JP7347877B2

JP7347877B2 - 反応性付与化合物、反応性付与化合物の製造方法、および積層体

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Publication number: JP7347877B2
Application number: JP2022560788A
Authority: JP
Inventors: 宏樹村岡; 和樹長牛; 静桑
Original assignee: Iwate University
Current assignee: Iwate University
Priority date: 2020-11-05
Filing date: 2021-11-02
Publication date: 2023-09-20
Anticipated expiration: 2041-11-02
Also published as: KR20230092950A; US20250074929A1; JPWO2022097644A1; JP2023165713A; EP4242215A1; TWI837537B; EP4242215A4; CN116529066B; WO2022097644A1; TW202231645A; CN116529066A; JP7737728B2

Description

本発明は、反応性付与化合物、反応性付与化合物の製造方法、および積層体に関する。
本願は、２０２０年１１月５日に、日本に出願された特願２０２０－１８５１９６号、および２０２１年９月７日に、日本に出願された特願２０２１－１４５５７８号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

異なる材料が接合された複合材料、例えば、無機基材または高分子基材上に、金属膜が形成された積層体は、携帯電話の回路基板や車両の部材などに用いられている。

積層体において、材料間の密着性が低いと材料間で剥離が生じてしまう。そのため、積層体において、密着性の向上は重要な特性である。材料間の密着性を向上する技術としては、例えば、基材の表面に凹凸を形成する技術がある。基材の表面の凹凸に金属膜の一部が入り込むことで、アンカー効果が発揮され密着性が向上する。

しかし、例えば、回路基板用の基材の表面に凹凸があると、信号の伝達距離が長くなり、伝達ロスが発生する。そのため、回路基板用途では、基材の表面に凹凸を形成する技術を用いることは困難である。

表面に凹凸を形成せずに、密着力を向上する技術としては、コロナ放電処理によって、基板上に水酸基を導入する技術がある。しかし、コロナ放電処理では、基材が劣化する可能性があり、また、導入される水酸基も少ないので、密着性向上には限界があった。

表面に凹凸を形成せずに、密着力を向上する技術としては、他に、基材の表面に反応性を付与できる化合物と、基材の表面と、を反応させる技術がある。例えば、高分子材料と、ガラスや金属等の積層体の性能向上のために有機官能性シラン化合物が開発されている。この方法はカップリング剤、すなわち二官能性分子を用いるもので、高分子材料と接合対象（例えば金属）の双方に反応し、共有結合を形成するものである。具体的に言えば、シランカップリング剤は有機官能性シランモノマー類であり、二元反応性を持っているものである。この特性は分子の一端にある官能基が加水分解し、シラノールを形成、次いでガラス等上の類似官能基や、金属酸化物上のＯＨ基との縮合などにより結合することを可能としている。シラン分子の他端にはアミノ基やメルカプト基など有機物と反応可能である官能基が存在する。このようにシランカップリング剤は有機物とその他材料を共有結合で結合させる分子として非常に有用なものとして知られている。

特許文献１には、金属膜の形成方法であって、基体表面に特定化合物を含む剤が設けられる工程と、化合物の表面に、湿式めっきの手法により、金属膜が設けられる工程とを具備してなり、化合物は、一分子内に、ＯＨ基またはＯＨ生成基と、アジド基と、トリアジン環とを有する化合物であり、前記基体はポリマーが用いられて構成されてなることを特徴とする金属膜形成方法が開示されている。アジド基を備える分子に紫外光を照射し、アジド基からナイトレンを生成し、生成したナイトレンと基材表面とが反応することで、高い密着性を得ることができる。

日本国特許第４９３６３４４号公報

しかし、特許文献１の技術よりも現在、高い密着性が得られる方法が求められている。また、特許文献１の技術では、アジド基を備える分子に短波長の紫外光を照射するため、基材が劣化し、密着性が低下するという問題があった。

本発明は、上記の課題を鑑みてなされたものであり、基材の光劣化を抑制し、かつ、高い密着性が得られる反応性付与化合物、反応性付与化合物の製造方法、および積層体を提供することを目的とする。

前記課題を解決するために、本発明は以下の手段を提案している。
＜１＞本発明の一実施形態に係る反応性付与化合物は、１分子内に、下記式（１）で表されるシランカップリング部位と、ジアジリン基と、を備え、下記式（２）で表される化合物である。

[式（１）中の＊は、隣接する炭素原子を表し、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は同一であっても異なっていてもよい。式（２）中のＸは、トリアジン環またはベンゼン環を表し、Ｚ ^１、Ｚ ^２およびＺ ^３は、Ｏ、ＮＨ、Ｓ、またはＣＨ _２のいずれかを表し、ｍ１、ｍ２、ｍ３は１～１０の整数を表し、Ｙ ^１、Ｙ ^２およびＹ ^３は、前記シランカップリング部位、または、上記式（３）若しくは（１１）で表されるジアジリン基であり、Ｙ ^１、Ｙ ^２およびＹ ^３の少なくとも１つは、前記シランカップリング部位であり、Ｙ ^１、Ｙ ^２およびＹ ^３の少なくとも１つは、前記ジアジリン基であり、上記式（３）中の＊は隣接する炭素原子を表し、Ｒ ^４は任意の官能基であり、上記式（１１）中の＊は隣接する炭素原子を表し、Ｒ ^５は任意の官能基であり、Ａは、アリーレン基または２価の複素環基である。］
＜２＞＜１＞に記載の反応性付与化合物は、前記Ｘがトリアジン環であってもよい。
＜３＞上記＜１＞または＜２＞の反応性付与化合物は、前記Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３がＮＨまたはＯであってもよい。
＜４＞上記＜３＞に記載の反応性付与化合物は、下記式（４）で表される化合物であってもよい。

＜５＞上記＜３＞に記載の反応性付与化合物は、下記式（１２）で表される化合物であってもよい。

＜６＞上記＜３＞に記載の反応性付与化合物は、下記式（１３）で表される化合物であってもよい。

＜７＞上記＜３＞に記載の反応性付与化合物は、下記式（１４）で表される化合物であってもよい。

＜８＞本発明の一実施形態に係る反応性付与化合物の製造方法は、＜１＞に記載の反応性付与化合物の製造方法であって、トリハロゲン化されたトリアジン環を備える化合物と、水酸基およびジアジリン基を備える化合物と、を反応させて、ジアジリン基を１つ以上付与されたジアジリン基付与化合物を得る、ジアジリン基付与工程と、前記ジアジリン基付与化合物と、アミノ基および下記式（６）で表されるシランカップリング部位とを備える化合物と、を反応させるシランカップリング部位付与工程と、を備える。

[式（６）中の＊は隣接する炭素原子を表し、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は同一であっても異なっていてもよい。］
＜９＞＜８＞に記載の反応性付与化合物の製造方法は、前記ジアジリン基付与工程において、前記ジアジリン基を２つ付与してもよい。
＜１０＞＜８＞または＜９＞に記載の反応性付与化合物の製造方法は、下記式（１８）の化合物と、３－アミノプロピルトリエトキシシランと、を反応させることで、下記式（４）の化合物を得てもよい。

＜１１＞上記＜８＞または＜９＞に記載の反応性付与化合物の製造方法は、下記式（２０）の化合物と、３－アミノプロピルトリエトキシシランと、を反応させることで、下記式（１３）の化合物を得てもよい。

＜１２＞＜８＞に記載の反応性付与化合物の製造方法は、前記ジアジリン基付与工程において、前記ジアジリン基を１つ付与してもよい。
＜１３＞＜８＞または＜１２＞に記載の反応性付与化合物の製造方法は、下記式（１５）の化合物と、３－アミノプロピルトリエトキシシランと、を反応させることで、下記式（１２）の化合物を得てもよい。

＜１４＞上記＜８＞または＜１２＞に記載の反応性付与化合物の製造方法は、下記式（１７）の化合物と、３－アミノプロピルトリエトキシシランと、を反応させることで、下記式（１４）の化合物を得てもよい。

＜１５＞本発明の一態様に係る積層体は、第１基材と、前記第１基材上に設けられ、上記＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の反応性付与化合物から構成される、反応性付与化合物層と、前記反応性付与化合物層上に設けられる、第２基材と、を備える。

本発明の上記態様によれば、基材の光劣化を抑制し、かつ、高い密着性が得られる反応性付与化合物、反応性付与化合物の製造方法、および積層体を提供することができる。

本発明の実施例に係る反応性付与化合物を用いた積層体の断面模式図である。本発明の実施例に係る反応性付与化合物の推定光吸収スペクトルである。本発明の比較例に係る反応性付与化合物の光吸収スペクトルである。本発明の実施例１に係る反応性付与化合物の光吸収スペクトルである。本発明の実施例２に係る反応性付与化合物の光吸収スペクトルである。参考例１に係る反応性付与化合物に光照射をした際の光吸収スペクトルの変化を示す図である。参考例２に係る反応性付与化合物に光照射をした際の光吸収スペクトルの変化を示す図である。

以下、本発明の実施形態に係る反応性付与化合物について説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されない。

（反応性付与化合物）
本実施形態に係る反応性付与化合物は、１分子内に、下記式（１）で表されるシランカップリング部位と、ジアジリン基と、を備える。下記式（１）中の＊は、隣接する炭素原子を表す。

本実施形態に係る反応性付与化合物は、シランカップリング部位を１以上備える。シランカップリング部位は、加水分解によりシラノール基を生じる部位である。生じたシラノール基は、積層体中の金属層の金属と反応し、密着性を改善する。即ち、本実施形態に係る反応性付与化合物を基材表面に吸着、シラノール基を生じさせることで、金属層との密着性が改善される。金属層との密着性は、反応性付与化合物中のシランカップリング部位が多いほど改善される。金属層との密着性が低い場合は、シランカップリング部位の数を増やすことが好ましい。

上記式（１）中のシランカップリング部位のＲ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、水素原子またはアルキル基を表す。Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基等があげられる。Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３のアルキル基としては、好ましくはメチル基、エチル基である。

本実施形態に係る反応性付与化合物は、ジアジリン基を１以上備える。ジアジリン基は化学的に安定で、長波長側紫外線を照射することで、カルベンが生じる。カルベンは反応性が高く、カルベン近傍の分子と共有結合を形成することができる。そのため、本実施形態に係る反応性付与化合物を基材表面に塗布した後、または反応性付与化合物の溶液に基材を浸漬することで、基材表面に反応性付与化合物を吸着させた後、光を照射することで、基材と反応性付与化合物との間に共有結合を形成することができる。これにより、基材と本実施形態に係る反応性付与化合物との間に高い密着性を得ることができる。さらに、カルベンはアジド基から生じるナイトレンよりも高い密着性を得ることができるので、アジド基を用いた従来の反応性付与化合物よりも高い密着性が得られる。また、ジアジリン基は、アジド基およびカルベンを生じるジアゾメチル基よりも長波長側に吸収帯を有するので、樹脂の光劣化を抑制することができる。基材との密着性は、反応性付与化合物中のジアジリン基の数が多いほど改善される。密着性が低い基材を用いる場合などでは、ジアジリン基の数を増やすことが好ましい。

反応性付与化合物は、下記式（２）で表される化合物であることが好ましい。

上記式（２）中のＸは、トリアジン環またはベンゼン環を表す。Ｘは、シランカップリング部位とジアジリン基との間のスペーサとして機能する。また、上記式（２）中のＸは、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３との結合位置を調整することで、積層体の金属層との吸着に関係するシランカップリング部位と、積層体の基材との吸着に関係するジアジリン基との位置関係を調整することができる。これにより、基材と金属層との密着性を調整することができる。製造の容易性およびジアジリン基とシランカップリング部位との位置関係を調整するために、Ｘはトリアジン環が好ましい。トリアジン環は、１，２，３－トリアジン、１，２，４－トリアジン、および１，３，５－トリアジンのいずれでもよいが、特に１，３，５－トリアジンが好ましい。上記式（２）中のＸがベンゼン環の場合、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３との結合位置は、特に限定されないが、１位、３位、および５位に結合していることが好ましい。Ｘがベンゼン環である場合において、Ｚ^１、Ｚ^２、Ｚ^３以外の部分は、特に限定されず、水素原子でもよいし、水酸基、メチル基など任意の官能基でもよい。

上記式（２）中のＺ^１、Ｚ^２およびＺ^３は、Ｏ、ＮＨ、Ｓ、またはＣＨ_２のいずれか１種であることが好ましい。Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３は、製造の容易性、また、化学的な安定性などからＯまたはＮＨが好ましい。Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３は、それぞれ同一であってもよいし、異なっていてもよい。

ｍ１、ｍ２、ｍ３の整数は、シランカップリング部位とジアジリン基との間のスペーサの長さを表す。ｍ１、ｍ２、ｍ３の数を調整することで、基材とジアジリン基との接触頻度および金属層とシランカップリング部位との接触頻度を調整することができる。上記式（２）中のｍ１、ｍ２、ｍ３は１～１０の整数であることが好ましい。ｍ１、ｍ２、およびｍ３は、１～６の整数が好ましい。ｍ１、ｍ２、ｍ３の整数は、同一であっても異なっていてもよい。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３は、上記式（１）で表されるシランカップリング部位または下記式（３）若しくは（１１）で表されるジアジリン基である。Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３の少なくとも１つは、上記式（１）で表されるシランカップリング部位である。上記式（２）において、シランカップリング部位の数は、１または２である。上記式（２）で表される反応性付与化合物は、シランカップリング部位を少なくとも１つ以上備えるので、反応性付与化合物と金属層との密着性との密着性を改善できる。金属層との密着性をより改善したい場合は、シランカップリング部位の数を２とする。

Ｙ^１、Ｙ^２およびＹ^３の少なくとも１つは、下記式（３）または式（１１）で表されるジアジリン基（ジアジリン含有基）である。上記式（２）において、ジアジリン基の数は、１または２である。上記式（２）で表される反応性付与化合物は、ジアジリン基を少なくとも１つ以上備えるので、反応性付与化合物と基材との間に強固な共有結合を１以上形成することができる。そのため、本実施形態に係る反応性付与化合物は、基材との密着性に優れる。金属層との密着性をより改善したい場合は、ジアジリン基の数を２とする。なお、下記式（３）中の＊は隣接する炭素原子を表す。下記式（３）中のＲ^４は特に限定されず、任意の官能基である。ジアジリン基は、末端付近に存在することで、基材との接触頻度が向上するので、Ｒ^４は、水素原子、メチル基、エチル基、またはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基であることが好ましい。特に、Ｒ^４がトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基であると、光反応効率が向上するので好ましい。

下記式（１１）中の＊は隣接する炭素原子を表す。下記式（１１）中のＲ^５は特に限定されず、任意の官能基である。ジアジリン基は、末端付近に存在することで、基材との接触頻度が向上するので、Ｒ^５は、水素原子、メチル基、エチル基、またはトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基であることが好ましい。特に、Ｒ^５がトリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基であると、光反応効率が向上するので好ましい。下記式（１１）中のＡは、アリーレン基、または２価の複素環基である。当該アリーレン基または２価の複素環基は、水素原子の一部または全部がハロゲン原子、アルキル基などで置換していてもよい。

下記式（１１）中Ａのアリーレン基としては、例えば、１，３－フェニレン基、１，４－フェニレン基、１，４－ナフチレン基、１，５－ナフチレン基、２，６－ナフチレン基などが挙げられる。

下記式（１１）中Ａの２価の複素環基としては、フラン、チオフェン、ピリジンなどの複素環を構成する炭素原子またはヘテロ原子に直接接合している水素原子のうち２個の水素原子を除いた２価の基が挙げられる。

上記式（２）の具体例としては、例えば、下記式（５）で表されるＮ²，Ｎ^４－ビス（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エチル）－Ｎ^６－（（３－トリエトキシシリル）プロピル）－１，３，５－トリアジン－２，４，６－トリアミン、下記式（４）で表される４，６－ビス（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－Ｎ－（（３－トリエトキシシリル）プロピル）－１，３，５－トリアジン－２－アミン、下記式（１２）で表される６－（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－Ｎ^２，Ｎ^４－ビス（３－（トリエトキシシリル）プロピル）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジアミン、下記式（１３）で表されるＮ－（（３－トリエトキシシリル）プロピル）－４，６－ビス（（４－（３－(トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）ベンジル）オキシ）－１，３，５－トリアジン－２－アミン、下記式（１４）で表されるＮ^２，Ｎ^４－ビス（（３－トリエトキシシリル）プロピル）－６－（（４－（３－（トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）ベンジル）オキシ）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジアミンなどが挙げられる。

（反応性付与化合物の作用）
本実施形態に係る反応性付与化合物は、光反応性窒素官能基であるジアジリン基と、シランカップリング部位と、を有するので、光（波長３６０ｎｍ付近）でジアジリン基が光分解して、高反応性の化学種であるカルベン（価電子が６個で電荷を持たない二配位の炭素）を発生する。このカルベンの部位が積層体の基材表面と共有結合を形成する。共有結合を形成後、この反応性付与化合物のシランカップリング部位が基材表面に固定される。シランカップリング部位は、溶媒などに含まれる水分による加水分解によってシラノール基を形成する。よって、この基材にシラノール基を介して他の材料（例えば金属層）と接合することのできる反応性を付与することができる。

従来知られていた、アジド基とトリアジン環とを有する化合物は、光で分解して、アジド基の部位が高反応性の化学種（ナイトレン）を発生する。ここで、アジド基の部位に由来するナイトレンを発生する化合物に対して、本実施形態のカルベンを発生する反応性付与化合物は、より長波長の光で活性化することができる。
また、本実施形態のジアジリン基を有する反応性付与化合物は、アジド基を有していた従来の化合物に対して、接合強度が高い。例えば、反応性付与化合物が付与された樹脂を金属めっきした場合に、本実施形態の反応性付与化合物は、アジド基を有していた従来の化合物よりも金属が剥離しにくい。本開示の反応性付与化合物は、樹脂と金属との接合以外にも、シリコン樹脂同士の接合などの樹脂と樹脂との接合に応用することができる。また、本開示の反応性付与化合物は、樹脂とセラミックス、石英等の無機材料との接合などにも応用することもできる。

（反応性付与化合物の製造方法）
本実施形態の反応性付与化合物は、例えば、トリアジン環またはベンゼン環を備える化合物にシランカップリング部位およびジアジリン基を導入する方法により適宜製造することができる。ここでは、トリハロゲン化されたトリアジン環を例に挙げて説明するが、ベンゼン環の場合も化学反応を利用して合成することができる。トリハロゲン化されたトリアジン環とは、トリアジン環の水素原子が３つハロゲンで置換されているものをいう。置換されているハロゲンとしては、塩素が好ましい。トリハロゲン化されたトリアジン環を備える化合物としては、塩化シアヌル、３，５，６－トリクロロ－１，２，４－トリアジン、４，５，６－トリクロロ－１，２，３－トリアジンが挙げられる。

本実施形態に係る反応性付与化合物の製造方法は、トリハロゲン化されたトリアジン環を備える化合物と、水酸基およびジアジリン基を備える化合物と、を反応させて、ジアジリン基付与化合物を得る、ジアジリン基付与工程と、ジアジリン基付与化合物とアミノ基および下記式（６）で表されるシランカップリング部位とを備える化合物と、を反応させるシランカップリング部位付与工程と、を備える。下記式（６）中の＊は、隣接する炭素原子を表す。ここでは、トリハロゲン化されたトリアジン環を備える化合物として、１，３，５－トリアジンが塩素化された塩化シアヌルを用いた例を説明するが、トリハロゲン化された他のトリアジン環を備える化合物の場合も同様の反応で、本実施形態に係る反応性付与化合物を得ることができる。

＜ジアジリン基付与工程＞
ジアジリン基付与工程では、塩化シアヌルと水酸基およびジアジリン基を備える化合物と、を反応させて、ジアジリン基付与化合物を得る。水酸基およびジアジリン基を備える化合物としては、例えば、２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エタノール、２－（３－ブチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エタノール、２－（３－ペンチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エタノール、（４－（３－(トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）フェニル）メタノールなどが挙げられる。

２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エタノールを用いた場合の合成を以下に説明する。ジアジリン基を１つ付与する場合は、例えば、下記の式（７）の反応が挙げられる。下記の式（７）中のｂａｓｅは塩基を示し、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、トリエチルアミンなどを用いることができる。下記式（７）の反応で、下記式（１５）の２，４－ジクロロ－６－（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－１，３，５－トリアジンを得ることができる。

（４－（３－(トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）フェニル）メタノールを用いた場合の合成を以下に説明する。ジアジリン基を１つ付与する場合は例えば、下記の式（１６）の反応が挙げられる。下記の式（１６）中のｂａｓｅは塩基を示し、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、トリエチルアミンなどを用いることができる。下記式（１６）の反応で、下記式（１７）の２，４－ジクロロ－６－（（４－（３－(トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）ベンジル）オキシ）－１，３，５－トリアジンを得ることができる。反応時の温度は例えば、室温（２０℃～３０℃）である。

ジアジリン基を２つ付与する場合、反応は例えば、下記の式（８）が挙げられる。下記の式（８）中のｂａｓｅは塩基を示し、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、トリエチルアミンなどを用いることができる。下記式（８）の反応で、下記式（１８）の２－クロロ－４，６－ビス（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－１，３，５－トリアジンを得ることができる。トリアジン環に付与するジアジリン基の数はジアジリン基付与時の反応温度で制御することができる。１つだけ付与する場合は例えば、反応時の温度を室温とし、２つ付与する場合は、反応時の温度を例えば、４０～５０℃とする。反応温度は適宜設定することができる。

（４－（３－(トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）フェニル）メタノールを用いてジアジリン基を２つ付与する場合、反応は下記の式（１９）の通りとなる。下記の式（１９）中のｂａｓｅは塩基を示し、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、トリエチルアミンなどを用いることができる。下記式（１９）の反応で、下記式（２０）の２－クロロ－４，６－ビス（（４－（３－(トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）ベンジル）オキシ）－１，３，５－トリアジンを得ることができる。トリアジン環に付与するジアジリン基の数はジアジリン基付与時の反応温度や配合比で制御することができる。

＜シランカップリング部位付与工程＞
シランカップリング部位付与工程では、上記のジアジリン基付与工程で得られたジアジリン基付与化合物と、アミノ基および上記式（６）で表されるシランカップリング部位を備える化合物と、を反応させる。このシランカップリング部位付与工程を経て、本実施形態に係る反応性付与化合物を得ることができる。

上記式（６）中のシランカップリング部位のＲ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、水素原子またはアルキル基を表す。Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい。Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基等があげられる。Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３のアルキル基としては、好ましくはメチル基、エチル基である。

アミノ基および上記式（６）で表されるシランカップリング部位を備える化合物の例としては、３－アミノプロピルトリエトキシシラン、３－アミノプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。

上記式（７）で合成した２，４－ジクロロ－６－（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－１，３，５－トリアジンと３－アミノプロピルトリエトキシシランとの反応例を下記式（９）に示す。下記式（９）において、ｂａｓｅは塩基を示し、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、トリエチルアミンなどを用いることができる。下記式（９）の反応を経て、上記式（１２）の６－（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－Ｎ^２，Ｎ^４－ビス（３－（トリエトキシシリル）プロピル）－１，３，５－トリアジン―２，４－ジアミンを得ることができる。

上記式（８）で合成した２－クロロ－４，６－ビス（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－１，３，５－トリアジンと３－アミノプロピルトリエトキシシランとの反応例を下記式（１０）に示す。下記式（１０）において、ｂａｓｅは塩基を示し、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、トリエチルアミンなどを用いることができる。下記式（１０）の反応を経て、上記式（４）の４，６－ビス（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－Ｎ－（（３－トリエトキシシリル）プロピル）－１，３，５－トリアジン－２－アミンを得ることができる。

上記式（１６）で合成した２，４－ジクロロ－６－（（４－（３－(トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）ベンジル）オキシ）－１，３，５－トリアジンと３－アミノプロピルトリエトキシシランとの反応例を下記式（２１）に示す。下記式（２１）において、ｂａｓｅは塩基を示し、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、トリエチルアミンなどを用いることができる。下記式（２１）の反応を経て、上記式（１４）のＮ^２，Ｎ^４－ビス（（３－トリエトキシシリル）プロピル）－６－（（４－（３－（トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）ベンジル）オキシ）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジアミンを得ることができる。

上記式（１９）で合成した２－クロロ－４，６－ビス（（４－（３－(トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）ベンジル）オキシ）－１，３，５－トリアジンと３－アミノプロピルトリエトキシシランとの反応例を下記式（２２）に示す。下記式（２２）において、ｂａｓｅは塩基を示し、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、トリエチルアミンなどを用いることができる。下記式（２２）の反応を経て、上記式（１３）のＮ－（（３－トリエトキシシリル）プロピル）－４，６－ビス（（４－（３－(トリフルオロメチル）－３H－ジアジリン－３－イル）ベンジル）オキシ）－１，３，５－トリアジン－２－アミンを得ることができる。

（積層体）
本実施形態に係る反応性付与化合物を用いた積層体の一例を次に説明する。図１に示すように、本発明の実施形態に係る積層体１００は、基材（第１基材）１、反応性付与化合物層２、および金属層（第２基材）３を備える。以下、各部について説明する。

（基材）
基材１としては、セラミックスなどの無機材料、または樹脂などが挙げられる。基材１の形態は、特に限定されず、板状でもよいし、粒状でもよい。基材１は第１基材の例である。

樹脂としては、硬化性樹脂（例えば、熱硬化性樹脂、光硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂）、熱可塑性樹脂、繊維強化樹脂、ゴム（加硫ゴム）、または、表面にこれらのポリマーを含む塗膜等が設けられた他の材質であっても良い。樹脂としては、具体的には、アクリロニトリルブタジエンスチレン（ＡＢＳ）樹脂が挙げられる。ＡＢＳ樹脂は、車両の部品等に用いられ、表面に金属めっきを施されることで、ＡＢＳと金属との接合した部位を有する積層体に用いられる。また、回路用の樹脂としては、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂、または、液晶ポリマー、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、フッ素系樹脂、ポリフェニレンサルファイド(ＰＰＳ)などが挙げられる。

積層体１００をプリント配線基板として用いる場合、配線のハンダ付けなどにおいて積層体１００には熱負荷が加わる。また、積層体１００を電子製品の可動部分に用いる場合には、十分な機械的強度が必要である。そのため、耐熱性、機械的強度および寸法安定性の点で優れた性質を持つポリイミド樹脂が好ましい。

基材１の無機材料として、例えば、酸化ケイ素を含有する材質が挙げられる。その他、電子機器の部品、回路基板には無機および有機の各種素材を含む基板があり、表面に金属めっき等で回路が形成されることで、積層体として用いられる。

基材１の樹脂には機械的強度の改善などの目的に応じ、タルクなどの無機粒子、滑剤、帯電防止剤などが含有されていてもよい。

積層体１００をプリント配線基板として用いる場合、その厚さは、特に限定されないが、例えば、基材１をフレキシブル配線基板に用いる場合は、基材１の厚さは１μｍ以上、２００μｍ以下であることが好ましい。基材１の厚さが１μｍ未満の場合は、基材１の機械的強度の不足する可能性があるので好ましくない。基材１の厚さは、より好ましくは３μｍ以上である。またフィルムの厚さが２００μｍを超えると、折り曲げ性が低下する場合があるので、好ましくない。基材１の厚さは、より好ましくは１５０μｍ以下である。

積層体１００をプリント配線基板として用いる場合、基材１の算術平均粗さＲａは、例えば、０．０１～１μｍである。算術平均粗さＲａが０．０１μｍ～１μｍの間であれば、回路の微細化にも対応できる。また、算術平均粗さＲａが０．２μｍ以下であれば、高周波域での伝送損失を低減できる。算術平均粗さＲａは、ＪＩＳＢ０６０１：２０１３に従って、測定することができる。

（反応性付与化合物層２）
反応性付与化合物層２は、基材１上に設けられ、本実施形態に係る反応性付与化合物から構成される。ここで、「基材１上に設けられ」には、基材１の表面に接するように反応性付与化合物層２を設けることだけでなく、基材１と反応性付与化合物層２との間に中間層を設けることも含まれる。また、基材１の表面に部分的に設けることも含まれる。

反応性付与化合物層２の厚さは、基材１の全面を覆っていれば、特に限定されない。反応性付与化合物層２の厚さは、例えば、反応性付与化合物層２を構成する反応性付与化合物の単分子の厚さ以上（単分子層以上）であればよい。反応性付与化合物層２の厚さの上限は特に限定されないが、例えば、４００ｎｍ以下である。

（金属層）
金属層３は、反応性付与化合物層２上に設けられる。金属層３としては、銀、スズ、銅、銅合金などから構成される。積層体１００がプリント基板の場合は、金属層３を構成する金属としては、電力損失、伝送損失の観点から導電率の高い銅および銅合金が好ましい。金属層は第２基材の例である。

金属層の厚さは、特に限定されないが、例えば、０．１μｍ～５０μｍである。より好ましくは、金属層の厚さは２μｍ～１０μｍである。金属層の厚さが０．１μｍ～５０μｍであれば、十分な機械的強度が得られる。

以上、本実施形態に係る積層体１００について説明した。本実施形態では、第２基材として、金属層３を例に挙げて説明したが、本発明の第２基材は金属層３に限定されない。例えば、第２基材として、金属層の代わりに、液晶ポリマー、エポキシ樹脂、シリコン樹脂などからなる樹脂基材を用いてもよい。また、第２基材として、金属層の代わりに、セラミックス、石英などからなる無機基材を用いてもよい。また、本実施形態では、第２基材として金属層を用いた例を挙げたが、反応性付与化合物を介し、第１基材と第２基材とを接合することができれば、第２基材の形状は層状に限定されない。本開示の積層体の第１基材と第２基材との組み合わせは、例えば、樹脂とセラミックスなどの無機材料との組み合わせ、樹脂と金属との組み合わせ、セラミックスなどの無機材料と金属との組み合わせ、または、同種・異種の樹脂の組み合わせなどが可能である。

（積層体の製造方法）
以下に、本実施形態に係る積層体の製造方法を説明するが、本実施形態に係る積層体の製造方法は以下の方法に限定されない。

本実施形態に係る積層体を製造する際は、まず、基材（第１基材）１上に本実施形態に係る反応性付与化合物からなる反応性付与化合物層２を形成する。反応性付与化合物層２を形成する方法は、特に限定されない。例えば、反応性付与化合物を含む溶液を基材１の表面に塗布して反応性付与化合物層２を形成してもよい。または、反応性付与化合物を含む溶液に基材１を浸漬することで、反応性付与化合物層２を形成してもよい。

反応性付与化合物を含む溶液を用いる場合、溶媒としては水、有機溶媒等を適宜選択できる。具体的には、水、アルコール、ケトン、芳香族炭化水素、エステルまたはエーテル等であってもよい。溶媒に対して反応性付与化合物は溶解せず分散していてもよい。溶液を用いた場合は、自然乾燥や加熱等によって溶液中の溶媒を揮散させてもよい。

反応性付与化合物を含む溶液には増幅剤を添加してもよい。増幅剤としては、他の結合に寄与する化合物、例えばシランカップリング剤が挙げられ、光増感剤、例えばベンゾフェノン等が挙げられる。

基材１上に反応性付与化合物層２を形成後、エネルギーを与えることで、反応性付与化合物のジアジリン基からカルベンを生じさせる。このカルベンと基材１とが反応することで、反応性付与化合物層２と基材１との間に高い密着性が得られる。

エネルギーを与える手段としては、例えば光を照射することで行うことができる。本実施形態の反応性付与化合物のジアジリン基は、広い範囲の波長に反応して活性化するが、光による劣化を抑制するために、光は長波長側のものであることが好ましい。具体的には、３００ｎｍ以上の波長であることが好ましく、４５０ｎｍ以下の波長であることが好ましい。光の照射には、既存の光照射装置が適宜使用できる。この際、活性化の効果を高めるために照射の前に反応性付与化合物層２を形成した基材１を加熱してもよい。

反応性付与化合物層２にエネルギーを与え、基材１と反応性付与化合物層２との間の密着性を改善した後に、金属層（第２基材）３を設ける。めっき等により金属層３を設けてもよい。めっきの方法としては、乾式めっき（蒸着やスパッタ）による手法と、湿式めっきによる手法を適宜選択でき、両者を併用してもよい。金属層３を形成する際には、金属薄膜の形成には、無電解めっきや電気めっきと言った湿式めっきを使用することが好ましい。金属層３の形成前に、従来知られているめっき工程の前処理の工程を適宜適用することもできる。また、第２基材として、樹脂基材または無機基材などを反応性付与化合物層２の上に形成する場合は、公知の方法を用いることができる。

次に、本発明の実施例について説明するが、実施例での条件は、本発明の実施可能性および効果を確認するために採用した一条件例であり、本発明は、この一条件例に限定されるものではない。本発明は、本発明の要旨を逸脱せず、本発明の目的を達成する限りにおいて、種々の条件を採用し得るものである。

（試験条件）
試料の合成および合成した試料についての分析には、以下の機器、試薬を用いた。
・分析機器
核磁気共鳴スペクトル：ＪＥＯＬＪＮＭ－ＥＣＡ５００ＮＭＲ測定装置（５００ＭＨｚ）
質量分析：ＪＥＯＬＪＭＳ－７００質量分析装置
・試薬
各種試薬：市販のものを用い必要に応じて定法により精製した。なお、２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エタノールは、ａｍａｄｉｓｃｈｅｍｉｃａｌから購入した。（４－（３－(トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）フェニル）メタノールは東京化成工業から購入した。
各種反応溶媒：必要に応じて定法により乾燥・精製した。
シリカゲル：Ｗａｋｏ－ｇｅｌＣ－２００（和光純薬）、シリカゲル６０Ｎ（関東化学）

以下、試料の合成方法を説明する。

（実施例１）
１０ｍＬ枝付きフラスコをアルゴン雰囲気下とし、脱水ＴＨＦ（１．１ｍＬ），２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エタノール（０．３９ｍＬ，４．０７ｍｍｏｌ，２．５０ｅｑ．）およびジイソプロピルエチルアミン（０．５４ｍＬ，４．０７ｍｍｏｌ，２．５０ｅｑ．）を加えた後、０℃に冷却した。脱水ＴＨＦ（０．７２ｍＬ）に溶かした塩化シアヌル（０．３０７ｇ，１．６３ｍｍｏｌ，１．００ｅｑ．）を加え、遮光下で１時間撹拌した。室温（２０～３０℃）まで昇温した後、遮光下で１６時間撹拌した。撹拌後、水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過した後、溶媒除去、真空乾燥を行うことで粗生成物として黄色液体（０．６５４ｇ）を得た。粗生成物をヘキサン：クロロホルム＝１：１を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて分離精製することで２，４－ジクロロ－６－（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－１，３，５－トリアジン（０．２９２ｇ，１．１８ｍｍｏｌ，７２％）を黄色液体として得た。

得られた化合物（２，４－ジクロロ－６－（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－１，３，５－トリアジン）の核磁気共鳴スペクトル分析および質量分析の結果を下記に示す。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ １．１４（ｓ，３Ｈ，ＣＨ_３），１．８８（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ_２），４．４３（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ_２）；
^１３ＣＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ２０．１，２３．７，３３．６，６５．４，１７０．８，１７２．７；
ＦＡＢ－ＭＳ：ｍ／ｚ２４８［（Ｍ＋Ｈ）^＋］．

次に、５０ｍＬ枝付きフラスコに２，４－ジクロロ－６－（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－１，３，５－トリアジン（０．５００ｇ，２．０２ｍｍｏｌ，１．００ｅｑ．）を入れ、アルゴン雰囲気下とした。脱水１，４－ジオキサン（１０．１ｍＬ），３－アミノプロピルトリエトキシシラン（０．８６ｍＬ，３．６９ｍｍｏｌ，１．８３ｅｑ．）およびジイソプロピルエチルアミン（０．８１ｍＬ，４．７６ｍｍｏｌ，２．３６ｅｑ．）を加え、６５℃まで昇温した後、遮光下で3時間撹拌した。撹拌後、水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過した後、溶媒除去、真空乾燥を行うことで粗生成物として無色液体（１．０４ｇ）を得た。粗生成物をクロロホルム：酢酸エチル＝３：１を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて分離精製することで実施例１の６－（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－Ｎ^２，Ｎ^４－ビス（３－（トリエトキシシリル）プロピル）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジアミン（０．４７６ｇ，０．７７０ｍｍｏｌ，３８％）を無色液体として得た。

得られた化合物（６－（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－Ｎ^２，Ｎ^４－ビス（３－（トリエトキシシリル）プロピル）－１，３，５－トリアジン―２，４－ジアミン）の核磁気共鳴スペクトル分析および質量分析の結果を下記に示す。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ０．６６（ｂｒｔ，４Ｈ，ＣＨ_２），１．０９（ｓ，３Ｈ，ＣＨ_３），１．２３（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１８Ｈ，ＣＨ_３），１．６７（ｂｒｓ，４Ｈ，ＣＨ_２），１．７７（ｂｒｓ，２Ｈ，ＣＨ_２），３．３３ａｎｄ３．４０（ｅａｃｈｂｒｓ，ｔｏｔａｌ４Ｈ，ＣＨ_２），３．８２（ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１２Ｈ，ＣＨ_２），４．１３ａｎｄ４．２０（ｅａｃｈｂｒｓ，ｔｏｔａｌ２Ｈ，ＣＨ_２），５．１４ａｎｄ５．２４（ｂｒｓ，２Ｈ，ＮＨ）；
^１３ＣＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ７．７５，１８．４，２０．１，２３．０，２４．１，３４．１，４３．３，５８．５，６１．４，１６．３，１７０．０；
ＨＲ－ＦＡＢ－ＭＳ：ｍ／ｚｃａｌｃｄｆｏｒＣ_２５Ｈ_５２Ｎ_７Ｏ_７Ｓｉ_２［（Ｍ＋Ｈ）^＋］：６１８．３４６７；Ｆｏｕｎｄ：６１８．３４７１．

(実施例２）
１０ｍＬ枝付きフラスコをアルゴン雰囲気下とし、脱水ＴＨＦ（１．１ｍＬ），２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エタノール（０．３９ｍＬ，４．０７ｍｍｏｌ，２．５０ｅｑ．）およびジイソプロピルエチルアミン（０．５４ｍＬ，４．０７ｍｍｏｌ，２．５０ｅｑ．）を加えた後、０℃に冷却した。脱水ＴＨＦ（０．７２ｍＬ）に溶かした塩化シアヌル（０．３０８ｇ，１．６３ｍｍｏｌ，１．００ｅｑ．）を加え、遮光下で１時間撹拌した。４０℃まで昇温した後、遮光下で１７時間撹拌した。撹拌後、水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過した後、溶媒除去、真空乾燥を行うことで粗生成物黄色液体（０．５８２ｇ）を得た。粗生成物をヘキサン：クロロホルム＝１：１を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて分離精製することで２－クロロ－４，６－ビス（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－１，３，５－トリアジン（０．２２７ｇ，０．７２８ｍｍｏｌ，４５％）を黄色液体として得た。

得られた化合物（２－クロロ－４，６－ビス（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－１，３，５－トリアジン）の核磁気共鳴スペクトル分析および質量分析の結果を下記に示す。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ １．１３（ｓ，６Ｈ，ＣＨ_３），１．８５（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，４Ｈ，ＣＨ_２），４．３７（ｔ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，４Ｈ，ＣＨ_２）；
^１３ＣＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ２０．２，２３．８，３３．８，６４．４，１７１．９，１７２．９；
ＦＡＢ－ＭＳ：ｍ／ｚ３１２［（Ｍ＋Ｈ）^＋］．

次に、５０ｍＬ枝付きフラスコに２－クロロ－４，６－ビス（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－１，３，５－トリアジン（０．３９６ｇ，１．２７ｍｍｏｌ，１．００ｅｑ．）を入れ、アルゴン雰囲気下とした。脱水１，４－ジオキサン（８．５ｍＬ），３－アミノプロピルトリエトキシシラン（０．３４ｍＬ，１．４６ｍｍｏｌ，１．１５ｅｑ．）およびジイソプロピルエチルアミン（０．３３ｍＬ，１．９４ｍｍｏｌ，１．５３ｅｑ．）を加え、６５℃まで昇温した後、遮光下で３時間撹拌した。撹拌後、水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過した後、溶媒除去、真空乾燥を行うことで粗生成物として黄色液体（０．６４５ｇ）を得た。粗生成物をクロロホルム：酢酸エチル＝４：１を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて分離精製することで実施例２の４，６－ビス（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－Ｎ－（（３－トリエトキシシリル）プロピル）－１，３，５－トリアジン－２－アミン（０．５０１ｇ，１．０１ｍｍｏｌ，８０％）を黄色液体として得た。

得られた化合物（４，６－ビス（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－Ｎ－（（３－トリエトキシシリル）プロピル）－１，３，５－トリアジン－２－アミン）の核磁気共鳴スペクトル分析および質量分析の結果を下記に示す。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ０．６７（ｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ_２），１．１０（ｓ，３Ｈ，ＣＨ_３），１．１１（ｓ，３Ｈ，ＣＨ_３），１．２３（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，９Ｈ，ＣＨ_３），１．７１（ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ_２），１．７９（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ_２），１．８１（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ_２），３．４４（ｑ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ_２），３．８３（ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，６Ｈ，ＣＨ_２），４．２２（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ_２），４．２８（ｔ，Ｊ＝６．３Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ_２），５．８０（ｂｒｔ，１Ｈ，ＮＨ）；
^１３ＣＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ７．７３，１８．４，２０．１２，２０．１４，２２．９，２３．９７，２４．０１，３３．９，４３．５，５８．５，６２．３，６２．４，１６８．１，１７１．３，１７１．９；
ＨＲ－ＦＡＢ－ＭＳ：ｍ／ｚｃａｌｃｄｆｏｒＣ_２０Ｈ_３７Ｎ_８Ｏ_５Ｓｉ［（Ｍ＋Ｈ）^＋］：４９７．２６５６；Ｆｏｕｎｄ：４９７．２６５２．

（実施例３）
５０ｍＬ枝付きフラスコに塩化シアヌル（１．００ｇ，５．４２ｍｍｏｌ，１．００ｅｑ．）を入れ、アルゴン雰囲気下とした。脱水塩化メチレン（９．５ｍＬ）に溶解させた後、０℃に冷却した。脱水塩化メチレン（５．４ｍＬ）に溶かした（４－（３－(トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）フェニル）メタノール（１．１７ｇ，５．４１ｍｍｏｌ，１．００ｅｑ．）とジイソプロピルエチルアミン（１．０１ｍｌ，５．９４ｍｍｏｌ，１．１０ｅｑ．）を加え、遮光下で１時間撹拌した。室温（２０～３０℃）まで昇温した後、遮光下で１．５時間撹拌した。撹拌後、水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過した後、溶媒除去、真空乾燥を行うことで粗生成物として黄色液体（１．８８ｇ）を得た。粗生成物をヘキサン：クロロホルム＝１：４を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて分離精製することで２，４－ジクロロ－６－（（４－（３－(トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）ベンジル）オキシ）－１，３，５－トリアジン（１．４５ｇ，３．９８ｍｍｏｌ，７３％）を黄色液体として得た。

得られた化合物（２，４－ジクロロ－６－（（４－（３－(トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）ベンジル）オキシ）－１，３，５－トリアジン）の核磁気共鳴スペクトル分析および質量分析の結果を下記に示す。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ５．５３（ｓ，２Ｈ，ＣＨ_２），７．２３（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ，ｂｅｎｚｅｎｅ－Ｈ），７．５１（ｄ，Ｊ＝８．６Ｈｚ，２Ｈ，ｂｅｎｚｅｎｅ－Ｈ）；
^１３ＣＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ２８．４（ｑ，Ｊ＝４０．９Ｈｚ），７０．７，１２２．１（ｑ，Ｊ＝２７５Ｈｚ），１２７．０，１２８．９，１３０．０，１３５．５，１７０．８，１７２．８；
^１９ＦＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ －６５．０；
ＨＲ－ＦＡＢ－ＭＳ：ｍ／ｚｃａｌｃｄｆｏｒＣ_１２Ｈ_７Ｃｌ_２Ｆ_３Ｎ_５Ｏ［（Ｍ＋Ｈ）^＋］：３６３．９９８０；Ｆｏｕｎｄ：３６３．９９７２．

次に、２０ｍＬ枝付きフラスコに２，４－ジクロロ－６－（（４－（３－(トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）ベンジル）オキシ）－１，３，５－トリアジン（０．３００ｇ，０．８２４ｍｍｏｌ，１．００ｅｑ．）を入れ、アルゴン雰囲気下とした。脱水１，４－ジオキサン（６．０４ｍＬ），３－アミノプロピルトリエトキシシラン（０．４４ｍＬ，１．８９ｍｍｏｌ，２．２９ｅｑ．）およびジイソプロピルエチルアミン（０．４２ｍＬ，２．４７ｍｍｏｌ，３．００ｅｑ．）を加え、６５℃まで昇温した後、遮光下で3時間撹拌した。撹拌後、水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過した後、溶媒除去、真空乾燥を行うことで粗生成物として黄色液体（０．３６０ｇ）を得た。粗生成物をクロロホルム：酢酸エチル＝４：１を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて分離精製することで実施例３のＮ^２，Ｎ^４－ビス（（３－トリエトキシシリル）プロピル）－６－（（４－（３－(トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）ベンジル）オキシ）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジアミン（０．１６０ｇ，０．２１８ｍｍｏｌ，２６％）を黄色液体として得た。

得られた化合物（Ｎ^２，Ｎ^４－ビス（（３－トリエトキシシリル）プロピル）－６－（（４－（３－(トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）ベンジル）オキシ）－１，３，５－トリアジン－２，４－ジアミン）の核磁気共鳴スペクトル分析および質量分析の結果を下記に示す。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ０．６５ａｎｄ０．６６（ｅａｃｈｂｒｔ，ｔｏｔａｌ４Ｈ，ＣＨ_２），１．２２（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１８Ｈ，ＣＨ_３），１．６８（ｂｒｓ，４Ｈ，ＣＨ_２），３．３３ａｎｄ３．３９（ｅａｃｈｂｒｓ，ｔｏｔａｌ４Ｈ，ＣＨ_２），３．８２（ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，１２Ｈ，ＣＨ_２），５．１４，５．２３ａｎｄ５．２９（ｅａｃｈｂｒｓ，ｔｏｔａｌ２Ｈ，ＮＨ），５．３３（ｂｒｓ，２Ｈ，ＣＨ_２），７．１６（ｄ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ，ｂｅｎｚｅｎｅ－Ｈ），７．４３－７．４８（ｂｒｍ，２Ｈ，ｂｅｎｚｅｎｅ－Ｈ）；
^１３ＣＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ７．７５，１８．４，２３．０，２３．１，２８．４（ｑ，Ｊ＝４０．９Ｈｚ），４３．４，５８．５，６６．８，６７．０，６７．２，１２２．２（ｑ，Ｊ＝２７５Ｈｚ），１２６．５，１２７．９，１２８．３，１２８．４，１２８．５，１３８．９，１６６．８，１６７．３，１６７．６，１７０．０，１７０．４；
^１９ＦＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ －６５．２．

（実施例４）
５０ｍＬ枝付きフラスコに塩化シアヌル（１．００ｇ，５．４２ｍｍｏｌ，１．００ｅｑ．）を入れ、アルゴン雰囲気下とした。脱水塩化メチレン（９．５ｍＬ）に溶解させた後、０℃に冷却した。脱水塩化メチレン（５．４ｍＬ）に溶かした（４－（３－(トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）フェニル）メタノール（２．４２ｇ，１１．９ｍｍｏｌ，２．２０ｅｑ．）とジイソプロピルエチルアミン（２．０２ｍｌ，１１．９ｍｍｏｌ，２．２０ｅｑ．）を加え、遮光下で１時間撹拌した。室温（２０～３０℃）まで昇温した後、遮光下で１６時間撹拌した。撹拌後、水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過した後、溶媒除去、真空乾燥を行うことで粗生成物として黄色固体（３．３２ｇ）を得た。粗生成物をヘキサン：クロロホルム＝１：４を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて分離精製することで２－クロロ－４，６－ビス（（４－（３－(トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）ベンジル）オキシ）－１，３，５－トリアジン（２．４６ｇ，４．５２ｍｍｏｌ，８３％）を白色固体として得た。

得られた化合物（２－クロロ－４，６－ビス（（４－（３－(トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）ベンジル）オキシ）－１，３，５－トリアジン）の核磁気共鳴スペクトル分析および質量分析の結果を下記に示す。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ５．４７（ｓ，４Ｈ，ＣＨ_２），７．２１（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，４Ｈ，ｂｅｎｚｅｎｅ－Ｈ），７．４７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，４Ｈ，ｂｅｎｚｅｎｅ－Ｈ）；
^１３ＣＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ２８．４（ｑ，Ｊ＝４０．９Ｈｚ），６９．８，１２２．１（ｑ，Ｊ＝２７５Ｈｚ），１２６．９，１２８．７，１２９．７，１３６．３，１７２．０，１７３．０；
^１９ＦＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ －６５．０．
ＨＲ－ＦＡＢ－ＭＳ：ｍ／ｚｃａｌｃｄｆｏｒＣ_２１Ｈ_１３ＣｌＦ_６Ｎ_７Ｏ_２［（Ｍ＋Ｈ）^＋］：５４４．０７２３；Ｆｏｕｎｄ：５４４．０７２２．

次に、２０ｍＬ枝付きフラスコに２－クロロ－４，６－ビス（（４－（３－（トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）ベンジル）オキシ）－１，３，５－トリアジン（０．２６６ｇ，０．４８９ｍｍｏｌ，１．００ｅｑ．）を入れ、アルゴン雰囲気下とした。脱水１，４－ジオキサン（５．３５ｍＬ），３－アミノプロピルトリエトキシシラン（０．１２ｍＬ，０．５１５ｍｍｏｌ，１．０５ｅｑ．）およびジイソプロピルエチルアミン（０．１２ｍＬ，０．７０６ｍｍｏｌ，１．４４ｅｑ．）を加え、６５℃まで昇温した後、遮光下で３時間撹拌した。撹拌後、水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過した後、溶媒除去、真空乾燥を行うことで粗生成物として黄色液体（０．３３９ｇ）を得た。粗生成物をクロロホルム：酢酸エチル＝４：１を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて分離精製することでＮ－（（３－トリエトキシシリル）プロピル）－４，６－ビス（（４－（３－（トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）ベンジル）オキシ）－１，３，５－トリアジン－２－アミン（０．２４３ｇ，０．３３３ｍｍｏｌ，６８％）を黄色液体として得た。

得られた化合物（Ｎ－（（３－トリエトキシシリル）プロピル）－４，６－ビス（（４－（３－（トリフルオロメチル）－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）ベンジル）オキシ）－１，３，５－トリアジン－２－アミン）の核磁気共鳴スペクトル分析および質量分析の結果を下記に示す。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ０．６４（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ_２），１．２２（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，９Ｈ，ＣＨ_３），１．６９（ｑｕｉｎｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ_２），３．４１（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ_２），３．８２（ｑ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，６Ｈ，ＣＨ_２），５．３６（ｓ，２Ｈ，ＣＨ_２），５．３９（ｓ，２Ｈ，ＣＨ_２），５．９１（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，１Ｈ，ＮＨ），７．１８（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，４Ｈ，ｂｅｎｚｅｎｅ－Ｈ），７．４３（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，２Ｈ，ｂｅｎｚｅｎｅ－Ｈ），７．４６（ｄ，Ｊ＝７．９Ｈｚ，２Ｈ，ｂｅｎｚｅｎｅ－Ｈ）；
^１３ＣＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ７．７３，１８．４，２２．８，２８．４（ｑ，Ｊ＝４０．９Ｈｚ），４３．５，５８．６，６７．８，６８．１，１２２．１（ｑ，Ｊ＝２７５Ｈｚ），１２６．６，１２８．２，１２８．５，１２８．９，１２９．０，１３８．０，１６８．１，１７１．３，１７１．９；
^１９ＦＮＭＲ（４７１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ －６５．１．

（参考例１）
１０ｍＬ枝付きフラスコに２，４－ジクロロ－６－（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－１，３，５－トリアジン（０．１１０ｇ，０．４４３ｍｍｏｌ，１．００ｅｑ．）を入れ、アルゴン雰囲気下とした。脱水１，４－ジオキサン（２．２１ｍＬ），プロピルアミン（０．０８ｍＬ，０．９７４ｍｍｏｌ，２．２０ｅｑ．およびジイソプロピルエチルアミン（０．２３ｍＬ，１．３５ｍｍｏｌ，３．０５ｅｑ．）を加え、６５℃まで昇温した後、遮光下で３時間撹拌した。撹拌後、水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過した後、溶媒除去、真空乾燥を行うことで粗生成物として白色固体（０．１５２ｇ）を得た。粗生成物をクロロホルムを展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて分離精製することで６－（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－Ｎ^２，Ｎ^４－ジプロピル－１，３，５－トリアジン－２，４－ジアミン（０．１３０ｇ，０．４４３ｍｍｏｌ，１００％）を白色固体として得た。

得られた化合物（６－（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－Ｎ^２，Ｎ^４－ジプロピル－１，３，５－トリアジン－２，４－ジアミン）の核磁気共鳴スペクトル分析および質量分析の結果を下記に示す。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ０．９５（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ，ＣＨ_３），１．０９（ｓ，３Ｈ，ＣＨ_３），１．５８（ｂｒｓｅｘｔ，４Ｈ，ＣＨ_２），１．７４ａｎｄ１．７８（ｂｒｔａｎｄｂｒｓ，ｔｏｔａｌ２Ｈ，ＣＨ_２），３．３０ａｎｄ３．３６（ｅａｃｈｂｒｓ，ｔｏｔａｌ４Ｈ，ＣＨ_２），４．１３ａｎｄ５．０７（ｅａｃｈｂｒｓ，ｔｏｔａｌ２Ｈ，ＮＨ）；
^１３ＣＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ １１．５，２０．２，２３．０，２４．１，３４．１，４２．７，６１．３，６１．４，１６６．９，１６７．３，１７０．３；
ＨＲ－ＦＡＢ－ＭＳ：ｍ／ｚｃａｌｃｄｆｏｒＣ_１３Ｈ_２４Ｎ_７Ｏ［（Ｍ＋Ｈ）^＋］：２９４．２０４２；Ｆｏｕｎｄ：２９４．２０４４．

（参考例２）
２０ｍＬ枝付きフラスコに２－クロロ－４，６－ビス（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－１，３，５－トリアジン（０．２８０ｇ，０．８９８ｍｍｏｌ，１．００ｅｑ．）を入れ、アルゴン雰囲気下とした。脱水１，４－ジオキサン（５．５８ｍＬ），プロピルアミン（０．０９ｍＬ，１．１０ｍｍｏｌ，１．２２ｅｑ．）およびジイソプロピルエチルアミン（０．２３ｍＬ，１．３５ｍｍｏｌ，１．５０ｅｑ．）を加え、６５℃まで昇温した後、遮光下で3時間撹拌した。撹拌後、水を加え、ジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過した後、溶媒除去、真空乾燥を行うことで粗生成物として白色固体（０．３００ｇ）を得た。粗生成物をクロロホルムを展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて分離精製することで４，６－ビス（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－Ｎ－プロピル－１，３，５－トリアジン－２－アミン（０．２９１ｇ，０．８７０ｍｍｏｌ，９７％）を白色固体として得た。

得られた化合物（４，６－ビス（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－Ｎ－プロピル－１，３，５－トリアジン－２－アミン）の核磁気共鳴スペクトル分析および質量分析の結果を下記に示す。
^１ＨＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ０．９６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ，ＣＨ_３），１．１０（ｓ，３Ｈ，ＣＨ_３），１．１１（ｓ，３Ｈ，ＣＨ_３），１．６１（ｓｅｘｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ_２），１．７９（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ_２），１．８２（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ_２），３．４０（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ_２），４．２３（ｔ，Ｊ＝６．６Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ_２），４．２９（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，２Ｈ，ＣＨ_２），５．６５（ｂｒｓ，１Ｈ，ＮＨ）；
^１３ＣＮＭＲ（１２６ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ １１．４，２０．２，２２．８，２４．０，２４．１，３４．０，４２．９，６２．３，６２．５，１６８．２，１７１．３，１７１．９；
ＨＲ－ＦＡＢ－ＭＳ：ｍ／ｚｃａｌｃｄｆｏｒＣ_１４Ｈ_２３Ｎ_８Ｏ_２［（Ｍ＋Ｈ）^＋］：３３５．１９４４；Ｆｏｕｎｄ：３３５．１９４８．

（比較例１）
５０ｍＬ三口フラスコに撹拌子と塩化シアヌル（１．００ｇ，５．４２ｍｍｏｌ）を入れ、次いでＴＨＦ（６ｍＬ）およびアセトニトリル（６ｍＬ）を加え、－１０℃まで冷却した。トリメチルシリルジアゾメタン（２．０Ｍヘキサン溶液、３．０ｍＬ，６．０ｍｍｏｌ）を加えた後、室温（２０～３０℃）まで昇温して６時間攪拌した。攪拌終了後、水を加え、混合溶液をジエチルエーテルにて抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過した後、ロータリーエバポレータにて濃縮、減圧乾燥することで茶色固体の粗生成物を得た。この粗生成物を、クロロホルム：ヘキサン＝４：１を展開溶媒とするシリカゲルクロマトグラフィーにて分離、精製することで、２，４－ジクロロ－６－（ジアゾメチル）－１，３，５－トリアジン（０．６８９ｇ，３．６３ｍｍｏｌ，６７％）を黄色固体として得た。

次いで、５０ｍＬ三口フラスコに撹拌子と２，４－ジクロロ－６－（ジアゾメチル）－１，３，５－トリアジン（０．７５８ｇ，３．９９ｍｍｏｌ）を入れ、アルゴン雰囲気下にした後、乾燥１，４－ジオキサン（２５ｍＬ）を加えた。トリエチルアミン（１．６６ｍＬ，１２．０ｍｍｏｌ）を加えた後、３－アミノプロピルトリエトキシシラン（２．１４ｍＬ，９．１８ｍｍｏｌ）を加え、６５℃で３時間撹拌した。撹拌終了後、水を加え、混合溶液をジエチルエーテルで抽出した。有機層を無水硫酸ナトリウムで乾燥、ろ過した後、ロータリーエバポレータにて濃縮、減圧乾燥することで黄色粘稠性オイルの粗生成物を得た。この粗生成物を、クロロホルムを展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーにて分離、精製することで、反応性付与化合物である２，４－ビス［（３－トリエトキシシリルプロピル）アミノ］－６－ジアゾメチル－１，３，５－トリアジン（１．６６１ｇ，２．９７ｍｍｏｌ，７４％）を黄色粘稠性オイルとして得た。

得られた化合物（２，４－ビス［（３－トリエトキシシリルプロピル）アミノ］－６－ジアゾメチル－１，３，５－トリアジン）の核磁気共鳴スペクトル分析および質量分析の結果を下記に示す。
^１ＨＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ０．６６（ｔ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，４Ｈ，ＣＨ_２），１．２７（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１８Ｈ，ＣＨ_３），１．６７（ｂｒｓ，４Ｈ，ＣＨ_２），３．３６（ｂｒｓ，４Ｈ，ＣＨ_２），３．８２（ｑ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，１２Ｈ，ＣＨ_２），４．８３－５．２４（ｍ，２Ｈ，ＮＨ），５．４４（ｂｒｓ，１Ｈ，ＣＨ）
^１３ＣＮＭＲ（１０１ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）δ ７．７，１８．３，２３．０，４３．１，５１．５，５８．４，１４６．８，１６５．１；
ＦＡＢ－ＭＳｍ／ｚ［（Ｍ＋Ｈ）^＋］：５６０．３０４８

（ＵＶ－ｖｉｓ吸収スペクトルシミュレーション）
反応性付与化合物のＵＶ－ｖｉｓ吸収スペクトルのシミュレーションには、以下の理論計算プログラムを用いた。
・理論計算プログラムＧａｕｓｓｉａｎ１６，ＲｅｖｉｓｉｏｎＣ.０１
ＵＶ－ｖｉｓ吸収スペクトルのシミュレーション方法：上記式（４）の反応性付与化合物のトリエトキシシリルプロピルアミノ基をメチルアミノ基に単純化したモデル化合物（本実施例２のトリエトキシシリルプロピルアミノ基をメチルアミノ基に置換したモデル化合物）を分子モデリングし、密度汎関数（ＤＦＴ）計算により分子構造を最適化した。ＤＦＴ計算の汎関数にはＢ３ＬＹＰを用い、基底関数には６－３１Ｇ（ｄ）を用いた。得られたモデル化合物の最適構造を用いて、時間依存密度汎関数（ＴＤ－ＤＦＴ）計算を行うことでＵＶ－ｖｉｓ吸収スペクトルのシミュレーション結果を得た。ＴＤ－ＤＦＴ計算の汎関数にはＢ３ＬＹＰを用い、基底関数には６－３１＋Ｇ（ｄ，ｐ）を用いた。

（ＵＶ－ｖｉｓ吸収スペクトル）
また、得られた実施例１～実施例４および比較例１についての分析には、以下の機器、試薬を用いた。
・測定機器ＵＶ－ｖｉｓ吸収スペクトル：ＪＡＳＣＯＶ－６７０
・試料溶液実施例１と実施例２および比較例１の各化合物をアセトンで洗浄後、乾燥させた５０ｍＬメスフラスコに、試料濃度が５０μｍｏｌｄｍ^－３または２ｍｍｏｌｄｍ^－３となるように量り入れ、脱水エタノールでメスアップした。脱水エタノールを選択した理由は、それぞれの化合物に存在するエトキシシラン部分の加水分解を防ぐためである。
・測定：アセトンで洗浄、乾燥させた石英ガラスセル（１ｃｍ）に試料溶液を入れ、以下の条件で測定を行った。
ＵＶ－ｖｉｓ吸収スペクトル測定条件：バンド幅：２ｎｍ，走査速度：２００ｎｍ／ｍｉｎ，レスポンス：Ｆａｓｔ，データ取り込み間隔：１ｎｍ

図２にシミュレーションで得られた吸収スペクトルを示した。図３に観測された比較例１のスペクトルを示す。図２および３に示すように、ジアジリン基を有するモデル化合物の場合、ジアジリン基のｎ－π＊遷移に由来する吸収が３６０ｎｍ付近に確認できるが、ジアゾメチル基を有する比較例１の場合は、３６０ｎｍ付近に吸収を確認できなかった。したがって、実施例２のシミュレーションによれば、比較例１のジアゾメチル基よりも長波長側の光でカルベンを生じさせることができるので、本開示の反応性付与化合物を用いれば、光劣化を抑制することができる。

図４に実施例１の吸収スペクトルを示す。図４（ａ）は、試料濃度５０μｍｏｌｄｍ^－３の吸収スペクトルであり、図４（ｂ）は、試料濃度２ｍｍｏｌｄｍ^－３の吸収スペクトルである。また、図５に実施例２の吸収スペクトルを示す。図５（ａ）は、試料濃度５０μｍｏｌｄｍ^－３の吸収スペクトルであり、図５（ｂ）は、試料濃度２ｍｍｏｌｄｍ^－３の吸収スペクトルである。下記表１に測定結果をまとめた。表１のλ^ａｂｓは、光吸収波長（ｎｍ）を意味し、εは、モル吸光係数（ｄｍ^３ｍｏｌ^－１ｃｍ^－１）を意味する。図４（ａ）および４（ｂ）の横軸は、波長（ｎｍ）であり、縦軸は、吸光度（任意単位）である。図５（ａ）および５（ｂ）の横軸は、波長（ｎｍ）であり、縦軸は、吸光度（任意単位）である。図４（ｂ）および図５（ｂ）に示す通り、実施例１と実施例２ともに、４００ｎｍ以下の紫外領域に二つの吸収帯が観測された。シミュレーション結果と照らし合わせて解析すると、３６０ｎｍ付近に観測された吸収帯は、ジアジリン基のｎ－π＊遷移に由来する吸収、すなわちカルベンへの光分解を誘起する吸収として帰属できる。これより、ジアジリン基をもつ実施例１と実施例２は、波長の長い紫外光（ＵＶＡ）照射によってカルベンを発生し、光劣化を抑制しつつ、基材表面との反応が可能であることが証明された。また、同様に実施例３および実施例４についても、３５７ｎｍ付近に光吸収のピークが確認された。

（ジアジリンユニットの光分解確認実験１）
次に、実施例１と実施例２のジアジリン基が波長の長い紫外光（ＵＶＡ）（波長３６５ｎｍ）の照射によって、カルベンへ分解するかどうか確認実験を行った。実施例１の６－（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－Ｎ^２，Ｎ^４－ビス（３－（トリエトキシシリル）プロピル）－１，３，５－トリアジン―２，４－ジアミンは、シランカップリング部位が加水分解するため、シランカップリング部位をもたず、取り扱いやすい参考例１の６－（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－Ｎ^２，Ｎ^４－ジプロピル－１，３，５－トリアジン－２，４－ジアミンを用いて確認実験を行った。同様に、実施例２の４，６－ビス（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－Ｎ－（（３－トリエトキシシリル）プロピル）－１，３，５－トリアジン－２－アミンの代わりに、参考例２の４，６－ビス（２－（３－メチル－３Ｈ－ジアジリン－３－イル）エトキシ）－Ｎ－プロピル－１，３，５－トリアジン－２－アミンを用いて確認実験を行った。測定条件は以下の通りとなる。
・測定機器ＵＶ－ｖｉｓ吸収スペクトル：ＪＡＳＣＯＶ－６７０
・試料溶液参考例１の化合物をアセトンで洗浄後、乾燥させた５０ｍＬメスフラスコに、試料濃度が４ｍｍｏｌｄｍ^－３となるように量り入れ、脱水メタノールでメスアップした。また、参考例２の化合物をアセトンで洗浄後、乾燥させた５０ｍＬメスフラスコに、試料濃度が２ｍｍｏｌｄｍ^－３となるように量り入れ、脱水メタノールでメスアップした。
・測定：アセトンで洗浄、乾燥させた石英ガラスセル（１ｃｍ）に試料溶液を入れ、以下の条件で測定を行った。
ＵＶ－ｖｉｓ吸収スペクトル測定条件：バンド幅：２ｎｍ，走査速度：２００ｎｍ／ｍｉｎ，レスポンス：Ｆａｓｔ，データ取り込み間隔：１ｎｍ
・光源：ＡＳＯＮＥハンディＵＶランプ(２５４ｎｍ/３６５ｎｍ兼用)
・光照射条件：波長：３６５ｎｍ、時間０～４０ｍｉｎ

図６に参考例１の試料溶液に対し、光を照射した際の吸収スペクトルの変化を示す。図７に、参考例２の試料溶液に対し、光を照射した際の吸収スペクトルの変化を示す。横軸は、波長、縦軸は吸光度（任意単位）である。図６および図７に示す通り、照射時間が長くなるほど、ジアジリン基のｎ－π＊遷移に由来するピーク（３６０ｎｍ付近）が小さくなることが分かった。これは、ジアジリン基が光照射によってカルベンに光分解したことを示す。よって、波長３６５ｎｍの光照射によって、ジアジリン基がカルベンへ分解可能であることが確認された。

（ジアジリンユニットの光分解確認実験２）
ジアジリン基の光分解によってカルベンが発生していることを裏付けるため、参考例１と参考例２をそれぞれメタノールに溶解させ、３６５ｎｍの紫外光を10分間照射する前後の溶液を質量分析することで光反応生成物を調査した。測定条件は以下の通りとなる。
・測定機器：ＪＥＯＬＪＭＳ－７００質量分析装置
・試料溶液：サンプル瓶に試料を６ｍｇ量り入れ、３ｍＬの脱水メタノールを加え試料溶液とした。
・光源：ＡＳＯＮＥハンディＵＶランプ(２５４ｎｍ/３６５ｎｍ兼用)
・測定：調整した試料溶液の一部を何も操作を加えずにサンプル瓶に入れ、それを紫外光照射前のサンプルとした。残りの調整溶液の一部を石英セルに入れ、その後石英セルにハンディＵＶランプで３６５ｎｍの紫外光を１０分間照射した後、その溶液をサンプル瓶に入れ、これを紫外光照射後のサンプルとした。それらを質量分析で分析した。

紫外光照射前の参考例１の試料溶液の質量スペクトル（イオン化法：電子イオン化）では、参考例１の分子量に一致するｍ／ｚ２９３の分子イオン（Ｍ^＋）ピークが検出された。一方、紫外光照射後の試料溶液の質量スペクトルでは、照射前には検出されなかった光反応生成物由来のｍ／ｚ２９７の分子イオン（Ｍ^＋）ピークが検出された。このピークは、ジアジリン基が光分解して生じたカルベンがメタノールの水酸基（ＯＨ基）にＯＨ挿入反応して生成する６－（３－メトキシブトキシ）－Ｎ^２，Ｎ^４－ジプロピル－１，３，５－トリアジン―２，４－ジアミンの分子量２９７に一致する。紫外光照射前の参考例２の試料溶液の質量スペクトル（イオン化法：高速原子衝撃イオン化）において、ｍ／ｚ３３５の分子イオンピークが検出された。ｍ／ｚ３３５がプロトン化分子イオン種と考えれば、このピークの質量は３３４となり参考例２の分子量３３４に一致する。紫外光照射後の参考例２の試料溶液の質量スペクトルにおいて、ｍ／ｚ３４３の分子イオンピークが検出された。ｍ／ｚ３４３がプロトン化分子イオン種と考えれば、このピークの質量は３４２となり、分子構造内の二つのジアジリン基が光分解して生じたカルベンがメタノールの水酸基（ＯＨ基）にＯＨ挿入反応して生成する４，６－ビス（３－メトキシブトキシ）－Ｎ－プロピル－１，３，５－トリアジン―２－アミンの分子量３４２と一致する。光反応生成物として、カルベンがアルコールのＯＨ結合に挿入反応した生成物が検出された結果から、波長３６５ｎｍの光照射によって、ジアジリン基がカルベンへ分解可能であることが裏付けられた。

（反応性付与化合物を用いた積層体の作製と剥離強度評価）
次に、実施例１、実施例２および実施例４の反応性付与化合物を用いた積層体を作製し、その剥離強度評価（密着性評価）を行った。評価用試料は下記の手順で準備した。

「プレディップ溶液」
蒸留水５０ｍＬに１０分間の超音波攪拌を行いながら、ローム・アンド・ハース電子材料製キャタプレップ４０４Ａを４．２５ｇとＮａＣｌを１３．２ｇ加え、プレディップ溶液を作製した。

「キャタリスト溶液」
蒸留水５０ｍＬに１０分間の超音波攪拌を行いながら、ローム・アンド・ハース電子材料製キャタプレップ４０４を１２．５ｇ加えた。キャタプレップ４０４が完全に溶解した後、ローム・アンド・ハース電子材料製キャタポジット４４を１．５ｍＬ加え、キャタリスト溶液を作製した。

「アクセラレータ溶液」
蒸留水４７．５ｍＬに１０分間の超音波攪拌を行いながら、ローム・アンド・ハース電子材料製アクセラレータ―１９Ｅを２．５ｇ加え、アクセラレータ溶液を作製した。

「無電解めっき溶液」
蒸留水４２．６ｍＬに１０分間の超音波攪拌を行いながら、奥野製薬工業製アドカッパーＩＷ－Ａ２．５ｍＬ、奥野製薬工業製アドカッパーＣ０．７５ｍＬ、奥野製薬工業製アドカッパー４ｍＬ、および奥野製薬工業製無電解銅Ｒ－Ｎを０．１５ｍＬ加え、無電解めっき溶液を作製した。

アクリロニトリルブタジエンスチレン樹脂基板（ＡＢＳ基板）には、三菱ケミカル社製ＡＢＳ基板（１ｍｍ×３０ｍｍ×厚さ１３０μｍ）を用いた。ＡＢＳ基板をエタノールに浸漬し、１０分間超音波を照射し、ＡＢＳ基板を洗浄し、乾燥した。乾燥後、ＡＢＳ基板の表面にコロナ放電装置（信光電気計装製ＣｏｒｏｎａＭａｓｔｅｒ、電圧出力：１２ｋＶ、照射距離：０．５ｍｍ）を用いて、３回コロナ処理を行った。その後、ＡＢＳ基板を実施例１または実施例２のエタノール溶液（濃度０．１ｗｔ％）に１０秒浸漬させ、乾燥することで反応性付与化合物層を形成した。なお、実施例４については、コロナ放電処理無とコロナ放電処理有りの場合で積層体を作製した。

反応性付与化合物層を形成後のＡＢＳ基板に対し、高圧水銀ランプまたはＬＥＤランプで光を照射した。高圧水銀ランプおよびＬＥＤともに光の主波長は３６５ｎｍであり、紫外線積算照度計ＵＶＰＦ-Ａ２（ピーク感度３５５ｎｍ）の測定結果から、照度はそれぞれ１７ｍＷ／ｃｍ^２、３９６ｍＷ／ｃｍ^２であった。照射時間は、５分間とした。光照射後のＡＢＳ基板をプレディップ溶液に１分間浸漬し、浸漬後洗浄せずに、５０℃のキャタリスト溶液に１分間浸漬し、その後蒸留水で洗浄した。その後、ＡＢＳ基板を乾燥せずに、アクセラレータ溶液に３分間浸漬し、蒸留水で洗浄した。洗浄後、濡れたままの状態でＡＢＳ基板を３２℃の無電解銅めっき液に１５分間浸漬し、蒸留水およびエタノールで洗浄し乾燥を行った。乾燥後、銅層を形成したＡＢＳ基板（積層体）を８０℃で１０分間アニーリングを行った。アニーリング後室温まで冷却した。冷却後、硫酸銅系電気銅めっき液にアニーリング後の積層体を浸漬し、電圧１５Ｖ、電流密度０．０２Ａ／ｃｍ^２で６０分間銅めっきを行い、蒸留水で洗浄乾燥し、８０℃で１０分間アニーリングを行い、各実施例の反応性付与化合物を用いた積層体を得た。

「剥離強度測定」
実施例１および実施例２の反応性付与化合物を用いた積層体の銅層部分に１ｃｍ幅の切れ込みを入れて密着試験機（イマダ製ＩＭＡＤＡＦＯＲＣＥＭＥＡＳＵＲＥＭＥＮＴｍｏｄｅｌｍＸ２）を用いて、引張速度５０ｍｍ／ｍｉｎ、引張角度９０°の条件で銅層とＡＢＳ基板との剥離強度を測定した。得られた結果を表２に示す。また、実施例４のコロナ放電処理の有無の結果を表３に示す。

表２に示す通り、高圧水銀ランプにて紫外光を照射した場合、実施例１および実施例２を反応性付与化合物として用いたいずれの積層体も高い剥離強度を示した。コロナ放電によって生じた基板表面上の水酸基（ＯＨ基）に対して、実施例１または実施例２から生じたカルベンがＯＨ挿入反応を起こし、反応性付与化合物と基板表面との間で共有結合が形成されたことが高い密着性につながったと考えられる。
また、コロナ放電によって基板表面上に導入される水酸基の数は少ないため、そのままでは高い密着性を得ることは困難であるが、ジアジリン基の光反応を介して実施例１と実施例２の反応性付与化合物を基板表面に結合させてシラノール生成基を付与し、シラノールと銅層との間で結合を形成させることで密着性を改善できることが確認された。ＬＥＤランプを用いた場合では、分子内のジアジリン基数が１個の実施例１を用いた積層体よりも、ジアジリン基数が２個の実施例２を用いた積層体の方が高い剥離強度を示した。また、ＬＥＤランプよりも水銀ランプを用いたほうが、より高い剥離強度を示した。主波長を３６５ｎｍとして紫外領域に幅広いスペクトルをもつ高圧水銀ランプを使用する場合には、カルベンが発生しやすく、反応性付与化合物と基板との光反応効率が高くなるため、分子内のジアジリン基の数に依存せず、いずれの反応性付与化合物を用いても高いめっき密着性が得ることができる。一方で、３６５ｎｍを中心として狭いスペクトルをもつＬＥＤランプを使用する場合では、カルベンが発生しにくく、反応性付与化合物と基板との光反応効率が低くなるため、ジアジリン基を多くもち、基板との反応確率が高い実施例２を用いた方が高い密着性を得ることができる。
一方、表３に示す通り、実施例４の反応性付与化合物を用いた場合、高圧水銀ランプまたはＬＥＤランプを光反応光源に用いたいずれにおいても同程度の剥離強度を示した。加えて、コロナ処理をしない場合でも高い剥離強度を示した。これは、実施例４の反応性付与化合物が、3-トリフルオロメチル-3-フェニルジアジリン骨格を有することでジアジリン基の光分解効率が向上したこと及び発生したカルベンのＯ-Ｈ挿入反応のみならずＣ-Ｈ挿入反応が可能となったためと考えられる。
以上の結果から、ジアジリン基をもつ反応性付与化合物は、光反応性分子接合剤として非常に有用であると考えられる。

本発明の反応性付与化合物、反応性付与化合物の製造方法、および積層体によれば、基材の光劣化を抑制し、かつ、高い密着性が得られるので、産業上の利用可能性が高い。

１基材、２反応性付与化合物層、３金属層、１００積層体

Claims

１分子内に、下記式（１）で表されるシランカップリング部位と、
ジアジリン基と、を備え、
下記式（２）で表される化合物である、反応性付与化合物。

[式（１）中の＊は、隣接する炭素原子を表し、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は同一であっても異なっていてもよい。式（２）中のＸは、トリアジン環またはベンゼン環を表し、Ｚ ^１、Ｚ ^２およびＺ ^３は、Ｏ、ＮＨ、Ｓ、またはＣＨ _２のいずれかを表し、ｍ１、ｍ２、ｍ３は１～１０の整数を表し、Ｙ ^１、Ｙ ^２およびＹ ^３は、前記シランカップリング部位または上記式（３）若しくは（１１）で表されるジアジリン基であり、Ｙ ^１、Ｙ ^２およびＹ ^３の少なくとも１つは、前記シランカップリング部位であり、Ｙ ^１、Ｙ ^２およびＹ ^３の少なくとも１つは、前記ジアジリン基であり、上記式（３）中の＊は隣接する炭素原子を表し、Ｒ ^４は任意の官能基であり、上記式（１１）中の＊は隣接する炭素原子を表し、Ｒ ^５は任意の官能基であり、Ａは、アリーレン基または２価の複素環基である。］
前記Ｘがトリアジン環である、請求項１に記載の反応性付与化合物。
前記Ｚ^１、Ｚ^２およびＺ^３がＮＨまたはＯである、請求項１または２に記載の反応性付与化合物。
下記式（４）で表される化合物である、請求項３に記載の反応性付与化合物。
下記式（１２）で表される化合物である、請求項３に記載の反応性付与化合物。
下記式（１３）で表される化合物である、請求項３に記載の反応性付与化合物。
下記式（１４）で表される化合物である、請求項３に記載の反応性付与化合物。
請求項１に記載の反応性付与化合物の製造方法であって、
トリハロゲン化されたトリアジン環を備える化合物と、水酸基およびジアジリン基を備える化合物と、を反応させて、ジアジリン基を１つ以上付与されたジアジリン基付与化合物を得る、ジアジリン基付与工程と、
前記ジアジリン基付与化合物と、アミノ基および下記式（６）で表されるシランカップリング部位とを備える化合物と、を反応させるシランカップリング部位付与工程と、を
備える、反応性付与化合物の製造方法。

[式（６）中の＊は隣接する炭素原子を表し、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は、水素原子またはアルキル基を表し、Ｒ^１、Ｒ^２およびＲ^３は同一であっても異なっていてもよい。］
前記ジアジリン基付与工程において、前記ジアジリン基を２つ付与する、請求項８に記載の反応性付与化合物の製造方法。
下記式（１８）の化合物と、３－アミノプロピルトリエトキシシランと、を反応させることで、下記式（４）の化合物を得る、請求項８または９に記載の反応性付与化合物の製造方法。
下記式（２０）の化合物と、３－アミノプロピルトリエトキシシランと、を反応させることで、下記式（１３）の化合物を得る、請求項８または９に記載の反応性付与化合物の製造方法。
前記ジアジリン基付与工程において、前記ジアジリン基を１つ付与する、請求項８に記載の反応性付与化合物の製造方法。
下記式（１５）の化合物と、３－アミノプロピルトリエトキシシランと、を反応させることで、下記式（１２）の化合物を得る、請求項８または１２に記載の反応性付与化合物の製造方法。
下記式（１７）の化合物と、３－アミノプロピルトリエトキシシランと、を反応させることで、下記式（１４）の化合物を得る、請求項８または１２に記載の反応性付与化合物の製造方法。
第１基材と、
前記第１基材上に設けられ、請求項１～７のいずれか１項に記載の反応性付与化合物から構成される、反応性付与化合物層と、
前記反応性付与化合物層上に設けられる、第２基材と、
を備える、積層体。