JP6960352B2 - ステージ装置、及び荷電粒子線装置 - Google Patents
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Description
Claims (7)
- 試料を搭載するチャックと、XY方向に移動するXYステージと、Z方向に移動するZステージと、を備えるステージ装置であって、
前記Zステージは、
前記XYステージに固定され、XY面に対して傾いた傾斜面を有する傾斜部と、
前記傾斜面の上を移動する移動部と、
前記移動部に固定され、前記XY面と平行な面が設けられるテーブルと、
を有し、
前記XYステージは、X方向に移動するXステージと、Y方向に移動するYステージとがZ方向に重ねられたものであり、
前記試料の側に前記Xステージが配置された場合は、前記移動部の移動方向がZY面と平行であって、
前記試料の側に前記Yステージが配置された場合は、前記移動部の移動方向がZX面と平行であることを特徴とするステージ装置。 - 請求項1に記載のステージ装置であって、
前記移動部を移動させる駆動部をさらに備え、
前記駆動部は前記XYステージに固定されることを特徴とするステージ装置。 - 請求項2に記載のステージ装置であって、
前記駆動部は超音波モータであることを特徴とするステージ装置。 - 請求項1に記載のステージ装置であって、
前記移動部は前記傾斜面の傾斜方向に沿って移動することを特徴とするステージ装置。 - 請求項4に記載のステージ装置であって、
前記傾斜部は、前記移動部の移動を案内するガイドを有することを特徴とするステージ装置。 - 請求項1に記載のステージ装置であって、
前記XYステージには、複数の前記傾斜部が固定され、前記傾斜部の数と同数の前記移動部が備えられることを特徴とするステージ装置。 - 請求項1乃至6のいずれか一項に記載のステージ装置を備えることを特徴とする荷電粒子線装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018027793A JP6960352B2 (ja) | 2018-02-20 | 2018-02-20 | ステージ装置、及び荷電粒子線装置 |
| US16/240,885 US10658151B2 (en) | 2018-02-20 | 2019-01-07 | Stage device and charged particle beam device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2018027793A JP6960352B2 (ja) | 2018-02-20 | 2018-02-20 | ステージ装置、及び荷電粒子線装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2019145305A JP2019145305A (ja) | 2019-08-29 |
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ID=67618123
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2018027793A Active JP6960352B2 (ja) | 2018-02-20 | 2018-02-20 | ステージ装置、及び荷電粒子線装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US10658151B2 (ja) |
| JP (1) | JP6960352B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US10600614B2 (en) * | 2017-09-29 | 2020-03-24 | Hitachi High-Technologies Corporation | Stage device and charged particle beam device |
| JP7114450B2 (ja) * | 2018-12-04 | 2022-08-08 | 株式会社日立ハイテク | ステージ装置、及び荷電粒子線装置 |
| US20240071713A1 (en) * | 2020-12-30 | 2024-02-29 | Asml Netherlands B.V. | Dual focus soluton for sem metrology tools |
| US11658001B1 (en) * | 2022-12-07 | 2023-05-23 | Institute Of Geology And Geophysics, Chinese Academy Of Sciences | Ion beam cutting calibration system and method |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4856904A (en) * | 1985-01-21 | 1989-08-15 | Nikon Corporation | Wafer inspecting apparatus |
| DE68911330T2 (de) * | 1988-02-08 | 1994-05-26 | Toshiba Kawasaki Kk | Vorrichtung mit einem Ausrichtungsgestell. |
| US5850280A (en) * | 1994-06-16 | 1998-12-15 | Nikon Corporation | Stage unit, drive table, and scanning exposure and apparatus using same |
| JP4160824B2 (ja) * | 2002-12-20 | 2008-10-08 | 日本トムソン株式会社 | 昇降用案内ユニット及びそれを組み込んだステージ装置 |
| JP2006098718A (ja) * | 2004-09-29 | 2006-04-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | 描画装置 |
| US7907289B2 (en) * | 2007-09-13 | 2011-03-15 | Horiba, Ltd. | Substrate measuring stage |
| JP5289898B2 (ja) | 2008-11-07 | 2013-09-11 | 住友重機械工業株式会社 | ステージ装置及びプローバ装置 |
| GB201704770D0 (en) * | 2017-01-05 | 2017-05-10 | Illumina Inc | Predictive focus tracking apparatus and methods |
-
2018
- 2018-02-20 JP JP2018027793A patent/JP6960352B2/ja active Active
-
2019
- 2019-01-07 US US16/240,885 patent/US10658151B2/en active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US20190259567A1 (en) | 2019-08-22 |
| JP2019145305A (ja) | 2019-08-29 |
| US10658151B2 (en) | 2020-05-19 |
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