JP6851595B2 - Yeast extract manufacturing method - Google Patents
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Description
本発明は、酵母エキスの製造方法に関し、特に、アミノ酸を高濃度で含有させる酵母エキスの製造方法に関するものである。 The present invention relates to a method for producing a yeast extract, and more particularly to a method for producing a yeast extract containing a high concentration of amino acids.
酵母エキスは、酵母の有用な成分を抽出したエキスである。主成分としてアミノ酸や核酸関連物質、ミネラル、ビタミン類を含み、医薬品や培地、食品、飼料など様々な分野で利用されている。特に、食品製造過程においては風味の改善や増強のために酵母エキスが使用されており、天然素材という好イメージから需要が増し、製造量も年々増加している。 Yeast extract is an extract obtained by extracting useful components of yeast. It contains amino acids, nucleic acid-related substances, minerals, and vitamins as its main components, and is used in various fields such as pharmaceuticals, media, foods, and feeds. In particular, yeast extract is used in the food manufacturing process to improve and enhance the flavor, and demand is increasing due to the favorable image of a natural material, and the production volume is also increasing year by year.
酵母エキスの製造方法には、自己消化法、熱水処理法、酵素処理法などがある。酵母自己消化物は、酵母の細胞を集めて、酵母自身に含まれる消化酵素の作用によって自己消化させたものである。これにより、酵母を構成するタンパク質が、うま味を持つアミノ酸や低分子のペプチド鎖に分解される。 Methods for producing yeast extract include an autolysis method, a hot water treatment method, and an enzyme treatment method. Yeast autolyzed products are those in which yeast cells are collected and autolyzed by the action of digestive enzymes contained in the yeast itself. As a result, the proteins constituting yeast are decomposed into umami-tasting amino acids and low-molecular-weight peptide chains.
このような自己消化法で酵母エキスを製造する際、エキス中の有用成分の含有量を向上させることが望まれる。 When producing a yeast extract by such an autolysis method, it is desired to improve the content of useful components in the extract.
例えば、酵母エキスの製造過程において、トルエンや酢酸エチル、無機酸などを添加することで、自己消化を促進することができる。また、自己消化の促進方法としては、以下に示すものがある。 For example, autolysis can be promoted by adding toluene, ethyl acetate, an inorganic acid, or the like in the process of producing yeast extract. In addition, as a method for promoting autolysis, there are the following.
例えば、特許文献1には、自己消化法により酵母エキスを製造するにあたり、酵母に含まれる蛋白質分解酵素のうち低温度域で反応がより活性化する酵素の最適反応温度で第1段階の酵素反応を行い、続いて最適反応温度よりも高く、雑菌の繁殖を抑制する温度領域以上の温度で第2段階の酵素反応を行い、さらに、異なる酵素反応温度を備えた3段階以上の酵素反応を行う技術が開示されている。
For example,
また、特許文献2には、増殖の定常期にある酵母を、液体培地のpHが7.5以上11未満である条件下で液体培養するアミノ酸高含有酵母の製造方法が開示されている。これにより、アミノ酸を高濃度に含有するアミノ酸高含有酵母を得ることができる。
Further,
前述したように、自己消化法で酵母エキスを製造する際、エキス中の有用成分の含有量を向上させることが望まれる。 As described above, when producing a yeast extract by an autolysis method, it is desired to improve the content of useful components in the extract.
しかしながら、酵母の自己消化を促進するために薬品を添加することは、天然素材のイメージを損ねる。また、酵母エキスを食品に使用する際には、残留薬品の除去が必要であったり、使用できる薬品に制限が生じたりする。また、温度やpHを調整する方法では、予備処理や条件制御に時間やコストを要する。 However, the addition of chemicals to promote yeast autolysis spoils the image of natural materials. In addition, when yeast extract is used in foods, it is necessary to remove residual chemicals, and there are restrictions on the chemicals that can be used. In addition, the method of adjusting the temperature and pH requires time and cost for pretreatment and condition control.
そこで、できるだけ短時間、短工程で、かつ条件の制御の容易な酵母エキスの製造方法の開発が望まれる。 Therefore, it is desired to develop a method for producing yeast extract in as short a time as possible, in a short process, and with easy control of conditions.
本発明の目的は、短時間、短工程で、かつ条件の制御の容易な酵母エキスの製造方法を提供することを目的とする。特に、アミノ酸などの有用成分を高濃度で含有する酵母エキスの製造方法を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a method for producing a yeast extract in a short time, in a short process, and in which conditions can be easily controlled. In particular, it is an object of the present invention to provide a method for producing a yeast extract containing a high concentration of useful components such as amino acids.
本発明の酵母エキスの製造方法は、(a)酵母を含有する懸濁液を準備する工程、(b)上記懸濁液に電界処理を施す工程、(c)上記(b)工程の後、上記懸濁液において酵母を自己消化する工程、を有する。 The method for producing a yeast extract of the present invention is after (a) a step of preparing a suspension containing yeast, (b) a step of applying an electric field treatment to the suspension, and (c) the above step (b). It has a step of self-digesting yeast in the above suspension.
上記(b)工程において、印加される電圧は、1000V/mm未満であり、電圧の印加期間の前記懸濁液の温度は、64℃以下である。 In the step (b), the applied voltage is less than 1000 V / mm, and the temperature of the suspension during the voltage application period is 64 ° C. or lower.
上記(b)工程において、印加される電圧は、3V/mm以上150V/mm以下である。 In the step (b), the applied voltage is 3 V / mm or more and 150 V / mm or less.
上記(b)工程において、電圧の印加時間は、25秒未満である。 In the step (b), the voltage application time is less than 25 seconds.
上記(b)工程において、印加される電圧は、交流電圧である。 The voltage applied in the step (b) is an AC voltage.
上記酵母は、サッカロマイセス(Saccharomyces)属またはキャンディダ(Candida)属である。 The yeast is of the genus Saccharomyces or Candida.
このように、酵母を含有する懸濁液に電界処理を施すことにより、酵母エキス中のアミノ酸の含有量を向上させることができる。 By subjecting the yeast-containing suspension to an electric field treatment in this way, the content of amino acids in the yeast extract can be improved.
(実施の形態1)
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
(Embodiment 1)
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.
(電界処理による自己消化酵母エキスのアミノ酸含有量富化)
図1は、酵母エキスの製造工程のうち、電界処理工程を示す模式断面図である。図1に示すように、電気絶縁材料によりなる流路Rに、酵母の懸濁液を流す。酵母としては、例えば、サッカロマイセス(Saccharomyces)属またはキャンディダ(Candida)属などを用いることができる。懸濁用の液体としては、例えば、水(純水、イオン交換水)を用いることができる。懸濁液における酵母の濃度は、例えば、数%〜数十%(w/v)程度である。
(Enriching the amino acid content of autolyzed yeast extract by electric field treatment)
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an electric field treatment step in the yeast extract manufacturing step. As shown in FIG. 1, a yeast suspension is flowed through a flow path R made of an electrically insulating material. As the yeast, for example, the genus Saccharomyces or the genus Candida can be used. As the suspension liquid, for example, water (pure water, ion-exchanged water) can be used. The concentration of yeast in the suspension is, for example, about several% to several tens of% (w / v).
流路Rの途中には、狭い間隔(例えば0.1〜5mm程度)をもって対向する一対の電極EL1、EL2が配置されている。この電極EL1、EL2間に、例えば5kHz〜20kHz程度の周波数の交流電圧を、電極EL1、EL2間の間隔1mm当り150V程度で印加する。例えば、懸濁液の流速は、ポンプなどにより制御されており、電極EL1、EL2間の懸濁液の通過時間は、例えば、0.1秒以下である。 A pair of electrodes EL1 and EL2 facing each other with a narrow interval (for example, about 0.1 to 5 mm) are arranged in the middle of the flow path R. An AC voltage having a frequency of, for example, about 5 kHz to 20 kHz is applied between the electrodes EL1 and EL2 at a distance of about 150 V per 1 mm between the electrodes EL1 and EL2. For example, the flow velocity of the suspension is controlled by a pump or the like, and the passage time of the suspension between the electrodes EL1 and EL2 is, for example, 0.1 second or less.
このように、電極EL1、EL2間において、電界処理した酵母の懸濁液を、冷却した後、例えば、40℃〜50℃の恒温槽にて、数時間加熱する。これにより、酵母の懸濁液が自己消化する。自己消化とは、酵母の細胞が、酵母自身に含まれる消化酵素の作用によって分解されることをいう。例えば、酵母を構成するタンパク質が、うま味を持つアミノ酸や低分子のペプチド鎖に分解される。 In this way, the yeast suspension treated with an electric field between the electrodes EL1 and EL2 is cooled and then heated in, for example, a constant temperature bath at 40 ° C. to 50 ° C. for several hours. This causes the yeast suspension to autolyze. Autolysis means that yeast cells are decomposed by the action of digestive enzymes contained in yeast itself. For example, the proteins that make up yeast are broken down into umami-tasting amino acids and low-molecular-weight peptide chains.
(短時間加熱処理による自己消化酵母エキスのアミノ酸含有量富化)
図2は、酵母エキスの製造工程のうち、短時間加熱処理工程を示す模式断面図である。図2に示すように、電気絶縁材料によりなる流路Rに、酵母の懸濁液を流す。酵母としては、例えば、サッカロマイセス(Saccharomyces)属またはキャンディダ(Candida)属などを用いることができる。懸濁用の液体としては、例えば、水を用いることができる。懸濁液における酵母の濃度は、例えば、数%(w/v)程度である。
(Enriched amino acid content of autolyzed yeast extract by short-time heat treatment)
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view showing a short-time heat treatment step in the yeast extract manufacturing step. As shown in FIG. 2, a yeast suspension is flowed through a flow path R made of an electrically insulating material. As the yeast, for example, the genus Saccharomyces or the genus Candida can be used. As the suspension liquid, for example, water can be used. The concentration of yeast in the suspension is, for example, about several% (w / v).
流路Rの途中には、熱交換器が配置されている。熱交換器により、酵母の懸濁液を加熱することができる。加熱温度は、例えば、50℃〜60℃程度である。また、懸濁液の流速は、ポンプなどにより制御されており、熱交換器の通過時間は、例えば、数秒程度であり、この間に上記50℃〜60℃まで、酵母の懸濁液を加熱することができる。 A heat exchanger is arranged in the middle of the flow path R. The heat exchanger allows the yeast suspension to be heated. The heating temperature is, for example, about 50 ° C. to 60 ° C. The flow rate of the suspension is controlled by a pump or the like, and the passage time of the heat exchanger is, for example, about several seconds, during which the yeast suspension is heated to the above 50 ° C. to 60 ° C. be able to.
このように、短時間加熱処理した酵母の懸濁液を、冷却した後、例えば、40℃〜50℃の恒温槽にて、数時間加熱する。これにより、酵母の懸濁液が自己消化する。 In this way, the yeast suspension that has been heat-treated for a short time is cooled and then heated in, for example, a constant temperature bath at 40 ° C. to 50 ° C. for several hours. This causes the yeast suspension to autolyze.
(実施例1)
(試験A)市販のドライイースト(サッカロマイセス・セレビシエ(Saccharomyces cerevisiae))を、5%(w/v)となるようにイオン交換水に懸濁し、酵母の懸濁液を調整し、6時間置いて、酵母の懸濁液を得た。次いで、この酵母の懸濁液に、20kHz、150V/mmの高電界(交流高電界)を0.03s印加した。この高電界の印加時間は、懸濁液の電極間の通過時間に相当する。具体的には、電極間隔が4mmの電極間に上記懸濁液を通し、600Vの電圧を電極間に印加し、電極間を0.03sで通過させた。電界の印加で懸濁液の温度は54℃まで上昇した。この懸濁液を、熱交換器で7℃まで冷却した後、45℃で6時間保持することで酵母の自己消化を行った。
(Example 1)
(Test A) Commercially available dry yeast (Saccharomyces cerevisiae) is suspended in ion-exchanged water so as to have a concentration of 5% (w / v), a yeast suspension is prepared, and the mixture is allowed to stand for 6 hours. , A suspension of yeast was obtained. Next, a high electric field (AC high electric field) of 20 kHz and 150 V / mm was applied to the yeast suspension for 0.03 s. The application time of this high electric field corresponds to the transit time between the electrodes of the suspension. Specifically, the suspension was passed between electrodes having an electrode spacing of 4 mm, a voltage of 600 V was applied between the electrodes, and the suspension was passed between the electrodes in 0.03 s. The application of an electric field raised the temperature of the suspension to 54 ° C. The suspension was cooled to 7 ° C. in a heat exchanger and then held at 45 ° C. for 6 hours for autolysis of yeast.
自己消化後の酵母の懸濁液(酵母液)を、80℃に熱し酵母の不活化処理を行った。その後、酵母液中の遊離アミノ酸分析を行った。 The yeast suspension (yeast solution) after autolysis was heated to 80 ° C. to inactivate the yeast. Then, free amino acid analysis in yeast solution was performed.
(試験B)コントロール1として、市販のドライイーストを、5%(w/v)となるように水で懸濁し、6時間置いて、得た酵母の懸濁液を、上記試験Aの場合と同様に、45℃で6時間保持することで酵母の自己消化を行った。自己消化後の酵母の懸濁液(酵母液)を、80℃に熱し酵母の不活化処理を行った。その後、酵母液中の遊離アミノ酸分析を行った。
(Test B) As
(試験C)コントロール2として、市販のドライイーストを、5%(w/v)となるように水で懸濁し、6時間置いて、得た酵母の懸濁液を、電界を印加することなく、電極間に通し、その懸濁液を、上記試験Aの場合と同様に、45℃で6時間保持することで酵母の自己消化を行った。自己消化後の酵母の懸濁液(酵母液)を、80℃に熱し酵母の不活化処理を行った。その後、酵母液中の遊離アミノ酸分析を行った。
(Test C) As
(試験D)上記試験Aの電界処理においては、酵母の懸濁液の温度上昇が確認されたため、熱交換器を利用した短時間加熱処理を行った。5%(w/v)の酵母の懸濁液を6時間置いて、熱交換器に通し、8.3sで54℃まで加熱した。この懸濁液を、上記試験Aの場合と同様に、熱交換器で7℃まで冷却した後、45℃で6時間保持することで酵母の自己消化を行った。自己消化後の酵母の懸濁液(酵母液)を、80℃に熱し酵母の不活化処理を行った。その後、酵母液中の遊離アミノ酸分析を行った。 (Test D) In the electric field treatment of Test A, the temperature rise of the yeast suspension was confirmed, so a short-time heat treatment using a heat exchanger was performed. A suspension of 5% (w / v) yeast was allowed to stand for 6 hours, passed through a heat exchanger and heated to 54 ° C. for 8.3 s. The yeast was autolyzed by cooling this suspension to 7 ° C. in a heat exchanger and then holding it at 45 ° C. for 6 hours in the same manner as in Test A. The yeast suspension (yeast solution) after autolysis was heated to 80 ° C. to inactivate the yeast. Then, free amino acid analysis in yeast solution was performed.
上記試験A〜試験Dの遊離アミノ酸分析結果を、表1〜表4に示す。なお、試験A〜試験Dの懸濁液については、自己消化前の懸濁液、即ち、保持時間が0時間の懸濁液についても、遊離アミノ酸分析を行っている。 The free amino acid analysis results of Tests A to D are shown in Tables 1 to 4. Regarding the suspensions of Tests A to D, free amino acid analysis is also performed on the suspensions before autolysis, that is, the suspensions having a retention time of 0 hours.
以下の表1は、上記試験Aの高電界処理(“電界150V/mm”または“HEF150”と示す)の遊離アミノ酸分析結果である。0hは、保持時間が0時間(自己消化前)の場合を示し、6hは、保持時間が6時間(自己消化後)の場合を示す(以下の試験B〜試験Dについても同じ)。表2は、上記試験Bのコントロール1(“コントロール”または“CON”と示す)の遊離アミノ酸分析結果である。表3は、上記試験Cのコントロール2(“系内通過”または“HEF000”と示す)の遊離アミノ酸分析結果である。表4は、上記試験Dの熱交換器を用いた短時間加熱処理(“熱交換器”または“PHE”と示す)の遊離アミノ酸分析結果である。なお、表中、“ND”は、“検出限界以下”を示す。また、各表の番号(No.)および略号とアミノ酸名(一部アミノ酸以外のものも含む)との関係は以下のとおりである。
1.P−Ser:フォスフォセリン(Phosphoserine)
2.Tau:タウリン(Taurine)
3.PEA:リン酸エタノールアミン(Phosphoethanolamine)
4.Urea:尿素(Urea)
5.Asp:アスパラギン酸(Aspartic acid)
6.Thr:トレオニン(Threonine)
7.Ser:セリン(Serine)
8.Asn:アスパラギン(Asparagine)
9.Glu:グルタミン酸(Glutamic acid)
10.Gln:グルタミン(Glutamine)
11.Sar:サルコシン(Sarcosine)
12.AAA:アミノアジピン酸(Aminoadipic acid)
13.Gly:グリシン(Glycine)
14.Ala:アラニン(Alanine)
15.Cit:シトルリン(Citrulline)
16.a−ABA:α−アミノ酪酸(α-Aminobutyric acid)
17.Val:バリン(Valine)
18.Cys:システイン(Cysteine)
19.Met:メチオニン(Methionine)
20.Cysta:シスタチオニン(Cystathionine)
21.Ile:イソロイシン(Isoleucine)
22.Leu:ロイシン(Leucine)
23.Tyr:チロシン(Tyrosine)
24.b−Ala:β−アラニン(β-Alanine)
25.Phe:フェニルアラニン(Phenylalanine)
26.b−ABA:β−アミノ酪酸(β-Aminobutyric acid)
27.GABA:γ-アミノ酪酸(Gamma Amino Butyric Acid)
28.MEA:モノエタノールアミン(Monoethanolamine)
29.NH3:アンモニア(Ammonia)
30.Hylys−1:ヒドロキシリシン−1(Hydroxylysine-1)
31.Orn:オルニチン(Ornithine)
32.1M−His:1-メチルヒスチジン(1-Methylhistidine)
33.His:ヒスチジン(Histidine)
34.Lys:リシン(Lysine)
35.3M−His:3-メチルヒスチジン(3-Methylhistidine)
36.Trp:トリプトファン(Tryptophan)
37.Ans:アンセリン(Anserine)
38.Car:カルノシン (Carnosine)
39.Arg:アルギニン(Arginine)
40.Hypro:ヒドロキシプロリン(Hydroxyproline)
41.Pro:プロリン(Proline)
Table 1 below shows the results of free amino acid analysis of the high electric field treatment (denoted as "
1. 1. P-Ser: Phosphoserine
2. Tau: Taurine
3. 3. PEA: Phosphoethanolamine
4. Urea: Urea
5. Asp: Aspartic acid
6. Thr: Threonine
7. Ser: Serine
8. Asn: Asparagine
9. Glu: Glutamic acid
10. Gln: Glutamine
11. Sar: Sarcosine
12. AAA: Aminoadipic acid
13. Gly: Glycine
14. Ala: Alanine
15. Cit: Citrulline
16. a-ABA: α-Aminobutyric acid
17. Val: Valine
18. Cys: Cysteine
19. Met: Methionine
20. Cysta: Cystathionine
21. Ile: Isoleucine
22. Leu: Leucine
23. Tyr: Tyrosine
24. b-Ala: β-Alanine
25. Ph: Phenylalanine
26. b-ABA: β-Aminobutyric acid
27. GABA: γ-Amino Butyric Acid
28. MEA: Monoethanolamine
29. NH 3 : Ammonia
30. Hylys-1: Hydroxylysine-1
31. Orn: Ornithine
32.1M-His: 1-Methylhistidine
33. His: Histidine
34. Lys: Lysine
35.3M-His: 3-Methylhistidine
36. Trp: Tryptophan
37. Ans: Anserine
38. Car: Carnosine
39. Arg: Arginine
40. Hyper: Hydroxyproline
41. Pro: Proline
上記表1〜表4、図3および図4に示すように、上記試験Aの高電界処理(“電界150V/mm”または“HEF150”と示す)を施した場合は、上記試験Bのコントロール1(“コントロール”または“CON”と示す)および上記試験Cのコントロール2(“系内通過”または“HEF000”と示す)の場合より、総遊離アミノ酸量が増加した。例えば、コントロール2(HEF0006h)と比較し、電界150V/mm(HEF1506h)の総遊離アミノ酸量は、1.2倍であった。また、この増加傾向は、保持時間が0時間の場合についても見られた。さらに、上記試験Aの高電界処理(“電界150V/mm”または“HEF150”と示す)を施した場合は、分岐鎖アミノ酸であるVal(バリン)、Ile(イソロイシン)およびLeu(ロイシン)の総量が増加した。この分岐鎖アミノ酸は、ヒトでは必須アミノ酸であり、筋タンパク質中の必須アミノ酸の35%を占め、哺乳類にとって必要とされるアミノ酸の40%を占める。例えば、コントロール2(HEF0006h)と比較し、電界150V/mm(HEF1506h)のVal、IleおよびLeuの総量は、1.35倍であった。
As shown in Tables 1 to 4, 3 and 4, when the high electric field treatment of the test A (indicated as "
また、上記分岐鎖アミノ酸(Val、IleおよびLeu)を含む、分析したすべてのアミノ酸について、量の増加を確認することができた。例えば、コントロール2(HEF0006h)と比較し、電界150V/mm(HEF1506h)の各アミノ酸の量は、すべて増加している。
In addition, an increase in the amount of all the analyzed amino acids including the branched chain amino acids (Val, Ile and Leu) could be confirmed. For example, as compared with Control 2 (HEF0006h), the amount of each amino acid in the
さらに、上記試験Aと試験Dとの比較から、試験Dのような単なる加熱処理より、試験Aの高電界処理を施した方が、総遊離アミノ酸量が多かった。また、この増加傾向は、保持時間が0時間の場合についても見られた。また、分岐鎖アミノ酸であるVal、IleおよびLeuの総量も多かった。各アミノ酸については、Glu(グルタミン酸)、AAA(アミノアジピン酸)以外のアミノ酸について、量が増加した。 Further, from the comparison between Test A and Test D, the total amount of free amino acids was larger in the high electric field treatment of Test A than in the simple heat treatment as in Test D. In addition, this increasing tendency was also observed when the holding time was 0 hours. In addition, the total amount of branched chain amino acids Val, Ile and Leu was also large. For each amino acid, the amount of amino acids other than Glu (glutamic acid) and AAA (aminoadipic acid) increased.
このように、高電界処理や短時間加熱処理により自己消化酵母エキスのアミノ酸含有量を増加させることができる。特に、上記高電界処理においては、有用な遊離アミノ酸を含む遊離アミノ酸の顕著な増加を確認することができた。 In this way, the amino acid content of the autolyzed yeast extract can be increased by high electric field treatment or short-time heat treatment. In particular, in the above-mentioned high electric field treatment, a remarkable increase in free amino acids including useful free amino acids could be confirmed.
このような、アミノ酸含有量の増加は、電気的に酵母の活性化が起きている可能性や、電気穿孔による一部の酵母中の酵素の漏出による効果の可能性などが考えられるが、未だ要因の解明には至っていない。 Such an increase in amino acid content may be due to electrical activation of yeast or the effect of leakage of some enzymes in yeast due to electroporation, but it is still possible. The cause has not been clarified yet.
しかしながら、上記高電界処理により自己消化酵母エキスのアミノ酸含有量を増加させることを確認できたことは非常に有効だと思われる。 However, it seems to be very effective to confirm that the amino acid content of the autolyzed yeast extract can be increased by the above-mentioned high electric field treatment.
このような高電界処理によれば、自己消化を促進するために薬品の添加を回避もしくは添加量を低減することができ、天然素材のイメージを維持しつつ、食品に添加可能なアミノ酸を容易に、また、短時間、短工程で製造することができる。 According to such a high electric field treatment, it is possible to avoid the addition of chemicals or reduce the amount of chemicals added in order to promote autolysis, and it is possible to easily add amino acids that can be added to foods while maintaining the image of natural materials. Moreover, it can be produced in a short time and in a short process.
ここで、上記試験Aにおいては、特定の条件(例えば、150V/mm)で試験を行ったが、後述する実施例2、3に示すように、100V/mmや50V/mmにおいても効果を奏することが判明している。 Here, in the above test A, the test was conducted under specific conditions (for example, 150 V / mm), but as shown in Examples 2 and 3 described later, the effect is also obtained at 100 V / mm and 50 V / mm. It turns out.
よって、本明細書で言う、高電界処理とは、50V/mm以上の処理を示すものとする。但し、電極間の間隔1mm当りの電圧は、1000V未満とすることが好ましい。1000V以上とした場合、酵母に対し電気穿孔が生じやすく、酵母が死滅する恐れがある。また、高電界処理時の最高温度は64℃以下とすることが好ましい。64℃を超えると酵母が死滅する恐れがある。 Therefore, the high electric field treatment referred to in the present specification means a treatment of 50 V / mm or more. However, the voltage per 1 mm of distance between the electrodes is preferably less than 1000 V. When the voltage is 1000 V or higher, electroporation is likely to occur in the yeast, and the yeast may die. Further, the maximum temperature during high electric field treatment is preferably 64 ° C. or lower. If the temperature exceeds 64 ° C, yeast may die.
よって、電極間の間隔1mm当りの電圧としては、1000V/mm未満とすることが好ましい。中でも、本実施の形態および後述の実施例2、3に示すように、50V/mm〜150V/mmの範囲の高電界処理によれば、自己消化酵母エキスのアミノ酸含有量を増加させることが確認できている。さらに、分岐鎖アミノ酸の増加を確認できている。 Therefore, the voltage per 1 mm of spacing between the electrodes is preferably less than 1000 V / mm. Above all, as shown in this embodiment and Examples 2 and 3 described later, it was confirmed that the amino acid content of the autolyzed yeast extract was increased by the high electric field treatment in the range of 50 V / mm to 150 V / mm. is made of. Furthermore, an increase in branched-chain amino acids has been confirmed.
高電界処理の処理時間(電圧印加時間、電圧印加期間)としては、0.1秒以下の範囲で適宜調整することができる。 The processing time (voltage application time, voltage application period) of the high electric field treatment can be appropriately adjusted within the range of 0.1 seconds or less.
また、上記実施例1においては、懸濁液における酵母の濃度を、5%(w/v)としたが、この濃度に限定されるものではない。例えば、酵母の濃度を、1%〜30%(w/v)の間で調整することができる。但し、酵母の濃度が低すぎると、処理効率が低下し、また、酵母の濃度が高すぎると、流速の制御が困難となったり、電圧の印加のばらつきが生じたりするため、上記1%〜30%(w/v)の間で調整することが好ましい。 Further, in Example 1 above, the concentration of yeast in the suspension was set to 5% (w / v), but the concentration is not limited to this. For example, the yeast concentration can be adjusted between 1% and 30% (w / v). However, if the yeast concentration is too low, the treatment efficiency will decrease, and if the yeast concentration is too high, it will be difficult to control the flow velocity and the voltage application will vary. It is preferable to adjust between 30% (w / v).
(実施例2)
実施例1の試験Aにおいて、電界を100V/mmとして同様の実験を行った。また、この場合の酵母の懸濁液の温度上昇は、29℃であったため、実施例1の試験Bにおいて、熱交換器による加熱温度を29℃として同様の実験を行った。なお、用いた酵母の懸濁液を、コントロールとして、実施例1の試験Cと同様の実験を行った。
(Example 2)
In Test A of Example 1, the same experiment was performed with the electric field set to 100 V / mm. Further, since the temperature rise of the yeast suspension in this case was 29 ° C., the same experiment was conducted in Test B of Example 1 with the heating temperature by the heat exchanger set to 29 ° C. The same experiment as in Test C of Example 1 was carried out using the yeast suspension used as a control.
この実施例2においても、試験Aの電界処理を施した場合は、試験Bの熱交換器による加熱処理を施した場合より、総アミノ酸量が増加した。また、分岐鎖アミノ酸であるバリン、ロイシン、イソロイシンのそれぞれの量が増加した。 Also in Example 2, when the electric field treatment of Test A was performed, the total amount of amino acids increased as compared with the case of heat treatment by the heat exchanger of Test B. In addition, the amounts of the branched chain amino acids valine, leucine, and isoleucine increased.
(実施例3)
実施例1の試験Aにおいて、電界を50V/mmとして同様の実験を行った。また、この場合の酵母の懸濁液の温度上昇は、18℃であったため、実施例1の試験Bにおいて、熱交換器による加熱温度を18℃として同様の実験を行った。なお、用いた酵母の懸濁液を、コントロールとして、実施例1の試験Cと同様の実験を行った。
(Example 3)
In Test A of Example 1, a similar experiment was performed with an electric field of 50 V / mm. Further, since the temperature rise of the yeast suspension in this case was 18 ° C., the same experiment was conducted in Test B of Example 1 with the heating temperature by the heat exchanger set to 18 ° C. The same experiment as in Test C of Example 1 was carried out using the yeast suspension used as a control.
この実施例3おいても、試験Aの電界処理を施した場合は、試験Bの熱交換器による加熱処理を施した場合より、総アミノ酸量が増加した。また、分岐鎖アミノ酸であるバリン、ロイシン、イソロイシンのそれぞれの量が増加した。 In Example 3 as well, when the electric field treatment of Test A was performed, the total amount of amino acids increased as compared with the case of heat treatment by the heat exchanger of Test B. In addition, the amounts of the branched chain amino acids valine, leucine, and isoleucine increased.
(実施例4)
上記試験Aにおいては、高電界を印加したが、低電界の電界処理についても試験を行った。5%(w/v)の酵母の懸濁液を6時間置いて、この酵母の懸濁液に、低電界処理を行った。
(Example 4)
In the above test A, a high electric field was applied, but a test was also conducted for electric field treatment with a low electric field. A 5% (w / v) yeast suspension was left for 6 hours, and the yeast suspension was subjected to low electric field treatment.
試験E1として、酵母の懸濁液に、1V/mmの低電界を25s印加した。この電界の印加時間は、懸濁液の電極間の通過時間に相当する。具体的には、電極間隔が75mmの電極間に上記懸濁液を通し、75Vの電界を電極間に印加し、電極間を25sで通過させた(図1参照)。この懸濁液を、熱交換器で7℃まで冷却した後、45℃で6時間保持することで酵母の自己消化を行った。 As test E1, a low electric field of 1 V / mm was applied to the yeast suspension for 25 s. The application time of this electric field corresponds to the transit time between the electrodes of the suspension. Specifically, the suspension was passed between electrodes having an electrode spacing of 75 mm, an electric field of 75 V was applied between the electrodes, and the suspension was passed between the electrodes in 25 s (see FIG. 1). The suspension was cooled to 7 ° C. in a heat exchanger and then held at 45 ° C. for 6 hours for autolysis of yeast.
試験E2として、酵母の懸濁液に、3V/mmの低電界を2.5s印加した。この電界の印加時間は、懸濁液の電極間の通過時間に相当する。具体的には、電極間隔が75mmの電極間に上記懸濁液を通し、225Vの電界を電極間に印加し、電極間を2.5sで通過させた(図1参照)。この懸濁液を、熱交換器で7℃まで冷却した後、45℃で6時間保持することで酵母の自己消化を行った。 As test E2, a low electric field of 3 V / mm was applied to the yeast suspension for 2.5 s. The application time of this electric field corresponds to the transit time between the electrodes of the suspension. Specifically, the suspension was passed between electrodes having an electrode spacing of 75 mm, an electric field of 225 V was applied between the electrodes, and the suspension was passed between the electrodes in 2.5 s (see FIG. 1). The suspension was cooled to 7 ° C. in a heat exchanger and then held at 45 ° C. for 6 hours for autolysis of yeast.
上記試験E1、E2において自己消化後の酵母の懸濁液(酵母液)を、80℃に熱し酵母の不活化処理を行った。その後、酵母液中の遊離アミノ酸分析を行った。 In the above tests E1 and E2, the yeast suspension (yeast solution) after autolysis was heated to 80 ° C. to inactivate the yeast. Then, free amino acid analysis in yeast solution was performed.
上記試験E1、試験E2の遊離アミノ酸分析結果を、表5に示す。表5は、低電界処理の遊離アミノ酸分析結果である。試験E1については、“1Sジュール”または“1SJH54”と示す。試験E2については、“15Aジュール”または“15AJH54”と示す。なお、表の番号(No.)および略号とアミノ酸名(一部アミノ酸以外のものも含む)との関係は前述のとおりである。 The results of free amino acid analysis in Tests E1 and E2 are shown in Table 5. Table 5 shows the results of free amino acid analysis of low electric field treatment. Test E1 is indicated as "1S joule" or "1SJH54". Test E2 is indicated as "15A joules" or "15AJH54". The relationship between the numbers (No.) and abbreviations in the table and the amino acid names (including some amino acids other than amino acids) is as described above.
上記表5、図5および図6に示すように、上記試験E1の低電界処理(“1Sジュール”または“1SJH54”と示す)を施した場合は、総遊離アミノ酸量が、実施例4におけるコントロール(図示せず)と同程度であった。また、上記試験E2の3V/mm電界処理(15AJH546h)を施した場合は、コントロール(図示せず)および上記試験E1(1V/mm印加)より、総遊離アミノ酸量が増加した。また、分岐鎖アミノ酸であるVal、IleおよびLeuの総量も増加した。また、各アミノ酸の量も、増加している。 As shown in Table 5, FIG. 5 and FIG. 6, when the low electric field treatment (indicated as “1S joule” or “1SJH54”) of the test E1 was performed, the total amount of free amino acids was controlled in Example 4. It was about the same as (not shown). Further, when the 3V / mm electric field treatment (15AJH546h) of the test E2 was performed, the total amount of free amino acids increased from the control (not shown) and the test E1 (1V / mm applied). The total amount of branched chain amino acids Val, Ile and Leu was also increased. The amount of each amino acid is also increasing.
このように、低電界処理であっても、3V/mm以上の処理において、自己消化酵母エキスのアミノ酸含有量を増加させることができる。 As described above, the amino acid content of the autolyzed yeast extract can be increased in the treatment of 3 V / mm or more even in the low electric field treatment.
低電界処理の場合、3V/mm以上10V/mmの範囲で電圧を印加することが好ましい。また、処理時の最高温度は64℃以下とすることが好ましい。64℃を超えると酵母が死滅する恐れがある。処理時間(電圧印加時間)としては、25秒未満、より好ましくは10秒以下の範囲で適宜調整することができる。なお、懸濁液の温度上昇を抑制する方法としては、1)懸濁液の流速を大きくする、2)懸濁液の導電率を向上させるなどの方法がある。 In the case of low electric field treatment, it is preferable to apply a voltage in the range of 3 V / mm or more and 10 V / mm. Further, the maximum temperature during processing is preferably 64 ° C. or lower. If the temperature exceeds 64 ° C, yeast may die. The processing time (voltage application time) can be appropriately adjusted in the range of less than 25 seconds, more preferably 10 seconds or less. As a method of suppressing the temperature rise of the suspension, there are methods such as 1) increasing the flow velocity of the suspension and 2) improving the conductivity of the suspension.
また、低電界処理の場合、電極間距離を長くすることができるため、比較的高濃度の懸濁液を処理することができる。例えば、酵母の濃度を、1%〜50%(w/v)の間で調整することができる。 Further, in the case of low electric field treatment, the distance between the electrodes can be lengthened, so that a suspension having a relatively high concentration can be treated. For example, the yeast concentration can be adjusted between 1% and 50% (w / v).
(実施の形態2)
実施の形態1においては、150V/mmや3V/mmの交流電界を電極間に印加したが、印加する電界をパルス電界としてもよい。
(Embodiment 2)
In the first embodiment, an AC electric field of 150 V / mm or 3 V / mm is applied between the electrodes, but the applied electric field may be a pulse electric field.
図7は、印加される交流電界およびパルス電界の波形を示す図である。電圧は、例えば、電極間の1mm当たり、300Vとなるように設定される。周波数は、例えば、5kHz〜60kHzの範囲で調整することができる。例えば、交流電界の周波数を21kHzとした場合、電圧の立ち上がり時間と立ち下がり時間(反転時間)を2μs、電圧の通電時間(パルス幅)を22μsとすることができる(図7の上図参照)。図7の下図に示すように、通電時間に、休止時間を設けてもよい。例えば、2〜6400μsの範囲で、休止時間を調整することができる。表6に、電圧パルスの周波数とパルス幅の組み合わせ例を、表7に休止時間の例を示す。 FIG. 7 is a diagram showing waveforms of an applied AC electric field and a pulsed electric field. The voltage is set to be, for example, 300 V per 1 mm between the electrodes. The frequency can be adjusted, for example, in the range of 5 kHz to 60 kHz. For example, when the frequency of the AC electric field is 21 kHz, the voltage rise time and fall time (reversal time) can be set to 2 μs, and the voltage energization time (pulse width) can be set to 22 μs (see the upper diagram of FIG. 7). .. As shown in the lower figure of FIG. 7, a rest time may be provided in the energizing time. For example, the rest time can be adjusted in the range of 2 to 6400 μs. Table 6 shows an example of the combination of the voltage pulse frequency and the pulse width, and Table 7 shows an example of the pause time.
周波数は、例えば、5kHz〜60kHzの範囲で調整することができる。 The frequency can be adjusted, for example, in the range of 5 kHz to 60 kHz.
また、前述したとおり、電界処理時の最高温度は64℃以下とすることが好ましいが、懸濁液の温度上昇を抑制する方法としては、1)懸濁液の流速を大きくする、2)懸濁液の導電率を向上させるなどの他、3)交流電界のパルスを間引く(休止時間を設ける)方法がある。 Further, as described above, the maximum temperature during electric field treatment is preferably 64 ° C. or lower, but as a method for suppressing the temperature rise of the suspension, 1) increase the flow velocity of the suspension, and 2) suspend. In addition to improving the conductivity of the turbid liquid, there are 3) a method of thinning out the pulses of the AC electric field (providing a pause time).
(実施の形態3)
上記実施の形態1、2で説明した電界処理に用いる装置に制限はないが、例えば、以下に説明する装置を用いることができる。
(Embodiment 3)
The apparatus used for the electric field processing described in the first and second embodiments is not limited, but for example, the apparatus described below can be used.
図8は、酵母エキスの製造装置システムを示す図である。図8に示すシステムにおいては、処理対象の酵母の懸濁液が投入されるホッパ10と、ホッパ10と流路を介して接続される電界印加装置13と、電界印加装置13と流路を介して接続される熱交換器15とを有する。ホッパ10と電界印加装置13との間にはポンプPが接続されている。
FIG. 8 is a diagram showing an apparatus system for producing yeast extract. In the system shown in FIG. 8, the
ホッパ10は、上記流路が接続された容器である。このホッパ10内で、懸濁用の液(例えば、イオン交換水)と、酵母とを混ぜ合わせてもよい。
The
電界印加装置13では、電極EL1、EL2が流路Rを介して対向して配置されている。電極EL1、EL2間は絶縁体ILにより絶縁されている。電極EL1、EL2間には、電源ユニットUが接続されており、所定の電界を電極EL1、EL2間に印加することができる。また、所定の周波数の交流電界を電極EL1、EL2間に印加することができる。周波数は、例えば、5kHz〜20kHzの範囲で調整可能である。また、電極EL1、EL2間の間隔は、例えば、0.1〜8mm程度であり、電極EL1、EL2間に、間隔1mm当り3V〜1000Vの電圧を印加することができる。
In the electric
よって、流入口INから流入した酵母の懸濁液は、電極EL1、EL2間を通り、その間に、電界処理され、流出口OUTから排出される。電界処理された酵母の懸濁液は、電界の印加により加熱されており、熱交換器15により冷却される。
Therefore, the yeast suspension flowing in from the inflow port IN passes between the electrodes EL1 and EL2, and in the meantime, is subjected to electric field treatment and discharged from the outflow port OUT. The electric field-treated yeast suspension is heated by the application of an electric field and cooled by the
熱交換器15の構成に制限はないが、例えば、コイル状の流路の外周に冷却水を流し、流路内の懸濁液の温度を調整する。
The configuration of the
熱交換器15を通って冷却された懸濁液は、例えば、パック内に注入され密封された後、恒温槽17に注入され、恒温槽17内において、所定の温度で、所定の時間保持される。恒温槽17は、酵母の自己消化部となる。
The suspension cooled through the
具体的には、市販のドライイーストを5%(w/v)となるように水に懸濁した、室温の酵母の懸濁液を、ホッパ10に投入し、ポンプPを介して、例えば、100L/hで送液する。酵母の懸濁液が、電界印加装置13の電極EL1、EL2間を通過する0.03秒間に、150V/mmの電界を印加する。これにより、酵母の懸濁液の温度は54℃まで上昇する。この後、酵母の懸濁液は、熱交換器により7℃まで冷却され、100mlずつ、プラスチックパックに分注され、密封される。各プラスチックパックを、恒温槽17内において、45℃で0〜6時間加熱する。
Specifically, a suspension of yeast at room temperature, in which commercially available dry yeast is suspended in water so as to be 5% (w / v), is put into the
このように、図8に示すようなシステムを用いて酵母の懸濁液から酵母エキスを製造することで、効率良く酵母エキスを製造することができる。即ち、酵母エキスの製造において、その工程を短時間、短工程とすることができる。また、酵母エキスの製造において、印加電界や温度などの条件の制御が容易となる。 As described above, by producing the yeast extract from the yeast suspension using the system as shown in FIG. 8, the yeast extract can be efficiently produced. That is, in the production of yeast extract, the process can be shortened in a short time. Further, in the production of yeast extract, it becomes easy to control conditions such as applied electric field and temperature.
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。 Although the invention made by the present inventor has been specifically described above based on the embodiment, the present invention is not limited to the above embodiment and can be variously modified without departing from the gist thereof. Needless to say.
例えば、実施例1等では、酵母の懸濁液を6時間置いた後、試験A〜E1、E2を行ったが、これは懸濁液のばらつきを抑制し、各試験の比較をより精度良く行うためのものであり、必須のものではない。例えば、酵母の懸濁液を調整した直後に、電界処理を行ってもよい。酵母の懸濁液を調整した直後の電界処理によっても、アミノ酸量が増加することを確認している。 For example, in Example 1 and the like, the yeast suspension was left for 6 hours, and then tests A to E1 and E2 were performed. This suppressed the variation of the suspension and made the comparison of each test more accurate. It's meant to be done, not essential. For example, electric field treatment may be performed immediately after preparing the yeast suspension. It has been confirmed that the amount of amino acids also increases by the electric field treatment immediately after preparing the yeast suspension.
また、実施例1等では、電界処理後の酵母の懸濁液を、45℃で6時間保持することで酵母の自己消化を行ったが、保持温度および保持時間は、これに限定されるものではない。保持温度としては、64℃以下で適宜調整可能である。また、保持時間は、大きくなるほど、アミノ酸量が増加する傾向にあるが、保持時間0時間でも、アミノ酸量の増加を確認している。また、保持時間が、0時間から6時間へと増加するにしたがって、アミノ酸量は増加する。 Further, in Example 1 and the like, yeast was autolyzed by holding the yeast suspension after the electric field treatment at 45 ° C. for 6 hours, but the holding temperature and holding time are limited to this. is not it. The holding temperature can be appropriately adjusted at 64 ° C. or lower. Further, as the retention time increases, the amount of amino acids tends to increase, but it has been confirmed that the amount of amino acids increases even when the retention time is 0 hours. In addition, the amount of amino acids increases as the retention time increases from 0 hours to 6 hours.
また、実施例1等では、酵母を懸濁するための液として、例えば、イオン交換水を用いたが、他の溶媒を用いてもよい。さらに、懸濁液の導電率の調整のため、懸濁液に、塩(例えば、NaCl)や糖などを添加してもよい。 Further, in Example 1 and the like, for example, ion-exchanged water was used as the liquid for suspending yeast, but other solvents may be used. Further, in order to adjust the conductivity of the suspension, salts (for example, NaCl), sugars and the like may be added to the suspension.
(実施の形態4)
上記実施の形態1、2で説明した電界処理に用いる装置に制限はないが、例えば、以下に説明する装置を用いることができる。
(Embodiment 4)
The apparatus used for the electric field processing described in the first and second embodiments is not limited, but for example, the apparatus described below can be used.
図9は、酵母エキスの製造装置システムを示す図である。図8に示すシステムにおいては、処理対象の酵母の懸濁液が投入されるホッパ10と、ホッパ10と流路を介して接続される電界印加装置(電界印加部)23と、電界印加装置23と流路を介して接続される熱交換器15とを有する。ホッパ10と電界印加装置23との間にはポンプPが接続されている。
FIG. 9 is a diagram showing an apparatus system for producing yeast extract. In the system shown in FIG. 8, a
ホッパ10は、上記流路が接続された容器である。このホッパ10内で、懸濁用の液(例えば、イオン交換水)と、酵母とを混ぜ合わせてもよい。
The
電界印加装置23では、リング電極(リング状の電極)REL1、REL2、REL3が管R1、R2を介して配置されている。管R1、R2は絶縁材料よりなる。リング電極REL1、REL2間、およびリング電極REL2、REL3間には、電源ユニットUが接続されており、所定の電界をリング電極REL1、REL2間、リング電極REL2、REL3間に印加することができる。また、所定の周波数の交流電界をリング電極REL1、REL2間、リング電極REL2、REL3間に印加することができる。周波数は、例えば、5kHz〜100kHzの範囲で調整可能である。また、リング電極REL1、REL2間、リング電極REL2、REL3間の間隔(電極間距離ED)は、例えば、75mm程度であり、リング電極REL1、REL2間、リング電極REL2、REL3間に、間隔1mm当り1V〜1000Vの電圧を印加することができる。管R1、R2およびリング電極REL1、REL2、REL3の内径は、例えば、17.5mm程度である。
In the electric
よって、流入口INから流入した酵母の懸濁液は、リング電極REL1、REL3間を通り、その間に、電界処理され、流出口OUTから排出される。電界処理された酵母の懸濁液は、電界の印加により加熱されており、熱交換器15により冷却される。
Therefore, the yeast suspension flowing in from the inflow port IN passes between the ring electrodes REL1 and REL3, and in the meantime, is subjected to electric field treatment and discharged from the outflow port OUT. The electric field-treated yeast suspension is heated by the application of an electric field and cooled by the
熱交換器15の構成に制限はないが、例えば、コイル状の流路の外周に冷却水を流し、流路内の懸濁液の温度を調整する。
The configuration of the
熱交換器15を通って冷却された懸濁液は、例えば、パック内に注入され密封された後、恒温槽17に注入され、恒温槽17内において、所定の温度で、所定の時間保持される。恒温槽17は、酵母の自己消化部となる。
The suspension cooled through the
具体的には、市販のドライイーストを5%(w/v)となるように水に懸濁した、室温の酵母の懸濁液を、ホッパ10に投入し、ポンプPを介して、例えば、100L/hで送液する。酵母の懸濁液が、電界印加装置23のリング電極REL1、REL3間を通過する2.5秒間に、3V/mmの電界を印加する。これにより、酵母の懸濁液の温度は54℃程度まで上昇する。この後、酵母の懸濁液は、熱交換器により7℃まで冷却され、100mlずつ、プラスチックパックに分注され、密封される。各プラスチックパックを、恒温槽17内において、45℃で0〜6時間加熱する。
Specifically, a suspension of yeast at room temperature, in which commercially available dry yeast is suspended in water so as to be 5% (w / v), is put into the
このように、図9に示すようなシステムを用いて酵母の懸濁液から酵母エキスを製造することで、効率良く酵母エキスを製造することができる。即ち、酵母エキスの製造において、その工程を短時間、短工程とすることができる。また、酵母エキスの製造において、印加電界や温度などの条件の制御が容易となる。なお、上記電界印加装置23においては、3個のリング電極を用いたが、リング電極を2個としてもよく、また、3個以上(例えば、5個)としてもよい。
As described above, by producing the yeast extract from the yeast suspension using the system as shown in FIG. 9, the yeast extract can be efficiently produced. That is, in the production of yeast extract, the process can be shortened in a short time. Further, in the production of yeast extract, it becomes easy to control conditions such as applied electric field and temperature. In the electric
図10は、実施の形態3および本実施の形態で説明した装置の使用条件の一例をまとめた図である。例えば、実施の形態3(図8)の装置は、実施の形態1で説明した高電界処理(試験A)に適し、実施の形態4(図9)の装置は、実施の形態1で説明した低高電界処理(試験E2)に適する。 FIG. 10 is a diagram summarizing an example of the usage conditions of the apparatus described in the third embodiment and the present embodiment. For example, the apparatus of the third embodiment (FIG. 8) is suitable for the high electric field treatment (test A) described in the first embodiment, and the apparatus of the fourth embodiment (FIG. 9) is described in the first embodiment. Suitable for low and high electric field treatment (test E2).
前述の試験A、試験E2の説明と重複するが、図10を参照しながら、実施の形態3の装置(図8、高電界処理装置)および実施の形態4の装置(図9、低電界処理装置)の使用条件の一例について説明する。 Although overlapping with the description of Test A and Test E2 described above, the apparatus of the third embodiment (FIG. 8, high electric field processing apparatus) and the apparatus of the fourth embodiment (FIG. 9, low electric field processing), referring to FIG. An example of the usage conditions of the device) will be described.
図10に示すように、高電界処理装置、低電界処理装置の電極材料は、例えば、Tiである。Tiの他にPtを用いてもよい。また、TiにPtをコーティングした電極を用いてもよい。 As shown in FIG. 10, the electrode material of the high electric field processing device and the low electric field processing device is, for example, Ti. Pt may be used in addition to Ti. Further, an electrode obtained by coating Ti with Pt may be used.
電極が設けられた流路(電界処理部)の大きさについて、その断面は、高電界処理装置では、6mm×2mm程度の略矩形であり、長さ(RD)は、32mmである。また、低高電界処理装置では、断面は、直径17.5mmの円形であり、長さ(ED×2)は、75mm×2である。 Regarding the size of the flow path (electric field processing unit) provided with the electrodes, the cross section of the high electric field processing device is approximately 6 mm × 2 mm, and the length (RD) is 32 mm. Further, in the low and high electric field processing apparatus, the cross section is a circle with a diameter of 17.5 mm, and the length (ED × 2) is 75 mm × 2.
高電界処理装置は、電極間距離が小さく(ここでは、4mm)、電極間電圧を600Vとすることで、高電界(ここでは、150V/mm)を印加することができる。高電界処理の電界としては、電極間距離や電極間電圧を調整することで、50V/mm〜500V/mmの間で調整することができる。 The high electric field processing device can apply a high electric field (here, 150 V / mm) by setting the distance between the electrodes to be small (here, 4 mm) and setting the voltage between the electrodes to 600 V. The electric field for high electric field processing can be adjusted between 50 V / mm and 500 V / mm by adjusting the distance between the electrodes and the voltage between the electrodes.
低電界処理装置は、電極間距離が比較的大きく(ここでは、75mm)、電極間電圧を225Vとすることで、低電界(ここでは、3V/mm)を印加することができる。低電界処理の電界としては、電極間距離や電極間電圧を調整することで、3V/mm〜50V/mmの間で調整することができる。 The low electric field processing device has a relatively large distance between electrodes (75 mm here), and a low electric field (3 V / mm here) can be applied by setting the voltage between the electrodes to 225 V. The electric field for low electric field processing can be adjusted between 3V / mm and 50V / mm by adjusting the distance between the electrodes and the voltage between the electrodes.
高電界処理装置および低電界処理装置のどちらにおいても、交流電界が印加されている。即ち、電極間の電圧の正負が所定の間隔で切り換わる。周波数は、例えば、20kHzである。周波数としては、5kHz〜100kHzが好ましい。5kHz未満では、電気分解による電極の変質が生じやすく、電極のメンテナンスの頻度が高まる。特に、上記高電界処理装置および低電界処理装置は、インラインでの処理であり、電極の洗浄や付け替えには、装置(電界印加装置)の分解を伴い、処理効率の低下を招く。また、周波数としては、100kHzを超えると電力のロスが大きくなり、生産コスト高を招く。 An AC electric field is applied to both the high electric field processing device and the low electric field processing device. That is, the positive and negative voltages between the electrodes are switched at predetermined intervals. The frequency is, for example, 20 kHz. The frequency is preferably 5 kHz to 100 kHz. Below 5 kHz, deterioration of the electrode due to electrolysis is likely to occur, and the frequency of electrode maintenance increases. In particular, the high electric field processing device and the low electric field processing device are in-line processing, and cleaning or replacement of electrodes involves decomposition of the device (electric field applying device), resulting in a decrease in processing efficiency. Further, if the frequency exceeds 100 kHz, the power loss becomes large, which leads to a high production cost.
電界印加時間(処理時間)は、処理材料(酵母の懸濁液)が、電極間を流れる時間であり、高電界処理装置においては、例えば、電極が対向している領域(長さRD、ここでは、32mm程度)であり、ここをポンプの押圧により、処理材料が例えば、0.03秒程度で通過する。また、低電界処理装置においては、例えば、電極間距離(2×ED、ここでは、2×75=150mm程度)間であり、この間をポンプの押圧により、処理材料が例えば、2.5秒程度で通過する。 The electric field application time (treatment time) is the time during which the treatment material (yeast suspension) flows between the electrodes. In a high electric field treatment device, for example, a region (length RD, here) in which the electrodes face each other. Then, about 32 mm), and the processing material passes through this in about 0.03 seconds by pressing the pump. Further, in the low electric field processing apparatus, for example, the distance between the electrodes (2 × ED, here, about 2 × 75 = 150 mm) is between the electrodes, and the processing material is, for example, about 2.5 seconds by pressing the pump during this distance. Pass by.
この電界印加時間(処理時間)は、電極が設けられた流路(電界処理部)の大きさや、ポンプ圧により、調整することが可能である。例えば、高電界処理装置においては、電界印加時間(処理時間、電界印加部の通過時間)を、0.001秒以上1秒以下の範囲で調整することができる。また、低電界処理装置においては、電界印加時間(処理時間、電界印加部の通過時間)を、1秒以上30秒以下の範囲で調整することができる。 This electric field application time (processing time) can be adjusted by adjusting the size of the flow path (electric field processing unit) provided with the electrodes and the pump pressure. For example, in a high electric field processing apparatus, the electric field application time (processing time, passage time of the electric field application unit) can be adjusted in the range of 0.001 seconds or more and 1 second or less. Further, in the low electric field processing apparatus, the electric field application time (processing time, passage time of the electric field application unit) can be adjusted in the range of 1 second or more and 30 seconds or less.
上記のとおり、高電界処理装置においては、電極が設けられた流路(電界処理部)の断面が小さく、粘度の低い材料の処理に適する。粘度の基準としては、例えば、トマトジュース(粘度50mPa・s程度)より粘度の低いものの処理に適する。高電界処理装置は、酵母の懸濁液の場合、例えば、13%(w/v)以下のものの処理に適する。低電界処理装置においては、電極が設けられた流路(電界処理部)の断面が大きく、粘度の高い材料の処理も可能である。粘度の基準としては、例えば、あんこ(粘度1000000mPa・s以上)のような高粘度ものの処理も可能である。例えば、13%(w/v)以上の酵母の懸濁液は、低電界処理装置で処理することが好ましい。 As described above, in the high electric field processing apparatus, the cross section of the flow path (electric field processing unit) provided with the electrodes is small, and it is suitable for processing a material having a low viscosity. As a standard of viscosity, for example, it is suitable for processing a juice having a viscosity lower than that of tomato juice (viscosity of about 50 mPa · s). In the case of yeast suspensions, the high electric field treatment apparatus is suitable for treating, for example, 13% (w / v) or less. In the low electric field processing apparatus, the cross section of the flow path (electric field processing unit) provided with the electrodes is large, and it is possible to process a material having a high viscosity. As a reference for the viscosity, for example, a high-viscosity substance such as red bean paste (viscosity of 1000000 mPa · s or more) can be processed. For example, a yeast suspension of 13% (w / v) or more is preferably treated with a low electric field treatment device.
試験Aや試験E2において用いた酵母の懸濁液は、5%程度であり、高電界処理装置でも低電界処理装置でも処理が可能である。また、酵母の懸濁液の濃度を高くすることで、処理効率を向上させることができる。このように、粘度が大きくなるような場合には、低電界処理装置を用いることが好ましい。 The yeast suspension used in Test A and Test E2 is about 5%, and can be treated by either a high electric field treatment device or a low electric field treatment device. In addition, the treatment efficiency can be improved by increasing the concentration of the yeast suspension. As described above, when the viscosity becomes high, it is preferable to use a low electric field processing device.
このように、上記高電界処理装置や低電界処理装置を用いて、酵母の懸濁液電界処理することで、効率良く酵母エキスを製造することができる。即ち、酵母エキスの製造において、その工程を短時間、短工程とすることができる。また、酵母エキスの製造において、印加電界条件などの制御が容易となる。 As described above, yeast extract can be efficiently produced by subjecting yeast to a suspension electric field treatment using the above-mentioned high electric field treatment device or low electric field treatment device. That is, in the production of yeast extract, the process can be shortened in a short time. Further, in the production of yeast extract, it becomes easy to control the applied electric field conditions and the like.
(実施の形態5)
本実施の形態においては、酵母の自己消化率の保持時間の影響について説明する。
(Embodiment 5)
In the present embodiment, the influence of the retention time of the autolysis rate of yeast will be described.
(実施例5)
酵母の自己消化率の保持時間の影響について、以下の試験F1、試験F2、試験G1、試験G2を行い、検討した。
(Example 5)
The effects of the retention time of yeast autolysis rate were examined by conducting the following tests F1, test F2, test G1, and test G2.
(試験F1)
市販のドライイースト(サッカロマイセス・セレビシエ(Saccharomyces cerevisiae))を、5%(w/v)となるようにイオン交換水に懸濁し、酵母の懸濁液を調整し、6時間置いて、酵母の懸濁液を得た。次いで、この酵母の懸濁液に、20kHz、500V/mmの高電界(交流高電界)を0.03s印加した。この高電界の印加時間は、懸濁液の電極間の通過時間に相当する。具体的には、電極間隔が4mmの電極間に上記懸濁液を通し、600Vの電圧を電極間に印加し、電極間を0.03sで通過させた。電界の印加で懸濁液の温度は54℃まで上昇した。この懸濁液を、熱交換器で7℃まで冷却した後、45℃で0〜24時間、保持することで酵母の自己消化を行った。即ち、保持時間を0〜24時間とした。自己消化により経時的に細胞の重量が減少していくことから、一定量の懸濁液に含まれる酵母菌体を遠心分離により回収し、その乾燥重量(不溶性画分量)を求め、減少した重量の割合から自己消化率[(0時間目の乾燥菌体重量−処理後の乾燥菌体重量/0時間目の乾燥菌体重量)×100%]を求めた。なお、0時間目の乾燥菌体重量は、開始時不溶性画分量とも言え、また、処理後の乾燥菌体重量は、測定時不溶性画分量とも言える。
(Test F1)
Commercially available dry yeast (Saccharomyces cerevisiae) is suspended in ion-exchanged water to a concentration of 5% (w / v), the yeast suspension is prepared, and the yeast suspension is left for 6 hours. A turbid liquid was obtained. Next, a high electric field (AC high electric field) of 20 kHz and 500 V / mm was applied to the yeast suspension for 0.03 s. The application time of this high electric field corresponds to the transit time between the electrodes of the suspension. Specifically, the suspension was passed between electrodes having an electrode spacing of 4 mm, a voltage of 600 V was applied between the electrodes, and the suspension was passed between the electrodes in 0.03 s. The application of an electric field raised the temperature of the suspension to 54 ° C. The suspension was cooled to 7 ° C. in a heat exchanger and then held at 45 ° C. for 0 to 24 hours for autolysis of yeast. That is, the holding time was set to 0 to 24 hours. Since the weight of cells decreases over time due to autolysis, yeast cells contained in a certain amount of suspension are collected by centrifugation, and their dry weight (insoluble fraction) is determined to reduce the weight. The autolysis rate [(weight of dried cells at 0 hours-weight of dried cells after treatment / weight of dried cells at 0 hours) x 100%] was determined from the ratio of. The weight of dried cells at 0 hours can be said to be the insoluble fraction at the start, and the weight of dried cells after treatment can be said to be the insoluble fraction at the time of measurement.
自己消化後の酵母の懸濁液(酵母液)を、80℃に熱し酵母の不活化処理を行った。その後、酵母液中の遊離アミノ酸分析を行った。 The yeast suspension (yeast solution) after autolysis was heated to 80 ° C. to inactivate the yeast. Then, free amino acid analysis in yeast solution was performed.
また、コントロールとして、市販のドライイーストを、5%(w/v)となるように水で懸濁し、6時間置いて、得た酵母の懸濁液を、電界を印加することなく、45℃で0〜24時間保持することで酵母の自己消化を行った。自己消化後の酵母の懸濁液(酵母液)を、80℃に熱し酵母の不活化処理を行った。その後、自己消化率を求めた。 As a control, commercially available dry yeast was suspended in water so as to have a concentration of 5% (w / v), left for 6 hours, and the obtained yeast suspension was cooled at 45 ° C. without applying an electric field. The yeast was autolyzed by holding it for 0 to 24 hours. The yeast suspension (yeast solution) after autolysis was heated to 80 ° C. to inactivate the yeast. After that, the autolysis rate was calculated.
また、比較試験として、市販のドライイーストを、5%(w/v)となるように水で懸濁し、酵母の自己消化を促進するための薬品として酢酸エチルを、3.3ml/Lとなるように添加した後、6時間置いて、得た酵母の懸濁液を、電界を印加することなく、45℃で0〜24時間保持することで酵母の自己消化を行った。自己消化後の酵母の懸濁液(酵母液)を、80℃に熱し酵母の不活化処理を行った。その後、自己消化率を求めた。 In addition, as a comparative test, commercially available dry yeast is suspended in water so as to be 5% (w / v), and ethyl acetate is added to 3.3 ml / L as a chemical for promoting autolysis of yeast. After the addition as described above, the yeast suspension was allowed to stand for 6 hours at 45 ° C. for 0 to 24 hours without applying an electric field to autolyze the yeast. The yeast suspension (yeast solution) after autolysis was heated to 80 ° C. to inactivate the yeast. After that, the autolysis rate was calculated.
図11(A)は、酵母の自己消化率と保持時間の関係を示すグラフである。グラフ(a)は、ドライイーストの高電界処理の場合、グラフ(b)は、酢酸エチルを添加した場合、グラフ(c)は、コントロールの場合を示す。横軸は、保持時間(hr)、縦軸は、自己消化率(%)である。 FIG. 11 (A) is a graph showing the relationship between the autolysis rate of yeast and the retention time. Graph (a) shows the case of high electric field treatment of dry yeast, graph (b) shows the case of adding ethyl acetate, and graph (c) shows the case of control. The horizontal axis is the retention time (hr), and the vertical axis is the autolysis rate (%).
図11(A)に示すように、ドライイーストの高電界処理においては、いずれの保持時間においても、酢酸エチルを添加した場合より、自己消化率が高かった。特に、グラフ(a)は、急速に自己消化率が高まり、保持時間が6時間程度でも、25%以上の高い自己消化率を得られた。 As shown in FIG. 11 (A), in the high electric field treatment of dry yeast, the autolysis rate was higher than that in the case of adding ethyl acetate at any holding time. In particular, in graph (a), the autolysis rate increased rapidly, and a high autolysis rate of 25% or more was obtained even with a retention time of about 6 hours.
(試験F2)
また、保持時間を、上記試験F1での0〜24時間より長期間である0〜72時間として、試験F1と同様の試験を行った。図11(B)は、酵母の自己消化率と保持時間の関係を示すグラフである。グラフ(a)は、ドライイーストの高電界処理の場合、グラフ(b)は、酢酸エチルを添加した場合、グラフ(c)は、コントロールの場合を示す。横軸は、保持時間(hr)、縦軸は、自己消化率(%)である。
(Test F2)
Further, the same test as in the test F1 was conducted with the holding time set to 0 to 72 hours, which is a longer period than the 0 to 24 hours in the test F1. FIG. 11B is a graph showing the relationship between the autolysis rate of yeast and the retention time. Graph (a) shows the case of high electric field treatment of dry yeast, graph (b) shows the case of adding ethyl acetate, and graph (c) shows the case of control. The horizontal axis is the retention time (hr), and the vertical axis is the autolysis rate (%).
図11(B)に示すように、ドライイーストの高電界処理においては、保持時間が、24時間程度で、自己消化率が50%程度となった。なお、一般的な酵母の自己消化率の到達値は、50%程度と考えられている。 As shown in FIG. 11B, in the high electric field treatment of dry yeast, the holding time was about 24 hours and the autolysis rate was about 50%. The reached value of the autolysis rate of general yeast is considered to be about 50%.
(試験G1)
酵母をドライイースト(乾燥酵母)から生イースト(圧搾酵母)に代えて、試験F1と同様の試験を行った。
(Test G1)
The yeast was changed from dry yeast (dried yeast) to raw yeast (squeezed yeast), and the same test as in test F1 was performed.
図12(A)は、酵母の自己消化率と保持時間の関係を示すグラフである。グラフ(a)は、生イーストの高電界処理の場合、グラフ(b)は、酢酸エチルを添加した場合、グラフ(c)は、コントロールの場合を示す。 FIG. 12 (A) is a graph showing the relationship between the autolysis rate of yeast and the retention time. Graph (a) shows the case of high electric field treatment of raw yeast, graph (b) shows the case of adding ethyl acetate, and graph (c) shows the case of control.
図12(A)に示すように、生イーストの高電界処理においては、いずれの保持時間においても、酢酸エチルを添加した場合より、自己消化率が高かった。特に、グラフ(a)は、急速に自己消化率が高まり、保持時間が6時間程度でも、十分な自己消化率を得られた。 As shown in FIG. 12 (A), in the high electric field treatment of raw yeast, the autolysis rate was higher than that in the case of adding ethyl acetate at any retention time. In particular, in graph (a), the autolysis rate increased rapidly, and a sufficient autolysis rate was obtained even with a retention time of about 6 hours.
(試験G2)
また、保持時間を、上記試験G1での0〜24時間より長期間である0〜72時間として、試験G1と同様の試験を行った。図12(B)は、酵母の自己消化率と保持時間の関係を示すグラフである。グラフ(a)は、生イーストの高電界処理の場合、グラフ(b)は、酢酸エチルを添加した場合、グラフ(c)は、コントロールの場合を示す。横軸は、保持時間(hr)、縦軸は、自己消化率(%)である。
(Test G2)
Further, the same test as in the test G1 was conducted with the holding time set to 0 to 72 hours, which is a longer period than the 0 to 24 hours in the test G1. FIG. 12B is a graph showing the relationship between the autolysis rate of yeast and the retention time. Graph (a) shows the case of high electric field treatment of raw yeast, graph (b) shows the case of adding ethyl acetate, and graph (c) shows the case of control. The horizontal axis is the retention time (hr), and the vertical axis is the autolysis rate (%).
図12(B)に示すように、生イーストの高電界処理においては、保持時間が、24時間程度で、自己消化率が50%程度となった。 As shown in FIG. 12B, in the high electric field treatment of raw yeast, the holding time was about 24 hours and the autolysis rate was about 50%.
(試験F2、試験G2の遊離アミノ酸分析結果について)
上記試験F2、試験G2の遊離アミノ酸分析結果について、図13〜図16を参照しながら、以下に説明する。
(About the free amino acid analysis results of test F2 and test G2)
The results of free amino acid analysis in Test F2 and Test G2 will be described below with reference to FIGS. 13 to 16.
図13は、試験F2、試験G2の総遊離アミノ態窒素量のグラフを示す図であり、図14は、試験F2、試験G2の分岐鎖アミノ酸の量のグラフを示す図である。また、図15は、試験F2、試験G2のグルタミン酸の量のグラフを示す図であり、図16は、試験F2、試験G2のグルタミンの量のグラフを示す図である。いずれの図においても、(A)は、試験F2(ドライイースト)の場合、(B)は、試験G2(生イースト)の場合を示す。また、各図において、グラフ(a)は、高電界処理の場合、グラフ(b)は、酢酸エチルを添加した場合、グラフ(c)は、コントロールの場合を示す。 FIG. 13 is a diagram showing a graph of the total amount of free amino nitrogen in the test F2 and the test G2, and FIG. 14 is a diagram showing a graph of the amount of branched chain amino acids in the test F2 and the test G2. Further, FIG. 15 is a diagram showing a graph of the amount of glutamic acid in the test F2 and the test G2, and FIG. 16 is a diagram showing a graph of the amount of glutamine in the test F2 and the test G2. In any of the figures, (A) shows the case of test F2 (dry yeast), and (B) shows the case of test G2 (raw yeast). Further, in each figure, the graph (a) shows the case of high electric field treatment, the graph (b) shows the case of adding ethyl acetate, and the graph (c) shows the case of control.
図13において、横軸は、保持時間(hr)、縦軸は、総遊離アミノ態窒素量(mg/mL)である。図13に示すように、図13(A)のドライイースト、図13(B)の生イーストのいずれの場合も、グラフ(a)の高電界処理の場合において、総遊離アミノ態窒素量の急速な上昇が確認できた。特に、グラフ(b)の酢酸エチルを添加した場合と比較し、短い保持時間での総遊離アミノ態窒素量の増加を確認することができた。 In FIG. 13, the horizontal axis is the retention time (hr), and the vertical axis is the total amount of free amino nitrogen (mg / mL). As shown in FIG. 13, in both the dry yeast of FIG. 13 (A) and the raw yeast of FIG. 13 (B), the total amount of free amino nitrogen is rapid in the case of the high electric field treatment of the graph (a). I was able to confirm a significant rise. In particular, it was possible to confirm an increase in the total amount of free amino nitrogen in a short retention time as compared with the case where ethyl acetate was added in the graph (b).
図14において、横軸は、保持時間(hr)、縦軸は、分岐鎖アミノ酸の量(遊離アミノ酸量(mg/mL))である。図14に示すように、図14(A)のドライイースト、図14(B)の生イーストのいずれの場合も、グラフ(a)の高電界処理の場合において、分岐鎖アミノ酸の量(遊離アミノ酸量)の急速な上昇が確認できた。特に、グラフ(b)の酢酸エチルを添加した場合と比較し、短い保持時間での分岐鎖アミノ酸の量(遊離アミノ酸量)の増加を確認することができた。 In FIG. 14, the horizontal axis is the retention time (hr), and the vertical axis is the amount of branched chain amino acids (free amino acid amount (mg / mL)). As shown in FIG. 14, in both the dry yeast of FIG. 14 (A) and the raw yeast of FIG. 14 (B), the amount of branched chain amino acids (free amino acids) in the case of the high electric field treatment of the graph (a). A rapid increase in quantity) was confirmed. In particular, an increase in the amount of branched-chain amino acids (amount of free amino acids) in a short retention time could be confirmed as compared with the case where ethyl acetate was added in the graph (b).
図15において、横軸は、保持時間(hr)、縦軸は、グルタミン酸の量(遊離アミノ酸量(mg/mL))である。グルタミン酸は、うま味を持つアミノ酸の一種である。図15に示すように、図15(A)のドライイースト、図15(B)の生イーストのいずれの場合も、グラフ(a)の高電界処理の場合において、グルタミン酸の量(遊離アミノ酸量)の急速な上昇が確認できた。特に、グラフ(b)の酢酸エチルを添加した場合と比較し、短い保持時間でのグルタミン酸の量(遊離アミノ酸量)の増加を確認することができた。 In FIG. 15, the horizontal axis is the retention time (hr), and the vertical axis is the amount of glutamic acid (amount of free amino acids (mg / mL)). Glutamic acid is a type of amino acid that has an umami taste. As shown in FIG. 15, in both the dry yeast of FIG. 15 (A) and the raw yeast of FIG. 15 (B), the amount of glutamic acid (the amount of free amino acids) in the case of the high electric field treatment of the graph (a). Was confirmed to rise rapidly. In particular, an increase in the amount of glutamic acid (amount of free amino acids) in a short retention time could be confirmed as compared with the case where ethyl acetate was added in the graph (b).
図16において、横軸は、保持時間(hr)、縦軸は、グルタミンの量(遊離アミノ酸量(mg/mL))である。図16に示すように、図16(A)のドライイースト、図16(B)の生イーストのいずれの場合も、グラフ(a)の高電界処理の場合において、グルタミンの量(遊離アミノ酸量)の急速な上昇が確認できた。特に、グラフ(b)の酢酸エチルを添加した場合と比較し、短い保持時間でのグルタミンの量(遊離アミノ酸量)の増加を確認することができた。 In FIG. 16, the horizontal axis is the retention time (hr), and the vertical axis is the amount of glutamine (amount of free amino acids (mg / mL)). As shown in FIG. 16, in both the dry yeast of FIG. 16 (A) and the raw yeast of FIG. 16 (B), the amount of glutamine (the amount of free amino acids) in the case of the high electric field treatment of the graph (a). Was confirmed to rise rapidly. In particular, an increase in the amount of glutamine (amount of free amino acids) in a short retention time could be confirmed as compared with the case where ethyl acetate was added in the graph (b).
以上、本発明者によってなされた発明を実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることはいうまでもない。 Although the invention made by the present inventor has been specifically described above based on the embodiment, the present invention is not limited to the above embodiment and can be variously modified without departing from the gist thereof. Needless to say.
例えば、実施例1等では、酵母の懸濁液を6時間置いた後、試験A〜E1、E2を行ったが、これは懸濁液のばらつきを抑制し、各試験の比較をより精度良く行うためのものであり、必須のものではない。例えば、酵母の懸濁液を調整した直後に、電界処理を行ってもよい。酵母の懸濁液を調整した直後の電界処理によっても、アミノ酸量が増加することを確認している。 For example, in Example 1 and the like, the yeast suspension was left for 6 hours, and then tests A to E1 and E2 were performed. This suppressed the variation of the suspension and made the comparison of each test more accurate. It's meant to be done, not essential. For example, electric field treatment may be performed immediately after preparing the yeast suspension. It has been confirmed that the amount of amino acids also increases by the electric field treatment immediately after preparing the yeast suspension.
また、実施例1等では、電界処理後の酵母の懸濁液を、45℃で6時間保持することで酵母の自己消化を行ったが、保持温度および保持時間は、これに限定されるものではない。保持温度としては、64℃以下で適宜調整可能である。また、保持時間は、大きくなるほど、アミノ酸量が増加する傾向にあるが、保持時間0時間でも、アミノ酸量の増加を確認している。また、保持時間が、0時間から6時間へと増加するにしたがって、アミノ酸量は増加する。 Further, in Example 1 and the like, yeast was autolyzed by holding the yeast suspension after the electric field treatment at 45 ° C. for 6 hours, but the holding temperature and holding time are limited to this. is not it. The holding temperature can be appropriately adjusted at 64 ° C. or lower. Further, as the retention time increases, the amount of amino acids tends to increase, but it has been confirmed that the amount of amino acids increases even when the retention time is 0 hours. In addition, the amount of amino acids increases as the retention time increases from 0 hours to 6 hours.
また、実施例1等では、酵母を懸濁するための液として、例えば、イオン交換水を用いたが、他の溶媒を用いてもよい。さらに、懸濁液の導電率の調整のため、懸濁液に、塩類(例えば、NaCl)や糖などを添加してもよい。 Further, in Example 1 and the like, for example, ion-exchanged water was used as the liquid for suspending yeast, but other solvents may be used. Further, salts (for example, NaCl), sugars and the like may be added to the suspension in order to adjust the conductivity of the suspension.
10 ホッパ
13 電界印加装置
15 熱交換器
17 恒温槽
23 電界印加装置
EL1 電極
EL2 電極
IL 絶縁体
IN 流入口
OUT 流出口
P ポンプ
R 流路
R1 管
R2 管
REL1 リング電極
REL2 リング電極
REL3 リング電極
U 電源ユニット
10
Claims (10)
(b)前記懸濁液に電界処理を施す工程、
(c)前記(b)工程の後、前記懸濁液において酵母を自己消化する工程、
を有し、
前記(b)工程は、電極を有する流路である電界印加部に、前記懸濁液を連続的に流しながら、前記電極に電圧を印加する工程であり、
前記(b)工程において、
電圧の印加期間の前記懸濁液の温度は、64℃以下であり、
印加される電圧は、50V/mm以上500V/mm以下であり、
印加される電圧は、周波数が5kHz以上100kHz以下の交流電圧であって、パルス数が100を超える、酵母エキスの製造方法。 (A) Step of preparing a suspension containing yeast,
(B) A step of applying an electric field treatment to the suspension,
(C) A step of autolyzing yeast in the suspension after the step (b).
Have,
The step (b) is a step of applying a voltage to the electrode while continuously flowing the suspension through an electric field application portion which is a flow path having an electrode.
In the step (b),
The temperature of the suspension during the voltage application period is 64 ° C. or lower.
The applied voltage is 50 V / mm or more and 500 V / mm or less.
A method for producing yeast extract, wherein the applied voltage is an AC voltage having a frequency of 5 kHz or more and 100 kHz or less, and the number of pulses exceeds 100.
前記(b)工程において、
前記懸濁液への交流電圧の印加時間は、0.001秒以上1秒以下である、酵母エキスの製造方法。 In the method for producing yeast extract according to claim 1,
In the step (b),
A method for producing a yeast extract, wherein the application time of the AC voltage to the suspension is 0.001 second or more and 1 second or less.
前記(b)工程において、
前記電極は、対向して配置された第1電極と第2電極とを有し、
前記懸濁液は、前記第1電極と第2電極との間を流れる、酵母エキスの製造方法。 In the method for producing yeast extract according to claim 1,
In the step (b),
The electrode has a first electrode and a second electrode arranged so as to face each other.
A method for producing a yeast extract, wherein the suspension flows between the first electrode and the second electrode.
前記酵母は、サッカロマイセス(Saccharomyces)属またはキャンディダ(Candida)属である、酵母エキスの製造方法。 In the method for producing yeast extract according to claim 1,
A method for producing a yeast extract, wherein the yeast belongs to the genus Saccharomyces or the genus Candida.
前記酵母は、ドライイーストまたは生イーストである、酵母エキスの製造方法。 In the method for producing yeast extract according to claim 1,
A method for producing a yeast extract, wherein the yeast is dry yeast or raw yeast.
(b)前記懸濁液に電界処理を施す工程、
(c)前記(b)工程の後、前記懸濁液において酵母を自己消化する工程、
を有し、
前記(b)工程は、電極を有する流路である電界印加部に、前記懸濁液を連続的に流しながら、前記電極に電圧を印加する工程であり、
前記(b)工程において、
電圧の印加期間の前記懸濁液の温度は、64℃以下であり、
印加される電圧は、3V/mm以上50V/mm以下であり、
印加される電圧は、周波数が5kHz以上100kHz以下の交流電圧である、酵母エキスの製造方法。 (A) Step of preparing a suspension containing yeast,
(B) A step of applying an electric field treatment to the suspension,
(C) A step of autolyzing yeast in the suspension after the step (b).
Have,
The step (b) is a step of applying a voltage to the electrode while continuously flowing the suspension through an electric field application portion which is a flow path having an electrode.
In the step (b),
The temperature of the suspension during the voltage application period is 64 ° C. or lower.
The applied voltage is 3 V / mm or more and 50 V / mm or less.
A method for producing yeast extract, wherein the applied voltage is an AC voltage having a frequency of 5 kHz or more and 100 kHz or less.
前記(b)工程において、
前記懸濁液への交流電圧の印加時間は、1秒以上30秒以下である、酵母エキスの製造方法。 In the method for producing yeast extract according to claim 6,
In the step (b),
A method for producing a yeast extract, wherein the application time of an AC voltage to the suspension is 1 second or more and 30 seconds or less.
前記(b)工程において、
前記電極は、リング状の第1電極と第2電極とを有し、
前記懸濁液は、前記第1電極と、前記第1電極と前記第2電極の間の管と、前記第2電極との中を流れる、酵母エキスの製造方法。 In the method for producing yeast extract according to claim 7,
In the step (b),
The electrode has a ring-shaped first electrode and a second electrode, and has a ring-shaped first electrode and a second electrode.
A method for producing a yeast extract, wherein the suspension flows through the first electrode, a tube between the first electrode and the second electrode, and the second electrode.
前記酵母は、サッカロマイセス(Saccharomyces)属またはキャンディダ(Candida)属である、酵母エキスの製造方法。 In the method for producing yeast extract according to claim 6,
A method for producing a yeast extract, wherein the yeast belongs to the genus Saccharomyces or the genus Candida.
前記酵母は、ドライイーストまたは生イーストである、酵母エキスの製造方法。 In the method for producing yeast extract according to claim 6,
A method for producing a yeast extract, wherein the yeast is dry yeast or raw yeast.
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