JP6856621B2 - 手術台の患者支持領域を加熱するためのデバイス - Google Patents

Description

本発明は、加熱エレメントによって手術台の患者支持領域を加熱するためのデバイスに関する。

手術中に患者のために適切な体温を提供する事はしばしば問題に成る。とりわけ、胸部、腹部、又は脚部の切開を要求する手術中に、患者は、伝染病予防の理由のために断熱のために十分に覆われないかもしれず、結果的に患者の低体温症をもたらすかもしれない。更に、心臓手術等の特定の手術中に、患者の人工低体温が患者の温度管理を妨げる投薬によってもたらされる。

米国特許第６６５３６０７号明細書によって、電流によって作動され、マットレスに埋め込まれた加熱エレメントが知られており、加熱エレメントは、伝導伝熱によって熱がマットレスに横たわる患者に更に供給される様に、加熱エレメントによって生成した熱をマットレスに導電的に伝達する。患者支持領域と別に患者の加温のためのマットレスを提供する事によって、患者支持領域上のマットレスの固定及びマットレス上の患者の固定のための費用が増加する。更に、マットレスは、患者支持領域に加え、浄化及び消毒されなければならない。更に、マットレスの加熱エレメント、必要な導通経路及びセンサは、患者に実行された画像検査中に画像に典型的に表示され、診断を複雑にする。従って、低放射線強度でさえエックス線に対し透明に見える低密度の材料を使用する事が望ましい。

更に、患者支持領域上に大きな押圧力で静止する患者の領域に於ける床ずれによって、長い手術中に問題が発生するかもしれない。床ずれの問題は、患者の床ずれの虞が有る領域のマットレスによる加熱によって更に悪化する。理想的に、患者への伝熱は、患者支持領域上に僅かな押圧力で静止する患者の領域に於いてのみ生じるべきである。その様な区別された伝熱は、マットレスに埋め込まれた加熱エレメントによって保証する事は出来ない。

更に、過剰加熱に対する患者の保護は、電気的に作動された加熱エレメントの場合はマットレス上の患者のむらの有る押圧力のために困難である。これは、可能な限り支持領域全体に亘る温度の確実な監視を必要とする。

更に、患者は、設計特微によって電流に対し効果的に保護されなければならない。

独国実用新案第２０２００６０１７３６９号明細書によって、温暖空気が取り入れられる暖かいブランケットが知られており、温暖空気は、患者と向かい合う暖かいブランケットの底部側から取り出され、患者を暖める。取り出された空気は、手術中に外科医も温暖空気流動に晒される様に、患者に加え、周囲を暖める。更に、患者の創感染の危険性は、捕らえられ、又は取り出された空気と共に運ばれた病原菌によって高められる。

本発明が解決する事を提案する問題は、熱を簡単且つ緩やかに患者に供給する事が出来る患者支持領域を加熱するためのデバイスを示す事である。

この問題は、請求項１の特徴を有する、手術台の患者支持領域を加熱するためのデバイスによって解決される。本発明の有利な変更は、従属項に示される。

請求項１に記載のデバイスに於いては、患者支持領域は、加熱された流体を流動させる事が出来る伸縮自在に変形可能な流動層を有する。加熱された流体のこの流動層を通じた流動に際し、熱（とりわけ、少なくとも患者が周囲に放つ熱量）を簡単且つ緩やかに患者に供給する事が出来る。患者支持領域の流動層を通じ流動する流体の温度及び／又は流動層を通じ生成された流体の流動を容易に調整可能であるので、患者の各領域の過熱を簡単に回避する事が出来る。患者の放射線透視検査のための患者支持領域の適合性が保証される様に、流体も流動層も画像検査に於いて写真の歪みをもたらさない。更に、流動層の伸縮自在な変形性によって、他の領域と比較すると、患者の押圧力によって大きく変形された流動層の領域に於ける流体の体積流量が減少し、従って、患者支持領域は、大きく変形された領域に於いては弱く加熱される。従って、患者が床ずれしそうな領域は、他の領域と比較すると、弱く加熱され、患者を保護する。流動層の伸縮性は、患者支持領域の簡単構造及び患者の快適な支持の両方を可能にする。特に、流動層と患者支持領域の表面との間に支持された患者の圧力を緩和する更なる弾性層が不要である。患者支持領域に於ける流動層の統合によって、付加的な支持エレメント又はブランケットが取り扱われ又は浄化される必要は無い。

流動層を通じ流動する流体は、患者支持領域に熱を伝達し、次に、患者支持領域の表面を介し導電的に患者に熱を伝達する。流動層を通じた流動のために提供される流体は、好ましくは、空気等の気体又は液体である。流動層は、好ましくは、開放気孔フォーム材、フリース、平坦膨張構造及び／又は３次元織物構造である。弾性変形によって、流動断面が減少する様に、流動層の断面積が小さくなる。とりわけ、流動層が開放気孔フォーム材によって形成される事は有利である。これは、流動層を通じ流動する事が出来ると共に、同時に伸縮自在に変形可能である事を保証する。好ましくは、フォーム材としてポリウレタンが提供される。

とりわけ、流動層が、流動層に加熱エレメントによって加熱された流体を取り入れるための少なくとも１つの入口領域を有し、流動層が流動層から流体を取り出すための少なくとも１つの出口領域を有する事は有利である。この様に、加熱エレメントは、流動層外に提供する事が出来ると共に、流動層の伸縮自在な変形性を損なわない。

とりわけ有利な実施の形態に於いては、流動ジェネレータが提供され、流動ジェネレータによって、流動層の入口領域への流体の取り入れのための、流動層を通じた流動のための及び流動層の出口領域からの取り出しのための、流動を生成する事が出来る。これは、流体の効果的な再循環及び流体から流動層への可能な限り最も均一な伝熱を達成する。流体として空気が提供される場合に、流動ジェネレータは、好ましくは、ファン又はブロワである。流体として液体が提供される場合に、好ましくは、流動ジェネレータとしてポンプが使用される。

更に、患者支持領域がクッションを有する少なくとも１つの支持領域セグメントを有する事は有利である。この場合に、支持領域セグメントの表面は、支持領域セグメントのクッションの表面である。更に、流動層と封止層は、支持領域セグメントのクッションの一部である。これは、幾つかの支持領域セグメントを有する患者支持領域のモジュール設計を可能にし、その１つ以上の支持領域セグメントのクッションを加熱する事が出来る。

とりわけ有利な実施の形態に於いては、患者との接触のために提供された患者支持領域の表面が封止層の表面である。これは、流動層から患者への迅速的且つ効果的な伝熱を保証する。好ましくは、封止層として、いわゆる、ポリウレタンスプレースキンが提供される。

更に、流体の熱の貯蔵のために流動層に隣接する貯熱層を提供する事は有利である。これは、流動層から患者と接触しない患者支持領域の領域に伝達された熱が貯蔵され、加熱エレメントのスイッチを切った後の患者への熱の長時間の伝達が可能になる事を意味する。好ましくは、潜熱は、ワックス又は過飽和溶液に応じ貯蔵し、シリコーンゲル、ポリウレタンゲル、ウォータマット又はオイルマット等の大きい熱容量を有する一般的な材料が貯熱層のために提供される。貯熱層は、流動層及び患者と流動層との間の両方（即ち、流動層上又は流動層下）に配置されるかもしれない。

それは、とりわけ、画像検査による患者の放射線透視検査が予定された患者支持領域の領域外に配置される少なくとも１つの入口領域及び少なくとも１つの出口領域のために有利である。これは、入口領域又は出口領域が患者の放射線透視検査中に作成された写真を乱す事を防ぐ。

別の有利な実施の形態に於いては、加熱エレメントが患者支持領域に配置される。これは、デバイスのコンパクトな配置を達成し、患者支持領域の表面によって加熱エレメントを汚染に対し保護する。加熱エレメントから流体への伝熱は、好ましくは、加熱エレメントに接続された熱交換器を通じ生じる。

更に、流動ジェネレータが表面加熱エレメントの伝熱表面を通じ流動させるために活性化される時にエックス線透過表面加熱エレメント及び流体のための加熱エレメントのために有利である。これは、流体への効果的な伝熱を達成する。代替的に又は付加的に、加熱エレメントを患者支持領域の縁領域（とりわけ、患者支持領域のクッションの縁領域）に配置する事が出来る。患者は、好ましくは、縁領域に位置しない様に、又は少なくとも放射線透視検査を受ける患者の関連領域が縁領域に配置されない様に、患者支持領域上に配置される。

とりわけ、入口領域が支持領域セグメントの長手方向の第１の端に配置され、出口領域が患者支持領域の長手方向の第１の端と反対の支持領域セグメントの第２の端に配置される場合に有利である。これは、流動層を通じた優れた流動を達成し、患者支持領域の長手軸に沿った流動層の弾性変形によって患者支持領域の長手方向を横切る流動が損なわれるかもしれない。

更に、支持領域セグメントが加熱エレメントによって加熱された流体を流動層に取り入れるための別の入口領域を有し、支持領域セグメントが流動層から流体を取り出すための別の出口領域を有する事は有利である。この様に、支持領域セグメントの均一な加熱を達成する事が出来る。

以上に説明された構成の１つの有利な実施の形態に於いては、流動層を通じた流動を制御するために制御ユニット及びバルブシステムが提供される。この場合は、流体が入口領域に於いてのみ流動層に取り入れられる様に、バルブシステムを制御ユニットによって制御する事が出来る。これは、支持領域セグメントを柔軟に加熱する事が出来る様に、流動層を通じた異なる流動パターンの時系列を可能にする。

更に、汚染された流体の洗浄のために洗浄ユニットを提供する事は有利である。これは、患者の身体に入り込むかもしれない病原菌の流体に於ける蓄積を防ぐ。洗浄ユニットは、好ましくは、流体から病原菌を取り除く及び／又は病原菌を不活性化するのに適している。好ましくは、洗浄ユニットは、流体をイオン化及び／又は濾過する。

とりわけ有利な実施の形態に於いては、支持領域セグメントは、第１の支持領域セグメントであり、第１の支持領域セグメントは、第１の支持領域セグメントに流体を取り入れるための第１のポート及び第１の支持領域セグメントから流体を取り出すための第２のポートを有する。更に、患者支持領域は、第２の支持領域セグメントに流体を取り入れるための第１のポート及び第２の支持領域セグメントから流体を取り出すための第２のポートを有する少なくとも１つの第２の支持領域セグメントを有する。更に、第２の支持領域セグメントは、伸縮自在に変形可能な流動層及び患者との接触のために設計された第２の支持領域セグメントの表面と第２の支持領域セグメントの流動層との間に配置された流体不浸透性の封止層も有し、流動層を通じ加熱された流体が流動する事が出来る。更に、第２の支持領域セグメントの流動層は、加熱エレメントによって加熱された流体を第２の支持領域セグメントの流動層に取り入れるための少なくとも１つの入口領域及び第２の支持領域セグメントの流動層から流体を取り出すための少なくとも１つの出口領域を有する。流動ジェネレータが活性化された時に、流体が、第１の支持領域セグメントの第１のポートによって第１の支持領域セグメントに取り入れられ、第１の支持領域セグメントから第２の支持領域セグメントに流動し、第２の支持領域セグメントの流動層の入口領域に取り入れられ、第２の支持領域セグメントの流動層の出口領域から取り出され、第２の支持領域セグメントの第２のポートから取り出される様に、第１の支持領域セグメントの第２のポートが第２の支持領域セグメントの第１のポートに接続される。これは、幾つかの支持領域セグメントの加熱のために１つの加熱エレメントのみが提供される必要が有る様に、第１の支持領域セグメントから第２の支持領域セグメントへの流体の誘導を達成する。流体の誘導は、第３の支持領域セグメント又は更なる支持領域セグメントに従って拡張されるかもしれない。好ましくは、このために星形状構造、環形状構造又は支線が使用される。

流動層、加熱エレメント及び流動ジェネレータが配置された閉流体循環を提供する事はとりわけ有利である。その様な閉システムの提供によって、流体又はデバイスの他の領域への病原菌の侵入を困難にする。閉流体回路は、外部に対し流体密封である。

更に、空気が流体として提供され、流動ジェネレータによって空気が周囲から吸引される場合に有利である。流動ジェネレータが活性化された時に、周囲から吸引された空気は、支持領域セグメントの流動層の入口領域に取り入れられる。これは、とりわけ簡単な配置及びデバイスの経済的製造を達成する。流動層の入口領域に取り入れられた空気は、流動層から取り出され、加熱された後、支持領域セグメントから取り出される。この配置がもたらすシステムは、開回路を有する。

本発明の更なる特徴及び利点は、添付された図面に関する実施の形態の一例によって本発明を厳密に説明する以下の明細書によって明らかに成る。

第１の患者支持領域の概略透視図。 第１の実施の形態に従った患者支持領域を加熱するためのデバイスの支持領域セグメントの透視図。 支持領域セグメントに配置されたエレメントが見える様に、支持領域セグメントのクッションユニット及び支持板が図解の目的のために接続されずに示された支持領域セグメントの透視図。 支持領域セグメントの部分断面透視図。 図４に示された領域Ａの拡大図。 患者支持領域を横断する垂直切断平面に沿った支持領域セグメントの断面図。 図６に示された支持領域セグメントの領域Ｂの拡大図。 第２の実施の形態に従った支持領域セグメントを加熱するためのデバイスの支持領域セグメントの断面図。 図８に示された支持領域セグメントの領域Ｃの拡大図。 第２の実施の形態に従った支持領域セグメントの部分断面拡大透視図。 第３の実施の形態に従った支持領域セグメントを加熱するためのデバイスの支持領域セグメントの断面図。 第３の実施の形態に従った図１１に示された支持領域セグメントの領域Ｄの拡大図。 第３の実施の形態に従った支持領域セグメントの部分断面拡大透視図。 第４の実施の形態に従ったデバイスの支持領域セグメントの平面図。 第４の実施の形態に従った支持領域セグメントの底面図。 第４の実施の形態に従った支持領域セグメント並びに外部熱生成及び再循環ユニットの断面概略透視図。 患者支持領域の長手軸を横断する流動を収容する支持領域セグメントを有する患者支持領域の概略平面図。 患者支持領域の長手軸の方向の空気の流動を収容する支持領域セグメントを有する患者支持領域の別の概略平面図。 支持領域セグメントを通じた流動のための第１の構成に於ける患者支持領域の別の概略平面図。 支持領域セグメントを通じた流動のための第２の構成に於ける図１９の患者支持領域の平面図。 支持領域セグメントを通じた流動のための第３の構成に於ける図１９及び２０の患者支持領域の平面図。 別の実施の形態に従った流体の流動を連続的に収容する２つの支持領域セグメントの加熱のためのデバイスの概略透視図。

図１は、第１の実施の形態に従った患者支持領域１０の概略透視図を示す。患者支持領域１０は、それらの位置に於いて調整可能な幾つかの支持領域セグメントを有し、患者（不図示）の様々な位置調整を可能にする。本実施の形態の一例に於いては、患者支持領域１０の支持領域セグメントは、頭板１２、背板１４、胴板１６、骨盤板１８、ツーピース右脚板２０及びツーピース左脚板２２を含み、骨盤板１８は、例えば、本発明に従った患者支持領域１０を加熱するためのデバイス２３の支持領域セグメントとして設計される。他の実施の形態に於いては、本発明に従った患者支持領域１０の加熱のためのデバイス２３は、骨盤板１８の様に、同様な更なる支持領域セグメントを代替的に又は付加的に含むかもしれない。

図２は、第１の実施の形態に従った骨盤板１８の透視図を示す。骨盤板１８は、クッションユニット２４及びクッションユニット２４に接続された支持板２６を含む。同一の構造又は同一の機能を有するエレメントは、同一の参照番号を有する。

図３は、骨盤板１８に配置されたエレメントが見える様に、クッションユニット２４及び支持板２６が図解の目的のために接続されずに示された骨盤板１８の透視図を示す。骨盤板１８は、熱生成及び再循環ユニット３０及び支持板２６及びクッションユニット２４に形成された流路システム３２を含み、加熱された空気は、流路システム３２を通じ流動する事が出来る。

流路システム３２の第１の流路は、支持板２６のキャビティ３４によって形成される。支持板２６は、図２に示された接続状態に於いて、クッションユニット２４の内部支持板３６（図３に於いて可視）と接触する。支持板２６から見て外方に向く内部支持板３６の側面に、クッションユニット２４の伸縮自在に変形可能な空気不浸透性のクッション層３８が配置され、クッション層３８の空気浸透性は、空気浸透性の流動層４６よりも実質的に低い。

クッション層３８及び内部支持板３６は、供給口４２及び出口４４を有し、供給口４２及び出口４４は、クッション層３８及び内部支持板３６に共通貫通孔として夫々形成される。内部支持板３６は、キャビティ４５を有し、支持板２６及び内部支持板３６が相互に接触して位置する時に、支持板２６のキャビティ３４に配置された熱生成及び再循環ユニット３０がキャビティ４５に突出する。

図４は、骨盤板１８の部分断面透視図を示す。クッションユニット２４は、内部支持板３６、クッション層３８、供給口４２、空気浸透性の流動層４６、空気不浸透性の封止層４８、第１の空気不浸透性のサイドクッション５０、第２の空気不浸透性のサイドクッション５２及び出口４４を含む。ここで、供給口４２は、流路システム３２の第２の流路を形成し、流動層４６は、流路システム３２の第３の流路を形成し、出口４４は、流路システム３２の第４の流路を形成する。

流動層４６は、供給口４２の第１の端に配置された入口領域５６を有する。供給口４２の第１の端と反対の第２の端は、熱生成及び再循環ユニット３０が配置された支持板２６のキャビティ３４上に隣接する。熱生成及び再循環ユニット３０は、再循環ユニット５４及び空気入口６２及び空気出口６４を有する加熱エレメント６０を有する。再循環ユニット５４は、流動層４６の出口領域５８の出口４４を通じ空気を吸引し、加熱エレメント６０に空気を送り出すと共に空気を加熱する。

図５は、熱生成及び再循環ユニット３０を含む図４に示された領域Ａの拡大図を示す。再循環ユニット５４は、入口６８ａ、６８ｂ及び６８ｃ並びに入口６８ａ、６８ｂ及び６８ｃから空気を中央に吸引すると共に空気入口６２を通じ加熱エレメント６０に空気を導くラジアルファン６６が出口４４の方向に方向調整される。

図６は、患者支持領域１０を横断する垂直断面平面に沿った骨盤板１８の断面図を示し、図７は、図６にＢとして示された領域の拡大図を示す。再循環ユニット５４は、骨盤板１８の流路システム３２の空気流動を生成し、空気流動の方向は、４つの流路及び熱生成及び再循環ユニット３０に於いて、図６に示された矢印Ｐ１乃至Ｐ５によって夫々示される。

ラジアルファン６６が活性化された時に、空気が加熱エレメント６０の熱交換器を矢印Ｐ１の方向に通過して流動すると共に空気出口６４を通じキャビティ３４によって形成された第１の流路に取り出される様に、再循環ユニット５４は、出口４４から空気を吸引すると共に空気入口６２を通じ加熱エレメント６０に空気を供給する。第１の流路に於いては、空気は、供給口４２に向け矢印Ｐ２の方向に流動し、供給口４２に於いては、矢印Ｐ３に沿って流動し、流動層４６に向け入口領域５６を横断する。流動層４６に於いては、空気は、矢印Ｐ４の方向に流動し、従って、流動層４６及び封止層４８を加熱する。流動層４６を通じた流動の後、冷却された空気は、流動層４６から出口４４に向け矢印Ｐ５の方向に出口領域５８を横断して流動する。

しかる後、空気は、かつて流路によって形成された閉流動回路を移動した様に、再循環ユニット５４によって再び吸引される。他の実施の形態に於いては、再循環ユニットが逆転された流動方向によって使用される様に別の再循環ユニットが同様に設計された場合は、空気が矢印Ｐ１乃至Ｐ５と反対の方向にも流動するかもしれない。

図８は、第２の実施の形態に従った支持領域セグメント８０を加熱するためのデバイス８１の支持領域セグメント８０の断面図を示す。支持領域セグメント８０は、第１の実施の形態の骨盤板１８と同様の構造を有する。同一の構造又は同一の機能を有するエレメントは、同一の参照番号を有する。第１の実施の形態の骨盤板１８の熱生成及び再循環エレメント３０の代わりに、第２の実施の形態の支持領域セグメント８０に再循環ユニット８２及び表面加熱エレメント８４が提供される。

図８に示された矢印Ｐ６乃至Ｐ９は、再循環ユニット８２が活性化された時の空気流動の方向を示す。空気流動は、キャビティ３４を通じ流動する際に表面加熱エレメント８４によって加熱される。その後、加熱された空気は、供給口４２に入る。

図９に示された様に、図８にＣとして明示された支持領域セグメント８０の領域の拡大図に於いては、再循環ユニット８２は、封止が不要に成る様に、表面加熱エレメント８４及びクッション層３８と接触する。

図１０は、再循環ユニット８２が配置された支持領域セグメント８０の拡大部分断面透視図を示す。再循環ユニット８２は、再循環ユニット８２の空気入口８６及び出口８８を有し、空気が空気入口８６を通じ出口４４から吸引され、空気流動が出口８８を通じキャビティ３４に取り出されると共に表面加熱エレメント８４を通過し流路３４に流動する事によって加熱される。

図１１は、第３の実施の形態に従った支持領域セグメント７０を加熱するためのデバイス７１の支持領域セグメント７０の断面図を示す。第３の実施の形態は、空気流動が表面加熱エレメント８４を横断する自由流動流路３４に送り出されないという点が第２の実施の形態と異なるが、代わりに、表面加熱エレメント８４上に配置された付加的な空気浸透性の流動層７２を通じ送り出され、表面加熱エレメント８４に於いて加熱される。更に、支持領域セグメント７０は、クッション層３８の代わりにクッション層７５を有し、流動層４６の代わりに流動層７３を有し、流動層７３は、他の流動層７２と接触する領域７４を有する。この領域７４は、供給口４２に取って代わる。この様に、支持領域セグメント７０の構造高さ及びシステム全体の構造高さを減少させる事が出来る。

図１２は、図１１に示された支持領域セグメント７０の領域Ｄの拡大図である。図１３に於いては、支持領域セグメント７０の部分断面拡大透視図が示される。図１２及び１３は、空気流動が実質的にクッション性を有する材料の内部支持板３６上に導かれる事を示す。

図１４は、第４の実施の形態に従ったデバイス９１の支持領域セグメント９０の平面図を示し、支持領域セグメント９０の底部は、図１５に示される。支持領域セグメント９０は、内側に第１のポート９２及び第２のポート９６を有し、第１のホース９４が第１のポート９２に接続され、図１５に表されない第２のホースが第２のポート９６に接続される。

図１６は、支持領域セグメント９０及び外部熱生成及び再循環ユニット９８の概略断面透視図を示す。熱生成及び再循環ユニット９８は、第１のホース９４を通じ支持領域セグメント９０の第１のポート９２に接続され、第２のホース９７を通じ支持領域セグメント９０の第２のポート９６に接続される。

支持領域セグメント９０は、空気浸透性の流動層１０２、空気不浸透性の封止層１０４及び支持板１０６を有する。流動層１０２及び封止層１０４は、伸縮自在に変形可能なクッション１０８を形成する。更に、流動層１０２、第１のポート９２、第１のホース９４、第２のポート９６、第２のホース９７及び熱生成及び再循環ユニット９８は、デバイス９１の流路システム１１０を形成し、流路システム１１０を通じ空気が閉回路に於いて流動する。

流動層１０２は、示された一連の矢印の方向に於ける熱生成及び再循環ユニット９８によって加熱された空気の流動を収容する事によって加熱される。その後、空気は、支持領域セグメント９０の第２のポート９６から取り出され、第２のホース９７によって熱生成及び再循環ユニット９８に送り出される。熱生成及び再循環ユニット９８は、流動層１０２を加熱する事によって冷却された空気を加熱すると共に浄化し、第１のホース９４によって空気を支持領域セグメント９０に第１のポート９２を介しもう一度送り出す。他の点に於いては、デバイス９１の構造及び機能は、デバイス２３と一致する。

表されない第５の実施の形態に従ったデバイスに於いては、開回路に空気流動が存在する。熱生成及び再循環ユニット９８は、周囲から空気を吸引し、空気を加熱すると共に浄化し、第１のポート９２を通じ支持領域セグメント９０に第１のホース９４を通じ空気を送り出す。流動層１０２を通じ流動した後に、空気は、第２のポート９６から周囲に取り出される。第５の実施の形態に従ったデバイスの更なる構造及び機能は、デバイス９１の構造及び機能と一致する。

図１７は、本実施の形態に於いて骨盤板としての役割を果たし、患者支持領域１２０の長手軸Ｚ１を横断する流動を収容する支持領域セグメント１２２を有する患者支持領域１２０の概略平面図を示す。他の点に於いては、支持領域セグメント１２２の構造及び機能は、骨盤板１８と一致する。

図１８は、支持領域セグメント１２４を加熱するためのデバイス１２５の患者支持領域１２３の長手軸Ｚ２の方向の空気の流動を収容する支持領域セグメント１２４を有する患者支持領域１２３の概略平面図を示す。流動層の入口領域及び流動層の出口領域は、患者支持領域１２３の支持領域セグメント１２４の場合は、第１乃至第５の実施の形態の支持領域セグメント１８、８０及び９０と異なり、支持領域セグメント１２４が空気の縦方向流動を収容する様に、長手軸Ｚ２に沿って間隔を空け配置される。他の点に於いては、支持領域セグメント１２４の構造及び機能は、支持領域セグメント１８と一致する。

図１９、２０及び２１は、第６の実施の形態に従った支持領域セグメント１３２を加熱するためのデバイス１３１を有する患者支持領域１３０の概略平面図を夫々示す。図１６乃至１８は、支持領域セグメント１３２を通じた空気の流動のための異なる構成を示す。支持領域セグメント１３２は、支持領域セグメント１３２に加熱された空気を取り入れるための入口を夫々有する第１の入口領域１３４及び第２の入口領域１３６、並びに冷却された空気を送り出すための出口を夫々有する第１の出口領域１３８及び第２の出口領域１４０を有する流動層を有する。デバイス１３１の更なる構造は、第３の実施の形態の構造と一致する。バルブ及び／又はゲート配置は、とりわけ入口領域に加熱された空気を供給し、とりわけ空気が出口領域から流出する事を可能にするために提供される。

図１９に示された構成に於いては、加熱された空気が入口領域１３４及び１３６を通じ流動層に同時に供給される。加熱された空気は、支持領域セグメント１３２に沿って流動層を通じ流動し、流動層を加熱すると共に流動層から出口領域１３８及び１４０に流出する。

第１の入口領域１３４を通じ図２０に示された流動層に加熱された空気が供給される。加熱された空気は、支持領域セグメント１３２の流動層を通じ対角線的に流動し、第２の出口領域１４０を通じ流動層から流出する。

図２１に示された構成に於いては、第２の入口領域１３６を通じ流動層に加熱された空気が供給される。加熱された空気は、支持領域セグメント１３２の流動層を通じ第１の出口領域１３８の方向に対角線的に流動し、第１の出口領域１３８を通じ流動層から流出する。とりわけ、図２０及び図２１に示された構成に於いては、加熱された空気は、制御ユニットによって動作されたバルブシステムによって入口領域に供給する事が出来ると共に、各図に示された支持領域セグメント１３２を通じた流動を達成する事が出来る。例えば、図２０及び２１に示された支持領域セグメントを通じた流動は、制御ユニットによって交互に連続して生成する事が出来る。

図２２は、第７の実施の形態に従った順序の空気流動を収容する２つの支持領域セグメント１４４及び１４６の加熱のためのデバイス１４２の概略透視図を示す。第１の支持領域セグメント１４４は、空気供給路１５０の第１の端が接続された第１のポート１４８及び空気接続路１５４の第１の端が接続された第２のポート１５２を有する。

更に、第２の支持領域セグメント１４６は、空気接続路１５４の第２の端が接続された第１のポート１５６及び空気帰路１６０が接続された第２のポート１５８を有する。空気帰路１６０の他の端及び空気供給路１５０の他の端は、熱生成及び再循環ユニット９８に接続される。支持領域セグメント１４４及び１４６の更なる構造は、支持領域セグメント９０の構造と一致する。

熱生成及び再循環ユニット９８は空気流動を作成し、空気流動は、空気供給路１５０を通じ矢印Ｐ１０の方向に流動し、第１のポート１４８を通じ第１の支持領域セグメント１４４の流動層に流入する。第１の支持領域セグメント１４４の流動層を通じ流動した後、空気は、第１の支持領域セグメント１４４から第２のポート１５２を通じ取り出され、空気接続路１５４を通じ第２のポート１５６に矢印Ｐ１１の方向に流動し、第２のポート１５６を通じ第２の支持領域セグメント１４６の流動層に到達する。第２の支持領域セグメント１４６の流動層を通じ流動した後、冷却された空気は、第２の支持領域セグメント１４６から第２のポート１５８を通じ取り出され、空気を再び加熱する熱生成及び再循環ユニット９８に空気帰路１６０を通じ矢印Ｐ１２の方向に送り出される。

図面に関連し説明された骨盤板１８及び１２２の代わりに、デバイス２３、７１、８１、９１、１２５、１３１及び１４２は、加熱のための他の支持領域セグメントに関連し使用する事が出来る。更に、クッションユニット２４及び１０８を通じ伝達された空気の代わりに、他の幾つかの流体（とりわけ異なる気体、気体混合物又は液体）が使用されても良い。

１０、１２０及び１３０ 患者支持領域
１２ 頭板
１４ 背板
１６ 胴板
１８、７０、８０、９０、１２２、１２４、１３２、１４４及び１４６ 支持領域セグメント
２０ 右ツーピース脚板
２２ 左ツーピース脚板
２３、７１、８１、９１、１２５、１３１及び１４２ デバイス
２４及び１０８ クッションユニット
２６ 支持板
３０及び９８ 熱生成及び再循環ユニット
３２及び１１０ 流路システム
３４及び４５ キャビティ
３６ 内側支持板
３８及び７５ クッション層
４２ 供給口
４４ 排出口
４６、７２、７３及び１０２ 流動層
４８及び１０４ 封止層
５０及び５２ サイドクッション
５４及び８２ 再循環ユニット
５６、１３４及び１３６ 入口領域
５８、１３８及び１４０ 出口領域
６０ 加熱エレメント
６２ 空気入口
６４ 空気出口
６６ ラジアルファン
６８ａ乃至６８ｃ 排出口
７４ 領域
８４ 表面加熱エレメント
８６ 入口
８８ 出口
９２及び９６ ポート
９４及び１００ ホース
１５０ 空気供給路
１５４ 空気接続路
１６０ 空気帰路
Ｐ１乃至Ｐ１２ 矢印
Ａ、Ｂ及びＣ 切り抜き
Ｚ１及びＺ２ 長手軸

Claims (16)

1. 手術台の患者支持領域を加熱するデバイスに於いて、
   熱を伝達する流体を加熱する加熱エレメントと、
   加熱された前記流体が流れる事が出来る伸縮自在に変形可能な流動層と、
   を有し、
   患者と接触する前記患者支持領域の表面と前記流動層との間に前記患者支持領域の封止層が配置され、
   前記患者支持領域は、支持領域セグメントを有し、
   前記支持領域セグメントは、第１の支持領域セグメント及び第２の支持領域セグメントであり、
   前記第１の支持領域セグメントは、前記第１の支持領域セグメントに前記流体を導入する第１のポート及び前記第１の支持領域セグメントから前記流体を排出する第２のポートを有し、
   前記第２の支持領域セグメントは、前記第２の支持領域セグメントに前記流体を導入する第１のポート及び前記第２の支持領域セグメントから前記流体を排出する第２のポートを有し、
   前記第２の支持領域セグメントは、前記流動層を有し、
   患者と接触する前記第２の支持領域セグメントの表面と前記流動層との間に前記封止層が配置され、
   前記流動層は、前記加熱エレメントによって加熱された前記流体を前記流動層に導入する入口領域及び前記流動層から前記流体を排出する出口領域を有し、
   流動ジェネレータが提供され、
   前記第１の支持領域セグメントの前記第２のポートは、前記流動ジェネレータが活性化された時に、前記流体が、前記第１の支持領域セグメントの前記第１のポートによって前記第１の支持領域セグメントに導入され、前記第１の支持領域セグメントから前記第２の支持領域セグメントに流動し、前記流動層の前記入口領域に導入され、前記流動層の前記出口領域から排出され、前記第２の支持領域セグメントの前記第２のポートから排出される様に、前記第２の支持領域セグメントの前記第１のポートに接続される
   事を特徴とするデバイス。
2. 前記流動ジェネレータによって、前記流体を、前記入口領域に導入し、前記流動層を通じ流し、前記出口領域から排出する流動を作成する事が出来る
   請求項１に記載のデバイス。
3. 前記支持領域セグメントは、クッションを有し、
   前記患者支持領域の表面は、前記クッションの表面であり、
   前記流動層及び前記封止層は、前記クッションに配置される
   請求項１又は２に記載のデバイス。
4. 前記流動層は、開放気孔フォーム材によって形成される
   請求項１乃至３の何れか一項に記載のデバイス。
5. 患者と接触する前記患者支持領域の表面は、前記封止層の表面である
   請求項１乃至４の何れか一項に記載のデバイス。
6. 前記流動層に隣接する貯熱層が前記流体の貯熱のために提供される
   請求項１乃至５の何れか一項に記載のデバイス。
7. 前記入口領域及び前記出口領域は、画像検査法による患者の放射線透視検査を予定された前記患者支持領域の領域外に配置される
   請求項１乃至６の何れか一項に記載のデバイス。
8. 前記加熱エレメントは、前記患者支持領域に配置される
   請求項１乃至７の何れか一項に記載のデバイス。
9. 前記加熱エレメントは、エックス線透過表面加熱エレメントであり、
   前記流体は、前記流動ジェネレータが活性化された時に、前記エックス線透過表面加熱エレメントを通過して流動する
   請求項８に記載のデバイス。
10. 前記患者支持領域の長手方向に於いて、前記入口領域は、前記支持領域セグメントの第１の端に配置され、前記出口領域は、前記第１の端と反対の前記支持領域セグメントの第２の端に配置される
    請求項１乃至９の何れか一項に記載のデバイス。
11. 前記流動層は、前記加熱エレメントによって加熱された流体を前記流動層に導入する別の入口領域を有し、及び／又は
    前記流動層は、前記流体を前記流動層から排出する別の出口領域を有する
    請求項１乃至１０の何れか一項に記載のデバイス。
12. 前記流動層を通じた流動を制御するために、制御ユニットとバルブシステムが提供され、
    前記バルブシステムは、前記流体が前記入口領域に於いてのみ前記流動層に導入される様に、前記制御ユニットによって制御する事が出来る
    請求項１乃至１１の何れか一項に記載のデバイス。
13. 汚染された流体を浄化する洗浄ユニットによって特徴付けられる
    請求項１乃至１２の何れか一項に記載のデバイス。
14. 前記流動層、前記加熱エレメント及び前記流動ジェネレータが配置された閉流体循環路によって特徴付けられる
    請求項１乃至１３の何れか一項に記載のデバイス。
15. 前記流体として空気が提供され、
    前記空気は、前記流動ジェネレータによって周囲から吸引され、周囲から吸引された前記空気は、前記流動ジェネレータが活性化された時に、前記入口領域に導入される
    請求項１乃至１４の何れか一項に記載のデバイス。
16. 手術台の患者支持領域を加熱するデバイスに於いて、
    熱を伝達する流体を加熱する加熱エレメントと、
    加熱された前記流体が流れる事が出来る伸縮自在に変形可能な流動層と、
    を有し、
    前記患者支持領域は、第１の支持領域セグメント及び第２の支持領域セグメントを有し、
    前記第１の支持領域セグメント及び第２の支持領域セグメントは、前記流動層を個別に有し、
    前記流体は、前記第１の支持領域セグメントの前記流動層に導入され、前記第１の支持領域セグメントの前記流動層から排出され、前記第１の支持領域セグメントの前記流動層から前記第２の支持領域セグメントの前記流動層に流動し、前記第２の支持領域セグメントの前記流動層に導入され、前記第２の支持領域セグメントの前記流動層から排出される
    事を特徴とするデバイス。

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