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JP7237915B2 - 光硬化性組成物 - Google Patents

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Description

本開示は、少なくとも１つの１，３－ベンゾオキサジンモノマーと少なくとも１つのアクリレートモノマーとを含む、光硬化性組成物、特にインクジェット適応型平坦化（inkjet adaptive planarization）のための光硬化性組成物に関する。
インクジェット適応型平坦化（ＩＡＰ）は、硬化性組成物の液滴を基板の表面上に噴射し、平らなスーパーストレートを、基板の表面上に噴射した液滴と直接接触させ、平らな液体層を形成することによって基板、例えば電子回路を有するウエハーの表面を平坦化するプロセスである。平らな液体層は通例、ＵＶ光曝露下で凝固し、スーパーストレートを取り除いた後に平坦な表面が得られ、これを後続の処理工程、例えば焼成、エッチング、及び／又は更なる成膜工程に供することができる。高い熱安定性を有する平坦な硬化層をもたらす、改善されたＩＡＰ材料が必要とされている。
一実施の形態では、硬化性組成物は、重合性材料と光重合開始剤とを含むことができ、前記重合性材料は、少なくとも１つの１，３－ベンゾオキサジンモノマーと少なくとも１つのアクリレートモノマーとを含むことができ、該組成物は、２０ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有することができる。
一態様では、前記少なくとも１つの１，３－ベンゾオキサジンモノマーは、二官能性１，３－ベンゾオキサジンモノマーであり得る。
別の態様では、前記１，３－ベンゾオキサジンモノマーの量は、前記重合性材料の総重量に対して少なくとも１重量％かつ３０重量％以下であり得る。
更なる或る特定の態様では、前記１，３－ベンゾオキサジンモノマーの量は、前記重合性材料の総重量に対して１５重量％以下であり得る。
更に別の或る特定の態様では、前記１，３－ベンゾオキサジンモノマーの量は、前記重合性材料の総重量に対して７重量％以下であり得る。
更なる態様では、前記組成物の粘度は、１０ｍＰａ・ｓ以下であり得る。
一実施の形態では、前記重合性材料は、少なくとも１つの１，３－ベンゾオキサジンモノマーと少なくとも２つのアクリレートモノマーとを含むことができる。
一態様では、前記少なくとも２つのアクリレートモノマーは、ベンジルアクリレート（ＢＡ）、ベンジルメタクリレート（ＢＭＡ）、１－ナフチルアクリレート（１－ＮＡ）、１－ナフチルメタクリレート（１－ＮＭＡ）又はビスフェノールＡジメタクリレート（ＢＰＡＤＭＡ）から選択することができる。
更なる態様では、前記少なくとも１つの１，３－ベンゾオキサジンモノマーと前記少なくとも１つのアクリレートモノマーとの重量パーセント比が１：５以下であり得る。
更に別の実施の形態では、前記光硬化性組成物は、硬化層の形成に適している可能性があり、該硬化層は、１０℃／分の加熱速度で２６０℃から３２０℃までの高温処理において１．２％以下の重量減少を有することができる。或る特定の態様では、１０℃／分の加熱速度で２６０℃から３２０℃までの高温処理における前記重量減少は、０．７％以下であり得る。
別の実施の形態では、積層体は、基板と該基板を覆う光硬化層とを含むことができ、前記光硬化層は、本開示の上記光硬化性組成物から形成することができる。
一態様では、積層体の光硬化層の厚さは、少なくとも１０ナノメートルかつ２００ナノメートル以下であり得る。
更なる態様では、積層体の光硬化層は、１０℃／分の加熱速度で２６０℃から３２０℃までの高温処理において１．２％以下の重量減少を有することができる。或る特定の態様では、高温処理における積層体の光硬化層の重量減少は、０．７％以下であり得る。
一実施の形態では、基板上に光硬化層を形成する方法は、光硬化性組成物を基板上に塗布することと、なお、前記光硬化性組成物は、重合性材料と光重合開始剤とを含み、前記重合性材料は、少なくとも１つの１，３－ベンゾオキサジンモノマーと少なくとも１つのアクリレートモノマーとを含むことができ、前記光硬化性組成物の粘度は、２０ｍＰａ・ｓ以下であり得る；前記光硬化性組成物をスーパーストレートと接触させることと、前記光硬化性組成物に光を照射して、光硬化層を形成することと、前記光硬化層から前記スーパーストレートを取り除くこととを含むことができる。
本方法の別の態様では、前記硬化層は、１０℃／分の加熱速度で２６０℃から３２０℃までの高温処理において１．２％以下の重量減少を有することができる。
更なる実施の形態では、物品を製造する方法は、光硬化性組成物を基板上に塗布することと、なお、前記光硬化性組成物は、重合性材料と光重合開始剤とを含むことができ、前記重合性材料は、少なくとも１つの１，３－ベンゾオキサジンモノマーと少なくとも１つのアクリレートモノマーとを含むことができ、前記光硬化性組成物の粘度は、２０ｍＰａ・ｓ以下であり得る；前記光硬化性組成物をスーパーストレートと接触させることと、前記光硬化性組成物に光を照射して、光硬化層を形成することと、前記光硬化層から前記スーパーストレートを取り除くことと、前記光硬化層を有する基板を処理して、物品を作製することとを含むことができる。
実施形態は、添付の図面において、例として説明されるものであり、限定されるものではない。
一実施形態によるサーモグラフィー分析（ＴＧＡ）によって測定される高温熱処理における硬化試料の熱安定性を示すグラフである。
図面の要素は、簡略化及び明瞭化するために示されるものであり、必ずしも正確な比率ではないことを当業者は理解されよう。例えば、図面の要素の幾つかの寸法は、本発明の実施形態の理解を改善するのを助長するために、他の要素に対して誇張されてもよい。
下記の説明は、本明細書中に開示する教示を理解するのを助長するために提供され、教示の具体的な実施態様及び実施形態に焦点を合わせている。この焦点は、教示について説明するのを助長するために提供されるものであり、教示の範囲又は適用性に対する限定と解釈されるべきではない。
別記しない限り、本明細書中で使用する技術用語及び科学用語は全て、本発明が属する技術分野の当業者によって一般的に理解されるものと同じ意味を有する。材料、方法、及び実施例は、単なる説明であり、限定的であると意図されない。本明細書に記載されない範囲について、具体的な材料及び加工処理行動に関する多くの詳細は、従来のものであり、インプリント及びリソグラフィー技術の範囲内のテキスト並びに他の出典において見ることができる。
本明細書中で使用する場合、「を含む（comprises）」、「を含んでいる（comprising）」、「を包含する（includes）」、「を包含している（including）」、「を有する（has）」、「を有している（having）」という用語又はそれらの任意の他の変形は、非限定的に含むことを網羅すると意図される。例えば、特徴のリストを含むプロセス、方法、物品、又は装置は、必ずしもそれらの特徴のみに限定されず、明確に列挙されないか、又はかかるプロセス、方法、物品、若しくは装置に固有のものではない他の特徴を含んでもよい。
本明細書中で使用する場合、明らかに異なる主張が成されない限り、「又は」は、「排他的な又は（exclusive-or）」ではなく、「包括的な又は（inclusive-or）」を指す。例えば、条件「Ａ又はＢ」は、下記のいずれか１つが成立している：Ａは、真であり（又は存在し）、かつＢは、偽である（又は存在しない）こと、Ａは、偽であり（又は存在せず）、かつＢは、真である（又は存在する）こと、並びにＡ及びＢはともに、真である（又は存在する）こと。
また、数量が特定されていない語（"a" or "an"）の使用は、本明細書中に記載する要素及び構成要素について記載するのに用いられる。これは、単に利便性のために、また本発明の範囲の一般的な意味合いを付与するために成されるものである。この記載は、１つ又は少なくとも１つを含むと解釈されるべきであり、単数形は、他の状況を意味することが明らかでない限りは、複数形も含む。
本開示は、重合性材料と光重合開始剤とを含む光硬化性組成物であって、重合性材料が少なくとも１つの１，３－ベンゾオキサジンモノマーと少なくとも１つのアクリレートモノマーとを含み得る、光硬化性組成物に関する。硬化性組成物は、２０ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有することができ、高い熱安定性を有する平坦な硬化層を作製するインクジェット適応型平坦化（ＩＡＰ）への使用に特に適している可能性がある。
一実施形態では、１，３－ベンゾオキサジンモノマーは、式（１）：
Figure 0007237915000001
 （式中、Ｒ１及びＲ２はアルキル、置換アルキル、アリール、置換アリール、アリールアルキル又は置換アリールアルキルとすることができ、アリールはヘテロ原子を含有していてもよく、置換は単結合ハロゲンを含むことができ、Ｒ２の少なくとも１つ又はＲ２の全てが水素であってもよい）の構造を有し得る。式（１）のモノマーは、開環重合（オキサジン環の開環）によって重合することができる。
特定の態様では、１，３－ベンゾオキサジンモノマーは、２つの１，３－ベンゾオキサジン構造が組み合わされた二官能性ベンゾオキサジンモノマーであってもよい。二官能性ベンゾオキサジンモノマーの非限定的な例は、式（２）及び式（３）に示され、ここで、Ｒ３及びＲ４は、Ｃ１～Ｃ１０アルキル、アリール又はアリールアルキル（例えば、ジベンジルメチル）とすることができ、Ｒ５及びＲ６は、同じであっても又は異なっていてもよく、アリール、Ｃ１～Ｃ１０アルキル又はアリールアルキルを含み得る。特定の実施形態では、Ｒ５及びＲ６の両方がベンジルであってもよく、Ｒ３及びＲ４がＣ１～Ｃ５アルキルであってもよい。
Figure 0007237915000002
重合性材料の少なくとも１つのアクリレートモノマーは、モノアクリレート、ジアクリレート又はそれらの組合せを含み得る。本明細書中で使用する場合、アクリレートモノマーという用語は、アクリレート単位又は置換アクリレート単位、例えばメタクリレート単位を含む任意のモノマー構造を指す。アクリレートモノマーの非限定的な例は、ベンジルアクリレート（ＢＡ）、１－ナフチルアクリレート（１－ＮＡ）、ビスフェノールＡジメタクリレート（ＢＰＡＤＭＡ）、ベンジルメタクリレート（ＢＭＡ）、又は１－ナフチルメタクリレート（１－ＮＭＡ）、又はテトラヒドロフルフリルアクリレート、イソボルニルアクリレート、又はジシクロペンタニルアクリレート、又はペンタフルオロベンジルアクリレート、又は１－アダマンチルメタクリレート、又は２－アダマンチルアクリレート、又はトリチメルシクロヘキシルアクリレートであり得る。特定の一態様では、組成物は、ベンジルアクリレート（ＢＡ）、ベンジルメタクリレート（ＢＭＡ）、１－ナフチルアクリレート（１－ＮＡ）、１－ナフチルメタクリレート（１－ＮＭＡ）又はビスフェノールＡジメタクリレート（ＢＰＡＤＭＡ）から選択される少なくとも２つのアクリレートモノマーを含み得る。
別の態様では、重合性材料は、ベンゾオキサジンモノマー又はアクリレートモノマーではない重合性モノマー、オリゴマー又はポリマーを更に含み得る。
一実施形態では、重合性材料に含まれるモノマーの選択は、硬化前の硬化性組成物の粘度が低くなるように行うことができる。一態様では、硬化性組成物の粘度は、２５ｍＰａ・ｓ以下、又は２０ｍＰａ・ｓ以下、又は１５ｍＰａ・ｓ以下、１２ｍＰａ・ｓ以下、１０ｍＰａ・ｓ以下、９ｍＰａ・ｓ以下、又は８ｍＰａ・ｓ以下であり得る。別の態様では、粘度は少なくとも２ｍＰａ・ｓ、例えば少なくとも３ｍＰａ・ｓ、少なくとも４ｍＰａ・ｓ、又は少なくとも５ｍＰａ・ｓであり得る。特定の態様では、硬化性組成物は、１０ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有し得る。本明細書中で使用する場合、全ての粘度値は、ブルックフィールド法により２３℃の温度で測定される粘度に関するものである。
重合性材料における１，３－ベンゾオキサジンモノマーの量は、重合性材料の総重量に対して少なくとも１重量％、又は少なくとも３重量％、又は少なくとも５重量％、又は少なくとも１０重量％、又は少なくとも１５重量％であり得る。別の態様では、１，３－ベンゾオキサジンの量は、３０重量％以下、又は２５重量％以下、又は２０重量％以下、又は１５重量％以下、又は１０重量％以下、又は７重量％以下であり得る。さらに、１，３－ベンゾオキサジンの量は、上述の最小値及び最大値のいずれかを含む範囲内とすることができる。
更なる実施形態では、少なくとも１つのアクリレートモノマーの量は、重合性材料の総重量に対して少なくとも５０重量％、例えば少なくとも５５重量％、又は少なくとも６０重量％、又は少なくとも６５重量％、又は少なくとも７０重量％、又は少なくとも８０重量％、又は少なくとも８５重量％、又は少なくとも９０重量％であり得る。別の態様では、アクリレートモノマーの量は、重合性材料の総重量に対して９５重量％以下、又は９５重量％以下、又は９０重量％以下、又は８５重量％以下、又は８０重量％以下、又は７５重量％以下、又は７０重量％以下であり得る。さらに、アクリレートモノマーの量は、上述の最小値及び最大値のいずれかを含む範囲内とすることができる。
一態様では、少なくとも１つの１，３－オキサゾリンモノマーと少なくとも１つのアクリレートモノマーとの重量パーセント比は、１：５以下、例えば１：６以下、又は１：８以下、又は１：１０以下、又は１：１２以下、又は１：１５以下であり得る。
また更なる実施形態では、光硬化性組成物に含まれる重合性材料の量は、光硬化性組成物の総重量に対して少なくとも７５重量％、例えば少なくとも８０重量％、少なくとも８５重量％、少なくとも９０重量％又は少なくとも９５重量％であり得る。別の態様では、重合性材料の量は、９９．５重量％以下、例えば９９重量％以下、又は９８重量％以下、又は９７重量％以下、又は９５重量％以下、又は９３重量％以下、又は９０重量％以下であり得る。さらに、重合性材料の量は、上述の最小値及び最大値のいずれかを含む範囲内とすることができる。特定の態様では、重合性材料の量は、光硬化性組成物の総重量に対して少なくとも８５重量％かつ９８重量％以下であり得る。
更なる態様では、本開示の光硬化性組成物は、溶媒を含まなくてもよく、１，３－ベンゾオキサジンモノマーをアクリレートモノマーに溶解することができる。
光に曝された場合に組成物の光硬化を開始するために、１つ以上の光重合開始剤が光硬化性組成物に含まれ得る。
或る特定の態様では、硬化は、光重合開始剤が存在しなくとも行うことができる。
別の或る特定の態様では、硬化は、光硬化及び熱硬化の組合せによって行うことができ、付加的な熱硬化により熱安定性を改善することができる。特定の一態様では、光によって開始される硬化後の熱硬化は、６０℃～２５０℃の温度であり得る。特定の態様では、熱硬化は、１９０℃～２３０℃で行うことができる。
更なる態様では、光硬化性組成物は、少なくとも１つの任意の添加剤を含有していてもよい。任意の添加剤の非限定的な例は、界面活性剤、分散剤、安定剤、共溶媒、開始剤、阻害剤、色素、又はそれらの任意の組合せであり得る。
驚くべきことに、１，３－ベンゾオキサジンモノマー及びアクリレートモノマーの或る特定の組合せを選択することによって、硬化後に２０ｍＰａ・ｓ未満という所望の低い粘度及び高い熱安定性を有する光硬化性組成物を得ることができることが見出された。一態様では、光硬化性組成物は、硬化層の形成に適している可能性があり、硬化層は、１０℃／分の加熱速度で２６０℃から３２０℃までの高温処理において、硬化層の総重量に対して１．２％以下、例えば１．０％以下、又は０．８％以下、又は０．７％以下、又は０．５％以下、又は０．３％以下、又は０．１％以下の重量減少を有し得る。
一実施形態では、硬化層は、積層体の一部であってもよく、この場合、積層体は基板を含むことができ、硬化層が基板を覆う。或る特定の態様では、積層体は、基板と硬化層との間に１つ以上の層、例えば接着層を更に含み得る。
本開示は更に、硬化層を形成する方法に関する。この方法は、上記の光硬化性組成物を基板上に塗布することと、光硬化性組成物をスーパーストレートに接触させることと、光硬化性組成物に光を照射して、光硬化層を形成することと、硬化層からスーパーストレートを取り除くこととを含み得る。
一態様では、光照射は、２５０ｎｍ～７６０ｎｍの波長を有する光を用いて行うことができる。好ましい態様では、光照射は、３２０ｎｍ～４５０ｎｍの波長を有する光を用いて行うことができる。
所望の物品を形成するために、基板及び凝固（硬化）層に、例えばエッチング処理を組み込むことにより更なる処理を施し、凝固層及び／又は該凝固層の下にあるパターン層の一方又は両方におけるパターンに対応する画像を基板に転写することができる。基板に、例えば、硬化、酸化、層形成、成膜、ドーピング（doping）、平坦化、エッチング、形成可能材料除去（formable material removal）、ダイシング、ボンディング、及びパッケージング等を含むデバイス（物品）製造にて知られる工程及び処理を更に施すことができる。或る特定の態様では、基板を処理して複数の物品（デバイス）を作製することができる。
硬化層は更に、ＬＳＩ、システムＬＳＩ、ＤＲＡＭ、ＳＤＲＡＭ、ＲＤＲＡＭ若しくはＤ－ＲＤＲＡＭ等の半導体デバイスの層間の絶縁膜として、又は半導体製造プロセスで使用されるレジスト膜として使用され得る。
実施例にて更に実証されるように、驚くべきことに、光硬化性組成物中の重合性１，３－ベンゾオキサジンモノマー及びアクリレートモノマーの或る特定の組合せが特にＩＡＰ処理に極めて適切な特性を有し得ることが見出された。本開示の光硬化性組成物は、２０ｍＰａ・ｓ以下という所望の低い粘度を有することができ、３２０℃までの並外れた高い熱安定性を有する光硬化層を形成することができる。
以下の非限定的な実施例は、本明細書中に記載する概念について説明している。
実施例１
光硬化性ＩＡＰ組成物の調製
４つの光硬化性組成物（試料Ｓ１～Ｓ４）を二官能性ベンゾオキサジン（四国化成工業株式会社のＢｚｎ－Ｆ－ａ又はＢｚｎ－Ｐ－ｄ）、ベンジルアクリレート（ＢＡ）、ナフチルアクリレート（ＮＡ）及びビスフェノールＡジメタクリレート（ＢＰＡＤＭＡ）を組み合わせることによって調製した。各組成物は、組成物の総重量に対して２．９１重量％の光重合開始剤Ｉ Ｇ Ｍ Ｏｍｎｉｒａｄ（以前はＩｒｇａｃｕｒｅ ８１９）及び０．９７重量％の界面活性剤（Ｃｈｅｍｇｕａｒｄ Ｓ５５４）を更に含有していた。ベンゾオキサジンＢｚｎ－Ｆ－ａは、化学名６，６’－メチレンビス［３，４－ジヒドロ－３－フェニル－２Ｈ－１，３－ベンゾオキサジン］、ＣＡＳ番号１３７８３６－８０－７を有し、ベンゾオキサジンＢｚｎ－Ｐ－ｄは、化学名３，３’－（メチレンジ－４，１－フェニレン）ビス［３，４－ジヒドロ－２Ｈ－１，３－ベンゾオキサジン］、ＣＡＳ番号１２７９５９－９８－２を有する。Ｂｚｎ－Ｆ－ａ及びＢｚｎ－Ｐ－ｄはどちらも、液体アクリレートモノマーに良好に溶解する固体材料である。
組成物の総重量に対する各モノマー型の正確な重量％量を表１に示す。
Figure 0007237915000003
組成物Ｓ１～Ｓ４の粘度は、全て２０ｍＰａ・ｓ未満であり、１０ｍＰａ・ｓ未満（試料Ｓ３を参照されたい）から１９．８３ｍＰａ・ｓ（試料Ｓ４を参照されたい）までの粘度差は、主に１，３－ベンゾオキサジンモノマーの量によるものであった。
表１には、重合性材料中にベンゾオキサジンモノマーを含有せず、市販のＩＡＰレジスト材料である比較試料Ｃ１も含まれる。
硬化は、厚さ約１００ｎｍの光硬化性組成物の液膜をガラス基板上に塗布し、液膜を２５ｍＷ／ｃｍ２の強度のＵＶ光に曝し、８０秒間硬化させることで行った。これは２．４Ｊ／ｃｍ２の硬化エネルギー量に相当する。
硬化後に２回の硬化層の熱処理を行った。第１の熱処理は、１０℃／分の速度で２５０℃の温度まで加熱し、温度を２５０℃に１時間保持することを含むものであった。
第２の熱処理は、第１の熱処理及び室温への冷却後に、試料を再び１０℃／分の速度で４００℃の温度まで加熱することによって行った。図１も参照されたい。第２の熱処理については特に、第１の熱処理の最高温度（２５０℃）を上回り、ポリマー材料の完全分解のために大幅な重量の減少が起こる温度の直前である２６０℃～３２０℃の範囲に特に関心が持たれた。
サーモグラフィー分析（ＴＧＡ）によって測定された２回の熱処理レジーム後の試料Ｓ１～Ｓ３及びＣ１の重量減少を表２にまとめる。試料Ｓ１～Ｓ３が全て、３２０℃の温度までの第２の熱処理において高度に安定しており、重量減少が０．７％未満であったことが分かる。約５重量％の１，３－ベンゾオキサジンモノマーしか含有しない試料Ｓ３でも高い熱安定性を観察することができたことは驚きであった。比較すると、１，３－ベンゾオキサジンモノマーを含まない比較試料Ｃ１は、１．４１重量％の重量減少を有していた。試料Ｓ２についての第２の熱処理の代表的なＴＧＡグラフを更に図１に示すが、少なくとも３２０℃までの硬化層の重量安定性が実証された。
Figure 0007237915000004
試料の粘度は、スピンドルサイズ＃１８で２００ｒｐｍにてブルックフィールド粘度計ＬＶＤＶ－ＩＩ＋Ｐｒｏを用いて２３℃で測定した。粘度試験について、スピンドルヘッドを覆うのに十分な約６ｍＬ～７ｍＬの試料液を試料チャンバに加えた。全ての粘度試験で、少なくとも３回の測定を行い、平均値を算出した。
ＴＧＡ測定は、Linseis社のＳＴＡ １０００機器を用いて窒素雰囲気下、５Ｌ／時間～６Ｌ／時間の流量及び１０℃／分の加熱速度で行った。
本明細書中に記載する実施形態の詳述及び説明は、様々な実施形態の構造の一般的な理解を提供すると意図される。詳述及び説明は、本明細書中に記載する構造又は方法を使用する装置及びシステムの要素及び特徴の全ての網羅的かつ包括的な説明となることは意図されない。別々の実施形態はまた、単一の実施形態の文脈において組み合わせて提供されてもよく、逆にまた、簡略のために単一の実施形態において記載される様々な特徴が、別々に、又は任意のサブコンビネーションで提供されてもよい。さらに、範囲内に提示される値に対する言及は、範囲内の各値及びあらゆる値を含む。多くの他の実施形態は、本明細書を読解した後にのみ、当業者に明らかであり得る。構造的置換、論理的置換、又は別の変更が、本開示の範囲を逸脱することなく成され得るように、他の実施形態を使用して、本開示から導いてもよい。したがって、本開示は、限定的ではなく、説明的であるとみなされるべきである。

Claims (18)

  1. 重合性材料と光重合開始剤とを含む光硬化性組成物であって、前記重合性材料が少なくとも１つの１，３－ベンゾオキサジンモノマーと少なくとも２つのアクリレートモノマーとを含み、該組成物が２３℃および前記アクリレートモノマー以外の溶媒を含まない状態において２０ｍＰａ・ｓ以下の粘度を有し、
    前記少なくとも２つのアクリレートモノマーがベンジルアクリレート（ＢＡ）、ベンジルメタクリレート（ＢＭＡ）、１－ナフチルアクリレート（１－ＮＡ）、１－ナフチルメタクリレート（１－ＮＭＡ）又はビスフェノールＡジメタクリレート（ＢＰＡＤＭＡ）から選択される、インクジェット適応型光硬化性組成物。
  2. 前記少なくとも１つの１，３－ベンゾオキサジンモノマーが二官能性１，３－ベンゾオキサジンモノマーである、請求項１に記載の光硬化性組成物。
  3. 前記１，３－ベンゾオキサジンモノマーの量が前記重合性材料の総重量に対して少なくとも１重量％かつ３０重量％以下である、請求項１に記載の光硬化性組成物。
  4. 前記１，３－ベンゾオキサジンモノマーの量が前記重合性材料の総重量に対して１５重量％以下である、請求項３に記載の光硬化性組成物。
  5. 前記１，３－ベンゾオキサジンモノマーの量が前記重合性材料の総重量に対して７重量％以下である、請求項４に記載の光硬化性組成物。
  6. 前記組成物の粘度が１０ｍＰａ・ｓ以下である、請求項１に記載の光硬化性組成物。
  7. 前記少なくとも１つの１，３－ベンゾオキサジンモノマーが、前記少なくとも１つのアクリレートモノマーに対して、重量パーセント比で１：５以下（すなわちＸ／Ｙ≦１／５：式において、Ｘが前記少なくとも１つの１，３－ベンゾオキサジンモノマーの重量パーセント、Ｙが前記少なくとも１つのアクリレートモノマーの重量パーセント）である、請求項１に記載の光硬化性組成物。
  8. 前記組成物が硬化層の形成に適しており、該硬化層が１０℃／分の加熱速度で２６０℃から３２０℃までの高温処理において１．２％以下の重量減少を有する、請求項１に記載の光硬化性組成物。
  9. １０℃／分の加熱速度で２６０℃から３２０℃までの高温処理における前記重量減少が０．７％以下である、請求項８に記載の光硬化性組成物。
  10. 基板と該基板を覆う光硬化層とを含む積層体であって、前記光硬化層が請求項１に記載の光硬化性組成物から形成される、積層体。
  11. 前記光硬化層の厚さが少なくとも１０ナノメートルかつ２００ナノメートル以下である、請求項１０に記載の積層体。
  12. 前記光硬化層が１０℃／分の加熱速度で２６０℃から３２０℃までの高温処理において１．２％以下の重量減少を有する、請求項１０に記載の積層体。
  13. 前記光硬化層が１０℃／分の加熱速度で２６０℃から３２０℃までの高温処理において０．７％以下の重量減少を有する、請求項１０に記載の積層体。
  14. 基板上に光硬化層を形成する方法であって、
    光硬化性組成物を基板上に液滴としてインクジェット塗布することと、
    ここで、前記光硬化性組成物は、重合性材料と光重合開始剤とを含み、前記重合性材料は、少なくとも１つの１，３－ベンゾオキサジンモノマーと少なくとも２つのアクリレートモノマーとを含み、前記光硬化性組成物の粘度は、２３℃および前記アクリレートモノマー以外の溶媒を含まない状態において１５ｍＰａ・ｓ以下である；
    前記光硬化性組成物をスーパーストレートと接触させることと、
    前記光硬化性組成物に光を照射して、光硬化層を形成することと、
    前記光硬化層から前記スーパーストレートを取り除くことと、
    を含み、
    前記少なくとも２つのアクリレートモノマーがベンジルアクリレート（ＢＡ）、ベンジルメタクリレート（ＢＭＡ）、１－ナフチルアクリレート（１－ＮＡ）、１－ナフチルメタクリレート（１－ＮＭＡ）又はビスフェノールＡジメタクリレート（ＢＰＡＤＭＡ）から選択される、方法。
  15. 前記少なくとも１つの１，３－ベンゾオキサジンモノマーが二官能性ベンゾオキサジンモノマーである、請求項１４に記載の方法。
  16. 前記ベンゾオキサジンモノマーの量が前記重合性材料の総重量に対して１５重量％以下である、請求項１４に記載の方法。
  17. 前記硬化層が１０℃／分の加熱速度で２６０℃から３２０℃までの高温処理において１．２％以下の重量減少を有する、請求項１４に記載の方法。
  18. 物品を製造する方法であって、
    光硬化性組成物を基板上に液滴としてインクジェット塗布することと、
    なお、前記光硬化性組成物は、重合性材料と光重合開始剤とを含み、前記重合性材料は、少なくとも１つの１，３－ベンゾオキサジンモノマーと少なくとも２つのアクリレートモノマーとを含み、前記光硬化性組成物の粘度は、２３℃および前記アクリレートモノマー以外の溶媒を含まない状態において２０ｍＰａ・ｓ以下である；
    前記光硬化性組成物をスーパーストレートと接触させることと、
    前記光硬化性組成物に光を照射して、光硬化層を形成することと、
    前記光硬化層から前記スーパーストレートを取り除くことと、
    前記光硬化層を有する基板を処理して、物品を作製することと、
    を含み、
    前記少なくとも２つのアクリレートモノマーがベンジルアクリレート（ＢＡ）、ベンジルメタクリレート（ＢＭＡ）、１－ナフチルアクリレート（１－ＮＡ）、１－ナフチルメタクリレート（１－ＮＭＡ）又はビスフェノールＡジメタクリレート（ＢＰＡＤＭＡ）から選択される、方法。
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