JP6837335B2 - 鉄コーティングによる種子製剤の作製方法 - Google Patents
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Description
[1]
1)種子に鉄粉を処理する工程、
2)種子に除草性組成物を処理する工程および
3)処理鉄粉の酸化反応を停止させる工程を含み、
3)の工程の前に、1)および2)の工程を実施することを特徴とする、鉄コーティング種子製剤の作製方法。
[2]
2)種子に除草性組成物を処理する工程を実施した後に、1)当該種子に鉄粉を処理する工程を実施する、[1]に記載の作製方法。
[3]
1)種子に鉄粉を処理する工程を実施した後、その鉄粉の酸化反応が停止する前に、2)当該種子に除草性組成物を処理する工程を実施する、[1]に記載の作製方法。
[4]
1)種子に鉄粉を処理する工程および2)種子に除草性組成物を処理する工程を同時に実施する、[1]に記載の作製方法。
[5]
除草性組成物が、(A1)白化型除草性化合物又はその塩および(A2)アセトラクテート合成酵素阻害型除草性化合物又はその塩からなる群より選択される少なくとも1種の除草性化合物を含む、[1]乃至[4]のいずれかに記載の作製方法。
[6]
(A1)白化型除草性化合物が、ピラゾール系除草性化合物又はその塩、トリケトン系除草性化合物又はその塩および6−クロロ−3−(2−シクロプロピル−6−メチルフェノキシ)ピリダジン−4−イル モルホリン−4−カルボキシレート又はその塩からなる群より選択される少なくとも1種である、[5]に記載の作製方法。
[7]
(A2)アセトラクテート合成酵素阻害型除草性化合物が、スルホニルウレア系除草性化合物又はその塩およびピリミジニルサリチル酸系除草性化合物又はその塩からなる群より選択される少なくとも1種である、[5]に記載の作製方法。
[8]
(A1)白化型除草性化合物が、ピラゾレートおよび6−クロロ−3−(2−シクロプロピル−6−メチルフェノキシ)ピリダジン−4−イル モルホリン−4−カルボキシレートからなる群より選択される少なくとも1種である、[5]又は[6]に記載の作製方法。
[9]
(A1)白化型除草性化合物が、ピラゾレートである、[5]、[6]又は[8]に記載の作製方法。
[10]
(A2)アセトラクテート合成酵素阻害型除草性化合物が、スルホニルウレア系除草性化合物もしくはその塩である、[5]又は[7]に記載の作製方法。
[11]
種子に除草性組成物を処理する工程において、種子に除草性組成物を処理することに加えて、当該種子に殺虫性組成物、殺菌性組成物および植物生長剤の少なくとも1種を処理する、[1]乃至[10]のいずれかに記載の作製方法。
[12]
種子が水稲種子である、[1]乃至[11]のいずれかに記載の作製方法。
[13]
[1]乃至[12]のいずれかに記載の作製方法で得られた鉄コーティング種子製剤。
[14]
種子が水稲種子である[13]に記載の鉄コーティング種子製剤。
[15]
[13]の鉄コーティング種子製剤を土壌表面に播種することを特徴とする雑草防除方法。
[16]
[14]の鉄コーティング種子製剤を水田土壌表面に播種することを特徴とする雑草防除方法。
また、例えば加熱処理などを施して発芽を抑制した種子に本願発明の鉄コーティングによる種子製剤の作製方法を適用することも可能である。
したがって、本発明の除草成分を処理した、鉄コーティングによる種子製剤の作製方法および作製した種子製剤は、雑草防除作業に要する労力の低減を図ることができる。
なお、本願の特許請求の範囲および明細書中において用いられる各用語は、特に断らない限り、当該技術分野において一般的に用いられる定義によるものとする。
1)種子に鉄粉を処理する工程、
2)種子に除草性組成物を処理する工程および
3)処理鉄粉の酸化反応を停止させる工程を含み、
工程3)の前に、工程1)および工程2)を実施することを特徴とする。
上記工程1)および工程2)の種子処理工程における種子処理方法としては、本発明の範囲内であれば当技術分野で公知の種子処理技術、例えば種子粉衣法、種子コーティング法、種子散粉法、種子浸漬法および種子ペレッティング法などを使用することができる。中でも、工程1)および工程2)のどちらにおいても、種子コーティング法を使用するのが好適である。
処理に使用する鉄粉の量は、種子1重量部に対し、0.05〜1.0重量部であることが好ましく、0.2〜0.5重量部であることがより好ましい。鉄粉と混合される焼石膏の量は、鉄粉100%に対し1〜25%であることが好ましく、5〜10%であることがより好ましい。仕上げに用いられる焼石膏の量は、鉄粉100%に対し0〜10%であることが好ましく、0.1〜5%であることがより好ましい。
(1)除草性農薬有効成分を、水中にて、必要に応じて界面活性剤などの補助剤成分を加えて湿式粉砕して得られた水性分散液、
(2)除草性農薬有効成分を、非極性溶媒中にて、必要に応じて、界面活性剤などの補助剤成分を加えて湿式粉砕して得られた油性分散液、
(3)除草性農薬有効成分を、必要に応じて界面活性剤などの補助剤成分とともに、乾式粉砕して得られた原末、
(4)(3)で得られた原末を、必要に応じて、界面活性剤などの補助剤成分とともに、水中で分散して得られた水性分散液、
(5)(3)で得られた原末を、必要に応じて、界面活性剤などの補助剤成分とともに、非極性溶媒中で、分散して得られた油性分散液、
(6)除草性農薬有効成分を水および必要に応じて、界面活性剤などの補助剤成分を加えて溶解して得られた液剤、
(7)除草性農薬有効成分を非極性溶剤に乳化剤および必要に応じて、界面活性剤などの補助剤成分を加えて溶解して得られた乳剤、
(8)粒状の除草性組成物を乾式粉砕して得られた原末、
(9)粒状の除草性組成物を水中又は非極性溶媒中にて必要に応じて界面活性剤などの補助剤成分を加えて分散、溶解して得られた液状組成物。
いかなる品種の水稲種子が除草性組成物に対して感受性を有しないかは、当業者にとっては明らかであるが、除草性組成物に対して感受性を有しない品種の水稲種子としては、例えば、コシヒカリ、ヒノヒカリ、ひとめぼれ、あきたこまち、キヌヒカリ、ななつぼし、はえぬき、きらら397、まっしぐら、つがるロマン、日本晴などが挙げられる。また、PPO阻害型除草性化合物、VLCFAE阻害形除草性化合物に対して感受性を有しない水稲種子、例えば、コシヒカリ、ヒノヒカリ、ひとめぼれ、あきたこまち、キヌヒカリなども好ましく用いることができる。
一方、当該除草性組成物に対して感受性を示す品種の水稲種子としては、例えば、メソトリオンやベンゾビシクロンに対して感受性を示す、ハバタキ、タカナリ、モミロマン、ミズホチカラ、ルリアオバ、おどろきもちなどが挙げられる。これらの除草性組成物に対して感受性を示す水稲種子に関しては、例えば、「日本作物学会紀事79(別1)」に記載されている。
で表される6−クロロ−3−(2−シクロプロピル−6−メチルフェノキシ)ピリダジン−4−イル モルホリン−4−カルボキシレート(以下、化合物(I)ともいう)などが挙げられる。
トリケトン系除草活性化合物としては、例えば、メソトリオン、スルコトリオン、ベンゾビシクロン、テフリルトリオン又はビシクロピロンなどが挙げられ、それぞれ、The Pesticide Manual 13th Editionの631−632、908−909、80頁に記載されている。これらの化合物は、HRAC分類体系のF2群に属する。また、テフリルトリオン(CAS No.473278−76−1)およびビシクロピロン(CAS No.352010−68−5)も、トリケトン系除草性化合物である。
(A2)ALS阻害型除草性化合物は、ALSを阻害することで必須アミノ酸である、バリン、ロイシンおよびイソロイシンの合成を阻害し雑草を枯死させる、よく知られた除草性化合物である。ALS阻害型除草性化合物としては、スルホニルウレア系除草性化合物、ピリミジニルサリチル酸系除草性化合物およびトリアゾロピリミジン系除草性化合物などが挙げられる。これらの化合物は、HRAC分類体系のB群に属する。
(A3)PPO阻害型除草性化合物は、PPOを阻害し褐変症状を引き起こして雑草を枯死させる、よく知られた除草性化合物である。PPO阻害型除草性化合物は、例えば、オキサジアルギル、オキサジアゾン、ペントキサゾンなどであり、それぞれThe Pesticide Manual 13th Editionの 725−726、727−728、757−758頁に記載されている。
工程2)の種子への処理に際しては、除草性組成物の処理量は、除草性化合物の種類および除草性組成物の製剤形態に応じて適宜決定することができる。例えば、種子1kgあたり、有効成分の除草性化合物として、0.01g〜3000g、好適には、0.1g〜1000gが処理されるように、除草性組成物の処理量を決定することができる。
すなわち、アゾキシストルビン(azoxystrobin)、クレソキシムメチル(kresoxym−methyl)、トリフロキシストロビン(trifloxystrobin)、メトミノストロビン(metominostrobin)、オリサストロビン(orysastrobin)、ピラクロストロビン(pyraclostrobin)、ピコキシストロビン(picoxystrobin)などのストロビルリン系化合物; メパニピリム(mepanipyrim)、ピリメサニル(pyrimethanil)、シプロジニル(cyprodinil)などのアニリノピリミジン系化合物; トリアジメホン(triadimefon)、ビテルタノール(bitertanol)、トリフルミゾール(triflumizole)、メトコナゾール(metoconazole)、プロピコナゾール(propiconazole)、ペンコナゾール(penconazole)、フルシラゾール(flusilazole)、ミクロブタニル(myclobutanil)、シプロコナゾール(cyproconazole)、テブコナゾール(tebuconazole)、ヘキサコナゾール(hexaconazole)、プロクロラズ(prochloraz)、シメコナゾール(simeconazole)、フェナリモル(fenarimol)、イマザリル(imazalil)、エポキシコナゾール(epoxiconazole)、プロチオコナゾール(prothioconazole)、イプコナゾール(ipconazole)、ペフラゾエート(pefurazoate)などのアゾール系化合物; キノメチオネート(quinomethionate)などのキノキサリン系化合物; マンネブ(maneb)、ジネブ(zineb)、マンコゼブ(mancozeb)、ポリカーバメート(polycarbamate)、プロビネブ(propineb)、チラム(thiram)などのジチオカーバメート系化合物; ジエトフェンカルブ(diethofencarb)などのフェニルカーバメート系化合物; クロロタロニル(chlorothalonil)、キントゼン(quintozene)などの有機塩素系化合物; ベノミル(benomyl)、チオファネートメチル(thiophanate−methyl)、カーベンダジム(carbendazole)などのベンズイミダゾール系化合物; メタラキシル(metalaxyl)、メタラキシル−M(metalaxyl−M)、オキサジキシル(oxadixyl)、オフラセ(ofurase)、ベナラキシル(benalaxyl)、フララキシル(furalaxyl)、シプロフラン(cyprofuram)などのフェニルアミド系化合物; ジクロフルアニド(dichlofluanid)などのスルフェン酸系化合物; 水酸化第二銅(copper hydroxide)、オキシキノリン銅(oxine−copper)などの銅系化合物; ヒドロキシイソキサゾール(hydroxyisoxazole)などのイソキサゾール系化合物; ホセチルアルミニウム(fosetyl−aluminium)、トルクロホス−メチル(tolclofos−methyl)などの有機リン系化合物; キャプタン(captan)、カプタホール(captafol)、フォルペット(folpet)などのN−ハロゲノチオアルキル系化合物; プロシミドン(procymidone)、イプロジオン(iprodione)、ビンクロゾリン(vinclozolin)などのジカルボキシイミド系化合物; フルトラニル(flutolanil)、メプロニル(mepronil)、フラメトピル(furametpyr)、チフルザミド(thifluzamide)、ボスカリド(boscalid)、ペンチオピラド(penthiopyrad)、イソフェタミド(isofetamid)、フルオピラム(fluopyram)、セダキサン(sedaxane)、ビキサフェン(bixafen)、ペンフルフェン(penflufen)、フロキサピロキサド(fluxapyroxad)、イソピラザム(isopyrazam)、ベンゾビンディフルピル(benzovindiflupyr)などのカルボキシアニリド系化合物; フェンプロピモルフ(fenpropimorph)、ジメトモルフ(dimethomorph)などのモルフォリン系化合物; 水酸化トリフェニルスズ(fentin hydroxide)、酢酸トリフェニルスズ(fentin acetate)などの有機スズ系化合物; フルジオキソニル(fludioxonil)、フェンピクロニル(fenpiclonil)などのシアノピロール系化合物; その他トリシクラゾール(tricyclazole)、ピロキロン(pyroquilon)、カルプロパミド(carpropamid)、ジクロシメット(diclocymet)、フェノキサニル(fenoxanil)、フサライド(fthalide)、フルアジナム(fluazinam)、シモキサニル(cymoxanil)、トリホリン(triforine)、ピリフェノックス(pyrifenox)、フェンプロピディン(fenpropidin)、ペンシクロン(pencycuron)、フェリムゾン(ferimzone)、シアゾファミド(cyazofamid)、アミスルブロム(amisulbrom)、イプロバリカルブ(iprovalicarb)、ベンチアバリカルブイソプロピル(benthiavalicarb−isopropyl)、イミノクタジンアルベシル酸塩(iminoctadine−albesilate)、シフルフェナミド(cyflufenamid)、カスガマイシン(kasugamycin)、バリダマイシン(validamycin)、イソプロチオラン(isoprothiolane)、ストレプトマイシン(streptomycin)、オキソリニック酸(oxolinic−acid)、テブフロキン(tebufloquin)、プロベナゾール(probenazole)、チアジニル(tiadinil)イソチアニル(isotianil)、トルプロカルブ(tolprocarb)、MIF−1002などの殺菌剤、 アクリナトリン(acrinathrin)、アレスリン(allethrin)[(1R)−アイソマー]、ビフェントリン(bifenthrin)、ビオアレスリン(bioallethrin)、ビオアレスリン S−シクロペンテニル アイソマー(bioallethrin S−cyclopentenyl isomer)、ビオレスメトリン(bioresmethrin)、シクロプロトリン(cycloprothrin)、シフルトリン(cyfluthrin)、ベータ−シフルトリン(beta−cyfluthrin)、シハロトリン(cyhalothrin)、ガンマ−シハロトリン(gamma−cyhalothrin)、ラムダ−シハロトリン(lambda−cyhalothrin)、シペルメトリン(cypermethrin)、アルファ−シペルメトリン(alpha−cypermethrin)、ベータ−シペルメトリン(beta−cypermethrin)、セタ−シペルメトリン(theta−cypermethrin)、ゼダ−シペルメトリン(zeta−cypermethrin)、シフェノトリン[(1R)−トランス−アイソマー](cyphenothrin [(1R)−trans−isomer])、デルタメトリン(deltamethrin)、エンペントリン[(EZ)−(1R)−アイソマー](empenthrin[(EZ)−(1R)−isomer])、エスフェンバレレート(esfenvalerate)、エトフェンプロックス(ethofenprox)、フェンプロパトリン(fenpropathrin)、フェンバレレート(fenvalerate)、フルシトリネート(flucythrinate)、フルメトリン(flumethrin)、タウ−フルバリネート(tau−fluvalinate)、ハルフェンプロックス(halfenprox)、イミプロトリン(imiprothrin)、メトトリン(methothrin)、メトフルトリン(metofluthrin)、ペルメトリン(permethrin)、フェノトリン[(1R)−トランス−アイソマー](phenothrin[(1R)−trans−isomer])、プラレトリン(prallethrin)、レスメトリン(resmethrin)、RU15525(カデトリン(kadethrin))、シラフルオフェン(silafluofen)、テフルトリン(tefluthrin)、テトラメトリン(tetramethrin)、テトラメトリン[(1R)−アイソマー](tetramethrin[(1R)−isomer])、トラロメトリン(tralomethrin)、トランスフルトリン(transfluthrin)、ZXI8901、バイオペルメトリン(biopermethrin)、フラメトリン(furamethrin)、プロフルトリン(profluthrin)、フルブロシトリネート(flubrocythrinate)、ジメフルトリン(dimefluthrin)などのピレスロイド系化合物又はこれらの各種異性体;アセフェート(acephate)、アザメチホス(azamethiphos)、アジンホス−メチル(azinphos−methyl)、アジンホス−エチル(azinphos−ethyl)、カズサホス(cadusafos)、クロルエトキシホス(chlorethoxyfos)、クロルフェンビンホス(chlorfenvinphos)、クロルメホス(chlormephos)、クロルピリホス(chlorpyrifos)、クロルピリホス−メチル(chlorpyrifos−methyl)、クマホス(coumaphos)、CYAP(シアノホス(cyanophos))、デメトン−S−メチル(demeton−S−methyl)、ダイアジノン(diazinon)、ECP(ジクロフェンチオン(dichlofenthion))、DDVP(ジクロルボス(dichlorvos))、ジクロトホス(dicrotophos)、ジメトエート(dimethoate)、ジメチルビンホス(dimethylvinphos)、ジスルホトン(エチルチオメトン)(disulfoton)、EPN(O−エチル O−4−ニトロフェニル フェニルホスホノチオアート(O−ethyl O−4−nitrophenyl phenylphosphonothioate))、エチオン(ethion)、エトプロホス(ethoprophos)、ファムフール(Famphur)、フェナミホス(fenamiphos)、MEP(フェニトロチオン(fenitrothion))、MPP(フェンチオン(fenthion))、ホスチアゼート(fosthiazate)、ヘプテノホス(heptenophos)、イソフェンホス−メチル(isofenphos−methyl)、イソカルボホス(Isocarbophos)(イソプロピル O−(メトキシアミノチオ=ホスホリル) サリチラート)、イソキサチオン(isoxathion)、マラチオン(malathion)、メカルバム(mecarbam)、メタミドホス(methamidophos)、DMTP(メチダチオン(methidathion))、メビンホス(mevinphos)、モノクロトホス(monocrotophos)、BRP(ナレッド(naled))、オメトエート(omethoate)、オキシデメトン−メチル(oxydemeton−methyl)、パラチオン(parathion)、パラチオン−メチル(parathion−methyl)、PAP(フェントエート(phenthoate))、ホレート(phorate)、ホサロン(phosalone)、ホスメット(phosmet)、ホスファミドン(phosphamidon)、ホキシム(ph
oxim)、ピリミホス−メチル(pirimiphos−methyl)、プロフェノホス(profenofos)、プロペタンホス(propetamphos)、プロチオホス(prothiofos)、ピラクロホス(pyraclofos)、ピリダフェンチオン(pyridaphenthion)、キナルホス(quinalphos)、スルホテップ(Sulfotep)、テブピリムホス(tebupirimfos)、テメホス(temephos)、テルブホス(terbufos)、チオメトン(thiometon)、トリアゾホス(triazophos)、DEP(トリクロルホン(trichlorfon))、バミドチオン(vamidothion)、Bayer 22/190 (クロルチオン(chlorothion))、ブロムフェンビンホス(bromfenvinfos)、ブロモホス(bromophos)、ブロモホス−エチル(bromophos−ethyl)、ブタチオホス(butathiofos)、カルボフェノチオン(carbophenothion)、クロルホキシム(Chlorphoxim)、スルプロホス(sulprofos)、ジアミダホス(diamidafos)、CVMP(テトラクロルビンホス(tetrachlorvinphos))、プロパホス(propaphos)、メスルフェンホス(mesulfenfos)、ジオキサベンゾホス(サリチオン)(dioxabenzofos)、エトリムホス(etrimfos)、オキシデプロホス(oxydeprofos)、ホルモチオン(formothion)、フェンスルホチオン(fensulfothion)、イサゾホス(isazofos)、イミシアホス(imicyafos)(AKD3088)、イサミドホス(isamidofos)、チオナジン(thionazin)、ホスチエタン(fosthietan)などの有機リン系化合物; ホスホカルブ(phosphocarb)、アラニカルブ(alanycarb)、ブトカルボキシム(butocarboxim)、ブトキシカルボキシム(butoxycarboxim)、チオジカルブ(thiodicarb)、チオファノックス(Thiofanox)などのオキシム・カーバメート系化合物; アルジカルブ(aldicarb)、ベンジオカルブ(bendiocarb)、ベンフラカルブ(benfuracarb)、NAC(カルバリル(carbaryl))、カルボフラン(carbofuran)、カルボスルファン(carbosulfan)、エチオフェンカルブ(ethiofencarb)、BPMC(フェノブカルブ(fenobucarb))、ホルメタネート(Formetanate)、フラチオカルブ(furathiocarb)、MIPC(イソプロカルブ(isoprocarb))、メチオカルブ(methiocarb)、メソミル(methomyl)、オキサミル(oxamyl)、ピリミカーブ(pirimicarb)、PHC(プロポキスル(propoxur))、トリメタカルブ(trimethacarb)、XMC(3,5−xylyl methylcarbamate)、アリキシカルブ(allyxycarb)、アルドキシカルブ(aldoxycarb)、ブフェンカルブ(bufencarb)、ブタカルブ(butacarb)、カーバノレート(carbanolate)、MTMC(メトルカルブ(metolcarb))、MPMC(キシルイルカルブ(xylylcarb))、フェノチオカルブ(fenothiocarb)、ベンダイオカルブ(bendiocarb)などのカーバメート系化合物; アセタミプリド(acetamiprid)、クロチアニジン(clothianidin)、ジノテフラン(dinotefuran)、イミダクロプリド(imidacloprid)、ニテンピラム(nitenpyram)、チアクロプリド(thiacloprid)、チアメトキサム(thiamethoxam)などのネオニコチノイド系化合物; クロマフェノジド(chromafenozide)、ハロフェノジド(halofenozide)、メトキシフェノジド(methoxyfenozide)、テブフェノジド(tebufenozide)などのジアシルヒドラジン系化合物、 ビストリフルロン(bistrifluron)、クロルフルアズロン(chlorfluazuron)、ジフルベンズロン(diflubenzuron)、フルシクロクスロン(flucycloxuron)、フルフェノクスロン(flufenoxuron)、ヘキサフルムロン(hexaflumuron)、ルフェヌロン(lufenuron)、ノバルロン(novaluron)、ノビフルムロン(noviflumuron)、テフルベンズロン(teflubenzuron)、トリフルムロン(triflumuron)などのベンゾイルウレア系化合物; フェノキシカルブ(fenoxycarb)、ヒドロプレン(hydroprene)、キノプレン(kinoprene)、メソプレン(methoprene)、ピリプロキシフェン(pyriproxyfen)、などの幼若ホルモン系化合物; クロルデン(chlordane)、エンドスルファン(endosulfan)、リンデン(lindane(gamma−HCH))、ジエノクロル(dienochlor)などのシクロジエン有機塩素系化合物; カルタップ塩酸塩(Cartap hydrochloride)、チオシクラム(thiocyclam)などの2−ジメチルアミノプロパン−1,3−ジチオール系化合物; アミトラズ(amitraz)などのアミジン系化合物; エチプロール(ethiprole)、フィプロニル(fipronil)、アセトプロール(acetoprole)などのフェニルピラゾール系化合物; アゾシクロチン(azocyclotin)、シヘキサチン(cyhexatin)、酸化フェンブタスズ(フェンブタチンオキシド)(fenbutatin oxide)などの有機スズ系化合物; フェナザキン(fenazaquin)、フェンピロキシメート(fenpyroximate)、ピリダベン(pyridaben)、ピリミジフェン(pyrimidifen)、テブフェンピラド(tebufenpyrad)、トルフェンピラド(tolfenpyrad)などのMETI系化合物; ブロモプロピレート(bromopropylate)などのベンジレート系化合物; クロルフェナピル(chlorfenapyr)などのアリルピロール系化合物; DNOC、ビナパクリル(binapacryl)などのジニトロフェノール系化合物; クロラントラニリプロール(chlorantraniliprole)、シアントラニリプロール(cyantraniliprole)などのアントラニル・ジアミド系化合物; インドキサカルブ(indoxacarb)などのオキサジアジン系化合物; メタフルミゾン(metaflumizone)などのセミカルバゾン系化合物; スピロジクロフェン(spirodiclofen)、スピロメシフェン(spiromesifen)、スピロテトラマト(spirotetramat)などのテトロン酸系化合物; トリアザメート(triazamate)などのカルバモイルトリアゾール系化合物; ジフロビダジン(diflovidazin)などのテトラジン系化合物; アバメクチン(abamectin)、エマメクチン安息香酸塩(emamectin benzoate)、ミルベメクチン(milbemectin)、レピメクチン(lepimectin)、アセキノシル(acequinocyl)、アザジラクチン(azadirachtin)、ベンスルタップ(bensultap)、ベンゾキシメート(Benzoximate)、ビフェナゼート(bifenazate)、ブプロフェジン(buprofezin)、CGA−50439、キノメチオネート(chinomethionat)、クロフェンテジン(clofentezine)、クリオライト(cryolite)、シロマジン(cyromazine)、ダゾメット(dazomet)、DCIP、DDT、ジアフェンチウロン(diafenthiuron)、D−D(1,3−ジクロロプロペン(1,3−Dichloropropene))、ジコホール(dicofol)、ジシクラニル(dicyclanil)、ジノブトン(dinobuton)、ジノカップ(dinocap)、ENT 8184、エトキサゾール(etoxazole)、フロニカミド(flonicamid)、フルアクリピリム(fluacrypyrim)、フルベンジアミド(flubendiamide)、GY−81(ペルオキソカルボナート)、ヘキシチアゾクス(hexythiazox)、ヒドラメチルノン(hydramethylnon)、ヨウ化メチル(methyl iodide)、カランジン(karanjin)、MB−599(verbutin)、 メタム(metam)、メトキシクロール(methoxychlor)、メチルイソチオシアネート(methyl isothiocyanate)、ペンタクロロフェノール(pentachlorophenol)、ホスフィン(phosphine)、ピペロニル ブトキシド(piperonyl butoxide)、ポリナクチン複合体(polynactins)、BPPS(プロパルギット(propargite))、ピメトロジン(pymetrozine)、ピレトリン(pyrethrins)、ピリダリル(pyridalyl)、ロテノン(rotenone)、S421(ビス(2,3,3,3−テトラクロロプロピル)エーテル)、サバディラ(sabadilla)、スピノサド(spinosad)、スピネトラム(spinetoram)、スルコフロン塩(スルコフロン−ナトリウム(sulcofuron−sodium))、スルフルラミド(sulfluramid)、テトラジホン(tetradifon)、チオスルタップ(thiosultap)、トリブホス(Tribufos)、アルドリン(aldrin)、アミジチオオン(amidithion)、アミドチオエート(amidothioate)、アミノカルブ(aminocarb)、アミトン(amiton)、アラマイト(aramite)、アチダチオン(athidathion)、アゾトエート(azothoate)、ポリスルフィドバリウム(barium polysulphide)、Bayer 22408、Bayer 32394、ベンクロチアズ(benclothiaz)、5−(1,3−ベンゾジオキソール−5−イル)−3−ヘキシルシクロヘキサ−2−エノン、1,1−ビス(4−クロロフェニル)−2−エトキシエタノール、ブトネート(butonate)、ブトピロノキシル(butopyronoxyl)、2−(2−ブトキシエトキシ)エチル チオシアナート、カンフェクロル(camphechlor)、クロルベンシド(chlorbenside)、クロルデコン(chlordecone)、クロルジメホルム(chlordimeform)、クロルフェネトール(chlorfenethol)、クロルフェンソン(chlorfenson)、イソプロチオラン(isoprothiolane)、フルアズロン(fluazuron)、メタアルデヒド(metaldehyde)、フェニソブロモレート(phenisobromolate)、フルアジナム(fluazinam)、ビアラホス(bialaphos)、ベノミル(benomyl)、塩酸レバミゾール(levamisol)、ピリフルキナゾン(pyrifluquinazon)、シフルメトフェン(cyflumetofen)、アミドフルメト(amidoflumet)、IKA−2005、シエノピラフェン(cyenopyrafen)(NC512)、スルホキサフロール(sulfoxaflor)、ピラフルプロール(pyrafluprole)(V3039)、ピリプ
ロール(pyriprole)(V3086)、トラロピリル(tralopyril)、フルピラゾフォス(flupyrazofos)、ジオフェノラン(diofenolan)、クロルベンジレート(chlorobenzilate)、フルフェンジン(flufenzine)、ベンゾメート(benzomate)、フルフェネリム(flufenerim)、Tripropyl isocyanurate(TPIC)、アルベンダゾール(albendazole)、オキシベンダゾール(oxibendazole)、フェンベンダゾール(fenbendazole)、メタム・ナトリウム(metam−sodium)、1,3−ジクロロプロペン(1,3−dichloropropene)、フルピラジフロン(flupyradifurone)、アフィドピロペン(afidopyropen)、フロメトキン(flometoquin)、ピフルブミド(pyflubumide)、フルエンスルホン(fluensulfone))、IKI−3106などの殺虫剤、殺ダニ剤又は殺線虫剤を挙げることができる。
上記のように、乾燥工程に付され、種子表面の水分を蒸発させて酸化反応を停止させることにより得られた鉄コーティングによる種子製剤は、原料として使用される作物種子の保存方法に準じて、通常の方法で保存することができる。例えば、苗箱に平らになるように敷き詰めて、熱がこもらないように育苗棚、苗運搬用のコンテナーなどを用いて保存することが出来る。もちろん、当該種子製剤を脱気した密封容器や密封包装や例えば窒素置換した密封容器に保存し、空気酸化の影響を受けないように保存することもできる。
本発明の除草性組成物が処理された鉄コーティングによる種子製剤は、未処理の種子と同様に、作物の種類に応じて、一般的な栽培方法で播種することができる。除草性組成物が処理されているので、通常他の除草剤を散布する必要はないが、作物の生育状態を確認し、必要に応じて他の除草剤と組み合わせて使用することができる。当該種子製剤は、土壌表面であっても、湛水状態の土地に播種することができる。特に水稲種子は、水田の表面でも、湛水状態で播種してもよく、落水状態で播種した後湛水してもよい。
ピラゾレート原体(純度93.7%)(64.0質量部)、ニューコールTM291PG(日本乳化剤株式会社製、1.0質量部)、KP−1436(農薬用分散剤;花王株式会社製、1.0質量部)および水道水(34.0質量部)を混合し、アトライター1S 型(三井金属鉱山製)にて湿式粉砕し、ピラゾレートスラリー(農薬活性成分量60.0%)を得た。
化合物(I)(40.0質量部)、ニューコールTM291PG(日本乳化剤株式会社製、1.0質量部)、KP−1436(花王株式会社製、1.0質量部)および水道水(58.0質量部)を混合し、アトライター1S 型(三井金属鉱山製)にて湿式粉砕し、化合物(I)スラリー(農薬活性成分量40.0%)を得た。
乾燥した水稲種子(品種:コシヒカリ)100gを常温の水に12時間浸種した後、十分に水を切り、湿潤した水稲種子を得た。パンミキサー(ASONE製DPZ−01型)にこの湿潤種子を全量投入した後、種子が流動する速度でパンを回転しながら製剤例1のピラゾレートスラリーを8.0g処理した。次いで、鉄粉と焼石膏の混合物(混合比10:1)77gを、水道水約8gを追加しながらパンに入れて種子に粉衣させ、均一に鉄粉と焼石膏の混合物が種子に粉衣された後、焼石膏3.5gを更に加えて粉衣した。得られた種子を7日間常温で乾燥し、処理鉄粉の酸化反応を停止させることにより、ピラゾレートが被覆された鉄コーティング種子製剤を得た。なお、ここで粉衣とは、前記の各成分が粉の状態で種子表面に付着されることを意味する。
乾燥した水稲種子(品種:コシヒカリ)100gを常温の水に12時間浸種した後、十分に水を切り、湿潤した水稲種子を得た。パンミキサー(ASONE製DPZ−01型)にこの湿潤種子を全量投入した後、種子が流動する速度でパンを回転しながら製剤例1のピラゾレートスラリー8.0gと鉄粉と焼石膏の混合物(混合比10:1)77gの10分の1量を交互に、水道水約8gを追加しながらパンに入れて種子に粉衣させ、最後に焼石膏3.5gを更に加えて粉衣した。得られた種子を常温で5日間乾燥し、処理鉄粉の酸化反応を停止させることにより、ピラゾレートが被覆された鉄コーティング種子製剤を得た。
乾燥した水稲種子(品種:コシヒカリ)100gを常温の水に12時間浸種した後、十分に水を切り、湿潤した水稲種子を得た。パンミキサー(ASONE製DPZ−01型)にこの湿潤種子を全量投入した後、種子が流動する速度でパンを回転しながら、水道水を約8gピペットにて滴下しながら鉄粉と焼石膏の混合物(混合比10:1)を77gパンに入れて種子に粉衣させた。均一に鉄粉と焼石膏の混合物が種子に粉衣された後、焼石膏3.5gを更に加えた。常温で、得られた種子に水分を補給し、当該種子を乾燥させる工程を約7日間繰り返した。得られた鉄コーティング種子は未だ酸化が停止しておらず常温、相対湿度50%条件下で発熱した。この種子全量をポリ袋に仕込み、製剤例1のピラゾレートスラリー8gを加えてピストン混合し、ピラゾレートが被覆された鉄コーティング種子製剤を得た。
実施例1の製剤例1のピラゾレートスラリーの代わりに製剤例2の化合物(I)スラリーを1.92g処理した以外は実施例1と同様にして、化合物(I)が被覆された鉄コーティング種子製剤を得た。
乾燥した水稲種子(品種:コシヒカリ)100gを常温の水に12時間浸種した後、十分に水を切った湿潤した水稲種子を得た。パンミキサー(ASONE製DPZ−01型)にこの湿潤種子を全量投入した後、種子が流動する速度でパンを回転しながら水道水8gをピペットにて滴下しながら鉄粉と焼石膏の混合物(混合比10:1)を77gパンに入れて種子に粉衣させた。均一に鉄粉と焼石膏の混合物が種子に粉衣された後、焼石膏3.5gを更に加えた。得られた種子を常温で酸化を促進するための水分補給を行わず、約3日間乾燥させた。得られた鉄コーティング種子は、常温、相対湿度50%条件下で発熱せず、酸化が停止していた。この種子の全量をポリ袋に仕込み、製剤例1のピラゾレートスラリー8gを加えてピストン混合し、ピラゾレートが被覆された鉄コーティング種子製剤を得た。
比較例1の製剤例1のピラゾレートスラリーの代わりに製剤例2の化合物(I)スラリーを1.92g処理した以外は比較例1と同様にして、化合物(I)が被覆された鉄コーティング種子製剤を得た。
表面積900cm2のコンテナーに水深4cmとなるように水を加えた後、実施例1〜3および比較例1の鉄コーティング種子製剤を5粒ずつ4カ所に処理した。所定時間経過後に水面下1cmの位置の田面水を採取し、水中の除草活性成分の濃度(ピラゾレートの活性本体であるDTP〔4−(2,4−ジクロロベンゾイル)−1,3−ジメチル−5−ヒドロキシピラゾール〕の量)(ppm)を液体クロマトグラフィーにて測定した。その結果を表1に示す。
100cm2のポットに水田土壌を充填し、水深4cmとなるように水を加え後、実施例4および比較例2の鉄コーティング種子製剤を5粒ずつ4カ所に処理した。所定時間経過後に水面下1cmの位置の田面水を採取し、水中の除草活性成分の濃度(ppm)を液体クロマトグラフィーにて測定した。その結果を表2に示す。
800cm2のポットに水田土壌を充填し、代掻きした後、ホタルイ、コナギおよびアゼナの種子を播種し、土壌の表層に混ぜ込んだ。実施例1〜4の鉄コーティング種子製剤、比較例1〜2の鉄コーティング種子製剤を水深1cmの湛水状態で土壌表面に5粒ずつ4カ所に播種した。播種20日後に、下記判定基準にしたがって、生育抑制効果を判定した。その結果を表3に示す。
判定基準
0:生育抑制率 0〜9%
1:生育抑制率 10〜18%
2:生育抑制率 19〜27%
3:生育抑制率 28〜36%
4:生育抑制率 37〜45%
5:生育抑制率 46〜54%
6:生育抑制率 55〜63%
7:生育抑制率 64〜72%
8:生育抑制率 73〜81%
9:生育抑制率 82〜90%
10:生育抑制率 91〜100%
水田圃場で、代掻きした後、50cm×50cmの樹脂製枠を設置し、ホタルイ、コナギおよびアゼナの種子を播種し、土壌の表層に混ぜ込んだ。実施例1〜4の鉄コーティング種子製剤、比較例1〜2の鉄コーティング種子製剤を水深3cmの湛水状態で土壌表面に5粒ずつ12カ所に播種した。一方、薬剤を処理していない鉄コーティング種子を同様に播種し、サンバード(R)粒剤(ピラゾレート10%)を標準量処理した区と薬効薬害を比較した。播種20日後に、上記判定基準にしたがって、生育抑制効果を判定した。その結果を表4に示す。
Claims (13)
- 1)種子に鉄粉を処理する工程、
2)種子に除草性組成物を処理する工程および
3)種子への水分供給と当該水分供給された種子の乾燥を適宜繰り返し行うことにより処理鉄粉の酸化反応を停止させる工程を含み、
3)の工程の前に、1)および2)の工程を実施し、3)の工程において、得られた除草性組成物を含有する種子にコーティングされた鉄粉の酸化反応が停止する前に種子処理を完了させることを特徴とする、鉄コーティング種子製剤の作製方法。 - 工程3)において、種子への水分供給と当該水分供給された種子の乾燥を少なくとも3日間行う、請求項1に記載の鉄コーティング種子製剤の作製方法。
- 2)種子に除草性組成物を処理する工程を実施した後に、1)当該種子に鉄粉を処理する工程を実施する、請求項1又は2に記載の作製方法。
- 1)種子に鉄粉を処理する工程を実施した後、その鉄粉の酸化反応が停止する前に、
2)当該種子に除草性組成物を処理する工程を実施する、請求項1又は2に記載の作製方法。 - 1)種子に鉄粉を処理する工程および2)種子に除草性組成物を処理する工程を同時に実施する、請求項1又は2に記載の作製方法。
- 除草性組成物が、(A1)白化型除草性化合物又はその塩および(A2)アセトラクテート合成酵素阻害型除草性化合物又はその塩からなる群より選択される少なくとも1種の除草性化合物を有効成分として含む、請求項1乃至5のいずれか1項に記載の作製方法。
- (A1)白化型除草性化合物が、ピラゾール系除草性化合物又はその塩、トリケトン系除草性化合物又はその塩および6−クロロ−3−(2−シクロプロピル−6−メチルフェノキシ)ピリダジン−4−イル モルホリン−4−カルボキシレート又はその塩からなる群より選択される少なくとも1種である、請求項6に記載の作製方法。
- (A2)アセトラクテート合成酵素阻害型除草性化合物が、スルホニルウレア系除草性化合物又はその塩およびピリミジニルサリチル酸系除草性化合物又はその塩からなる群より選択される少なくとも1種である、請求項6に記載の作製方法。
- (A1)白化型除草性化合物が、ピラゾレート、および6−クロロ−3−(2−シクロプロピル−6−メチルフェノキシ)ピリダジン−4−イル モルホリン−4−カルボキシレートからなる群より選択される少なくとも1種である、請求項6又は7に記載の作製方法。
- (A1)白化型除草性化合物が、ピラゾレートである、請求項6、7又は9に記載の作製方法。
- (A2)アセトラクテート合成酵素阻害型除草性化合物が、スルホニルウレア系除草性化合物である、請求項6又は8に記載の作製方法。
- 種子に除草性組成物を処理する工程において、種子に除草性組成物を処理することに加えて、当該種子に殺虫性組成物、殺菌性組成物および植物生長剤からなる群より選択される少なくとも1種を処理する、請求項1乃至11のいずれか一項に記載の作製方法。
- 種子が水稲種子である、請求項1乃至12のいずれか一項に記載の作製方法。
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