addition polymerizable resin particles containing both structural units and ii) structural units having pendant groups containing hydrophilic polyalkylene oxide segments are preferred.
As the hydrophobic main chain, an acrylic resin chain is preferably mentioned.
Examples of the structural unit i) above preferably include -[CH 2 CH(C≡N)]- or -[CH 2 C(CH 3 )(C≡N)]-.
Also, the constituent units of i) are readily obtainable, for example, from acrylonitrile or methacrylonitrile, or from combinations thereof.

また、上記ii)の構成ユニットが有する、親水性ポリアルキレンオキシドセグメントにおけるアルキレンオキシドとしては、エチレンオキシド又はプロピレンオキシドが好ましく、エチレンオキシドがより好ましい。
上記アルキレンオキシド構造の繰り返し数は、10~100であることが好ましく、25~75であることがより好ましく、40~50であることが更に好ましい。
The alkylene oxide in the hydrophilic polyalkylene oxide segment of the structural unit ii) above is preferably ethylene oxide or propylene oxide, more preferably ethylene oxide.
The number of repetitions of the alkylene oxide structure is preferably 10-100, more preferably 25-75, even more preferably 40-50.

疎水性主鎖を有し、i)上記疎水性主鎖に直接的に結合されたペンダントシアノ基を有する構成ユニット、及び、ii)親水性ポリアルキレンオキシドセグメントを含むペンダント基を有する構成ユニットの両方を含む付加重合型樹脂粒子としては、特表2008-503365号公報の段落0039~0068に記載のものが好ましく挙げられる。 A building block having a hydrophobic backbone, both i) having a pendant cyano group directly attached to said hydrophobic backbone and ii) a building block having a pendant group comprising a hydrophilic polyalkylene oxide segment. As the addition polymerization type resin particles containing, preferred are those described in paragraphs 0039 to 0068 of JP-T-2008-503365.

また、樹脂粒子は、UV耐刷性、及び、機上現像性の観点から、親水性基を有することが好ましい。
上記親水性基としては、親水性を有する構造であれば、特に制限はないが、カルボキシ基等の酸基、ヒドロキシ基、アミノ基、ニトリル基、ポリアルキレンオキシド構造を含む基等が挙げられる。
中でも、機上現像性、及び、UV耐刷性の観点から、ポリアルキレンオキシド構造を含む基が好ましく、ポリエチレンオキシド構造、ポリプロピレンオキシド構造、又は、ポリエチレン/プロピレンオキシド構造を含む基がより好ましい。
Moreover, the resin particles preferably have a hydrophilic group from the viewpoint of UV printing durability and on-press developability.
The hydrophilic group is not particularly limited as long as it has a hydrophilic structure, and examples thereof include an acid group such as a carboxyl group, a hydroxy group, an amino group, a nitrile group, and a group containing a polyalkylene oxide structure.
Among them, a group containing a polyalkylene oxide structure is preferable, and a group containing a polyethylene oxide structure, a polypropylene oxide structure, or a polyethylene/propylene oxide structure is more preferable from the viewpoint of on-press developability and UV printing durability.

また、機上現像性、及び、機上現像時の現像カス抑制性の観点からは、上記ポリアルキレンオキシド構造として、ポリプロピレンオキシド構造を有することが好ましく、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有することがより好ましい。 Further, from the viewpoint of on-press developability and suppression of development scum during on-press development, the polyalkylene oxide structure preferably has a polypropylene oxide structure, and preferably has a polyethylene oxide structure and a polypropylene oxide structure. more preferred.

また、上記親水性基としては、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、ニトリル基を有する構成単位、又は、下記式Zで表される基を含むことが好ましく、下記式(AN)で表される構成単位、又は、下記式Zで表される基を含むことがより好ましく、下記式Zで表される基を含むことが特に好ましい。 Further, the hydrophilic group preferably contains a structural unit having a nitrile group or a group represented by the following formula Z, from the viewpoint of printing durability, ink receptivity, and on-press developability. It more preferably contains a structural unit represented by the following formula (AN) or a group represented by the following formula Z, and particularly preferably contains a group represented by the following formula Z.

(式(AN)で表される構成単位)
本開示における樹脂粒子は、親水性基としてのニトリル基を有する、下記式(AN)で表される構成単位を有することが好ましい。
(Structural Unit Represented by Formula (AN))
The resin particles in the present disclosure preferably have a structural unit represented by the following formula (AN) having a nitrile group as a hydrophilic group.

式(AN)中、RANは、水素原子又はメチル基を表す。 In formula (AN), R AN represents a hydrogen atom or a methyl group.

樹脂粒子に式(AN)で表される構成単位を導入するためには、ニトリル基を有するモノマーを用いて、シアノ基を含む構成単位を有する樹脂(付加重合型樹脂)を合成すればよい。
ニトリル基を有するモノマーとしては、(メタ)アクリロニトリルが好適に挙げられる。
上記式(AN)で表される構成単位の含有量は、UV耐刷性の観点から、樹脂の全質量に対し、5質量%~90質量%であることが好ましく、20質量%~80質量%であることがより好ましく、30質量%~60質量%であることが特に好ましい。
In order to introduce the structural unit represented by the formula (AN) into the resin particles, a monomer having a nitrile group may be used to synthesize a resin having a structural unit containing a cyano group (addition polymerization type resin).
(Meth)acrylonitrile is suitable as a monomer having a nitrile group.
From the viewpoint of UV printing durability, the content of the structural unit represented by the formula (AN) is preferably 5% to 90% by mass, more preferably 20% to 80% by mass, based on the total mass of the resin. %, and particularly preferably 30% by mass to 60% by mass.

(式Zで表される基)
本開示における樹脂粒子は、親水性基として、下記式Zで表される基を有することが好ましい。
*-Q-W-Y 式Z
式Z中、Qは二価の連結基を表し、Wは親水性構造を有する二価の基又は疎水性構造を有する二価の基を表し、Yは親水性構造を有する一価の基又は疎水性構造を有する一価の基を表し、W及びYのいずれかは親水性構造を有し、*は他の構造との結合部位を表す。
また、式Z中に含まれる親水性構造のいずれかが、ポリアルキレンオキシド構造を含むことが好ましい。
(Group represented by formula Z)
The resin particles in the present disclosure preferably have a group represented by formula Z below as a hydrophilic group.
*-Q-W-Y Formula Z
In formula Z, Q represents a divalent linking group, W represents a divalent group having a hydrophilic structure or a divalent group having a hydrophobic structure, Y represents a monovalent group having a hydrophilic structure or It represents a monovalent group having a hydrophobic structure, either W or Y has a hydrophilic structure, and * represents a binding site with another structure.
Also, any one of the hydrophilic structures contained in Formula Z preferably contains a polyalkylene oxide structure.

上記式ZにおけるQは、炭素数1~20の二価の連結基であることが好ましく、炭素数1~10の二価の連結基であることがより好ましい。
また、上記式ZにおけるQは、アルキレン基、アリーレン基、エステル結合、アミド結合、又は、これらを2以上組み合わせた基であることが好ましく、フェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であることがより好ましい。
Q in the above formula Z is preferably a divalent linking group having 1 to 20 carbon atoms, more preferably a divalent linking group having 1 to 10 carbon atoms.
In addition, Q in the above formula Z is preferably an alkylene group, an arylene group, an ester bond, an amide bond, or a group in which two or more of these are combined, and may be a phenylene group, an ester bond, or an amide bond. more preferred.

上記式ZのWにおける親水性構造を有する二価の基は、ポリアルキレンオキシド構造を含む基であることが好ましく、ポリアルキレンオキシ基、又は、ポリアルキレンオキシ基の一方の末端に-CHCHNR-が結合した基であることが好ましい。なお、Rは、水素原子又はアルキル基を表す。
上記式ZのWにおける疎水性構造を有する二価の基は、-RWA-、-O-RWA-O-、-RN-RWA-NR-、-OC(=O)-RWA-O-、又は、-OC(=O)-RWA-O-であることが好ましい。なお、RWAはそれぞれ独立に、炭素数6~120の直鎖、分岐若しくは環状アルキレン基、炭素数6~120のハロアルキレン基、炭素数6~120のアリーレン基、炭素数6~120のアルカーリレン基(アルキルアリール基から水素原子を1つ除いた二価の基)、又は、炭素数6~120のアラルキレン基を表す。
The divalent group having a hydrophilic structure in W of the above formula Z is preferably a group containing a polyalkylene oxide structure, a polyalkyleneoxy group, or -CH CH at one end of the polyalkyleneoxy group. A group to which 2 NR W — is bonded is preferred. RW represents a hydrogen atom or an alkyl group.
The divalent groups having a hydrophobic structure in W of the above formula Z are -R WA -, -OR WA -O-, -R W NR WA -NR W -, -OC(=O)- R WA -O- or -OC(=O)-R WA -O- is preferred. Each R WA is independently a linear, branched or cyclic alkylene group having 6 to 120 carbon atoms, a haloalkylene group having 6 to 120 carbon atoms, an arylene group having 6 to 120 carbon atoms, and an alkarylene group having 6 to 120 carbon atoms. group (a divalent group obtained by removing one hydrogen atom from an alkylaryl group) or an aralkylene group having 6 to 120 carbon atoms.

上記式ZのYにおける親水性構造を有する一価の基は、-OH、-C(=O)OH、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に-CHCHN(R)-が結合した基であることが好ましい。中でも、親水性構造を有する一価の基としては、ポリアルキレンオキシド構造を含む基であることが好ましく、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基、又は、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基の他方の末端に-CHCHN(R)-が結合した基が好ましい。
上記式ZのYにおける疎水性構造を有する一価の基は、炭素数6~120の直鎖、分岐若しくは環状アルキル基、炭素数6~120のハロアルキル基、炭素数6~120のアリール基、炭素数6~120のアルカーリル基(アルキルアリール基)、炭素数6~120のアラルキル基、-ORWB、-C(=O)ORWB、又は、-OC(=O)RWBであることが好ましい。RWBは、炭素数6~20を有するアルキル基を表す。
A monovalent group having a hydrophilic structure in Y of the above formula Z is —OH, —C(═O)OH, a polyalkyleneoxy group having a terminal hydrogen atom or an alkyl group, or a terminal hydrogen atom or an alkyl group It is preferably a group in which —CH 2 CH 2 N(R W )— is bonded to the other terminal of the polyalkyleneoxy group. Among them, the monovalent group having a hydrophilic structure is preferably a group containing a polyalkylene oxide structure, a polyalkyleneoxy group having a terminal hydrogen atom or an alkyl group, or a terminal hydrogen atom or an alkyl group A group in which —CH 2 CH 2 N(R W )— is bonded to the other terminal of the polyalkyleneoxy group is preferred.
The monovalent group having a hydrophobic structure in Y of the above formula Z includes a linear, branched or cyclic alkyl group having 6 to 120 carbon atoms, a haloalkyl group having 6 to 120 carbon atoms, an aryl group having 6 to 120 carbon atoms, an alkaryl group having 6 to 120 carbon atoms (alkylaryl group), an aralkyl group having 6 to 120 carbon atoms, -OR WB , -C(=O)OR WB , or -OC(=O)R WB preferable. R WB represents an alkyl group having 6 to 20 carbon atoms.

上記式Zで表される基を有する樹脂粒子は、耐刷性、着肉性、及び、機上現像性の観点から、Wが親水性構造を有する二価の基であることがより好ましく、Qがフェニレン基、エステル結合、又は、アミド結合であり、Wは、ポリアルキレンオキシ基であり、Yが、末端が水素原子又はアルキル基であるポリアルキレンオキシ基であることがより好ましい。
なお、式Zで表される基は、樹脂粒子の分散性を高める分散性基として機能してもよい。
In the resin particles having a group represented by the above formula Z, W is more preferably a divalent group having a hydrophilic structure, from the viewpoint of printing durability, inking property, and on-press developability. More preferably, Q is a phenylene group, an ester bond, or an amide bond, W is a polyalkyleneoxy group, and Y is a polyalkyleneoxy group terminated with a hydrogen atom or an alkyl group.
The group represented by formula Z may function as a dispersing group that enhances the dispersibility of the resin particles.

本開示における樹脂粒子は、耐刷性、及び、機上現像性の観点から、重合性基(好ましくはエチレン性不飽和基)を有することが好ましく、特に、表面に重合性基を有する樹脂粒子を含むことがより好ましい。重合性基を有する樹脂粒子を用いることで、版飛び(好ましくはUV版飛び)を抑制しやすくなり、耐刷性(好ましくはUV耐刷性)も高められる。 The resin particles in the present disclosure preferably have a polymerizable group (preferably an ethylenically unsaturated group) from the viewpoint of printing durability and on-press developability, and in particular resin particles having a polymerizable group on the surface. more preferably. By using resin particles having a polymerizable group, plate skipping (preferably UV plate skipping) can be easily suppressed, and printing durability (preferably UV printing durability) can be improved.

本開示における樹脂粒子は、耐刷性の観点から、親水性基及び重合性基を有する樹脂粒子であることが好ましい。
上記重合性基は、カチオン重合性基であっても、ラジカル重合性基であってもよいが、反応性の観点からは、ラジカル重合性基であることが好ましい。
上記重合性基としては、重合可能な基であれば特に制限はないが、反応性の観点から、エチレン性不飽和基が好ましく、ビニルフェニル基(スチリル基)、(メタ)アクリロキシ基、又は、(メタ)アクリルアミド基がより好ましく、(メタ)アクリロキシ基が特に好ましい。
また、重合性基を有する樹脂粒子を構成する樹脂は、重合性基を有する構成単位を有することが好ましい。
なお、高分子反応により樹脂粒子の表面に重合性基を導入してもよい。
From the viewpoint of printing durability, the resin particles in the present disclosure are preferably resin particles having a hydrophilic group and a polymerizable group.
The polymerizable group may be a cationically polymerizable group or a radically polymerizable group, but is preferably a radically polymerizable group from the viewpoint of reactivity.
The polymerizable group is not particularly limited as long as it is a polymerizable group, but from the viewpoint of reactivity, an ethylenically unsaturated group is preferable, a vinylphenyl group (styryl group), a (meth)acryloxy group, or A (meth)acrylamide group is more preferred, and a (meth)acryloxy group is particularly preferred.
Moreover, it is preferable that the resin constituting the resin particles having a polymerizable group has a constitutional unit having a polymerizable group.
A polymerizable group may be introduced onto the surface of the resin particles by a polymer reaction.

また、樹脂粒子は、耐刷性、着肉性、機上現像性、及び、機上現像時の現像カス抑制性の観点から、ウレア結合を有する重付加型樹脂を含むことが好ましく、下記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有する重付加型樹脂を含むことがより好ましく、下記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを少なくとも反応させて得られる構造を有し、かつ、ポリオキシアルキレン構造として、ポリエチレンオキシド構造及びポリプロピレンオキシド構造を有する重付加型樹脂を含むことが特に好ましい。また、上記ウレア結合を有する重付加型樹脂を含む粒子は、ミクロゲルであることが好ましい。 Further, the resin particles preferably contain a polyaddition type resin having a urea bond from the viewpoint of printing durability, ink receptivity, on-press developability, and suppression of development scum during on-press development. More preferably, it contains a polyaddition resin having a structure obtained by reacting at least an isocyanate compound represented by (Iso) with water, and at least reacting an isocyanate compound represented by the following formula (Iso) with water. It is particularly preferable to include a polyaddition type resin having a structure obtained by a polyoxyalkylene structure and having a polyethylene oxide structure and a polypropylene oxide structure as the polyoxyalkylene structure. Moreover, the particles containing the polyaddition type resin having a urea bond are preferably microgels.

式(Iso)中、nは0~10の整数を表す。 In formula (Iso), n represents an integer of 0-10.

上記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水との反応の一例としては、下記に示す反応が挙げられる。なお、下記の例は、n=0、4,4-異性体を使用した例である。
下記に示すように、上記式(Iso)で表されるイソシアネート化合物と水とを反応させると、水によりイソシアネート基の一部が加水分解し、アミノ基が生じ、生じたアミノ基とイソシアネート基とが反応し、ウレア結合が生成し、二量体が形成される。また、下記反応が繰り返され、ウレア結合を有する重付加型樹脂が形成される。
An example of the reaction between the isocyanate compound represented by the above formula (Iso) and water includes the reaction shown below. The following examples are examples using the n=0,4,4-isomer.
As shown below, when the isocyanate compound represented by the above formula (Iso) is reacted with water, part of the isocyanate group is hydrolyzed by the water to generate an amino group, and the generated amino group and the isocyanate group reacts to form a urea bond and form a dimer. Also, the following reaction is repeated to form a polyaddition resin having a urea bond.

また、下記反応において、アルコール化合物、アミン化合物等のイソシアネート基と反応性を有する化合物(活性水素を有する化合物)を添加することにより、アルコール化合物、アミン化合物等の構造を、ウレア結合を有する重付加型樹脂に導入することもできる。
上記活性水素を有する化合物としては、既述の活性水素を有する化合物が好ましく挙げられる。
In the following reaction, by adding a compound having reactivity with an isocyanate group (a compound having an active hydrogen) such as an alcohol compound or an amine compound, the structure of the alcohol compound, amine compound, etc. can be converted into polyaddition having a urea bond. It can also be introduced into the mold resin.
As the compound having active hydrogen, the compounds having active hydrogen described above are preferably used.

また、上記ウレア結合を有する重付加型樹脂は、エチレン性不飽和基を有することが好ましく、下記式(PETA)で表される基を有することがより好ましい。 Moreover, the polyaddition type resin having the urea bond preferably has an ethylenically unsaturated group, and more preferably has a group represented by the following formula (PETA).

式(PETA)中、波線部分は、他の構造との結合位置を表す。 In the formula (PETA), the wavy line represents the bonding position with other structures.

(樹脂粒子の合成)
樹脂粒子の合成法としては、特に制限はなく、既述した各種の樹脂にて粒子を合成しうる方法であればよい。樹脂粒子の合成法としては、例えば、乳化重合法、懸濁重合法、分散重合法、ソープフリー重合法、マイクロエマルション重合法等の、公知の樹脂粒子の合成法が挙げられる。
その他、樹脂粒子の合成には、公知のマイクロカプセルの合成法、ミクロゲル(架橋樹脂粒子)の合成法等を用いてもよい。
(Synthesis of resin particles)
The method for synthesizing the resin particles is not particularly limited as long as it is a method capable of synthesizing particles with the various resins described above. Examples of methods for synthesizing resin particles include known methods for synthesizing resin particles, such as emulsion polymerization, suspension polymerization, dispersion polymerization, soap-free polymerization, and microemulsion polymerization.
In addition, for synthesizing the resin particles, a known method for synthesizing microcapsules, a method for synthesizing microgels (crosslinked resin particles), or the like may be used.

(粒子の平均粒径)
粒子の平均粒径は、0.01μm~3.0μmが好ましく、0.03μm~2.0μmがより好ましく、0.10μm~1.0μmが更に好ましい。この範囲で良好な解像度と経時安定性が得られる。
粒子の平均粒径は、光散乱法により測定するか、又は、粒子の電子顕微鏡写真を撮影し、写真上で粒子の粒径を総計で5,000個測定し、平均値を算出するものとする。なお、非球形粒子については写真上の粒子の円相当径とする。
なお、本開示における粒子の平均粒径は、特に断りのない限り、体積平均粒径であるものとする。
(Average particle size of particles)
The average particle diameter of the particles is preferably 0.01 μm to 3.0 μm, more preferably 0.03 μm to 2.0 μm, and still more preferably 0.10 μm to 1.0 μm. Good resolution and stability over time can be obtained in this range.
The average particle diameter of the particles is measured by a light scattering method, or an electron microscope photograph of the particles is taken, the particle diameters of 5,000 particles in total are measured on the photograph, and the average value is calculated. do. For non-spherical particles, the circle-equivalent diameter of the particles on the photograph is used.
Note that the average particle size of particles in the present disclosure is the volume average particle size unless otherwise specified.

粒子(好ましくは樹脂粒子)は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Only one type of particles (preferably resin particles) may be used, or two or more types may be used in combination.

粒子(好ましくは樹脂粒子)の含有量は、現像性、及び、耐刷性の観点から、画像記録層の全質量に対し、5質量%~90質量%が好ましく、10質量%~90質量%であることがより好ましく、20質量%~90質量%であることが更に好ましく、50質量%~90質量%であることが特に好ましい。 The content of the particles (preferably resin particles) is preferably 5% to 90% by mass, preferably 10% to 90% by mass, based on the total mass of the image recording layer, from the viewpoint of developability and printing durability. is more preferably 20% by mass to 90% by mass, and particularly preferably 50% by mass to 90% by mass.

〔その他の成分〕
本開示における画像記録層は、既述の成分以外のその他の成分を含んでいてもよい。
その他の成分としては、バインダーポリマー、発色剤、連鎖移動剤、低分子親水性化合物、感脂化剤、その他の添加剤等が挙げられる。
[Other ingredients]
The image-recording layer in the present disclosure may contain other components than those mentioned above.
Other components include binder polymers, color formers, chain transfer agents, low-molecular-weight hydrophilic compounds, sensitizers, and other additives.

[バインダーポリマー]
画像記録層は、必要に応じて、バインダーポリマーを含んでいてもよい、
ここで、バインダーポリマーは、樹脂粒子以外のポリマー、すなわち、粒子形状でないポリマーを指す。
また、バインダーポリマーは、感脂化剤におけるアンモニウム塩含有ポリマー、及び界面活性剤として用いるポリマーを除く。
[Binder polymer]
The image-recording layer may optionally contain a binder polymer.
Here, the binder polymer refers to a polymer other than resin particles, that is, a non-particulate polymer.
Binder polymers exclude ammonium salt-containing polymers in sensitizers and polymers used as surfactants.

バインダーポリマーは平版印刷版原版の画像記録層に用いられる公知のバインダーポリマー(例えば、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂等)を好適に使用することができる。
一例として、機上現像型平版印刷版原版に用いられるバインダーポリマー(以下、機上現像用バインダーポリマーともいう)について、詳細に記載する。
機上現像用バインダーポリマーとしては、アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーが好ましい。アルキレンオキシド鎖を有するバインダーポリマーは、ポリ(アルキレンオキシド)部位を主鎖に有していても側鎖に有していてもよい。また、ポリ(アルキレンオキシド)を側鎖に有するグラフトポリマーでも、ポリ(アルキレンオキシド)含有繰返し単位で構成されるブロックと(アルキレンオキシド)非含有繰返し単位で構成されるブロックとのブロックコポリマーでもよい。
ポリ(アルキレンオキシド)部位を主鎖に有する場合は、ポリウレタン樹脂が好ましい。
ポリ(アルキレンオキシド)部位を側鎖に有する場合の主鎖のポリマーとしては、(メタ)アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリスチレン樹脂、ノボラック型フェノール樹脂、ポリエステル樹脂、合成ゴム、天然ゴムが挙げられ、特に(メタ)アクリル樹脂が好ましい。
As the binder polymer, a known binder polymer (for example, (meth)acrylic resin, polyvinyl acetal resin, polyurethane resin, etc.) used in the image recording layer of the planographic printing plate precursor can be suitably used.
As an example, the binder polymer used for the on-press development type lithographic printing plate precursor (hereinafter also referred to as the on-press development binder polymer) will be described in detail.
As the binder polymer for on-press development, a binder polymer having an alkylene oxide chain is preferred. A binder polymer having an alkylene oxide chain may have a poly(alkylene oxide) moiety in the main chain or in a side chain. It may also be a graft polymer having poly(alkylene oxide) in a side chain, or a block copolymer of a block composed of poly(alkylene oxide)-containing repeating units and a block composed of (alkylene oxide)-free repeating units.
Polyurethane resins are preferred when having a poly(alkylene oxide) moiety in the main chain.
Examples of the polymer of the main chain when having a poly(alkylene oxide) moiety in the side chain include (meth) acrylic resins, polyvinyl acetal resins, polyurethane resins, polyurea resins, polyimide resins, polyamide resins, epoxy resins, polystyrene resins, novolak type Phenolic resins, polyester resins, synthetic rubbers and natural rubbers can be mentioned, and (meth)acrylic resins are particularly preferred.

また、バインダーポリマーの他の好ましい例として、6官能以上10官能以下の多官能チオールを核として、この核に対しスルフィド結合により結合したポリマー鎖を有し、上記ポリマー鎖が重合性基を有する高分子化合物(以下、星型高分子化合物ともいう。)が挙げられる。
星型高分子化合物としては、例えば、特開2012-148555号公報に記載の化合物を好ましく用いることができる。
Further, as another preferred example of the binder polymer, a polyfunctional thiol having a functionality of 6 or more and 10 or less is used as a nucleus, and it has a polymer chain bonded to this nucleus by a sulfide bond, and the polymer chain has a polymerizable group. Molecular compounds (hereinafter also referred to as star-shaped polymer compounds) can be mentioned.
As the star-shaped polymer compound, for example, compounds described in JP-A-2012-148555 can be preferably used.

星型高分子化合物は、特開2008-195018号公報に記載のような画像部の皮膜強度を向上するためのエチレン性不飽和結合等の重合性基を、主鎖又は側鎖、好ましくは側鎖に有しているものが挙げられる。星型高分子化合物が有する重合性基によって星型高分子化合物の分子間に架橋が形成され、硬化が促進する。
重合性基としては、(メタ)アクリル基、ビニル基、アリル基、ビニルフェニル基(スチリル基)などのエチレン性不飽和基、エポキシ基等が好ましく、(メタ)アクリル基、ビニル基、ビニルフェニル基(スチリル基)が重合反応性の観点でより好ましく、(メタ)アクリル基が特に好ましい。これらの基は、高分子反応、又は、共重合によってポリマーに導入することができる。具体的には、例えば、カルボキシ基を側鎖に有するポリマーとグリシジルメタクリレートとの反応、あるいはエポキシ基を有するポリマーとメタクリル酸などのエチレン性不飽和基含有カルボン酸との反応を利用できる。
The star-shaped polymer compound has a polymerizable group such as an ethylenically unsaturated bond for improving the film strength of the image area as described in JP-A-2008-195018 on the main chain or side chain, preferably on the side. Those that have chains are included. The polymerizable groups possessed by the star-shaped polymer compound form crosslinks between the molecules of the star-shaped polymer compound, promoting curing.
The polymerizable group is preferably an ethylenically unsaturated group such as a (meth)acrylic group, a vinyl group, an allyl group, a vinylphenyl group (styryl group), an epoxy group, or the like. A group (styryl group) is more preferable from the viewpoint of polymerization reactivity, and a (meth)acryl group is particularly preferable. These groups can be introduced into the polymer by polymer reaction or copolymerization. Specifically, for example, a reaction between a polymer having a carboxy group in its side chain and glycidyl methacrylate, or a reaction between a polymer having an epoxy group and an ethylenically unsaturated group-containing carboxylic acid such as methacrylic acid can be used.

バインダーポリマーの分子量は、GPC法によるポリスチレン換算値として重量平均分子量(Mw)が、2,000以上であることが好ましく、5,000以上であることがより好ましく、10,000~300,000であることが更に好ましい。 The molecular weight of the binder polymer is preferably 2,000 or more, more preferably 5,000 or more, and a weight average molecular weight (Mw) of 10,000 to 300,000 in terms of polystyrene by GPC method. It is even more preferable to have

バインダーポリマーとしては、必要に応じて、特開2008-195018号公報に記載のポリアクリル酸、ポリビニルアルコールなどの親水性ポリマーを併用することができる。また、親油的なポリマーと親水的なポリマーとを併用することもできる。 As the binder polymer, hydrophilic polymers such as polyacrylic acid and polyvinyl alcohol described in JP-A-2008-195018 can be used in combination, if necessary. Also, a lipophilic polymer and a hydrophilic polymer can be used in combination.

バインダーポリマーは、1種単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 A binder polymer may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

バインダーポリマーは、画像記録層中に任意な量で含有させることができるが、バインダーポリマーの含有量は、画像記録層の全質量に対して、1質量%~90質量%であることが好ましく、5質量%~80質量%であることがより好ましい。 The binder polymer can be contained in any amount in the image-recording layer, but the content of the binder polymer is preferably 1% by mass to 90% by mass with respect to the total mass of the image-recording layer. It is more preferably 5% by mass to 80% by mass.

[発色剤]
本開示における画像記録層は、発色剤を含むことが好ましく、酸発色剤を含むことがより好ましい。また、発色剤としては、ロイコ化合物を含むことが好ましい。
本開示で用いられる「発色剤」とは、光や酸等の刺激により発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味し、また、「酸発色剤」とは、電子受容性化合物(例えば酸等のプロトン)を受容した状態で加熱することにより、発色又は消色し画像記録層の色を変化させる性質を有する化合物を意味する。酸発色剤としては、特に、ラクトン、ラクタム、サルトン、スピロピラン、エステル、アミド等の部分骨格を有し、電子受容性化合物と接触した時に、速やかにこれらの部分骨格が開環若しくは開裂する無色の化合物が好ましい。
[Color former]
The image-recording layer in the present disclosure preferably contains a color former, more preferably an acid color former. Moreover, it is preferable that the coloring agent contains a leuco compound.
The "color former" used in the present disclosure means a compound having a property of developing or decoloring by stimulation with light, acid, etc. to change the color of the image recording layer. It means a compound having a property of changing the color of the image-recording layer by coloring or decoloring by heating while receiving an electron-accepting compound (for example, protons of an acid, etc.). As the acid coloring agent, in particular, colorless coloring agents having partial skeletons such as lactones, lactams, sultones, spiropyrans, esters, amides, etc., and in which these partial skeletons are rapidly ring-opened or cleaved upon contact with an electron-accepting compound. Compounds are preferred.

このような酸発色剤の例としては、3,3-ビス(4-ジメチルアミノフェニル)-6-ジメチルアミノフタリド(“クリスタルバイオレットラクトン”と称される。)、3,3-ビス(4-ジメチルアミノフェニル)フタリド、3-(4-ジメチルアミノフェニル)-3-(4-ジエチルアミノ-2-メチルフェニル)-6-ジメチルアミノフタリド、3-(4-ジメチルアミノフェニル)-3-(1,2-ジメチルインドール-3-イル)フタリド、3-(4-ジメチルアミノフェニル)-3-(2-メチルインドール-3-イル)フタリド、3,3-ビス(1,2-ジメチルインドール-3-イル)-5-ジメチルアミノフタリド、3,3-ビス(1,2-ジメチルインドール-3-イル)-6-ジメチルアミノフタリド、3,3-ビス(9-エチルカルバゾール-3-イル)-6-ジメチルアミノフタリド、3,3-ビス(2-フェニルインドール-3-イル)-6-ジメチルアミノフタリド、3-(4-ジメチルアミノフェニル)-3-(1-メチルピロール-3-イル)-6-ジメチルアミノフタリド、 Examples of such acid color couplers include 3,3-bis(4-dimethylaminophenyl)-6-dimethylaminophthalide (referred to as "crystal violet lactone"), 3,3-bis(4 -dimethylaminophenyl)phthalide, 3-(4-dimethylaminophenyl)-3-(4-diethylamino-2-methylphenyl)-6-dimethylaminophthalide, 3-(4-dimethylaminophenyl)-3-( 1,2-dimethylindol-3-yl)phthalide, 3-(4-dimethylaminophenyl)-3-(2-methylindol-3-yl)phthalide, 3,3-bis(1,2-dimethylindole- 3-yl)-5-dimethylaminophthalide, 3,3-bis(1,2-dimethylindol-3-yl)-6-dimethylaminophthalide, 3,3-bis(9-ethylcarbazole-3- yl)-6-dimethylaminophthalide, 3,3-bis(2-phenylindol-3-yl)-6-dimethylaminophthalide, 3-(4-dimethylaminophenyl)-3-(1-methylpyrrole -3-yl)-6-dimethylaminophthalide,

3,3-ビス〔1,1-ビス(4-ジメチルアミノフェニル)エチレン-2-イル〕-4,5,6,7-テトラクロロフタリド、3,3-ビス〔1,1-ビス(4-ピロリジノフェニル)エチレン-2-イル〕-4,5,6,7-テトラブロモフタリド、3,3-ビス〔1-(4-ジメチルアミノフェニル)-1-(4-メトキシフェニル)エチレン-2-イル〕-4,5,6,7-テトラクロロフタリド、3,3-ビス〔1-(4-ピロリジノフェニル)-1-(4-メトキシフェニル)エチレン-2-イル〕-4,5,6,7-テトラクロロフタリド、3-〔1,1-ジ(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)エチレン-2-イル〕-3-(4-ジエチルアミノフェニル)フタリド、3-〔1,1-ジ(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)エチレン-2-イル〕-3-(4-N-エチル-N-フェニルアミノフェニル)フタリド、3-(2-エトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-n-オクチル-2-メチルインドール-3-イル)-フタリド、3,3-ビス(1-n-オクチル-2-メチルインドール-3-イル)-フタリド、3-(2-メチル-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-n-オクチル-2-メチルインドール-3-イル)-フタリド等のフタリド類、 3,3-bis[1,1-bis(4-dimethylaminophenyl)ethylene-2-yl]-4,5,6,7-tetrachlorophthalide, 3,3-bis[1,1-bis( 4-pyrrolidinophenyl)ethylene-2-yl]-4,5,6,7-tetrabromophthalide, 3,3-bis[1-(4-dimethylaminophenyl)-1-(4-methoxyphenyl) Ethylene-2-yl]-4,5,6,7-tetrachlorophthalide, 3,3-bis[1-(4-pyrrolidinophenyl)-1-(4-methoxyphenyl)ethylene-2-yl] -4,5,6,7-tetrachlorophthalide, 3-[1,1-di(1-ethyl-2-methylindol-3-yl)ethylene-2-yl]-3-(4-diethylaminophenyl ) phthalide, 3-[1,1-di(1-ethyl-2-methylindol-3-yl)ethylene-2-yl]-3-(4-N-ethyl-N-phenylaminophenyl)phthalide, 3 -(2-ethoxy-4-diethylaminophenyl)-3-(1-n-octyl-2-methylindol-3-yl)-phthalide, 3,3-bis(1-n-octyl-2-methylindole- 3-yl)-phthalide, 3-(2-methyl-4-diethylaminophenyl)-3-(1-n-octyl-2-methylindol-3-yl)-phthalide and other phthalides,

4,4-ビス-ジメチルアミノベンズヒドリンベンジルエーテル、N-ハロフェニル-ロイコオーラミン、N-2,4,5-トリクロロフェニルロイコオーラミン、ローダミン-B-アニリノラクタム、ローダミン-(4-ニトロアニリノ)ラクタム、ローダミン-B-(4-クロロアニリノ)ラクタム、3,7-ビス(ジエチルアミノ)-10-ベンゾイルフェノオキサジン、ベンゾイルロイコメチレンブルー、4ーニトロベンゾイルメチレンブルー、 4,4-bis-dimethylaminobenzhydrin benzyl ether, N-halophenyl-leuco auramine, N-2,4,5-trichlorophenyl leuco auramine, rhodamine-B-anilinolactam, rhodamine-(4-nitroanilino ) lactam, rhodamine-B-(4-chloroanilino)lactam, 3,7-bis(diethylamino)-10-benzoylphenoxazine, benzoyl leucomethylene blue, 4-nitrobenzoylmethylene blue,

3,6-ジメトキシフルオラン、3-ジメチルアミノ-7-メトキシフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メトキシフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-メトキシフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-クロロフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メチル-7-クロロフルオラン、3-ジエチルアミノ-6,7-ジメチルフルオラン、3-N-シクロヘキシル-N-n-ブチルアミノ-7-メチルフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-ジベンジルアミノフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-オクチルアミノフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-ジ-n-ヘキシルアミノフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-7-(2’-フルオロフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-7-(2’-クロロフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-7-(3’-クロロフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-7-(2’,3’-ジクロロフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-7-(3’-トリフルオロメチルフェニルアミノ)フルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-7-(2’-フルオロフェニルアミノ)フルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-7-(2’-クロロフェニルアミノ)フルオラン、3-N-イソペンチル-N-エチルアミノ-7-(2’-クロロフェニルアミノ)フルオラン、 3,6-dimethoxyfluorane, 3-dimethylamino-7-methoxyfluorane, 3-diethylamino-6-methoxyfluorane, 3-diethylamino-7-methoxyfluorane, 3-diethylamino-7-chlorofluorane, 3 -diethylamino-6-methyl-7-chlorofluorane, 3-diethylamino-6,7-dimethylfluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-butylamino-7-methylfluorane, 3-diethylamino-7- dibenzylaminofluorane, 3-diethylamino-7-octylaminofluorane, 3-diethylamino-7-di-n-hexylaminofluorane, 3-diethylamino-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-7-( 2′-fluorophenylamino)fluorane, 3-diethylamino-7-(2′-chlorophenylamino)fluorane, 3-diethylamino-7-(3′-chlorophenylamino)fluorane, 3-diethylamino-7-(2′,3 '-dichlorophenylamino)fluorane, 3-diethylamino-7-(3'-trifluoromethylphenylamino)fluorane, 3-di-n-butylamino-7-(2'-fluorophenylamino)fluorane, 3-di- n-butylamino-7-(2′-chlorophenylamino)fluorane, 3-N-isopentyl-N-ethylamino-7-(2′-chlorophenylamino)fluorane,

3-N-n-ヘキシル-N-エチルアミノ-7-(2’-クロロフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-6-クロロ-7-アニリノフルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-6-クロロ-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メトキシ-7-アニリノフルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-6-エトキシ-7-アニリノフルオラン、3-ピロリジノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ピペリジノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-モルホリノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジメチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジ-n-ペンチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-エチル-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-n-プロピル-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-n-プロピル-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-n-ブチル-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-n-ブチル-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-イソブチル-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-イソブチル-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-イソペンチル-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-n-ヘキシル-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-シクロヘキシル-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-シクロヘキシル-N-n-プロピルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-シクロヘキシル-N-n-ブチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-シクロヘキシル-N-n-ヘキシルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-シクロヘキシル-N-n-オクチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、 3-Nn-hexyl-N-ethylamino-7-(2'-chlorophenylamino)fluorane, 3-diethylamino-6-chloro-7-anilinofluorane, 3-di-n-butylamino-6- Chloro-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-6-methoxy-7-anilinofluorane, 3-di-n-butylamino-6-ethoxy-7-anilinofluorane, 3-pyrrolidino-6- Methyl-7-anilinofluorane, 3-piperidino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-morpholino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-dimethylamino-6-methyl-7- Anilinofluorane, 3-diethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-di-n-butylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-di-n-pentylamino-6 -methyl-7-anilinofluorane, 3-N-ethyl-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-Nn-propyl-N-methylamino-6-methyl-7 -anilinofluorane, 3-Nn-propyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-Nn-butyl-N-methylamino-6-methyl-7-ani linofluorane, 3-Nn-butyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-isobutyl-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-isobutyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-isopentyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-Nn- Hexyl-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn- Propylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-butylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-hexylamino -6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-cyclohexyl-Nn-octylamino-6-methyl-7-anilinofluorane,

3-N-(2’-メトキシエチル)-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(2’-メトキシエチル)-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(2’-メトキシエチル)-N-イソブチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(2’-エトキシエチル)-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(2’-エトキシエチル)-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(3’-メトキシプロピル)-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(3’-メトキシプロピル)-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(3’-エトキシプロピル)-N-メチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(3’-エトキシプロピル)-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(2’-テトラヒドロフルフリル)-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-N-(4’-メチルフェニル)-N-エチルアミノ-6-メチル-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-エチル-7-アニリノフルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メチル-7-(3’-メチルフェニルアミノ)フルオラン、3-ジエチルアミノ-6-メチル-7-(2’,6’-ジメチルフェニルアミノ)フルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-6-メチル-7-(2’,6’-ジメチルフェニルアミノ)フルオラン、3-ジ-n-ブチルアミノ-7-(2’,6’-ジメチルフェニルアミノ)フルオラン、2,2-ビス〔4’-(3-N-シクロヘキシル-N-メチルアミノ-6-メチルフルオラン)-7-イルアミノフェニル〕プロパン、3-〔4’-(4-フェニルアミノフェニル)アミノフェニル〕アミノ-6-メチル-7-クロロフルオラン、3-〔4’-(ジメチルアミノフェニル)〕アミノ-5,7-ジメチルフルオラン等のフルオラン類、 3-N-(2′-methoxyethyl)-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-(2′-methoxyethyl)-N-ethylamino-6-methyl-7 -anilinofluorane, 3-N-(2'-methoxyethyl)-N-isobutylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-(2'-ethoxyethyl)-N-methylamino -6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-(2'-ethoxyethyl)-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-(3'-methoxypropyl )-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-(3′-methoxypropyl)-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N- (3′-ethoxypropyl)-N-methylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-(3′-ethoxypropyl)-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluor Olan, 3-N-(2′-tetrahydrofurfuryl)-N-ethylamino-6-methyl-7-anilinofluorane, 3-N-(4′-methylphenyl)-N-ethylamino-6- Methyl-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-6-ethyl-7-anilinofluorane, 3-diethylamino-6-methyl-7-(3′-methylphenylamino)fluorane, 3-diethylamino-6- methyl-7-(2',6'-dimethylphenylamino)fluorane, 3-di-n-butylamino-6-methyl-7-(2',6'-dimethylphenylamino)fluorane, 3-di-n -butylamino-7-(2′,6′-dimethylphenylamino)fluorane, 2,2-bis[4′-(3-N-cyclohexyl-N-methylamino-6-methylfluoran)-7-yl aminophenyl]propane, 3-[4′-(4-phenylaminophenyl)aminophenyl]amino-6-methyl-7-chlorofluorane, 3-[4′-(dimethylaminophenyl)]amino-5,7 - fluorans such as dimethylfluorane,

3-(2-メチル-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)-4-アザフタリド、3-(2-n-プロポキシカルボニルアミノ-4-ジ-n-プロピルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)-4-アザフタリド、3-(2-メチルアミノ-4-ジ-n-プロピルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)-4-アザフタリド、3-(2-メチル-4-ジn-ヘキシルアミノフェニル)-3-(1-n-オクチル-2-メチルインドール-3-イル)-4,7-ジアザフタリド、3,3-ビス(2-エトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-4-アザフタリド、3,3-ビス(1-n-オクチル-2-メチルインドール-3-イル)-4-アザフタリド、3-(2-エトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)-4-アザフタリド、3-(2-エトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-オクチル-2-メチルインドール-3-イル)-4又は7-アザフタリド、3-(2-エトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)-4又は7-アザフタリド、3-(2-ヘキシルオキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-メチルインドール-3-イル)-4又は7-アザフタリド、3-(2-エトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-フェニルインドール-3-イル)-4又は7-アザフタリド、3-(2-ブトキシ-4-ジエチルアミノフェニル)-3-(1-エチル-2-フェニルインドール-3-イル)-4又は7-アザフタリド、3-メチル-スピロ-ジナフトピラン、3-エチル-スピロ-ジナフトピラン、3-フェニル-スピロ-ジナフトピラン、3-ベンジル-スピロ-ジナフトピラン、3-メチル-ナフト-(3-メトキシベンゾ)スピロピラン、3-プロピル-スピロ-ジベンゾピラン-3,6-ビス(ジメチルアミノ)フルオレン-9-スピロ-3’-(6’-ジメチルアミノ)フタリド、3,6-ビス(ジエチルアミノ)フルオレン-9-スピロ-3’-(6’-ジメチルアミノ)フタリド等のフタリド類、 3-(2-methyl-4-diethylaminophenyl)-3-(1-ethyl-2-methylindol-3-yl)-4-azaphthalide, 3-(2-n-propoxycarbonylamino-4-di-n -propylaminophenyl)-3-(1-ethyl-2-methylindol-3-yl)-4-azaphthalide, 3-(2-methylamino-4-di-n-propylaminophenyl)-3-(1 -ethyl-2-methylindol-3-yl)-4-azaphthalide, 3-(2-methyl-4-di-n-hexylaminophenyl)-3-(1-n-octyl-2-methylindole-3- yl)-4,7-diazaphthalide, 3,3-bis(2-ethoxy-4-diethylaminophenyl)-4-azaphthalide, 3,3-bis(1-n-octyl-2-methylindol-3-yl) -4-azaphthalide, 3-(2-ethoxy-4-diethylaminophenyl)-3-(1-ethyl-2-methylindol-3-yl)-4-azaphthalide, 3-(2-ethoxy-4-diethylaminophenyl )-3-(1-octyl-2-methylindol-3-yl)-4 or 7-azaphthalide, 3-(2-ethoxy-4-diethylaminophenyl)-3-(1-ethyl-2-methylindole- 3-yl)-4 or 7-azaphthalide, 3-(2-hexyloxy-4-diethylaminophenyl)-3-(1-ethyl-2-methylindol-3-yl)-4 or 7-azaphthalide, 3- (2-ethoxy-4-diethylaminophenyl)-3-(1-ethyl-2-phenylindol-3-yl)-4 or 7-azaphthalide, 3-(2-butoxy-4-diethylaminophenyl)-3-( 1-ethyl-2-phenylindol-3-yl)-4 or 7-azaphthalide, 3-methyl-spiro-dinaphthopyran, 3-ethyl-spiro-dinaphthopyran, 3-phenyl-spiro-dinaphthopyran, 3-benzyl-spiro- Dinaphthopyran, 3-methyl-naphtho-(3-methoxybenzo)spiropyran, 3-propyl-spiro-dibenzopyran-3,6-bis(dimethylamino)fluorene-9-spiro-3′-(6′-dimethylamino) phthalides such as phthalide, 3,6-bis(diethylamino)fluorene-9-spiro-3′-(6′-dimethylamino)phthalide,

その他、2’-アニリノ-6’-(N-エチル-N-イソペンチル)アミノ-3’-メチルスピロ[イソベンゾフラン-1(3H),9’-(9H)キサンテン-3-オン、2’-アニリノ-6’-(N-エチル-N-(4-メチルフェニル))アミノ-3’-メチルスピロ[イソベンゾフラン-1(3H),9’-(9H)キサンテン]-3-オン、3’-N,N-ジベンジルアミノ-6’-N,N-ジエチルアミノスピロ[イソベンゾフラン-1(3H),9’-(9H)キサンテン]-3-オン、2’-(N-メチル-N-フェニル)アミノ-6’-(N-エチル-N-(4-メチルフェニル))アミノスピロ[イソベンゾフラン-1(3H),9’-(9H)キサンテン]-3-オンなどが挙げられる。 Other, 2'-anilino-6'-(N-ethyl-N-isopentyl) amino-3'-methylspiro [isobenzofuran-1 (3H), 9'-(9H) xanthen-3-one, 2'-anilino -6′-(N-ethyl-N-(4-methylphenyl))amino-3′-methylspiro[isobenzofuran-1(3H),9′-(9H)xanthene]-3-one, 3′-N ,N-dibenzylamino-6′-N,N-diethylaminospiro[isobenzofuran-1(3H),9′-(9H)xanthene]-3-one, 2′-(N-methyl-N-phenyl) amino-6′-(N-ethyl-N-(4-methylphenyl))aminospiro[isobenzofuran-1(3H),9′-(9H)xanthen]-3-one and the like.

中でも、本開示に用いられる発色剤は、発色性の観点から、スピロピラン化合物、スピロオキサジン化合物、スピロラクトン化合物、及び、スピロラクタム化合物よりなる群から選ばれた少なくとも1種の化合物であることが好ましい。
発色後の色素の色相としては、可視性の観点から、緑、青又は黒であることが好ましい。
Among them, the color former used in the present disclosure is preferably at least one compound selected from the group consisting of spiropyran compounds, spirooxazine compounds, spirolactone compounds, and spirolactam compounds from the viewpoint of color development. .
From the viewpoint of visibility, the hue of the dye after color development is preferably green, blue or black.

また、上記酸発色剤は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、ロイコ色素であることが好ましい。
上記ロイコ色素としては、ロイコ構造を有する色素であれば、特に制限はないが、スピロ構造を有することが好ましく、スピロラクトン環構造を有することがより好ましい。
また、上記ロイコ色素としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素であることが好ましい。
更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、下記式(Le-1)~式(Le-3)のいずれかで表される化合物であることが好ましく、下記式(Le-2)で表される化合物であることがより好ましい。
Moreover, the acid color former is preferably a leuco dye from the viewpoint of color development and visibility of the exposed area.
The leuco dye is not particularly limited as long as it has a leuco structure, but it preferably has a spiro structure, and more preferably has a spirolactone ring structure.
Further, the leuco dye is preferably a leuco dye having a phthalide structure or a fluoran structure from the viewpoint of color development and visibility of the exposed area.
Furthermore, the leuco dye having the phthalide structure or fluoran structure is a compound represented by any one of the following formulas (Le-1) to (Le-3) from the viewpoint of color development and visibility of an exposed area. and more preferably a compound represented by the following formula (Le-2).

式(Le-1)~式(Le-3)中、ERGはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、X~X10はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は一価の有機基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Raは、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。 In formulas (Le-1) to (Le-3), ERG each independently represents an electron-donating group, and X 1 to X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a dialkylanilino group. , X 5 to X 10 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a monovalent organic group, Y 1 and Y 2 each independently represent C or N, and when Y 1 is N, When X 1 does not exist and Y 2 is N, X 4 does not exist, Ra 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, Rb 1 to Rb 4 each independently represents a hydrogen atom , represents an alkyl group or an aryl group.

式(Le-1)~式(Le-3)のERGにおける電子供与性基としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、又は、アルキル基であることが好ましく、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、アリールアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、又は、ジアリールアミノ基であることが更に好ましく、アリールアミノ基、又は、モノアルキルモノアリールアミノ基であることが特に好ましい。
式(Le-1)~式(Le-3)におけるX~Xはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、又は、塩素原子であることが好ましく、水素原子であることがより好ましい。
式(Le-2)又は式(Le-3)におけるX~X10はそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基又はシアノ基であることが好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、又は、アリーロキシ基であることがより好ましく、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、又は、アリール基であることが更に好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
式(Le-1)~式(Le-3)におけるY及びYは、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、少なくとも1方がCであることが好ましく、Y及びYの両方がCであることがより好ましい。
式(Le-3)におけるRaは、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
式(Le-1)におけるRb~Rbはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子又はアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
The electron-donating group in ERG of formulas (Le-1) to (Le-3) includes amino group, alkylamino group, arylamino group and dialkylamino from the viewpoint of color development and visibility of exposed areas. group, monoalkylmonoarylamino group, diarylamino group, alkoxy group, aryloxy group, or alkyl group, amino group, alkylamino group, arylamino group, dialkylamino group, monoalkylmonoarylamino group , a diarylamino group, an alkoxy group, or an aryloxy group, more preferably an arylamino group, a monoalkylmonoarylamino group, or a diarylamino group, an arylamino group, or a monoalkyl A monoarylamino group is particularly preferred.
X 1 to X 4 in formulas (Le-1) to (Le-3) are each independently preferably a hydrogen atom or a chlorine atom from the viewpoint of color development and visibility of exposed areas. , is more preferably a hydrogen atom.
X 5 to X 10 in formula (Le-2) or formula (Le-3) are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an amino group, an alkylamino group, an arylamino group, a dialkylamino group, a monoalkylmonoarylamino group, a diarylamino group, a hydroxy group, an alkoxy group, an aryloxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, an aryloxycarbonyl group, or a cyano group; is preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy group, and more preferably a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, or an aryl group. , is particularly preferably a hydrogen atom.
At least one of Y 1 and Y 2 in formulas (Le-1) to (Le-3) is preferably C from the viewpoint of color development and visibility of the exposed area, and Y 1 and Y 2 are both C more preferably.
Ra 1 in formula (Le-3) is preferably an alkyl group or an alkoxy group, more preferably an alkoxy group, and a methoxy group, from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas. is particularly preferred.
Rb 1 to Rb 4 in formula (Le-1) are each independently preferably a hydrogen atom or an alkyl group, more preferably an alkyl group, from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas. , methyl groups are particularly preferred.

また、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、下記式(Le-4)~式(Le-6)のいずれかで表される化合物であることがより好ましく、下記式(Le-5)で表される化合物であることが更に好ましい。 In addition, the leuco dye having the phthalide structure or the fluoran structure has the following formulas (Le-4) to (Le-4) to ( A compound represented by any one of Le-6) is more preferable, and a compound represented by the following formula (Le-5) is even more preferable.

式(Le-4)~式(Le-6)中、ERGはそれぞれ独立に、電子供与性基を表し、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Raは、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。 In formulas (Le-4) to (Le-6), ERG each independently represents an electron-donating group, and X 1 to X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a dialkylanilino group. , Y 1 and Y 2 each independently represent C or N; when Y 1 is N, X 1 is absent; when Y 2 is N, X 4 is absent; 1 represents a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and Rb 1 to Rb 4 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group.

式(Le-4)~式(Le-6)におけるERG、X~X、Y、Y、Ra、及び、Rb~Rbはそれぞれ、式(Le-1)~式(Le-3)におけるERG、X~X、Y、Y、Ra、及び、Rb~Rbと同義であり、好ましい態様も同様である。 ERG, X 1 to X 4 , Y 1 , Y 2 , Ra 1 , and Rb 1 to Rb 4 in formulas (Le-4) to (Le-6) respectively correspond to formulas (Le-1) to (Le-1) to ( ERG, X 1 to X 4 , Y 1 , Y 2 , Ra 1 and Rb 1 to Rb 4 in Le-3), and preferred embodiments are also the same.

更に、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素は、下記式(Le-7)~式(Le-9)のいずれかで表される化合物であることが更に好ましく、下記式(Le-8)で表される化合物であることが特に好ましい。 Furthermore, the leuco dye having the phthalide structure or the fluoran structure has the following formula (Le-7) to the formula (Le-7) to ( A compound represented by any one of Le-9) is more preferable, and a compound represented by the following formula (Le-8) is particularly preferable.

式(Le-7)~式(Le-9)中、X~Xはそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又はジアルキルアニリノ基を表し、Y及びYはそれぞれ独立に、C又はNを表し、YがNである場合は、Xは存在せず、YがNである場合は、Xは存在せず、Ra~Raはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表し、Rb~Rbはそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Rc及びRcはそれぞれ独立に、アリール基を表す。 In formulas (Le-7) to (Le-9), X 1 to X 4 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or a dialkylanilino group, Y 1 and Y 2 each independently represent C or represents N, when Y 1 is N, X 1 does not exist, when Y 2 is N, X 4 does not exist, and Ra 1 to Ra 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl or an alkoxy group, Rb 1 to Rb 4 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group, and Rc 1 and Rc 2 each independently represent an aryl group.

式(Le-7)~式(Le-9)におけるX~X、Y及びYは、式(Le-1)~式(Le-3)におけるX~X、Y及びYと同義であり、好ましい態様も同様である。
式(Le-7)におけるRa~Raはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、アルキル基又はアルコキシ基であることが好ましく、アルコキシ基であることがより好ましく、メトキシ基であることが特に好ましい。
式(Le-7)~式(Le-9)におけるRb~Rbはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、水素原子、アルキル基、又は、アルキル基若しくはアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、水素原子、又は、アルキル基であることがより好ましく、水素原子、又は、メチル基であることが特に好ましい。
式(Le-8)におけるRc及びRcはそれぞれ独立に、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、フェニル基、又は、アルキルフェニル基であることが好ましく、フェニル基であることがより好ましい。
また、式(Le-8)において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、X~Xが水素原子であり、Y及びYがCであることが好ましい。
更に、式(Le-8)において、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、Rb及びRbがそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、又は、アルキル基若しくはアルコキシ基が置換したアリール基であることが好ましく、水素原子、又は、アルキル基であることがより好ましい。
X 1 to X 4 , Y 1 and Y 2 in formulas (Le-7) to (Le-9) are X 1 to X 4 , Y 1 and Y 1 in formulas (Le-1) to (Le- 3 ) It has the same meaning as Y 2 , and preferred embodiments are also the same.
Ra 1 to Ra 4 in formula (Le-7) are each independently preferably an alkyl group or an alkoxy group, more preferably an alkoxy group, from the viewpoints of color development and visibility of exposed areas. , methoxy groups are particularly preferred.
Rb 1 to Rb 4 in formulas (Le-7) to (Le-9) are each independently a hydrogen atom, an alkyl group, an alkyl group, or an alkoxy group from the viewpoint of color development and visibility of exposed areas. The group is preferably a substituted aryl group, more preferably a hydrogen atom or an alkyl group, particularly preferably a hydrogen atom or a methyl group.
Rc 1 and Rc 2 in formula (Le-8) are each independently preferably a phenyl group or an alkylphenyl group from the viewpoint of color development and visibility of an exposed area, and are preferably a phenyl group. is more preferred.
In formula (Le-8), X 1 to X 4 are preferably hydrogen atoms, and Y 1 and Y 2 are preferably C from the viewpoint of color development and visibility of exposed areas.
Furthermore, in formula (Le-8), from the viewpoint of color development and visibility of exposed areas, each of Rb 1 and Rb 2 is independently substituted with a hydrogen atom, an alkyl group, or an alkyl group or an alkoxy group. An aryl group is preferable, and a hydrogen atom or an alkyl group is more preferable.

式(Le-1)~式(Le-9)におけるアルキル基は、直鎖であっても、分岐を有していても、環構造を有していてもよい。
また、式(Le-1)~式(Le-9)におけるアルキル基の炭素数は、1~20であることが好ましく、1~8であることがより好ましく、1~4であることが更に好ましく、1又は2であることが特に好ましい。
式(Le-1)~式(Le-9)におけるアリール基の炭素数は、6~20であることが好ましく、6~10であることがより好ましく、6~8であることが特に好ましい。
The alkyl groups in formulas (Le-1) to (Le-9) may be linear, branched, or have a cyclic structure.
Further, the number of carbon atoms in the alkyl group in formulas (Le-1) to (Le-9) is preferably 1 to 20, more preferably 1 to 8, and further preferably 1 to 4. 1 or 2 is particularly preferred.
The number of carbon atoms in the aryl group in formulas (Le-1) to (Le-9) is preferably 6-20, more preferably 6-10, and particularly preferably 6-8.

また、式(Le-1)~式(Le-9)における一価の有機基、アルキル基、アリール基、ジアルキルアニリノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基等の各基は、置換基を有していてもよい。置換基としては、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ジアルキルアミノ基、モノアルキルモノアリールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、シアノ基等が挙げられる。また、これら置換基は、更にこれら置換基により置換されていてもよい。 Further, each group such as a monovalent organic group, an alkyl group, an aryl group, a dialkylanilino group, an alkylamino group, and an alkoxy group in formulas (Le-1) to (Le-9) has a substituent. may be Examples of substituents include alkyl groups, aryl groups, halogen atoms, amino groups, alkylamino groups, arylamino groups, dialkylamino groups, monoalkylmonoarylamino groups, diarylamino groups, hydroxy groups, alkoxy groups, aryloxy groups, and acyl groups. groups, alkoxycarbonyl groups, aryloxycarbonyl groups, cyano groups, and the like. Moreover, these substituents may be further substituted by these substituents.

好適に用いられる上記フタリド構造又はフルオラン構造を有するロイコ色素としては、以下の化合物が挙げられる。 As the leuco dye having a phthalide structure or a fluoran structure, which is preferably used, the following compounds can be mentioned.

酸発色剤としては上市されている製品を使用することも可能であり、ETAC、RED500、RED520、CVL、S-205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H-7001、GREEN300、NIRBLACK78、BLUE220、H-3035、BLUE203、ATP、H-1046、H-2114(以上、福井山田化学工業(株)製)、ORANGE-DCF、Vermilion-DCF、PINK-DCF、RED-DCF、BLMB、CVL、GREEN-DCF、TH-107(以上、保土ヶ谷化学(株)製)、ODB、ODB-2、ODB-4、ODB-250、ODB-BlackXV、Blue-63、Blue-502、GN-169、GN-2、Green-118、Red-40、Red-8(以上、山本化成(株)製)、クリスタルバイオレットラクトン(東京化成工業(株)製)等が挙げられる。これらの市販品の中でも、ETAC、S-205、BLACK305、BLACK400、BLACK100、BLACK500、H-7001、GREEN300、NIRBLACK78、H-3035、ATP、H-1046、H-2114、GREEN-DCF、Blue-63、GN-169、クリスタルバイオレットラクトンが、形成される膜の可視光吸収率が良好のため好ましい。 It is also possible to use commercially available products as acid color formers, such as ETAC, RED500, RED520, CVL, S-205, BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, BLUE220, H -3035, BLUE203, ATP, H-1046, H-2114 (manufactured by Fukui Yamada Chemical Industry Co., Ltd.), ORANGE-DCF, Vermilion-DCF, PINK-DCF, RED-DCF, BLMB, CVL, GREEN-DCF , TH-107 (manufactured by Hodogaya Chemical Co., Ltd.), ODB, ODB-2, ODB-4, ODB-250, ODB-BlackXV, Blue-63, Blue-502, GN-169, GN-2, Green -118, Red-40, Red-8 (manufactured by Yamamoto Kasei Co., Ltd.), and Crystal Violet Lactone (manufactured by Tokyo Chemical Industry Co., Ltd.). Among these commercial products, ETAC, S-205, BLACK305, BLACK400, BLACK100, BLACK500, H-7001, GREEN300, NIRBLACK78, H-3035, ATP, H-1046, H-2114, GREEN-DCF, Blue-63 , GN-169, and crystal violet lactone are preferred because the films formed have good visible light absorption.

好適に用いられるロイコ色素としては、発色性、及び、露光部の視認性の観点から、以下の化合物が挙げられる。 Preferred leuco dyes include the following compounds from the viewpoint of color development and visibility of exposed areas.

これらの発色剤は、1種単独で用いてもよいし、2種類以上の成分を組み合わせて使用することもできる。
発色剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.5質量%~10質量%であることが好ましく、1質量%~5質量%であることがより好ましい。
These color formers may be used singly or in combination of two or more.
The content of the coloring agent is preferably 0.5% by mass to 10% by mass, more preferably 1% by mass to 5% by mass, relative to the total mass of the image recording layer.

[連鎖移動剤]
本開示において用いられる画像記録層は、連鎖移動剤を含有してもよい。連鎖移動剤は、平版印刷版における耐刷性の向上に寄与する。
連鎖移動剤としては、チオール化合物が好ましく、沸点(揮発し難さ)の観点で炭素数7以上のチオールがより好ましく、芳香環上にメルカプト基を有する化合物(芳香族チオール化合物)が更に好ましい。上記チオール化合物は単官能チオール化合物であることが好ましい。
[Chain transfer agent]
The image-recording layer used in the present disclosure may contain a chain transfer agent. A chain transfer agent contributes to improving the printing durability of a lithographic printing plate.
As the chain transfer agent, a thiol compound is preferable, a thiol having 7 or more carbon atoms is more preferable from the viewpoint of boiling point (hardness to volatilize), and a compound having a mercapto group on an aromatic ring (aromatic thiol compound) is more preferable. The thiol compound is preferably a monofunctional thiol compound.

連鎖移動剤として具体的には、下記の化合物が挙げられる。 Specific examples of chain transfer agents include the following compounds.

連鎖移動剤は、1種のみを添加しても、2種以上を併用してもよい。
連鎖移動剤の含有量は、画像記録層の全質量に対し、0.01質量%~50質量%が好ましく、0.05質量%~40質量%がより好ましく、0.1質量%~30質量%が更に好ましい。
Chain transfer agents may be added alone or in combination of two or more.
The content of the chain transfer agent is preferably 0.01% by mass to 50% by mass, more preferably 0.05% by mass to 40% by mass, and 0.1% by mass to 30% by mass, relative to the total mass of the image recording layer. % is more preferred.

[低分子親水性化合物]
画像記録層は、耐刷性の低下を抑制させつつ現像性を向上させるために、低分子親水性化合物を含有してもよい。低分子親水性化合物は、分子量1,000未満の化合物が好ましく、分子量800未満の化合物がより好ましく、分子量500未満の化合物が更に好ましい。
低分子親水性化合物としては、例えば、水溶性有機化合物としては、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等のグリコール類及びそのエーテル又はエステル誘導体類、グリセリン、ペンタエリスリトール、トリス(2-ヒドロキシエチル)イソシアヌレート等のポリオール類、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン等の有機アミン類及びその塩、アルキルスルホン酸、トルエンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸等の有機スルホン酸類及びその塩、アルキルスルファミン酸等の有機スルファミン酸類及びその塩、アルキル硫酸、アルキルエーテル硫酸等の有機硫酸類及びその塩、フェニルホスホン酸等の有機ホスホン酸類及びその塩、酒石酸、シュウ酸、クエン酸、リンゴ酸、乳酸、グルコン酸、アミノ酸類等の有機カルボン酸類及びその塩、ベタイン類等が挙げられる。
[Low molecular weight hydrophilic compound]
The image-recording layer may contain a low-molecular-weight hydrophilic compound in order to improve developability while suppressing deterioration in printing durability. The low-molecular-weight hydrophilic compound is preferably a compound with a molecular weight of less than 1,000, more preferably a compound with a molecular weight of less than 800, and even more preferably a compound with a molecular weight of less than 500.
Low-molecular-weight hydrophilic compounds include, for example, water-soluble organic compounds such as glycols such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, propylene glycol, dipropylene glycol and tripropylene glycol, and ether or ester derivatives thereof, glycerin, Polyols such as pentaerythritol and tris(2-hydroxyethyl)isocyanurate, organic amines such as triethanolamine, diethanolamine and monoethanolamine and salts thereof, organic sulfones such as alkylsulfonic acid, toluenesulfonic acid and benzenesulfonic acid Acids and salts thereof, organic sulfamic acids such as alkylsulfamic acid and salts thereof, organic sulfuric acids such as alkyl sulfuric acid and alkyl ether sulfuric acid and salts thereof, organic phosphonic acids such as phenylphosphonic acid and salts thereof, tartaric acid, oxalic acid, citric acid Acids, malic acid, lactic acid, gluconic acid, organic carboxylic acids such as amino acids and salts thereof, and betaines.

低分子親水性化合物としては、ポリオール類、有機硫酸塩類、有機スルホン酸塩類及びベタイン類よりなる群から選ばれる少なくとも1つを含有させることが好ましい。 At least one selected from the group consisting of polyols, organic sulfates, organic sulfonates and betaines is preferably contained as the low-molecular-weight hydrophilic compound.

有機スルホン酸塩類の具体例としては、n-ブチルスルホン酸ナトリウム、n-ヘキシルスルホン酸ナトリウム、2-エチルヘキシルスルホン酸ナトリウム、シクロヘキシルスルホン酸ナトリウム、n-オクチルスルホン酸ナトリウムなどのアルキルスルホン酸塩;5,8,11-トリオキサペンタデカン-1-スルホン酸ナトリウム、5,8,11-トリオキサヘプタデカン-1-スルホン酸ナトリウム、13-エチル-5,8,11-トリオキサヘプタデカン-1-スルホン酸ナトリウム、5,8,11,14-テトラオキサテトラコサン-1-スルホン酸ナトリウムなどのエチレンオキシド鎖を含むアルキルスルホン酸塩;ベンゼンスルホン酸ナトリウム、p-トルエンスルホン酸ナトリウム、p-ヒドロキシベンゼンスルホン酸ナトリウム、p-スチレンスルホン酸ナトリウム、イソフタル酸ジメチル-5-スルホン酸ナトリウム、1-ナフチルスルホン酸ナトリウム、4-ヒドロキシナフチルスルホン酸ナトリウム、1,5-ナフタレンジスルホン酸ジナトリウム、1,3,6-ナフタレントリスルホン酸トリナトリウムなどのアリールスルホン酸塩、特開2007-276454号公報の段落0026~0031及び特開2009-154525号公報の段落0020~0047に記載の化合物等が挙げられる。塩は、カリウム塩、リチウム塩でもよい。 Specific examples of organic sulfonates include alkylsulfonates such as sodium n-butylsulfonate, sodium n-hexylsulfonate, sodium 2-ethylhexylsulfonate, sodium cyclohexylsulfonate and sodium n-octylsulfonate; , Sodium 8,11-trioxapentadecane-1-sulfonate, Sodium 5,8,11-trioxaheptadecane-1-sulfonate, 13-ethyl-5,8,11-trioxaheptadecane-1-sulfone Alkyl sulfonates containing ethylene oxide chains such as sodium acid, sodium 5,8,11,14-tetraoxatetracosane-1-sulfonate; sodium benzenesulfonate, sodium p-toluenesulfonate, p-hydroxybenzenesulfonic acid sodium, sodium p-styrenesulfonate, dimethyl isophthalate-5-sodium sulfonate, sodium 1-naphthylsulfonate, sodium 4-hydroxynaphthylsulfonate, disodium 1,5-naphthalenedisulfonate, 1,3,6- Examples thereof include arylsulfonates such as trisodium naphthalenetrisulfonate, and compounds described in paragraphs 0026 to 0031 of JP-A-2007-276454 and paragraphs 0020-0047 of JP-A-2009-154525. The salt may be potassium salt, lithium salt.

有機硫酸塩類としては、ポリエチレンオキシドのアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール又は複素環モノエーテルの硫酸塩が挙げられる。エチレンオキシド単位の数は1~4が好ましく、塩はナトリウム塩、カリウム塩又はリチウム塩が好ましい。具体例としては、特開2007-276454号公報の段落0034~0038に記載の化合物が挙げられる。 Organic sulfates include sulfates of alkyl, alkenyl, alkynyl, aryl or heterocyclic monoethers of polyethylene oxide. The number of ethylene oxide units is preferably 1-4, and the salt is preferably sodium salt, potassium salt or lithium salt. Specific examples include compounds described in paragraphs 0034 to 0038 of JP-A-2007-276454.

ベタイン類としては、窒素原子への炭化水素置換基の炭素数が1~5である化合物が好ましく、具体例としては、トリメチルアンモニウムアセタート、ジメチルプロピルアンモニウムアセタート、3-ヒドロキシ-4-トリメチルアンモニオブチラート、4-(1-ピリジニオ)ブチラート、1-ヒドロキシエチル-1-イミダゾリオアセタート、トリメチルアンモニウムメタンスルホナート、ジメチルプロピルアンモニウムメタンスルホナート、3-トリメチルアンモニオ-1-プロパンスルホナート、3-(1-ピリジニオ)-1-プロパンスルホナート等が挙げられる。 Preferred betaines are compounds in which the hydrocarbon substituent on the nitrogen atom has 1 to 5 carbon atoms. Specific examples include trimethylammonium acetate, dimethylpropylammonium acetate, 3-hydroxy-4-trimethylammonium Obtylate, 4-(1-pyridinio)butyrate, 1-hydroxyethyl-1-imidazolioacetate, trimethylammonium methanesulfonate, dimethylpropylammonium methanesulfonate, 3-trimethylammonio-1-propanesulfonate, 3 -(1-pyridinio)-1-propanesulfonate and the like.

低分子親水性化合物は疎水性部分の構造が小さくて界面活性作用がほとんどないため、湿し水が画像記録層露光部(画像部)へ浸透して画像部の疎水性や皮膜強度を低下させることがなく、画像記録層のインキ受容性や耐刷性を良好に維持することができる。 Since the hydrophobic portion of the low-molecular-weight hydrophilic compound has a small structure and little surface activity, dampening water permeates into the exposed portion (image portion) of the image recording layer, reducing the hydrophobicity and film strength of the image portion. The ink receptivity and printing durability of the image recording layer can be maintained satisfactorily.

低分子親水性化合物の含有量は、画像記録層の全質量に対して、0.5質量%~20質量%が好ましく、1質量%~15質量%がより好ましく、2質量%~10質量%が更に好ましい。この範囲で良好な現像性と耐刷性が得られる。
低分子親水性化合物は、1種単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
The content of the low-molecular-weight hydrophilic compound is preferably 0.5% to 20% by mass, more preferably 1% to 15% by mass, and 2% to 10% by mass, relative to the total mass of the image-recording layer. is more preferred. Within this range, good developability and printing durability can be obtained.
The low-molecular-weight hydrophilic compounds may be used singly or in combination of two or more.

[感脂化剤]
画像記録層は、着肉性を向上させるために、ホスホニウム化合物、含窒素低分子化合物、アンモニウム基含有ポリマー等の感脂化剤を含有してもよい。特に、保護層に無機層状化合物を含有させる場合、これらの化合物は、無機層状化合物の表面被覆剤として機能し、無機層状化合物による印刷途中の着肉性低下を抑制することができる。
感脂化剤としては、ホスホニウム化合物と、含窒素低分子化合物と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することが好ましく、ホスホニウム化合物と、第四級アンモニウム塩類と、アンモニウム基含有ポリマーとを併用することがより好ましい。
[Oleosensitizer]
The image-recording layer may contain an oil-sensitizing agent such as a phosphonium compound, a nitrogen-containing low-molecular-weight compound, an ammonium group-containing polymer, etc., in order to improve ink receptivity. In particular, when the inorganic layered compound is contained in the protective layer, these compounds function as a surface coating agent for the inorganic layered compound, and can suppress the deterioration of the ink receptivity during printing due to the inorganic layered compound.
As the oil-sensitizing agent, it is preferable to use a phosphonium compound, a nitrogen-containing low-molecular-weight compound, and an ammonium group-containing polymer in combination. is more preferred.

ホスホニウム化合物としては、特開2006-297907号公報及び特開2007-50660号公報に記載のホスホニウム化合物が挙げられる。具体例としては、テトラブチルホスホニウムヨージド、ブチルトリフェニルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、1,4-ビス(トリフェニルホスホニオ)ブタン=ジ(ヘキサフルオロホスファート)、1,7-ビス(トリフェニルホスホニオ)ヘプタン=スルファート、1,9-ビス(トリフェニルホスホニオ)ノナン=ナフタレン-2,7-ジスルホナート等が挙げられる。 Phosphonium compounds include phosphonium compounds described in JP-A-2006-297907 and JP-A-2007-50660. Specific examples include tetrabutylphosphonium iodide, butyltriphenylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, 1,4-bis(triphenylphosphonio)butane=di(hexafluorophosphate), 1,7-bis(tri phenylphosphonio)heptane=sulfate, 1,9-bis(triphenylphosphonio)nonane=naphthalene-2,7-disulfonate and the like.

含窒素低分子化合物としては、アミン塩類、第四級アンモニウム塩類が挙げられる。また、イミダゾリニウム塩類、ベンゾイミダゾリニウム塩類、ピリジニウム塩類、キノリニウム塩類も挙げられる。中でも、第四級アンモニウム塩類及びピリジニウム塩類が好ましい。具体例としては、テトラメチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、テトラブチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ドデシルトリメチルアンモニウム=p-トルエンスルホナート、ベンジルトリエチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルオクチルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、ベンジルジメチルドデシルアンモニウム=ヘキサフルオロホスファート、特開2008-284858号公報の段落0021~0037、特開2009-90645号公報の段落0030~0057に記載の化合物等が挙げられる。 Nitrogen-containing low-molecular-weight compounds include amine salts and quaternary ammonium salts. Also included are imidazolinium salts, benzimidazolinium salts, pyridinium salts, and quinolinium salts. Among them, quaternary ammonium salts and pyridinium salts are preferred. Specific examples include tetramethylammonium hexafluorophosphate, tetrabutylammonium hexafluorophosphate, dodecyltrimethylammonium p-toluenesulfonate, benzyltriethylammonium hexafluorophosphate, benzyldimethyloctylammonium hexafluorophosphate. Phate, benzyldimethyldodecyl ammonium hexafluorophosphate, and compounds described in paragraphs 0021 to 0037 of JP-A-2008-284858 and paragraphs 0030-0057 of JP-A-2009-90645.

アンモニウム基含有ポリマーとしては、その構造中にアンモニウム基を有すればよく、側鎖にアンモニウム基を有する(メタ)アクリレートを共重合成分として5モル%~80モル%含有するポリマーが好ましい。具体例としては、特開2009-208458号公報の段落0089~0105に記載のポリマーが挙げられる。 The ammonium group-containing polymer may have an ammonium group in its structure, and is preferably a polymer containing 5 mol % to 80 mol % of a (meth)acrylate having an ammonium group in its side chain as a copolymerization component. Specific examples include polymers described in paragraphs 0089 to 0105 of JP-A-2009-208458.

アンモニウム塩含有ポリマーは、特開2009-208458号公報に記載の測定方法に従って求められる還元比粘度(単位:ml/g)の値が、5~120の範囲のものが好ましく、10~110の範囲のものがより好ましく、15~100の範囲のものが特に好ましい。上記還元比粘度を重量平均分子量(Mw)に換算した場合、10,000~150,0000が好ましく、17,000~140,000がより好ましく、20,000~130,000が特に好ましい。 The ammonium salt-containing polymer preferably has a reduced specific viscosity (unit: ml/g) value in the range of 5 to 120, more preferably in the range of 10 to 110. is more preferred, and those in the range of 15 to 100 are particularly preferred. When the reduced specific viscosity is converted to a weight average molecular weight (Mw), it is preferably 10,000 to 150,0000, more preferably 17,000 to 140,000, and particularly preferably 20,000 to 130,000.

以下に、アンモニウム基含有ポリマーの具体例を示す。
(1)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p-トルエンスルホナート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比10/90、Mw4.5万)
(2)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.0万)
(3)2-(エチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=p-トルエンスルホナート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比30/70、Mw4.5万)
(4)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/2-エチルヘキシルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.0万)
(5)2-(トリメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=メチルスルファート/ヘキシルメタクリレート共重合体(モル比40/60、Mw7.0万)
(6)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比25/75、Mw6.5万)
(7)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルアクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw6.5万)
(8)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=13-エチル-5,8,11-トリオキサ-1-ヘプタデカンスルホナート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート共重合体(モル比20/80、Mw7.5万)
(9)2-(ブチルジメチルアンモニオ)エチルメタクリレート=ヘキサフルオロホスファート/3,6-ジオキサヘプチルメタクリレート/2-ヒドロキシ-3-メタクリロイルオキシプロピルメタクリレート共重合体(モル比15/80/5、Mw6.5万)
Specific examples of the ammonium group-containing polymer are shown below.
(1) 2-(trimethylammonio)ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate/3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 10/90, Mw 45,000)
(2) 2-(trimethylammonio)ethyl methacrylate = hexafluorophosphate/3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80, Mw 60,000)
(3) 2-(ethyldimethylammonio)ethyl methacrylate = p-toluenesulfonate/hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 30/70, Mw 45,000)
(4) 2-(trimethylammonio)ethyl methacrylate = hexafluorophosphate/2-ethylhexyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80, Mw 60,000)
(5) 2-(trimethylammonio)ethyl methacrylate = methyl sulfate/hexyl methacrylate copolymer (molar ratio 40/60, Mw 70,000)
(6) 2-(Butyldimethylammonio)ethyl methacrylate = hexafluorophosphate/3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 25/75, Mw 65,000)
(7) 2-(Butyldimethylammonio)ethyl acrylate = hexafluorophosphate/3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80, Mw 65,000)
(8) 2-(Butyldimethylammonio)ethyl methacrylate = 13-ethyl-5,8,11-trioxa-1-heptadecanesulfonate/3,6-dioxaheptyl methacrylate copolymer (molar ratio 20/80 , Mw 75,000)
(9) 2-(Butyldimethylammonio)ethyl methacrylate = hexafluorophosphate/3,6-dioxaheptyl methacrylate/2-hydroxy-3-methacryloyloxypropyl methacrylate copolymer (molar ratio 15/80/5, Mw 65,000)

感脂化剤の含有量は、画像記録層の全質量に対して、0.01質量%~30.0質量%が好ましく、0.1質量%~15.0質量%がより好ましく、1質量%~10質量%が更に好ましい。 The content of the oil sensitizing agent is preferably 0.01% by mass to 30.0% by mass, more preferably 0.1% by mass to 15.0% by mass, and 1% by mass with respect to the total mass of the image recording layer. % to 10% by mass is more preferred.

[その他の添加剤]
画像記録層には、その他の成分として、界面活性剤、高級脂肪酸誘導体、可塑剤、無機層状化合物等を含有することができる。具体的には、特開2008-284817号公報の段落0114~0159の記載を参照することができる。
なお、本開示における画像記録層には、上記効果を損なわない範囲において、重合禁止剤を用いてもよい。
[Other additives]
The image-recording layer may contain surfactants, higher fatty acid derivatives, plasticizers, inorganic stratiform compounds, and the like as other components. Specifically, the description in paragraphs 0114 to 0159 of JP-A-2008-284817 can be referred to.
A polymerization inhibitor may be used in the image recording layer of the present disclosure as long as the above effects are not impaired.

〔画像記録層の形成〕
本開示に係る平版印刷版原版における画像記録層は、例えば、特開2008-195018号公報の段落0142~0143に記載のように、必要な上記各成分を公知の溶剤に分散又は溶解して塗布液を調製し、塗布液を支持体上にバーコーター塗布など公知の方法で塗布し、乾燥することにより形成することができる。
溶剤としては、公知の溶剤を用いることができる。具体的には、例えば、水、アセトン、メチルエチルケトン(2-ブタノン)、シクロヘキサン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロフラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメーチルエーテルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、1-メトキシ-2-プロパノール、3-メトキシ-1-プロパノール、メトキシメトキシエタノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、3-メトキシプロピルアセテート、N,N-ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、γ-ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチル等が挙げられる。溶剤は、1種単独で使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。塗布液中の固形分濃度は1~50質量%程度であることが好ましい。
塗布、乾燥後における画像記録層の塗布量(固形分)は、用途によって異なるが、良好な感度と画像記録層の良好な皮膜特性を得る観点から、0.3g/m~3.0g/mが好ましい。
[Formation of image recording layer]
The image recording layer in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure, for example, as described in paragraphs 0142 to 0143 of JP-A-2008-195018, the necessary components are dispersed or dissolved in a known solvent and coated. It can be formed by preparing a liquid, coating the coating liquid on the support by a known method such as bar coating, and drying.
A known solvent can be used as the solvent. Specifically, for example, water, acetone, methyl ethyl ketone (2-butanone), cyclohexane, ethyl acetate, ethylene dichloride, tetrahydrofuran, toluene, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, Propylene glycol monoethyl ether, acetylacetone, cyclohexanone, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol ethyl ether acetate, ethylene glycol monoisopropyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, 1-methoxy-2-propanol, 3- Methoxy-1-propanol, methoxymethoxyethanol, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, 3-methoxypropyl acetate, N,N-dimethyl formamide, dimethylsulfoxide, γ-butyrolactone, methyl lactate, ethyl lactate and the like. A solvent may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together. The solid content concentration in the coating liquid is preferably about 1 to 50% by mass.
The coating amount (solid content) of the image recording layer after coating and drying varies depending on the application, but from the viewpoint of obtaining good sensitivity and good film properties of the image recording layer, it is 0.3 g/m 2 to 3.0 g/m 2 . m2 is preferred.

<支持体>
本開示に係る平版印刷版原版は、支持体を有する。
支持体としては、公知の平版印刷版原版用支持体から適宜選択して用いることができる。
支持体としては、親水性表面を有する支持体(以下、「親水性支持体」ともいう)が好ましい。
本開示に係る平版印刷版原版における支持体は、支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角が、傷汚れ抑制性の観点から、110°以下であることが好ましく、90°以下であることがより好ましく、80°以下であることが更に好ましく、50°以下であることがより更に好ましく、30°以下であることが特に好ましく、20°以下であることがより特に好ましく、10以下であることが最も好ましい。
<Support>
A lithographic printing plate precursor according to the present disclosure has a support.
The support can be appropriately selected from known lithographic printing plate precursor supports and used.
As the support, a support having a hydrophilic surface (hereinafter also referred to as "hydrophilic support") is preferable.
The support in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has a contact angle with water of 110° or less by the water droplet method on the surface of the support on the image-recording layer side, from the viewpoint of suppressing damage and staining. , more preferably 90° or less, more preferably 80° or less, even more preferably 50° or less, particularly preferably 30° or less, more preferably 20° or less. It is particularly preferred, and 10 or less is most preferred.

本開示において、支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角は、以下の方法により測定するものとする。
平版印刷版原版を、画像記録層を除去可能な溶媒(例えば、画像記録層用塗布液で用いた溶媒)に浸漬させ、スポンジ及びコットンの少なくとも一方で画像記録層を掻き取り、画像記録層を溶媒中に溶解させることでアルミニウム支持体の表面を露出させる。
露出させたアルミニウム支持体の画像記録層側の表面における水との接触角は、測定装置として全自動接触角計(例えば、協和界面化学(株)製DM-501)によって、25℃における表面上の水滴の接触角(0.2秒後)として測定される。
In the present disclosure, the contact angle with water on the surface of the support on the image recording layer side by the water drop method in air is measured by the following method.
The lithographic printing plate precursor is immersed in a solvent capable of removing the image-recording layer (for example, the solvent used in the coating solution for the image-recording layer), and the image-recording layer is scraped off with at least a sponge or cotton to remove the image-recording layer. Dissolving in a solvent exposes the surface of the aluminum support.
The contact angle with water on the exposed surface of the image recording layer of the aluminum support was measured at 25° C. using a fully automatic contact angle meter (eg, DM-501 manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.). is measured as the contact angle of a water drop (after 0.2 seconds).

本開示における支持体としては、公知の方法で粗面化処理され、陽極酸化処理されたアルミニウム板が好ましい。即ち、本開示における支持体は、アルミニウム板とアルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化被膜とを有することが好ましい。 As the support in the present disclosure, an aluminum plate roughened by a known method and anodized is preferred. That is, the support in the present disclosure preferably has an aluminum plate and an aluminum anodized coating disposed on the aluminum plate.

本開示において用いられる支持体の好ましい態様の一例(「支持体(1)」ともいう)を以下に示す。
即ち、支持体(1)は、アルミニウム板と、上記アルミニウム板上に配置されたアルミニウムの陽極酸化皮膜とを有し、上記陽極酸化皮膜が、上記アルミニウム板よりも上記画像記録層側に位置し、上記陽極酸化皮膜が、上記画像記録層側の表面から深さ方向にのびるマイクロポアを有し、上記マイクロポアの上記陽極酸化皮膜表面における平均径が10nmを超え100nm以下であり、上記陽極酸化皮膜の上記画像記録層側の表面のL表色系における明度Lの値が、70~100である。
An example of a preferred embodiment of the support used in the present disclosure (also referred to as "support (1)") is shown below.
That is, the support (1) has an aluminum plate and an aluminum anodized film disposed on the aluminum plate, and the anodized film is positioned closer to the image recording layer than the aluminum plate. The anodized film has micropores extending in the depth direction from the surface on the image recording layer side, and the average diameter of the micropores on the surface of the anodized film is more than 10 nm and 100 nm or less, and the anodized film The value of lightness L * in the L * a * b * color system of the surface of the film on the image recording layer side is 70-100.

図1は、アルミニウム支持体12aの一実施形態の模式的断面図である。
アルミニウム支持体12aは、アルミニウム板18とアルミニウムの陽極酸化皮膜20a(以後、単に「陽極酸化皮膜20a」とも称する)とをこの順で積層した積層構造を有する。なお、アルミニウム支持体12a中の陽極酸化皮膜20aが、アルミニウム板18よりも画像記録層側に位置する。つまり、本開示に係る平版印刷版原版は、アルミニウム板上に、陽極酸化皮膜、画像記録層、及び水溶性樹脂層をこの順で少なくとも有することが好ましい。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of one embodiment of an aluminum support 12a.
The aluminum support 12a has a laminated structure in which an aluminum plate 18 and an aluminum anodized film 20a (hereinafter also simply referred to as "anodized film 20a") are laminated in this order. The anodized film 20a in the aluminum support 12a is located closer to the image recording layer than the aluminum plate 18 is. That is, the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has at least an anodized film, an image recording layer, and a water-soluble resin layer in this order on an aluminum plate.

-陽極酸化皮膜-
以下、陽極酸化被膜20aの好ましい態様について説明する。
陽極酸化皮膜20aは、陽極酸化処理によってアルミニウム板18の表面に作製される皮膜であって、この皮膜は、皮膜表面に略垂直であり、かつ、個々が均一に分布した極微細なマイクロポア22aを有する。マイクロポア22aは、画像記録層側の陽極酸化皮膜20a表面(アルミニウム板18側とは反対側の陽極酸化皮膜20a表面)から厚み方向(アルミニウム板18側)に沿ってのびる。
-Anodized film-
Preferred aspects of the anodized film 20a are described below.
The anodized film 20a is a film formed on the surface of the aluminum plate 18 by anodizing treatment, and this film is substantially perpendicular to the film surface and has extremely fine micropores 22a that are uniformly distributed. have The micropores 22a extend along the thickness direction (aluminum plate 18 side) from the surface of the anodized film 20a on the image recording layer side (the surface of the anodized film 20a opposite to the aluminum plate 18 side).

陽極酸化皮膜20a中のマイクロポア22aの陽極酸化皮膜表面における平均径(平均開口径)は、10nm超え100nm以下であることが好ましい。中でも、耐刷性、耐汚れ性、及び画像視認性のバランスの点から、15nm~60nmがより好ましく、20nm~50nmが更に好ましく、25nm~40nmが特に好ましい。ポア内部の径は、表層よりも広がっても狭まってもよい。
平均径が10nmを超えれば、耐刷性及び画像視認性が更に優れる。また、平均径が100nm以下であれば場合、耐刷性が更に優れる。
マイクロポア22aの平均径は、陽極酸化皮膜20a表面を倍率15万倍の電界放出型走査電子顕微鏡(FE-SEM)でN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400nm×600nmの範囲に存在するマイクロポアの径(直径)を50箇所測定し、算術平均値として算出される。
なお、マイクロポア22aの形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
The average diameter (average opening diameter) of the micropores 22a in the anodized film 20a on the surface of the anodized film is preferably more than 10 nm and not more than 100 nm. Among them, from the viewpoint of the balance between printing durability, stain resistance, and image visibility, 15 nm to 60 nm is more preferable, 20 nm to 50 nm is still more preferable, and 25 nm to 40 nm is particularly preferable. The diameter inside the pore may be wider or narrower than the surface layer.
When the average diameter exceeds 10 nm, printing durability and image visibility are further improved. Moreover, when the average diameter is 100 nm or less, the printing durability is further improved.
The average diameter of the micropores 22a was 400 nm×600 nm in the four images obtained by observing N=4 sheets of the surface of the anodized film 20a with a field emission scanning electron microscope (FE-SEM) at a magnification of 150,000 times. The diameter (diameter) of micropores present in the range of is measured at 50 points and calculated as an arithmetic mean value.
If the shape of the micropores 22a is not circular, the circle equivalent diameter is used. The "equivalent circle diameter" is the diameter of a circle when the shape of the opening is assumed to be a circle having the same projected area as the projected area of the opening.

マイクロポア22aの深さは特に制限されないが、10nm~3,000nmが好ましく、50nm~2,000nmがより好ましく、300nm~1,600nmが更に好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜20aの断面の写真(15万倍)をとり、25個以上のマイクロポア22aの深さを測定し、平均した値である。
The depth of the micropores 22a is not particularly limited, but is preferably 10 nm to 3,000 nm, more preferably 50 nm to 2,000 nm, even more preferably 300 nm to 1,600 nm.
The above depth is a value obtained by taking a photograph of the cross section of the anodized film 20a (magnification of 150,000), measuring the depths of 25 or more micropores 22a, and averaging them.

マイクロポア22aの形状は特に制限されず、図1では、略直管状(略円柱状)であるが、深さ方向(厚み方向)に向かって径が小さくなる円錐状であってもよい。また、マイクロポア22aの底部の形状は特に制限されず、曲面状(凸状)であっても、平面状であってもよい。 The shape of the micropores 22a is not particularly limited, and in FIG. 1, it is substantially straight tubular (substantially cylindrical), but it may be conical in which the diameter decreases in the depth direction (thickness direction). The shape of the bottom of the micropore 22a is not particularly limited, and may be curved (convex) or flat.

アルミニウム支持体12aの画像記録層側の表面(陽極酸化皮膜20aの画像記録層側の表面)のL表色系における明度Lの値は、70~100であることが好ましい。中でも、耐刷性及び画像視認性のバランスがより優れる点で、75~100が好ましく、75~90がより好ましい。
上記明度Lの測定は、エックスライト(株)製、色彩色差計Spectro Eyeを用いて測定する。
The value of lightness L * in the L * a * b * color system of the surface of the aluminum support 12a on the image recording layer side (the surface of the anodized film 20a on the image recording layer side) is preferably 70 to 100. . Among them, 75 to 100 is preferable, and 75 to 90 is more preferable, in terms of better balance between printing durability and image visibility.
The lightness L * is measured using a color difference meter, Spectro Eye, manufactured by X-Rite Co., Ltd.

支持体(1)において、上記マイクロポアが、上記陽極酸化皮膜表面から深さ10nm~1,000nmの位置までのびる大径孔部と、上記大径孔部の底部と連通し、連通位置から深さ20nm~2,000nmの位置までのびる小径孔部とから構成され、上記大径孔部の上記陽極酸化皮膜表面における平均径が15nm~150nmであり、上記小径孔部の上記連通位置における平均径が13nm以下である態様(「支持体(2)」ともいう)も好ましく挙げられる。
図2は、アルミニウム支持体12aの、図1に示したものとは別の一実施形態の模式的断面図である。
図2において、アルミニウム支持体12bは、アルミニウム板18と、大径孔部24と小径孔部26とから構成されるマイクロポア22bを有する陽極酸化皮膜20bとを含む。
陽極酸化皮膜20b中のマイクロポア22bは、陽極酸化皮膜表面から深さ10nm~1000nm(深さD:図2参照)の位置までのびる大径孔部24と、大径孔部24の底部と連通し、連通位置から更に深さ20nm~2,000nmの位置までのびる小径孔部26とから構成される。
以下に、大径孔部24と小径孔部26について詳述する。
In the support (1), the micropores communicate with the large-diameter portion extending from the surface of the anodized film to a depth of 10 nm to 1,000 nm and the bottom portion of the large-diameter portion. and a small-diameter pore extending to a position of 20 nm to 2,000 nm, the average diameter of the large-diameter pore on the surface of the anodized film being 15 nm to 150 nm, and the average diameter of the small-diameter pore at the communicating position. is 13 nm or less (also referred to as "support (2)").
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of an alternative embodiment of the aluminum support 12a to that shown in FIG.
In FIG. 2, the aluminum support 12b includes an aluminum plate 18 and an anodized film 20b having micropores 22b composed of large-diameter pore portions 24 and small-diameter pore portions .
The micropores 22b in the anodized film 20b communicate with the large-diameter hole portion 24 extending from the surface of the anodized film to a depth of 10 nm to 1000 nm (depth D: see FIG. 2) and the bottom portion of the large-diameter hole portion 24. and a small-diameter hole 26 extending from the communication position to a depth of 20 nm to 2,000 nm.
The large-diameter hole portion 24 and the small-diameter hole portion 26 will be described in detail below.

大径孔部24の陽極酸化皮膜20b表面における平均径は、上述した陽極酸化皮膜20a中のマイクロポア22aの陽極酸化皮膜表面における平均径と同じで、10nm超100nm以下であり、好適範囲も同じである。
大径孔部24の陽極酸化皮膜20b表面における平均径の測定方法は、陽極酸化皮膜20a中のマイクロポア22aの陽極酸化皮膜表面における平均径の測定方法と同じである。
The average diameter of the large-diameter hole portion 24 on the surface of the anodized film 20b is the same as the average diameter of the micropores 22a in the anodized film 20a on the surface of the anodized film 20a described above, and is more than 10 nm and not more than 100 nm, and the preferred range is also the same. is.
The method for measuring the average diameter on the surface of the anodized film 20b of the large-diameter hole portion 24 is the same as the method for measuring the average diameter on the surface of the anodized film of the micropores 22a in the anodized film 20a.

大径孔部24の底部は、陽極酸化皮膜表面から深さ10nm~1,000nm(以後、深さDとも称する)に位置する。つまり、大径孔部24は、陽極酸化皮膜表面から深さ方向(厚み方向)に10nm~1,000nmの位置までのびる孔部である。上記深さは、10nm~200nmが好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜20bの断面の写真(15万倍)をとり、25個以上の大径孔部24の深さを測定し、平均した値である。
The bottom of the large-diameter hole 24 is located at a depth of 10 nm to 1,000 nm (hereinafter also referred to as depth D) from the surface of the anodized film. That is, the large-diameter hole portion 24 is a hole portion extending from the surface of the anodized film to a position of 10 nm to 1,000 nm in the depth direction (thickness direction). The depth is preferably 10 nm to 200 nm.
The above depth is a value obtained by taking a photograph of the cross section of the anodized film 20b (magnified by 150,000), measuring the depths of 25 or more large-diameter holes 24, and averaging them.

大径孔部24の形状は特に制限されず、例えば、略直管状(略円柱状)、及び、深さ方向(厚み方向)に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。 The shape of the large-diameter hole portion 24 is not particularly limited. preferable.

小径孔部26は、図2に示すように、大径孔部24の底部と連通して、連通位置より更に深さ方向(厚み方向)に延びる孔部である。
小径孔部26の連通位置における平均径は、13nm以下が好ましい。中でも、11nm以下が好ましく、10nm以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、5nm以上の場合が多い。
As shown in FIG. 2, the small-diameter hole portion 26 is a hole portion that communicates with the bottom portion of the large-diameter hole portion 24 and extends further in the depth direction (thickness direction) from the communicating position.
The average diameter at the communicating position of the small-diameter hole portion 26 is preferably 13 nm or less. Among them, 11 nm or less is preferable, and 10 nm or less is more preferable. Although the lower limit is not particularly limited, it is often 5 nm or more.

小径孔部26の平均径は、陽極酸化皮膜20a表面を倍率15万倍のFE-SEMでN=4枚観察し、得られた4枚の画像において、400nm×600nmの範囲に存在するマイクロポア(小径孔部)の径(直径)を測定し、算術平均値として得られる。なお、大径孔部の深さが深い場合は、必要に応じて、陽極酸化皮膜20b上部(大径孔部のある領域)を切削し(例えば、アルゴンガスによって切削)、その後陽極酸化皮膜20b表面を上記FE-SEMで観察して、小径孔部の平均径を求めてもよい。
なお、小径孔部26の形状が円状でない場合は、円相当径を用いる。「円相当径」とは、開口部の形状を、開口部の投影面積と同じ投影面積をもつ円と想定したときの円の直径である。
The average diameter of the small-diameter pore portions 26 is obtained by observing N=4 sheets of the surface of the anodized film 20a with an FE-SEM at a magnification of 150,000 times, and micropores existing in the range of 400 nm × 600 nm in the obtained 4 images. The diameter (diameter) of the (small-diameter pore) is measured and obtained as an arithmetic mean value. If the large-diameter hole is deep, the upper portion of the anodized film 20b (the area where the large-diameter hole is located) is cut (for example, by argon gas), and then the anodized film 20b is cut. The surface may be observed with the above FE-SEM to determine the average diameter of the small-diameter pores.
In addition, when the shape of the small-diameter hole portion 26 is not circular, the circle equivalent diameter is used. The "equivalent circle diameter" is the diameter of a circle when the shape of the opening is assumed to be a circle having the same projected area as the projected area of the opening.

小径孔部26の底部は、上記の大径孔部24との連通位置から更に深さ方向に20nm~2,000nmのびた場所に位置する。言い換えると、小径孔部26は、上記大径孔部24との連通位置から更に深さ方向(厚み方向)にのびる孔部であり、小径孔部26の深さは20nm~2,000nmである。なお、上記深さは、500nm~2,000nmが好ましい。
なお、上記深さは、陽極酸化皮膜20bの断面の写真(5万倍)をとり、25個以上の小径孔部の深さを測定し、平均した値である。
The bottom portion of the small-diameter hole portion 26 is located at a location extending 20 nm to 2,000 nm further in the depth direction from the communicating position with the large-diameter hole portion 24 . In other words, the small-diameter hole portion 26 is a hole portion extending in the depth direction (thickness direction) from the position communicating with the large-diameter hole portion 24, and the depth of the small-diameter hole portion 26 is 20 nm to 2,000 nm. . The depth is preferably 500 nm to 2,000 nm.
The above depth is a value obtained by taking a photograph of the cross section of the anodized film 20b (magnification of 50,000), measuring the depths of 25 or more small-diameter holes, and averaging them.

小径孔部26の形状は特に制限されず、例えば、略直管状(略円柱状)、及び、深さ方向に向かって径が小さくなる円錐状が挙げられ、略直管状が好ましい。 The shape of the small-diameter hole portion 26 is not particularly limited, and includes, for example, a substantially straight tubular shape (substantially columnar shape) and a conical shape in which the diameter decreases in the depth direction, and a substantially straight tubular shape is preferred.

-支持体の製造方法-
本開示に用いられる支持体の製造方法としては、例えば、以下の工程を順番に実施する製造方法が好ましい。
・粗面化処理工程:アルミニウム板に粗面化処理を施す工程
・陽極酸化処理工程:粗面化処理されたアルミニウム板を陽極酸化する工程
・ポアワイド処理工程:陽極酸化処理工程で得られた陽極酸化皮膜を有するアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させ、陽極酸化皮膜中のマイクロポアの径を拡大させる工程
以下、各工程の手順について詳述する。
-Method for producing support-
As a method for manufacturing the support used in the present disclosure, for example, a manufacturing method in which the following steps are performed in order is preferable.
・Roughening treatment step: a step of roughening an aluminum plate ・Anodizing treatment step: a step of anodizing a roughened aluminum plate ・Pore widening treatment step: the anode obtained in the anodizing treatment step Step of contacting an aluminum plate having an oxide film with an aqueous acid solution or an aqueous alkali solution to expand the diameter of micropores in the anodized film. The procedures of each step are described in detail below.

〔粗面化処理工程〕
粗面化処理工程は、アルミニウム板の表面に、電気化学的粗面化処理を含む粗面化処理を施す工程である。本工程は、後述する陽極酸化処理工程の前に実施されることが好ましいが、アルミニウム板の表面がすでに好ましい表面形状を有していれば、特に実施しなくてもよい。
[Roughening treatment step]
The graining treatment step is a step of subjecting the surface of the aluminum plate to graining treatment including electrochemical graining treatment. This step is preferably performed before the anodizing treatment step, which will be described later.

粗面化処理は、電気化学的粗面化処理のみを実施してもよいが、電気化学的粗面化処理と機械的粗面化処理及び/又は化学的粗面化処理とを組み合わせて実施してもよい。
機械的粗面化処理と電気化学的粗面化処理とを組み合わせる場合には、機械的粗面化処理の後に、電気化学的粗面化処理を実施するのが好ましい。
電気化学的粗面化処理は、硝酸又は塩酸を主体とする水溶液中で、直流又は交流を用いて行われることが好ましい。
機械的粗面化処理の方法は特に制限されないが、例えば、特公昭50-40047号公報に記載されている方法が挙げられる。
化学的粗面化処理も特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
Graining treatment may be performed only by electrochemical graining treatment, but may be performed in combination with electrochemical graining treatment and mechanical graining treatment and/or chemical graining treatment. You may
When the mechanical graining treatment and the electrochemical graining treatment are combined, it is preferable to perform the electrochemical graining treatment after the mechanical graining treatment.
The electrochemical graining treatment is preferably carried out in an aqueous solution mainly containing nitric acid or hydrochloric acid using direct current or alternating current.
The method of mechanical graining treatment is not particularly limited, but includes, for example, the method described in Japanese Patent Publication No. 50-40047.
The chemical graining treatment is also not particularly limited, and includes known methods.

機械的粗面化処理の後には、以下の化学エッチング処理を実施するのが好ましい。
機械的粗面化処理の後に施される化学エッチング処理は、アルミニウム板の表面の凹凸形状のエッジ部分をなだらかにし、印刷時のインキの引っかかりを防止し、印刷版の耐汚れ性を向上させるとともに、表面に残った研磨材粒子等の不要物を除去するために行われる。
化学エッチング処理としては、酸によるエッチング及びアルカリによるエッチングが挙げられ、エッチング効率の点で特に優れている方法として、アルカリ水溶液を用いる化学エッチング処理(以下、「アルカリエッチング処理」ともいう。)が挙げられる。
After the mechanical graining treatment, the following chemical etching treatment is preferably carried out.
The chemical etching treatment applied after the mechanical roughening treatment smoothes the uneven edges of the surface of the aluminum plate, prevents ink from being caught during printing, and improves the stain resistance of the printing plate. , to remove debris such as abrasive particles remaining on the surface.
The chemical etching treatment includes etching with an acid and etching with an alkali, and a chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (hereinafter also referred to as "alkaline etching treatment") is mentioned as a method that is particularly excellent in terms of etching efficiency. be done.

アルカリ水溶液に用いられるアルカリ剤は特に制限されないが、例えば、カセイソーダ、カセイカリ、メタケイ酸ソーダ、炭酸ソーダ、アルミン酸ソーダ、及び、グルコン酸ソーダが挙げられる。
アルカリ水溶液は、アルミニウムイオンを含んでいてもよい。
アルカリ水溶液のアルカリ剤の濃度は、0.01質量%以上が好ましく、3質量%以上がより好ましく、また、30質量%以下が好ましい。
The alkaline agent used in the alkaline aqueous solution is not particularly limited, and examples thereof include caustic soda, caustic potash, sodium metasilicate, sodium carbonate, sodium aluminate, and sodium gluconate.
The alkaline aqueous solution may contain aluminum ions.
The concentration of the alkaline agent in the alkaline aqueous solution is preferably 0.01% by mass or more, more preferably 3% by mass or more, and preferably 30% by mass or less.

アルカリエッチング処理を施した場合、アルカリエッチング処理により生じる生成物を除去するために、低温の酸性水溶液を用いて化学エッチング処理(以下、「デスマット処理」ともいう。)を施すのが好ましい。
酸性水溶液に用いられる酸は特に制限されないが、例えば、硫酸、硝酸、及び、塩酸が挙げられる。また、酸性水溶液の温度は、20℃~80℃が好ましい。
When alkali etching treatment is performed, it is preferable to perform chemical etching treatment (hereinafter also referred to as "desmutting treatment") using a low-temperature acidic aqueous solution in order to remove products generated by the alkali etching treatment.
Acids used in the acidic aqueous solution are not particularly limited, and examples thereof include sulfuric acid, nitric acid, and hydrochloric acid. Further, the temperature of the acidic aqueous solution is preferably 20°C to 80°C.

粗面化処理工程としては、A態様又はB態様に示す処理を以下に示す順に実施する方法が好ましい。 As the surface roughening treatment step, a method of carrying out the treatments shown in A mode or B mode in the following order is preferable.

~A態様~
(2)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第1アルカリエッチング処理)
(3)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第1デスマット処理)
(4)硝酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理(第1電気化学的粗面化処理)
(5)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第2アルカリエッチング処理)
(6)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第2デスマット処理)
(7)塩酸を主体とする水溶液中で電気化学的粗面化処理(第2電気化学的粗面化処理)
(8)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第3アルカリエッチング処理)
(9)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第3デスマット処理)
~ A mode ~
(2) Chemical etching treatment using an alkaline aqueous solution (first alkaline etching treatment)
(3) Chemical etching treatment using an acidic aqueous solution (first desmutting treatment)
(4) Electrochemical graining treatment using an aqueous solution mainly containing nitric acid (first electrochemical graining treatment)
(5) Chemical etching treatment using alkaline aqueous solution (second alkaline etching treatment)
(6) Chemical etching treatment using an acidic aqueous solution (second desmutting treatment)
(7) Electrochemical graining treatment in aqueous solution mainly composed of hydrochloric acid (second electrochemical graining treatment)
(8) Chemical etching treatment using alkaline aqueous solution (third alkali etching treatment)
(9) Chemical etching treatment using an acidic aqueous solution (third desmutting treatment)

~B態様~
(10)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第4アルカリエッチング処理)
(11)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第4デスマット処理)
(12)塩酸を主体とする水溶液を用いた電気化学的粗面化処理(第3電気化学的粗面化処理)
(13)アルカリ水溶液を用いた化学エッチング処理(第5アルカリエッチング処理)
(14)酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第5デスマット処理)
~ B mode ~
(10) Chemical etching treatment using alkaline aqueous solution (fourth alkali etching treatment)
(11) Chemical etching treatment using an acidic aqueous solution (fourth desmutting treatment)
(12) Electrochemical Graining Treatment Using an Aqueous Solution Mainly Containing Hydrochloric Acid (Third Electrochemical Graining Treatment)
(13) Chemical etching treatment using alkaline aqueous solution (fifth alkaline etching treatment)
(14) Chemical etching treatment using an acidic aqueous solution (fifth desmutting treatment)

上記A態様の(2)の処理前、又は、B態様の(10)の処理前に、必要に応じて、(1)機械的粗面化処理を実施してもよい。 (1) Mechanical surface roughening treatment may be performed before the treatment of (2) of Aspect A or before the treatment of (10) of Aspect B, if necessary.

第1アルカリエッチング処理及び第4アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、0.5g/m~30g/mが好ましく、1.0g/m~20g/mがより好ましい。 The amount of aluminum plate dissolved in the first alkali etching treatment and the fourth alkali etching treatment is preferably 0.5 g/m 2 to 30 g/m 2 , more preferably 1.0 g/m 2 to 20 g/m 2 .

A態様における第1電気化学的粗面化処理で用いる硝酸を主体とする水溶液としては、直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液が挙げられる。例えば、1~100g/Lの硝酸水溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、又は、硝酸アンモニウム等を添加して得られる水溶液が挙げられる。
A態様における第2電気化学的粗面化処理及びB態様における第3電気化学的粗面化処理で用いる塩酸を主体とする水溶液としては、通常の直流又は交流を用いた電気化学的な粗面化処理に用いる水溶液が挙げられる。例えば、1g/L~100g/Lの塩酸水溶液に、硫酸を0g/L~30g/L添加して得られる水溶液が挙げられる。なお、この溶液に、硝酸アルミニウム、硝酸ナトリウム、及び、硝酸アンモニウム等の硝酸イオン;塩化アルミニウム、塩化ナトリウム、及び、塩化アンモニウム等の塩酸イオンを更に添加してもよい。
Examples of the aqueous solution containing nitric acid as a main component used in the first electrochemical graining treatment in A mode include aqueous solutions used in electrochemical graining treatment using direct current or alternating current. For example, an aqueous solution obtained by adding aluminum nitrate, sodium nitrate, or ammonium nitrate to an aqueous nitric acid solution of 1 to 100 g/L can be mentioned.
As the aqueous solution mainly containing hydrochloric acid used in the second electrochemical graining treatment in A mode and the third electrochemical graining treatment in B mode, a normal electrochemical roughening treatment using direct current or alternating current Aqueous solutions used for chemical treatment are mentioned. For example, an aqueous solution obtained by adding 0 g/L to 30 g/L of sulfuric acid to a hydrochloric acid aqueous solution of 1 g/L to 100 g/L can be mentioned. Nitrate ions such as aluminum nitrate, sodium nitrate and ammonium nitrate; and hydrochloride ions such as aluminum chloride, sodium chloride and ammonium chloride may be further added to this solution.

電気化学的粗面化処理の交流電源波形は、サイン波、矩形波、台形波、及び、三角波等を用いることができる。周波数は0.1Hz~250Hzが好ましい。
図3は、電気化学的粗面化処理に用いられる交番波形電流波形図の一例を示すグラフである。
図3において、taはアノード反応時間、tcはカソード反応時間、tpは電流が0からピークに達するまでの時間、Iaはアノードサイクル側のピーク時の電流、Icはカソードサイクル側のピーク時の電流、AAはアルミニウム板のアノード反応の電流、CAはアルミニウム板のカソード反応の電流である。台形波において、電流が0からピークに達するまでの時間tpは1ms~10msが好ましい。電気化学的な粗面化に用いる交流の1サイクルの条件が、アルミニウム板のアノード反応時間taとカソード反応時間tcの比tc/taが1~20、アルミニウム板がアノード時の電気量Qcとアノード時の電気量Qaの比Qc/Qaが0.3~20、アノード反応時間taが5ms~1,000ms、の範囲にあるのが好ましい。電流密度は台形波のピーク値で電流のアノードサイクル側Ia、カソードサイクル側Icともに10A/dm~200A/dmが好ましい。Ic/Iaは、0.3~20が好ましい。電気化学的な粗面化が終了した時点でのアルミニウム板のアノード反応にあずかる電気量の総和は、25C/dm~1,000C/dmが好ましい。
A sinusoidal wave, a rectangular wave, a trapezoidal wave, a triangular wave, or the like can be used as the AC power waveform for the electrochemical graining treatment. The frequency is preferably 0.1 Hz to 250 Hz.
FIG. 3 is a graph showing an example of an alternating waveform current waveform diagram used for electrochemical graining treatment.
In FIG. 3, ta is the anode reaction time, tc is the cathode reaction time, tp is the time from 0 to the peak of the current, Ia is the peak current on the anode cycle side, and Ic is the peak current on the cathode cycle side. , AA is the current of the anodic reaction of the aluminum plate, and CA is the current of the cathodic reaction of the aluminum plate. In the trapezoidal wave, the time tp from 0 to the peak of the current is preferably 1 ms to 10 ms. The conditions for one cycle of alternating current used for electrochemical roughening are that the ratio tc/ta of the anode reaction time ta to the cathode reaction time tc of the aluminum plate is 1 to 20, the amount of electricity Qc when the aluminum plate is the anode, and the anode It is preferable that the ratio Qc/Qa of the quantity of electricity Qa at the time is in the range of 0.3 to 20, and the anode reaction time ta is in the range of 5 ms to 1,000 ms. The current density is preferably 10 A/dm 2 to 200 A/dm 2 at the peak value of the trapezoidal wave on both the anode cycle side Ia and the cathode cycle side Ic. Ic/Ia is preferably 0.3-20. The total amount of electricity that participates in the anode reaction of the aluminum plate at the time when the electrochemical graining is completed is preferably 25 C/dm 2 to 1,000 C/dm 2 .

交流を用いた電気化学的な粗面化には図4に示した装置を用いることができる。
図4は、交流を用いた電気化学的粗面化処理におけるラジアル型セルの一例を示す側面図である。
図4において、50は主電解槽、51は交流電源、52はラジアルドラムローラ、53a及び53bは主極、54は電解液供給口、55は電解液、56はスリット、57は電解液通路、58は補助陽極、60は補助陽極槽、Wはアルミニウム板である。図4中、矢印A1は電解液の給液方向を、矢印A2は電解液の排出方向をそれぞれ示している。である。電解槽を2つ以上用いるときには、電解条件は同じでもよいし、異なっていてもよい。
アルミニウム板Wは主電解槽50中に浸漬して配置されたラジアルドラムローラ52に巻装され、搬送過程で交流電源51に接続する主極53a及び53bにより電解処理される。電解液55は、電解液供給口54からスリット56を通じてラジアルドラムローラ52と主極53a及び53bとの間の電解液通路57に供給される。主電解槽50で処理されたアルミニウム板Wは、次いで、補助陽極槽60で電解処理される。この補助陽極槽60には補助陽極58がアルミニウム板Wと対向配置されており、電解液55が補助陽極58とアルミニウム板Wとの間の空間を流れるように供給される。
The apparatus shown in FIG. 4 can be used for electrochemical graining using alternating current.
FIG. 4 is a side view showing an example of a radial type cell in electrochemical graining treatment using alternating current.
4, 50 is a main electrolytic cell, 51 is an AC power supply, 52 is a radial drum roller, 53a and 53b are main electrodes, 54 is an electrolyte supply port, 55 is an electrolyte, 56 is a slit, 57 is an electrolyte passage, 58 is an auxiliary anode, 60 is an auxiliary anode tank, and W is an aluminum plate. In FIG. 4, arrow A1 indicates the direction of supply of the electrolytic solution, and arrow A2 indicates the direction of discharge of the electrolytic solution. is. When two or more electrolytic cells are used, the electrolysis conditions may be the same or different.
An aluminum plate W is wound around a radial drum roller 52 immersed in a main electrolytic bath 50 and electrolyzed by main electrodes 53a and 53b connected to an AC power supply 51 during transportation. The electrolyte 55 is supplied from the electrolyte supply port 54 through the slit 56 to the electrolyte passage 57 between the radial drum roller 52 and the main electrodes 53a and 53b. The aluminum plate W treated in the main electrolytic bath 50 is then electrolytically treated in the auxiliary anode bath 60 . An auxiliary anode 58 is disposed facing the aluminum plate W in the auxiliary anode bath 60, and an electrolytic solution 55 is supplied so as to flow through the space between the auxiliary anode 58 and the aluminum plate W. As shown in FIG.

第2アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、所定の印刷版原版が製造しやすい点で、1.0g/m以上が好ましく、2.0g/m~10g/mがより好ましい。 The amount of dissolution of the aluminum plate in the second alkali etching treatment is preferably 1.0 g/m 2 or more, more preferably 2.0 g/m 2 to 10 g/m 2 , from the viewpoint of easy production of a predetermined printing plate precursor.

第3アルカリエッチング処理及び第4アルカリエッチング処理におけるアルミニウム板の溶解量は、所定の印刷版原版が製造しやすい点で、0.01g/m~0.8g/mが好ましく、0.05g/m~0.3g/mがより好ましい。 The amount of dissolution of the aluminum plate in the third alkali etching treatment and the fourth alkali etching treatment is preferably 0.01 g/m 2 to 0.8 g/m 2 , and 0.05 g, in terms of facilitating the production of a predetermined printing plate precursor. /m 2 to 0.3 g/m 2 is more preferable.

酸性水溶液を用いた化学エッチング処理(第1~第5デスマット処理)では、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸、塩酸、又はこれらの2以上の酸を含む混酸を含む酸性水溶液が好適に用いられる。
酸性水溶液の酸の濃度は、0.5質量%~60質量%が好ましい。
In the chemical etching treatment using an acidic aqueous solution (first to fifth desmutting treatments), an acidic aqueous solution containing phosphoric acid, nitric acid, sulfuric acid, chromic acid, hydrochloric acid, or a mixed acid containing two or more of these acids is preferably used.
The acid concentration of the acidic aqueous solution is preferably 0.5% by mass to 60% by mass.

〔陽極酸化処理工程〕
陽極酸化処理工程の手順は、上述したマイクロポアが得られれば特に制限されず、公知の方法が挙げられる。
陽極酸化処理工程においては、硫酸、リン酸、及び、シュウ酸等の水溶液を電解浴として用いることができる。例えば、硫酸の濃度は、100g/L~300g/Lが挙げられる。
陽極酸化処理の条件は使用される電解液によって適宜設定されるが、例えば、液温5℃~70℃(好ましくは10℃~60℃)、電流密度0.5A/dm~60A/dm(好ましくは1A/dm~60A/dm)、電圧1V~100V(好ましくは5V~50V)、電解時間1秒~100秒(好ましくは5秒~60秒)、及び、皮膜量0.1g/m~5g/m(好ましくは0.2g/m~3g/m)が挙げられる。
[Anodizing process]
The procedure of the anodizing treatment step is not particularly limited as long as the micropores described above can be obtained, and known methods can be used.
In the anodizing process, an aqueous solution of sulfuric acid, phosphoric acid, oxalic acid, or the like can be used as an electrolytic bath. For example, the concentration of sulfuric acid can be 100 g/L to 300 g/L.
The conditions for the anodizing treatment are appropriately set depending on the electrolytic solution used . (preferably 1 A/dm 2 to 60 A/dm 2 ), voltage 1 V to 100 V (preferably 5 V to 50 V), electrolysis time 1 second to 100 seconds (preferably 5 seconds to 60 seconds), and coating amount 0.1 g /m 2 to 5 g/m 2 (preferably 0.2 g/m 2 to 3 g/m 2 ).

〔ポアワイド処理〕
ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により形成された陽極酸化皮膜に存在するマイクロポアの径(ポア径)を拡大させる処理(孔径拡大処理)である。
ポアワイド処理は、上述した陽極酸化処理工程により得られたアルミニウム板を、酸水溶液又はアルカリ水溶液に接触させることにより行うことができる。接触させる方法は特に制限されず、例えば、浸せき法及びスプレー法が挙げられる。
[Pore widening treatment]
The pore widening treatment is a treatment (pore diameter enlarging treatment) for enlarging the diameters of micropores (pore diameters) present in the anodized film formed by the anodizing treatment process described above.
The pore widening treatment can be performed by bringing the aluminum plate obtained by the above-described anodizing treatment process into contact with an acid aqueous solution or an alkaline aqueous solution. The contacting method is not particularly limited, and examples thereof include dipping and spraying.

<下塗り層>
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層と支持体との間に下塗り層(中間層と呼ばれることもある。)を有することが好ましい。下塗り層は、露光部においては支持体と画像記録層との密着を強化し、未露光部においては画像記録層の支持体からのはく離を生じやすくさせるため、耐刷性を損なわずに現像性を向上させることに寄与する。また、赤外線レーザー露光の場合に、下塗り層が断熱層として機能することにより、露光により発生した熱が支持体に拡散して感度が低下するのを防ぐ効果も有する。
<Undercoat layer>
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure preferably has an undercoat layer (sometimes called an intermediate layer) between the image-recording layer and the support. The undercoat layer strengthens the adhesion between the support and the image-recording layer in the exposed areas, and facilitates the separation of the image-recording layer from the support in the unexposed areas. contribute to improving Moreover, in the case of infrared laser exposure, the undercoat layer functions as a heat insulating layer, and thus has the effect of preventing the heat generated by exposure from diffusing into the support and lowering the sensitivity.

下塗り層に用いられる化合物としては、支持体表面に吸着可能な吸着性基及び親水性基を有するポリマーが挙げられる。画像記録層との密着性を向上させるために吸着性基及び親水性基を有し、更に架橋性基を有するポリマーが好ましい。下塗り層に用いられる化合物は、低分子化合物でもポリマーであってもよい。下塗り層に用いられる化合物は、必要に応じて、2種以上を混合して使用してもよい。 Compounds used in the undercoat layer include polymers having an adsorptive group capable of being adsorbed to the support surface and a hydrophilic group. A polymer having an adsorptive group, a hydrophilic group, and a crosslinkable group is preferred in order to improve adhesion to the image-recording layer. The compound used in the undercoat layer may be a low-molecular-weight compound or a polymer. The compounds used for the undercoat layer may be used in combination of two or more, if necessary.

下塗り層に用いられる化合物がポリマーである場合、吸着性基を有するモノマー、親水性基を有するモノマー及び架橋性基を有するモノマーの共重合体が好ましい。
支持体表面に吸着可能な吸着性基としては、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、-PO、-OPO、-CONHSO-、-SONHSO-、-COCHCOCHが好ましい。親水性基としては、スルホ基又はその塩、カルボキシ基の塩が好ましい。架橋性基としては、アクリル基、メタクリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、アリル基などが好ましい。
ポリマーは、ポリマーの極性置換基と、上記極性置換基と対荷電を有する置換基及びエチレン性不飽和結合を有する化合物との塩形成で導入された架橋性基を有してもよいし、上記以外のモノマー、好ましくは親水性モノマーが更に共重合されていてもよい。
When the compound used for the undercoat layer is a polymer, it is preferably a copolymer of a monomer having an adsorptive group, a monomer having a hydrophilic group, and a monomer having a crosslinkable group.
Adsorptive groups capable of being adsorbed on the support surface include phenolic hydroxy group, carboxy group, -PO 3 H 2 , -OPO 3 H 2 , -CONHSO 2 -, -SO 2 NHSO 2 -, and -COCH 2 COCH 3 . is preferred. The hydrophilic group is preferably a sulfo group or a salt thereof, or a salt of a carboxy group. As the crosslinkable group, an acryl group, a methacryl group, an acrylamide group, a methacrylamide group, an allyl group, and the like are preferable.
The polymer may have a polar substituent of the polymer and a crosslinkable group introduced by salt formation with a compound having a polar substituent, a countercharged substituent, and an ethylenically unsaturated bond. Other monomers, preferably hydrophilic monomers, may be further copolymerized.

具体的には、特開平10-282679号公報に記載されている付加重合可能なエチレン性二重結合反応基を有しているシランカップリング剤、特開平2-304441号公報記載のエチレン性二重結合反応基を有しているリン化合物が好適に挙げられる。特開2005-238816号、特開2005-125749号、特開2006-239867号、特開2006-215263号の各公報に記載の架橋性基(好ましくは、エチレン性不飽和結合基)、支持体表面と相互作用する官能基及び親水性基を有する低分子又は高分子化合物も好ましく用いられる。
より好ましいものとして、特開2005-125749号及び特開2006-188038号公報に記載の支持体表面に吸着可能な吸着性基、親水性基及び架橋性基を有する高分子ポリマーが挙げられる。
Specifically, a silane coupling agent having an addition-polymerizable ethylenic double bond reactive group described in JP-A-10-282679, and an ethylenic divalent compound described in JP-A-2-304441. Phosphorus compounds having a heavy bond reactive group are preferred. JP-A-2005-238816, JP-A-2005-125749, JP-A-2006-239867, and JP-A-2006-215263, a crosslinkable group (preferably an ethylenically unsaturated bond group) described in each publication, a support Low-molecular-weight or high-molecular-weight compounds having surface-interacting functional groups and hydrophilic groups are also preferably used.
More preferred are polymers having an adsorptive group, a hydrophilic group and a crosslinkable group capable of being adsorbed to the surface of a support, as described in JP-A-2005-125749 and JP-A-2006-188038.

下塗り層に用いられるポリマー中のエチレン性不飽和結合基の含有量は、ポリマー1g当たり、好ましくは0.1mmol~10.0mmol、より好ましくは0.2mmol~5.5mmolである。
下塗り層に用いられるポリマーの重量平均分子量(Mw)は、5,000以上が好ましく、1万~30万がより好ましい。
The content of ethylenically unsaturated bond groups in the polymer used for the undercoat layer is preferably 0.1 mmol to 10.0 mmol, more preferably 0.2 mmol to 5.5 mmol, per 1 g of polymer.
The weight average molecular weight (Mw) of the polymer used for the undercoat layer is preferably 5,000 or more, more preferably 10,000 to 300,000.

〔親水性化合物〕
下塗り層は、現像性の観点から、親水性化合物を含むことが好ましい。
親水性化合物としては、特に制限はなく、下塗り層に用いられる公知の親水性化合物を用いることができる。
親水性化合物としては、カルボキシメチルセルロース、デキストリン等のアミノ基を有するホスホン酸類、有機ホスホン酸、有機リン酸、有機ホスフィン酸、アミノ酸類、並びに、ヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等が好ましく挙げられる。
また、親水性化合物としては、アミノ基又は重合禁止能を有する官能基と支持体表面と相互作用する基とを有する化合物(例えば、1,4-ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン(DABCO)、2,3,5,6-テトラヒドロキシ-p-キノン、クロラニル、スルホフタル酸、エチレンジアミン四酢酸(EDTA)又はその塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸又はその塩、ジヒドロキシエチルエチレンジアミン二酢酸又はその塩、ヒドロキシエチルイミノ二酢酸又はその塩など)が好ましく挙げられる。
[Hydrophilic compound]
From the viewpoint of developability, the undercoat layer preferably contains a hydrophilic compound.
The hydrophilic compound is not particularly limited, and known hydrophilic compounds used for the undercoat layer can be used.
Preferred examples of the hydrophilic compound include carboxymethylcellulose, phosphonic acids having an amino group such as dextrin, organic phosphonic acids, organic phosphoric acids, organic phosphinic acids, amino acids, and hydrochlorides of amines having a hydroxyl group.
Further, as the hydrophilic compound, a compound having an amino group or a functional group capable of inhibiting polymerization and a group interacting with the support surface (for example, 1,4-diazabicyclo[2.2.2]octane (DABCO) , 2,3,5,6-tetrahydroxy-p-quinone, chloranil, sulfophthalic acid, ethylenediaminetetraacetic acid (EDTA) or its salts, hydroxyethylethylenediaminetriacetic acid or its salts, dihydroxyethylethylenediaminediacetic acid or its salts, hydroxy ethyliminodiacetic acid or a salt thereof, etc.).

親水性化合物としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
また、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩は、傷汚れ抑制性の観点から、上記アルミニウム支持体上の層に含まれることが好ましい。また、上記アルミニウム支持体上の層は、画像記録層が形成されている側の層であることが好ましく、また、上記アルミニウム支持体と接する層であることが好ましい。
上記アルミニウム支持体上の層としては、上記アルミニウム支持体と接する層として、下塗り層又は画像記録層が好ましく挙げられる。また、上記アルミニウム支持体と接する層以外の層、例えば、保護層又は画像記録層に、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩が含まれていてもよい。
本開示に係る平版印刷版原版において、画像記録層が、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことが好ましい。
また、本開示に係る平版印刷版原版において、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面が、少なくともヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む組成物(例えば、水溶液等)により表面処理される態様も好ましく挙げられる。上記態様である場合、処理されたヒドロキシカルボン酸又はその塩は、アルミニウム支持体と接する画像記録層側の層(例えば、画像記録層又は下塗り層)に含まれた状態で少なくとも一部を検出することができる。
下塗り層等のアルミニウム支持体と接する画像記録層側の層にヒドロキシカルボン酸又はその塩を含むことにより、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面を親水化することができ、また、アルミニウム支持体の画像記録層側の表面における空中水滴法による水との接触角を110°以下と容易にすることができ、傷汚れ抑制性に優れる。
The hydrophilic compound preferably contains a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof from the viewpoint of preventing stains.
In addition, a hydrophilic compound, preferably a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof, is preferably contained in the layer on the aluminum support from the viewpoint of anti-scratching property. The layer on the aluminum support is preferably a layer on the side where the image recording layer is formed, and is preferably a layer in contact with the aluminum support.
As the layer on the aluminum support, the layer in contact with the aluminum support is preferably an undercoat layer or an image-recording layer. A layer other than the layer in contact with the aluminum support, such as a protective layer or an image-recording layer, may contain a hydrophilic compound, preferably a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof.
In the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure, the image-recording layer preferably contains a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof from the viewpoint of preventing stains.
In addition, in the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure, an embodiment in which the surface of the aluminum support on the image-recording layer side is surface-treated with a composition (e.g., an aqueous solution, etc.) containing at least a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof is also preferred. be done. In the above embodiment, at least a portion of the treated hydroxycarboxylic acid or its salt is detected in a state of being contained in a layer (e.g., image recording layer or undercoat layer) on the image recording layer side in contact with the aluminum support. be able to.
By including hydroxycarboxylic acid or a salt thereof in a layer such as an undercoat layer on the side of the image recording layer in contact with the aluminum support, the surface of the aluminum support on the side of the image recording layer can be made hydrophilic. The contact angle with water on the surface of the image-recording layer can be easily made 110° or less by the water droplet method in air, and it is excellent in scratch/fouling suppressing properties.

ヒドロキシカルボン酸とは、1分子中に1個以上のカルボキシ基と1個以上のヒドロキシ基とを有する有機化合物の総称のことであり、ヒドロキシ酸、オキシ酸、オキシカルボン酸、アルコール酸とも呼ばれる(岩波理化学辞典第5版、(株)岩波書店発行(1998)参照)。
上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、下記式(HC)で表されるものが好ましい。
HC(OH)mhc(COOMHCnhc 式(HC)
式(HC)中、RHCはmhc+nhc価の有機基を表し、MHCはそれぞれ独立に、水素原子、アルカリ金属又はオニウムを表し、mhc及びnhcはそれぞれ独立に、1以上の整数を表し、nが2以上の場合、Mは同じでも異なってもよい。
Hydroxycarboxylic acid is a general term for organic compounds having one or more carboxy groups and one or more hydroxy groups in one molecule, and is also called hydroxy acid, oxy acid, oxycarboxylic acid, and alcoholic acid ( Iwanami Rikagaku Jiten 5th Edition, published by Iwanami Shoten Co., Ltd. (1998)).
The above hydroxycarboxylic acid or salt thereof is preferably represented by the following formula (HC).
R HC (OH) mhc (COOM HC ) nhc formula (HC)
In formula (HC), RHC represents an mhc+nhc valent organic group, MHC each independently represents a hydrogen atom, an alkali metal or onium, mhc and nhc each independently represents an integer of 1 or more, n is 2 or more, M may be the same or different.

式(HC)において、Rで表されるmhc+nhc価の有機基としては、mhc+nhc価の炭化水素基等が挙げられる。炭化水素基は置換基及び/又は連結基を有してもよい。
炭化水素基としては、脂肪族炭化水素から誘導されるmhc+nhc価の基、例えば、アルキレン基、アルカントリイル基、アルカンテトライル基、アルカンペンタイル基、アルケニレン基、アルケントリイル基、アルケンテトライル基、アルケンペンタイル基、アルキニレン基、アルキントリイル基、アルキンテトライル基、アルキンペンタイル基等、芳香族炭化水素から誘導されるmhc+nhc価の基、例えば、アリーレン基、アレーントリイル基、アレーンテトライル基、アレーンペンタイル基等が挙げられる。ヒドロキシル基及びカルボキシル基以外の置換基としては、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アラルキル基、アリール基等が挙げられる。置換基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1-メチルブチル基、イソヘキシル基、2-エチルヘキシル基、2-メチルヘキシル基、シクロヘキシル基、シクロペンチル基、2-ノルボルニル基、メトキシメチル基、メトキシエトキシエチル基、アリルオキシメチル基、フェノキシメチル基、アセチルオキシメチル基、ベンゾイルオキシメチル基、ベンジル基、フェネチル基、α-メチルベンジル基、1-メチル-1-フェニルエチル基、p-メチルベンジル基、シンナミル基、アリル基、1-プロペニルメチル基、2-ブテニル基、2-メチルアリル基、2-メチルプロペニルメチル基、2-プロピニル基、2-ブチニル基、3-ブチニル基、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、クメニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル基、フェノキシフェニル基、アセトキシフェニル基、ベンゾイロキシフェニル基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル基、フェノキシカルボニルフェニル基等が挙げられる。また、連結基は、水素原子、炭素原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子及びハロゲン原子よりなる群から選ばれる少なくとも1種の原子により構成されるもので、その原子数は好ましくは1~50である。具体的には、アルキレン基、置換アルキレン基、アリーレン基、置換アリーレン基などが挙げられ、これらの2価の基がアミド結合、エーテル結合、ウレタン結合、ウレア結合及びエステル結合のいずれかで複数連結された構造を有していてもよい。
In the formula (HC), the mhc+nhc valent organic group represented by R includes an mhc+nhc valent hydrocarbon group and the like. The hydrocarbon group may have substituents and/or linking groups.
Hydrocarbon groups include mhc+nhc valent groups derived from aliphatic hydrocarbons, such as alkylene groups, alkanetriyl groups, alkanetetrayl groups, alkanepentyl groups, alkenylene groups, alkenetriyl groups, and alkenetetrayl groups. groups, alkenepentyl groups, alkynylene groups, alkynetriyl groups, alkynetetrayl groups, alkynepentyl groups, and other mhc+nhc valent groups derived from aromatic hydrocarbons, e.g., arylene groups, arenetriyl groups, arenes Examples include a tetrayl group and an arenepentyl group. Examples of substituents other than hydroxyl groups and carboxyl groups include alkyl groups, alkenyl groups, alkynyl groups, aralkyl groups, and aryl groups. Specific examples of substituents include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, eicosyl group, isopropyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, isopentyl group, neopentyl group, 1-methylbutyl group, isohexyl group, 2-ethylhexyl group, 2-methylhexyl group, cyclohexyl group, cyclopentyl group, 2-norbornyl group, methoxymethyl group, methoxyethoxyethyl group, allyloxymethyl group, phenoxymethyl group, acetyloxymethyl group, benzoyloxymethyl group, benzyl group, phenethyl group, α-methylbenzyl group, 1- methyl-1-phenylethyl group, p-methylbenzyl group, cinnamyl group, allyl group, 1-propenylmethyl group, 2-butenyl group, 2-methylallyl group, 2-methylpropenylmethyl group, 2-propynyl group, 2- butynyl group, 3-butynyl group, phenyl group, biphenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, mesityl group, cumenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, phenoxyphenyl group, acetoxyphenyl group, benzoyloxyphenyl group , methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, phenoxycarbonylphenyl group and the like. Further, the linking group is composed of at least one atom selected from the group consisting of a hydrogen atom, a carbon atom, an oxygen atom, a nitrogen atom, a sulfur atom and a halogen atom, and the number of atoms thereof is preferably 1 to 50. is. Specific examples include an alkylene group, a substituted alkylene group, an arylene group, a substituted arylene group, etc., and these divalent groups are linked by any of an amide bond, an ether bond, a urethane bond, a urea bond and an ester bond. You may have a structure that is

HCで表されるアルカリ金属としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等が挙げられ、ナトリウムが特に好ましい。オニウムとしてはアンモニウム、ホスホニウム、スルホニウム等が挙げられ、アンモニウムが特に好ましい。
また、MHCは、傷汚れ抑制性の観点から、アルカリ金属又はオニウムであることが好ましく、アルカリ金属であることがより好ましい。
mhcとnhcとの総数は、3以上が好ましく、3~8がより好ましく、4~6が更に好ましい。
Alkali metals represented by MHC include lithium, sodium, potassium and the like, with sodium being particularly preferred. Onium includes ammonium, phosphonium, sulfonium and the like, with ammonium being particularly preferred.
In addition, from the viewpoint of antifouling property, MHC is preferably an alkali metal or an onium, more preferably an alkali metal.
The total number of mhc and nhc is preferably 3 or more, more preferably 3-8, even more preferably 4-6.

上記ヒドロキシカルボン酸又はその塩は、分子量が600以下であることが好ましく、500以下であることがより好ましく、300以下であることが特に好ましい。また、上記分子量は、76以上であることが好ましい。
上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸は、具体的には、グルコン酸、グリコール酸、乳酸、タルトロン酸、ヒドロキシ酪酸(2-ヒドロキシ酪酸、3-ヒドロキシ酪酸、γ-ヒドロキシ酪酸等)、リンゴ酸、酒石酸、シトラマル酸、クエン酸、イソクエン酸、ロイシン酸、メバロン酸、パントイン酸、リシノール酸、リシネライジン酸、セレブロン酸、キナ酸、シキミ酸、モノヒドロキシ安息香酸誘導体(サリチル酸、クレオソート酸(ホモサリチル酸、ヒドロキシ(メチル)安息香酸)、バニリン酸、シリング酸等)、ジヒドロキシ安息香酸誘導体(ピロカテク酸、レソルシル酸、プロトカテク酸、ゲンチジン酸、オルセリン酸等)、トリヒドロキシ安息香酸誘導体(没食子酸等)、フェニル酢酸誘導体(マンデル酸、ベンジル酸、アトロラクチン酸等)、ヒドロケイヒ酸誘導体(メリロト酸、フロレト酸、クマル酸、ウンベル酸、コーヒー酸、フェルラ酸、シナピン酸、セレブロン酸、カルミン酸等)等が挙げられる。
The hydroxycarboxylic acid or its salt preferably has a molecular weight of 600 or less, more preferably 500 or less, and particularly preferably 300 or less. Moreover, the molecular weight is preferably 76 or more.
The hydroxycarboxylic acid or the hydroxycarboxylic acid constituting the hydroxycarboxylic acid salt is specifically gluconic acid, glycolic acid, lactic acid, tartronic acid, hydroxybutyric acid (2-hydroxybutyric acid, 3-hydroxybutyric acid, γ-hydroxybutyric acid, etc.), malic acid, tartaric acid, citramaric acid, citric acid, isocitric acid, leucic acid, mevalonic acid, pantoic acid, ricinoleic acid, ricineraidic acid, cerebronic acid, quinic acid, shikimic acid, monohydroxybenzoic acid derivatives (salicylic acid, creosote acid (homosalicylic acid, hydroxy(methyl)benzoic acid), vanillic acid, syringic acid, etc.), dihydroxybenzoic acid derivatives (pyrocatechuic acid, resorcylic acid, protocatechuic acid, gentisic acid, orceric acid, etc.), trihydroxy Benzoic acid derivatives (gallic acid, etc.), phenylacetic acid derivatives (mandelic acid, benzilic acid, atrolactinic acid, etc.), hydrocinnamic acid derivatives (melilotic acid, phloretic acid, coumaric acid, umberic acid, caffeic acid, ferulic acid, sinapic acid, cerebronic acid, carminic acid, etc.).

これらの中でも、上記ヒドロキシカルボン酸、又は、上記ヒドロキシカルボン酸の塩を構成するヒドロキシカルボン酸としては、傷汚れ抑制性の観点から、ヒドロキシ基を2個以上有している化合物が好ましく、ヒドロキシ基を3個以上有している化合物がより好ましく、ヒドロキシ基を5個以上有している化合物が更に好ましく、ヒドロキシ基を5個~8個有している化合物が特に好ましい。
また、カルボキシ基を1個、ヒドロキシ基を2個以上有しているものとしては、グルコン酸、又は、シキミ酸が好ましい。
カルボキシ基を2個以上、ヒドロキシ基を1個有しているものとしては、クエン酸、又は、リンゴ酸が好ましい。
カルボキシ基及びヒドロキシ基をそれぞれ2個以上有しているものとしては、酒石酸が好ましい。
中でも、上記ヒドロキシカルボン酸としては、グルコン酸が特に好ましい。
Among these, the hydroxycarboxylic acid or the hydroxycarboxylic acid constituting the salt of the hydroxycarboxylic acid is preferably a compound having two or more hydroxy groups from the viewpoint of suppressing stains and stains. are more preferred, compounds having 5 or more hydroxy groups are more preferred, and compounds having 5 to 8 hydroxy groups are particularly preferred.
As those having one carboxyl group and two or more hydroxy groups, gluconic acid or shikimic acid is preferable.
Citric acid or malic acid is preferable as one having two or more carboxy groups and one hydroxy group.
Tartaric acid is preferable as one having two or more carboxyl groups and two or more hydroxy groups.
Among them, gluconic acid is particularly preferable as the hydroxycarboxylic acid.

親水性化合物は、1種単独で使用しても、2種以上を併用してもよい。
下塗り層に親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸又はその塩を含む場合、親水性化合物、好ましくはヒドロキシカルボン酸及びその塩の含有量は、下塗り層の全質量に対し、0.01質量%~50質量%であることが好ましく、0.1質量%~40質量%であることがより好ましく、1.0質量%~30質量%であることが特に好ましい。
A hydrophilic compound may be used individually by 1 type, or may use 2 or more types together.
When the undercoat layer contains a hydrophilic compound, preferably a hydroxycarboxylic acid or a salt thereof, the content of the hydrophilic compound, preferably a hydroxycarboxylic acid and a salt thereof, is 0.01 wt% to the total weight of the undercoat layer. It is preferably 50 mass %, more preferably 0.1 mass % to 40 mass %, and particularly preferably 1.0 mass % to 30 mass %.

下塗り層は、上記下塗り層用化合物の他に、経時による汚れ防止のため、キレート剤、第二級又は第三級アミン、重合禁止剤等を含有してもよい。 The undercoat layer may contain a chelating agent, a secondary or tertiary amine, a polymerization inhibitor, etc., in addition to the above-mentioned undercoat layer compounds, to prevent stains over time.

下塗り層は、公知の方法で塗布される。下塗り層の塗布量(固形分)は、0.1mg/m~100mg/mが好ましく、1mg/m~30mg/mがより好ましい。 The subbing layer is applied by known methods. The coating amount (solid content) of the undercoat layer is preferably 0.1 mg/m 2 to 100 mg/m 2 , more preferably 1 mg/m 2 to 30 mg/m 2 .

<保護層>
本開示に係る平版印刷版原版は、画像記録層と最外層との間に、保護層(オーバーコート層と呼ばれることもある)を有していてもよい。保護層は酸素遮断により画像形成阻害反応を抑制する機能の他、画像記録層における傷の発生防止及び高照度レーザー露光時のアブレーション防止の機能を有する。
<Protective layer>
The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure may have a protective layer (sometimes called an overcoat layer) between the image-recording layer and the outermost layer. The protective layer has the function of inhibiting the image formation inhibiting reaction by blocking oxygen, and also has the function of preventing scratches on the image recording layer and preventing abrasion during high-intensity laser exposure.

このような特性の保護層については、例えば、米国特許第3,458,311号明細書及び特公昭55-49729号公報に記載されている。保護層に用いられる酸素低透過性のポリマーとしては、水溶性ポリマー、水不溶性ポリマーのいずれをも適宜選択して使用することができ、必要に応じて2種類以上を混合して使用することもできる。具体的には、例えば、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、水溶性セルロース誘導体、ポリ(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。
変性ポリビニルアルコールとしてはカルボキシ基又はスルホ基を有する酸変性ポリビニルアルコールが好ましく用いられる。具体的には、特開2005-250216号公報及び特開2006-259137号公報に記載の変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
Protective layers having such properties are described, for example, in US Pat. No. 3,458,311 and Japanese Patent Publication No. 55-49729. As the low-oxygen-permeable polymer used in the protective layer, either a water-soluble polymer or a water-insoluble polymer can be appropriately selected and used, and two or more types can be mixed and used as necessary. can. Specific examples include polyvinyl alcohol, modified polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, water-soluble cellulose derivatives, poly(meth)acrylonitrile, and the like.
Acid-modified polyvinyl alcohol having a carboxy group or a sulfo group is preferably used as the modified polyvinyl alcohol. Specific examples include modified polyvinyl alcohols described in JP-A-2005-250216 and JP-A-2006-259137.

保護層は、酸素遮断性を高めるために無機層状化合物を含有することが好ましい。無機層状化合物は、薄い平板状の形状を有する粒子であり、例えば、天然雲母、合成雲母等の雲母群、式:3MgO・4SiO・HOで表されるタルク、テニオライト、モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト、リン酸ジルコニウム等が挙げられる。
好ましく用いられる無機層状化合物は雲母化合物である。雲母化合物としては、例えば、式:A(B,C)2-510(OH,F,O)〔ただし、Aは、K、Na、Caのいずれか、B及びCは、Fe(II)、Fe(III)、Mn、Al、Mg、Vのいずれかであり、Dは、Si又はAlである。〕で表される天然雲母、合成雲母等の雲母群が挙げられる。
The protective layer preferably contains an inorganic stratiform compound in order to improve oxygen barrier properties. The inorganic stratiform compound is a particle having a thin tabular shape. light, zirconium phosphate and the like.
A preferred inorganic stratiform compound is a mica compound. Examples of mica compounds include compounds of the formula: A(B,C) 2-5 D 4 O 10 (OH,F,O) 2 [wherein A is any one of K, Na and Ca, and B and C are Fe(II), Fe(III), Mn, Al, Mg, or V, and D is Si or Al. ] and a group of mica such as natural mica and synthetic mica.

雲母群においては、天然雲母としては白雲母、ソーダ雲母、金雲母、黒雲母及び鱗雲母が挙げられる。合成雲母としてはフッ素金雲母KMg(AlSi10)F、カリ四ケイ素雲母KMg2.5Si10)F等の非膨潤性雲母、及び、NaテトラシリリックマイカNaMg2.5(Si10)F、Na又はLiテニオライト(Na,Li)MgLi(Si10)F、モンモリロナイト系のNa又はLiヘクトライト(Na,Li)1/8Mg2/5Li1/8(Si10)F等の膨潤性雲母等が挙げられる。更に合成スメクタイトも有用である。 In the mica group, natural micas include muscovite, soda mica, phlogopite, biotite and lepidite. Synthetic mica includes non -swelling mica such as fluorine phlogopite KMg3 ( AlSi3O10 ) F2 , potash tetrasilicon mica KMg2.5Si4O10 ) F2 , and Na tetrasilic mica NaMg2 . 5 (Si 4 O 10 ) F 2 , Na or Li teniolite (Na, Li) Mg 2 Li(Si 4 O 10 ) F 2 , montmorillonite-based Na or Li hectorite (Na, Li) 1/8 Mg 2 / Swellable mica such as 5 Li 1/8 (Si 4 O 10 )F 2 and the like are included. Also useful are synthetic smectites.

上記の雲母化合物の中でも、フッ素系の膨潤性雲母が特に有用である。すなわち、膨潤性合成雲母は、10Å~15Å(1Å=0.1nm)程度の厚さの単位結晶格子層からなる積層構造を有し、格子内金属原子置換が他の粘土鉱物より著しく大きい。その結果、格子層は正電荷不足を生じ、それを補償するために層間にLi、Na、Ca2+、Mg2+等の陽イオンを吸着している。これらの層間に介在している陽イオンは交換性陽イオンと呼ばれ、いろいろな陽イオンと交換し得る。特に、層間の陽イオンがLi、Naの場合、イオン半径が小さいため層状結晶格子間の結合が弱く、水により大きく膨潤する。その状態でシェアーをかけると容易に劈開し、水中で安定したゾルを形成する。膨潤性合成雲母はこの傾向が強く、特に好ましく用いられる。 Among the above mica compounds, fluorine-based swelling mica is particularly useful. That is, the swelling synthetic mica has a layered structure consisting of unit crystal lattice layers with a thickness of about 10 Å to 15 Å (1 Å=0.1 nm), and the metal atom substitution in the lattice is significantly larger than that of other clay minerals. As a result, the lattice layer has a shortage of positive charges, and to compensate for this, cations such as Li + , Na + , Ca 2+ , Mg 2+ are adsorbed between the layers. The cations interposed between these layers are called exchangeable cations and can be exchanged with various cations. In particular, when the cations between the layers are Li + or Na + , the bond between the layered crystal lattices is weak due to their small ionic radii, resulting in large swelling with water. When shear is applied in this state, it is easily cleaved to form a stable sol in water. Swellable synthetic mica has a strong tendency toward this and is particularly preferably used.

雲母化合物の形状としては、拡散制御の観点からは、厚さは薄ければ薄いほどよく、平面サイズは塗布面の平滑性や活性光線の透過性を阻害しない限りにおいて大きい程よい。従って、アスペクト比は、好ましくは20以上であり、より好ましくは100以上、特に好ましくは200以上である。アスペクト比は粒子の厚さに対する長径の比であり、例えば、粒子の顕微鏡写真による投影図から測定することができる。アスペクト比が大きい程、得られる効果が大きい。 As for the shape of the mica compound, from the viewpoint of diffusion control, the thinner the thickness, the better, and the larger the plane size, the better, as long as the smoothness of the coated surface and the transmittance of actinic rays are not impaired. Therefore, the aspect ratio is preferably 20 or more, more preferably 100 or more, particularly preferably 200 or more. Aspect ratio is the ratio of the major axis to the thickness of the grain and can be determined, for example, from a micrograph projection of the grain. The larger the aspect ratio, the greater the effect that can be obtained.

雲母化合物の粒子径は、その平均長径が、好ましくは0.3μm~20μm、より好ましくは0.5μm~10μm、特に好ましくは1μm~5μmである。粒子の平均の厚さは、好ましくは0.1μm以下、より好ましくは0.05μm以下、特に好ましくは0.01μm以下である。具体的には、例えば、代表的化合物である膨潤性合成雲母の場合、好ましい態様としては、厚さが1nm~50nm程度、面サイズ(長径)が1μm~20μm程度である。 The particle diameter of the mica compound is preferably 0.3 μm to 20 μm, more preferably 0.5 μm to 10 μm, particularly preferably 1 μm to 5 μm, in terms of the average major axis. The average thickness of the particles is preferably 0.1 μm or less, more preferably 0.05 μm or less, and particularly preferably 0.01 μm or less. Specifically, for example, in the case of swelling synthetic mica, which is a representative compound, a preferred embodiment has a thickness of about 1 nm to 50 nm and a plane size (major axis) of about 1 μm to 20 μm.

無機層状化合物の含有量は、保護層の全固形分に対して、1質量%~60質量%が好ましく、3質量%~50質量%がより好ましい。複数種の無機層状化合物を併用する場合でも、無機層状化合物の合計量が上記の含有量であることが好ましい。上記範囲で酸素遮断性が向上し、良好な感度が得られる。また、着肉性の低下を防止できる。 The content of the inorganic layered compound is preferably 1% by mass to 60% by mass, more preferably 3% by mass to 50% by mass, based on the total solid content of the protective layer. Even when multiple types of inorganic layered compounds are used in combination, the total amount of the inorganic layered compounds is preferably the above content. Within the above range, the oxygen blocking property is improved and good sensitivity is obtained. In addition, it is possible to prevent a decrease in ink receptivity.

保護層は可撓性付与のための可塑剤、塗布性を向上させための界面活性剤、表面の滑り性を制御するための無機粒子など公知の添加物を含有してもよい。また、画像記録層において記載した感脂化剤を保護層に含有させてもよい。 The protective layer may contain known additives such as a plasticizer for imparting flexibility, a surfactant for improving coatability, and inorganic particles for controlling surface slipperiness. In addition, the protective layer may contain the oil sensitizing agent described for the image recording layer.

保護層は公知の方法で塗布される。保護層の塗布量(固形分)は、0.01g/m~10g/mが好ましく、0.02g/m~3g/mがより好ましく、0.02g/m~1g/mが特に好ましい。 The protective layer is applied by known methods. The coating amount (solid content) of the protective layer is preferably 0.01 g/m 2 to 10 g/m 2 , more preferably 0.02 g/m 2 to 3 g/m 2 , and 0.02 g/m 2 to 1 g/m 2 . 2 is particularly preferred.

≪平版印刷版の作製方法、及び、平版印刷方法≫
本開示に係る平版印刷版原版を画像露光して現像処理を行うことで平版印刷版を作製することができる。
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程(以下、「露光工程」ともいう)と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去する工程(以下、「機上現像工程」ともいう)と、を含むことが好ましい。
本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程(露光工程)と、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程(機上現像工程)と、得られた平版印刷版により印刷する工程(以下、「印刷工程」ともいう)と、を含むことが好ましい。
以下、本開示に係る平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法について、各工程の好ましい態様を順に説明する。なお、本開示に係る平版印刷版原版は、現像液によっても現像可能である。
以下、平版印刷版の作製方法における露光工程及び機上現像工程について説明するが、本開示に係る平版印刷版の作製方法における露光工程と、本開示に係る平版印刷方法における露光工程とは同様の工程であり、本開示に係る平版印刷版の作製方法における機上現像工程と、本開示に係る平版印刷方法における機上現像工程とは同様の工程である。
また、上記最外層は、機上現像時において、一部は除去され、一部は画像部の表面に残留又は画像部の内部に印刷インキにより浸透しているものと推定している。
<<Method for preparing lithographic printing plate and method for lithographic printing>>
A lithographic printing plate can be prepared by imagewise exposing and developing the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure.
The method for preparing a lithographic printing plate according to the present disclosure includes a step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure (hereinafter also referred to as an “exposure step”), and a printing ink and dampening solution. and a step of removing the image recording layer in the non-image portion on the printing press (hereinafter also referred to as "on-press development step").
The lithographic printing method according to the present disclosure includes a step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure (exposure step), and printing by supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water. a step of removing the image recording layer in the non-image areas on-press to prepare a lithographic printing plate (on-press development step); a step of printing with the obtained lithographic printing plate (hereinafter also referred to as a "printing step"); is preferably included.
Preferred aspects of each step of the method for preparing a lithographic printing plate according to the present disclosure and the lithographic printing method according to the present disclosure will be described below in order. The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure can also be developed with a developer.
The exposure step and the on-press development step in the method for preparing a lithographic printing plate will be described below. The on-press development step in the method for preparing a lithographic printing plate according to the present disclosure is the same step as the on-press development step in the lithographic printing method according to the present disclosure.
In addition, it is presumed that the outermost layer is partly removed during on-press development and partly remains on the surface of the image area or penetrates into the interior of the image area due to the printing ink.

<露光工程>
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光し、露光部と未露光部とを形成する露光工程を含むことが好ましい。本開示に係る平版印刷版原版は、線画像、網点画像等を有する透明原画を通してレーザー露光するかデジタルデータによるレーザー光走査等で画像様に露光されることが好ましい。
光源の波長は750nm~1,400nmが好ましく用いられる。波長750nm~1,400nmの光源としては、赤外線を放射する固体レーザー及び半導体レーザーが好適である。赤外線レーザーに関しては、出力は100mW以上であることが好ましく、1画素当たりの露光時間は20マイクロ秒以内であるのが好ましく、また照射エネルギー量は10mJ/cm~300mJ/cmであるのが好ましい。また、露光時間を短縮するためマルチビームレーザーデバイスを用いることが好ましい。露光機構は、内面ドラム方式、外面ドラム方式、及びフラットベッド方式等のいずれでもよい。
画像露光は、プレートセッターなどを用いて常法により行うことができる。機上現像の場合には、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光を行ってもよい。
<Exposure process>
The method of preparing a lithographic printing plate according to the present disclosure preferably includes an exposure step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure to form an exposed portion and an unexposed portion. The lithographic printing plate precursor according to the present disclosure is preferably subjected to laser exposure through a transparent original image having a line image, halftone image, or the like, or imagewise exposure by laser beam scanning or the like using digital data.
The wavelength of the light source is preferably 750 nm to 1,400 nm. As the light source with a wavelength of 750 nm to 1,400 nm, solid-state lasers and semiconductor lasers that emit infrared rays are suitable. As for the infrared laser, the output is preferably 100 mW or more, the exposure time per pixel is preferably within 20 microseconds, and the irradiation energy amount is preferably 10 mJ/cm 2 to 300 mJ/cm 2 . preferable. Also, it is preferable to use a multi-beam laser device to shorten the exposure time. The exposure mechanism may be an internal drum system, an external drum system, a flat bed system, or the like.
Imagewise exposure can be carried out by a conventional method using a plate setter or the like. In the case of on-press development, imagewise exposure may be performed on the printing press after the lithographic printing plate precursor is mounted on the printing press.

<機上現像工程>
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去する機上現像工程を含むことが好ましい。
以下に、機上現像方式について説明する。
<On-machine development process>
The method of preparing a lithographic printing plate according to the present disclosure includes an on-press development step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water to remove the image recording layer in the non-image area on the printing press. preferably included.
The on-machine development method will be described below.

〔機上現像方式〕
機上現像方式においては、画像露光された平版印刷版原版は、印刷機上で油性インキと水性成分とを供給し、非画像部の画像記録層が除去されて平版印刷版が作製されることが好ましい。
すなわち、平版印刷版原版を画像露光後、何らの現像処理を施すことなくそのまま印刷機に装着するか、あるいは、平版印刷版原版を印刷機に装着した後、印刷機上で画像露光し、ついで、油性インキと水性成分とを供給して印刷すると、印刷途上の初期の段階で、非画像部においては、供給された油性インキ及び水性成分のいずれか又は両方によって、未硬化の画像記録層が溶解又は分散して除去され、その部分に親水性の表面が露出する。一方、露光部においては、露光により硬化した画像記録層が、親油性表面を有する油性インキ受容部を形成する。最初に版面に供給されるのは、油性インキでもよく、水性成分でもよいが、水性成分が除去された画像記録層の成分によって汚染されることを防止する点で、最初に油性インキを供給することが好ましい。このようにして、平版印刷版原版は印刷機上で機上現像され、そのまま多数枚の印刷に用いられる。油性インキ及び水性成分としては、通常の平版印刷用の印刷インキ及び湿し水が好適に用いられる。
[On-machine development method]
In the on-press development method, an image-exposed lithographic printing plate precursor is supplied with an oil-based ink and an aqueous component on a printing press, and the image-recording layer in the non-image areas is removed to prepare a lithographic printing plate. is preferred.
That is, after the lithographic printing plate precursor is exposed imagewise, it is mounted on the printing press as it is without undergoing any development treatment, or after the lithographic printing plate precursor is mounted on the printing press, it is imagewise exposed on the printing press and then When the oil ink and the aqueous component are supplied for printing, in the initial stage of printing, in the non-image area, the uncured image recording layer is formed by either or both of the supplied oil ink and the aqueous component. It dissolves or disperses and is removed, exposing the hydrophilic surface at that portion. On the other hand, in the exposed area, the image-recording layer cured by exposure forms an oil-based ink receiving area having a lipophilic surface. Either the oil-based ink or the water-based component may be supplied to the printing plate first. is preferred. In this manner, the lithographic printing plate precursor is developed on-press on the printing press and used as it is for printing a large number of sheets. As the oil-based ink and the water-based component, printing ink and dampening water for ordinary lithographic printing are preferably used.

本開示に係る平版印刷版原版を画像露光するレーザーとしては、光源の波長は750nm~1,400nmが好ましく用いられる。波長750nm~1,400nmの光源は上述したものが好ましく用いられる。 As a laser for image exposure of the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure, a light source with a wavelength of 750 nm to 1,400 nm is preferably used. The light source with a wavelength of 750 nm to 1,400 nm is preferably used as described above.

<現像液現像工程>
本開示に係る平版印刷版の作製方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、現像液により非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程(「現像液現像工程」ともいう)と、を含む方法であってもよい。
また、本開示に係る平版印刷方法は、本開示に係る平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、現像液により非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む方法であってもよい。
現像液としては、公知の現像液を用いることができる。
現像液のpHは、特に制限はなく、強アルカリ現像液であってもよいが、pH2~11の現像液が好ましく挙げられる。pH2~11の現像液としては、例えば、界面活性剤及び水溶性高分子化合物のうち少なくとも1種を含有する現像液が好ましく挙げられる。
強アルカリ現像液を用いた現像処理においては、前水洗工程により保護層を除去し、次いでアルカリ現像を行い、後水洗工程でアルカリを水洗除去し、ガム液処理を行い、乾燥工程で乾燥する方法が挙げられる。
また、界面活性剤又は水溶性高分子化合物を含有する上記現像液を用いる場合は、現像-ガム液処理を同時に行うことができる。よって、後水洗工程は特に必要とせず、1液で現像とガム液処理を行った後、乾燥工程を行うことができる。更に、保護層の除去も現像、ガム液処理と同時に行うことができるので、前水洗工程も特に必要としない。現像処理後、スクイズローラー等を用いて余剰の現像液を除去した後、乾燥を行うことが好ましい。
<Developing solution development process>
The method of preparing a lithographic printing plate according to the present disclosure includes the steps of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor of the present disclosure, and the steps of removing the image recording layer in the non-image area with a developer to prepare the lithographic printing plate ( (also referred to as a "developing solution development step").
Further, the lithographic printing method according to the present disclosure comprises a step of imagewise exposing the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure, a step of removing the image recording layer in the non-image area with a developer to prepare a lithographic printing plate, and a step of printing with the obtained lithographic printing plate.
A known developer can be used as the developer.
The pH of the developer is not particularly limited, and may be a strong alkaline developer, but a developer having a pH of 2 to 11 is preferred. As a developer having a pH of 2 to 11, for example, a developer containing at least one of a surfactant and a water-soluble polymer compound is preferably used.
In the development processing using a strong alkaline developer, the protective layer is removed in the pre-washing step, then alkali development is performed, the alkali is removed by washing in the post-washing step, gum solution treatment is performed, and drying is performed in the drying step. is mentioned.
Further, when the developer containing a surfactant or a water-soluble polymer compound is used, development and gum solution treatment can be carried out simultaneously. Therefore, the post-washing step is not particularly required, and the drying step can be performed after the development and the gum solution treatment are performed with one solution. Furthermore, since the removal of the protective layer can be carried out at the same time as the development and the treatment with the gum solution, a pre-washing step is not particularly required. After the development treatment, it is preferable to dry after removing excess developer using a squeeze roller or the like.

<印刷工程>
本開示に係る平版印刷方法は、平版印刷版に印刷インキを供給して記録媒体を印刷する印刷工程を含む。
印刷インキとしては、特に制限はなく、所望に応じ、種々の公知のインキを用いることができる。また、印刷インキとしては、油性インキ又は紫外線硬化型インキ(UVインキ)が好ましく挙げられる。
また、上記印刷工程においては、必要に応じ、湿し水を供給してもよい。
また、上記印刷工程は、印刷機を停止することなく、上記機上現像工程又は上記現像液現像工程に連続して行われてもよい。
記録媒体としては、特に制限はなく、所望に応じ、公知の記録媒体を用いることができる。
<Printing process>
A lithographic printing method according to the present disclosure includes a printing step of supplying printing ink to a lithographic printing plate to print a recording medium.
The printing ink is not particularly limited, and various known inks can be used as desired. Moreover, as printing ink, an oil-based ink or an ultraviolet curing ink (UV ink) is preferably mentioned.
In the printing process, dampening water may be supplied as necessary.
Further, the printing process may be performed continuously with the on-press development process or the developer development process without stopping the printing press.
The recording medium is not particularly limited, and any known recording medium can be used as desired.

本開示に係る平版印刷版原版からの平版印刷版の作製方法、及び、本開示に係る平版印刷方法においては、必要に応じて、露光前、露光中、露光から現像までの間に、平版印刷版原版の全面を加熱してもよい。このような加熱により、画像記録層中の画像形成反応が促進され、感度や耐刷性の向上や感度の安定化等の利点が生じ得る。現像前の加熱は150℃以下の穏和な条件で行うことが好ましい。上記態様であると、非画像部が硬化してしまう等の問題を防ぐことができる。現像後の加熱には非常に強い条件を利用することが好ましく、100℃~500℃の範囲であることが好ましい。上記範囲であると、十分な画像強化作用が得られまた、支持体の劣化、画像部の熱分解といった問題を抑制することができる。 In the method for preparing a lithographic printing plate from the lithographic printing plate precursor according to the present disclosure and the lithographic printing method according to the present disclosure, if necessary, before exposure, during exposure, and between exposure and development, lithographic printing The entire surface of the plate precursor may be heated. Such heating promotes the image forming reaction in the image recording layer, and can bring about advantages such as improvement in sensitivity and printing durability, stabilization of sensitivity, and the like. Heating before development is preferably carried out under mild conditions of 150° C. or less. With the above aspect, problems such as hardening of the non-image portion can be prevented. It is preferred to use very strong conditions for post-development heating, preferably in the range of 100°C to 500°C. Within the above range, a sufficient image strengthening action can be obtained, and problems such as deterioration of the support and thermal decomposition of the image area can be suppressed.

以下、実施例により本開示を詳細に説明するが、本開示はこれらに限定されるものではない。なお、本実施例において、「%」、「部」とは、特に断りのない限り、それぞれ「質量%」、「質量部」を意味する。
また、以下に示す構造中、「OMe」はメトキシ基を表す。
EXAMPLES The present disclosure will be described in detail below with reference to Examples, but the present disclosure is not limited to these. In the present examples, "%" and "parts" mean "% by mass" and "parts by mass", respectively, unless otherwise specified.
In the structures shown below, "OMe" represents a methoxy group.

[実施例1~14、比較例1~3]
<支持体の作製>
厚さ0.3mmの材質1Sのアルミニウム合金板に対し、特開2012-158022号公報の段落0126に記載の(A-a)機械的粗面化処理(ブラシグレイン法)から段落0134に記載の(A-i)酸性水溶液中でのデスマット処理を実施した。
次に、特開2012-158022号公報の段落0135に記載の(A-j)第1段階の陽極酸化処理から段落0138に記載の(A-m)第3段階の陽極酸化処理の各処理条件を適宜調整して、平均系35nm、深さ100nmの大径孔部と、平均径10nm、深さ1,000nmの小径孔部を有し、大径孔部の平均径に対する大径孔部の深さの比が2.9である陽極酸化皮膜を形成し、アルミニウム支持体Aを得た。
なお、全ての処理工程の間には水洗処理を施し、水洗処理の後にはニップローラーで液切りを行った。
[Examples 1 to 14, Comparative Examples 1 to 3]
<Preparation of support>
For an aluminum alloy plate of material 1S with a thickness of 0.3 mm, (Aa) mechanical roughening treatment (brush grain method) described in paragraph 0126 of JP-A-2012-158022 to paragraph 0134. (Ai) A desmutting treatment was performed in an acidic aqueous solution.
Next, each treatment condition from (Aj) first stage anodizing treatment described in paragraph 0135 of JP-A-2012-158022 to (Am) third stage anodizing treatment described in paragraph 0138 is adjusted appropriately to have a large-diameter pore with an average system of 35 nm and a depth of 100 nm and a small-diameter pore with an average diameter of 10 nm and a depth of 1,000 nm, and the large-diameter pore with respect to the average diameter of the large-diameter pore An anodized film having a depth ratio of 2.9 was formed, and an aluminum support A was obtained.
In addition, water washing treatment was performed between all the treatment steps, and after the water washing treatment, liquid was drained off with nip rollers.

<平版印刷版原版の形成>
上記アルミニウム支持体A上(印刷面側)に、下記組成の下塗り層塗布液を乾燥塗布量が87mg/mになるよう塗布して、下塗り層を形成した。
続いて、下塗り層上に、下記組成の画像記録層塗布液をバー塗布し、120℃で40秒間オーブン乾燥し、乾燥塗布量0.971g/mの画像記録層を形成し、平版印刷版原版を得た。
なお、樹脂粒子(ミクロゲル)を含む画像記録層塗布液の調製は、下記ミクロゲル液以外の成分を混合した感光液と、下記ミクロゲル液とを塗布直前に混合し撹拌することにより調製した。
<Formation of lithographic printing plate precursor>
An undercoat layer coating solution having the following composition was coated on the aluminum support A (printed surface side) so that the dry coating amount was 87 mg/m 2 to form an undercoat layer.
Subsequently, an image-recording layer coating solution having the following composition was bar-coated on the undercoat layer and oven-dried at 120° C. for 40 seconds to form an image-recording layer having a dry coating amount of 0.971 g/m 2 . got the original.
The image-recording layer coating solution containing resin particles (microgel) was prepared by mixing and stirring a photosensitive solution containing components other than the following microgel solution and the following microgel solution immediately before coating.

<下塗り層用塗布液>
・下記の下塗り層用化合物(P-1):0.1370部
・グルコン酸ナトリウム:0.0700部
・界面活性剤(エマレックス 710、日本エマルジョン(株)製):0.00159部
・防腐剤(バイオホープL、ケイ・アイ化成(株)製):0.00149部
・水:3.29000部
<Coating solution for undercoat layer>
・The following undercoat layer compound (P-1): 0.1370 parts ・Sodium gluconate: 0.0700 parts ・Surfactant (Emarex 710, manufactured by Nippon Emulsion Co., Ltd.): 0.00159 parts ・Preservative (Biohope L, manufactured by K.I Kasei Co., Ltd.): 0.00149 parts Water: 3.29000 parts

<画像記録層塗布液>
・赤外線吸収剤(表1に記載の化合物) : 表1に記載の量(部)
・ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体(表1に記載の化合物) : 表1に記載の量(部)
・電子供与型重合開始剤(B-1、下記化合物、HOMO:-5.92eV) : 0.025部
・電子受容型重合開始剤(I-1、下記化合物、LUMO:-3.02eV) : 0.110部
・重合性化合物(新中村化学工業製、U-15HA) : 0.245部
・発色剤(R-1、下記化合物、ロイコ色素) : 0.02部
・アニオン界面活性剤(A-1、下記化合物) : 0.006部
・フッ素系界面活性剤(W-1、下記化合物) : 0.004部
・1-メトキシ-2-プロパノール(MFG) : 4.50部
・メチルエチルケトン(MEK) : 4.35部
・メタノール : 2.30部
・ミクロゲル液(下記の方法で調製されたもの) : 固形で0.400部
<Image recording layer coating solution>
・Infrared absorber (compound listed in Table 1): amount (parts) listed in Table 1
・Radical-induced polymerization inhibitor precursor (compound listed in Table 1): amount (parts) listed in Table 1
- Electron-donating polymerization initiator (B-1, the following compound, HOMO: -5.92 eV): 0.025 parts - Electron-accepting polymerization initiator (I-1, the following compound, LUMO: -3.02 eV): 0.110 parts Polymerizable compound (Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., U-15HA): 0.245 parts Color former (R-1, the following compound, leuco dye): 0.02 parts Anionic surfactant (A -1, the following compound): 0.006 parts Fluorinated surfactant (W-1, the following compound): 0.004 parts 1-methoxy-2-propanol (MFG): 4.50 parts Methyl ethyl ketone (MEK ): 4.35 parts Methanol: 2.30 parts Microgel liquid (prepared by the following method): 0.400 parts in solid form

<ミクロゲル液の調製>
・ミクロゲル(架橋樹脂粒子):2.640部
・蒸留水:2.425部
上記ミクロゲル液に用いたミクロゲルの調製法を以下に示す。
<Preparation of microgel solution>
• Microgel (crosslinked resin particles): 2.640 parts • Distilled water: 2.425 parts A method for preparing the microgel used in the above microgel liquid is shown below.

-多価イソシアネート化合物の調製-
イソホロンジイソシアネート17.78部(80モル当量)と下記多価フェノール化合物(1)7.35部(20モル当量)との酢酸エチル(25.31部)懸濁溶液に、ビスマストリス(2-エチルヘキサノエート)(ネオスタン U-600、日東化成(株)製)0.043部を加えて撹拌した。発熱が収まった時点で反応温度を50℃に設定し、3時間撹拌して多価イソシアネート化合物(1)の酢酸エチル溶液(50質量%)を得た。
-Preparation of polyvalent isocyanate compound-
Bismatris (2-ethyl hexanoate) (Neostan U-600, Nitto Kasei Co., Ltd.) 0.043 part was added and stirred. When the heat generation subsided, the reaction temperature was set to 50° C. and the mixture was stirred for 3 hours to obtain an ethyl acetate solution (50% by mass) of polyvalent isocyanate compound (1).

-ミクロゲルの調製-
下記油相成分及び水相成分を混合し、ホモジナイザーを用いて12,000rpmで10分間乳化した。得られた乳化物を45℃で4時間撹拌後、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]ウンデカ-7-エン-オクチル酸塩(U-CAT SA102、サンアプロ(株)製)の10質量%水溶液5.20gを加え、室温で30分撹拌し、45℃で24時間静置した。蒸留水で、固形分濃度を20質量%になるように調整し、ミクロゲルの水分散液が得られた。光散乱法によりミクロゲルの平均粒径を測定したところ、0.28μmであった。
- Preparation of microgel -
The following oil phase component and water phase component were mixed and emulsified using a homogenizer at 12,000 rpm for 10 minutes. After stirring the obtained emulsion at 45° C. for 4 hours, 10 masses of 1,8-diazabicyclo[5.4.0]undec-7-ene-octylate (U-CAT SA102, manufactured by San-Apro Co., Ltd.) % aqueous solution was added, stirred at room temperature for 30 minutes, and allowed to stand at 45° C. for 24 hours. Distilled water was added to adjust the solid content concentration to 20% by mass to obtain an aqueous microgel dispersion. The average particle size of the microgel measured by a light scattering method was 0.28 µm.

~油相成分~
(成分1)酢酸エチル:12.0部
(成分2)トリメチロールプロパン(6モル当量)とキシレンジイソシアネート(18モル当量)を付加させ、これに片末端メチル化ポリオキシエチレン(1モル当量、オキシエチレン単位の繰返し数:90)を付加させた付加体(50質量%酢酸エチル溶液、三井化学(株)製):3.76部
(成分3)多価イソシアネート化合物(1)(50質量%酢酸エチル溶液として):15.0部
(成分4)ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(SR-399、サートマー社製)の65質量%酢酸エチル溶液:11.54部
(成分5)スルホン酸塩型界面活性剤(パイオニンA-41-C、竹本油脂(株)製)の10%酢酸エチル溶液:4.42部
~Oil phase component~
(Component 1) Ethyl acetate: 12.0 parts (Component 2) Trimethylolpropane (6 molar equivalents) and xylene diisocyanate (18 molar equivalents) are added, and to this, one-end methylated polyoxyethylene (1 molar equivalent, oxy Repetition number of ethylene units: 90) (50% by mass ethyl acetate solution, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.): 3.76 parts (Component 3) Polyvalent isocyanate compound (1) (50% by mass of acetic acid As an ethyl solution): 15.0 parts (Component 4) 65% by mass ethyl acetate solution of dipentaerythritol pentaacrylate (SR-399, manufactured by Sartomer): 11.54 parts (Component 5) Sulfonate surfactant (Pionin A-41-C, manufactured by Takemoto Oil & Fat Co., Ltd.) in 10% ethyl acetate solution: 4.42 parts

~水相成分~
蒸留水:46.87部
~ Aqueous Phase Component ~
Distilled water: 46.87 parts

<評価>
(1)UV耐刷性
上記のようにして作製した平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載のKodak社製Magnus800 Quantumにて、出力27W、外面ドラム回転数450rpm(revolutions per minute)、解像度2,400dpi(dots per inch、1inchは2.54cm)の条件で露光(照射エネルギー110mJ/cm相当)した。露光画像には、ベタ画像、及び、AMスクリーン(Amplitude Modulation Screen)10%網点のチャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、菊判サイズのハイデルベルグ社製印刷機SX-74のシリンダーに取り付けた。本印刷機には、不織布フィルターと温度制御装置を内蔵する容量100Lの湿し水循環タンクを接続した。湿し水S-Z1(富士フイルム(株)製)2.0%の湿し水80Lを循環装置内に仕込み、印刷インキとしてT&K UV OFS K-HS墨GE-M((株)T&K TOKA製)を用い、標準の自動印刷スタート方法で湿し水とインキを供給した後、毎時10,000枚の印刷速度で特菱アート紙(連量:76.5kg、三菱製紙(株)製)に500枚印刷を行った。
続けて、更に印刷を行った。印刷枚数を増やしていくと徐々に画像部が磨耗するため印刷物上のインキ濃度が低下した。印刷物におけるAMスクリーン10%網点の網点面積率をグレタグ濃度計(GretagMacbeth社製)で計測した値が、印刷500枚目の計測値よりも3%低下したときの印刷部数を刷了枚数として耐刷性を評価した。
印刷枚数が5万枚の場合を100とする相対耐刷性により以下の基準で評価した。数値が大きいほど、耐刷性が良好である。評価結果は表2に記載した。
相対耐刷性=(対象平版印刷版原版の印刷枚数)/50,000×100
-評価基準-
A:相対耐刷性の値が、90を超える
B:相対耐刷性の値が、75を超え90以下である
C:相対耐刷性の値が、75以下である
<Evaluation>
(1) UV printing durability. Exposure was performed under the condition of 400 dpi (dots per inch, 1 inch is 2.54 cm) (equivalent to irradiation energy of 110 mJ/cm 2 ). The exposure image includes a solid image and a 10% halftone dot chart of AM screen (Amplitude Modulation Screen).
The obtained exposed original plate was mounted on a chrysanthemum-size cylinder of Heidelberg SX-74 printing machine without being subjected to development processing. A 100-liter dampening solution circulation tank containing a non-woven fabric filter and a temperature control device was connected to this printing machine. 80 L of dampening water S-Z1 (manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) containing 2.0% dampening water was charged into the circulation device, and T&K UV OFS K-HS Black GE-M (manufactured by T&K TOKA Co., Ltd.) was used as the printing ink. ), and after supplying dampening water and ink by the standard automatic printing start method, Tokubishi art paper (ream weight: 76.5 kg, manufactured by Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd.) at a printing speed of 10,000 sheets per hour. 500 sheets were printed.
Further printing was carried out. As the number of printed sheets increased, the ink density on the printed matter decreased due to the gradual wear of the image area. The number of printed copies when the halftone dot area ratio of the 10% halftone dots of the AM screen in the printed matter measured by a Gretag densitometer (manufactured by GretagMacbeth) is 3% lower than the measured value of the 500th printed sheet is defined as the number of printed sheets. The printing durability was evaluated.
The relative printing durability was evaluated according to the following criteria, with 100 representing the number of printed sheets of 50,000. The higher the numerical value, the better the printing durability. The evaluation results are shown in Table 2.
Relative printing durability = (number of prints of target lithographic printing plate precursor)/50,000 x 100
-Evaluation criteria-
A: The value of relative printing durability exceeds 90 B: The value of relative printing durability exceeds 75 and is 90 or less C: The value of relative printing durability is 75 or less

(2)機上現像性
上記のようにして作製した平版印刷版原版を、赤外線半導体レーザー搭載のKodak社製Magnus800 Quantumにて、出力27W、外面ドラム回転数450rpm、解像度2,400dpiの条件で露光(照射エネルギー110mJ/cm相当)した。露光画像には、ベタ画像、及び、AMスクリーン(Amplitude Modulation Screen)50%網点のチャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、菊判サイズのハイデルベルグ社製印刷機SX-74のシリンダーに取り付けた。本印刷機には、不織布フィルターと温度制御装置を内蔵する容量100Lの湿し水循環タンクを接続した。湿し水S-Z1(富士フイルム(株)製)2.0%の湿し水80Lを循環装置内に仕込み、印刷インキとしてT&K UV OFS K-HS墨GE-M((株)T&K TOKA製)を用い、標準の自動印刷スタート方法で湿し水とインキを供給した後、毎時10,000枚の印刷速度で特菱アート紙(連量:76.5kg、三菱製紙(株)製)に200枚印刷を行った。
上記機上現像において、非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数を機上現像性として計測した。上記枚数が少ないほど、機上現像性が良好であるといえる。
-評価基準-
A:非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数が20枚以下である。
B:非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数が20枚以上50枚未満である。
C:非画像部にインキが転写しない状態になるまでに要した印刷用紙の枚数が50枚以上である。
(2) On-machine developability The lithographic printing plate precursor prepared as described above is exposed using a Kodak Magnus 800 Quantum equipped with an infrared semiconductor laser under the conditions of an output of 27 W, an outer drum rotation speed of 450 rpm, and a resolution of 2,400 dpi. (equivalent to irradiation energy of 110 mJ/cm 2 ). The exposure image includes a solid image and AM screen (Amplitude Modulation Screen) 50% halftone dot chart.
The obtained exposed original plate was mounted on a chrysanthemum-size cylinder of Heidelberg SX-74 printing machine without being subjected to development processing. A 100-liter dampening solution circulation tank containing a non-woven fabric filter and a temperature control device was connected to this printing machine. 80 L of dampening water S-Z1 (manufactured by Fuji Film Co., Ltd.) containing 2.0% dampening water was charged into the circulation device, and T&K UV OFS K-HS Black GE-M (manufactured by T&K TOKA Co., Ltd.) was used as the printing ink. ), and after supplying dampening water and ink by the standard automatic printing start method, Tokubishi art paper (ream weight: 76.5 kg, manufactured by Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd.) at a printing speed of 10,000 sheets per hour. 200 sheets were printed.
In the on-press development, the number of sheets of printing paper required until ink was not transferred to the non-image area was measured as the on-press developability. It can be said that the smaller the number of sheets, the better the on-machine developability.
-Evaluation criteria-
A: The number of sheets of printing paper required until ink was not transferred to the non-image area was 20 or less.
B: The number of sheets of printing paper required until ink was not transferred to the non-image area was 20 or more and less than 50 sheets.
C: The number of sheets of printing paper required until ink was not transferred to the non-image area was 50 or more.

(3)スジ状のムラ
上記のようにして作製した平版印刷版原版を、
GLV(Grating Light Value)技術を採用した露光ヘッドを搭載した露光機(PlateRite HD 8900Nシリーズ、(株)SCREENグラフィックソリューション製)を用いて、露光エネルギー110mJ/cmで露光した。露光画像には、AMスクリーン200線及びFMスクリーン(Frequency Modulation Screen)20μmの平網のチャートを含むようにした。
得られた露光済み原版を現像処理することなく、SOR-M単色印刷機(ハイデルベルグ社製)に取り付け、インキ:Fusion-G MK紅N(DIC(株)製)、湿し水:S-S2 2%希釈(富士フイルム(株)製)、ブランケット:DAYブランケットD 3000((株)T&K TOKA製)、紙:特菱アート127.9gsm(三菱製紙(株)製)を用いて、1,000枚印刷を行った。そして、1,000枚目の印刷紙面より、目視でスジ状のムラの発生度合いを官能評価した。スジ状のムラが見られないほど、GLV適性に優れるともいう。
-評価基準-
A:FMスクリーン及びAMスクリーンともに、スジ状のムラがみられない。
B:FMスクリーンのみ、スジ状のムラが僅かにみられる。
C:FMスクリーン及びAMスクリーンともに、スジ状のムラが僅かにみられる。
D:FMスクリーン及びAMスクリーンともに、スジ状のムラがみられる。
(3) streak-like unevenness, the lithographic printing plate precursor prepared as described above,
Using an exposure machine (PlateRite HD 8900N series, manufactured by SCREEN Graphic Solution Co., Ltd.) equipped with an exposure head employing GLV (Grating Light Value) technology, exposure was performed at an exposure energy of 110 mJ/cm 2 . The exposure image included a 200-line AM screen and a 20 μm FM screen (Frequency Modulation Screen) chart.
The exposed original plate thus obtained was mounted on a SOR-M monochrome printing machine (manufactured by Heidelberg) without being subjected to development processing. 2% dilution (manufactured by Fuji Film Co., Ltd.), blanket: DAY Blanket D 3000 (manufactured by T&K TOKA Co., Ltd.), paper: Tokubishi Art 127.9 gsm (manufactured by Mitsubishi Paper Mills Co., Ltd.), 1,000 I printed a copy. Then, sensory evaluation was performed on the degree of occurrence of streak-like unevenness by visual observation from the surface of the 1,000th printed sheet. It is also said that the more streak-like unevenness is seen, the better the suitability for GLV.
-Evaluation criteria-
A: No streak-like unevenness is observed on both the FM screen and the AM screen.
B: Slight streak-like unevenness is observed only on the FM screen.
C: Slight streak-like unevenness is observed on both the FM screen and the AM screen.
D: Striped unevenness is observed on both the FM screen and the AM screen.

画像記録層に用いた各成分の詳細を以下に示す。 Details of each component used in the image recording layer are shown below.

〔赤外線吸収剤〕
IR-1:下記構造の化合物(HOMO=-5.35eV、LUMO=-3.75eV)
IR-2:下記構造の化合物(HOMO=-5.27eV、LUMO=-3.66eV)
IR-3:下記構造の化合物(HOMO=-5.38eV、LUMO=-3.80eV)
IR-4:下記構造の化合物(HOMO=-5.38eV、LUMO=-3.77eV)
[Infrared absorber]
IR-1: compound with the following structure (HOMO = -5.35 eV, LUMO = -3.75 eV)
IR-2: compound with the following structure (HOMO = -5.27 eV, LUMO = -3.66 eV)
IR-3: compound with the following structure (HOMO = -5.38 eV, LUMO = -3.80 eV)
IR-4: compound with the following structure (HOMO = -5.38 eV, LUMO = -3.77 eV)

〔ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体及び重合禁止剤〕
・G-1~G-8:下記構造の化合物
但し、下記G-7におけるn及びmは、n及びmが付された繰り返し単位のモル比を示しており、nが1モル%~50モル%であり、mが50モル%~99モル%である。
・MEHQ:p-メトキシフェノール
[Radical Induced Polymerization Inhibitor Precursor and Polymerization Inhibitor]
・G-1 to G-8: compounds having the following structures, provided that n and m in G-7 below indicate the molar ratio of repeating units to which n and m are attached, and n is 1 mol% to 50 mol % and m is 50 mol % to 99 mol %.
・MEHQ: p-methoxyphenol

表1に記載の結果から、本開示に係る平版印刷版原版である実施例1~14の平版印刷版原版によれば、スジ状のムラが抑制された平版印刷版が得られ、また、UVインキを使用した場合であっても、耐刷性に優れる平版印刷版が得られる。
また、表1に記載の結果から、本開示に係る平版印刷版原版である実施例1~14の平版印刷版原版は、機上現像性にも優れる。
From the results shown in Table 1, according to the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 14, which are the lithographic printing plate precursors according to the present disclosure, lithographic printing plates in which streak-like unevenness is suppressed can be obtained. Even when ink is used, a lithographic printing plate having excellent printing durability can be obtained.
Further, from the results shown in Table 1, the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 14, which are the lithographic printing plate precursors according to the present disclosure, are also excellent in on-press developability.

18:アルミニウム板、ta:アノード反応時間、tc:カソード反応時間、tp:電流が0からピークに達するまでの時間、Ia:アノードサイクル側のピーク時の電流、Ic:カソードサイクル側のピーク時の電流、AA:アルミニウム板のアノード反応の電流、CA:アルミニウム板のカソード反応の電流、12a,12b:アルミニウム支持体、22a,22b:マイクロポア、24:大径孔部、26:小径孔部、D:大径孔部の深さ、50:主電解槽、51:交流電源、52:ラジアルドラムローラ、53a,53b:主極、54:電解液供給口、55:電解液、56:スリット、57:電解液通路、58:補助陽極、60:補助陽極槽、W:アルミニウム板、A1:給液方向、A2:電解液排出方向 18: aluminum plate, ta: anode reaction time, tc: cathode reaction time, tp: time from 0 to peak current, Ia: current at peak on anode cycle side, Ic: peak time on cathode cycle side Current, AA: current of anodic reaction of aluminum plate, CA: current of cathodic reaction of aluminum plate, 12a, 12b: aluminum support, 22a, 22b: micropores, 24: large-diameter pore, 26: small-diameter pore, D: depth of large-diameter hole, 50: main electrolytic bath, 51: AC power supply, 52: radial drum roller, 53a, 53b: main pole, 54: electrolyte supply port, 55: electrolyte, 56: slit, 57: Electrolyte passage, 58: Auxiliary anode, 60: Auxiliary anode tank, W: Aluminum plate, A1: Liquid supply direction, A2: Electrolyte discharge direction

Claims (13)

支持体、及び、前記支持体上に形成された画像記録層を有し、
前記画像記録層が、赤外線吸収剤、重合開始剤、重合性化合物、及びラジカル誘起型重合禁止剤前駆体を含み、
前記赤外線吸収剤の含有量Aと前記ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体の含有量Bとの含有比率A/Bが、質量基準にて0.1~2.5である、機上現像型平版印刷版原版。
having a support and an image-recording layer formed on the support;
The image recording layer contains an infrared absorbing agent, a polymerization initiator, a polymerizable compound, and a radical-induced polymerization inhibitor precursor,
The on-press development type lithographic plate, wherein the content ratio A/B of the content A of the infrared absorbing agent and the content B of the radical-induced polymerization inhibitor precursor is 0.1 to 2.5 on a mass basis. Original printing plate.
前記ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体が、ラジカル捕捉部位と重合禁止前駆部位とを有する化合物である、請求項1に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor as claimed in Claim 1, wherein the radical-induced polymerization inhibitor precursor is a compound having a radical scavenging site and a polymerization-inhibiting precursor site. 前記ラジカル捕捉部位が、エチレン性不飽和二重結合を含む部位である、請求項2に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor as claimed in claim 2, wherein the radical scavenging site is a site containing an ethylenically unsaturated double bond. 前記エチレン性不飽和二重結合を含む部位が(メタ)アクリロキシ基である、請求項3に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor as claimed in Claim 3, wherein the site containing an ethylenically unsaturated double bond is a (meth)acryloxy group. 前記重合禁止前駆部位が水酸基を含む部位である、請求項4に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor according to claim 4, wherein the polymerization-inhibited precursor site is a site containing a hydroxyl group. 前記ラジカル誘起型重合禁止剤前駆体が、下記式(1)で表される部分構造を含む化合物である請求項1~請求項5のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。

式(1)中、Raは、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1~15のアルキル基、又はアリール基を表し、Rbは、水素原子又は炭素数1~3のアルキル基を表し、Xは、(メタ)アクリロキシ基を表す。
The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 5, wherein the radical-induced polymerization inhibitor precursor is a compound containing a partial structure represented by the following formula (1). .

In formula (1), Ra each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 15 carbon atoms, or an aryl group; Rb represents a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms; , represents a (meth)acryloxy group.
前記重合開始剤が、電子供与型重合開始剤及び電子受容型重合開始剤を含む請求項1~請求項のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 6, wherein the polymerization initiator comprises an electron-donating polymerization initiator and an electron-accepting polymerization initiator. 前記赤外線吸収剤のHOMO-前記電子供与型重合開始剤のHOMOの値が、0.70eV以下である、請求項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 8. The on-press development type lithographic printing plate precursor as claimed in claim 7 , wherein the HOMO of the infrared absorber-the HOMO of the electron-donating polymerization initiator is 0.70 eV or less. 前記電子受容型重合開始剤のLUMO-前記赤外線吸収剤のLUMOの値が、0.80eV以下である、請求項又は請求項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor according to claim 7 or 8 , wherein a value of LUMO of the electron-accepting polymerization initiator - LUMO of the infrared absorber is 0.80 eV or less. 前記重合性化合物が、7官能以上の重合性化合物である、請求項1~請求項のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of Claims 1 to 9 , wherein the polymerizable compound is a polymerizable compound having a functionality of 7 or more. 前記重合性化合物が、10官能以上の重合性化合物である、請求項1~請求項1のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版。 The on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 10, wherein the polymerizable compound is a polymerizable compound having a functionality of 10 or more. 請求項1~請求項1のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
印刷機上で印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して非画像部の画像記録層を除去する工程と、を含む
平版印刷版の作製方法。
a step of imagewise exposing the on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 11 ;
supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water on a printing press to remove the image-recording layer in the non-image areas.
請求項1~請求項1のいずれか1項に記載の機上現像型平版印刷版原版を画像様に露光する工程と、
印刷インキ及び湿し水よりなる群から選ばれた少なくとも一方を供給して印刷機上で非画像部の画像記録層を除去し平版印刷版を作製する工程と、
得られた平版印刷版により印刷する工程と、を含む
平版印刷方法。
a step of imagewise exposing the on-press development type lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 11 ;
a step of supplying at least one selected from the group consisting of printing ink and dampening water to remove the image-recording layer in the non-image areas on a printing press to prepare a lithographic printing plate;
and printing with the obtained lithographic printing plate.
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