JP6762111B2 - Hard coating agent and laminated film - Google Patents
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Description
本発明は、耐熱性及び耐擦傷性に優れるハードコート層を効率よく形成することができるハードコート剤、及びこのハードコート剤を用いて形成されたハードコート層を有する積層フィルムに関する。 The present invention relates to a hard coat agent capable of efficiently forming a hard coat layer having excellent heat resistance and scratch resistance, and a laminated film having a hard coat layer formed by using the hard coat agent.
タッチパネルを備え、データ入力装置として用いられる各種ディスプレイ等の表示装置は、取扱い時に指やタッチパネル用ペンで操作が行われるため、傷が付かないように表面を保護する必要がある。このため、従来、最表面にカバーガラス(ガラス基板)を設置することが行われてきた。
しかし、端末の更なる薄型・軽量化が要求されており、近年においては、ガラス基板の代替材料として、ハードコート層を備えるハードコートフィルムが使用されるようになってきている。
このようなハードコートフィルムには、ガラス基板を用いた際に満たしていた耐熱性の基準が要求される。また、ITOのような透明導電材料がドライプロセスによってハードコートフィルム上に積層される場合には、プロセス中にハードコートフィルムが加熱され高温に曝されることがあり、より優れた耐熱性が要求される。
Display devices such as various displays equipped with a touch panel and used as a data input device are operated with a finger or a pen for a touch panel during handling, so it is necessary to protect the surface from scratches. For this reason, conventionally, a cover glass (glass substrate) has been installed on the outermost surface.
However, there is a demand for further thinning and weight reduction of terminals, and in recent years, a hard coat film having a hard coat layer has been used as an alternative material for a glass substrate.
Such a hard coat film is required to have a heat resistance standard that is satisfied when a glass substrate is used. Further, when a transparent conductive material such as ITO is laminated on the hard coat film by a dry process, the hard coat film may be heated and exposed to a high temperature during the process, and better heat resistance is required. Will be done.
従来、樹脂フィルムにハードコート層を形成するための材料(ハードコート剤)として、例えば、特許文献1には、分子内に、一般式(I) Conventionally, as a material (hard coating agent) for forming a hard coat layer on a resin film, for example, Patent Document 1 describes the general formula (I) in the molecule.
〔式中、Raは、−(CH2)n−O−C(=O)−CH=CH2、−(CH2)n−O−C(=O)−C(CH3)=CH2又は−CH=CH2(式中、nは1〜10の整数を表す。)で表される基を表し、Rbは、前記Ra、置換基を有してもよい炭素数1〜6のアルキル基又は置換基を有してもよい芳香族基を表す。〕で表される繰り返し単位構造を有し、数平均分子量が1,000〜30,000であるシルセスキオキサンラダーオリゴマーを含有する電離放射線硬化性のハードコート剤組成物が記載されている。
また、この文献には、得られるハードコート層の耐擦傷性及び耐候性の評価試験結果も記載されている。
しかしながら、この文献には、得られるハードコート層の鉛筆硬度及び耐熱性に関する評価については記載されていない。また、耐擦傷性の評価に関しては、スチールウール(#0000)にて擦るだけの試験の評価結果しか記載されていない。
[In the formula, Ra is − (CH 2 ) n—OC (= O) −CH = CH 2 , − (CH 2 ) n—OC (= O) −C (CH 3 ) = CH. 2 or −CH = CH 2 (in the formula, n represents an integer of 1 to 10) represents a group, and R b is the above Ra , which has 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent. Represents an aromatic group which may have an alkyl group or a substituent of 6. ], An ionizing radiation curable hard coat agent composition containing a silsesquioxane ladder oligomer having a repeating unit structure represented by [] and having a number average molecular weight of 1,000 to 30,000 is described.
In addition, this document also describes the results of evaluation tests on the scratch resistance and weather resistance of the obtained hard coat layer.
However, this document does not describe the evaluation of the pencil hardness and heat resistance of the obtained hard coat layer. Further, regarding the evaluation of scratch resistance, only the evaluation result of the test of rubbing with steel wool (# 0000) is described.
上記のように、特許文献1には、耐候性及び耐擦傷性に優れる、特定のシルセスキオキサンラダーオリゴマーを含有してなる電離放射線硬化性のハードコート剤組成物が記載されている。
しかしながら、この文献に記載されたハードコート剤組成物から得られるハードコート層であっても、耐熱性及び耐擦傷性が不十分な場合があった。
As described above, Patent Document 1 describes an ionizing radiation-curable hard coat agent composition containing a specific silsesquioxane ladder oligomer, which is excellent in weather resistance and scratch resistance.
However, even the hard coat layer obtained from the hard coat agent composition described in this document may have insufficient heat resistance and scratch resistance.
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、耐熱性及び耐擦傷性により優れるハードコート層を効率よく形成することができるハードコート剤、及びこのハードコート剤を用いて形成されたハードコート層を有する積層フィルムを提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a hard coat agent capable of efficiently forming a hard coat layer excellent in heat resistance and scratch resistance, and a hard coat agent formed by using this hard coat agent. An object of the present invention is to provide a laminated film having a coat layer.
本発明者らは上記課題を解決すべく、ハードコート剤について鋭意検討した。その結果、分子内に、反応性官能基を含む繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサン化合物と、反応性官能基を有する無機フィラーを含有するハードコート剤を用いることで、耐熱性及び耐擦傷性に優れるハードコート層を効率よく形成することができることを見出し、本発明を完成するに至った。 The present inventors have diligently studied a hard coating agent in order to solve the above problems. As a result, heat resistance and scratch resistance are obtained by using a hard coat agent containing a polysilsesquioxane compound having a repeating unit containing a reactive functional group and an inorganic filler having a reactive functional group in the molecule. It has been found that an excellent hard coat layer can be efficiently formed, and the present invention has been completed.
かくして本発明によれば、下記〔1〕、〔2〕のハードコート剤、及び下記〔3〕の積層フィルムが提供される。 Thus, according to the present invention, the following hard coating agents [1] and [2] and the following laminated film [3] are provided.
〔1〕下記(A)成分、及び(B)成分を含有する、ハードコート剤。
(A)成分:下記式(1)で表される繰り返し単位、及び下記式(2)で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサン化合物であって、式(1)で表される繰り返し単位の含有割合が、全繰り返し単位中、10モル%以上90モル%以下であり、式(2)で表される繰り返し単位の含有割合が、全繰り返し単位中、10モル%以上90モル%以下であるポリシルセスキオキサン化合物
[1] A hard coating agent containing the following component (A) and component (B).
Component (A): A polysilsesquioxane compound having a repeating unit represented by the following formula (1) and a repeating unit represented by the following formula (2), and the repeating unit represented by the formula (1). The content ratio of the unit is 10 mol% or more and 90 mol% or less in all the repeating units, and the content ratio of the repeating unit represented by the formula (2) is 10 mol% or more and 90 mol% or less in all the repeating units. Polysilsesquioxane compound
(R1は反応性官能基を表し、Aは、単結合、又は炭素数1〜10の2価の有機基を表す。R2はアリール基を表す。)
(B)成分:反応性官能基を有する無機フィラー
〔2〕前記(B)成分の含有量が、(A)成分に対して、10質量%〜70質量%である、〔1〕に記載のハードコート剤。
〔3〕基材層とハードコート層を有する積層フィルムであって、
前記ハードコート層が、〔1〕又は〔2〕に記載のハードコート剤を用いて形成されたものである積層フィルム。
(R 1 represents a reactive functional group, A represents a single bond or a divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms. R 2 represents an aryl group.)
Component (B): Inorganic filler having a reactive functional group [2] The content of the component (B) is 10% by mass to 70% by mass with respect to the component (A), according to [1]. Hard coating agent.
[3] A laminated film having a base material layer and a hard coat layer.
A laminated film in which the hard coat layer is formed by using the hard coat agent according to [1] or [2].
本発明によれば、耐熱性及び耐擦傷性に優れるハードコート層を効率よく形成することができるハードコート剤、及びこのハードコート剤を用いて形成されたハードコート層を有する積層フィルムが提供される。 According to the present invention, there is provided a hard coat agent capable of efficiently forming a hard coat layer having excellent heat resistance and scratch resistance, and a laminated film having a hard coat layer formed by using the hard coat agent. To.
以下、本発明を、1)ハードコート剤、及び、2)積層フィルム、に項分けして詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail by dividing it into 1) a hard coating agent and 2) a laminated film.
1)ハードコート剤
本発明の第1は、前記(A)成分及び(B)成分を含有するハードコート剤である。
〔(A)成分〕
本発明のハードコート剤を構成する(A)成分は、下記式(1)で表される繰り返し単位、及び下記式(2)で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサン化合物(以下、「ポリシルセスキオキサン化合物(A)」ということがある。)であって、式(1)で表される繰り返し単位の含有割合が、全繰り返し単位中、10モル%以上90モル%以下であり、式(2)で表される繰り返し単位の含有割合が、全繰り返し単位中、10モル%以上90モル%以下である化合物である。
1) Hard coating agent The first of the present invention is a hard coating agent containing the components (A) and (B).
[(A) component]
The component (A) constituting the hard coat agent of the present invention is a polysilsesquioxane compound having a repeating unit represented by the following formula (1) and a repeating unit represented by the following formula (2) (hereinafter, It is sometimes referred to as "polysilsesquioxane compound (A)"), and the content ratio of the repeating unit represented by the formula (1) is 10 mol% or more and 90 mol% or less in all the repeating units. Yes, it is a compound in which the content ratio of the repeating unit represented by the formula (2) is 10 mol% or more and 90 mol% or less in all the repeating units.
上記式(1)、(2)中、R1は反応性官能基を表し、Aは、単結合、又は炭素数1〜10の2価の有機基を表し、R2はアリール基を表す。 In the above formulas (1) and (2), R 1 represents a reactive functional group, A represents a single bond or a divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms, and R 2 represents an aryl group.
〔式(1)で表される繰り返し単位〕
式(1)中、R1の反応性官能基は、後述する(B)成分の無機フィラーが有する反応性官能基と反応して化学結合を形成し得る基である。
R1の反応性官能基としては、活性エネルギー線が照射されることにより反応する光反応性官能基、加熱されることにより反応する熱反応性官能基が挙げられ、光反応性官能基が好ましい。
反応性官能基の具体例としては、ビニル基、アリル基、スチリル基、(メタ)アクリロイル基、(メタ)アクリロイルオキシ基等の炭素−炭素不飽和結合を有する基;エポキシ基、グリシジル基、グリシジルオキシ基等のエポキシ基を有する基;イソシアネート基;メルカプト基;等が挙げられる。ここで、(メタ)アクリロイルとは、アクリロイル又はメタクリロイルを意味する。
これらの中でも、炭素−炭素不飽和結合を有する基がより好ましく、ビニル基が特に好ましい。
[Repeating unit represented by equation (1)]
In the formula (1), the reactive functional group of R 1 is a group capable of forming a chemical bond by reacting with the reactive functional group of the inorganic filler of the component (B) described later.
Examples of the reactive functional group of R 1 include a photoreactive functional group that reacts when irradiated with an active energy ray and a thermoreactive functional group that reacts when heated, and a photoreactive functional group is preferable. ..
Specific examples of the reactive functional group include a group having a carbon-carbon unsaturated bond such as a vinyl group, an allyl group, a styryl group, a (meth) acryloyl group, and a (meth) acryloyloxy group; an epoxy group, a glycidyl group, and a glycidyl group. Examples thereof include a group having an epoxy group such as an oxy group; an isocyanate group; a mercapto group; and the like. Here, (meth) acryloyl means acryloyl or methacryloyl.
Among these, a group having a carbon-carbon unsaturated bond is more preferable, and a vinyl group is particularly preferable.
Aは、単結合、又は炭素数1〜10の2価の有機基を表す。
Aの2価の有機基としては、下記式(3)で表されるアルキレン基、下記式(4)で表されるアリーレン基、オキシ基(−O−)、イミノ基(−NH−)、カルボニル基(>C=O)、スルホニル基(−SO2−)、アミド基(−NH−C(=O)−、−C(=O)−NH−)、又は、エステル基(−C(=O)−O−、−O−C(=O)−)、及び、これらの基の組み合わせ等が挙げられる。
A represents a single bond or a divalent organic group having 1 to 10 carbon atoms.
Examples of the divalent organic group of A include an alkylene group represented by the following formula (3), an arylene group represented by the following formula (4), an oxy group (-O-), an imino group (-NH-), and the like. Carbonyl group (> C = O), sulfonyl group (-SO 2- ), amide group (-NH-C (= O)-, -C (= O) -NH-), or ester group (-C (-C ()) = O) -O-, -OC (= O)-), and combinations of these groups can be mentioned.
式(3)、(4)中、R3、R4は、それぞれ独立して、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表し、Arはアリーレン基を表す。a、bはそれぞれ独立して、1〜10の整数を表す。a、bがそれぞれ2以上のとき、式:−C(R3)(R4)−で表される繰り返し単位同士、式:−Ar−で表される繰り返し単位同士は、それぞれ互いに同一であっても、相異なっていてもよい。 In formulas (3) and (4), R 3 and R 4 independently represent a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, and Ar represents an arylene group. Each of a and b independently represents an integer of 1 to 10. When a and b are 2 or more, the repeating units represented by the formula: -C (R 3 ) (R 4 )-and the repeating units represented by the formula: -Ar- are the same. However, they may be different.
前記式(3)で表されるアルキレン基の具体例としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、トリメチレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基等が挙げられる。
前記式(4)で表されるアリーレン基の具体例としては、1,4−フェニレン基、1,3−フェニレン基、1,5−ナフチレン基、2,6−ナフチレン基等が挙げられる。
前記式(4)で表されるアリーレン基は任意の位置に置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜6のアルキル基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基;等が挙げられる。
Specific examples of the alkylene group represented by the formula (3) include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, a trimethylene group, a tetramethylene group, a pentamethylene group and the like.
Specific examples of the arylene group represented by the formula (4) include a 1,4-phenylene group, a 1,3-phenylene group, a 1,5-naphthylene group, a 2,6-naphthylene group and the like.
The arylene group represented by the formula (4) may have a substituent at an arbitrary position. Examples of such substituents include alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group and propyl group; halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; and 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group and ethoxy group. Alkoxy group; etc.
また、前記「これらの基の組み合わせ」としては、下記の式(5)〜(10)で表される基等が挙げられる。 In addition, examples of the "combination of these groups" include groups represented by the following formulas (5) to (10).
式(5)〜(8)中、R3、R4、Arは前記と同じ意味を表す。
R5、R6は、それぞれ独立して、前記R3、R4と同様の、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基を表す。
Ar’は、前記Arと同様の、アリーレン基を表す。
また、Ar’で表される基は任意の位置に置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜6のアルキル基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基:等が挙げられる。
c〜lは、それぞれ独立して、1〜10の整数を表す。
Eは、オキシ基(−O−)、イミノ基(−NH−)、カルボニル基(>C=O)、スルホニル基(−SO2−)、アミド基(−NH−C(=O)−、−C(=O)−NH−)、又は、エステル基(−C(=O)−O−、−O−C(=O)−)を表す。
c〜lがそれぞれ2以上のとき、式:−C(R3)(R4)−で表される繰り返し単位同士、式:−C(R5)(R6)−で表される繰り返し単位同士、式:−Ar−で表される繰り返し単位同士、式:−Ar’−で表される繰り返し単位同士は、それぞれ互いに同一であっても、相異なっていてもよい。
これらの中でも、本発明においては、前記式(3)で表されるアルキレン基、式(4)で表されるアリーレン基が好ましく、前記式(3)で表されるアルキレン基がより好ましい。
In formulas (5) to (8), R 3 , R 4 , and Ar have the same meanings as described above.
R 5 and R 6 independently represent hydrogen atoms or alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms, which are the same as those of R 3 and R 4 , respectively.
Ar'represents an arylene group similar to Ar.
Further, the group represented by Ar'may have a substituent at an arbitrary position. Examples of such substituents include alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group and propyl group; halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; and 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group and ethoxy group. Alkoxy group: and the like.
c to l each independently represent an integer of 1 to 10.
E is an oxy group (-O-), an imino group (-NH-), a carbonyl group (> C = O), a sulfonyl group (-SO 2- ), an amide group (-NH-C (= O)-, It represents −C (= O) -NH−) or an ester group (−C (= O) −O−, −OC (= O) −).
When c to l are 2 or more, the repeating units represented by the formula: -C (R 3 ) (R 4 )-, and the repeating units represented by the formula: -C (R 5 ) (R 6 )-. The repeating units represented by each other, the formula: -Ar-, and the repeating units represented by the formula: -Ar'-may be the same or different from each other.
Among these, in the present invention, the alkylene group represented by the formula (3) and the arylene group represented by the formula (4) are preferable, and the alkylene group represented by the formula (3) is more preferable.
式(1)で表される繰り返し単位は、ケイ素原子に酸素原子が3つ結合し、それ以外の基(R1)が1つ結合している構造〔下記式(1−a)〕を有する。 The repeating unit represented by the formula (1) has a structure in which three oxygen atoms are bonded to a silicon atom and one other group (R 1 ) is bonded [the following formula (1-a)]. ..
前記式(1−a)で表される繰り返し単位は、一般にTサイトと総称されるものである。Tサイトの構造としては、具体的には、下記式(1−a1)〜(1−a3)で表されるものが挙げられる。 The repeating unit represented by the above formula (1-a) is generally collectively referred to as a T-site. Specific examples of the structure of the T-site include those represented by the following formulas (1-a1) to (1-a3).
式(1−a1)〜式(1−a3)中、R1は、前記と同じ意味を表す。R5は、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、又は炭素数2〜10のアシル基を表す。R5の炭素数1〜10のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基等が挙げられる。R5の炭素数2〜10のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。複数のR5同士は、すべて同一であっても相異なっていてもよい。また、上記式(1−a1)〜(1−a3)中、*には、Si原子が結合している。 Wherein (1-a1) ~ formula (1-a3), R 1 represents the same meaning as described above. R 5 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an acyl group having 2 to 10 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms of R 5 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an s-butyl group, an isobutyl group and a t-butyl group. The acyl group having 2 to 10 carbon atoms R 5, acetyl group, propionyl group, and benzoyl group. A plurality of R 5 together may all be different mutually be the same. Further, in the above formulas (1-a1) to (1-a3), a Si atom is bonded to *.
〔式(2)で表される繰り返し単位〕
式(2)中、R2はアリール基を表す。アリール基としては、フェニル基、1−ナフチル基、2−ナフチル基等が挙げられる。
また、R2のアリール基は、任意の位置に置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数1〜6のアルキル基;フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子;メトキシ基、エトキシ基等の炭素数1〜6のアルコキシ基;等が挙げられる。
[Repeating unit represented by equation (2)]
In formula (2), R 2 represents an aryl group. Examples of the aryl group include a phenyl group, a 1-naphthyl group, a 2-naphthyl group and the like.
Further, the aryl group of R 2 may have a substituent at an arbitrary position. Examples of such substituents include alkyl groups having 1 to 6 carbon atoms such as methyl group, ethyl group and propyl group; halogen atoms such as fluorine atom, chlorine atom and bromine atom; and 1 to 6 carbon atoms such as methoxy group and ethoxy group. Alkoxy group; etc.
式(2)で表される繰り返し単位は、ケイ素原子に酸素原子が3つ結合し、それ以外の基(R2)が1つ結合している構造〔下記式(2−a)〕を有する(下記)。 The repeating unit represented by the formula (2) has a structure [the following formula (2-a)] in which three oxygen atoms are bonded to the silicon atom and one other group (R 2 ) is bonded. (following).
前記式(2−a)で表される繰り返し単位は、一般にTサイトと総称されるものである。Tサイトの構造としては、具体的には、下記式(2−a1)〜(2−a3)で表されるものが挙げられる。 The repeating unit represented by the formula (2-a) is generally collectively referred to as a T-site. Specific examples of the structure of the T-site include those represented by the following formulas (2-a1) to (2-a3).
式(2−a1)〜式(2−a3)中、R2は前記と同じ意味を表す。R6は、水素原子、炭素数1〜10のアルキル基、又は炭素数2〜10のアシル基を表す。R6の炭素数1〜10のアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、s−ブチル基、イソブチル基、t−ブチル基等が挙げられる。R6の炭素数2〜10のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。複数のR6同士は、すべて同一であっても相異なっていてもよい。また、上記式(1−b1)〜(1−b3)中、*には、Si原子が結合している。 In formulas (2-a1) to (2-a3), R 2 has the same meaning as described above. R 6 represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, or an acyl group having 2 to 10 carbon atoms. Examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms of R 6 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an s-butyl group, an isobutyl group, a t-butyl group and the like. Examples of the acyl group having 2 to 10 carbon atoms of R 6 include an acetyl group, a propionyl group, a benzoyl group and the like. A plurality of R 6 to each other may all be different mutually be the same. Further, in the above formulas (1-b1) to (1-b3), a Si atom is bonded to *.
ポリシルセスキオキサン化合物(A)は、前記式(1)で表される繰り返し単位の含有割合が、全繰り返し単位中、10モル%以上90モル%以下、好ましくは30モル%以上70モル%以下、より好ましくは40モル%以上60モル%以下であり、式(2)で表される繰り返し単位の含有割合が、全繰り返し単位中、10モル%以上90モル%以下、好ましくは30モル%以上70モル%以下、より好ましくは40モル%以上60モル%以下である化合物である。
ポリシルセスキオキサン化合物(A)中の、前記式(1)、(2)で表される繰り返し単位の含有割合は、例えば、ポリシルセスキオキサン化合物(A)の1H−NMRおよび29Si−NMRを測定することにより求めることができる。
In the polysilsesquioxane compound (A), the content ratio of the repeating unit represented by the formula (1) is 10 mol% or more and 90 mol% or less, preferably 30 mol% or more and 70 mol% in all the repeating units. Hereinafter, it is more preferably 40 mol% or more and 60 mol% or less, and the content ratio of the repeating unit represented by the formula (2) is 10 mol% or more and 90 mol% or less, preferably 30 mol% in all the repeating units. The compound is 70 mol% or more, more preferably 40 mol% or more and 60 mol% or less.
The content ratio of the repeating unit represented by the above formulas (1) and (2) in the polysilsesquioxane compound (A) is, for example, 1 H-NMR and 29 of the polysilsesquioxane compound (A). It can be obtained by measuring Si-NMR.
ポリシルセスキオキサン化合物(A)は、分子内に、前記式(1)で表される繰り返し単位と式(2)で表される繰り返し単位を有するものであれば、ランダム共重合体、ブロック共重合体、グラフト共重合体、交互共重合体等のいずれであってもよいが、製造容易性等の観点からは、ランダム共重合体が好ましい。
また、ポリシルセスキオキサン化合物(A)の構造は、ラダー型構造、ダブルデッカー型構造、籠型構造、部分開裂籠型構造、環状型構造、ランダム型構造のいずれの構造であってもよいが、ラダー型構造のものが好ましい。
The polysilsesquioxane compound (A) is a random copolymer or block as long as it has a repeating unit represented by the formula (1) and a repeating unit represented by the formula (2) in the molecule. It may be any of a copolymer, a graft copolymer, an alternating copolymer and the like, but a random copolymer is preferable from the viewpoint of ease of production and the like.
Further, the structure of the polysilsesquioxane compound (A) may be any of a ladder type structure, a double decker type structure, a cage type structure, a partially cleaved cage type structure, a cyclic type structure, and a random type structure. However, a ladder type structure is preferable.
ポリシルセスキオキサン化合物(A)の質量平均分子量(Mw)は、通常、800〜50,000、好ましくは1,000〜45,000、より好ましくは3,000〜40,000、特に好ましくは5,000〜35,000の範囲である。質量平均分子量(Mw)が上記範囲内にあるポリシルセスキオキサン化合物(A)を用いることで、耐熱性及び耐擦傷性に優れる硬化物を与え、かつ、塗布工程における作業性に優れるハードコート剤が得られ易くなる。 The mass average molecular weight (Mw) of the polysilsesquioxane compound (A) is usually 800 to 50,000, preferably 1,000 to 45,000, more preferably 3,000 to 40,000, particularly preferably. It is in the range of 5,000 to 35,000. By using the polysilsesquioxane compound (A) having a mass average molecular weight (Mw) within the above range, a cured product having excellent heat resistance and scratch resistance is given, and a hard coat having excellent workability in the coating process is provided. The agent can be easily obtained.
ポリシルセスキオキサン化合物(A)の分子量分布(Mw/Mn)は、特に制限されないが、通常1.0〜10.0、好ましくは1.1〜6.0の範囲である。分子量分布(Mw/Mn)が上記範囲内にあるポリシルセスキオキサン化合物(A)を用いることで、接着性、耐熱性により優れる硬化物が得られ易くなる。
質量平均分子量(Mw)及び数平均分子量(Mn)は、例えば、テトラヒドロフラン(THF)を溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー(GPC)による標準ポリスチレン換算値として求めることができる。
The molecular weight distribution (Mw / Mn) of the polysilsesquioxane compound (A) is not particularly limited, but is usually in the range of 1.0 to 10.0, preferably 1.1 to 6.0. By using the polysilsesquioxane compound (A) having a molecular weight distribution (Mw / Mn) within the above range, it becomes easy to obtain a cured product having better adhesiveness and heat resistance.
The mass average molecular weight (Mw) and the number average molecular weight (Mn) can be determined, for example, as standard polystyrene-equivalent values by gel permeation chromatography (GPC) using tetrahydrofuran (THF) as a solvent.
本発明において、ポリシルセスキオキサン化合物(A)は一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。 In the present invention, the polysilsesquioxane compound (A) can be used alone or in combination of two or more.
〔ポリシルセスキオキサン化合物(A)の製造方法〕
ポリシルセスキオキサン化合物(A)の製造方法は特に限定されない。例えば、下記式(1−1)
[Method for producing polysilsesquioxane compound (A)]
The method for producing the polysilsesquioxane compound (A) is not particularly limited. For example, the following equation (1-1)
(式中、R1は前記と同じ意味を表す。R7は、炭素数1〜10のアルキル基、又は炭素数2〜10のアシル基を表し、X1はハロゲン原子を表し、pは0〜3の整数を表す。複数のR7、及び複数のX1は、それぞれ、互いに同一であっても、相異なっていてもよい。)で表されるシラン化合物(1−1)の少なくとも1種と、下記式(2−1) (In the formula, R 1 has the same meaning as described above. R 7 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an acyl group having 2 to 10 carbon atoms, X 1 represents a halogen atom, and p is 0. represents an -3 integer. more R 7, and a plurality of X 1 are each, be the same as each other, at least one may be different from each other.) a silane compound represented by (1-1) Species and the following formula (2-1)
(式中、R2は前記と同じ意味を表す。R8は、炭素数1〜10のアルキル基、又は炭素数2〜10のアシル基を表し、X2はハロゲン原子を表し、qは0〜3の整数を表す。複数のR8、及び複数のX2は、それぞれ、互いに同一であっても、相異なっていてもよい。)で表されるシラン化合物(2−1)の少なくとも1種とを重縮合させることにより、ポリシルセスキオキサン化合物(A)を製造することができる。 (In the formula, R 2 has the same meaning as described above. R 8 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an acyl group having 2 to 10 carbon atoms, X 2 represents a halogen atom, and q represents 0. represents an -3 integer. plurality of R 8 and a plurality of X 2, respectively, be the same as each other, at least one may be different from each other.) a silane compound represented by (2-1) The polysilsesquioxane compound (A) can be produced by polycondensing with the seed.
式(1−1)、(2−1)中、R7、R8の炭素数1〜10のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
R7、R8の炭素数2〜10のアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ベンゾイル基等が挙げられる。
X1、X2のハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子等が挙げられる。
In the formulas (1-1) and (2-1), examples of the alkyl group having 1 to 10 carbon atoms of R 7 and R 8 include a methyl group, an ethyl group and a propyl group.
Examples of the acyl group having 2 to 10 carbon atoms of R 7 and R 8 include an acetyl group, a propionyl group, and a benzoyl group.
Examples of the halogen atom of X 1 and X 2 include a chlorine atom and a bromine atom.
シラン化合物(1−1)の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリブロモシラン、ビニルトリアセトキシシラン等のビニル基含有シラン化合物;
アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリアセトキシシラン、アリルトリクロロシラン、アリルトリブロモシラン、アリルトリアセトキシシラン等のアリル基含有シラン化合物;
γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリクロロシラン、γ−アクリロキシプロピルトリブロモシラン、γ―アクリロキシプロピルトリアセトキシシラン等のγ−アクリロキシアルキル基含有シラン化合物;
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリクロロシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリブロモシラン、γ−メタクリロキシトリアセトキシシラン等のγ−メタクリロキシアルキル基含有シラン化合物;
α−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリメトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリエトキシシラン、α−グリシドキシエチルトリクロロシラン、α−グリシドキシエチルトリブロモシラン、α−グリシドキシトリアセトキシシラン、β−グリシドキシエチルトリクロロシラン、β−グリシドキシエチルトリブロモシラン、β−グリシドキシトリアセトキシシラン等のエポキシ基含有シラン化合物;等が挙げられる。
これらの中でも、シラン化合物(1−1)としては、ビニル基含有シラン化合物が好ましい。
シラン化合物(1−1)は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
Specific examples of the silane compound (1-1) include vinyl group-containing silane compounds such as vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltribromosilane, and vinyltriacetoxysilane;
Allyl group-containing silane compounds such as allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, allyltriacetoxysilane, allyltrichlorosilane, allyltribromosilane, allyltriacetoxysilane;
γ-Acryloxyalkyl such as γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyltriethoxysilane, γ-acryloxypropyltrichlorosilane, γ-acryloxypropyltribromosilane, γ-acryloxypropyltriacetoxysilane Group-containing silane compound;
γ-Methyloxyalkyl groups such as γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrichlorosilane, γ-methacryloxypropyltribromosilane, γ-methacryloxytriacetoxysilane Containing silane compound;
α-glycidoxyethyl trimethoxysilane, α-glycidoxyethyl triethoxysilane, β-glycidoxyethyl trimethoxysilane, β-glycidoxyethyl triethoxysilane, α-glycidoxyethyl trichlorosilane, α Epoxy group-containing silane compounds such as −glycidoxyethyltribromosilane, α-glycidoxytriacetoxysilane, β-glycidoxyethyltrichlorosilane, β-glycidoxyethyltribromosilane, β-glycidoxytriacetoxysilane ; Etc. can be mentioned.
Among these, as the silane compound (1-1), a vinyl group-containing silane compound is preferable.
The silane compound (1-1) can be used alone or in combination of two or more.
シラン化合物(2−1)の具体例としては、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、4−メチルフェニルトリメトキシシラン、4−メチルフェニルトリエトキシシラン、3−クロロフェニルトリメトキシシラン、3−クロロフェニルトリエトキシシラン、3,5−ジメトキシフェニルトリメトキシシラン、1−ナフチルトリメトキシシラン、2−ナフチルトリメトキシシラン等のアリールトリアルコキシシラン化合物類;
フェニルトリアセトキシシラン、4−メチルフェニルトリアセトキシシラン、3−クロロフェニルトリアセトキシシラン、3,5−ジメトキシトリアセトキシシラン、1−ナフチルトリアセトキシシラン、2−ナフチルトリアセトキシシラン等のアリールトリアシルオキシシラン化合物類;
フェニルクロロジメトキシシラン、フェニルクロロジエトキシシラン、フェニルジクロロメトキシシラン、フェニルブロモジメトキシシラン、4−メチルフェニルクロロジメトキシシラン、4−メチルフェニルクロロジエトキシシラン、1−ナフチルジクロロメトキシシラン、2−ナフチルブロモジメトキシシラン等のアリールハロゲノアルコキシシラン化合物類;
フェニルトリクロロシラン、フェニルトリブロモシラン、4−メチルフェニルトリクロロシラン、4−メチルフェニルトリブロモシラン、1−ナフチルトリクロロシラン、2−ナフチルトリブロモシラン等のアリールトリハロゲノシラン化合物類;等が挙げられる。
これらの中でも、シラン化合物(2−1)としては、耐熱性及び耐擦傷性により優れる硬化物を与えるハードコート剤が得られることから、アリールトリアルコキシシラン化合物類が好ましい。
シラン化合物(2−1)は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
Specific examples of the silane compound (2-1) include phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltriisopropoxysilane, 4-methylphenyltrimethoxysilane, 4-methylphenyltriethoxysilane, and 3-chlorophenyltrimethoxy. Aryltrialkoxysilane compounds such as silane, 3-chlorophenyltriethoxysilane, 3,5-dimethoxyphenyltrimethoxysilane, 1-naphthyllimethoxysilane, 2-naphthyllimethoxysilane;
Aryltriacyloxysilane compounds such as phenyltriacetoxysilane, 4-methylphenyltriacetoxysilane, 3-chlorophenyltriacetoxysilane, 3,5-dimethoxytriacetoxysilane, 1-naphthylriacetoxysilane, 2-naphthylriacetoxysilane ;
Phenylchlorodimethoxysilane, phenylchlorodiethoxysilane, phenyldichloromethoxysilane, phenylbromodimethoxysilane, 4-methylphenylchlorodimethoxysilane, 4-methylphenylchlorodiethoxysilane, 1-naphthyldichloromethoxysilane, 2-naphthylbromodimethoxy Arylhalogenoalkoxysilane compounds such as silane;
Examples thereof include aryltrihalogenosilane compounds such as phenyltrichlorosilane, phenyltribromosilane, 4-methylphenyltrichlorosilane, 4-methylphenyltribromosilane, 1-naphthyllichlorosilane, and 2-naphthyllibromosilane.
Among these, as the silane compound (2-1), aryltrialkoxysilane compounds are preferable because a hard coating agent that gives a cured product having better heat resistance and scratch resistance can be obtained.
The silane compound (2-1) can be used alone or in combination of two or more.
前記シラン化合物(1−1)及びシラン化合物(2−1)を重縮合させる方法としては、特に限定されない。例えば、溶媒中、又は無溶媒で、シラン化合物(1−1)及びシラン化合物(2−1)の混合物(以下、「シラン化合物の混合物」ということがある。)に、所定量の重縮合触媒を添加し、所定温度で撹拌する方法が挙げられる。
より具体的には、(a)前記シラン化合物の混合物に所定量の酸触媒を添加し、所定温度で撹拌する方法、(b)前記シラン化合物の混合物に、所定量の塩基触媒を添加し、所定温度で撹拌する方法、(c)前記シラン化合物の混合物に、所定量の酸触媒を添加し、所定温度で撹拌した後、過剰量の塩基触媒を添加して、反応系を塩基性とし、所定温度で撹拌する方法、(d)溶媒中、又は無溶媒で、シラン化合物(1−1)に、所定量の重縮合触媒を添加し、所定温度で撹拌した後、シラン化合物(2−1)の所定量を添加して、全容を所定温度で攪拌する方法、(e)溶媒中、又は無溶媒で、シラン化合物(2−1)に、所定量の重縮合触媒を添加し、所定温度で撹拌した後、シラン化合物(1−1)の所定量を添加して、全容を所定温度で攪拌する方法;が挙げられる。
これらの中でも、効率よく目的とするポリシルセスキオキサン化合物(A)を得ることができることから、(a)又は(c)の方法が好ましい。
The method for polycondensing the silane compound (1-1) and the silane compound (2-1) is not particularly limited. For example, a predetermined amount of polycondensation catalyst is added to a mixture of a silane compound (1-1) and a silane compound (2-1) (hereinafter, may be referred to as a "mixture of a silane compound") in a solvent or without a solvent. Is added, and the mixture is stirred at a predetermined temperature.
More specifically, (a) a method of adding a predetermined amount of an acid catalyst to the mixture of the silane compounds and stirring at a predetermined temperature, and (b) adding a predetermined amount of a base catalyst to the mixture of the silane compounds. Method of stirring at a predetermined temperature, (c) A predetermined amount of an acid catalyst is added to the mixture of the silane compounds, and after stirring at a predetermined temperature, an excess amount of a base catalyst is added to make the reaction system basic. Method of stirring at a predetermined temperature, (d) A predetermined amount of polycondensation catalyst is added to the silane compound (1-1) in a solvent or without a solvent, and the mixture is stirred at a predetermined temperature and then the silane compound (2-1). ) Is added and the whole volume is stirred at a predetermined temperature. (E) A predetermined amount of polycondensation catalyst is added to the silane compound (2-1) in a solvent or without a solvent to obtain a predetermined temperature. After stirring with, a predetermined amount of the silane compound (1-1) is added, and the whole volume is stirred at a predetermined temperature;
Among these, the method (a) or (c) is preferable because the desired polysilsesquioxane compound (A) can be efficiently obtained.
用いる重縮合触媒は、酸触媒及び塩基触媒のいずれであってもよい。また、2以上の重縮合触媒を組み合わせて用いてもよい。
酸触媒としては、リン酸、塩酸、ホウ酸、硫酸、硝酸等の無機酸;クエン酸、酢酸、メタンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルホン酸等の有機酸;等が挙げられる。これらの中でも、リン酸、塩酸、ホウ酸、硫酸、クエン酸、酢酸、及びメタンスルホン酸から選ばれる少なくとも1種が好ましい。
The polycondensation catalyst used may be either an acid catalyst or a base catalyst. Further, two or more polycondensation catalysts may be used in combination.
Examples of the acid catalyst include inorganic acids such as phosphoric acid, hydrochloric acid, boric acid, sulfuric acid and nitric acid; and organic acids such as citric acid, acetic acid, methanesulfonic acid, trifluoromethanesulfonic acid, benzenesulfonic acid and p-toluenesulfonic acid; Can be mentioned. Among these, at least one selected from phosphoric acid, hydrochloric acid, boric acid, sulfuric acid, citric acid, acetic acid, and methanesulfonic acid is preferable.
塩基触媒としては、アンモニア水;トリメチルアミン、トリエチルアミン、リチウムジイソプロピルアミド、リチウムビス(トリメチルシリル)アミド、ピリジン、1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン、アニリン、ピコリン、1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン、イミダゾール等の有機塩基;水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウム等の有機塩水酸化物;ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ナトリウムt−ブトキシド、カリウムt−ブトキシド等の金属アルコキシド;水素化ナトリウム、水素化カルシウム等の金属水素化物;水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム等の金属水酸化物;炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸マグネシウム等の金属炭酸塩;炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等の金属炭酸水素塩;等が挙げられる。 As the base catalyst, aqueous ammonia; trimethylamine, triethylamine, lithium diisopropylamide, lithium bis (trimethylsilyl) amide, pyridine, 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene, aniline, picolin, 1,4- Diazabicyclo [2.2.2] Organic bases such as octane and imidazole; Organic salt hydroxides such as tetramethylammonium hydroxide and tetraethylammonium hydroxide; sodium methoxydone, sodium alkoxide, sodium t-butoxide, potassium t-butoxide Metal alkoxides such as; metal hydrides such as sodium hydride and calcium hydride; metal hydroxides such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and calcium hydroxide; metal carbonates such as sodium carbonate, potassium carbonate and magnesium carbonate; Metallic hydrogen carbonates such as sodium hydrogen carbonate and potassium hydrogen carbonate; and the like.
重縮合触媒の使用量は、前記シラン化合物の混合物の総モル量に対して、通常、0.05〜10mol%、好ましくは0.1〜5mol%の範囲である。 The amount of the polycondensation catalyst used is usually in the range of 0.05 to 10 mol%, preferably 0.1 to 5 mol%, based on the total molar amount of the mixture of the silane compounds.
溶媒を用いる場合、用いる溶媒は、シラン化合物(1−1)及びシラン化合物(2−1)の種類等に応じて、適宜選択することができる。例えば、水;ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類;酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル等のエステル類;アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類;メチルアルコール、エチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、s−ブチルアルコール、t−ブチルアルコール等のアルコール類;等が挙げられる。これらの溶媒は1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。また、上記(c)の方法を採用する場合、酸触媒の存在下、水系で重縮合反応を行った後、反応液に、有機溶媒と過剰量の塩基触媒(アンモニア水等)を添加し、塩基性条件下で、更に重縮合反応を行うようにしてもよい。 When a solvent is used, the solvent to be used can be appropriately selected depending on the types of the silane compound (1-1) and the silane compound (2-1) and the like. For example, water; aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; esters such as methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate and methyl propionate; ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone. ; Alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, s-butyl alcohol, t-butyl alcohol; and the like. These solvents can be used alone or in combination of two or more. When the method (c) above is adopted, a polycondensation reaction is carried out in an aqueous system in the presence of an acid catalyst, and then an organic solvent and an excessive amount of a base catalyst (ammonia water, etc.) are added to the reaction solution. The polycondensation reaction may be further carried out under basic conditions.
溶媒の使用量は、前記シラン化合物の混合物の総モル量1モル当たり、0.1〜10リットル、好ましくは0.1〜2リットルである。 The amount of the solvent used is 0.1 to 10 liters, preferably 0.1 to 2 liters, per 1 mol of the total molar amount of the mixture of the silane compounds.
前記シラン化合物の混合物を重縮合させるときの温度は、通常0℃から用いる溶媒の沸点までの温度範囲、好ましくは20〜100℃の範囲である。反応温度があまりに低いと重縮合反応の進行が不十分となる場合がある。一方、反応温度が高くなりすぎるとゲル化抑制が困難となる。反応は、通常30分から20時間で完結する。 The temperature at which the mixture of the silane compounds is polycondensed is usually in the temperature range from 0 ° C. to the boiling point of the solvent used, preferably in the range of 20 to 100 ° C. If the reaction temperature is too low, the progress of the polycondensation reaction may be insufficient. On the other hand, if the reaction temperature becomes too high, it becomes difficult to suppress gelation. The reaction is usually complete in 30 minutes to 20 hours.
反応終了後は、酸触媒を用いた場合は、反応溶液に炭酸水素ナトリウム等のアルカリ水溶液を添加することにより、塩基触媒を用いた場合は、反応溶液に塩酸等の酸を添加することにより中和を行い、その際に生じる塩を濾別又は水洗等により除去し、目的とするポリシルセスキオキサン化合物(A)を得ることができる。 After completion of the reaction, when an acid catalyst is used, an alkaline aqueous solution such as sodium hydrogen carbonate is added to the reaction solution, and when a base catalyst is used, an acid such as hydrochloric acid is added to the reaction solution. The sum is performed, and the salt generated at that time is removed by filtration, washing with water, or the like to obtain the desired polysilsesquioxane compound (A).
上記方法により、ポリシルセスキオキサン化合物(A)を製造する際、シラン化合物(1−1)のOR7又はX1、シラン化合物(2−1)のOR8又はX2のうち、脱アルコール等が起こらなかった部分は、ポリシルセスキオキサン化合物(A)中に残存する。このため、ポリシルセスキオキサン化合物(A)中に、前記式(1−a)、(2−a)で表される繰り返し単位以外に、前記式(1−a1)、式(1−a2)、式(1−a3)、式(2−a1)、式(2−a2)、式(2−a3)で表される繰り返し単位が含まれることがある。 When the polysilsesquioxane compound (A) is produced by the above method, dealcoholization is performed among OR 7 or X 1 of the silane compound (1-1) and OR 8 or X 2 of the silane compound (2-1). The portion where the above did not occur remains in the polysilsesquioxane compound (A). Therefore, in the polysilsesquioxane compound (A), in addition to the repeating units represented by the formulas (1-a) and (2-a), the formulas (1-a1) and (1-a2) are included. ), Formula (1-a3), formula (2-a1), formula (2-a2), and repeating units represented by formula (2-a3) may be included.
(B)成分
本発明のハードコート剤は、(B)成分として、反応性官能基を有する無機フィラー(以下、この(B)成分を「無機フィラー(B)」ということがある。)を含有する。
(B)成分を含有するハードコート剤は、塗布工程における作業性に優れる。
Component (B) The hard coat agent of the present invention contains an inorganic filler having a reactive functional group as the component (B) (hereinafter, the component (B) may be referred to as "inorganic filler (B)"). To do.
The hard coating agent containing the component (B) is excellent in workability in the coating process.
無機フィラー(B)に含まれる反応性官能基とは、(A)成分の反応性官能基と反応して化学結合を形成し得る基をいう。この反応性官能基としては、ポリシルセスキオキサン化合物(A)が有する反応性官能基として示したものと同様のものが挙げられる。なかでも、炭素−炭素不飽和結合を有する基が好ましく、(メタ)アクリロイルオキシ基がより好ましい。 The reactive functional group contained in the inorganic filler (B) refers to a group capable of reacting with the reactive functional group of the component (A) to form a chemical bond. Examples of this reactive functional group include those similar to those shown as the reactive functional group of the polysilsesquioxane compound (A). Of these, a group having a carbon-carbon unsaturated bond is preferable, and a (meth) acryloyloxy group is more preferable.
無機フィラー(B)は、修飾処理により、表面に反応性官能基が導入された無機フィラーである、
無機フィラー(B)を構成する無機成分(修飾処理前の無機フィラーの構成成分)としては、金属酸化物、金属水酸化物、金属塩等が挙げられる。
The inorganic filler (B) is an inorganic filler in which a reactive functional group is introduced into the surface by a modification treatment.
Examples of the inorganic component (constituent component of the inorganic filler before the modification treatment) constituting the inorganic filler (B) include metal oxides, metal hydroxides, metal salts and the like.
金属酸化物としては、シリカ、酸化チタン、アルミナ、ベーマイト、酸化クロム、酸化ニッケル、酸化銅、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化インジウム、酸化亜鉛等が挙げられる。
金属水酸化物としては、水酸化アルミニウム等が挙げられる。
金属塩としては、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の金属炭酸塩;硫酸カルシウム、硫酸バリウム等の金属硫酸塩;珪酸アルミニウム、珪酸カルシウム、珪酸マグネシウム等の金属珪酸塩;等が挙げられる。
これらの中でも、無機フィラー(B)を構成する無機成分としては、金属酸化物が好ましく、シリカがより好ましい。
Examples of the metal oxide include silica, titanium oxide, alumina, boehmite, chromium oxide, nickel oxide, copper oxide, titanium oxide, zirconium oxide, indium oxide, zinc oxide and the like.
Examples of the metal hydroxide include aluminum hydroxide.
Examples of the metal salt include metal carbonates such as calcium carbonate and magnesium carbonate; metal sulfates such as calcium sulfate and barium sulfate; and metal silicates such as aluminum silicate, calcium silicate and magnesium silicate; and the like.
Among these, as the inorganic component constituting the inorganic filler (B), a metal oxide is preferable, and silica is more preferable.
無機フィラー(B)の形状は、球状、鎖状、針状、板状、片状、棒状、繊維状等のいずれであってもよいが、球状であるのが好ましい。ここで、球状とは、真球状の他、回転楕円体、卵形、金平糖状、まゆ状等球体に近似できる多面体形状を含む略球状を意味する。 The shape of the inorganic filler (B) may be spherical, chain-shaped, needle-shaped, plate-shaped, flaky, rod-shaped, fibrous, or the like, but is preferably spherical. Here, the spherical shape means a substantially spherical shape including a polyhedral shape that can be approximated to a spheroid, an oval shape, a konpeito shape, an eyebrows shape, and the like, in addition to a true sphere.
無機フィラー(B)の大きさは特に限定されない。無機フィラー(B)の平均粒径は、通常、5〜1000nm、好ましくは10〜500nm、より好ましくは20〜100nmである。
無機フィラー(B)の平均粒径が上記範囲内にあることで、透明性に優れ、かつ、耐擦傷性に優れるハードコート層を効率よく形成することができる。
無機フィラー(B)の平均粒径は、BET法により得られた比表面積を利用して算出することができる。
The size of the inorganic filler (B) is not particularly limited. The average particle size of the inorganic filler (B) is usually 5 to 1000 nm, preferably 10 to 500 nm, and more preferably 20 to 100 nm.
When the average particle size of the inorganic filler (B) is within the above range, a hard coat layer having excellent transparency and scratch resistance can be efficiently formed.
The average particle size of the inorganic filler (B) can be calculated by using the specific surface area obtained by the BET method.
本発明に用いる無機フィラー(B)の多くは、公知物質である。このものは、例えば、表面修飾剤の存在下、無機微粒子を、適当な分散媒(水又は有機溶媒等)中に分散させる方法等の公知の方法により得ることができる。用いる表面修飾剤としては、飽和又は不飽和カルボン酸、当該カルボン酸に対応する酸無水物、酸塩化物、エステル及び酸アミド、アミノ酸、イミン、ニトリル、イソニトリル、エポキシ化合物、アミン、β−ジカルボニル化合物、シラン、及び官能基を有する金属化合物よりなる群から選択される1種以上の化合物が挙げられる。
また、本発明においては、無機フィラー(B)として、市販品をそのまま用いることもできる。
Most of the inorganic fillers (B) used in the present invention are known substances. This can be obtained by a known method such as a method of dispersing inorganic fine particles in an appropriate dispersion medium (water, organic solvent, etc.) in the presence of a surface modifier. The surface modifiers used include saturated or unsaturated carboxylic acids, acid anhydrides, acidified products, esters and acid amides corresponding to the carboxylic acids, amino acids, imines, nitriles, isonitriles, epoxy compounds, amines, and β-dicarbonyl. Examples thereof include one or more compounds selected from the group consisting of compounds, silanes, and metal compounds having a functional group.
Further, in the present invention, a commercially available product can be used as it is as the inorganic filler (B).
本発明のハードコート剤において、無機フィラー(B)は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。 In the hard coating agent of the present invention, the inorganic filler (B) can be used alone or in combination of two or more.
本発明のハードコート剤中の無機フィラー(B)の含有量は特に限定されない。無機フィラー(B)の含有量は(A)成分に対して、通常、10〜70質量%、好ましくは15〜65質量%、より好ましくは18〜60質量%である。
特に、無機フィラー(B)の含有量が、(A)成分に対して10〜70質量%のハードコート剤を使用すると、硬度が高いハードコート層を形成し易くなる。
また、無機フィラー(B)の含有量が、(A)成分に対して10〜70質量%のハードコート剤を使用すると、耐擦傷性に優れるハードコート層を形成し易くなる。
The content of the inorganic filler (B) in the hard coating agent of the present invention is not particularly limited. The content of the inorganic filler (B) is usually 10 to 70% by mass, preferably 15 to 65% by mass, and more preferably 18 to 60% by mass with respect to the component (A).
In particular, when a hard coat agent having an inorganic filler (B) content of 10 to 70% by mass with respect to the component (A) is used, a hard coat layer having a high hardness is easily formed.
Further, when a hard coat agent having an inorganic filler (B) content of 10 to 70% by mass with respect to the component (A) is used, it becomes easy to form a hard coat layer having excellent scratch resistance.
本発明のハードコート剤は、本発明の効果を阻害しない範囲において、(A)成分、(B)成分以外に他の成分を含有してもよい。他の成分としては、溶媒や光重合開始剤が挙げられる。 The hard coat agent of the present invention may contain other components in addition to the components (A) and (B) as long as the effects of the present invention are not impaired. Other components include solvents and photopolymerization initiators.
溶媒を含有するハードコート剤は塗工性に優れるため、溶媒を含有するハードコート剤を使用することで、薄いハードコート層を効率よく形成することができる。
溶媒としては、ヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒;トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒、塩化メチレン、塩化エチレン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、1−メトキシ−2−プロパノール等のアルコール系溶媒;アセトン、メチルエチルケトン、2−ペンタノン、メチルイソブチルケトン、イソホロン等のケトン系溶媒;酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒;エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒等が挙げられる。
溶媒は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
Since the hard coat agent containing a solvent is excellent in coatability, a thin hard coat layer can be efficiently formed by using the hard coat agent containing a solvent.
Examples of the solvent include aliphatic hydrocarbon solvents such as hexane, heptane and cyclohexane; aromatic hydrocarbon solvents such as toluene and xylene, halogenated hydrocarbon solvents such as methylene chloride and ethylene chloride; methanol, ethanol and propanol. Alcohol-based solvents such as butanol and 1-methoxy-2-propanol; ketone solvents such as acetone, methyl ethyl ketone, 2-pentanone, methyl isobutyl ketone and isophorone; ester solvents such as ethyl acetate and butyl acetate; cellosolves such as ethyl cellosolve Examples include system solvents and the like.
The solvent may be used alone or in combination of two or more.
本発明のハードコート剤が溶媒を含有するとき、溶媒の含有量は、本発明のハードコート剤の固形分濃度が30〜95質量%以上になる量が好ましく、35〜90質量%になる量がより好ましく、40〜85質量%になる量がさらに好ましい。 When the hard coat agent of the present invention contains a solvent, the content of the solvent is preferably an amount such that the solid content concentration of the hard coat agent of the present invention is 30 to 95% by mass or more, and is an amount of 35 to 90% by mass. Is more preferable, and an amount of 40 to 85% by mass is further preferable.
光重合開始剤を含有するハードコート剤を使用することで、ハードコート剤を塗工した後、得られた塗膜を効率よく硬化させることができる。
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−プロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−2(ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、ベンゾフェノン、p−フェニルベンゾフェノン、4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−ターシャリ−ブチルアントラキノン、2−アミノアントラキノン、2−メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、p−ジメチルアミノ安息香酸エステル等が挙げられる。
光重合開始剤は、1種単独で、あるいは2種以上を組み合わせて用いることができる。
By using a hard coating agent containing a photopolymerization initiator, the obtained coating film can be efficiently cured after the hard coating agent is applied.
Examples of the photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, acetophenone, dimethylaminoacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, and the like. 2,2-diethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl]- 2-morpholino-propane-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl-2 (hydroxy-2-propyl) ketone, benzophenone, p-phenylbenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, dichlorobenzophenone, 2- Methylanthraquinone, 2-ethylanthraquinone, 2-tershary-butylantraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, benzyl Examples thereof include dimethyl ketal, acetophenone dimethyl ketal, p-dimethylaminobenzoic acid ester and the like.
The photopolymerization initiator may be used alone or in combination of two or more.
本発明のハードコート剤が光重合開始剤を含有するとき、光重合開始剤の含有量は、ハードコート剤の固形分全量に対して、通常、0.01〜10質量%、好ましくは0.5〜〜10質量%である。 When the hard coat agent of the present invention contains a photopolymerization initiator, the content of the photopolymerization initiator is usually 0.01 to 10% by mass, preferably 0.%, based on the total solid content of the hard coat agent. It is 5 to 10% by mass.
本発明のハードコート剤は、低分子量成分が少なく、かつ脱水や脱アルコールを生じるシラノール基およびアルコキシ基の残存量の少ないポリシルセスキオキサン化合物と無機フィラーから成る混合物であるものが好ましい。そのようなハードコート剤を用いてハードコート層を形成することで、耐熱性と耐擦傷性に優れる積層フィルムを得ることができる。 The hard coat agent of the present invention is preferably a mixture of a polysilsesquioxane compound having a small amount of low molecular weight components and a small amount of residual silanol groups and alkoxy groups that cause dehydration and dealcohol, and an inorganic filler. By forming a hard coat layer using such a hard coat agent, a laminated film having excellent heat resistance and scratch resistance can be obtained.
2)積層フィルム
本発明の積層フィルムは、基材層とハードコート層を有する積層フィルムであって、前記ハードコート層が、本発明のハードコート剤を用いて形成されたものであることを特徴とする。
2) Laminated film The laminated film of the present invention is a laminated film having a base material layer and a hard coat layer, and the hard coat layer is formed by using the hard coat agent of the present invention. And.
本発明の積層フィルムを構成する基材層は、ハードコート層を保持するために用いられる。
基材層の種類は特に限定されない。例えば、合成樹脂フィルムを基材層として利用することができる。
合成樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリスチレン、三酢酸セルロース、セロファン、ポリカーボネート等のフィルムが挙げられる。
The base material layer constituting the laminated film of the present invention is used to hold the hard coat layer.
The type of the base material layer is not particularly limited. For example, a synthetic resin film can be used as a base material layer.
Examples of the synthetic resin film include polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, ethylene-vinyl acetate copolymer, ethylene-vinyl alcohol copolymer, polyethylene terephthalate, polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, and polymethacrylic acid. Examples thereof include films of methyl, methyl polyacrylate, polyethyl methacrylate, polystyrene, cellulose triacetate, cellophane, polycarbonate and the like.
基材層(合成樹脂フィルム)の厚みは特に限定されず、積層フィルムの用途等に応じて適宜決定することができる。
基材層の厚みは、通常、10〜500μm、好ましくは20〜200μmである。
The thickness of the base material layer (synthetic resin film) is not particularly limited, and can be appropriately determined depending on the use of the laminated film and the like.
The thickness of the base material layer is usually 10 to 500 μm, preferably 20 to 200 μm.
本発明の積層フィルムを構成するハードコート層は、本発明のハードコート剤を用いて形成されたものである。
ハードコート層の厚みは、通常、0.1〜50μm、好ましくは0.5〜20μmである。
The hard coat layer constituting the laminated film of the present invention is formed by using the hard coat agent of the present invention.
The thickness of the hard coat layer is usually 0.1 to 50 μm, preferably 0.5 to 20 μm.
ハードコート層は、基材層用の合成樹脂フィルム上に本発明のハードコート剤を塗工し、得られた塗膜を硬化させることにより形成することができる。 The hard coat layer can be formed by applying the hard coat agent of the present invention on a synthetic resin film for a base material layer and curing the obtained coating film.
合成樹脂フィルム上にハードコート剤を塗工する方法としては、特に制限はなく公知の方法を採用できる。例えば、ロールコート法、カーテンフローコート法、マイヤバーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、グラビアリバースコート法、エアーナイフコート法、キスコート法、ブレードコート法、スムーズコート法、ロールナイフコート法等が挙げられる。 The method of applying the hard coating agent on the synthetic resin film is not particularly limited, and a known method can be adopted. For example, roll coat method, curtain flow coat method, mayer bar coat method, reverse coat method, gravure coat method, gravure reverse coat method, air knife coat method, kiss coat method, blade coat method, smooth coat method, roll knife coat method, etc. Can be mentioned.
塗膜を硬化させる方法は特に限定されない。例えば、塗膜に対して紫外線、電子線等の活性エネルギー線を照射することによって塗膜を硬化させることができる。
紫外線照射は、高圧水銀ランプ、フュージョンHランプ、キセノンランプ等によって行うことができる。紫外線の照射量は、照度50〜1000mW/cm2、光量50〜1000mJ/cm2程度が好ましい。一方、電子線照射は、電子線加速器等によって行うことができる。電子線の照射量は、10〜1000krad程度が好ましい。
The method for curing the coating film is not particularly limited. For example, the coating film can be cured by irradiating the coating film with active energy rays such as ultraviolet rays and electron beams.
Ultraviolet irradiation can be performed by a high-pressure mercury lamp, a fusion H lamp, a xenon lamp, or the like. The dose of ultraviolet rays, illuminance 50~1000mW / cm 2, about the amount of light 50~1000mJ / cm 2 is preferred. On the other hand, electron beam irradiation can be performed by an electron beam accelerator or the like. The irradiation amount of the electron beam is preferably about 10 to 1000 grad.
ハードコート層を形成する際は、必要に応じて、塗膜の硬化前又は塗膜の硬化後に乾燥処理を行ってもよい。
乾燥処理条件は特に限定されない。乾燥温度は、例えば、40〜150℃、好ましくは60〜140℃であり、乾燥時間は、例えば、30秒から1時間、好ましくは1〜30分である。
When forming the hard coat layer, if necessary, the drying treatment may be performed before the coating film is cured or after the coating film is cured.
The drying treatment conditions are not particularly limited. The drying temperature is, for example, 40 to 150 ° C., preferably 60 to 140 ° C., and the drying time is, for example, 30 seconds to 1 hour, preferably 1 to 30 minutes.
本発明の積層フィルムのハードコート層は、本発明のハードコート剤を用いて形成されたものであり、耐熱性及び耐擦傷性に優れる。 The hard coat layer of the laminated film of the present invention is formed by using the hard coat agent of the present invention, and is excellent in heat resistance and scratch resistance.
本発明の積層フィルムのハードコート層が耐熱性に優れることは、本発明のハードコート剤から得られるハードコート層を、例えば、熱重量分析計(TGA)を用いて、5%重量減少温度を測定した場合に、5%重量減少温度が高いことから確認することができる。
本発明のハードコート剤から得られるハードコート層の5%重量減少温度は、通常350℃以上、好ましくは360℃以上、より好ましくは370℃以上である。
本発明の積層フィルムのハードコート層が、耐擦傷性に優れることは、例えば、スチールウール#0000を用いて、本発明の積層フィルムのハードコート層の表面を、250g/cm2荷重で、50mm、10往復擦った後においても、その表面に全く傷がないことで確認することができる。
The excellent heat resistance of the hard coat layer of the laminated film of the present invention means that the hard coat layer obtained from the hard coat agent of the present invention can be subjected to a 5% weight loss temperature using, for example, a thermogravimetric analyzer (TGA). When measured, it can be confirmed from the high 5% weight loss temperature.
The 5% weight loss temperature of the hard coat layer obtained from the hard coat agent of the present invention is usually 350 ° C. or higher, preferably 360 ° C. or higher, and more preferably 370 ° C. or higher.
The hard coat layer of the laminated film of the present invention is excellent in abrasion resistance, for example, by using a steel wool # 0000, the surface of the hard coat layer of the laminated film of the present invention, at 250 g / cm 2 load, 50 mm It can be confirmed that there is no scratch on the surface even after rubbing 10 times.
本発明の積層フィルムのハードコート層は硬度が高く、かつ、耐擦傷性に優れる。
本発明の積層フィルムを構成するハードコート層は、実施例に記載の方法に従って鉛筆硬度試験を行うと、通常、F以上の硬度を示し、H以上が好ましい。
本発明の積層フィルムを構成するハードコート層は、実施例に記載の方法に従って耐擦傷性を評価した場合、通常は傷が観察されない。
The hard coat layer of the laminated film of the present invention has high hardness and excellent scratch resistance.
The hard coat layer constituting the laminated film of the present invention usually shows a hardness of F or more when a pencil hardness test is performed according to the method described in Examples, and H or more is preferable.
When the scratch resistance of the hard coat layer constituting the laminated film of the present invention is evaluated according to the method described in Examples, no scratches are usually observed.
本発明の積層フィルムは光学特性に優れる。
本発明の積層フィルムの全光線透過率は、通常89%以上、好ましくは90%以上である。
本発明の積層フィルムのヘイズは、通常0.75以下、好ましくは0.72以下である。
また、本発明の積層フィルムのb*は、通常0.3以下、好ましくは0.25以下である。
The laminated film of the present invention has excellent optical characteristics.
The total light transmittance of the laminated film of the present invention is usually 89% or more, preferably 90% or more.
The haze of the laminated film of the present invention is usually 0.75 or less, preferably 0.72 or less.
The b * of the laminated film of the present invention is usually 0.3 or less, preferably 0.25 or less.
本発明の積層フィルムは、耐熱性及び耐擦傷性に優れ、硬度が高いハードコート層を有するものであり、タッチパネルの製造材料として好適に用いられる。 The laminated film of the present invention has a hard coat layer having excellent heat resistance and scratch resistance and high hardness, and is suitably used as a material for manufacturing a touch panel.
以下、実施例を挙げて本発明を更に詳細に説明する。但し、本発明は、以下の実施例になんら限定されるものではない。
各例中の部及び%は、特に断りのない限り、質量基準である。
Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples. However, the present invention is not limited to the following examples.
Unless otherwise specified, parts and% in each example are based on mass.
[製造例1]シラン化合物重合体(1)の製造
500mlのナス型フラスコに、炭酸カリウム0.12g(0.86mmol)、精製水14.4g、及びテトラヒドロフラン24.0gを加え、全容を室温(25℃、以下にて同じ)で、5分間撹拌した。そこへ、3−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン(信越化学工業社製 製品名:KBM−503)29.86g(120mmol)、及びフェニルトリメトキシシラン(信越化学工業社製、製品名:KBM−103)23.78g(120mmol)を、滴下ロートを用いて滴下した。滴下終了後さらに室温で、96時間撹拌した。反応終了後、反応液に酢酸エチルを加えて分液し、酢酸エチル層を分取した。有機層をpH=7になるまで精製水にて洗浄を繰り返し、有機層を無水硫酸マグネチウムで乾燥した。硫酸マグネシウムを濾別後、濾液をエバポレーターで濃縮した。得られた濃縮物を大量のメタノール中へ加え、目的物を再沈殿させた。得られた沈殿物を真空乾燥することにより、ラダー型シラン化合物重合体(1)を24.0g得た。
質量平均分子量は、31,600、分子量分布(PDI)は1.87であった。
得られたラダー型シラン化合物重合体(1)のIRスペクトル図を図1、29Si−NMRスペクトル図を図2、1H−NMRスペクトル図を図3にそれぞれ示す。図1中、横軸はcm−1、縦軸は透過率(MT%)を示し、図2、3中、横軸はケミカルシフト(ppm)、縦軸はピーク強度を示す。
[Production Example 1] Production of silane compound polymer (1) To a 500 ml eggplant-shaped flask, 0.12 g (0.86 mmol) of potassium carbonate, 14.4 g of purified water, and 24.0 g of tetrahydrofuran were added, and the whole volume was adjusted to room temperature (24.0 g). The mixture was stirred at 25 ° C. (same below) for 5 minutes. There, 29.86 g (120 mmol) of 3-methacryloxypropyltriethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name: KBM-503), and phenyltrimethoxysilane (manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., product name: KBM-103). 23.78 g (120 mmol) was added dropwise using a dropping funnel. After completion of the dropping, the mixture was further stirred at room temperature for 96 hours. After completion of the reaction, ethyl acetate was added to the reaction solution to separate the layers, and the ethyl acetate layer was separated. The organic layer was repeatedly washed with purified water until pH = 7, and the organic layer was dried over anhydrous magnesium sulfate. Magnesium sulfate was filtered off, and the filtrate was concentrated on an evaporator. The obtained concentrate was added to a large amount of methanol to reprecipitate the desired product. The obtained precipitate was vacuum dried to obtain 24.0 g of a ladder-type silane compound polymer (1).
The mass average molecular weight was 31,600 and the molecular weight distribution (PDI) was 1.87.
The IR spectrum diagram of the obtained ladder-type silane compound polymer (1) is shown in FIG. 1, the 29 Si-NMR spectrum diagram is shown in FIG. 2, and the 1 H-NMR spectrum diagram is shown in FIG. 3, respectively. In FIG. 1, the horizontal axis represents cm -1 , the vertical axis represents the transmittance (MT%), and in FIGS. 2 and 3, the horizontal axis represents the chemical shift (ppm) and the vertical axis represents the peak intensity.
[製造例2]ハードコート塗工液1の調製
ラダー型シラン化合物重合体(1)のメチルエチルケトン希釈液(濃度50質量%)100質量部、アクリロイルオキシ基修飾シリカナノフィラー[日産化学工業社製、「AC−4130Y」、濃度30質量%、平均粒径40〜50nm]30質量部、光重合開始剤[BASF社製、「IRGACURE184」、濃度100質量%]2.5質量部の混合液をメチルエチルケトンで希釈して、濃度40質量%のハードコート塗工液1を調製した。
[Production Example 2] Preparation of hard coat coating liquid 1
100 parts by mass of methyl ethyl ketone diluent (concentration 50% by mass) of the ladder type silane compound polymer (1), acryloyloxy group-modified silica nanofiller [manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., "AC-4130Y",
[製造例3〜5]ハードコート塗工液2〜4の調製
アクリロイルオキシ基修飾シリカナノフィラー[日産化学工業社製、「AC−4130Y」、濃度30質量%、平均粒径40〜50nm]の添加量を、50質量部、70質量部、100質量部とした以外は、[製造例2]と同様にして、ハードコート塗工液2〜4を調製した。
[Production Examples 3 to 5] Preparation of Hard Coat Coating Liquids 2 to 4 Addition of acryloyloxy group-modified silica nanofiller [manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., "AC-4130Y",
[製造例6]ハードコート塗工液5の調製
ラダー型シラン化合物重合体(1)のメチルエチルケトン希釈液(濃度50質量%)100質量部、光重合開始剤[BASF社製、「IRGACURE184」、濃度100質量%]5質量部の混合液をメチルエチルケトンで希釈して、濃度40質量%のハードコート塗工液5を調製した。
[Production Example 6] Preparation of hard coat coating liquid 5 100 parts by mass of methyl ethyl ketone diluted solution (concentration 50% by mass) of rudder type silane compound polymer (1), photopolymerization initiator [BASF, "IRGACURE 184", concentration [100% by mass] 5 parts by mass of the mixed solution was diluted with methyl ethyl ketone to prepare a hard coat coating solution 5 having a concentration of 40% by mass.
[実施例1]
片面易接着層付PETフィルム[東洋紡績社製、「PET50A4100」、膜厚 50μm]に、硬化後の膜厚が5μmとなるように、マイヤーバー#10を用いてハードコート塗工液1を塗布し、100℃で1分間乾燥させて、ハードコート塗工液1の塗膜を形成した。
次いで、前記塗膜に紫外線照射を照射(光量:500mJ/cm2)して、硬化させてハードコート層1を形成し、実施例1のハードコートフィルム1を得た。
また、剥離層付PETフィルム[リンテック社製、「PET381130」、膜厚38μm]に、塗工液1を用いて同様にハードコート層を形成した後に、剥離層付PETフィルムを剥離除去することで、硬化層を回収した。このものを耐熱性評価サンプル1とした。
[Example 1]
Apply hard coat coating liquid 1 to a PET film with a single-sided easy-adhesive layer [manufactured by Toyobo Co., Ltd., "PET50A4100", film thickness 50 μm] using
Next, the coating film was irradiated with ultraviolet rays (light intensity: 500 mJ / cm 2 ) and cured to form a hard coat layer 1 to obtain a hard coat film 1 of Example 1.
Further, by forming a hard coat layer on a PET film with a release layer [Lintec Corporation, "PET381130", thickness 38 μm] in the same manner using the coating liquid 1, the PET film with a release layer is peeled off and removed. , The cured layer was recovered. This was used as the heat resistance evaluation sample 1.
[実施例2〜4]
実施例1において、ハードコート塗工液1に変えて、ハードコート塗工液2〜4を使用した以外は、実施例1と同様にして実施例2〜4のハードコートフィルム2〜4を得た。
また、剥離層付PETフィルム[リンテック社製、「PET381130」、膜厚38μm]に、塗工液2〜4を用いて同様にハードコート層を形成した後に、剥離層付PETフィルムを剥離除去することで、硬化層を回収した。このものを耐熱性評価サンプル2〜4とした。
[Examples 2 to 4]
In Example 1, hard coat films 2 to 4 of Examples 2 to 4 were obtained in the same manner as in Example 1 except that hard coat coating liquids 2 to 4 were used instead of hard coat coating liquid 1. It was.
Further, after forming a hard coat layer on a PET film with a release layer [Lintec Corporation, "PET381130", thickness 38 μm] in the same manner using coating solutions 2 to 4, the PET film with a release layer is peeled off and removed. As a result, the cured layer was recovered. This was used as heat resistance evaluation samples 2 to 4.
[比較例1]
実施例1において、ハードコート塗工液1に変えて、ハードコート塗工液5を用いた以外は、実施例1と同様にして、比較例1のハードコートフィルム5を得た。
また、剥離層付PETフィルム[リンテック社製、「PET381130」、膜厚38μm]に、塗工液5を用いて同様にハードコート層を形成した後に、剥離層付PETフィルムを剥離除去することで、硬化層を回収した。このものを耐熱性評価サンプル5とした。
[Comparative Example 1]
A hard coat film 5 of Comparative Example 1 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the hard coat coating liquid 5 was used instead of the hard coat coating liquid 1 in Example 1.
Further, by forming a hard coat layer on a PET film with a release layer [Lintec Corporation, "PET381130", thickness 38 μm] in the same manner using the coating liquid 5, the PET film with a release layer is peeled off and removed. , The cured layer was recovered. This was used as the heat resistance evaluation sample 5.
[比較例2]
実施例1において、有機修飾シリカ微粒子を、多官能アクリレートの混合物[大成ファインケミカル社製、「アクリット8RX−012」、濃度40質量%]100質量部に変え、光重合開始剤[BASF社製、「IRGACURE184」、濃度100質量%]5質量部の混合液を用いた以外は、実施例1と同様にして、ハードコート塗工液6を調製した。得られたハードコート塗工液6を用いて、実施例1と同様にして、比較例2のハードコートフィルム6を得た。
また、剥離層付PETフィルム[リンテック社製、「PET381130」、膜厚38μm]に、ハードコート塗工液6を用いて同様にハードコート層を形成した後に、剥離層付PETフィルムを剥離除去することで、硬化層を回収した。このものを耐熱性評価サンプル6とした。
[Comparative Example 2]
In Example 1, the organically modified silica fine particles were changed to 100 parts by mass of a mixture of polyfunctional acrylates [Taisei Fine Chemicals Co., Ltd., "Acryt 8RX-012",
Further, the hard coat layer is similarly formed on the PET film with a release layer [Lintec Corporation, "PET381130", thickness 38 μm] using the hard coat coating liquid 6, and then the PET film with a release layer is peeled off and removed. As a result, the cured layer was recovered. This was used as a heat resistance evaluation sample 6.
[比較例3]
実施例1において、側鎖に籠型シラン化合物を有するアクリレート樹脂液[JNC社製、「HC−6114−001」、濃度40質量%、光重合開始剤入り](ハードコート塗工液7)を用いた以外は、実施例1と同様にして、比較例3のハードコートフィルム7を得た。
また、剥離層付PETフィルム[リンテック社製、「PET381130」、膜厚38μm]に、ハードコート塗工液7を用いて同様にハードコート層を形成した後に、剥離層付PETフィルムを剥離除去することで、硬化層を回収した。このものを耐熱性評価サンプル7とした。
[Comparative Example 3]
In Example 1, an acrylate resin solution having a cage-shaped silane compound in the side chain [manufactured by JNC Corporation, "HC-6114-001",
Further, the hard coat layer is similarly formed on the PET film with a release layer [Lintec Corporation, "PET381130", thickness 38 μm] using the hard coat coating liquid 7, and then the PET film with a release layer is peeled off and removed. As a result, the cured layer was recovered. This was used as a heat resistance evaluation sample 7.
[比較例4]
実施例1において、有機修飾シリカ微粒子と多官能アクリレートの混合物[JSR社製、「オプスターZ7530」、濃度73質量%、光重合開始剤入り]をプロピレングリコールモノメチルエーテルで希釈して、濃度40質量%に調整した溶液(ハードコート塗工液8)を用いた以外は、実施例1と同様にして、比較例4のハードコートフィルム8を得た。
また、剥離層付PETフィルム[リンテック社製、「PET381130」、膜厚38μm]に、塗工液8を用いて同様にハードコート層を形成した後に、剥離層付PETフィルムを剥離除去することで、硬化層を回収した。このものを耐熱性評価サンプル8とした。
[Comparative Example 4]
In Example 1, a mixture of organically modified silica fine particles and a polyfunctional acrylate [manufactured by JSR, "Opstar Z7530", concentration 73% by mass, containing a photopolymerization initiator] was diluted with propylene glycol monomethyl ether to a concentration of 40% by mass. The hard coat film 8 of Comparative Example 4 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the solution adjusted to (Hard Coat Coating Solution 8) was used.
Further, by forming a hard coat layer on a PET film with a release layer [Lintec Corporation, "PET381130", thickness 38 μm] in the same manner using the coating liquid 8, the PET film with a release layer is peeled off and removed. , The cured layer was recovered. This was used as a heat resistance evaluation sample 8.
[比較例5]
実施例1において、紫外線硬化性基を有するポリシルセスキオキサン[東亜合成社製、「MAC−SQ TM100」、濃度100質量%]、光重合開始剤[BASF社製、「IRGACURE184」、濃度100質量%]5質量部をメチルエチルケトンで希釈して、濃度40質量%に調整した溶液(ハードコート塗工液9)をマイヤーバー#10を用いて塗布し、100℃、1分間乾燥させた後、得られた塗膜に紫外線照射を照射(光量:1700mJ/cm2)した以外は、実施例1と同様にして、比較例6のハードコートフィルム9を得た。
また、剥離層付PETフィルム[リンテック社製、「PET381130」、膜厚38μm]に、塗工液9を用いて同様にハードコート層を形成した後に、剥離層付PETフィルムを剥離除去することで、硬化層を回収した。このものを耐熱性評価サンプル9とした。
[Comparative Example 5]
In Example 1, polysilsesquioxane having an ultraviolet curable group [manufactured by Toa Synthetic Co., Ltd., "MAC-SQ TM100", concentration 100% by mass], photopolymerization initiator [manufactured by BASF, "IRGACURE 184", concentration 100). Mass%] 5 parts by mass was diluted with methyl ethyl ketone, and a solution adjusted to a concentration of 40% by mass (hard coat coating solution 9) was applied using
Further, by forming a hard coat layer on a PET film with a release layer [Lintec Corporation, "PET381130", thickness 38 μm] in the same manner using the coating liquid 9, the PET film with a release layer is peeled off and removed. , The cured layer was recovered. This was used as a heat resistance evaluation sample 9.
上記で得られたハードコートフィルム1〜9について、下記のようにして、膜厚、全光線透過率、鉛筆硬度の測定を行い、耐擦傷性評価を実施した。
(1)ハードコート層の膜厚の測定:JIS K 7130に準じて、厚み計[ニコン社製、「MH−15」により測定した。
(2)全光線透過率及びヘイズの測定:JIS K 7361−1(1997)に準じて、ヘイズメーター[日本電色社製、「N−DH−2000」を用いて測定した。
(3)鉛筆硬度の測定:JIS K5600−5−4に準じて、鉛筆引っかき硬度試験機[安田精機製作所社製「No.553−M」]を用いて測定した。
測定条件は、荷重750g、引っかき速度は0.5mm/秒とした
(4)耐擦傷性評価試験:スチールウール#0000を用いて、ハードコート層の表面を、250g/cm2荷重で、50mm、10往復擦り、その後目視で傷の有無を確認した。その結果、傷がない場合を「○」、傷がある場合を「×」として評価した。
(5)b*の測定:CIE1976L*a*b*表色系により規定される色彩値b*を、
JIS Z 8729−1994に準拠し、分光光度計(島津製作所社製、MPC3100)を用いて測定した。
With respect to the hard coat films 1 to 9 obtained above, the film thickness, the total light transmittance, and the pencil hardness were measured as follows, and the scratch resistance was evaluated.
(1) Measurement of the film thickness of the hard coat layer: According to JIS K 7130, the film thickness was measured with a thickness meter ["MH-15" manufactured by Nikon Corporation.
(2) Measurement of total light transmittance and haze: Measurement was performed using a haze meter [N-DH-2000, manufactured by Nippon Denshoku Co., Ltd.] according to JIS K 7361-1 (1997).
(3) Measurement of pencil hardness: According to JIS K5600-5-4, the measurement was performed using a pencil scratch hardness tester ["No. 553-M" manufactured by Yasuda Seiki Seisakusho Co., Ltd.].
The measurement conditions were a load of 750 g and a scratching speed of 0.5 mm / sec. (4) Scratch resistance evaluation test: Using steel wool # 0000, the surface of the hard coat layer was 50 mm with a load of 250 g / cm 2 . After rubbing 10 times back and forth, the presence or absence of scratches was visually confirmed. As a result, the case without scratches was evaluated as "○", and the case with scratches was evaluated as "x".
(5) Measurement of b * : CIE1976L * a * b * Color value b * defined by the color system,
The measurement was performed using a spectrophotometer (MPC3100 manufactured by Shimadzu Corporation) in accordance with JIS Z 8729-1994.
また、上記で得られた耐熱評価サンプル1〜9を用いて、下記の耐熱性評価試験を実施した。
(6)耐熱性評価:熱重量分析計(TGA)を用いて、窒素雰囲気下における5%重量減少温度を測定した。
表1中、Td1(℃)は、1%重量減少した際の温度を示し、Td5(℃)は5%重量減少した際の温度を示す。
In addition, the following heat resistance evaluation test was carried out using the heat resistance evaluation samples 1 to 9 obtained above.
(6) Heat resistance evaluation: A 5% weight loss temperature under a nitrogen atmosphere was measured using a thermogravimetric analyzer (TGA).
In Table 1, Td1 (° C.) indicates the temperature when the weight is reduced by 1%, and Td5 (° C.) indicates the temperature when the weight is reduced by 5%.
表1から、シルセスキオキサン化合物(A)及び無機フィラー(B)を含有するハードコート剤を用いて得られたハードコート層を有するハードコートフィルムは、光学特性(透明性、ヘイズ、b*)、耐熱性、鉛筆硬度及び耐擦傷性のすべてに優れている。
一方、ポリシルセスキオキサン化合物(A)のみ含有し、無機フィラー(B)を含有しないハードコート剤から得られるハードコート層を有するハードコートフィルムは、光学特性と鉛筆硬度には優れるものの、耐熱性及び耐擦傷性に劣っている。
ポリシルセスキオキサン化合物(A)以外のケイ素系高分子または有機高分子と無機フィラー(B)を含有するハードコート剤から得られるハードコート層を有するハードコートフィルムは、光学特性には優れるものの、鉛筆硬度、耐熱性及び耐擦傷性のいずれか、または全て劣っている。
From Table 1, the hard coat film having a hard coat layer obtained by using the hard coat agent containing the silsesquioxane compound (A) and the inorganic filler (B) has optical properties (transparency, haze, b *. ), Heat resistance, pencil hardness and scratch resistance are all excellent.
On the other hand, a hard coat film having a hard coat layer obtained from a hard coat agent containing only the polysilsesquioxane compound (A) and not containing the inorganic filler (B) is excellent in optical properties and pencil hardness, but heat resistant. It is inferior in properties and scratch resistance.
A hard coat film having a hard coat layer obtained from a silicon polymer other than the polysilsesquioxane compound (A) or a hard coat agent containing an organic polymer and an inorganic filler (B) is excellent in optical properties. , Pencil hardness, heat resistance and scratch resistance, or all are inferior.
Claims (3)
前記(B)成分の含有量が、(A)成分に対して、10質量%〜70質量%であり、
光重合開始剤の含有量が、ハードコート剤の固形分全量に対して、0.01〜10重量%
である、ハードコート剤。
(A)成分:下記式(1)で表される繰り返し単位、及び下記式(2)で表される繰り返し単位を有するポリシルセスキオキサン化合物であって、式(1)で表される繰り返し単位の含有割合が、全繰り返し単位中、10モル%以上90モル%以下であり、式(2)で表される繰り返し単位の含有割合が、全繰り返し単位中、10モル%以上90モル%以下であり、
ポリシルセスキオキサン化合物
(B)成分:反応性官能基を有する無機フィラー
光重合開始剤:ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−n−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2,2−ジエトキシ−2−フェニルアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルフォリノ−プロパン−1−オン、4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル−2(ヒドロキシ−2−プロピル)ケトン、ベンゾフェノン、p−フェニルベンゾフェノン、4,4’−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、2−メチルアントラキノン、2−エチルアントラキノン、2−ターシャリ−ブチルアントラキノン、2−アミノアントラキノン、2−メチルチオキサントン、2−エチルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2,4−ジメチルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、及び、p−ジメチルアミノ安息香酸エステルから選ばれる1種若しくは2種以上 Below, (A) component, contains the component (B) and a photopolymerization initiator,
The content of the component (B) is 10% by mass to 70% by mass with respect to the component (A) .
The content of the photopolymerization initiator is 0.01 to 10% by weight based on the total solid content of the hard coating agent.
Is a hard coat agent.
Component (A): A polysilsesquioxane compound having a repeating unit represented by the following formula (1) and a repeating unit represented by the following formula (2), and the repeating unit represented by the formula (1). The content ratio of the unit is 10 mol% or more and 90 mol% or less in all the repeating units, and the content ratio of the repeating unit represented by the formula (2) is 10 mol% or more and 90 mol% or less in all the repeating units. And
Polysilsesquioxane compound
Component (B): Inorganic filler having a reactive functional group
Photopolymerization initiators: benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, acetophenone, dimethylaminoacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 2,2- Diethoxy-2-phenylacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxycyclohexylphenylketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino- Propane-1-one, 4- (2-hydroxyethoxy) phenyl-2 (hydroxy-2-propyl) ketone, benzophenone, p-phenylbenzophenone, 4,4'-diethylaminobenzophenone, dichlorobenzophenone, 2-methylanthraquinone, 2 -Ethylanthraquinone, 2-tershari-butylanthraquinone, 2-aminoanthraquinone, 2-methylthioxanthone, 2-ethylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2,4-dimethylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, benzyldimethylketal, acetophenone One or more selected from dimethyl ketal and p-dimethylaminobenzoic acid ester
前記ハードコート層が、請求項1に記載のハードコート剤を用いて形成されたものである積層フィルム。 A laminated film having a base material layer and a hard coat layer.
A laminated film in which the hard coat layer is formed by using the hard coat agent according to claim 1 .
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