JP7251431B2 - Ｍａｌｄｉ用前処理装置 - Google Patents

Description

本発明は、ＭＡＬＤＩ用前処理装置に関する。

サンプルをイオン化する手法の一例として、ＭＡＬＤＩ（Matrix Assisted Laser Desorption/Ionization：マトリックス支援レーザ脱離イオン化法）が知られている。ＭＡＬＤＩを用いて分析を行う際には、サンプルに対する前処理として、レーザ光を吸収しやすく、かつ、イオン化しやすいマトリックス物質が、サンプルに予め混合される。

一般的な前処理では、マトリックス物質を含む溶液（マトリックス溶液）が試薬としてサンプルに添加され、サンプルに含まれる測定対象物質がマトリックス溶液に取り込まれる。そして、乾燥によってマトリックス溶液中の溶媒が気化し、測定対象物質を含む結晶粒が形成される。この結晶粒にレーザ光を照射することにより、測定対象物質、マトリックス物質及びレーザ光の相互作用によって、測定対象物質をイオン化することができる。

サンプルに対してマトリックス溶液などの試薬を添加する方法としては、微細な結晶の形成が可能なスプレー法が知られている。下記特許文献１及び２に開示されたスプレー法では、マトリックス溶液が収容された容器内に不活性ガスが導入されることにより、容器内のマトリックス溶液の液面が加圧される。これにより、容器内に連通する配管からマトリックス溶液が導出され、抵抗管を経てノズルからマトリックス溶液が噴霧される。

マトリックス溶液は、サンプルが配置されたサンプルプレートに向けて噴霧される。サンプルは、サンプルプレート上におけるサンプル配置領域に配置されている。サンプルプレートはステージ上に設置されており、マトリックス溶液を噴霧しながらステージを移動させることにより、サンプルプレート上のサンプル配置領域を含む塗布領域全体にマトリックス溶液を塗布することができる。

国際公開第２０１９／１０６７９９号 国際公開第２０１９／１０６８００号

ノズルから噴霧されるマトリックス溶液のサンプルプレート上における噴霧スポットは、ステージの移動に伴いサンプルプレート上を移動する。しかし、ステージの移動開始直後は、噴霧スポットの移動速度が徐々に早くなるため、一定の速度に到達するまでには時間がかかる。したがって、噴霧スポットが等速移動するまでは、サンプルプレート上のサンプル配置領域に塗布されるマトリックス溶液の膜厚が不均一になるおそれがある。

そこで、高性能のモータを用いてステージを移動させることにより、ステージの移動開始直後に短時間でステージを一定の速度に到達させることも考えられる。しかしながら、高性能のモータを採用すると製造コストが高くなるため、従来品のモータを用いて、マトリックス溶液などの試薬をサンプル配置領域に均一な膜厚で塗布することができる構成が望まれていた。

本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、サンプルプレート上のサンプル配置領域に均一な膜厚で試薬を塗布することができるＭＡＬＤＩ用前処理装置を提供することを目的とする。

本発明の第１の態様は、サンプルプレート上のサンプル配置領域に配置されたサンプルに対して、ノズルから試薬を噴霧させることにより、前記サンプル配置領域を含む塗布領域に試薬を塗布するためのＭＡＬＤＩ用前処理装置であって、移動機構と、噴霧機構と、制御部とを備える。前記移動機構は、前記サンプルプレート及び前記ノズルの少なくとも一方を移動させる。前記噴霧機構は、前記ノズルから試薬を噴霧させる。前記制御部は、前記移動機構及び前記噴霧機構を制御することにより、前記サンプルプレート及び前記ノズルを相対移動させながら、前記ノズルから前記サンプルプレートに試薬を噴霧させる。前記制御部は、前記ノズルから噴霧される試薬の前記サンプルプレート上における噴霧スポットを開始点から終了点まで移動させることにより、前記塗布領域全体に試薬を塗布させるものであり、前記ノズルからの試薬の噴霧量及び前記噴霧スポットの移動速度が一定になった後、前記サンプル配置領域内に前記噴霧スポットを移動させる。

本発明の第１の態様によれば、ノズルから噴霧される試薬の噴霧スポットが一定の噴霧量及び移動速度になるまではサンプル配置領域内を噴霧スポットが移動せず、噴霧スポットの噴霧量及び移動速度が一定になった後にサンプル配置領域内を噴霧スポットが移動する。したがって、サンプル配置領域内を噴霧スポットが常に一定の噴霧量及び移動速度で移動するため、サンプル配置領域に均一な膜厚で試薬を塗布することができる。

ＭＡＬＤＩ用前処理装置の一実施形態を示した概略図である。 試薬の噴霧方法の一例について説明するための図である。

１．ＭＡＬＤＩ用前処理装置の全体構成
図１は、ＭＡＬＤＩ用前処理装置の一実施形態を示した概略図である。このＭＡＬＤＩ用前処理装置は、ＭＡＬＤＩ用の試薬を用いて前処理を行うための装置である。本実施形態では、ＭＡＬＤＩ用の試薬の一例として、マトリックス物質を含む溶液（マトリックス溶液）を用い、当該マトリックス溶液をスプレー法によりサンプルプレートＰに向けて噴霧する構成について説明する。ただし、ＭＡＬＤＩ用の試薬は、マトリックス溶液に限らず、誘導体化試薬又は酵素消化試薬などの他の試薬であってもよい。

サンプルプレートＰ上には、例えば生体組織切片などのサンプル（図示せず）が配置される。サンプルが配置されたサンプルプレートＰは、中空状のチャンバ１０内に設置され、ノズル２０からチャンバ１０内に噴霧されるマトリックス溶液が、チャンバ１０内のサンプルプレートＰ上に塗布される。ノズル２０は、サンプルプレートＰに対向しており、サンプルプレートＰに対して直交方向にマトリックス溶液を噴霧する。

チャンバ１０の内部には、サンプルプレートＰを着脱可能なステージ１１が設けられている。ステージ１１は、移動機構１２により移動させることができる。移動機構１２は、例えばモータ（図示せず）を備えており、当該モータを駆動させることによりステージ１１を移動させることができる。

移動機構１２は、サンプルプレートＰに平行な平面内で、互いに直交する２方向（Ｘ方向及びＹ方向）にサンプルプレートＰを移動させることができる。したがって、固定されたノズル２０からマトリックス溶液を噴霧しながら、移動機構１２を用いてサンプルプレートＰをＸ方向及びＹ方向に移動させることにより、サンプルプレートＰ上におけるマトリックス溶液が噴霧されるスポット（噴霧スポット）を移動させることができる。ただし、移動機構１２は、サンプルプレートＰを移動させるような構成に限らず、ノズル２０をサンプルプレートＰに対して平行に移動させるような構成であってもよいし、サンプルプレートＰ及びノズル２０の両方を移動させるような構成であってもよい。

チャンバ１０の壁面には、排気口１３が形成されている。排気口１３は、図示しないドラフトチャンバに連通しており、チャンバ１０内のガスがドラフトチャンバへと排気されるようになっている。

ノズル２０は、送液管２１とガス管２２とを含む。送液管２１は、マトリックス溶液をチャンバ１０内に噴射するためのものであり、先端部の内径が、例えば０．４ｍｍ程度の小径となっている。ガス管２２は、ガスをチャンバ１０内に噴射するためのものであり、送液管２１よりも大径である。ガス管２２は、送液管２１の外側を取り囲むように、送液管２１と同軸に配置される。これにより、ガス管２２の内周面と送液管２１の外周面との間にガスの流路が形成される。

送液管２１及びガス管２２の各先端位置は、軸線方向において略一致している。送液管２１内には、その軸線に沿ってニードル２３が設けられている。ニードル２３の先端は、送液管２１の先端から突出している。送液管２１内を送液されるマトリックス溶液は、ニードル２３に沿って導かれ、ニードル２３の先端からチャンバ１０内に噴射される。このとき、ガス管２２から噴射されるガスによってマトリックス溶液が拡散され、霧状になったマトリックス溶液がチャンバ１０内に噴霧される。

送液管２１は、配管３１を介して試薬貯留部３０に連通している。試薬貯留部３０は、試薬を収容するためのものであり、本実施形態ではマトリックス溶液が収容される。配管３１の一端は、試薬貯留部３０の内部におけるマトリックス溶液の液面よりも低い位置に配置される。

試薬貯留部３０内のマトリックス溶液は、配管３１を介してノズル２０へと導かれ、ノズル２０の送液管２１からチャンバ１０内に噴射される。配管３１の途中には、抵抗管３２が設けられている。抵抗管３２の内径は、配管３１の内径よりも小さく、例えば０．０１３ｍｍ程度である。したがって、試薬貯留部３０内から配管３１へと送液されるマトリックス溶液は、抵抗管３２で抵抗を受けることにより、適切な流量で安定してノズル２０に供給される。ただし、抵抗管３２は、配管３１よりも小径の構成に限らず、例えば内部に抵抗体が設けられた構成などのように、マトリックス溶液に対して抵抗を付与することができるような他の構成であってもよい。

ガス管２２は、配管４１，４６を介してガス源４０に連通している。ガス源４０は、例えばガスボンベ又はガス発生装置からなり、大気圧よりも高圧のガスを配管４１に送出する。ガス源４０から送出されるガスは、例えば窒素ガスなどの不活性ガスである。配管４１は、マニホールド４２及び切替バルブ４４を介して配管４６に連通している。マニホールド４２は、ガス源４０から配管４１に送出されるガスを複数（この例では３つ）の分岐路に分岐させるための多分岐管であり、その１つの分岐路に切替バルブ４４が設けられている。配管４１から配管４６へのガスの供給及び停止は、切替バルブ４４により切り替えることができる。

配管４１には、調整バルブ５１及び流量計５７が設けられている。流量計５７で検知される配管４１内のガスの流量に基づいて、調整バルブ５１の開度を調整することにより、所望の流量でガス源４０から配管４１にガスを送出させることができる。配管４６にも調整バルブ５２が設けられており、この調整バルブ５２の開度を調整することにより、ノズル２０に供給するガスの流量を調整することができる。

マニホールド４２により分岐された各分岐路には、上記切替バルブ４４の他、切替バルブ４３，４５が設けられている。切替バルブ４３には配管４７が連通しており、切替バルブ４５には配管４８が連通している。配管４１から配管４７へのガスの供給及び停止は、切替バルブ４３により切り替えることができる。また、配管４１から配管４８へのガスの供給及び停止は、切替バルブ４５により切り替えることができる。

配管４７は、チャンバ１０内に連通している。ノズル２０からマトリックス溶液を噴霧させる前に、配管４１，４７を介してチャンバ１０内にガスを供給することにより、チャンバ１０内の空気をガス源４０からのガスに置換することができる。配管４７には、圧力計５４、流量計５５及び調整バルブ５６などが設けられている。圧力計５４により検知される配管４７内のガスの圧力、及び、流量計５５により検知される配管４７内のガスの流量に基づいて、調整バルブ５６の開度を調整することにより、所望の圧力及び流量でチャンバ１０内にガスを供給することができる。

配管４８は、試薬貯留部３０に連通している。具体的には、試薬貯留部３０の内部であって、マトリックス溶液の液面よりも上方に配管４８の一端が位置している。配管４１，４８を介して試薬貯留部３０内にガスを供給し、マトリックス溶液の液面よりも上方の空間を加圧することにより、加圧された試薬貯留部３０内から配管３１へとマトリックス溶液が導出される。配管４８には、調整バルブ５３が設けられており、この調整バルブ５３の開度を調整することにより、試薬貯留部３０に供給するガスの流量を調整することができる。

移動機構１２及び切替バルブ４３，４４，４５などの各部は、制御部６０に対して電気的に接続されている。制御部６０は、例えばＣＰＵ（Central Processing Unit）を含み、ＣＰＵがコンピュータプログラムを実行することにより、各部の動作を制御することができる。制御部６０には、例えばキーボード又はマウスなどを含む入力部７０が電気的に接続されている。ユーザは、入力部７０を操作することにより、各種設定などの入力を行うことができる。

試薬貯留部３０、配管３１、抵抗管３２、ガス源４０、配管４１，４６，４８、切替バルブ４４，４５などは、ノズル２０からマトリックス溶液を噴霧させる噴霧機構３００を構成している。制御部６０は、移動機構１２及び噴霧機構３００を制御することにより、サンプルプレートＰ及びノズル２０を相対移動させながら、ノズル２０からサンプルプレートＰにマトリックス溶液を噴霧させることができる。

制御部６０は、ＣＰＵがコンピュータプログラムを実行することにより、第１移動処理部６１及び第２移動処理部６２として機能する。第１移動処理部６１は、サンプルプレートＰを一直線上で移動させる。これにより、サンプルプレートＰ及びノズル２０が第１方向（Ｘ方向）に沿って相対移動される。第２移動処理部６２は、第１移動処理部６１とは異なる方向にサンプルプレートＰを一直線上で移動させる。これにより、サンプルプレートＰ及びノズル２０が第１方向に交差（例えば直交）する第２方向（Ｙ方向）に沿って相対移動される。

２．試薬の噴霧方法
図２は、試薬の噴霧方法の一例について説明するための図である。図２Ａは、噴霧スポットＳが移動する領域を示した平面図である。試薬としてのマトリックス溶液は、サンプルプレートＰにおけるノズル２０側の表面である塗布領域Ｒに噴射されて塗布される。この例では、サンプルプレートＰの表面全体が塗布領域Ｒであるが、これに限らず、サンプルプレートＰの表面の一部のみが塗布領域Ｒであってもよい。

サンプルプレートＰ上におけるサンプルが配置される領域（サンプル配置領域Ｒ０）は、塗布領域Ｒ全体であってもよいし、塗布領域Ｒの一部であってもよい。マトリックス溶液は、少なくともサンプル配置領域Ｒ０に塗布されればよいが、本実施形態では、サンプル配置領域Ｒ０を含む塗布領域Ｒにマトリックス溶液を塗布する場合について説明する。

塗布領域Ｒにマトリックス溶液を塗布する際には、まず、塗布領域Ｒから離れた開始点Ｐ１１においてマトリックス溶液の噴霧が開始される。ノズル２０から噴霧されるマトリックス溶液は、図２に破線で示すように、サンプルプレートＰが設置されるステージ１１上において、所定の半径ｒを有する円形の噴霧スポットＳとして塗布される。噴霧スポットＳの半径ｒは、例えば１５ｍｍであるが、これに限られるものではない。

噴霧スポットＳは、その中心が開始点Ｐ１１からＸ方向及びＹ方向に交互に移動され、終了点ＰＥまで移動する過程で塗布領域Ｒ全体を噴霧スポットＳが均一に通過することにより、塗布領域Ｒ全体にマトリックス溶液が塗布される。ノズル２０からのマトリックス溶液の噴霧は、開始点Ｐ１１から終了点ＰＥまで継続して行われる。本実施形態では、噴霧スポットＳが開始点Ｐ１１からＸ方向に沿って一方向に移動された後、Ｙ方向に所定量シフトされ、その後にＸ方向に沿って逆方向に移動されるという往復移動が繰り返される。以下の説明において、噴霧スポットＳの位置とは、噴霧スポットＳの中心位置を意味するものとする。

開始点Ｐ１１からＸ方向への移動を開始した噴霧スポットＳは、噴霧安定化領域Ｒ１、加減速領域Ｒ２、余白領域Ｒ３及び加減速領域Ｒ４を順次通過する。噴霧安定化領域Ｒ１は、ノズル２０からのマトリックス溶液の噴霧を開始してから噴霧状態が安定するまでの待ち時間を設けるための領域である。噴霧状態が安定するとは、ノズル２０からの噴霧量が一定になることを意味しており、例えば噴霧量のばらつきが目標値に対して±５％の範囲まで許容されてもよい。噴霧安定化領域Ｒ１のＸ方向の幅は、例えば５ｍｍであるが、これに限られるものではない。

加減速領域Ｒ２，Ｒ４は、移動機構１２によりステージ１１を加速又は減速させる際の待ち時間を設けるための領域である。ステージ１１を加速させる際には、噴霧スポットＳの位置が加減速領域Ｒ２，Ｒ４にある間に、噴霧スポットＳの移動速度が一定速度に到達する。一方、ステージ１１を減速させる際には、噴霧スポットＳの位置が加減速領域Ｒ２，Ｒ４にある間に、一定速度で移動していた噴霧スポットＳが停止する。上記一定速度とは、例えば２５０ｍｍ／ｓｅｃであり、速度のばらつきが目標値に対して±５％の範囲まで許容されてもよい。加減速領域Ｒ２，Ｒ４のＸ方向の幅は、例えば１２．５ｍｍであるが、これに限られるものではない。

余白領域Ｒ３は、塗布領域Ｒの外周に設定された領域であり、例えば噴霧スポットＳの半径ｒに応じた幅に設定される。本実施形態における余白領域Ｒ３は、塗布領域Ｒの外周に沿って一定の幅で設定された矩形状の領域であり、上記幅が噴霧スポットＳの半径ｒと一致している。ただし、このような構成に限らず、上記幅が噴霧スポットＳの半径ｒよりも小さくてもよいし、大きくてもよい。また、上記幅は一定に限らず、部分的に幅が変化してもよい。

図２Ｂは、噴霧スポットＳがＸ方向に沿って一方向に移動されるときの噴霧スポットＳの移動速度の変化を示している。また、図２Ｃは、噴霧スポットＳがＸ方向に沿って逆方向に移動されるときの噴霧スポットＳの移動速度の変化を示している。図２Ｂ及び図２Ｃのいずれについても、図２Ａとの位置関係が対応付けて示されている。

開始点Ｐ１１からＸ方向への移動を開始した噴霧スポットＳは、図２Ｂに実線で示すように移動速度が徐々に増加する。そして、噴霧スポットＳの位置が加減速領域Ｒ２に入った地点Ｐ１２では、噴霧スポットＳの噴霧状態が安定し、加減速領域Ｒ２を通過する間に噴霧スポットＳの移動速度が一定速度に到達する。その後、噴霧スポットＳの位置が余白領域Ｒ３に入った地点Ｐ１３から加減速領域Ｒ４に入る地点Ｐ１４までは、噴霧スポットＳの移動速度が一定速度で維持される。噴霧スポットＳの位置が加減速領域Ｒ４に入ると、噴霧スポットＳの移動速度が徐々に低下し、加減速領域Ｒ４が終わる地点Ｐ１５でＸ方向に沿った移動が停止する。

このようにして噴霧スポットＳの位置が開始点Ｐ１１から地点Ｐ１５までＸ方向に沿って移動する際には、図２Ａに示すように、噴霧スポットＳが塗布領域Ｒの外側を移動する。すなわち、余白領域Ｒ３の幅が噴霧スポットＳの半径ｒと一致しているため、地点Ｐ１３から地点Ｐ１４まで噴霧スポットＳが余白領域Ｒ３を通過する際に、噴霧スポットＳは塗布領域Ｒを通過しない。このとき、噴霧スポットＳは、塗布領域Ｒに含まれるサンプル配置領域Ｒ０も通過しない。ただし、サンプル配置領域Ｒ０が塗布領域Ｒよりも小さい場合には、地点Ｐ１３から地点Ｐ１４まで噴霧スポットＳが余白領域Ｒ３を通過する際に、噴霧スポットＳがサンプル配置領域Ｒ０を通過しない範囲で塗布領域Ｒの一部を通過してもよい。

その後、噴霧スポットＳの位置は、地点Ｐ１５から地点Ｐ２１までＹ方向に移動されてから、Ｘ方向に沿って逆方向に再度移動される。このとき、地点Ｐ２１からＸ方向に沿って逆方向に移動を開始した噴霧スポットＳは、図２Ｃに実線で示すように移動速度が徐々に増加する。そして、噴霧スポットＳの位置が加減速領域Ｒ４を通過する間に、噴霧スポットＳの移動速度が一定速度に到達する。その後、噴霧スポットＳの位置が余白領域Ｒ３に入った地点Ｐ２２から加減速領域Ｒ２に入る地点Ｐ２３までは、噴霧スポットＳの移動速度が一定速度で維持される。噴霧スポットＳの位置が加減速領域Ｒ２に入ると、噴霧スポットＳの移動速度が徐々に低下し、加減速領域Ｒ２が終わる地点Ｐ２４でＸ方向に沿った移動が停止する。

噴霧スポットＳの位置が地点Ｐ２２から地点Ｐ２３までＸ方向に沿って移動する際には、噴霧スポットＳが塗布領域Ｒ内を移動する。余白領域Ｒ３の幅が噴霧スポットＳの半径ｒと一致しているため、図２Ａに示すように、噴霧スポットＳの位置が地点Ｐ２２から余白領域Ｒ３に入るときには、噴霧スポットＳが周縁部から一定速度で塗布領域Ｒ内に入る。これにより、ノズル２０からのマトリックス溶液の噴霧量、及び、噴霧スポットＳの移動速度が、いずれも一定となった後に、塗布領域Ｒ内に噴霧スポットＳが移動される。このとき、噴霧スポットＳがサンプル配置領域Ｒ０内を移動することにより、サンプル配置領域Ｒに配置されたサンプルにマトリックス溶液が塗布される。

その後、噴霧スポットＳの位置は、地点Ｐ２４から地点Ｐ３１までＹ方向に移動されてから、Ｘ方向に沿って再度移動される。噴霧スポットＳがＹ方向に移動される際には、図２Ａに示すように、噴霧スポットＳが塗布領域Ｒの外側を移動する。すなわち、余白領域Ｒ３の幅が噴霧スポットＳの半径ｒと一致しているため、噴霧スポットＳがＹ方向に移動される際に、噴霧スポットＳは塗布領域Ｒを通過しない。このとき、噴霧スポットＳは、塗布領域Ｒに含まれるサンプル配置領域Ｒ０も通過しない。ただし、サンプル配置領域Ｒ０が塗布領域Ｒよりも小さい場合には、噴霧スポットＳがＹ方向に移動される際に、噴霧スポットＳがサンプル配置領域Ｒ０を通過しない範囲で塗布領域Ｒの一部を通過してもよい。

地点Ｐ３１からＸ方向に沿って移動を開始した噴霧スポットＳは、図２Ｂに二点鎖線で示すように移動速度が徐々に増加する。そして、噴霧スポットＳの位置が加減速領域Ｒ４を通過する間に、噴霧スポットＳの移動速度が一定速度に到達する。その後、噴霧スポットＳの位置が余白領域Ｒ３に入ってからの噴霧スポットＳの移動速度の変化は、上述の地点Ｐ１３から地点Ｐ１５までの移動速度の変化と同様である。

その後は、同様の態様で噴霧スポットＳの移動がＸ方向及びＹ方向に交互に実行され、終了点ＰＥまで噴霧スポットＳが移動される。噴霧スポットＳが終了点ＰＥに到達するまでの最後のＸ方向への移動時には、最初のＸ方向への移動時と同様に、噴霧スポットＳが塗布領域Ｒの外側を移動する。このとき、噴霧スポットＳは、塗布領域Ｒに含まれるサンプル配置領域Ｒ０を通過しない。ただし、サンプル配置領域Ｒ０が塗布領域Ｒよりも小さい場合には、噴霧スポットＳがサンプル配置領域Ｒ０を通過しない範囲で塗布領域Ｒの一部を通過してもよい。

３．変形例
以上の実施形態では、ノズル２０からのマトリックス溶液の噴霧が開始されると同時に、噴霧スポットＳの移動が開始されるような構成について説明した。しかし、このような構成に限らず、例えば噴霧安定化領域Ｒ１が省略され、加減速領域Ｒ２が始まる地点Ｐ１２が噴霧スポットＳの移動の開始点とされてもよい。この場合、開始点Ｐ１２でノズル２０からのマトリックス溶液の噴霧が開始され、噴霧スポットＳの噴霧状態が安定した後に開始点Ｐ１２からの噴霧スポットＳの移動が開始されてもよい。

Ｙ方向への噴霧スポットＳの移動量は、噴霧スポットＳの半径ｒと同一の移動量に限らず、噴霧スポットＳの半径ｒよりも大きい移動量であってもよいし、噴霧スポットＳの半径ｒよりも小さい移動量であってもよい。Ｙ方向への噴霧スポットＳの移動は、例えば噴霧スポットＳの直径２ｒと同一の移動量などであってもよい。

Ｘ方向に沿った噴霧スポットＳの移動時に、噴霧スポットＳが塗布領域Ｒを通過するような構成に限らず、Ｙ方向に沿った噴霧スポットＳの移動時に、噴霧スポットＳが塗布領域Ｒを通過するような構成であってもよい。すなわち、図２ＡにおけるＸ方向に沿った噴霧スポットＳの移動が、Ｙ方向に沿った移動とされ、図２ＡにおけるＹ方向に沿った噴霧スポットＳの移動が、Ｘ方向に沿った移動とされてもよい。

４．態様
上述した複数の例示的な実施形態は、以下の態様の具体例であることが当業者により理解される。

（第１項）一態様に係るＭＡＬＤＩ用前処理装置は、
サンプルプレート上のサンプル配置領域に配置されたサンプルに対して、ノズルから試薬を噴霧させることにより、前記サンプル配置領域を含む塗布領域に試薬を塗布するためのＭＡＬＤＩ用前処理装置であって、
前記サンプルプレート及び前記ノズルの少なくとも一方を移動させる移動機構と、
前記ノズルから試薬を噴霧させる噴霧機構と、
前記移動機構及び前記噴霧機構を制御することにより、前記サンプルプレート及び前記ノズルを相対移動させながら、前記ノズルから前記サンプルプレートに試薬を噴霧させる制御部とを備え、
前記制御部は、前記ノズルから噴霧される試薬の前記サンプルプレート上における噴霧スポットを開始点から終了点まで移動させることにより、前記塗布領域全体に試薬を塗布させるものであり、前記ノズルからの試薬の噴霧量及び前記噴霧スポットの移動速度が一定になった後、前記サンプル配置領域内に前記噴霧スポットを移動させてもよい。

第１項に記載のＭＡＬＤＩ用前処理装置によれば、ノズルから噴霧される試薬の噴霧スポットが一定の噴霧量及び移動速度になるまではサンプル配置領域内を噴霧スポットが移動せず、噴霧スポットの噴霧量及び移動速度が一定になった後にサンプル配置領域内を噴霧スポットが移動する。したがって、サンプル配置領域内を噴霧スポットが常に一定の噴霧量及び移動速度で移動するため、サンプル配置領域に均一な膜厚で試薬を塗布することができる。

（第２項）第１項に記載のＭＡＬＤＩ用前処理装置において、
前記制御部は、
前記サンプルプレート及び前記ノズルを第１方向に沿って相対移動させる第１移動処理部と、
前記サンプルプレート及び前記ノズルを前記第１方向に交差する第２方向に沿って相対移動させる第２移動処理部とを備え、
前記サンプルプレート及び前記ノズルの相対移動を前記第１方向及び前記第２方向に交互に実行させることにより、前記噴霧スポットを前記開始点から前記終了点まで移動させてもよい。

第２項に記載のＭＡＬＤＩ用前処理装置によれば、サンプルプレート及びノズルの相対移動を第１方向及び第２方向に交互に実行させることにより、噴霧スポットを開始点から終了点まで移動させ、サンプル配置領域に均一な膜厚で試薬を塗布することができる。

（第３項）第２項に記載のＭＡＬＤＩ用前処理装置において、
前記噴霧スポットを前記開始点から前記第１方向に沿って移動させる際には、前記噴霧スポットが前記サンプル配置領域の外側を移動し、その後に前記噴霧スポットを前記第２方向に移動させてから前記第１方向に沿って再度移動させるときに、前記噴霧スポットが前記サンプル配置領域内を移動してもよい。

第３項に記載のＭＡＬＤＩ用前処理装置によれば、噴霧スポットを開始点から第１方向に沿って移動させる際には、噴霧スポットがサンプル配置領域内を移動しないため、噴霧スポットの径を考慮して、より均一な膜厚でサンプル配置領域に試薬を塗布することができる。

（第４項）第２項又は第３項に記載のＭＡＬＤＩ用前処理装置において、
前記噴霧スポットを前記第２方向に沿って移動させる際には、前記噴霧スポットが前記サンプル配置領域の外側を移動してもよい。

第４項に記載のＭＡＬＤＩ用前処理装置によれば、噴霧スポットを第２方向に沿って移動させる際には、噴霧スポットがサンプル配置領域内を移動しないため、噴霧スポットの径を考慮して、より均一な膜厚でサンプル配置領域に試薬を塗布することができる。

１０ チャンバ
１１ ステージ
１２ 移動機構
１３ 排気口
２０ ノズル
３０ 試薬貯留部
４０ ガス源
６０ 制御部
６１ 第１移動処理部
６２ 第２移動処理部
７０ 入力部
３００ 噴霧機構
Ｐ サンプルプレート
Ｐ１１ 開始点
ＰＥ 終了点
Ｓ 噴霧スポット
Ｒ０ サンプル配置領域
Ｒ１ 噴霧安定化領域
Ｒ２ 加減速領域
Ｒ３ 余白領域
Ｒ４ 加減速領域

Claims (2)

1. サンプルプレート上のサンプル配置領域に配置されたサンプルに対して、ノズルから試薬を噴霧させることにより、前記サンプル配置領域を含む塗布領域に試薬を塗布するためのＭＡＬＤＩ用前処理装置であって、
   前記サンプルプレート及び前記ノズルの少なくとも一方を移動させる移動機構と、
   前記ノズルから試薬を噴霧させる噴霧機構と、
   前記移動機構及び前記噴霧機構を制御することにより、前記サンプルプレート及び前記ノズルを相対移動させながら、前記ノズルから前記サンプルプレートに試薬を噴霧させる制御部とを備え、
   前記制御部は、前記ノズルから噴霧される試薬の前記サンプルプレート上における噴霧スポットを開始点から終了点まで移動させることにより、前記塗布領域全体に試薬を塗布させるものであり、前記ノズルからの試薬の噴霧量及び前記噴霧スポットの移動速度が一定になった後、前記サンプル配置領域内に前記噴霧スポットを移動させ、
   前記制御部は、
   前記サンプルプレート及び前記ノズルを第１方向に沿って相対移動させる第１移動処理部と、
   前記サンプルプレート及び前記ノズルを前記第１方向に交差する第２方向に沿って相対移動させる第２移動処理部とを備え、
   前記サンプルプレート及び前記ノズルの相対移動を前記第１方向及び前記第２方向に交互に実行させることにより、前記噴霧スポットを前記開始点から前記終了点まで移動させ、
   前記噴霧スポットを前記開始点から前記第１方向に沿って移動させる際には、前記噴霧スポットが前記サンプル配置領域の外側を移動し、その後に前記噴霧スポットを前記第２方向に移動させてから前記第１方向に沿って再度移動させるときに、前記噴霧スポットが前記サンプル配置領域内を移動する、ＭＡＬＤＩ用前処理装置。
2. 前記噴霧スポットを前記第２方向に沿って移動させる際には、前記噴霧スポットが前記サンプル配置領域の外側を移動する、請求項１に記載のＭＡＬＤＩ用前処理装置。

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