JP6734955B2 - 接着シート、電子デバイス及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、ガスバリアフィルムと、このガスバリアフィルム上に形成された、水分遮断性に優れ、かつ、粘着力に優れる接着剤層を有する接着シート、前記接着シートの接着剤層により光電子変換素子等が封止されている電子デバイス、及び電子デバイスの製造方法に関する。

近年、有機ＥＬ素子が、低電圧直流駆動による高輝度発光が可能な発光素子として注目されている。
しかし、有機ＥＬ素子には、時間の経過とともに発光輝度、発光効率、発光均一性等の発光特性が低下し易いという問題があった。

この発光特性の低下の問題の原因として、酸素や水分等が有機ＥＬ素子の内部に浸入し、電極や有機層を劣化させることが考えられ、この問題を解決すべく、封止材を用いる方法がいくつか提案されている。
例えば、特許文献１には、ガラス基板上に薄膜状の透明電極及び背面電極によって挟持された有機物ＥＬ層を、耐湿性を有する光硬化性樹脂層（封止材）で被覆した有機ＥＬ素子が開示されている。また、特許文献２には、防湿性高分子フィルムと接着層により形成された封止フィルムを用いて、有機ＥＬ素子を封止する方法が開示されている。

有機ＥＬ素子の封止材料である接着剤や粘着剤としては、透明性等の光学特性の観点から、アクリル系の接着剤や粘着剤（以下、「アクリル系接着剤等」という）が提案されている。
例えば、特許文献３には、有機ＥＬディスプレイ用の封止剤として、紫外線硬化機能と室温硬化機能を有するアクリル系接着剤が開示されている。
特許文献４には、熱履歴を受けた後であっても、有機ＥＬ表示素子による光を、優れた伝播効率でディスプレイ表面に伝播することができる粘着剤層を形成し得る粘着剤として、アクリル系粘着剤が開示されている。

しかしながら、アクリル系接着剤等を用いて形成された封止材は、水分遮断性が十分ではないため、有機ＥＬ素子用の封止材のように、極めて高い水分遮断性が要求される封止材としては性能面で満足のいくものではなかった。
さらに、アクリル系接着剤等を用いて形成された封止材が架橋構造を有するものである場合には、衝撃、振動、発熱等により、封止材が被着体から剥離し易くなり、水分遮断性が大きく低下するおそれがあった。

また、近年、良好な水分遮断性を有する封止用接着剤として、ポリイソブチレン系樹脂を含有する接着剤が提案されている。
例えば、特許文献５には、有機ＥＬ素子の封入剤として用いられる、特定の水素添加環状オレフィン系ポリマーとポリイソブチレン樹脂を含有する接着性組成物が開示されている。

特開平５−１８２７５９号公報 特開平５−１０１８８４号公報 特開２００４−８７１５３号公報 特開２００４−２２４９９１号公報 特表２００９−５２４７０５号公報（ＷＯ２００７／０８７２８１号パンフレット）

特許文献５に記載のポリイソブチレン系樹脂を含有する接着性組成物を用いて得られる封止材は、アクリル系接着剤を用いた封止材に比べると良好な水分遮断性を有するものの、有機ＥＬ素子の封止材としては十分な水分遮断性を有していなかった。特に、有機ＥＬ素子等のように極めて高い水分遮断性が要求される場合には、封止材の界面や側面からの水分浸入を防止することが重要となるが、従来の接着性組成物を用いて得られる封止材では満足のいくものではなかった。また、この文献には、封止材上に積層されるフィルムの特性については特に言及されていない。

本発明は、かかる従来技術の実情に鑑みてなされたものであり、ガスバリアフィルムと、このガスバリアフィルム上に形成された、水分遮断性に優れ、かつ、粘着力に優れる接着剤層を有する接着シート、前記接着シートの接着剤層により光電子変換素子等が封止されている電子デバイス、及び電子デバイスの製造方法、を提供することを目的とする。

本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、イソブチレン・イソプレン共重合体を主成分として含有する接着剤組成物は、水分遮断性及び粘着力に優れるため、透明基板上に形成された光電変換素子等の封止材として好適であること、及び、特定のガスバリア性と透明性を備えるガスバリアフィルムと、このガスバリアフィルム上に、イソブチレン・イソプレン共重合体を主成分として含有する接着剤組成物から形成された接着剤層を有する接着シートは、水分遮断性、透明性、および粘着力に優れるため、透明基板上に形成された光電変換素子等の封止材として好適であることを見出し、本発明を完成するに至った。

かくして本発明によれば、下記（１）〜（７）の接着シート、下記（８）〜（９）の電子デバイス、（１０）の電子デバイスの製造方法の発明が提供される。

（１）ガスバリアフィルムと、前記ガスバリアフィルム上に形成された接着剤層を備え、前記ガスバリアフィルムは、基材フィルム上に、直接又はプライマー層を介してガスバリア層が形成されてなる積層フィルムであって、基材フィルム、１又は２以上のガスバリア層のみからなるガスバリアフィルム、又は、基材フィルム、プライマー層、１又は２以上のガスバリア層のみからなるガスバリアフィルムであり、前記ガスバリアフィルムは、温度４０℃、相対湿度９０％の環境下における水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下で、かつ、全光線透過率が８５％以上のものであり、前記接着剤層は、イソプレン由来の繰り返し単位の含有率が、全繰り返し単位に対して１〜１０モル％であるイソブチレン・イソプレン共重合体を主成分として含み、さらに、脂肪族系石油樹脂である粘着付与剤を、イソブチレン・イソプレン共重合体１００質量部に対して、５〜７０質量部含有する接着剤組成物からなることを特徴とする接着シート。

（２）前記接着剤層が、厚み６０μｍの場合、温度４０℃、相対湿度９０％環境下における水蒸気透過率が、５ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下のものであることを特徴とする（１）に記載の接着シート。
（３）前記接着剤層の、２０〜６０℃の貯蔵弾性率が１０^５〜１０^６Ｐａであることを特徴とする（１）又は（２）に記載の接着シート。
（４）前記接着剤層の、ガラス基板に対する粘着力が、３Ｎ／２５ｍｍ以上であることを特徴とする、（１）〜（３）のいずれかに記載の接着シート。
（５）前記接着剤層の、温度４０℃、相対湿度９０％の環境下における水蒸気透過率Ｘ（ｇ／ｍ^２／ｄａｙ）と、前記接着剤層の厚みＹ（μｍ）の積が、３００未満であることを特徴とする、（１）〜（４）のいずれかに記載の接着シート。
（６）前記ガスバリアフィルムが、基材フィルム上に、直接又はその他の層を介してガスバリア層が形成されてなる積層フィルムである、（１）〜（５）のいずれかに記載の接着シート。
（７）前記基材フィルムの厚みが、０．５〜５００μｍである、（６）に記載の接着シート。

（８）透明基板と、該透明基板上に形成された素子と、該素子を封止するための封止材とを備える電子デバイスであって、前記封止材が、（１）〜（７）のいずれかに記載の接着シートを用いて形成されたものであることを特徴とする電子デバイス。
（９）透明基板と、該透明基板上に形成された素子と、該素子を覆うように積層された接着シートを備える電子デバイスであって、該接着シートは、（１）〜（７）のいずれかに記載の接着シートであり、前記素子が、前記接着シートの接着剤層によって封止されていることを特徴とする電子デバイス。

（１０）透明基板と、前記透明基板上に形成された素子と、前記素子を覆うように積層された接着シートを備える電子デバイスの製造方法であって、透明基板上に形成された素子を覆うように、（１）〜（７）のいずれかに記載の接着シートの接着剤層を、前記素子及び透明基板上に貼り合わせる工程を有する、電子デバイスの製造方法。

本発明によれば、ガスバリアフィルムと、このガスバリアフィルム上に形成された、水分遮断性に優れ、かつ、粘着力に優れる接着剤層を有する接着シート、前記接着シートの接着剤層により光電子変換素子等が封止されている電子デバイス、及び電子デバイスの製造方法が提供される。

本発明の接着シートの層構成の一例を示す図である。 本発明の接着シートの層構成の一例を示す図である。 本発明の電子デバイスの一例を示す図である。 本発明の電子デバイスの一例を示す図である。

以下、本発明を、１）接着剤組成物、２）接着シート、並びに、３）電子デバイス及びその製造方法に項分けして詳細に説明する。

１）接着剤組成物
本発明に用いる接着剤組成物（以下、「接着剤組成物（Ａ）」ということがある。）は、電子デバイスを封止するための接着剤組成物であって、イソプレン由来の繰り返し単位の含有率が、全繰り返し単位に対して０．１〜９９モル％である、イソブチレン・イソプレン共重合体を主成分として含有することを特徴とする。
ここで、「イソブチレン・イソプレン共重合体を主成分とする」とは、イソブチレン・イソプレン共重合体の配合割合が、固形分として、接着剤組成物中、５０質量％以上であることを意味する。

接着剤組成物（Ａ）は、重合成分としてイソプレン由来の繰り返し単位を含み、イソプレン由来の繰り返し単位の含有率が上記範囲であるイソブチレン・イソプレン共重合体を主成分とすることで、優れた水分遮断性と粘着性とを両立した接着剤組成物となる。これにより、接着剤組成物（Ａ）は、電子デバイスの内部に酸素や水分等が浸入し、電極や有機層を劣化させることを防止することができる、電子デバイスの封止材として好適に用いられるものである。

用いるイソブチレン・イソプレン共重合体としては、上述の接着剤組成物（Ａ）の成分として用いるイソブチレン・イソプレン共重合体と同様のものが使用できる。
分子内に、イソブチレン由来の繰り返し単位〔−ＣＨ_２−ＣＨ（ＣＨ_３）_２−〕と、イソプレン由来の繰り返し単位〔−ＣＨ_２−Ｃ（ＣＨ_３）＝ＣＨ−ＣＨ_２−〕を有する合成ゴムである。イソブチレン・イソプレン共重合体中のイソプレン由来の繰り返し単位の含有率は、通常、全繰り返し単位に対して、０．１〜９９モル％であり、好ましくは０．５〜５０モル％、さらに好ましくは、１〜１０モル％である。

共重合体中のイソプレン由来の繰り返し単位が上記範囲であれば、水分遮断性に優れる接着剤組成物が得られる。この理由としては、詳細は不明であるが、イソプレン由来の骨格中の二重結合によるスタッキング作用によるものと推測される。
イソブチレン・イソプレン共重合体は、例えば、イソブチレンと少量のイソプレンを、塩化アルミニウムを触媒として、低温でカチオン共重合させて得ることが出来る。
イソブチレン・イソプレン共重合体は、本発明の効果を妨げない範囲で、その他のゴム成分が共重合されていてもよい。

イソブチレン・イソプレン共重合体の種類は特に限定されず、例えば、再生イソブチレン・イソプレン共重合体、合成イソブチレン・イソプレン共重合体などが挙げられる。これらの中でも、合成イソブチレン・イソプレン共重合体が好ましい。
イソブチレン・イソプレン共重合体は、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

用いるイソブチレン・イソプレン共重合体の数平均分子量は、通常１０万〜５００万、好ましくは１５万〜２００万、より好ましくは、２０万〜１００万である。
数平均分子量がこのような範囲にあるイソブチレン・イソプレン共重合体を用いることで、接着剤組成物（Ａ）の流動性が低くなり過ぎず、十分な粘着性が得られ、かつ一般的な有機溶剤に溶解し易いため、接着剤組成物（Ａ）を効率よく調製することができる。
なお、イソブチレン・イソプレン共重合体の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを行い、標準ポリスチレン換算値として求めることができる。

用いるイソブチレン・イソプレン共重合体のムーニー粘度は、好ましくは、３０〜６０（ＭＬ１＋４、１００℃）、３５〜５５（ＭＬ１＋４、１００℃）である。
本発明に用いるイソブチレン・イソプレン共重合体のムーニー粘度がこのような範囲であることで、一般的な有機溶剤に溶解し易いため、接着剤組成物（Ａ）を効率よく調製することができる。

イソブチレン・イソプレン共重合体の配合割合は、固形分として、接着剤組成物中、好ましくは５０〜９０質量％、より好ましくは６０〜８０質量％である。
イソブチレン・イソプレン共重合体をこのような配合割合で含有させることで、水分遮断性に優れ、かつ、粘着力に優れる接着剤層を形成する際に有用な接着剤組成物（Ａ）を得ることができる。

接着剤組成物（Ａ）には、本発明の効果を妨げない範囲で、その他のゴム系のポリマー成分を配合してあってもよい。
その他のゴム系のポリマー成分としては、天然ゴム（ＮＲ）、イソブチレンの単独重合体（ポリイソブチレン、ＩＭ）、イソブチレンとｎ−ブテンの共重合体、ブタジエンの単独重合体（ブタジエンゴム、ＢＲ）、クロロプレンの単独重合体（クロロプレンゴム、ＣＲ）、イソプレンの単独重合体（イソプレンゴム、ＩＲ）、イソブチレンとブタジエンの共重合体、イソブチレンとイソプレンの共重合体（ブチルゴム、ＩＩＲ）、ハロゲン化ブチルゴム、スチレンと１，３−ブタジエンの共重合体（スチレンブタジエンゴム、ＳＢＲ）、アクリロニトリルと１，３−ブタジエンの共重合体（ニトリルゴム）、スチレン−１，３−ブタジエン−スチレンブロック共重合体（ＳＢＳ）、スチレン−イソプレン−スチレンブロック共重合体（ＳＩＳ）、エチレン−プロピレン−非共役ジエン三元共重合体等が挙げられる。

接着剤組成物（Ａ）は、前記イソブチレン・イソプレン共重合体に加えて、粘着付与剤を含有することが好ましい。
粘着付与剤を含有させることで、水分遮断性により優れ、かつ、粘着力により優れる接着剤層を形成する際に有用な接着剤組成物（Ａ）を得ることができる。

粘着付与剤としては、接着剤層の粘着性を向上させるものであれば特に限定されず、公知のものを用いることができる。例えば、脂環族系石油樹脂、脂肪族系石油樹脂、テルペン樹脂、エステル系樹脂、クマロン−インデン樹脂、ロジン系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂、ブチラール樹脂、オレフィン樹脂、塩素化オレフィン樹脂、酢酸ビニル樹脂、及びこれらの変性樹脂又は水素添加された樹脂等が挙げられ、これらの中でも、好ましくは、脂肪族系石油樹脂、テルペン樹脂、ロジンエステル系樹脂、ロジン系樹脂等が挙げられる。
これらの中でも、高温湿熱下であっても変色しにくい接着剤層を形成し得ることから、水素添加された樹脂が好ましい。水素添加された樹脂は、部分水添物であっても、完全水添物であっても良い。

粘着付与剤の重量平均分子量は、好ましくは、１００〜１０，０００、より好ましくは５００〜５，０００である。
粘着付与剤の軟化点は、好ましくは、５０〜１６０℃、より好ましくは６０〜１４０℃、さらに好ましくは７０〜１３０℃である。

また、粘着付与剤として、市販品をそのまま使用することもできる。例えば、市販品としては、エスコレッツ１０００シリーズ（エクソン化学社製）、クイントンＡ、Ｂ、Ｒ、ＣＸシリーズ（日本ゼオン社製）等の脂肪族系石油樹脂；アルコンＰ、Ｍシリーズ（荒川化学社製）、ＥＳＣＯＲＥＺシリーズ（エクソン・ケミカル社製）、ＥＡＳＴＯＴＡＣシリーズ（イーストマン・ケミカル社製）、ＩＭＡＲＶシリーズ（出光興産社製）等の脂環族系石油樹脂；ＹＳレジンＰ、Ａシリーズ（安原油脂社製）、クリアロンＰシリーズ（ヤスハラ・ケミカル製）、ピコライトＡ、Ｃシリーズ（ハーキュレス社製）等のテルペン系樹脂；フォーラルシリーズ（ハーキュレス社製）、ペンセルＡシリーズ、エステルガム、スーパー・エステル、パインクリスタル（荒川化学工業社製）等のエステル系樹脂；等が挙げられる。

接着剤組成物（Ａ）が粘着付与剤を含有する場合、その配合割合は、イソブチレン・イソプレン共重合体１００質量部に対して、通常５〜１００質量部、好ましくは１０〜７０質量部である。
粘着付与剤の配合量が、イソブチレン・イソプレン共重合体１００質量部に対して、５質量部以上であることで、粘着性により優れる接着剤層を効率よく形成することができ、７０質量部以下であることで、接着剤層の凝集力の低下を避けることができる。

接着剤組成物（Ａ）には、本発明の効果を妨げない範囲で、その他の成分を配合することができる。
その他の成分としては、シランカップリング剤、帯電防止剤、光安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、樹脂安定剤、充填剤、顔料、増量剤、軟化剤等の添加剤が挙げられる。
これらは、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
その他の成分を配合する場合、それぞれの配合量は、接着剤組成物中、好ましくは０．０１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２質量％である。

接着剤組成物（Ａ）は、上記イソブチレン・イソプレン共重合体、及び、必要に応じて、粘着剤付与剤、その他の成分や溶媒を、常法に従って適宜混合・攪拌することにより調製することができる。

溶媒としては、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素系溶媒；等が挙げられる。
これらの溶媒は、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

接着剤組成物（Ａ）の固形分濃度は、好ましくは１０〜６０質量％、より好ましくは１０〜４５質量％、さらに好ましくは１５〜３０質量％である。

接着剤組成物（Ａ）によれば、水蒸気遮断性及び粘着性に優れる接着剤層を形成することができる。
接着剤組成物（Ａ）を用いて形成される、厚みが６０μｍの接着剤層の、温度４０℃、相対湿度９０％の環境下における水蒸気透過率は、好ましくは１０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下、より好ましくは８ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下、さらに好ましくは、５ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下である。
接着剤層の水蒸気透過率は、実施例に記載された方法で測定することができる。
接着剤組成物を用いて形成される、厚みが６０μｍの接着剤層の水蒸気透過率がこのような範囲にあることで、電子デバイス用の封止材として、水蒸気の侵入をより効果的に抑制できる。
なお、接着剤層の水蒸気透過率の値は、接着剤層の厚みに依存するため、接着剤層の厚みが６０μｍでない場合には、厚みから換算して求めることができる。例えば、厚みがＡμｍで、水蒸気透過率がＢ（ｇ／ｍ^２／ｄａｙ）の接着剤層の場合、厚みが６０μｍの時の水蒸気透過率は、Ａ×Ｂ／６０という式に当てはめて換算して求めることができる。

本発明に用いる接着剤組成物を用いて形成された接着剤層の、２０〜６０℃の貯蔵弾性率は、好ましくは１０^５〜１０^６Ｐａである。
貯蔵弾性率がこのような範囲にあることで、透明基板上に形成された素子等に十分に密着し、水蒸気の侵入をより効果的に抑制できる。
貯蔵弾性率は、公知の動的粘弾性測定装置を使用して測定し求めることができる。

接着剤組成物（Ａ）によれば、優れた接着力を有する接着剤層を形成することができる。接着剤組成物（Ａ）を用いて形成される接着剤層の、温度４０℃、相対湿度９０％の環境下における水蒸気透過率Ｘ（ｇ／ｍ^２／ｄａｙ）と、前記前記接着剤層の厚みＹ（μｍ）の積は、３００未満であることが好ましく、より好ましくは１０〜３００、さらに好ましくは１００〜２００である。

前記水蒸気透過率Ｘと接着剤層の厚みＹの積を特定の範囲とすることで、例えば、接着剤組成物を用いて透明基板上に形成された素子を封止し、後述の図２に示す電子デバイス得た場合に、接着剤層の側面からの水蒸気の侵入を効果的に抑制することができる。
前記水蒸気透過率Ｘと接着剤層の厚みＹの積が３００を超えると、接着剤層の厚み方向（側面）から水蒸気の侵入し、光電変換素子が劣化する可能性がある。前記水蒸気透過率Ｘと接着剤層の厚みＹの積が小さすぎると、十分な粘着性が得られず、水蒸気遮断性が低下するおそれがある。

接着剤組成物（Ａ）を用いて形成される接着剤層が良好な粘着力を有することは、粘着力を測定することで示される。
接着剤組成物（Ａ）を用いて形成される接着剤層の、ガラス基板に対する粘着力は、好ましくは１Ｎ／２５ｍｍ以上、より好ましくは２Ｎ／２５ｍｍ以上、さらに好ましくは３Ｎ／２５ｍｍ以上、特に好ましくは５Ｎ／２５ｍｍ以上、最も好ましくは１０Ｎ／２５ｍｍ以上である。
粘着力がこのような範囲にあることで、透明基板に十分に密着し、水蒸気の侵入をより効果的に抑制できる。
接着剤層の粘着力は、実施例に記載された方法で測定することができる。
接着剤組成物（Ａ）は、透明基板上に形成された素子の封止材や、後述する本発明接着シートの製造原料としても有用である。

２）接着シート
本発明の接着シートは、電子デバイスの封止材として用いられるものであって、ガスバリアフィルムと、該ガスバリアフィルム上に形成された接着剤層を備えるもの〔接着シート（Ｂ）〕である。
本発明の接着シートの接着剤層は、本発明の接着剤組成物を用いて形成されたものである。

〔接着シート（Ａ）〕
接着シート（Ａ）は、少なくとも、剥離シートと、該剥離シート上に形成された接着剤層を有するものであれば、その層構成に特に制限されない。例えば、２枚の剥離シートの剥離面と接するように、前記剥離シートに挟持された接着剤層を備えるものや、剥離シートと該剥離シート上に形成された接着剤層からなる層構造単位が複数積層された層構成を有するものなどが挙げられる。

接着シート（Ａ）の一例を図１に示す。図１に示す接着シート１０Ａは、２枚の剥離シート２ａ（第１の剥離シート）、２ｂ（第２の剥離シート）と、前記２枚の剥離シートの剥離面と接するように、前記剥離シートに挟持された接着剤層１ａとを備える。接着剤層１ａは、前記接着剤組成物（Ａ）を用いて形成されたものである。
接着シート（Ａ）の接着剤層は、接着剤組成物（Ａ）を用いて形成されたものであるため、十分な凝集力を有し、水分遮断性により優れ、かつ、粘着力により優れる。

接着シート１０Ａを構成する剥離シートは、特に限定されず、例えば、基材上に、剥離剤により剥離処理された剥離層を有するものを用いることができる。なお、接着シート（Ａ）が、２枚以上の剥離シートを有する場合、該２枚以上の剥離シートは、同一の素材からなるものであっても、異なる素材からなるものであってもよい。

剥離シート用の基材としては、グラシン紙、コート紙、上質紙等の紙基材；これらの紙基材にポリエチレン等の熱可塑性樹脂をラミネートしたラミネート紙；ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリブチレンテレフタレート樹脂、ポリエチレンナフタレート樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリエチレン樹脂等のプラスチックフィルム；等が挙げられる。
剥離剤としては、シリコーン系樹脂、オレフィン系樹脂、イソプレン系樹脂、ブタジエン系樹脂等のゴム系エラストマー、長鎖アルキル系樹脂、アルキド系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられる。

また、剥離シートは、基材の両面に剥離層が形成された両面剥離シートであっても、基材の片面に剥離層が形成された片面剥離シートであってもよい。
剥離シートの厚みは、特に制限されないが、通常２０〜２００μｍ、好ましくは２５〜１５０μｍである。

接着剤層を形成する方法は特に制限されない。例えば、接着剤組成物（Ａ）を、公知の方法により、剥離シートの剥離処理面や封止用基板上に塗工し、得られた塗膜を乾燥することで、接着剤層を形成する方法が挙げられる。

接着剤組成物（Ａ）を塗工する方法としては、例えば、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等が挙げられる。
塗膜を乾燥するときの乾燥条件としては、例えば８０〜１５０℃で３０秒〜５分間が挙げられる。

接着剤層の厚みは、特に限定されず、用途に合わせて適宜決定することができる。接着剤層の厚みは、好ましくは０．５〜２００μｍ、より好ましくは１〜１００μｍ、さらに好ましくは５〜８０μｍである。接着剤層の厚みが０．５μｍ以上であれば、より優れた粘着性が発揮され易く、接着剤層の厚みが１００μｍ以下であれば、接着剤層を生産性よく形成することができる。

接着剤層を形成した後、該接着シート上に第２の剥離シートを、接着剤層を介して第２の剥離シートの剥離層と対向するように重ね合わせることで、目的とする接着シート（Ａを得ることができる。

以上のようにして得られる接着シート（Ａ）の接着剤層は、水分遮断性に優れ、かつ、粘着力に優れる。したがって、この接着剤層を封止材として用いた場合、水分の浸入を十分に防ぐことができ、さらに、デバイスの駆動時に発熱したり振動したりする場合であっても、接着界面で乖離しにくいため、長期間にわたり水分等の浸入を防ぐことができる。
したがって、接着シート（Ａ）は、後述する電子デバイスの封止材の形成に好ましく用いることができる。
接着シート（Ａ）は、透明基板上に形成された有機ＥＬ等の素子内部に酸素や水分等が浸入し、電極や有機層を劣化させることを防止することができる、素子の封止材として用いられるものである。

〔接着シート（Ｂ）〕
本発明の接着シート（Ｂ）は、電子デバイスの封止材として用いられるものであって、ガスバリアフィルムと、該ガスバリアフィルム上に形成された接着剤層を備えるものである。

（１）ガスバリアフィルム
接着シート（Ｂ）に用いるガスバリアフィルムは、温度４０℃、相対湿度９０％（以下、「９０％ＲＨ」と略記する。）の環境下における水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下、好ましくは、０．０５ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下、より好ましくは、０．００５ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下である。
用いるガスバリアフィルムの温度４０℃、９０％ＲＨの環境下における水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることで、透明基板上に形成された有機ＥＬ素子等の素子内部に酸素や水分等が浸入し、電極や有機層が劣化することを効果的に抑制することができる。
ガスバリアフィルムの水蒸気等の透過率は、公知のガス透過率測定装置を使用して測定することができる。

また、接着シート（Ｂ）に用いるガスバリアフィルムは、全光線透過率が８０％以上、好ましくは８５％以上のものである。
用いるガスバリアフィルムの全光線透過率が８０％以上であることで、素子への入射光や素子からの発光が損なわれることが少ないため、本発明の接着シートを、透明性が要求される、透明基板上に形成された素子の封止材として用いることができる。
全光線透過率は、実施例に記載した方法により測定して求めることが出来る。

用いるガスバリアフィルムとしては、温度４０℃、９０％ＲＨ環境下における水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下で、かつ、全光線透過率が８０％以上のものであれば、特に制限されない。例えば、基材フィルム上に、直接又はその他の層を介してガスバリア層が形成されてなる積層フィルム等、公知のものを使用することができる。

用いる基材フィルムとしては、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系ポリマー、芳香族系重合体、ポリウレタン系ポリマー等の樹脂製のフィルムを用いることができる。
基材フィルムの厚みは、特に制限はないが、取り扱い易さの観点から、好ましくは０．５〜５００μｍ、より好ましくは１〜２００μｍ、さらに好ましくは５〜１００μｍである。

ガスバリア層は、所望のガスバリア性を付与することができれば、材質等は特に限定されない。例えば、無機膜、高分子化合物を含む層にイオンを注入して得られるガスバリア層等が挙げられる。
これらの中でも、厚みが薄く、ガスバリア性に優れる層を効率よく形成できることから、ガスバリア層は、無機膜からなるガスバリア層、及び高分子化合物を含む層にイオンを注入して得られるガスバリア層が好ましい。

無機膜としては、特に制限されず、例えば、無機蒸着膜が挙げられる。
無機蒸着膜としては、無機化合物や金属の蒸着膜が挙げられる。
無機化合物の蒸着膜の原料としては、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化スズ等の無機酸化物；窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化チタン等の無機窒化物；無機炭化物；無機硫化物；酸化窒化ケイ素等の無機酸化窒化物；無機酸化炭化物；無機窒化炭化物；無機酸化窒化炭化物等が挙げられる。
金属の蒸着膜の原料としては、アルミニウム、マグネシウム、亜鉛、及びスズ等が挙げられる。

高分子化合物を含む層（以下、「高分子層」ということがある）にイオン注入して得られるガスバリア層において、用いる高分子化合物としては、ポリオルガノシロキサン、ポリシラザン系化合物等のケイ素含有高分子化合物、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系ポリマー、芳香族系重合体等が挙げられる。これらの高分子化合物は１種単独で、あるいは２種以上を組合せて用いることができる。
これらの中でも、優れたガスバリア性を有するガスバリア層を形成できる観点から、ケイ素含有高分子化合物が好ましく、ポリシラザン系化合物がより好ましい。
ポリシラザン系化合物は、ガラスコーティング材等として市販されている市販品をそのまま使用することもできる。
ポリシラザン系化合物は１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
前記高分子層は、上述した高分子化合物の他に、本発明の目的を阻害しない範囲で他の成分を含んでいてもよい。他の成分としては、硬化剤、他の高分子、老化防止剤、光安定剤、難燃剤等が挙げられる。

高分子層を形成する方法としては、例えば、高分子化合物の少なくとも一種、所望により他の成分、及び溶剤等を含有する層形成用溶液を、スピンコーター、ナイフコーター、グラビアコーター等の公知の装置を使用し、塗布し、得られた塗膜を適度に乾燥して形成する方法が挙げられる。

高分子層に注入されるイオンとしては、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガスのイオン；フルオロカーボン、水素、窒素、酸素、二酸化炭素、塩素、フッ素、硫黄等のイオン；
メタン、エタン等のアルカン系ガス類のイオン；エチレン、プロピレン等のアルケン系ガス類のイオン；ペンタジエン、ブタジエン等のアルカジエン系ガス類のイオン；アセチレン等のアルキン系ガス類のイオン；ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素系ガス類のイオン；シクロプロパン等のシクロアルカン系ガス類のイオン；シクロペンテン等のシクロアルケン系ガス類のイオン；金属のイオン；有機ケイ素化合物のイオン；等が挙げられる。
これらのイオンは１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、より簡便にイオンを注入することができ、特に優れたガスバリア性を有するガスバリア層が得られることから、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン等の希ガスのイオンが好ましい。

イオンを注入する方法としては、特に限定されない。例えば、電界により加速されたイオン（イオンビーム）を照射する方法、プラズマ中のイオンを注入する方法等が挙げられ、簡便にガスバリア性のフィルムが得られることから、後者のプラズマイオンを注入する方法が好ましい。

ガスバリアフィルムは、保護層、導電体層、プライマー層等のその他の層をさらに有していてもよい。これらの層が積層される位置は、特に限定されない。

ガスバリアフィルムの厚みは特に制限されないが、ガスバリア性と取り扱い性の観点から、通常、１０〜２０００ｎｍ、好ましくは２０〜１０００ｎｍ、より好ましくは３０〜５００ｎｍ、さらに好ましくは４０〜２００ｎｍの範囲である。
ガスバリア層は、単層であっても、複数層であってもよい。

（２）接着剤層
接着シート（Ｂ）は、前記ガスバリアフィルム上に、イソブチレン・イソプレン共重合体を主成分とする接着剤組成物（以下、「接着剤組成物（Ｂ）」ということがある。）から形成された接着剤層を有する。

ここで、「イソブチレン・イソプレン共重合体を主成分とする」とは、イソブチレン・イソプレン共重合体の配合割合が、固形分として、接着剤組成物中、５０質量％以上であることを意味する。
イソブチレン・イソプレン共重合体をこのような配合割合で含有させることで、水分遮断性、透明性及び粘着力のすべてに優れる接着剤層を形成する際に有用な接着剤組成物を得ることができる。すなわち、この接着剤層を、透明基板上に形成された素子の封止材として用いた場合、水分の浸入を十分に防ぐことができ、さらに、光電変換素子への入射光や光電変換素子からの発光が損なわれることが少なく、接着界面で乖離しにくいため、長期間にわたり水分等の浸入を防ぐことができる。

ここで用いるイソブチレン・イソプレン共重合体としては、上述の接着剤組成物（Ａ）の主成分として用いるイソブチレン・イソプレン共重合体と同様のものが挙げられる。
イソブチレン・イソプレン共重合体の配合割合は、固形分として、接着剤組成物中、好ましくは５０〜９０質量％、より好ましくは６０〜８０質量％である。
イソブチレン・イソプレン共重合体をこのような配合割合で含有させることで、水分遮断性に優れ、かつ、粘着力に優れる接着剤層を形成する際に有用な接着剤組成物（Ｂ）を得ることができる。

本発明に用いる接着剤組成物には、本発明の効果を妨げない範囲で、その他のゴム系のポリマー成分を配合してあってもよい。
その他のゴム系のポリマー成分としては、上述の接着剤組成物（Ａ）の成分として用いるゴム系のポリマー成分と同様のものが挙げられる。

接着剤組成物（Ｂ）は、前記イソブチレン・イソプレン共重合体に加えて、粘着付与剤を含有することが好ましい。
粘着付与剤を含有させることで、水分遮断性、透明性、および粘着力により優れる接着剤層を形成する際に有用な接着剤組成物を得ることができる。

粘着付与剤としては、上述の接着剤組成物（Ａ）に含有させる粘着付与剤と同様のものが挙げられる。
接着剤組成物（Ｂ）が粘着付与剤を含有する場合、その配合割合は、イソブチレン・イソプレン共重合体１００質量部に対して、通常５〜１００質量部、好ましくは、１０〜７０質量部である。
粘着付与剤の配合量が、イソブチレン・イソプレン共重合体１００質量部に対して、５質量部以上であることで、粘着性により優れる接着剤層を効率よく形成することができ、７０質量部以下であることで、接着剤層の凝集力の低下を避けることができる。

また、接着剤組成物（Ｂ）には、本発明の効果を妨げない範囲で、その他の成分を配合することができる。
その他の成分としては、上述の接着剤組成物（Ａ）に含有させることができるその他の成分と同様のものが挙げられる。
その他の成分を配合する場合、それぞれの配合量は、接着剤組成物（Ｂ）中、好ましくは０．０１〜５質量％、より好ましくは０．０１〜２質量％である。

接着剤組成物（Ｂ）は、上記イソブチレン・イソプレン共重合体、及び、必要に応じて、粘着付与剤、その他の成分や溶媒を、常法に従って適宜混合・攪拌することにより調製することができる。

溶媒としては、ベンゼン、トルエンなどの芳香族炭化水素系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタンなどの脂肪族炭化水素系溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサンなどの脂環式炭化水素系溶媒；等が挙げられる。
これらの溶媒は、１種単独で、あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。

得られる接着剤組成物の固形分濃度は、好ましくは１０〜６０質量％、より好ましくは１０〜４５質量％、さらに好ましくは１５〜３０質量％である。

接着剤層の厚みは、好ましくは０．５〜２００μｍ、より好ましくは１〜１００μｍ、さらに好ましくは５〜８０μｍである。接着剤層の厚みが０．５μｍ以上であれば、より優れた粘着性が発揮され易く、接着剤層の厚みが２００μｍ以下であれば、接着剤層を生産性よく形成することができる。

本発明の接着シート（Ｂ）は、少なくともガスバリアフィルムと、前記ガスバリアフィルム上に形成された接着剤層を備えるものであればよく、ガスバリアフィルム及び／又は接着剤層をそれぞれ２層以上有するものであってもよい。

接着シート（Ｂ）としては、例えば、図２（ａ）に示すように、ガスバリアフィルム３ａと、該ガスバリアフィルム３ａ上に形成された接着剤層１ｂからなる接着シート１０Ｂや、図２（ｂ）に示すように、図２（ａ）に示す接着シートを２枚積層した構成を有する接着シート１０Ｃ、図２（ａ）の接着シートの接着剤層上に剥離シート２ｃが積層された接着シート１０Ｄなどが挙げられる。本発明の接着シート（Ｂ）は、図２に示すものに限られない。例えば、図２（ａ）に示す接着シートを３枚以上積層した構成を有するものであってもよい。

接着シート（Ｂ）の接着剤層が良好な粘着力を有することは、粘着力を測定することで示される。
粘着力は、例えば、２３℃、５０％ＲＨの環境下でガラス基板に接着シートを貼付後、そのまま２４時間放置してから測定した場合、ガラス基板に対する粘着力は、好ましくは３Ｎ／２５ｍｍ以上、より好ましくは５Ｎ／２５ｍｍ以上、さらに好ましくは１０Ｎ／２５ｍｍ以上である。
接着剤層のガラス基板に対する粘着力がこのような範囲にあることで、ガラス板等の透明基板上と十分な密着性が得られ、効果的に光電変換素子を封止することができる。
また、接着剤層のポリエチレンテレフタレートフィルムに対する粘着力は、好ましくは０．５Ｎ／２５ｍｍ以上、より好ましくは１Ｎ／２５ｍｍ以上、さらに好ましくは５Ｎ／２５ｍｍ以上である。接着剤層のポリエチレンテレフタレートフィルムに対する粘着力がこのような範囲にあることで、例えば、ガスバリアフィルムと接着剤層の十分な密着性が得られ、ガスバリアフィルムと接着剤層の界面から水蒸気の侵入することをより効果的に抑制できる。

接着剤組成物（Ｂ）を用いて形成される接着剤層の、厚み６０μｍの場合の、温度４０℃、相対湿度９０％の環境下における水蒸気透過率は、１０ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であることが好ましい。より好ましくは８ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下、さらに好ましくは、５ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下である。
水蒸気透過率は、実施例に記載のされた方法で測定することができる。
接着剤層の水蒸気透過率がこのような範囲にあることで、透明基板上に形成された光電変換素子の封止材として、水蒸気の侵入をより効果的に抑制できる。
なお、接着剤層の水蒸気透過率の値は、接着剤層の厚みに依存するため、接着剤層の厚みが６０μｍでない場合には、厚みから換算して求めることができる。例えば、厚みがＡμｍで、水蒸気透過率がＢ（ｇ／ｍ^２／ｄａｙ）の接着剤層の場合、厚みが６０μｍの時の水蒸気透過率は、Ａ×Ｂ／６０という式に当てはめて換算して求めることができる。

また、接着シート（Ｂ）の接着剤層の、温度４０℃、相対湿度９０％の環境下における水蒸気透過率Ｘ（ｇ／ｍ^２／ｄａｙ）と、前記前記接着剤層の厚みＹ（μｍ）の積が、３００未満であることが好ましく、より好ましくは１０〜３００、さらに好ましくは１００〜２００である。
前記ＸとＹの積が３００未満であることで、透明基板上に形成された光電変換素子を、接着剤組成物を用いて封止した時に、接着剤層の側面からの水蒸気の侵入を効果的に抑制することができる。前記水蒸気透過率Ｘと接着剤層の厚みＹの積が３００を超えると、接着剤層の厚み方向（側面）から水蒸気の侵入し、光電変換素子が劣化する可能性がある。前記水蒸気透過率Ｘと接着剤層の厚みＹの積が小さすぎると、十分な粘着性が得られず、水蒸気遮断性が低下するおそれがある。

（３）接着シート（Ｂ）の製造方法
接着シート（Ｂ）は、公知の方法で製造することができる。例えば、図２（ａ）に示す接着シート１０Ｂは、次のようにして製造することができる。

（ｉ）製造方法１
先ず、ガスバリアフィルム３ａを用意し、このガスバリアフィルム３ａ上に、接着剤組成物（Ｂ）を公知の方法により塗工し、得られた塗膜を乾燥して、接着剤層１ｂを形成することで、目的とする接着シート１０Ｂを得ることができる。
また、接着剤層を形成した後、得られた接着シートの接着剤層を保護するために、該接着剤層上に剥離シート２ｃを積層することにより、図２（ｃ）に示す剥離シート付の接着シート１０Ｄを得ることができる。

接着剤組成物（Ｂ）を塗工する方法としては、例えば、スピンコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法等が挙げられる。
塗膜を乾燥するときの乾燥条件としては、例えば８０〜１５０℃で３０秒〜５分間が挙げられる。
乾燥処理を行った後、そのまま１週間程度静置し、接着剤層を養生させてもよい。

また、用いる剥離シートとしては、上述した接着シート１０Ａの製造に用いることができる剥離シートと同様のものが挙げられる。

（ｉｉ）製造方法２
また、接着シート（Ｂ）は次の方法によっても得ることができる。
先ず、一方の面が剥離剤により剥離処理された剥離シートを用意し、該剥離シートの剥離処理面上に、製造方法１と同様にして、上述した公知の方法により、前記接着剤組成物を塗工し、得られた塗膜を乾燥して、接着剤層を形成することで、剥離シート付接着剤層を得る。次いで、得られた剥離シート付接着剤層とガスバリアフィルムとを積層して、図２（ｃ）に示す剥離シート付の接着シート１０Ｄを得ることもできる。

以上のようにして得られる接着シート（Ｂ）は、ガスバリア性と透明性に優れるガスバリアフィルムと、水分遮断性、透明性、および粘着力に優れる接着剤層とを有する。
したがって、本発明の接着シートは、透明基板上に形成された素子内部に酸素や水分等が浸入し、電極や素子を劣化させることを防止することができる、透明基板上に形成された素子の封止材として好適に用いることができる。

接着シート（Ｂ）を構成する接着剤層は、上記のように水分遮断性、透明性及び粘着力に優れるものであるため、本発明の接着シートは、後述する電子デバイスの封止に好ましく用いることができる。
接着剤層の粘着力と水分遮断性に優れるため、ガスバリアフィルムの性能を十分に発揮させ、透明基板上に形成された素子を封止することができる。
本発明の接着シート（Ｂ）は、透明基板上に形成された有機ＥＬ等の素子内部に酸素や水分等が浸入し、電極や有機層を劣化させることを防止することができる、素子の封止材として用いられるものである。

３）電子デバイス
本発明の電子デバイスは、透明基板と、該透明基板上に形成された素子と、該素子を封止するための封止材とを備える電子デバイスであって、前記封止材が、本発明の接着剤組成物（Ａ）からなることを特徴とするもの〔電子デバイス（Ａ）〕、又は、透明基板と、該透明基板上に形成された素子と、該素子を覆うように積層された接着シートとを備える電子デバイスであって、前記接着シートは、ガスバリアフィルムと、前記ガスバリアフィルム上に形成された接着剤層を備え、該接着剤層が、イソブチレン・イソプレン共重合体を主成分として含む組成物からなるものであり、前記ガスバリアフィルムは、温度４０℃、相対湿度９０％環境下における水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であり、かつ、全光線透過率が８０％以上であるものであって、前記接着剤層によって、前記素子が封止されていることを特徴とするもの〔電子デバイス（Ｂ）〕である。

電子デバイスとしては、有機トランジスタ、有機メモリー、有機ＥＬ素子等の有機デバイス；液晶ディスプレイ；電子ペーパー；薄膜トランジスタ；エレクトロクロミックデバイス；電気化学発光デバイス；タッチパネル；太陽電池；熱電変換デバイス；圧電変換デバイス；蓄電デバイス；等が挙げられる。

素子としては、電気エネルギーを光に変換する素子（発光ダイオード、半導体レーザー等）や、逆に光を電気エネルギーに変換する素子（フォトダイオード、太陽電池等）である光電変換素子；有機ＥＬ素子等の発光素子；などが挙げられる。
透明基板上に形成される素子の、種類や大きさ、形状、個数等は、本発明の接着剤組成物により封止されるものであれば、特に制限されない。

素子が形成される透明基板は、特に限定されるものではなく、種々の基板材料を用いることができる。特に可視光の透過率が高い基板材料を用いることが好ましい。また、素子外部から侵入しようとする水分やガスを阻止する遮断性能が高く、耐溶剤性や耐候性に優れている材料が好ましい。具体的には、石英やガラスなどの透明無機材料；ポリエチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタラート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリフェニレンスルフィド、ポリフッ化ビニリデン、アセチルセルロース、ブロム化フェノキシ、アラミド類、ポリイミド類、ポリスチレン類、ポリアリレート類、ポリスルホン類、ポリオレフィン類などの透明プラスチック；が挙げられる。
透明基板の厚さは特に制限されず、光の透過率や、素子内外を遮断する性能を勘案して、適宜選択することができる。

また、透明基板上には、透明導電層が設けられていてもよい。透明電極層のシート抵抗は、５００Ω／□以下であることが好ましく、１００Ω／□以下であることがさらに好ましい。
透明導電層を形成する材料としては、公知の材料を用いることができる、具体的には、インジウム−スズ複合酸化物（ＩＴＯ）、フッ素がドープされた酸化スズ（ＩＶ）ＳｎＯ_２ （ＦＴＯ）、酸化スズ（ＩＶ）ＳｎＯ_２ 、酸化亜鉛（ＩＩ）ＺｎＯ、インジウム−亜鉛複合酸化物（ＩＺＯ）などが挙げられる。
これらの材料は、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。

〔電子デバイス（Ａ）〕
本発明の電子デバイス（Ａ）は、透明基板と、該透明基板上に形成された素子と、該素子を封止するための封止材とを備える電子デバイスであって、前記封止材が、本発明の接着剤組成物（Ａ）からなることを特徴とする。

本発明の電子デバイス（Ａ）の例として、有機ＥＬ素子の構造断面図を図３に示す。
有機ＥＬ素子２０Ａは、ガラス基板１１上に構造体１２が形成された構造を有する。構造体１２は、透明電極、正孔輸送層、発光層及び背面電極等（図示を省略する。）が積層されたものである。そして、この構造体１２及びガラス基板１１上に、接着剤層１０Ａ及び封止用基板４が積層されている。
有機ＥＬ素子の構造体１２は接着剤層１０Ａで覆われているため、水分等の浸入が抑制される。また、接着剤層１０Ａは粘着力に優れるため、接着剤層１０Ａと封止用基板４の界面や、接着剤層１０Ａと構造体１２の界面が剥離しにくいため、界面からの水分等の浸入が抑制される。

電子デバイス（Ａ）は、例えば、次のようにして製造することができる。まず、剥離シートと該剥離シート上に形成された接着剤層を有する接着シート〔本発明の接着シート（Ａ）〕を用意する。接着シート（Ａ）の接着剤層は、本発明の接着剤組成物（Ａ）から形成されたものである。次いで、接着シート（Ａ）の接着剤層を被着体（有機ＥＬ素子等の光素子）を覆うように貼着することで、被着体との密着性及び水分遮断性に優れ、封止材として機能する接着剤層を被着体表面に配置することができる。その後、剥離シートを除去し、露出している接着剤層上に封止用基板４を積層することで、被着体との密着性及び水分遮断性に優れ、封止材として機能し得る接着剤層を被着体表面に配置することができる。

封止用基板４としては、ガラス板、プラスチックフィルム等の公知のものを利用することができる。
プラスチックフィルムとしては、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリオレフィン、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルフォン、ポリエーテルスルフォン、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、アクリル系樹脂、シクロオレフィン系ポリマー、芳香族系重合体、ポリウレタン系ポリマー等の樹脂製のフィルムやシートを用いることができる。
封止用基板４の厚みは、特に制限はないが、取り扱い易さの観点から、好ましくは０．５〜５００μｍ、より好ましくは１〜２００μｍ、さらに好ましくは５〜１００μｍである。

なお、上記プラスチックフィルムには、ガスバリア性を付与するために、直接又はその他の層を介してガスバリア層が形成されていてもよい。ガスバリア層の厚みは特に制限されないが、ガスバリア性と取り扱い性の観点から、通常、１０〜２０００ｎｍ、好ましくは２０〜１０００ｎｍ、より好ましくは３０〜５００ｎｍ、さらに好ましくは４０〜２００ｎｍの範囲である。
ガスバリア層は、単層であってもよく、複数層であってもよいが、より高いガスバリア性が得られるという観点から、ガスバリア層は複数層であることが好ましい。
ガスバリア層は、所望のガスバリア性を付与することができれば、材質等は特に限定されない。
また、封止用基板４には、保護層、導電体層、プライマー層等が積層されていてもよい。これらの層が積層される位置は、特に限定されない。

封止用基板４の水蒸気透過率は、温度４０℃、相対湿度９０％環境下において、好ましくは０．５ｇ／（ｍ^２・ｄａｙ）以下、より好ましくは０．０５ｇ／（ｍ^２・ｄａｙ）以下である。

〔電子デバイス（Ｂ）〕
本発明の電子デバイス（Ｂ）は、透明基板と、該透明基板上に形成された素子と、該素子を覆うように積層された接着シートとを備える電子デバイスであって、前記接着シートは、ガスバリアフィルムと、前記ガスバリアフィルム上に形成された接着剤層を備え、該接着剤層が、イソブチレン・イソプレン共重合体を主成分として含む組成物からなるものであり、前記ガスバリアフィルムは、温度４０℃、相対湿度９０％環境下における水蒸気透過率が０．１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下であり、かつ、全光線透過率が８０％以上であるものであって、前記接着剤層によって、前記素子が封止されていることを特徴とする。

本発明の電子デバイス（Ｂ）の例として、光電変換素子の一種である有機ＥＬ素子の構造を図４に示す。有機ＥＬ素子２０Ｂは、ガラス基板（透明基板）１１上に、構造体１２が形成されている。そして、この構造体１２及びガラス基板１１上に、接着剤層１及びガスバリアフィルム３から構成される接着シート１０Ｂが積層されている。

図４に示す有機ＥＬ素子２０Ｂは、例えば、次のようにして製造することができる。
先ず、本発明の接着シート１０Ｂの接着剤層１を、構造体１２及びガラス基板１１上に貼り合わせることにより、図４に示す有機ＥＬ素子２０Ｂを得ることができる。
有機ＥＬ素子２０Ｂは、本発明の接着シート（Ｂ）によって、構造体１２が接着剤層１で覆われているため、水分等の浸入が抑制される。本発明においては、水分遮断性と透明性に優れるガスバリアフィルム３と、水分遮断性と粘着力に優れるイソブチレン・イソプレン共重合体を主成分とする接着剤組成物から形成された接着剤層１からなる本発明の接着シート１０Ｂを用いているので、接着剤層１とガスバリアフィルム３の界面が剥離しにくく、素子内部に酸素や水分等が浸入し、電極や有機層が劣化することが抑制される。
また、透明性に優れるガスバリアフィルム３および接着剤層１によって、構造体１２が封止されているため、構造体１２への入射光や構造体１２からの発光が損なわれることが少なく、構造体１２の性能を高レベルで維持することができる。

以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。但し、本発明は、以下の実施例になんら限定されるものではない。
各例中の部及び％は、特に断りのない限り、質量基準である。

（化合物）
各例で用いた化合物や材料を以下に示す。
イソブチレン・イソプレン共重合体（１）：（日本ブチル社製、Ｅｘｘｏｎ Ｂｕｔｙｌ ２６８、数平均分子量２６０，０００、イソプレンの含有率１．７モル％）
イソブチレン・イソプレン共重合体（２）：（日本ブチル社製、Ｅｘｘｏｎ Ｂｕｔｙｌ ２８８、数平均分子量２６０，０００、イソプレンの含有率２．３モル％）
ポリイソブチレン系樹脂（１）：（ＢＡＳＦ社製、オパノールＢ３０、数平均分子量：２００，０００、イソプレンの含有率０モル％）
ポリイソブチレン系樹脂（２）：（ＢＡＳＦ社製、オパノールＢ５０、数平均分子量：３４０，０００、イソプレンの含有率０モル％）

なお、イソブチレン・イソプレン共重合体の数平均分子量は、下記条件でゲルパーミエーションクロマトグラフィーを行い、標準ポリスチレン換算値として求めた。
装置：東ソー社製、ＨＬＣ−８０２０
カラム：東ソー社製、ＴＳＫ ｇｕａｒｄ ｃｏｌｕｍｎ ＨＸＬ−Ｈ、ＴＳＫ ｇｅｌ ＧＭＨＸＬ（×２）、ＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ２０００ＨＸＬ
カラム温度：４０℃
展開溶媒：テトラヒドロフラン
流速：１．０ｍＬ／ｍｉｎ

粘着付与剤（１）：脂肪族系石油樹脂（日本ゼオン社製、クイントンＡ１００、軟化点１００℃）
粘着付与剤（２）：脂肪族系石油樹脂（日本ゼオン社製、クイントンＢ１７０、軟化点７０℃）
粘着付与剤（３）：脂肪族系石油樹脂（日本ゼオン社製、クイントンＲ１００、軟化点９６℃）

なお、粘着付与剤（１）〜（３）の軟化点は、ＪＩＳ Ｋ ２５３１に準拠して測定した。

剥離シート（１）：シリコーン剥離処理したポリエチレンテレフタレートフィルム（リンテック社製、ＳＰ−ＰＥＴ３８１１３０、厚み３８μｍ）
剥離シート（２）：シリコーン剥離処理したポリエチレンテレフタレートフィルム（リンテック社製、ＳＰ−ＰＥＴ３８Ｔ１０３−１、厚み３８μｍ）

〔参考例１〕
（接着剤組成物の調製）
イソブチレン・イソプレン共重合体（１）１００部をトルエンに溶解し、固形分濃度２０％の接着剤組成物を調製した。

（接着シートの製造）
接着剤組成物を、剥離シート（２）の剥離処理面上に、乾燥後の厚みが６０μｍになるように塗工し、得られた塗膜を１２０℃で２分間乾燥して接着剤層を形成した。次いで、剥離シート（１）を、その剥離処理面で接着剤層と貼り合せて、接着シートを得た。

〔参考例２〜１８、比較例１〜４〕
各成分とその配合量を第１表に記載のものに変更したことを除き、参考例１と同様にして、接着剤組成物を得、これを用いて接着シートを作製した。

〔比較例５〕
アクリル酸ブチル９０部、及びアクリル酸１０部、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル０．２部を反応器に入れ混合した。次いで、得られた混合物内に窒素ガスを４時間吹き込んで脱気した後、攪拌しながら６０℃まで昇温した。そのまま、撹拌を６０℃で２４時間続けることで重合反応を行った。次いで、反応混合物を酢酸エチルで希釈することで、固形分濃度が３３％のアクリル系共重合体（重量平均分子量：６５０，０００）の酢酸エチル溶液を得た。
架橋剤として、トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネートの酢酸エチル溶液（日本ポリウレタン社製、コロネートＬ、固形分７５質量％）を、その固形分が、前記酢酸エチル溶液の固形分１００部に対して１．５部になるように添加し、次いで、トルエンを加えることで、固形分濃度２０％のアクリル系共重合体を主成分とする接着剤組成物を得た。
この接着剤組成物を用いたこと以外は、参考例１と同様の方法により、接着シートを作製した。
参考例１〜１８及び比較例１〜４で得た接着シートの接着剤層の組成を表１にまとめて示す。

（有機ＥＬ素子の製造）
ガラス基板の表面に、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）膜（厚さ：１５０ｎｍ、シート抵抗：３０Ω／□）をスパッタリング法により形成し、次いで、溶媒洗浄とＵＶ／オゾン処理を行うことで陽極を作製した。
得られた陽極（ＩＴＯ膜）上に、Ｎ，Ｎ’−ビス（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（フェニル）−ベンジデン）（Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製）を６０ｎｍ、トリス（８−ヒドロキシ−キノリネート）アルミニウム（Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製）を４０ｎｍ、２，９−ジメチル−４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリン（Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製）を１０ｎｍ、（８−ヒドロキシ−キノリノレート）リチウム（Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製）を、１０ｎｍ、０．１〜０．２ｎｍ／ｓの速度で順次蒸着させ、発光層を形成した。
得られた発光層上に、アルミニウム（Ａｌ）（高純度化学研究所社製）を０．１ｎｍ／ｓの速度で１００ｎｍ蒸着させて陰極を形成した。
なお、蒸着時の真空度は、全て１×１０^−４Ｐａ以下である。

一方で、参考例１で得られた接着シートの剥離シート（１）を剥離し、露出した接着剤層と、封止用基板としての、アルミニウム箔（７μｍ）の両面にポリエチレンテレフタレートシートシート（１２μｍ）をウレタン系接着剤層で接着した積層フィルム（アジヤアルミ社製）とを貼り合わせ、接着剤層付きの封止用基板を得た。次いで、接着剤層付きの封止用基板を、窒素雰囲気下で、ホットプレートを用いて１２０℃で１０分間加熱して乾燥した後、そのまま放置して室温まで冷却した。次いで、接着剤層付きの封止用基板の剥離シート（２）を剥離し、露出した接着剤層を上記陰極に対向させ、陰極を完全に覆うようにラミネートして、有機ＥＬ素子を得た。
また、参考例２〜１８及び比較例１〜５で得た接着シートを用いて、参考例１と同様にして有機ＥＬ素子を作製した。

次いで、上記で得られた有機ＥＬ素子について、以下に示すように測定を行い、評価した。測定結果及び評価結果を表２に示す。

〔水蒸気透過率測定〕
接着シートの剥離シート（１）及び（２）を剥離し、ポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂社製、厚さ６μｍ）に貼付し、２枚のポリエチレンテレフタレートフィルムで挟まれた接着剤層からなる水蒸気透過率測定用のサンプルを得た。水蒸気透過率測定装置（ＬＹＳＳＹ社製、Ｌ８０−５０００）を用いて、４０℃、９０％ＲＨの環境下における、接着剤層の水蒸気透過率を測定した。

〔粘着力測定〕
参考例１〜１８及び比較例１〜５で用いた接着剤組成物を、剥離シート（２）の剥離処理面上に、乾燥後の厚みが２０μｍになるように塗工し、得られた塗膜を１２０℃で２分間乾燥して接着剤層を形成した。次いで、アルミニウム箔（７μｍ）の両面にポリエチレンテレフタレートシートシート（１２μｍ）をウレタン系接着剤層で接着した積層フィルム（アジアアルミ社製）を接着剤層と貼り合せて、粘着力測定用のサンプルを得た。
得られたサンプルを２５ｍｍ×３００ｍｍの大きさに裁断し、剥離シート（２）を剥離し、露出した接着剤層を、２３℃、５０％ＲＨの環境下で下記被着体に貼付し、その上から重さ２ｋｇのローラーを１往復させて圧着して試験片を得た。
試験片を、圧着後２４時間、２３℃、５０％ＲＨの環境下で放置した後、同環境下で、引張試験機（オリエンテック社製、テンシロン）を用いて、剥離速度３００ｍｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離試験を行い、粘着力（Ｎ／２５ｍｍ）を測定した。

粘着力の測定に用いた被着体は以下のとおりである。
・ＰＥＴフィルム：東洋紡績社製、コスモシャインＡ４１００、厚み５０μｍ
・ガラス板（ソーダライムガラス）：日本板硝子社製

〔水分浸入試験〕
接着シートの剥離シート（１）を剥離し、アルミニウム箔（７μｍ）の両面にポリエチレンテレフタレートシートシート（１２μｍ）をウレタン系接着剤層で接着した積層フィルム（アジヤアルミ社製）に貼付し、水分浸入試験用のサンプルを得た。
一方、無アルカリガラス基板（コーニング社製、４５ｍｍ×４５ｍｍ）上に、真空蒸着法にて、縦３２ｍｍ、横４０ｍｍで膜厚１００ｎｍのカルシウム層を形成した。
次いで、水分浸入試験用のサンプルから剥離シート（２）を剥離し、露出した接着剤層と、ガラス基板上のカルシウム層とを、窒素雰囲気下にて、ラミネータを用いて貼合し、カルシウム層が封止された水分浸入試験用試験片を得た。
得られた試験片を、６０℃、９０％ＲＨの環境下で１７０時間放置し、カルシウム層の変色の割合（水分浸入の割合）を目視で確認し、下記の基準により水分遮断性を評価した。

（評価基準）
Ａ：変色しているカルシウム層の面積が全体の２０％未満
Ｂ：変色しているカルシウム層の面積が全体の２０％以上４０％未満
Ｃ：変色しているカルシウム層の面積が全体の４０％以上

〔有機ＥＬ素子（有機デバイス）の評価〕
上記で作製した有機ＥＬ素子を、２３℃、５０％ＲＨの環境下で２００時間放置した後、有機ＥＬ素子を起動させ、ダークスポット（非発光箇所）の有無を観察し、以下の基準で評価した。
○：ダークスポットが発光面積の５％未満
△：ダークスポットが発光面積の５％以上１０％未満
×：ダークスポットが発光面積の１０％以上

表２から以下のことがわかる。
参考例１〜１８の接着剤組成物を用いて形成された接着剤層は、水蒸気透過率が低く、水分遮断性に優れ、また粘着力に優れる。また、参考例１〜１８の接着剤組成物を用いて形成された封止材により封止された有機ＥＬ素子は、水分浸入試験で高い性能を示し、高い耐久性を有することが分かった。一方、比較例１〜４のイソプレンを含有しないポリイソブチレン系樹脂を主成分とする接着剤組成物を用いて形成された接着剤層は、水分浸入試験の性能が不十分であるため、有機ＥＬ素子の耐久性が高くない。また、比較例５のアクリル系共重合体を主成分とする接着剤組成物を用いて形成された接着剤層は、水蒸気透過率が高く、水分浸入試験で性能が低く、有機ＥＬ素子の耐久性が劣っている。

（ガスバリアフィルム（Ａ）の作製）
基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績社製、コスモシャインＡ４１００、厚さ５０μｍ、以下、「ＰＥＴフィルム」という。）、ポリシラザン化合物（ペルヒドロポリシラザンを主成分とするコーティング材（クラリアントジャパン社製、アクアミカＮＬ１１０−２０）をスピンコート法により塗布し、１２０℃で１分間加熱して、厚さ１５０ｎｍの、ペルヒドロポリシラザンを含むポリシラザン層を形成した。次に、プラズマイオン注入装置を用いてポリシラザン層の表面に、下記の条件にて、アルゴン（Ａｒ）をプラズマイオン注入して、ガスバリア層を形成して、ガスバリアフィルム（Ａ）を作製した。

ガスバリア層を形成するために用いたプラズマイオン注入装置及びイオン注入条件は以下の通りである。
（プラズマイオン注入装置）
ＲＦ電源：日本電子社製、型番号「ＲＦ」５６０００
高電圧パルス電源：栗田製作所社製、「ＰＶ−３−ＨＳＨＶ−０８３５」
（プラズマイオン注入条件）
プラズマ生成ガス：Ａｒ
ガス流量：１００ｓｃｃｍ
Ｄｕｔｙ比：０．５％
印加電圧：−１５ｋＶ
ＲＦ電源：周波数 １３．５６ＭＨｚ、印加電力 １０００Ｗ
チャンバー内圧：０．２Ｐａ
パルス幅：５μｓｅｃ
処理時間（イオン注入時間）：２００秒

（ガスバリアフィルム（Ｂ）の作製）
基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡績社製、コスモシャインＡ４１００、厚さ５０μｍ、以下、「ＰＥＴフィルム」という。）、ポリシラザン化合物（ペルヒドロポリシラザンを主成分とするコーティング材（クラリアントジャパン社製、アクアミカＮＬ１１０−２０）をスピンコート法により塗布し、１２０℃で１分間加熱して、厚さ１５０ｎｍの、ペルヒドロポリシラザンを含むポリシラザン層を形成した。次に、プラズマイオン注入装置を用いてポリシラザン層の表面に、下記の条件にて、アルゴン（Ａｒ）をプラズマイオン注入して、ガスバリア層を形成して、ガスバリアフィルム（Ｂ）を作製した。

ガスバリア層を形成するために用いたプラズマイオン注入装置及びイオン注入条件は以下の通りである。
（プラズマイオン注入装置）
ＲＦ電源：日本電子社製、型番号「ＲＦ」５６０００
高電圧パルス電源：栗田製作所社製、「ＰＶ−３−ＨＳＨＶ−０８３５」
（プラズマイオン注入条件）
プラズマ生成ガス：Ａｒ
ガス流量：１００ｓｃｃｍ
Ｄｕｔｙ比：０．５％
印加電圧：−６ｋＶ
ＲＦ電源：周波数 １３．５６ＭＨｚ、印加電力 １０００Ｗ
チャンバー内圧：０．２Ｐａ
パルス幅：５μｓｅｃ
処理時間（イオン注入時間）：２００秒

（ガスバリアフィルム（Ｃ）の作製）
基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂社製、ＰＥＴ３８ Ｔ−１００、厚さ３８μｍ、以下、「ＰＥＴフィルム」という。）に、スパッタリング法により、厚み１００ｎｍの酸化ケイ素からなるガスバリア層を形成し、ガスバリアフィルム（Ｃ）を作製した。

（ガスバリアフィルム（Ｄ）の作製）
基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂社製、ＰＥＴ３８ Ｔ−１００、厚さ３８μｍ、以下、「ＰＥＴフィルム」という。）に、スパッタリング法により、厚み１００ｎｍの窒化ケイ素からなるガスバリア層を形成し、ガスバリアフィルム（Ｄ）を作製した。

〔参考例１９〕
（接着剤組成物の調製）
イソブチレン・イソプレン共重合体（１）１００部をトルエンに溶解し、固形分濃度２０％の接着剤組成物１を調製した。

（接着シートの製造）
接着剤組成物１を、ガスバリアフィルム（Ａ）のガスバリア層上に、乾燥後の厚みが２０μｍになるように塗工し、得られた塗膜を１１０℃で１分間乾燥して接着剤層を形成した。次いで、剥離シートとして、シリコーン剥離処理したポリエチレンテレフタレートフィルム〕（リンテック社製、ＳＰ−ＰＥＴ３８１１３０、厚み３８μｍ）を、その剥離処理面で接着剤層と貼り合わせて、接着シートを得た。

〔実施例２０〜３８、比較例６、７、９〕
接着剤組成物を表３に記載のものに変更したことを除き、参考例１９と同様にして、接着剤組成物２〜２４を得た。次いで、得られた接着剤組成物およびガスバリアフィルムを表４に記載のものに変更してこれを用いて接着シートを作製した。

〔比較例８〕
アクリル酸ブチル９０部、及びアクリル酸１０部、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル０．２部を反応器に入れ混合した。次いで、得られた混合物内に窒素ガスを４時間吹き込んで脱気した後、攪拌しながら６０℃まで昇温した。そのまま、撹拌を６０℃で２４時間続けることで重合反応を行った。次いで、反応混合物を酢酸エチルで希釈することで、固形分濃度が３３％のアクリル系共重合体（重量平均分子量：６５０，０００）の酢酸エチル溶液を得た。
架橋剤として、トリメチロールプロパン変性トリレンジイソシアネートの酢酸エチル溶液（日本ポリウレタン社製、コロネートＬ、固形分７５質量％）を、その固形分が、前記酢酸エチル溶液の固形分１００部に対して１．５部になるように添加し、次いで、トルエンを加えることで、固形分濃度２０％のアクリル系共重合体を主成分とする接着剤組成物を得た。
この接着剤組成物を用いたこと以外は、実施例１９と同様の方法により、接着シートを作製した。
実施例及び比較例で得た接着シートの接着剤層の組成を表３に示す。

（有機ＥＬ素子の製造）
ガラス基板を溶媒洗浄とＵＶ／オゾン処理で洗浄した後、アルミニウム（Ａｌ）（高純度化学研究所社製）を０．１ｎｍ／ｓの速度で１００ｎｍ蒸着させて陰極を形成した。得られた陰極（Ａｌ膜）上に、（８−ヒドロキシ−キノリノレート）リチウム（Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製）を１０ｎｍ、２，９−ジメチル−４，７−ジフェニル−１，１０−フェナントロリン（Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製）を１０ｎｍ、トリス（８−ヒドロキシ−キノリネート）アルミニウム（Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製）を４０ｎｍ、Ｎ，Ｎ’−ビス（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ’−ビス（フェニル）−ベンジデン）（Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社製）を６０ｎｍ、０．１〜０．２ｎｍ／ｓの速度で順次蒸着させ、発光層を形成した。得られた発光層上に、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）膜（厚さ：１００ｎｍ、シート抵抗：５０Ω／□）をスパッタリング法により形成し、陽極を形成した。
なお、蒸着時の真空度は、全て１×１０^−４Ｐａ以下である。

一方で、参考例、実施例及び比較例で得た接着シートを、窒素雰囲気下で、ホットプレートを用いて１２０℃で３０分間加熱して乾燥した後、そのまま放置して室温まで冷却した。次いで、接着シートの剥離シートを剥離し、露出した接着剤層を上記陰極に対向させ、陰極を完全に覆うようにラミネートして、有機ＥＬ素子を得た。

上記で得た有機ＥＬ素子について、以下に示すように測定を行い、評価した。測定結果及び評価結果を表４に示す。

〔水蒸気透過率測定〕
ガスバリアフィルム（Ａ）〜（Ｃ）の４０℃、９０％ＲＨの環境下における水蒸気透過率は、水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＡＱＵＡＴＲＯＮ）を用いて、の水蒸気透過率を測定した。
参考例、実施例および比較例で使用した接着剤組成物を、剥離シート（シリコーン剥離処理したポリエチレンテレフタレートフィルム、リンテック社製、ＳＰ−ＰＥＴ３８Ｔ１０３−１、厚み３８μｍ）の剥離処理面上に、乾燥後の厚みが６０μｍになるように塗工し、得られた塗膜を１２０℃で２分間乾燥して接着剤層を形成した。次いで、ポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂社製、厚さ６μｍ）を、接着剤層と貼り合せた。次いで、剥離シートを剥離し、露出した接着剤層に、もう１枚のポリエチレンテレフタレートフィルム（三菱樹脂社製、厚さ６μｍ）を貼り合わせ、２枚のポリエチレンテレフタレートフィルムで挟まれた接着剤層からなる、水蒸気透過率測定用のサンプルを得た。
得られたサンプルについて、水蒸気透過率測定装置（ＬＹＳＳＹ社製、Ｌ８０−５０００）を用いて、接着剤層の温度４０℃、相対湿度９０％環境下における水蒸気透過率を測定し、この値を接着剤層の水蒸気透過率とした。

〔粘着力測定〕
参考例、実施例および比較例で得られたを２５ｍｍ×３００ｍｍの大きさに裁断し、剥離シートを剥離し、露出した接着剤層を、２３℃、５０％ＲＨの環境下で下記被着体に貼付し、その上から重さ２ｋｇのローラーを１往復させて圧着して試験片を得た。
試験片を、圧着後２４時間、２３℃、５０％ＲＨの環境下で放置した後、同環境下で、引張試験機（オリエンテック社製、テンシロン）を用いて、剥離速度３００ｍｍ／分、剥離角度１８０°の条件で剥離試験を行い、粘着力（Ｎ／２５ｍｍ）を測定した。

粘着力の測定に用いた被着体は以下のとおりである。
・ＰＥＴフィルム：東洋紡績社製、コスモシャインＡ４１００、厚み５０μｍ
・ガラス板（ソーダライムガラス）：日本板硝子社製

〔水分浸入試験〕
無アルカリガラス基板（コーニング社製、４５ｍｍ×４５ｍｍ）上に、真空蒸着法にて、縦３２ｍｍ、横４０ｍｍで膜厚１００ｎｍのカルシウム層を形成した。
次いで、接着シートから剥離シートを剥離し、露出した接着剤層と、ガラス基板上のカルシウム層とを、窒素雰囲気下にて、ラミネータを用いて貼合し、カルシウム層が封止された水分浸入試験用試験片を得た。
得られた試験片を、６０℃、９０％ＲＨの環境下で１７０時間放置し、カルシウム層の変色の割合（水分浸入の割合）を目視で確認し、下記の基準により水分遮断性を評価した。

（評価基準）
Ａ：変色しているカルシウム層の面積が全体の２０％未満
Ｂ：変色しているカルシウム層の面積が全体の２０％以上４０％未満
Ｃ：変色しているカルシウム層の面積が全体の４０％以上

〔有機ＥＬ素子の評価〕
有機ＥＬ素子を、２３℃、５０％ＲＨの環境下で２００時間放置した後、有機ＥＬ素子を起動させ、ダークスポット（非発光箇所）の有無を観察し、以下の基準で評価した。
Ａ：ダークスポットが発光面積の５％未満
Ｂ：ダークスポットが発光面積の５％以上１０％未満
Ｃ：ダークスポットが発光面積の１０％以上９０％未満
Ｄ：ダークスポットが発光面積の９０％以上

〔発光輝度減少率〕
有機ＥＬ素子の封止前後の発光輝度測定を行い、発光印加電圧（５Ｖ）での封止前後の発光輝度を測定した。下記式により、有機ＥＬ素子の封止前の発光輝度を１００％とし、封止前の発光輝度に対する封止後の発光輝度の割合を求めた。
式：（封止後発光輝度）／（封止前発光輝度）×１００

〔全光線透過率測定〕
全光線透過率濁時計（日本電色工業社製、ＨＡＺＥ ＭＥＴＥＲ ＮＤＨ５０００）を用いて、ＪＩＳ Ｋ７６３１−１に準じて、参考例、実施例および比較例で使用したガスバリアフィルム並びに、参考例、実施例および比較例の接着シートの全光線透過率を測定した。なお、接着シートの全光線透過率は、剥離シートを剥離した状態で測定を行った。

表４から以下のことがわかる。
実施例２０〜３８の接着シートは、水分浸入試験で高い性能を示し、接着シートを備える有機ＥＬ素子は高い耐久性を有する。さらに、ガスバリアフィルムにより封止しているにも関わらず、封止前に比べて発光輝度の低下が少なく、発光色の色味変化のない良好な有機ＥＬ素子を得ることができた。
一方、比較例８のアクリル系接着剤を用いて形成された接着シートは、接着剤層の水蒸気透過率が高く、水分遮断性が劣り、有機ＥＬ素子の耐久性が劣っている。
また、比較例６の接着シートは、接着剤層の水蒸気透過率は低いが、ガスバリアフィルムの水蒸気透過率が高いため、接着剤層の性能を十分に生かすことができず、有機ＥＬ素子の耐久性は高くない。
比較例７の接着シートは、ガスバリアフィルムの水蒸気透過率は低いが、接着剤層の水蒸気透過率が高いため、ガスバリアフィルムの性能を十分に生かすことができず、有機ＥＬ素子の耐久性は高くない。
また、比較例９の粘着シートはガスバリアフィルムの水蒸気透過率は低いが、ガスバリアフィルムの全光線透過率が低く、有機ＥＬからの発光を阻害し、封止前に比べて、発光輝度が大幅に減少している。

１０、１０Ａ、１０Ｂ、１０Ｃ、１０Ｄ・・・接着シート
１、１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ・・・接着剤層
２ａ、２ｂ、２ｃ・・・剥離シート
３、３ａ、３ｂ、３ｃ、３ｄ・・・ガスバリア層（ガスバリアフィルム）
４・・・封止用基板
１１・・・ガラス基板
１２・・・構造体
２０Ａ、２０Ｂ・・・有機ＥＬ素子

Claims (9)

1. ガスバリアフィルムと、前記ガスバリアフィルム上に形成された接着剤層を備え、
   前記ガスバリアフィルムは、基材フィルム上に、直接又はプライマー層を介してガスバリア層が形成されてなる積層フィルムであって、基材フィルム、１又は２以上のガスバリア層のみからなるガスバリアフィルム、又は、基材フィルム、プライマー層、１又は２以上のガスバリア層のみからなるガスバリアフィルムであり、
   前記ガスバリアフィルムは、温度４０℃、相対湿度９０％の環境下における水蒸気透過率が０．０１ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下で、かつ、全光線透過率が８５％以上のものであり、
   前記接着剤層は、イソプレン由来の繰り返し単位の含有率が、全繰り返し単位に対して１〜１０モル％であるイソブチレン・イソプレン共重合体を主成分として含み、さらに、脂肪族系石油樹脂である粘着付与剤を、イソブチレン・イソプレン共重合体１００質量部に対して、５〜４０質量部含有する接着剤組成物からなり、
   前記接着剤層の、温度４０℃、相対湿度９０％の環境下における水蒸気透過率Ｘ（ｇ／ｍ ^２ ／ｄａｙ）と、前記接着剤層の厚みＹ（μｍ）の積が、１０以上３００未満であることを特徴とする接着シート。
2. 前記接着剤層が、厚み６０μｍの場合、温度４０℃、相対湿度９０％環境下における水蒸気透過率が、５ｇ／ｍ^２／ｄａｙ以下のものであることを特徴とする請求項１に記載の接着シート。
3. 前記接着剤層の、２０〜６０℃の貯蔵弾性率が１０^５〜１０^６Ｐａであることを特徴とする請求項１又は２に記載の接着シート。
4. 前記接着剤層の、ガラス基板に対する粘着力が、３Ｎ／２５ｍｍ以上であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれかに記載の接着シート。
5. 前記ガスバリアフィルムが、基材フィルム上に、直接又はその他の層を介してガスバリア層が形成されてなる積層フィルムである、請求項１〜４のいずれかに記載の接着シート。
6. 前記基材フィルムの厚みが、０．５〜５００μｍである、請求項５に記載の接着シート。
7. 透明基板と、該透明基板上に形成された素子と、該素子を封止するための封止材とを備える電子デバイスであって、
   前記封止材が、請求項１〜６のいずれか１項に記載の接着シートを用いて形成されたものであることを特徴とする電子デバイス。
8. 透明基板と、該透明基板上に形成された素子と、該素子を覆うように積層された接着シートを備える電子デバイスであって、
   該接着シートは、請求項１〜６のいずれか１項に記載の接着シートであり、
   前記素子が、前記接着シートの接着剤層によって封止されていることを特徴とする電子デバイス。
9. 透明基板と、前記透明基板上に形成された素子と、前記素子を覆うように積層された接着シートを備える電子デバイスの製造方法であって、
   透明基板上に形成された素子を覆うように、請求項１〜６のいずれかに記載の接着シートの接着剤層を、前記素子及び透明基板上に貼り合わせる工程を有する、電子デバイスの製造方法。

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