JP6739755B2 - 1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)アミノシクロヘキサンの異性化方法 - Google Patents
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Description
[1]下記一般式(1)で表されるイミン化合物と、アルカリ金属、アルカリ金属水素化物、アルカリ金属アミド、アルカリ金属塩基性酸化物、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ土類金属、及び、アルカリ土類金属水素化物からなる群より選ばれる1種以上と、の存在下、1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンを異性化する異性化工程を有する、1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。
[2]前記R1及びR2で示される無置換の炭化水素基が、無置換の脂肪族炭化水素基、無置換の脂環族炭化水素基、及び、無置換の芳香族炭化水素基からなる群より選ばれる1価の基を含み、前記R3で示される置換又は無置換の炭化水素基が、置換又は無置換の脂肪族炭化水素基、置換又は無置換の脂環族炭化水素基、及び、置換又は無置換の芳香族炭化水素基からなる群より選ばれるn価の基を含む、請求項1に記載の1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。
[3]前記イミン化合物が、下記一般式(2)で表される化合物、及び/又は、下記一般式(3)で表される化合物を含む、[1]又は[2]に記載の1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。
[4]前記イミン化合物が、下記一般式(2a)で表される化合物、及び/又は、下記一般式(3a)で表される化合物を含む、[1]〜[3]のいずれか1つに記載の1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。
[5]前記イミン化合物が、1級アミンと、アルデヒド及び/又はケトンと、の脱水縮合により得られるものである、[1]〜[4]のいずれか1つに記載の1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。
[6]前記イミン化合物が、前記1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンと、アルデヒド及び/又はケトンと、の脱水縮合により得られるものである、[1]〜[5]のいずれか1つに記載の1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。
[7]前記異性化工程において、及び/又は、前記異性化工程の後に、1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンうちのトランス体とシス体とを蒸留により分離する異性体分離工程を有する、[1]〜[6]のいずれか1つに記載の1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。
[8]前記異性化工程における異性化反応温度が、100〜140℃である、[1]〜[7]のいずれか1つに記載の1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。
[9]前記異性化工程において、沸点が前記異性化反応温度以下の溶媒を用いる、[8]に記載の1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。
[10]前記異性化工程において、不活性ガスをバブリングする、[1]〜[9]のいずれか1つに記載の1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。
本実施形態の1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)アミノシクロヘキサンの異性化方法は、下記一般式(1)で表されるイミン化合物と、アルカリ金属、アルカリ金属含有化合物、アルカリ土類金属、及び、アルカリ土類金属含有化合物(以下、まとめて「アルカリ金属等」ともいう。)からなる群より選ばれる1種以上と、の存在下、1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)アミノシクロヘキサンを異性化する異性化工程を有する。
異性化工程は、上記一般式(1)で表されるイミン化合物と、アルカリ金属、アルカリ金属含有化合物、アルカリ土類金属、及びアルカリ土類金属含有化合物からなる群より選ばれる1種以上と、の存在下、1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)アミノシクロヘキサンを異性化する工程である。
本明細書において、「1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)アミノシクロヘキサン」とは、下記式(9)で表される化合物を指す。
イミン化合物は、上記一般式(1)で表される化合物である。イミン化合物は、1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)アミノシクロヘキサンの異性化触媒の活性種を形成させるために用いられる。上記一般式(1)中、R1及びR2は、各々独立して、水素原子、置換又は無置換の炭化水素基、置換又は無置換のアルコキシ基、及び、アシル基からなる群より選ばれる1価の基を示す(R1及びR2は相互に結合して環を形成してもよい。)。イミン化合物は、1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。
イミン化合物は、1級アミンと、アルデヒド及び/又はケトンと、の脱水縮合により得られるものであることが好ましく、1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)アミノシクロヘキサンと、アルデヒド及び/又はケトンと、の脱水縮合により得られるものであることがより好ましい。このようなイミン化合物は、本実施形態の異性化方法の反応系中に添加されるものであっても、反応系中で作製されるものであってもよい。
1級アミンとしては、特に限定されないが、例えば、一般的に入手可能であり、得られるイミン化合物がアルカリ金属等に対して不活性な官能基を持つ置換基を有するものとなる化合物が挙げられる。1級アミンは、1種単独で用いても2種以上を併用してもよく、工業的にはプロセスを簡便にするために1種類を単独で用いることが好ましい。
アルデヒドとしては、特に限定されないが、例えば、一般的に入手可能であり、アルカリ金属等に対して不活性な官能基を持つ置換基を有する化合物が挙げられる。このようなアルデヒドとしては、特に限定されないが、例えば、下記一般式(6)で表される脂肪族アルデヒド、下記一般式(7)で表される芳香族アルデヒド、及び、下記一般式(8)で表される芳香族アルデヒドからなる群より選ばれる1種以上が挙げられる。このような化合物を用いることにより、得られる異性体のトランス体率又はシス体率、及び、異性化収率がより向上する傾向にある。
ケトンとしては、特に限定されないが、例えば、一般的に入手可能であり、アルカリ金属等に対して不活性な官能基を持つ置換基を有する化合物が挙げられる。このようなケトンとしては、特に限定されないが、例えば、脂肪族ケトン、芳香族ケトン、脂肪族芳香族ケトン、及び環状ケトンからなる群より選ばれる1種以上が挙げられる。このような化合物を用いることにより、得られる異性体のトランス体率又はシス体率、及び、異性化収率がより向上する傾向にある。ケトンは、1種単独で用いても2種以上を併用してもよく、工業的にはプロセスを簡便にするために1種類を単独で用いることが好ましい。
本実施形態の異性化方法においては、アルカリ金属、アルカリ金属含有化合物、アルカリ土類金属、及びアルカリ土類金属含有化合物からなる群より選ばれる1種以上の存在下で1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)アミノシクロヘキサンを異性化する。これらアルカリ金属等は、本実施形態の異性化方法において、異性化反応をより速やかに進行させることができる。これらアルカリ金属等は、1種単独で用いても2種以上を併用してもよい。
本実施形態の異性化方法は、触媒成分を除去する触媒成分除去工程、低沸点成分を除去する低沸点成分除去工程、高沸点成分を除去する高沸点成分除去工程、及び1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)アミノシクロヘキサンの異性体を蒸留する異性体分離工程等の精製工程を有していてもよい。なお、ここで、「触媒成分」とは、具体的にはイミン化合物及びアルカリ金属等が挙げられる。また、「低沸点成分」とは、1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)アミノシクロヘキサンの異性体よりも沸点の低い成分をいう。さらに、「高沸点成分」とは、1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)アミノシクロヘキサンの異性体よりも沸点の高い成分をいう。
触媒成分除去工程は、異性化工程後において、反応混合物中に存在する触媒成分を除去する工程である。本実施形態の異性化方法が触媒成分除去工程を有することにより、精製工程において副反応が進行することをより抑制することができる。触媒の除去方法としては、特に限定されないが、例えば、薄膜蒸留を用いることができる。このとき分離される触媒成分は、不活性化して分離することも可能であり、また活性な状態で分離することも可能である。活性な状態で分離された触媒成分は異性化反応の触媒として再度使用することも可能である。
低沸点成分除去工程は、異性化工程において、及び/又は、異性化工程の後に、1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)アミノシクロヘキサンの異性体よりも沸点の低い低沸点成分を除去する工程である。本実施形態の異性化方法が低沸点成分除去工程を有することにより、異性体の収率がより向上する傾向にある。低沸点成分の除去方法としては、特に限定されないが、例えば、1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)アミノシクロヘキサンの異性体の沸点以下の蒸留温度で蒸留を行うことにより、反応混合物から低沸点成分を除去する方法が挙げられる。
高沸点成分除去工程は、異性化工程後において、1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)アミノシクロヘキサンの異性体よりも沸点の高い高沸点成分を除去する工程である。高沸点成分の除去方法としては、特に限定されないが、例えば、下記異性体分離工程により、反応混合物から1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)アミノシクロヘキサンの異性体を蒸留により分離した後、反応混合物中に残存する高沸点成分を除去する方法が挙げられる。
異性体分離工程は、異性化工程において、及び/又は、異性化工程の後に、1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)アミノシクロヘキサンのうちのトランス体とシス体とを蒸留により分離する工程である。本実施形態の異性化方法が異性体分離工程を有することにより、異性体の収率がより向上する傾向にある。
異性体組成(シス/トランス比率)は、Valian社製のキャピラリーカラムであるCP−Volamineを取り付けたガスクロマトグラフィーを用いて分析した。イソホロンジアミンはトランス体の方がシス体よりも低沸点であり、ガスクロマトグラフィーで先に検出される異性体がトランス体、後に検出される異性体がシス体である。シス体比率は、シス体の面積値/(シス体の面積値+トランス体の面積値)×100で、トランス体比率は100−シス体比率で算出を行った。
異性化収率は、上記ガスクロマトグラフィー分析の内標法により算出した。
異性化収率(%)=(異性化反応後のイソホロンジアミン)/(異性化反応前のイソホロンジアミン)×100
4−メチルベンズアルデヒド、ナトリウムアミド、及びイソホロンジアミンは試薬として入手できるものを使用した。
500mLフラスコに、イソホロンジアミン(シス体:77.4%、トランス体:22.6%)200.8gと4−メチルベンズアルデヒド3.4gを測り取り、120℃で0.5時間撹拌した。撹拌後、8torr、130℃で減圧脱水を行った。脱水後、アルゴン雰囲気下でナトリウムアミド3.2gを添加し、常圧、120℃で4時間異性化反応を行った。4時間反応後の異性体比率はシス体:74.0%、トランス体:26.0%であった。また、4時間反応後の異性化収率は89%であった。異性体比率の経時変化について、図1に示した。
100mLフラスコに、イソホロンジアミン(シス体:90.9%、トランス体:9.1%)30.2gと4−メチルベンズアルデヒド0.52gを測り取り、120℃で0.5時間撹拌した。撹拌後、8torr、130℃で減圧脱水を行った。脱水後、アルゴン雰囲気下でナトリウムアミド0.59gを添加し、常圧、120℃で5時間異性化反応を行った。5時間反応後の異性体比率はシス体:83.4%、トランス体:16.6%であった。また、5時間反応後の異性化収率は88%であった。異性体比率の経時変化について、図1に示した。
Claims (10)
- 下記一般式(1)で表されるイミン化合物と、
アルカリ金属、アルカリ金属水素化物、アルカリ金属アミド、アルカリ金属塩基性酸化物、アルカリ金属アルコキシド、アルカリ土類金属、及び、アルカリ土類金属水素化物からなる群より選ばれる1種以上と、の存在下、
1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンを異性化する異性化工程を有する、
1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。
(上記一般式(1)中、R1及びR2は、各々独立して、水素原子、又は1〜20個の炭素原子を有する無置換の炭化水素基である1価の基を示し(R1及びR2は相互に結合して環を形成してもよい。)、R3は、水素原子、及び、置換又は無置換の炭化水素基からなる群より選ばれるn価の基を示し、nは1〜10の整数を示す。) - 前記R1及びR2で示される無置換の炭化水素基が、無置換の脂肪族炭化水素基、無置換の脂環族炭化水素基、及び、無置換の芳香族炭化水素基からなる群より選ばれる1価の基を含み、
前記R3で示される置換又は無置換の炭化水素基が、置換又は無置換の脂肪族炭化水素基、置換又は無置換の脂環族炭化水素基、及び、置換又は無置換の芳香族炭化水素基からなる群より選ばれるn価の基を含む、請求項1に記載の1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。 - 前記イミン化合物が、下記一般式(2a)で表される化合物、及び/又は、下記一般式(3a)で表される化合物を含む、請求項1〜3のいずれか1項に記載の1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。
(上記一般式(2a)中、R1及びR2は、各々独立して、水素原子、又は1〜20個の炭素原子を有する無置換の炭化水素基である1価の基を示す(R1及びR2は、相互に結合して環を形成してもよい。)。)
(上記一般式(3a)中、R1及びR2は、各々独立して、水素原子、又は1〜20個の炭素原子を有する無置換の炭化水素基である1価の基を示す(R1及びR2は、相互に結合して環を形成してもよい。)。) - 前記イミン化合物が、1級アミンと、アルデヒド及び/又はケトンと、の脱水縮合により得られるものである、請求項1〜4のいずれか1項に記載の1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。
- 前記イミン化合物が、前記1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンと、アルデヒド及び/又はケトンと、の脱水縮合により得られるものである、請求項1〜5のいずれか1項に記載の1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。
- 前記異性化工程において、及び/又は、前記異性化工程の後に、1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンうちのトランス体とシス体とを蒸留により分離する異性体分離工程を有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。
- 前記異性化工程における異性化反応温度が、100〜140℃である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。
- 前記異性化工程において、沸点が前記異性化反応温度以下の溶媒を用いる、請求項8に記載の1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。
- 前記異性化工程において、不活性ガスをバブリングする、請求項1〜9のいずれか1項に記載の1,3,3−トリメチル−1−(アミノメチル)−5−アミノシクロヘキサンの異性化方法。
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