JP6861793B2 - 反射層の製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、反射層の製造方法に関する。

コレステリック液晶相を固定してなる層は、特定の波長域において右円偏光および左円偏光のいずれか一方を選択的に反射させる性質を有する層として知られている。そのため、種々の用途へ展開されており、例えば、位相差層として用いられている（特許文献１）。なお、特許文献１においては、配向膜の配向規制力の方向をランダムな状態とし、この配向膜と接触する液晶化合物のダイレクターの方向をランダムにしている。

特開２００５−４９８６６号公報

一方で、コレステリック液晶相を固定してなる層を投影スクリーンなどの投映像表示用部材へ応用する点からは、視野角の拡大が求められる。
より具体的には、通常、コレステリック液晶相を固定してなる層の表面の法線方向から光が入射した際には、右円偏光および左円偏光のいずれか一方が選択的に反射される。その際、反射が法線方向のみならず、斜め方向へもなされると、斜め方向からの視認性の向上に繋がる。つまり、反射層は、入射光が様々な方向に反射する特性（いわゆる、拡散反射性）に優れることが求められる。
本発明者らは、特許文献１に記載のラビング処理を施していない配向膜を用いて反射層を作製し、その拡散反射性について検討を行ったところ、拡散反射性が昨今の要求レベルを満たしておらず、更なる改良が必要であった。

本発明は、上記実情を鑑みて、優れた拡散反射性を有する反射層の製造方法を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題に対して鋭意検討を行ったところ、所定の手順によって、上記課題を解決できることを知見した。
すなわち、下記構成により、上記課題が解決できることを見出した。

（１） コレステリック液晶相を固定してなり、断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部および暗部が波状である反射層の製造方法であって、
重合性基を有する液晶化合物およびキラル剤を含む組成物層を形成し、形成された組成物層の断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部および暗部を波状に変化させる処理を実施する工程１と、
工程１で得られた組成物層に対して固定化処理を施す工程２と、を有し、
工程２の固定化処理の際に、組成物層を構成する組成物の粘度が２０００ｍＰａ・ｓ以上である、反射層の製造方法。
（２） 粘度が１００００ｍＰａ・ｓ以上である、（１）に記載の反射層の製造方法。
（３） 粘度が１５０００ｍＰａ・ｓ以上である、（１）または（２）に記載の反射層の製造方法。
（４） 固定化処理が、光照射処理である、（１）〜（３）のいずれかに記載の反射層の製造方法。
（５） 工程１中の処理が、組成物層に含まれるキラル剤の螺旋誘起力を変化させる処理である、（１）〜（４）のいずれかに記載の反射層の製造方法。
（６） 工程１中の処理が、組成物層の冷却または加熱を行い、組成物層に含まれるキラル剤の螺旋誘起力を変化させる処理である、（１）〜（５）のいずれかに記載の反射層の製造方法。
（７） 工程１中の処理が、組成物層を加熱して液晶化合物を配向させてコレステリック液晶相の状態とし、その後、組成物層に含まれるキラル剤の螺旋誘起力が５％以上上昇するように組成物層を冷却する処理である、（５）または（６）に記載の反射層の製造方法。
（８） 組成物層を冷却する際に、組成物層の温度が３０℃以上下がるように、組成物層を冷却する、（７）に記載の反射層の製造方法。
（９） 工程１中の処理が、組成物層に電圧を印加する処理である、（１）〜（４）のいずれかに記載の反射層の製造方法。
（１０） 液晶化合物が、複数の重合性基を有する、（１）〜（９）のいずれかに記載の反射層の製造方法。
（１１） 組成物層中における液晶化合物の含有量が、６０質量％以上である、（１）〜（１０）のいずれかに記載の反射層の製造方法。

本発明によれば、優れた拡散反射性を有する反射層の製造方法を提供することができる。

一般的なコレステリック液晶相状態の層の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ：Scanning Electron Microscope）で観察した際の模式図である。 本発明の製造方法で製造した反射層の断面をＳＥＭで観察した際の模式図である。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
また、本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレートおよびメタクリレートの両方を表す表記であり、「（メタ）アクリロイル基」とは、アクリロイル基およびメタクリロイル基の両方を表す表記であり、「（メタ）アクリル」とは、アクリルおよびメタクリルの両方を表す表記である。

まず、図１に、一般的なコレステリック液晶相状態の組成物の層を基板上に配置した際の断面模式図を示す。図１に示すように、基板１０上に配置されたコレステリック液晶相状態の組成物の層１２ａの断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）にて観察すると、通常、明部１４と暗部１６との縞模様が観察される。すなわち、コレステリック液晶相の断面では、明部１４と暗部１６とを交互に積層した層状構造が観察される。
図１中の２つの明部１４と３つの暗部１６とで、螺旋１ピッチ分に相当する。
一般的に、図１に示すように、明部１４および暗部１６の縞模様（層状構造）は基板１０の表面と平行となるように形成される。言い換えれば、明部１４をなす線（連続線）および暗部１６をなす線（連続線）は、組成物の層１２ａの表面と平行になる。このような態様の場合、コレステリック液晶相状態の組成物の層１２ａの法線方向から光が入射される場合、法線方向に光は反射されるが、斜め方向には光は反射されにくく、拡散反射性に劣る（図１中の矢印参照）。

図２に、本発明の製造方法によって得られる反射層を基板上に配置した際の断面模式図を示す。図２に示すように、反射層１２ｂは、コレステリック液晶相に由来する明部１４および暗部１６が波状構造（アンジュレーション構造）を有する。つまり、明部１４をなす線（連続線）および暗部１６をなす線（連続線）が、波状となる。このような波状構造（凹凸構造）を有する反射層１２ｂに対して、反射層１２ｂの法線方向から光が入射されると、図２に示すように、液晶化合物の螺旋軸が傾いている領域があるため、入射光の一部が斜め方向に反射される（図２中の矢印参照）。つまり、本発明の製造方法によって製造される反射層は、拡散反射性に優れる。
上記のような反射層を製造する本発明の製造方法においては、所定の処理によって組成物層中のコレステリック液晶相由来の明部および暗部を波状になるように変化させ、その状態の組成物層に固定化処理を施し、所定の反射層を製造する。特に、上記固定化処理の際に、組成物層を構成する組成物の粘度が所定値以上である場合、工程１において得られたコレステリック液晶相由来の明部および暗部を波状構造が維持されたまま固定化されやすく、拡散反射性に優れる反射層が得られやすい。

本発明の反射層の製造方法は、以下の工程１および２を少なくとも有する。
工程１：重合性基を有する液晶化合物およびキラル剤を含む組成物層を形成し、形成された組成物層の断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部および暗部を波状に変化させる処理を実施する工程
工程２：工程１で得られた組成物層に対して固定化処理を施す工程
以下、各工程で使用される材料、および、各工程の手順について詳述する。

＜工程１＞
工程１は、重合性基を有する液晶化合物およびキラル剤を含む組成物層を形成し、形成された組成物層の断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部および暗部を波状に変化させる処理を実施する工程である。
以下では、まず、本工程で使用される材料および部材について詳述し、その後、工程の手順について詳述する。

（液晶化合物）
液晶化合物の種類は、特に制限されない。
一般的に、液晶化合物はその形状から、棒状タイプ（棒状液晶化合物）と円盤状タイプ（ディスコティック液晶化合物、円盤状液晶化合物）とに分類できる。さらに、棒状タイプおよび円盤状タイプには、それぞれ低分子タイプと高分子タイプとがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶化合物を用いることもできる。また、２種以上の液晶化合物を併用してもよい。

液晶化合物は、重合性基を有する。重合性基の種類は特に制限されず、付加重合反応が可能な官能基が好ましく、重合性エチレン性不飽和基または環重合性基がより好ましい。より具体的には、重合性基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基、エポキシ基、または、オキセタン基が好ましく、（メタ）アクリロイル基がより好ましい。
重合性基の数は特に制限されず、１個以上であればよい。なかでも、反射層の拡散反射性がより優れる点で、重合性基の数は複数個であることが好ましく、２〜６個であることがより好ましく、２〜４個であることがさらに好ましい。

液晶化合物の分子量は特に制限されないが、工程２における固定化処理の際の組成物の粘度が制御しやすい点で、４００以上が好ましく、７００以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、２０００以下の場合が多い（特に、低分子タイプの場合）。
また、棒状タイプの液晶化合物を用いる場合、粘度を制御する観点で、液晶化合物中のメソゲン基のコア部に含まれる環数が４環以上の化合物が好ましく、５環以上の化合物がさらに好ましい。

液晶化合物としては、反射層の拡散反射性がより優れる点で、以下の式（Ｉ）で表される液晶化合物が好ましい。

式中、
Ａは、置換基を有していてもよいフェニレン基または置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基を示し、
Ｌは、単結合、または、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）₂ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ₂）₂−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−、および、−ＮＨ−からなる群から選択される連結基を示し、
ｍは３〜１２の整数を示し、
Ｓｐ¹およびＳｐ²は、それぞれ独立に、単結合、または、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、および、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つまたは２つ以上の−ＣＨ₂−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示し、
Ｑ¹およびＱ²は、それぞれ独立に、水素原子、または、以下の式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基を示し、ただしＱ¹およびＱ²のいずれか一方は重合性基を示す；

Ａは、置換基を有していてもよいフェニレン基、または、置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基である。本明細書において、フェニレン基というとき、１，４−フェニレン基であるのが好ましい。
ｍ個のＡは、互いに同一でも異なっていてもよい。
なお、Ａとして置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基が含まれる場合、反射層の拡散反射性がより優れる点で、Ａで表される置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基の数をｍで割った数をｍｃとしたとき、ｍｃ＞０．１を満たす液晶化合物が好ましく、０．４≦ｍｃ≦０．８を満たす液晶化合物であることがより好ましい。
なお、上記ｍｃは、以下の計算式で表される数である。
ｍｃ＝（Ａで表される置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基の数）÷ｍ

ｍは３〜１２の整数を示し、３〜９の整数であるのが好ましく、３〜７の整数であるのがより好ましく、３〜５の整数であるのがさらに好ましい。

式（Ｉ）中の、フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基が有していてもよい置換基としては、特に制限されず、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、アルキルエーテル基、アミド基、アミノ基、およびハロゲン原子、ならびに、上記の置換基を２つ以上組み合わせて構成される基からなる群から選択される置換基が挙げられる。また、置換基の例としては、後述の−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ³−Ｓｐ³−Ｑ³で表される置換基が挙げられる。フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基は、置換基を１〜４個有していてもよい。２個以上の置換基を有するとき、２個以上の置換基は互いに同一であっても異なっていてもよい。

本明細書において、アルキル基は直鎖および分岐のいずれでもよい。アルキル基の炭素数は１〜３０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜６がさらに好ましい。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、および、ドデシル基などが挙げられる。アルコキシ基中のアルキル基の説明も、上記アルキル基に関する説明と同じである。また、本明細書において、アルキレン基というときのアルキレン基の具体例としては、上記のアルキル基の例それぞれにおいて、任意の水素原子を１つ除いて得られる２価の基が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、および、ヨウ素原子が挙げられる。

本明細書において、シクロアルキル基の炭素数は、３以上が好ましく、５以上がより好ましく、また、２０以下が好ましく、１０以下がより好ましく、８以下がさらに好ましく、６以下が特に好ましい。シクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、および、シクロオクチル基などが挙げられる。

フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、および、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ³−Ｓｐ³−Ｑ³からなる群から選択される置換基が好ましい。ここで、Ｘ³は単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、もしくは−Ｎ（Ｓｐ⁴−Ｑ⁴）−を示すか、または、Ｑ³およびＳｐ³と共に環構造を形成している窒素原子を示す。Ｓｐ³およびＳｐ⁴は、それぞれ独立に、単結合、または、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、および、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つまたは２つ以上の−ＣＨ₂−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示す。
Ｑ³およびＱ⁴はそれぞれ独立に、水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つもしくは２つ以上の−ＣＨ₂−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、もしくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、または式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示す。

シクロアルキル基において１つまたは２つ以上の−ＣＨ₂−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基として、具体的には、テトラヒドロフラニル基、ピロリジニル基、イミダゾリジニル基、ピラゾリジニル基、ピペリジル基、ピペラジニル基、および、モルホルニル基などが挙げられる。これらのうち、テトラヒドロフラニル基が好ましく、２−テトラヒドロフラニル基がより好ましい。

式（Ｉ）において、Ｌは、単結合、または、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）₂ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ₂）₂−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝Ｎ−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｃ＝Ｎ−、−Ｎ＝Ｃ−、−Ｃ≡Ｃ−、および、−ＮＨ−からなる群から選択される連結基を示す。Ｌは、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、または、−ＮＨ−であるのが好ましい。
ｍ個のＬは互いに同一でも異なっていてもよい。

Ｓｐ¹およびＳｐ²は、それぞれ独立に、単結合、または、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、および、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つまたは２つ以上の−ＣＨ₂−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、または、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示す。Ｓｐ¹およびＳｐ²は、それぞれ独立に、両末端にそれぞれ−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、および、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−からなる群から選択される連結基が結合した炭素数１から１０の直鎖のアルキレン基、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｏ−、および、炭素数１から１０の直鎖のアルキレン基からなる群から選択される基を１または２以上組み合わせて構成される連結基であるのが好ましく、両末端に−Ｏ−がそれぞれ結合した炭素数１から１０の直鎖のアルキレン基であるのがより好ましい。

Ｑ¹およびＱ²はそれぞれ独立に、水素原子、または、以下の式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基を示す。ただし、Ｑ¹およびＱ²のいずれか一方は重合性基を示す。

重合性基としては、アクリロイル基（式（Ｑ−１））またはメタクリロイル基（式（Ｑ−２））が好ましい。

上記液晶化合物の具体例としては、以下の式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物、式（Ｉ−２１）で表される液晶化合物、および、式（Ｉ−３１）で表される液晶化合物などが挙げられる。上記以外にも、特開２０１３−１１２６３１号公報の式（Ｉ）で表される化合物、特開２０１０−７０５４３号公報の式（Ｉ）で表される化合物、特開２００８−２９１２１８号公報の式（Ｉ）で表される化合物、特許第４７２５５１６号の式（Ｉ）で表される化合物、特開２０１３−０８７１０９号公報の一般式（ＩＩ）で表される化合物、特開２００７−１７６９２７号公報の段落００４３に記載の化合物、特開２００９−２８６８８５号公報の式（１−１）で表される化合物、ＷＯ２０１４/１０３２５号の一般式（Ｉ）で表される化合物、特開２０１６−８１０３５号公報の式（１）で表される化合物、および、特開２０１６−１２１３３９号公報の式（２−１）および式（２−２）で表される化合物などに記載の公知の化合物が挙げられる。

式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物

式中、Ｒ¹¹は水素原子、炭素数１から１２の直鎖もしくは分岐のアルキル基、または、−Ｚ¹²−Ｓｐ¹²−Ｑ¹²を示し、
Ｌ¹¹は単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、または、−ＯＣ（＝Ｏ）−を示し、
Ｌ¹²は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ²−、または、−ＮＲ²Ｃ（＝Ｏ）−を示し、
Ｒ²は、水素原子、または、炭素数１から３のアルキル基を示し、
Ｚ¹¹およびＺ¹²は、それぞれ独立に、単結合、−Ｏ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、または、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ¹²−、−ＮＲ¹²Ｃ（＝Ｏ）−を示し、
Ｒ¹²は水素原子または−Ｓｐ¹²−Ｑ¹²を示し、
Ｓｐ¹¹およびＳｐ¹²は、それぞれ独立に、単結合、Ｑ¹¹で置換されていてもよい炭素数１から１２の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、または、Ｑ¹¹で置換されていてもよい炭素数１から１２の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において、いずれか１つ以上の−ＣＨ₂−を−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（Ｑ¹¹）−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−に置き換えて得られる連結基を示し、
Ｑ¹¹は水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つまたは２つ以上の−ＣＨ₂−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、もしくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、または、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基を示し、
Ｑ¹²は水素原子または式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基を示し、
ｌ¹¹は０〜２の整数を示し、
ｍ¹¹は１または２の整数を示し、
ｎ¹¹は１〜３の整数を示し、
複数のＲ¹¹、複数のＬ¹¹、複数のＬ¹²、複数のｌ¹¹、複数のＺ¹¹、複数のＳｐ¹¹、および、複数のＱ¹¹はそれぞれ互いに同じでも異なっていてもよい。
また、式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物は、Ｒ¹¹として、Ｑ¹²が式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基である−Ｚ¹²−Ｓｐ¹²−Ｑ¹²を少なくとも１つ含む。
また、式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物は、Ｚ¹¹が−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ¹²−または−ＮＲ¹²Ｃ（＝Ｏ）−、および、Ｑ¹¹が式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基である−Ｚ¹¹−Ｓｐ¹¹−Ｑ¹¹であるのが好ましい。また、式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物は、Ｒ¹¹として、Ｚ¹²が−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ¹²−または−ＮＲ¹²Ｃ（＝Ｏ）−、および、Ｑ¹²が式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基である−Ｚ¹²−Ｓｐ¹²−Ｑ¹²であるのが好ましい。

式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物に含まれる１，４−シクロヘキシレン基はいずれもトランス−１，４−シクロヘキシレン基である。
式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物の好適態様としては、Ｌ¹¹が単結合、ｌ¹¹が１（ジシクロヘキシル基）、かつ、Ｑ¹¹が式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基である化合物が挙げられる。
式（Ｉ−１１）で表される液晶化合物の他の好適態様としては、ｍ¹¹が２、ｌ¹¹が０、かつ、２つのＲ¹¹がいずれも−Ｚ¹²−Ｓｐ¹²−Ｑ¹²を表し、Ｑ¹²が式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択される重合性基である化合物が挙げられる。

式（Ｉ−２１）で表される液晶化合物

式中、Ｚ²¹およびＺ²²は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基、または、置換基を有していてもよいフェニレン基を示し、
上記置換基はいずれもそれぞれ独立に、−ＣＯ−Ｘ²¹−Ｓｐ²³−Ｑ²³、アルキル基、およびアルコキシ基からなる群から選択される１から４個の置換基であり、
ｍ２１は１または２の整数を示し、ｎ２１は０または１の整数を示し、
ｍ２１が２を示すときｎ２１は０を示し、
ｍ２１が２を示すとき２つのＺ²¹は同一であっても異なっていてもよく、
Ｚ²¹およびＺ²²の少なくともいずれか一つは置換基を有していてもよいフェニレン基であり、
Ｌ²¹、Ｌ²²、Ｌ²³およびＬ²⁴はそれぞれ独立に、単結合、または、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）₂ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ₂）₂−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、および−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選択される連結基を示し、
Ｘ²¹は−Ｏ−、−Ｓ−、もしくは−Ｎ（Ｓｐ²⁵−Ｑ²⁵）−を示すか、または、Ｑ²³およびＳｐ²³と共に環構造を形成する窒素原子を示し、
ｒ²¹は１から４の整数を示し、
Ｓｐ²¹、Ｓｐ²²、Ｓｐ²³、およびＳｐ²⁵はそれぞれ独立に、単結合、または、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、および、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つまたは２つ以上の−ＣＨ₂−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示し、
Ｑ²¹およびＱ²²はそれぞれ独立に、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示し、
Ｑ²³は水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つもしくは２つ以上の−ＣＨ₂−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、もしくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基、または、Ｘ²¹がＱ²³およびＳｐ²³と共に環構造を形成する窒素原子である場合において単結合を示し、
Ｑ²⁵は、水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つもしくは２つ以上の−ＣＨ₂−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、もしくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、または、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示し、Ｓｐ²⁵が単結合のとき、Ｑ²⁵は水素原子ではない。

式（Ｉ−２１）で表される液晶化合物は、１，４−フェニレン基およびトランス−１，４−シクロヘキシレン基が交互に存在する構造であることも好ましく、例えば、ｍ２１が２であり、ｎ２１が０であり、かつ、Ｚ²¹がＱ²¹側からそれぞれ置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基、置換基を有していてもよいアリーレン基であるか、または、ｍ２１が１であり、ｎ２１が１であり、Ｚ²¹が置換基を有していてもよいアリーレン基であり、かつ、Ｚ²²が置換基を有していてもよいアリーレン基である構造が好ましい。

式（Ｉ−３１）で表される液晶化合物；

式中、Ｒ³¹およびＲ³²はそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、および、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ³¹−Ｓｐ³³−Ｑ³³からなる群から選択される基であり、
ｎ３１およびｎ３２はそれぞれ独立に、０〜４の整数を示し、
Ｘ³¹は単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、もしくは−Ｎ（Ｓｐ³⁴−Ｑ³⁴）−を示すか、または、Ｑ³³およびＳｐ³³と共に環構造を形成している窒素原子を示し、
Ｚ³¹は、置換基を有していてもよいフェニレン基を示し、
Ｚ³²は、置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基、または、置換基を有していてもよいフェニレン基を示し、
上記置換基はいずれもそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、および、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ³¹−Ｓｐ³³−Ｑ³³からなる群から選択される１から４個の置換基であり、
ｍ３１は１または２の整数を示し、ｍ３２は０〜２の整数を示し、
ｍ３１およびｍ３２が２を示すとき２つのＺ³¹、Ｚ³²は同一であっても異なっていてもよく、
Ｌ³¹およびＬ³²はそれぞれ独立に、単結合、または、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）₂ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ₂）₂−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、および−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選択される連結基を示し、
Ｓｐ³¹、Ｓｐ³²、Ｓｐ³³およびＳｐ³⁴は、それぞれ独立に、単結合、または、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、および、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つまたは２つ以上の−ＣＨ₂−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示し、
Ｑ³¹およびＱ³²はそれぞれ独立に、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示し、
Ｑ³³およびＱ³⁴はそれぞれ独立に、水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つもしくは２つ以上の−ＣＨ₂−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、もしくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、または、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示し、Ｑ³³はＸ³¹およびＳｐ³³と共に環構造を形成している場合において、単結合を示してもよく、Ｓｐ³⁴が単結合のとき、Ｑ³⁴は水素原子ではない。
式（Ｉ−３１）で表される液晶化合物として、特に好ましい化合物としては、Ｚ³²がフェニレン基である化合物およびｍ３２が０である化合物が挙げられる。

式（Ｉ）で表される化合物は、以下の式（ＩＩ）で表される部分構造を有することも好ましい。

式（ＩＩ）において、黒丸は、式（Ｉ）の他の部分との結合位置を示す。式（ＩＩ）で表される部分構造は式（Ｉ）中の下記式（ＩＩＩ）で表される部分構造の一部として含まれていればよい。

式中、Ｒ¹およびＲ²はそれぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アルコキシ基、および、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ³−Ｓｐ³−Ｑ³で表される基からなる群から選択される基である。ここで、Ｘ³は単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、もしくは−Ｎ（Ｓｐ⁴−Ｑ⁴）−を示すか、または、Ｑ³およびＳｐ³と共に環構造を形成している窒素原子を示す。Ｘ³は単結合または−Ｏ−であることが好ましい。Ｒ¹およびＲ²は、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ³−Ｓｐ³−Ｑ³であることが好ましい。また、Ｒ¹およびＲ²は、互いに同一であることが好ましい。Ｒ¹およびＲ²のそれぞれのフェニレン基への結合位置は特に制限されない。

Ｓｐ³およびＳｐ⁴はそれぞれ独立に、単結合、または、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基、および、炭素数１から２０の直鎖もしくは分岐のアルキレン基において１つまたは２つ以上の−ＣＨ₂−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、または−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基からなる群から選択される連結基を示す。Ｓｐ³およびＳｐ⁴としては、それぞれ独立に、炭素数１から１０の直鎖または分岐のアルキレン基が好ましく、炭素数１から５の直鎖のアルキレン基がより好ましく、炭素数１から３の直鎖のアルキレン基がさらに好ましい。
Ｑ³およびＱ⁴はそれぞれ独立に、水素原子、シクロアルキル基、シクロアルキル基において１つもしくは２つ以上の−ＣＨ₂−が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＨ−、−Ｎ（ＣＨ₃）−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−もしくは−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−で置換された基、または、式（Ｑ−１）〜式（Ｑ−５）で表される基からなる群から選択されるいずれかの重合性基を示す。

式（Ｉ）で表される化合物は、例えば、以下式（ＩＩ−２）で表される構造を有することも好ましい。

式中、Ａ¹およびＡ²はそれぞれ独立に、置換基を有していてもよいフェニレン基または置換基を有していてもよいトランス−１，４−シクロヘキシレン基を示し、上記置換基はいずれもそれぞれ独立に、アルキル基、アルコキシ基、および、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｘ³−Ｓｐ³−Ｑ³からなる群から選択される１から４個の置換基であり、
Ｌ¹、Ｌ²およびＬ³はそれぞれ独立に、単結合、または、−ＣＨ₂Ｏ−、−ＯＣＨ₂−、−（ＣＨ₂）₂ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ（ＣＨ₂）₂−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、および、−ＯＣ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−からなる群から選択される連結基を示し、
ｎ１およびｎ２はそれぞれ独立に、０から９の整数を示し、かつｎ１＋ｎ２は９以下である。
Ｑ¹、Ｑ²、Ｓｐ¹、および、Ｓｐ²の定義は、上記式（Ｉ）中の各基の定義と同義である。Ｘ³、Ｓｐ³、Ｑ³、Ｒ¹、および、Ｒ²の定義は、上記式（ＩＩ）中の各基の定義と同義である。

式（Ｉ）で表される液晶化合物であって、０．４≦ｍｃ≦０．８を満たす液晶化合物としては、以下が例示される。

なお、液晶化合物は２種以上併用して用いてもよい。例えば、式（Ｉ）で表される液晶化合物を２種以上併用してもよい。
なかでも、上記式（Ｉ）で表される液晶化合物であって、０．４≦ｍｃ≦０．８を満たす液晶化合物と共に、式（Ｉ）で表される液晶化合物であって、０．１＜ｍｃ＜０．３を満たす液晶化合物を用いるのが好ましい。

式（Ｉ）で表される液晶化合物であって、０．１＜ｍｃ＜０．３を満たす液晶化合物としては、以下が例示される。

液晶化合物の他の好適態様としては、下記式（ＩＶ）で表される化合物が挙げられる。

式（ＩＶ）で表される化合物

式（ＩＶ）中、Ａ¹は、炭素数２〜１８のアルキレン基を表し、該アルキレン基中の１つのＣＨ₂または隣接していない２つ以上のＣＨ₂は、−Ｏ−で置換されていてもよい；
Ｚ¹は、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、または単結合を表し；
Ｚ²は、−Ｃ（＝Ｏ）−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−を表し；
Ｒ¹は、水素原子またはメチル基を表し；
Ｒ²は、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、置換基を有していてもよいフェニル基、ビニル基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、アセチル基、アセトキシ基、Ｎ−アセチルアミド基、アクリロイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、マレイミド基、メタクリロイルアミノ基、アリルオキシ基、アリルオキシカルバモイル基、アルキル基の炭素数が１〜４であるＮ−アルキルオキシカルバモイル基、Ｎ−（２−メタクリロイルオキシエチル）カルバモイルオキシ基、Ｎ−（２−アクリロイルオキシエチル）カルバモイルオキシ基、または、下記式（ＩＶ−２）で表される基を表し；
Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³およびＬ⁴は、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜４のアシル基、ハロゲン原子または水素原子を表し、Ｌ¹、Ｌ²、Ｌ³およびＬ⁴のうち少なくとも１つは水素原子以外の基を表す。
−Ｚ⁵−Ｔ−Ｓｐ−Ｐ 式（ＩＶ−２）
式（ＩＶ−２）中、Ｐはアクリル基、メタクリル基または水素原子を表し、Ｚ⁵は単結合、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ¹−（Ｒ¹は水素原子またはメチル基を表す）、−ＮＲ¹Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、または、−ＳＣ（＝Ｏ）−を表し、Ｔは１，４−フェニレンを表し、Ｓｐは置換基を有していてもよい炭素数１〜１２の２価の脂肪族基を表し、該脂肪族基中の１つのＣＨ₂または隣接していない２以上のＣＨ₂は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−または−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換されていてもよい。

上記式（ＩＶ）で表される化合物は、下記式（Ｖ）で表される化合物であることが好ましい。

式（Ｖ）で表される化合物

式（Ｖ）中、ｎ１は３〜６の整数を表し；
Ｒ¹¹は水素原子またはメチル基を表し；
Ｚ¹²は、−Ｃ（＝Ｏ）−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−を表し；
Ｒ¹²は、水素原子、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、アリルオキシ基、または下記式（ＩＶ−３）で表される基を表す。
−Ｚ⁵¹−Ｔ−Ｓｐ−Ｐ 式（ＩＶ−３）
式（ＩＶ−３）中、Ｐはアクリル基またはメタクリル基を表し；
Ｚ⁵¹は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、または、−ＯＣ（＝Ｏ）−を表し；
Ｔは１，４−フェニレンを表し；
Ｓｐは置換基を有していてもよい炭素数２〜６の２価の脂肪族基を表し、該脂肪族基中の１つのＣＨ₂または隣接していない２以上のＣＨ₂は、−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−または−Ｏ（＝Ｏ）ＯＯ−で置換されていてもよい。
上記ｎ１は３〜６の整数を表し、３または４であることが好ましい。
上記Ｚ¹²は、−Ｃ（＝Ｏ）−、または、−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−を表し、−Ｃ（＝Ｏ）−を表すことが好ましい。
上記Ｒ¹²は、水素原子、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、アリルオキシ基、または上記式（ＩＶ−３）で表される基を表し、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、または上記式（ＩＶ−３）で表される基を表すことがより好ましく、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、または上記式（ＩＶ−３）で表される基を表すことがさらに好ましい。

なお、上記ＲはＭｅを意図する。
式（ＩＶ）で表される化合物の具体例としては、以下で例示される化合物が挙げられる。

液晶化合物の他の好適態様としては、下記式（ＶＩ）で表される化合物が挙げられる。

式（ＶＩ）で表される化合物

式（ＶＩ）中、Ｚ³は、−Ｃ（＝Ｏ）−、または、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−を表し；
Ｚ⁴は、−Ｃ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−を表し；
Ｒ³およびＲ⁴は、それぞれ独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、置換基を有していてもよい芳香環基、シクロヘキシル基、ビニル基、ホルミル基、ニトロ基、シアノ基、アセチル基、アセトキシ基、アクリロイルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、マレイミド基、メタクリロイルアミノ基、アリルオキシ基、アリルオキシカルバモイル基、アルキル基の炭素数が１〜４であるＮ−アルキルオキシカルバモイル基、Ｎ−（２−メタクリロイルオキシエチル）カルバモイルオキシ基、Ｎ−（２−アクリロイルオキシエチル）カルバモイルオキシ基または下記式（ＶＩ−２）で表される基を表し；
Ｌ⁵、Ｌ⁶、Ｌ⁷およびＬ⁸は、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜４のアシル基、ハロゲン原子または水素原子を表し、Ｌ⁵、Ｌ⁶、Ｌ⁷およびＬ⁸のうち少なくとも１つは水素原子以外の基を表す。
−Ｚ⁵−Ｔ−Ｓｐ−Ｐ 式（ＶＩ−２）
式（ＶＩ−２）中、Ｐはアクリル基、メタクリル基または水素原子を表し、Ｚ⁵は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ¹−（Ｒ¹は水素原子またはメチル基を表す）、−ＮＲ¹Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、または−ＳＣ（＝Ｏ）−を表し、Ｔは１，４−フェニレンを表し、Ｓｐは置換基を有していてもよい炭素数１〜１２の２価の脂肪族基を表し、該脂肪族基中の１つのＣＨ_２または隣接していない２以上のＣＨ₂は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−または−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−で置換されていてもよい。

上記式（ＶＩ）で表される化合物は、下記式（ＶＩＩ）で表される化合物であることが好ましい。

式（ＶＩＩ）で表される化合物

式（ＶＩＩ）中、Ｚ¹³は、−Ｃ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−を表し；
Ｚ¹⁴は、−Ｃ（＝Ｏ）−または−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−を表し；
Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、アリルオキシ基、または上記式（ＩＶ−３）で表される基を表す。
上記Ｚ¹³は、−Ｃ（＝Ｏ）−または−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−を表し、−Ｃ（＝Ｏ）−を表すことが好ましい。
Ｒ¹³およびＲ¹⁴は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜４の直鎖アルキル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、アリルオキシ基または上記式（ＩＶ−３）で表される基を表し、メチル基、エチル基、プロピル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、または上記式（ＩＶ−３）で表される基を表すことが好ましく、メチル基、エチル基、メトキシ基、エトキシ基、フェニル基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、または上記式（ＩＶ−３）で表される基を表すことがさらに好ましい。

式（ＶＩ）で表される化合物の具体例としては、以下で例示される化合物が挙げられる。

液晶化合物の他の好適態様としては、下記式（ＶＩＩＩ）で表される化合物が挙げられる。

式（ＶＩＩＩ）で表される化合物

式（ＶＩＩＩ）中、Ａ²およびＡ³は、それぞれ独立して、炭素数２〜１８のアルキレン基を表し、該アルキレン基中の１つのＣＨ₂または隣接していない２つ以上のＣＨ₂は、−Ｏ−で置換されていてもよい；
Ｚ⁵は、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）−または単結合を表し；
Ｚ⁶は、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−または単結合を表し；
Ｒ⁵およびＲ⁶は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表し；
Ｌ⁹、Ｌ¹⁰、Ｌ¹¹およびＬ¹²は、それぞれ独立して、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜４のアルコキシ基、炭素数２〜５のアルコキシカルボニル基、炭素数２〜４のアシル基、ハロゲン原子または水素原子を表し、Ｌ⁹、Ｌ¹⁰、Ｌ¹¹およびＬ¹²のうち少なくとも１つは水素原子以外の基を表す。

上記式（ＶＩＩＩ）で表される化合物は、下記式（ＩＸ）で表される化合物であることが好ましい。

式（ＩＸ）で表される化合物

式（ＩＸ）中、ｎ２およびｎ３は各々独立して、３〜６の整数を表し；
Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶は各々独立して、水素原子またはメチル基を表す。

式（ＩＸ）中、ｎ２およびｎ３は各々独立して、３〜６の整数を表し、上記ｎ２およびｎ３が４であることが好ましい。
式（ＩＸ）中、Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶は、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基を表し、上記Ｒ¹⁵およびＲ¹⁶が水素原子を表すことが好ましい。

式（ＶＩＩＩ）で表される化合物の具体例としては、以下で例示される化合物が挙げられる。

上記液晶化合物は、公知の方法により製造することが可能である。

組成物層中、液晶化合物の含有量は特に制限されないが、組成物層全質量に対して、５０質量％以上が好ましく、６０質量％以上がより好ましく、６０〜９５質量％がさらに好ましい。なかでも、反射層の拡散反射性がより優れる点で、複数の重合性基を有する液晶化合物の含有量が、上記範囲であることが好ましい。

（キラル剤（キラル化合物））
キラル剤の種類は、特に制限されない。キラル剤は液晶性であっても、非液晶性であってもよい。キラル剤は、公知の種々のキラル剤（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４−３項、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic）用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載）から選択できる。キラル剤は、一般に不斉炭素原子を含む。ただし、不斉炭素原子を含まない軸性不斉化合物または面性不斉化合物を、キラル剤として用いることもできる。軸性不斉化合物または面性不斉化合物の例には、ビナフチル、ヘリセン、パラシクロファン、および、これらの誘導体が含まれる。キラル剤は、重合性基を有していてもよい。

組成物中、キラル剤の含有量は、液晶化合物全質量に対して、０．５〜３０質量％が好ましい。キラル剤の使用量は、より少ないことが液晶性に影響を及ぼさない傾向があるため好まれる。従って、キラル剤としては、少量でも所望の螺旋ピッチの捩れ配向を達成可能なように、強い捩り力のある化合物が好ましい。
このような強い捩れ力を示すキラル剤としては、例えば、特開２００２−３０２４８７号公報、特開２００２−８０４７８号公報、特開２００２−８０８５１号公報、特開２００２―１７９６６８号公報、特開２００２―１７９６７０号公報、特開２００２−３３８５７５号公報、特開２００２−１８００５１号公報、特開昭６２―８１３５４号公報、ＷＯ２００２／００６１９５号、特開２０１１−２４１２１５号公報、特開２００３−２８７６２３号公報、および特開２０１４−０３４５８１号公報に記載のキラル剤、ならびに、ＢＡＳＦ社製のＬＣ−７５６などが挙げられる。

（任意の成分）
組成物層には、液晶化合物およびキラル剤以外の他の成分が含まれていてもよい。

（重合開始剤）
組成物層は、重合開始剤を含んでいてもよい。
重合開始剤としては、紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であることが好ましい。光重合開始剤としては、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）およびオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）などが挙げられる。
組成物層中での重合開始剤の含有量は特に制限されないが、液晶化合物全質量に対して、０．１〜２０質量％が好ましく、１〜１０質量％がより好ましい。

（配向制御剤）
組成物層は、配向制御剤を含んでいてもよい。組成物層に配向制御剤が含まれることにより、安定的または迅速なコレステリック液晶相の形成が可能となる。
配向制御剤としては、例えば、含フッ素（メタ）アクリレート系ポリマー、ＷＯ２０１１／１６２２９１号に記載の一般式（Ｘ１）〜（Ｘ３）で表される化合物、特開２０１２−２１１３０６号広報の段落［０００７］〜［００２９］に記載の化合物、特開２０１３−４７２０４号公報の段落［００２０］〜［００３１］に記載の化合物、ＷＯ２０１６／００９６４８号の段落［０１６５］〜［０１７０］に記載の化合物、ＷＯ２０１６／０９２８４４号の段落［００７７］〜［００８１］および特許第４５９２２２５号広報に記載の一般式（Ｃｙ２０１）〜（Ｃｙ２１１）などが挙げられる。これらの化合物は、層の空気界面において、液晶化合物の分子のチルト角を低減または実質的に水平配向させることができる。なお、本明細書で「水平配向」とは、液晶分子長軸と膜面が平行であることをいうが、厳密に平行であることを要求するものではなく、本明細書では、水平面とのなす傾斜角が２０°未満の配向を意味するものとする。
配向制御剤は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
組成物層中での配向制御剤の含有量は特に制限されないが、液晶化合物全質量に対して、０．０１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜５質量％がより好ましい。

（その他の添加剤）
組成物層は、１種または２種類以上の、酸化防止剤、紫外線吸収剤、増感剤、安定剤、可塑剤、連鎖移動剤、重合禁止剤、消泡剤、レべリング剤、増粘剤、難燃剤、界面活性物質、分散剤、ならびに、染料および顔料などの色材、などの他の添加剤を含んでいてもよい。

組成物層の粘度を大きくする目的で、組成物層は増粘剤を含んでいてもよい。
増粘剤としては、液晶の配向を大きく乱すことなく粘度を増大できるものが好ましく、例えば、メソゲン構造を有するポリマーなどが好ましい。
また、例えば、水素結合性の官能基を有する化合物も好ましい。水素結合性の官能基としては、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル基、スルホ基、アミド基、ウレタン基、または、ウレア基などが好ましい。

（工程１の手順）
工程１では、まず、上述した組成物層を用意する。
組成物層の製造方法は特に制限されず、例えば、液晶化合物およびキラル剤を含む組成物を基板上に塗布して、組成物層を形成する方法が挙げられる。

基板は、組成物層を支持する板である。なかでも、透明基板であることが好ましい。なお、透明基板とは、可視光の透過率が６０％以上である基板を意図し、その透過率は８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましい。
基板を構成する材料は特に制限されず、例えば、セルロース系ポリマー、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエステル系ポリマー、（メタ）アクリル系ポリマー、スチレン系ポリマー、ポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、アミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、および、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマーなどが挙げられる。
基板には、ＵＶ（紫外線）吸収剤、マット剤微粒子、可塑剤、劣化防止剤、および、剥離剤などの各種添加剤が含まれていてもよい。
なお、基板は、可視光領域で低複屈折性であることが好ましい。例えば、基板の波長５５０ｎｍにおける位相差は５０ｎｍ以下が好ましく、２０ｎｍ以下がより好ましい。
基板の厚さは特に制限されないが、薄型化、および、取り扱い性の点から、１０〜２００μｍが好ましく、２０〜１００μｍがより好ましい。
上記厚さは平均厚さを意図し、基板の任意の５点の厚さを測定し、それらを算術平均したものである。

また、上記組成物を塗布する際には、必要に応じて、組成物は溶媒を含んでいてもよい。
溶媒としては、水または有機溶媒が挙げられる。有機溶媒としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類；ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類；ピリジンなどのヘテロ環化合物；ベンゼン、および、ヘキサンなどの炭化水素；クロロホルム、および、ジクロロメタンなどのアルキルハライド類；酢酸メチル、酢酸ブチル、および、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、および、シクロペンタノンなどのケトン類；テトラヒドロフラン、および、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類；１，４−ブタンジオールジアセテート；などが挙げられる。これらは１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。

組成物を基板上に塗布する方法は特に制限されず、例えば、ワイヤーバーコーティング法、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、および、ダイコーティング法などが挙げられる。
なお、必要に応じて、塗布後に、基板上に塗布された組成物を乾燥する処理を実施してもよい。乾燥処理を実施することにより、塗布された組成物から溶媒を除去できる。

基板上に配置された組成物層の膜厚は特に制限されないが、反射層の拡散反射性がより優れる点で、０．１〜２０μｍが好ましく、０．２〜１５μｍがより好ましく、０．５〜１０μｍがさらに好ましい。

次に、形成された組成物層の断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部および暗部を波状に変化させる。
より具体的には、通常、上記手順によって形成された組成物層の断面においては、コレステリック液晶相由来の明部および暗部が組成物層の表面（言い換えれば、基板の表面）に対して平行となっている（図１参照）。すなわち、明部をなす線（連続線）および暗部をなす線（連続線）が共に、組成物層の表面に対して平行となるように直線状となっている。このような組成物層に対して、所定の処理を施すことにより、コレステリック液晶相由来の明部および暗部が波状となるように変化させる（図２参照）。すなわち、所定の処理を施すことにより、組成物層の断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部（明部をなす線）および暗部（暗部をなす線）をそれぞれ直線状から波状に変化させる。

コレステリック液晶相由来の明部および暗部が波状となるように変化させる処理は特に制限されず、組成物層に含まれるキラル剤の螺旋誘起力を変化させる処理であることが好ましい。例えば、組成物層に含まれるキラル剤の螺旋誘起力が大きくなる場合、組成物層中において液晶化合物の捩れがより増し、結果として、コレステリック液晶相の配向（螺旋軸の傾き）が変化して、これにより、直線状の明部および暗部が波状構造（凹凸構造）の明部および暗部に変化して、所定の反射層（コレステリック液晶相状態の組成物の層）が形成される（図２参照）。

なお、キラル剤の螺旋誘起力（ＨＴＰ）は、下記式（１）で表される螺旋配向能力を示すファクターである。
式（１） ＨＴＰ＝１／（螺旋ピッチの長さ（単位：μｍ）×キラル剤の濃度）
螺旋ピッチの長さとは、組成物層中におけるコレステリック液晶相の螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）の長さをいい、液晶便覧（丸善株式会社出版）の１９６ページに記載の方法で測定できる。また、キラル剤の濃度とは、組成物層中の全固形分に対するキラル剤の濃度（質量％）を意図する。
なお、上記ＨＴＰの値は、キラル剤の種類のみならず、組成物層中に含まれる液晶化合物の種類によっても影響を受ける。よって、例えば、所定のキラル剤Ｘおよび所定の液晶化合物Ａを含む組成物と、所定のキラル剤Ｘおよび所定の液晶化合物Ａとは異なる所定の液晶化合物Ｂを含む組成物とを用意し、同一温度で両者のＨＴＰを測定した場合、その値が異なる場合もある。また、ＨＴＰの値は、組成物層中に形成される螺旋ピッチの長さによって異なり、螺旋ピッチの長さは、組成物層の温度によって適宜調節可能である。つまり、組成物層に対して冷却処理または加熱処理を施すことにより、螺旋ピッチの長さを調節できる。

なかでも、組成物層中の上記キラル剤の螺旋誘起力が５％以上上昇するような処理を実施することが好ましい。
キラル剤の螺旋誘起力が５％以上上昇するとは、組成物層に所定の処理（例えば、冷却処理）を施す前の組成物中のキラル剤の螺旋誘起力をＸとし、組成物層に所定の処理（例えば、冷却処理）を施した後の組成物層中のキラル剤の螺旋誘起力をＹとした場合、以下の式（２）で表される上昇率Ｚが５％以上であることを意図する。
式（２）：上昇率Ｚ（％）＝｛（Ｙ−Ｘ）／Ｘ｝×１００
上昇率Ｚは５％以上が好ましく、１０％以上がより好ましい。反射層の拡散反射性がより優れる点で、１２％以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、４０％以下の場合が多い。

上記コレステリック液晶相由来の明部および暗部が波状となるように変化させる処理としては、組成物層の冷却または加熱を行い、組成物層に含まれるキラル剤の螺旋誘起力を変化させることが好ましい。
特に、好ましい態様としては、組成物層を加熱して液晶化合物を配向させてコレステリック液晶相の状態とし、その後、組成物層に含まれるキラル剤の螺旋誘起力が変化するように（好ましくは、１０％以上上昇するように）組成物層を冷却する処理が挙げられる。
以下、上記好ましい態様について詳述する。

上記組成物層を加熱する際の加熱条件としては、４０〜１００℃（好ましくは、６０〜１００℃）で０．５〜５分間（好ましくは、０．５〜２分間）にわたって組成物層を加熱することが好ましい。
また、コレステリック液晶相の状態とした組成物層を冷却する際には、キラル剤の螺旋誘起力が１０％以上上昇するように、組成物を冷却するのが好ましい。
組成物を冷却する際には、反射層の拡散反射性がより優れる点で、組成物層の温度が３０℃以上下がるように、組成物層を冷却することが好ましい。なかでも、上記効果がより優れる点で、４０℃以上下がるように組成物層を冷却することが好ましく、５０℃以上下がるように組成物層を冷却することがより好ましい。上記冷却処理の低減温度幅の上限値は特に制限されないが、通常、７０℃程度である。
なお、上記冷却処理は、言い換えると、冷却前のコレステリック液晶相の状態の組成物層の温度をＴ℃とする場合、Ｔ−３０℃以下となるように、組成物層を冷却することを意図する。
上記冷却の方法は特に制限されず、組成物層が配置された基板を所定の温度の雰囲気中に静置する方法が挙げられる。

上記では組成物層を冷却または加熱する処理について詳述したが、コレステリック液晶相由来の明部および暗部が波状となるように変化させる処理はこの態様に限定されない。
例えば、組成物層に対して電圧を印加する処理も挙げられる。電圧を印加する方法は特に制限されず、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）付きの水平配向セル内に液晶組成物を充填して、組成物層を形成して、電圧を印加する方法が挙げられる。
また、電圧を印加する方法以外にも、磁場を印加する方法、および、圧力を加える方法なども挙げられる。

＜工程２＞
工程２は、工程１で得られた組成物層に対して固定化処理を施す工程である。本工程を実施することにより、明部および暗部が波状となったコレステリック液晶相が固定化され、所望の反射層が挙げられる。
つまり、得られる反射層は、コレステリック液晶相を固定してなる層に該当する。
なお、ここで、コレステリック液晶相を「固定化した」状態は、コレステリック液晶相となっている液晶化合物の配向が保持された状態が最も典型的、且つ、好ましい態様である。それだけには制限されず、具体的には、通常０〜５０℃、より過酷な条件下では−３０〜７０℃の温度範囲において、層に流動性がなく、また、外場もしくは外力によって配向形態に変化を生じさせることなく、固定化された配向形態を安定に保ち続けることができる状態を意味するものとする。本発明では、後述するように、紫外線照射によって進行する硬化反応により、コレステリック液晶相の配向状態を固定することが好ましい。
なお、コレステリック液晶相を固定してなる層においては、コレステリック液晶相の光学的性質が層中において保持されていれば十分であり、最終的に層中の組成物がもはや液晶性を示す必要はない。

固定化処理の方法は特に制限されず、光硬化処理および熱硬化処理が挙げられる。なかでも、光照射処理が好ましく、紫外線照射処理がより好ましい。このような固定化処理は、光照射（特に紫外線照射）による重合反応であるのが好ましく、光照射（特に紫外線照射）によるラジカル重合反応であるのがより好ましい。
紫外線照射には、紫外線ランプなどの光源が利用される。
紫外線の照射エネルギー量は特に制限されないが、一般的には、０．１〜０．８Ｊ／ｃｍ²程度が好ましい。また、紫外線を照射する時間は特に制限されないが、得られる反射層の充分な強度および生産性の双方の観点から適宜決定すればよい。

工程２の固定化処理の際に、組成物層を構成する組成物の粘度が２０００ｍＰａ・ｓ以上となる。上述したように、組成物層を構成する組成物の粘度が上記数値以上であれば、工程１で得られた明部および暗部が波状となったコレステリック液晶相の構造が維持されたまま、固定化される。
なかでも、反射層の拡散反射性がより優れる点で、上記粘度は１００００ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、１５０００ｍＰａ・ｓ以上がより好ましい。上限は特に制限されないが、５００００ｍＰａ・ｓ以下の場合が多く、４００００ｍＰａ・ｓ以下の場合がより多い。

組成物層を構成する組成物の粘度は、組成物中に含まれる成分（液晶化合物およびキラル剤など）の種類を変更することにより、調整することができる。
特に、上記粘度を達成するためには、組成物層中における液晶化合物の含有量が、上述した好適範囲となっていることが好ましい。また、液晶化合物としては、複数の重合性基を有する液晶化合物であることが好ましい。

上記組成物層を構成する組成物の粘度の測定方法としては、公知の粘度測定機（例えば、レオメーターＲＳ６００（ＨＡＡＫＥ社製））を用いて、組成物層を構成する組成物の粘度を測定する方法が挙げられる。
なお、上記測定に際しては、組成物層の一部を削り取って測定用のサンプルとして、そのサンプルを用いて固定化処理時の温度における粘度を測定してもよい。また、組成物層を構成する所定の各成分を所定量混合して、測定用のサンプルを作製して、そのサンプルを用いて固定化処理時の温度における粘度を測定してもよい。
なお、上記粘度は固定化処理の際の粘度であり、例えば、３０℃の条件下にて固定化処理（例えば、光照射処理）を実施する場合は、３０℃での粘度が固定化処理の際の粘度に該当する。

＜反射層＞
上記製造方法により、図２に示すような、断面ＳＥＭ観察図において明部と暗部とが波状構造をとる反射層が形成される。
反射層は、コレステリック液晶構造を有し、螺旋軸と反射層の表面とのなす角が周期的に変化する構造を有する層である。つまり、反射層は、コレステリック液晶構造を有し、コレステリック液晶構造は走査型電子顕微鏡にて観測される反射層の断面図において明部と暗部との縞模様を与え、明部および暗部がなす線の法線と反射層の表面となす角が周期的に変化する、反射層である。

なお、反射層を複数積層してもよい。
例えば、上述した方法によって基板上に所定の選択反射波長を有する反射層Ｘを形成した後、同様の手順によって、反射層Ｘとは異なる選択反射波長を有する反射層Ｙを形成してもよい。

＜用途＞
反射層（コレステリック液晶層）は、所定の波状構造を有するコレステリック液晶相（コレステリック液晶構造）を有する層であり、このコレステリック液晶相を固定してなる層であることが好ましい。
反射層は、所定の波長域の光に対して選択反射特性を示す層である。反射層は選択反射波長域において、右円偏光および左円偏光のいずれか一方を選択的に反射させ、他方のセンスの円偏光を透過させる円偏光選択反射層として機能する。反射層を１層または２層以上含むフィルムは、様々な用途に用いることができる。反射層を２層以上含むフィルムにおいて、各反射層が反射する円偏光のセンスは用途に応じて同じでも逆であってもよい。また、各反射層の後述の選択反射の中心波長も用途に応じて同じでも異なっていてもよい。

なお、本明細書において、円偏光につき「センス」というときは、右円偏光であるか、または左円偏光であるかを意味する。円偏光のセンスは、光が手前に向かって進んでくるように眺めた場合に電場ベクトルの先端が時間の増加に従って時計回りに回る場合が右円偏光であり、反時計回りに回る場合が左円偏光であるとして定義される。本明細書においては、コレステリック液晶の螺旋の捩れ方向について「センス」との用語を用いることもある。コレステリック液晶による選択反射は、コレステリック液晶の螺旋の捩れ方向（センス）が右の場合は右円偏光を反射し、左円偏光を透過し、センスが左の場合は左円偏光を反射し、右円偏光を透過する。

例えば、可視光波長域（波長４００〜７５０ｎｍ）に選択反射特性を示す反射層を含むフィルムは、投映像表示用のスクリーンおよびハーフミラーとして利用することができる。また、反射帯域を制御することで、カラーフィルターまたはディスプレイの表示光の色純度を向上させるフィルタ（例えば特開２００３−２９４９４８号公報参照）として利用することもできる。
また、上記反射層は、光学素子の構成要素である、偏光素子、反射膜、反射防止膜、視野角補償膜、ホログラフィー、および、配向膜など、種々の用途に利用することができる。
以下特に好ましい用途である投映像表示用部材としての用途について説明する。

反射層の上記の機能により、投射光のうち選択反射を示す波長において、いずれか一方のセンスの円偏光を反射させて、投映像を形成することができる。投映像は投映像表示用部材表面で表示され、そのように視認されるものであってもよく、観察者から見て投映像表示用部材の先に浮かび上がって見える虚像であってもよい。

上記選択反射の中心波長λは、コレステリック液晶相における螺旋構造のピッチＰ（＝螺旋の周期）に依存し、反射層の平均屈折率ｎとλ＝ｎ×Ｐの関係に従う。なお、ここで、反射層が有する選択反射の中心波長λは、反射層の法線方向から測定した円偏光反射スペクトルの反射ピークの重心位置にある波長を意味する。上記式から分かるように、螺旋構造のピッチを調節することによって、選択反射の中心波長を調節できる。すなわち、ｎ値とＰ値を調節して、例えば、青色光に対して右円偏光および左円偏光のいずれか一方を選択的に反射させるために、中心波長λを調節し、見かけ上の選択反射の中心波長が４５０〜４９５ｎｍの波長域となるようにすることができる。なお、見かけ上の選択反射の中心波長とは実用の際（投映像表示用部材としての使用時）の観察方向から測定した反射層の円偏光反射スペクトルの反射ピークの重心位置にある波長を意味する。コレステリック液晶相のピッチは液晶化合物と共に用いるキラル剤の種類、または、その添加濃度に依存するため、これらを調節することによって所望のピッチを得ることができる。なお、螺旋のセンスやピッチの測定法については「液晶化学実験入門」日本液晶学会編 シグマ出版２００７年出版、４６頁、および、「液晶便覧」液晶便覧編集委員会 丸善 １９６頁に記載の方法を用いることができる。

また、赤色光波長域、緑色光波長域、および青色光波長域にそれぞれ見かけ上の選択反射の中心波長を有する反射層をそれぞれ作製し、それらを積層することによりフルカラーの投映像の表示が可能である投映像表示用部材を作製することができる。

各反射層の選択反射の中心波長を、投映に用いられる光源の発光波長域および投映像表示用部材の使用態様に応じて調節することにより、光利用効率良く鮮明な投映像を表示できる。特に反射層の選択反射の中心波長をそれぞれ投映に用いられる光源の発光波長域などに応じてそれぞれ調節することにより、光利用効率良く鮮明なカラー投映像を表示できる。

また、例えば、上記投映像表示用部材を可視光領域の光に対して透過性を有する構成とすることによりヘッドアップディスプレイのコンバイナとして使用可能なハーフミラーとすることができる。投映像表示用ハーフミラーは、プロジェクターから投映された画像を視認可能に表示することができると共に、画像が表示されている同じ面側から投映像表示用ハーフミラーを観察したときに、反対の面側にある情報または風景を同時に観察することができる。

以下に、実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、および、処理手順などは、本発明の主旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

＜液晶組成物の調製＞
下記の表１に示す成分を混合して、液晶組成物１〜６を調製した。なお、各成分の量は、全て、質量部である。

上記表１中の各成分を以下に示す。

棒状液晶化合物１０１

棒状液晶化合物１０２

棒状液晶化合物２０１

棒状液晶化合物２０２

棒状液晶化合物２０３

棒状液晶化合物２０４

ポリマーＡ

キラル剤Ａ

キラル剤Ｂ

配向制御剤（１）

＜実施例１＞
ラビング処理を施したＰＥＴ（poly-ethylene terephthalate）基板（東洋紡製）のラビング処理面に、液晶組成物１を乾燥後の組成物層（塗布層）の厚みが４．５μｍになるように室温にてワイヤーバーを用いて塗布した。組成物層を室温にて５０秒間乾燥させた後、９０℃の雰囲気で１分間加熱して液晶化合物を配向させた。その後、組成物層に対して３０℃でフュージョン製Ｄバルブ（ランプ９０ｍＷ／ｃｍ^２）にて出力８０％で８秒間ＵＶ（紫外線）照射し、ＰＥＴ基板上に反射層１（コレステリック液晶相を固定化してなる層に該当）を形成した。
なお、上記手順においては、９０℃で液晶化合物を配向させた後、３０℃まで液晶組成物を冷却しており、この処理が組成物層に含まれるキラル剤の螺旋誘起力を変化させる処理に該当する。液晶組成物中のキラル剤の配向温度（９０℃）でのＨＴＰと、ＵＶ照射時に冷却された液晶組成物中のキラル剤の固定化温度（３０℃）でのＨＴＰとの間のＨＴＰ変化率は１５％以上であった。なお、上記ＨＴＰ変化率は、以下の式（３）によって求められる。
式（３）：ＨＴＰ変化率＝｛（液晶組成物中のキラル剤の固定化温度（３０℃）でのＨＴＰ）−（液晶組成物中のキラル剤の配向温度（９０℃）でのＨＴＰ）／（液晶組成物中のキラル剤の配向温度（９０℃）でのＨＴＰ）｝×１００
なお、固定化処理時の温度（表２中の「固形化時の粘度」）である３０℃における組成物層を構成する成分の粘度は、上述した手順に従って測定した。
また、組成物層を室温にて５０秒間乾燥させることにより、組成物層から溶媒は実質的に除去された。

＜実施例２〜７、比較例１＞
表２に従って、液晶組成物の種類、および、固定化温度を変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、反射層を形成した。
得られた反射層を用いて、以下の評価を行った。

＜配向観察＞
得られた反射層を偏光顕微鏡にセットして、落射条件（反射層の上方から光を照射して反射光を観察する条件）にて対物レンズ５０倍、接眼レンズ１０倍の条件で反射層を観察し、以下の基準に従って評価した。
「Ｓ」：アンジュレーション構造がはっきり見える
「Ａ」：アンジュレーション構造が見える
「Ｂ」：アンジュレーション構造がうっすらと見える
「Ｃ」：アンジュレーション構造が見えない
なお、アンジュレーション構造が見える際には、はっきりとした回折格子状の模様が確認できる。

＜３０°反射量＞
絶対反射率測定システム付きの分光光度計Ｖ−６７０（日本分光製）に、反射層を光源側に向けてセットし、０°入射３０°検出条件にて反射率を測定した。つまり、光源から入射光を反射層表面の法線方向から照射し、反射層表面の法線方向に対して極角θが３０°に配置した検出器によって、波長３８０〜８００ｎｍにおける各波長の反射率を測定した。得られたデータ（横軸：波長、縦軸：反射率）から、各波長のピークを積算して得られるピーク面積を算出し、３０°反射量として求めた。
なお、上記反射量を求める際には、基板のみを用いた３０°反射量を別途測定して、ベースラインとして用いた。

なお、実施例１〜７のいずれにおいても、ＨＴＰ変化率（％）は４０％以下であった。

上記表２に示すように、本発明の製造方法によれば、優れた拡散反射性を有する反射層が得られる。
特に、固定化時の粘度が１００００ｍＰａ・ｓ以上（好ましくは、１５０００ｍＰａ・ｓ以上）の場合、アンジュレーション構造がよりはっきり形成され、拡散反射性がより向上することが確認された。

＜実施例８＞
セルギャップが５μｍのＩＴＯ付きの水平配向セル内に、黄色灯環境下、下記液晶組成物７を９０℃にて封入した。その後、封入された液晶組成物７に対して、９０℃で１分間配向処理を行った後、３０℃まで温度を低下させた。この冷却過程においては、液晶組成物７の液晶化合物およびキラル剤が所定の組み合わせであったため、ＨＴＰ変化はほとんどなかった。
次に、セルに５０Ｖの電圧を印加したところ、配向観察から、液晶組成物７中においてアンジュレーション構造が形成されたことを確認した。その後、液晶組成物７の温度を３０℃にして、フュージョン製Ｄバルブ（ランプ９０ｍＷ／ｃｍ^２）にて出力８０％で８秒間ＵＶ（紫外線）照射し、アンジュレーション構造を固定化し、反射層を得た。反射層の配向観察の結果、アンジュレーション構造が確認できた。
さらに、分光光度計Ｖ−６７０における０°入射３０°検出条件の反射ピークの面積（３０°反射量）は、１０．２であった。
なお、液晶組成物７の３０℃での粘度は、１４１００ｍＰａ・ｓであった。

以下の成分を混合して、液晶組成物７を調製した。
棒状液晶化合物２０１ ９０質量部
棒状液晶化合物２０３ １０質量部
重合開始剤 Ｉｒｇ９０７（ＢＡＳＦ社製） ３質量部
重合増感剤 ＤＥＴＸ―Ｓ（日本化薬社製） １質量部
キラル剤ＬＣ―７５６（ＢＡＳＦ社製） ４.５質量部

１０ 基板
１２ａ コレステリック液晶相状態の組成物の層
１２ｂ 反射層
１４ 明部
１６ 暗部

Claims (6)

1. コレステリック液晶相を固定してなり、断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部および暗部が波状である反射層の製造方法であって、
   重合性基を有する液晶化合物およびキラル剤を含む組成物層を形成し、形成された前記組成物層の断面において走査型電子顕微鏡にて観察されるコレステリック液晶相由来の明部および暗部を波状に変化させる処理を実施する工程１と、
   前記工程１で得られた組成物層に対して固定化処理を施す工程２と、を有し、
   前記工程１中の前記処理が、前記組成物層を加熱して前記液晶化合物を配向させて、コレステリック液晶相由来の明部および暗部が前記組成物層の表面に対して平行になっているコレステリック液晶相の状態とし、その後、前記組成物層に含まれる前記キラル剤の螺旋誘起力が５％以上上昇するように、前記組成物層の温度が３０℃以上下がるように前記組成物層を冷却する処理であり、
   前記工程２の固定化処理の際に、前記組成物層を構成する組成物の粘度が２０００ｍＰａ・ｓ以上である、反射層の製造方法。
2. 前記粘度が１００００ｍＰａ・ｓ以上である、請求項１に記載の反射層の製造方法。
3. 前記粘度が１５０００ｍＰａ・ｓ以上である、請求項１または２に記載の反射層の製造方法。
4. 前記固定化処理が、光照射処理である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の反射層の製造方法。
5. 前記液晶化合物が、複数の重合性基を有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の反射層の製造方法。
6. 前記組成物層中における前記液晶化合物の含有量が、６０質量％以上である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の反射層の製造方法。

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