JP7008405B2 - シチジン-5-カルボキサミド修飾ヌクレオチド組成物及びそれに関連する方法 - Google Patents
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Description
本出願は米国特許法第119条(e)の定めにより、その全体が本明細書に参照として組み込まれる2013年11月21日に出願された米国仮特許出願第61/907,274号の優先権を主張する。
SELEX(試験管内進化法)は選択的に標的分子に結合するオリゴヌクレオチド(「アプタマー」と称する)の同定方法である。SELEX過程は米国特許第5,270,163号に記載されており、その内容はその全体が参照として本明細書に組み込まれる。SELEX法は結合親和性及び選択性の事実上どのような所望の基準も達成するオリゴヌクレオチドのランダム混合物からのオリゴヌクレオチドの選択及び同定を含む。SELEX過程の過程で同定されたオリゴヌクレオチドに修飾ヌクレオシドの特定のタイプを導入することにより、ヌクレアーゼ安定性、正味電荷、親水性または親油性は三次元構造及びオリゴヌクレオチドの標的結合機能における違いを提供するように変更されてもよい。従って、異なる修飾ヌクレオシドは、SELEXの過程で選択されたオリゴヌクレオチドの所望の特性を「調整」する能力を提供する。
1態様において、本開示は式I(Formula I):
式中、
Rは独立して-(CH2)n-であり、式中、nは0、1、2、3、4、5、6、7、8、9 または10から選択される整数であり;
RX1は独立して
式中、
RX4は置換または非置換の分岐型または直鎖の低級アルキル(C1-C20);水酸基;ハロゲン(F、Cl、Br、I);ニトリル(CN);ボロン酸(BO2H2);カルボン酸(COOH);カルボン酸エステル(COORX2);第1級アミド(CONH2);第2級アミド(CONHRX2);第3級アミド(CONRX2RX3);スルホンアミド(SO2NH2);N-アルキルスルホンアミド(SONHRX2)から成る群から独立して選択され;
RX2及びRX3が独立して、それぞれの存在について、置換または非置換の分岐型または直鎖の低級アルキル(C1-C20);フェニル(C6H5);式中RX4は上記で定義した通りである、RX4で置換したフェニル環(RX4C6H4);カルボン酸(COOH);式中RX5は分岐型または直鎖の低級アルキル(C1-C20)である、カルボン酸エステル(COORX5);及びシクロアルキルから成る群から選択され、ここで、RX2及びRX3は一緒になって置換または非置換の5または6員環を形成し;
Xは-H、-OH、-OMe、-O-アリル、-F、-OEt、-OPr、-OCH2CH2OCH3、-NH2及び-アジドから成る群から独立して選択され;
R’は-H、-OAc;-OBz;-P(NiPr2)(OCH2CH2CN);及び-OSiMe2tBuから成る群から独立して選択され;
R’’は水素、4,4’-ジメトキシトリチル(DMT)及びトリホスフェート(-P(O)(OH)-O-P(O)(OH)-O-P(O)(OH)2)またはそれらの塩から成る群から独立して選択され;
Zは-H、置換または非置換の分岐型または直鎖の低級アルキル(C1-C4);及びそれらの塩から成る群から独立して選択され;
次の例外:
n=4である場合、RX1はHで有り得なく;
n=3である場合、RX1はCH3で有り得なく;
n=0である場合、RX1は-CH(CH3)2で有り得なく;及び
n=2である場合、及びRX1が
関連の態様において、nは1、2または3から選択される整数である。
関連の態様において、RX1が:
式中
Zは-H、置換または非置換の分岐型または直鎖の低級アルキル(C1-C4)から成る群から独立して選択される。
関連の態様において、Xが-H、-OH、-OMe及び-Fから成る群から独立して選択される。
関連の態様において、R’’はトリホスフェート(-P(O)(OH)-O-P(O)(OH)-O-P(O)(OH)2)である。
式中、
Xは-H、-OH、-OMe、-O-アリル、-F、-OEt、-OPr、-OCH2CH2OCH3、-NH2及び-アジドから成る群から独立して選択される、化合物を提供する。
関連の1態様において、核酸分子がRNA、DNA、またはそれらの組み合わせを含む。
関連の1態様において、核酸分子がアプタマーである。
関連の1態様において、核酸分子の少なくとも1つの追加のヌクレオチドは2’-アミノ(2’-NH2)、2’-フルオロ(2’-F)、2’-O-メチル(2’-OMe)、2’-O-エチル(2’-OEt)、2’-O-プロピル(2’-OPr)、2’-O-CH2CH2OCH3及びアジドを含むがこれらに限定されない2’位糖修飾から成る群から選択される化学修飾を含有する。
式中、
Rは独立して-(CH2)n-であって、nは0、1、2、3、4、5、6、7、8、9または10から選択される整数であって;
RX1は独立して
式中、
式中、
RX4は分岐型または直鎖の低級アルキル(C1-C20);水酸基;ハロゲン(F、Cl、Br、I);ニトリル(CN);ボロン酸(BO2H2);カルボン酸(COOH);カルボン酸エステル(COORX2);第1級アミド(CONH2);第2級アミド(CONHRX2);第3級アミド(CONRX2RX3);スルホンアミド(SO2NH2);N-アルキルスルホンアミド(SONHRX2)から成る群から独立して選択され;
RX2及びRX3が独立して、それぞれの存在について、分岐型または直鎖の低級アルキル(C1-C20);フェニル(C6H5);式中RX4は上記で定義した通りである、RX4で置換したフェニル環(RX4C6H4);カルボン酸(COOH);式中RX5は分岐型または直鎖の低級アルキル(C1-C20)である、カルボン酸エステル(COORX5);及びシクロアルキルから成る群から選択され、ここで、RX2及びRX3は一緒になって置換または非置換の5または6員環を形成し;
Xは-H、-OH、-OMe、-O-アリル、-F、-OEt、-OPr、-OCH2CH2OCH3、NH2及び-アジドから成る群から独立して選択され;
Zは-H、置換または非置換C(1-4)アルキル;及びそれらの塩から成る群から独立して選択され;
次の例外:
n=4である場合、RX1はHで有り得なく;
n=3である場合、RX1はCH3で有り得なく;
n=0である場合、RX1は-CH(CH3)2で有り得なく;及び
n=2である場合、及びRX1が
関連の1態様において、nは1、2、または3である。
関連の1態様において、RX1:
式中、
Zは-H、置換または非置換のC(1-4)アルキルから成る群から独立して選択される。
関連の1態様において、Xが-H、-OH、-OMe及び-Fから成る群から独立して選択される。
関連の1態様において、R’’はトリホスフェート(-P(O)(OH)-O-P(O)(OH)-O-P(O)(OH)2)である。
関連の1態様において、核酸分子が15から100ヌクレオチドの長さである。
関連の1態様において、核酸分子がアプタマーである。
関連の1態様において、化合物は式IIA、IIIA、IVA、VA、VIA、VIIA及びVIIIA:
式中、
Xは-H、-OH、-OMe、-O-アリル、-F、-OEt、-OPr、-OCH2CH2OCH3、NH2及び-アジドから成る群から独立して選択される。
式中、
Rは独立して-(CH2)n-であって、nは0、1、2、3、4、5、6、7、8、9または10から選択される整数であって;
RX1は独立して
式中、
式中、
RX4は分岐型または直鎖の低級アルキル(C1-C20);水酸基;ハロゲン(F、Cl、Br、I);ニトリル(CN);ボロン酸(BO2H2);カルボン酸(COOH);カルボン酸エステル(COORX2);第1級アミド(CONH2);第2級アミド(CONHRX2);第3級アミド(CONRX2RX3);スルホンアミド(SO2NH2);N-アルキルスルホンアミド(SONHRX2)から成る群から独立して選択され、
RX2及びRX3が独立して、それぞれの存在について、分岐型または直鎖の低級アルキル(C1-C20);フェニル(C6H5);式中RX4は上記で定義した通りである、RX4で置換したフェニル環(RX4C6H4);カルボン酸(COOH);式中RX5は分岐型または直鎖の低級アルキル(C1-C20)である、カルボン酸エステル(COORX5);及びシクロアルキルから成る群から選択され、ここで、RX2及びRX3は一緒になって置換または非置換の5または6員環を形成し;
Xは-H、-OH、-OMe、-O-アリル、-F、-OEt、-OPr、-OCH2CH2OCH3、NH2及び-アジドから成る群から独立して選択され;
Zは-H、置換または非置換C(1-4)アルキルから成る群から独立して選択される、化合物の製造方法を提供し、
前記方法は式IX(Formula IX)
式中、
RX6がヨードまたは臭素基であり;
RX7及びRX8は独立して、それぞれの存在について、水素または保護基であり;
Xは-H、-OH、-OMe、-O-アリル、-F、-OEt、-OPr、-OCH2CH2OCH3、NH2及び-アジドから成る群から独立して選択される、化合物を提供すること;及び
RX1-R-NH2、一酸化炭素及び溶媒の存在下でのパラジウム(0)触媒反応により式IXを有する化合物を変換させること;及び
式Iを有する化合物を単離することを含む。
関連の1態様において、RX7及びRX8は水素である。
関連の1態様において、Xが-H、-OMe及び-Fから成る群から選択される。
関連の1態様において、RX1が:
式中、
Zは-H、置換または非置換C(1-4)アルキルから成る群から独立して選択される。
関連の1態様において、R’が-H、-OAc及び-P(NiPr2)(OCH2CH2CN)から成る群から選択される。
関連の1態様において、保護基がトリフェニルメチル、p-アニシルジフェニルメチル、ジ-p-アニシルジフェニルメチル、p-ジメトキシトリチルトリチル、ホルミル、t-ブチルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、2-クロロベンジルオキシカルボニル、4-クロロベンゾイルオキシカルボニル、2,4-ジクロロベンジルオキシカルボニル、フルフリルカルボニル、t-アミルオキシカルボニル、アダマンチルオキシカルボニル、2-フェニルプロピル(2)-オキシカルボニル、2-(4-ビフェニル)プロピル(2)-オキシカルボニル、2-ニトロフェニルスルフェニル及びジフェニルホスフィニルから成る群から選択される。
式中、
Xは-H、-OH、-OMe、-O-アリル、-F、-OEt、-OPr、-OCH2CH2OCH3、NH2及び-アジドから成る群から独立して選択される、化合物の製造方法を提供し、
該方法は、式IX(Formula IX)
式中、
RX6がヨードまたは臭素基であり;
RX7及びRX8は独立して、それぞれの存在について、水素または保護基であり;
Xは-H、-OH、-OMe、-O-アリル、-F、-OEt、-OPr、-OCH2CH2OCH3及び-アジドから成る群から独立して選択される、化合物を提供すること;及び
RX1-R-NH2、一酸化炭素及び溶媒の存在下でのパラジウム(0)触媒反応により式IXを有する化合物を変換させること;及び
式II、III、及びIVを有する化合物を単離することを含む。
関連の1態様において、RX7及びRX8は水素である。
関連の1態様において、Xは-H、-OMe及び-Fから成る群から選択される。
別の態様において、標的分子はPSCK9タンパク質、PSMAタンパク質、ERBB2タンパク質及びERBB3タンパク質から成る群から選択される。
別の態様において、遅いオフ速度の富化過程が工程(b)に先立ち行われる。関連の1態様において、遅いオフ速度の富化過程が競争剤分子の追加、希釈工程、希釈工程が後続する競争剤分子の追加の組み合わせ、競争剤分子の追加が後続する希釈工程の組み合わせ、及び同時の競争剤分子の追加及び希釈工程の組み合わせから成る群から選択される。
特に記載のない限り、技術用語は従来の用法に従い使用される。分子生物学における一般的な用語の定義は、Oxford University Press、1994 (ISBN 0-19-854287-9)により出版されたBenjamin Lewin、Genes V; Blackwell Science Ltd.、1994 (ISBN 0-632-02182-9)により出版されたKendrew et al. (eds.)、The Encyclopedia of Molecular Biology;及びVCH Publishers、Inc.、1995 (ISBN 1-56081-569-8)により出版されたRobert A. Meyers (ed.)、Molecular Biology and Biotechnology: a Comprehensive Desk Referenceにおいて見いだされ得る。
本明細書に記載のC-5修飾シチジンの化学修飾はまた、単独またはいずれかの組み合わせで、2’位糖修飾、環外アミンでの修飾、及び4-チオシチジンの置換などと合わせられ得る。
対応する化合物の塩、例えば、薬剤的に許容可能な塩の例を調製、精製、及び/または処理するのは便利または望ましいことで有り得る。薬剤的に許容可能な塩の例は、Berge et al. (1977) ’’Pharmaceutically Acceptable Salts’’ J. Pharm. Sci. 66:1-19で考察されている。
オリゴヌクレオチドの調製
1態様において、本開示は、修飾オリゴヌクレオチドを調整するために、単独または他の修飾ヌクレオシド及び/もしくは天然ヌクレオシドと組み合わされる、本明細書に記載の修飾ヌクレオシドの使用法を提供する。合成オリゴデオキシヌクレオシドの自動合成は多くの研究室で通常の業務である(例えば、Matteucci、M. D.及びCaruthers、M. H.、(1990) J. Am. Chem. Soc.、103:3185-3191を参照されたい、その内容はその全体が参照として本明細書に組み込まれる)。オリゴリボヌクレオシドの合成もまたよく知られる(例えば、Scaringe、S. A.、et al.、(1990);Nucleic Acids Res. 18:5433-5441を参照されたい、その内容はその全体が参照として本明細書に組み込まれる)。本明細書に記載されるように、ホスホルアミダイトは化学合成によりオリゴヌクレオチドに修飾ヌクレオシドを取り込むのに有用であり、トリホスフェートは酵素合成によりオリゴヌクレオチドに修飾ヌクレオシドを取り込むのに有用である(例えば、Vaught、J. D. et al. (2004) J. Am. Chem. Soc.、126:11231-11237; Vaught、J. V.、et al. (2010) J. Am. Chem. Soc. 132、4141-4151;Gait、M. J. ’’ Oligonucleotide Synthesis a practical approach’’ (1984) IRL Press (Oxford、UK); Herdewijn、P. ’’ Oligonucleotide Synthesis ’’ (2005)(Humana Press、Totowa、N.J.を参照されたい(各々その全体が参照として本明細書に組み込まれる)。
式中、
Rは独立して-(CH2)n-であって、nは0、1、2、3、4、5、6、7、8、9または10から選択される整数であって;
RX1は独立して
式中、
式中、
RX4は分岐型または直鎖の低級アルキル(C1-C20);水酸基;ハロゲン(F、Cl、Br、I);ニトリル(CN);ボロン酸(BO2H2);カルボン酸(COOH);カルボン酸エステル(COORX2);第1級アミド(CONH2);第2級アミド(CONHRX2);第3級アミド(CONRX2RX3);スルホンアミド(SO2NH2);N-アルキルスルホンアミド(SONHRX2)から成る群から独立して選択され、
RX2及びRX3が独立して、それぞれの存在について、分岐型または直鎖の低級アルキル(C1-C20);フェニル(C6H5);式中RX4は上記で定義した通りである、RX4で置換したフェニル環(RX4C6H4);カルボン酸(COOH);式中RX5は分岐型または直鎖の低級アルキル(C1-C20)である、カルボン酸エステル(COORX5);及びシクロアルキルから成る群から選択され、ここで、RX2およびRX3は一緒になって置換または非置換の5または6員環を形成し;
Xは-H、-OH、-OMe、-O-アリル、-F、-OEt、-OPr、-OCH2CH2OCH3、NH2及び-アジドから成る群から独立して選択され;
R’は-H、-OAc;-OBz;-P(NiPr2)(OCH2CH2CN);及び-OSiMe2tBuから成る群から独立して選択され;
R’’は水素、4,4’-ジメトキシトリチル(DMT)及びトリホスフェート(-P(O)(OH)-O-P(O)(OH)-O-P(O)(OH)2)またはそれらの塩から成る群から独立して選択され;
Zは-H、置換または非置換C(1-4)アルキル;及びそれらの塩から成る群から独立して選択される、化合物を含む核酸分子の製造方法を提供し;該方法は複数のヌクレオチド及び式Iを有する少なくとも1つの化合物を有する核酸分子の合成を含む。
式中、
Xは-H、-OH、-OMe、-O-アリル、-F、-OEt、-OPr、-OCH2CH2OCH3、-NH2及び-アジドから成る群から独立して選択される、化合物を含む核酸分子の製造方法を提供し;
該方法は複数のヌクレオチド及び式II、III及びIVから成る群から選択される式を有する少なくとも1つの化合物を有する核酸分子の合成を含む。
本明細書において、「SELEX」及び「SELEX過程」という用語は交換可能に用い、通常は、(1)例えば、タンパク質と高親和性で結合する、標的分子と望ましく相互作用する核酸の選択と(2)選択した核酸の増幅との組み合わせを意味する。SELEX過程を用いて、特定の標的分子やバイオマーカーに対して高親和性を有するアプタマーを同定することができる。
本開示で提供される化合物の化学合成の方法を本明細書に記載する。これら及び/または他の周知の方法は、本開示で提供される追加の化合物の合成を容易にするために、既知の方法で変更及び/または適合させることができる。
ある特定の実施形態において、保護基がトリフェニルメチル、p-アニシルジフェニルメチル、ジ-p-アニシルジフェニルメチル、p-ジメトキシトリチルトリチル、ホルミル、t-ブチルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、2-クロロベンジルオキシカルボニル、4-クロロベンゾイルオキシカルボニル、2,4-ジクロロベンジルオキシカルボニル、フルフリルカルボニル、t-アミルオキシカルボニル、アダマンチルオキシカルボニル、2-フェニルプロピル(2)-オキシカルボニル、2-(4-ビフェニル)プロピル(2)-オキシカルボニル、2-ニトロフェニルスルフェニル及びジフェニルホスフィニルから成る群から選択される。
本実施例は5-(N-ベンジルカルボキサミド)-2’-デオキシシチジン(またはBndC;以下のスキーム1(4a)を参照されたい)の製造方法を提供する。簡潔に述べると、室温での24~48時間の必要な芳香族第1級アミンRCH2NH2(5~10当量)、一酸化炭素(</=1atm)、及びN,N-ジメチルホルムアミド(DMF)中の(Ph3P)4Pd(2mol%)による処置により(スキーム1)、市販の5-ヨード-2’-デオキシシチジン(3)を対応するN-置換-カルボキサミド(4a-c)に転換した。過剰の第1級アミン及び制限された一酸化炭素は2-ケトカルボキサミド副産物の生成を制限するのに必要であった(例えば、Uozumi、Y. et al. (2001)及びTakacs et al.、2008を参照されたい)。修飾ヌクレオシド生成物(4a-c)を容易にアルコールからの再結晶により精製した。
5-(N-3-フェニルプロピル)-2’-デオキシ-2’-フルオロ-シチジン(13):(4c)について記載の通りに5-ヨード-2’-デオキシ-2’-フルオロ-シチジンから調製し、毛氈状の白色固体として(12)を得た(53%収率)。1H NMR (500 MHz, d6-DMSO): δ = 8.52 (s, 1H), 8.07 (bs, 1H), 7.95 (t, J = 5.4 Hz,1H), 7.85 (bs, 1H), 7.22 (t, J = 7.4, 5H), 5.91 (d, J = 17.6 Hz, 1H), 5.58 (d, J = 6.6 Hz, 1H), 5.32 (t, J = 5.3 Hz, 1H), 4.99 (dd, J = 53.2, 3.9 Hz, 1H), 4.27 (m, 1H), 3.92 (d, J = 8.3 Hz,1H), 3.86 (m, 1H), 3.58 (ddd, J =12.5, 5.4, 2.9 Hz, 1H), 3.19 (dd, J = 12.7, 5.3 Hz, 2H), 2.61 (t, J = 7.5 Hz, 2H), 1.78 (m, J = 7.3 Hz, 2H). 13C NMR (500 MHz, d6-DMSO): δ = 165.22 (s, 1C), 163.74 (s, 1C), 153.34 (s, 1C), 143.82 (s, 1C), 141.73 (s, 1C), 128.42 (s, 2C), 128.35 (s, 2C), 125.81 (s, 1C), 99.26 (1C), 94.02 (d, J = 736.6 Hz, 1C), 88.65 (d, J = 134.7 Hz, 1C), 83.07 (s, 1C), 67.00 (d, J = 65 Hz, 1C), 59.24 (s, 1C), 38.65 (s, 1C), 32.64 (s, 1C), 30.73 (s, 1C). 19F NMR (400 MHz, d6-DMSO): δ = -200.82 (ddd, J = 19.0, 6.2, 56.6 Hz, 1F). MS m/z: C19H22N4O5の計算値[M-]405.41;実測値405.1 (ESI-)
本実施例は5-(N-1-ナフチルメチル)-2’-デオキシシチジン-5-カルボキサミド(またはNapdC;実施例1中のスキーム1(4b)を参照されたい)の製造方法を提供する。
4-N-アセチル-5-(N-1-ナフチルメチルカルボキサミド)-2’-デオキシシチジン(5b):100mLの丸底フラスコを(4b)(1.17g、2.85mmol)で及び無水テトラヒドロフラン(26mL)で充填し、攪拌し、灰白色のスラリーを形成した。室温で攪拌しながら、無水酢酸(1.4mL、14.3mmol、5当量)を混合物に滴下した。反応混合物を攪拌し、21時間50℃に熱した。分取をTlc分析(シリカゲル、溶離液:10%メタノール/90%ジクロロメタン(v/v)、Rf(4b)=0.61、Rf(5b)=0.12)用に取り出し、それは反応が完了したことを示した。反応フラスコ氷浴に移し、>1時間攪拌した。混合物を次いで濾過し、濾過ケーキを冷却したイソプロピルエーテルで洗浄した。得られた固体を収集し、真空中でさらに蒸発させ、微細な灰白色の結晶を得た(1.01g、78.2%収率)。1H NMR (500 MHz, d6-DMSO): δ = 11.35 (s, 1H), 9.07 (t, J = 4.6 Hz, 1H), 8.74 (s, 1H), 8.15 (d, J = 8.7 Hz, 1H), 7.96 (m, 1H), 7.87 (m, 1H), 7.53 (m, 4H), 6.11 (t, J = 6.2 Hz, 1H), 5.29 (d, J = 4.2 Hz, 1H), 5.08 (t, J = 5.4 Hz, 1H), 4.92 (dd, J = 15.5, 10.1 Hz, 1H), 4.91 (dd, J = 15.7, 9.7 Hz, 1H), 4.28 (dt, J = 9.4, 3.8 Hz, 1H), 3.92 (dd, J = 7.6, 3.9 Hz, 1H), 3.64 (m, 1H), 3.58 (m, 1H), 2.42 (s, 3H), 2.35 (m, 1H), 2.22 (m, 1H). 13C NMR (500 MHz, d6-DMSO): δ = 171.27 (1C), 165.53 (1C), 159.77 (1C), 153.20 (1C), 146.30 (1C), 136.48 (1C), 134.17 (1C), 133.74 (1C), 131.26 (1C), 129.02 (1C), 128.12 (1C), 126.83 (1C), 126.33 (1C), 125.95 (1C), 123.80 (1C), 100.38 (1C), 88.74 (1C), 87.63 (1C), 70.25 (1C), 61.29 (1C), 41.13 (1C), 40.92 (1C), 26.71 (1C). MS m/z: C23H23N4O6の計算値[M-]451.46;実測値451.1 (ESI-)。
本実施例は5-(N-3-フェニルプロピルカルボキサミド)-2’-デオキシシチジン(またはPPdC;実施例1中のスキーム1(4c)を参照されたい)の製造方法を提供する。
本実施例はヌクレオシドトリホスフェートの精製方法を提供する。
粗トリホスフェート(9a-c)を2つの直交分取HPLC技術により精製した:他のヌクレオシド副産物(2リン酸塩及び1リン酸塩など)からヌクレオシドトリホスフェートを分離するアニオン交換クロマトグラフィー及び反応試薬の残りの副産物を取り除く逆相クロマトグラフィーである。
ABI 3900自動DNA合成装置(Applied Biosystems、Foster City、CA)を、修飾ホスホルアミダイトについての結合条件に小変更を伴い、従来のホスホルアミダイト法で用いた(7a~c)(表4)。試薬(7a)をジクロロメタン/アセトニトリル(1/1)中の0.1M溶液として用い、試薬(7b)及び(7c)をアセトニトリル中の0.1M溶液として用いた。固体支持体は、1000Åの細孔径を有する3’-DMT-dTコハク酸を搭載した細孔性ガラス(CPG、Prime Synthesis、Aston、PA)を充填したABI式フリットカラムであった(CPG、Prime Synthesis、Aston、PA)。アセトニトリル中の20%ジエチルアミンでの処理、続いて気体のメチルアミン切断及び2時間35℃での脱保護により、脱保護を達成した。同一性及び%完全長(%FL)の生成物を、11分間中の0から25%Bの勾配(緩衝液A:100mMの1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロ-2-プロパノール、8.6mMのトリエチルアミン、pH8.25;緩衝液B:90%アセトニトリル中の10%緩衝液A)を用い、Acquity OST C18 カラム 1.7 μm 2.1X100mm(Waters Corp.、Milford、MA)を用いたAgilent 6130B単一四重質量分析検出器を備えるAgilent 1290 Infinityで決定した。
ACN アセトニトリル
デブロック トルエン中の10%ジクロロ酢酸
活性剤 ACN中の0.3Mの5-ベンジルメルカプトテトラゾール及び0.5%N-メチ ルイミダゾール
酸化剤 44.9%ACN/45%ピリジン/10.1%水中の0.025Mヨウ素
キャップA ピリジン及びテトラヒドロフラン中の無水酢酸
キャップB テトラヒドロフラン中の1-メチルイミダゾール
Ar 20秒間の乾燥アルゴンフラッシュ
プライマー伸長アッセイ:修飾ヌクレオシドトリホスフェートを全ての可能なトリプレットヌクレオチドの組み合わせを含む標準テンプレートを用いたプライマー伸長アッセイにおけるKODエキソヌクレアーゼ-マイナスDNAポリメラーゼについての基質として評価した。テンプレート配列は、5’-TTTTTTTTCTTCTTCTCCTTTCTCTTCCCAAAATCACACGGACCCAGGGCATTCT AGATATGGTTTACGCTCAAGCGAACTTGCCGTCCTGAGTGTAAAGAGGGAAAgagggcagggtgtggcatatatat-3’(RC70X27.37、TriLink Biotechnologies)(配列番号:1)であった。
5’-atatatatgccacaccctgccctc-3’((AT)4-5P27、IDT Technologies)(配列番号:2)であった。
本実施例はシチジン-5-カルボキサミド修飾ヌクレオチドを有する核酸分子の製造方法を提供する。
以下の表5は0から5のシチジン-5-カルボキサミド修飾ヌクレオチドを伴うオリゴヌクレオチド合成の%収率を要約する。
本実施例はシチジン-5-カルボキサミド修飾ヌクレオチド(スキーム2の9a、9b及び9c)はKODエキソヌクレアーゼ-マイナスDNAポリメラーゼにより基質として使用され得ることを示す。
本実施例はシチジン-5-カルボキサミド修飾ヌクレオチドアプタマーはSELEXによりタンパク質標的との結合のために選択され得ることを示す。さらに、本実施例はタンパク質標的に対してSELEXから得られたシチジン-5-カルボキサミド修飾ヌクレオチドアプタマーの、同じタンパク質標的に対するSELEXから得られたウリジン-5-カルボキサミド修飾ヌクレオチドアプタマーに対する比較を示す。
修飾ランダムライブラリを標準オリゴヌクレオチド合成プロトコルを用いたKOD DNAポリメラーゼを用い酵素的に合成した。該ランダムライブラリは「dC/dT」とラベルされた対照ライブラリを含み、C-5修飾ヌクレオチドを含まなかった;NapdCライブラリ、NapdU(5-[N-(1-ナフチルメチル)カルボキサミド]-2’-デオキシウリジン)ライブラリ、PPdCライブラリ及びPPdU(5-[N-(フェニル-3-プロピル)カルボキサミド]-2’-デオキシウリジン)ライブラリであった。全てのランダムライブラリを、ライブラリあたり少なくとも5nmolの最終生成物を標的とするこれらの同じ条件を用い酵素的に合成した(出発アンチセンステンプレートから50~60%収率)。粗ライブラリを10kDaのNMWカットオフ限外濾過遠心分離装置を用い濃縮した。濃縮生成物をスピンダウンし、SPIN-X微小遠心管を用いいかなるストレプトアビジン(SA)アガロースビーズも除去し、260nmでの吸光度を測定し、推定された吸光係数を用いて定量化した。各修飾センスライブラリはビオチン化アンチセンス鎖の汚染のため遊離SAを移すのが不可能であること及び標準的なPCR増幅条件についても品質管理した(データは示されない)。
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Claims (28)
- 式I:
に示される構造を含む化合物:
式中、
R-R X1 は、ベンジル、1-ナフチルメチル、または3-フェニルプロピルであり、
Xは-H、-OH、-OMe、-O-アリル、-F、-OEt、-OPr、-OCH2CH2OCH3及び-アジドから成る群から独立して選択され;
R’は-H、-Ac;-Bz;-P(NiPr2)(OCH2CH2CN);及び-SiMe2tBuから成る群から独立して選択され;
R’’は水素、4,4’-ジメトキシトリチル(DMT)及びトリホスフェート(-P(O)(OH)-O-P(O)(OH)-O-P(O)(OH)2)またはそれらの塩から成る群から独立して選択される;
及びそれらの塩。 - Xが-H、-OH、-OMe及び-Fから成る群から独立して選択される、請求項1に記載の化合物。
- R’が-H、-Ac及び-P(NiPr2)(OCH2CH2CN)から成る群から選択される、請求項1に記載の化合物。
- R’’がトリホスフェート(-P(O)(OH)-O-P(O)(OH)-O-P(O)(OH)2)である、請求項1に記載の化合物。
- 請求項1から4のいずれかに記載の化合物を含む核酸分子。
- 請求項6から8のいずれかに記載の化合物を含む核酸分子。
- 前記保護基がトリフェニルメチル、p-アニシルジフェニルメチル、ジ-p-アニシルジフェニルメチル、p-ジメトキシトリチルトリチル、ホルミル、t-ブチルオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、2-クロロベンジルオキシカルボニル、4-クロロベンゾイルオキシカルボニル、2,4-ジクロロベンジルオキシカルボニル、フルフリルカルボニル、t-アミルオキシカルボニル、アダマンチルオキシカルボニル、2-フェニルプロピル-(2)-オキシカルボニル、2-(4-ビフェニル)プロピル-(2)-オキシカルボニル、2-ニトロフェニルスルフェニル及びジフェニルホスフィニルから成る群から選択される、請求項10に記載の方法。
- RX6がヨード基である、請求項10に記載の方法。
- RX7及びRX8が水素である、請求項10に記載の方法。
- 前記パラジウム(0)触媒反応が0.1及び2気圧の間の一酸化炭素気圧で行われる、請求項10に記載の方法。
- 前記溶媒がジメチルホルムアミド(DMF)、ジクロロメタン(DCM)、テトラヒドロフラン(THF)、酢酸エチル、アセトン、アセトニトリル(MeCN)、ジメチルスルホキシド(DMSO)及びプロピレンカーボネートから成る群から選択される、請求項10に記載の方法。
- 標的分子についての結合親和性を有する核酸アプタマーの選択方法であって:
(a)標的と候補混合物を接触させること、
ここで前記候補混合物は修飾核酸アプタマーを含み、前記候補混合物の核酸アプタマーの少なくとも1つ、または各々における1つの、いくつかの、または全てのピリミジンが請求項1から4および6から8のいずれかに記載の化合物を含み、ここで前記標的分子についての結合親和性を有する核酸アプタマーは核酸アプタマー標的分子複合体を形成する;
(b)前記候補混合物から前記核酸アプタマー標的分子複合体を分割すること;
(c)前記核酸アプタマー標的分子複合体を分離し、遊離核酸アプタマーを生成すること;
(d)前記候補混合物中の他の核酸に比べて前記標的分子からの増加した分離半減期を有する核酸アプタマーを産生するために、前記遊離核酸アプタマーを増幅すること;
(e)1つの、いくつかの、または全てのピリミジンが請求項1から4および6から8のいずれかに記載の化合物を含み、そこで前記核酸アプタマーが前記標的分子についての結合親和性を有する、少なくとも1つの核酸アプタマーを同定すること
を含む、前記方法。 - 工程a)からd)を、前記標的分子に結合可能で前記標的分子に結合する時に遅いオフ速度を有する核酸配列に富む核酸アプタマーの前記混合物を用いて繰り返し、前記標的分子に結合可能で前記標的分子に結合する時に遅いオフ速度を有する核酸配列をさらに富化させる、請求項17に記載の方法。
- 前記核酸アプタマーの解離速度が約2分から約360分である、請求項17に記載の方法。
- 前記核酸アプタマーの解離速度が約2分以上である、請求項17に記載の方法。
- 前記標的分子がタンパク質またはペプチドである、請求項17に記載の方法。
- 前記標的分子がPSCK9タンパク質、PSMAタンパク質、ERBB2タンパク質及びERBB3タンパク質から成る群から選択される、請求項17に記載の方法。
- 前記少なくとも1つの核酸アプタマーが前記標的分子に100nM未満、または約0.1nMから約100nmの平衡結合定数(Kd)で結合することが出来る請求項17に記載の方法。
- 遅いオフ速度の富化過程に前記候補混合物を曝すことをさらに含む、請求項17に記載の方法。
- 前記遅いオフ速度の富化過程が工程(b)に先立ち行われる、請求項24に記載の方法。
- 前記遅いオフ速度の富化過程が競争剤分子の追加、希釈工程、希釈工程が後続する競争剤分子の追加の組み合わせ、競争剤分子の追加が後続する希釈工程の組み合わせ、及び同時の競争剤分子の追加及び希釈工程の組み合わせから成る群から選択される、請求項24に記載の方法。
- 前記競争剤分子がポリアニオンである、請求項26に記載の方法。
- 前記競争剤分子がオリゴヌクレオチド、dNTPs、ヘパリン及びデキストラン硫酸から成る群から選択される、請求項26に記載の方法。
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