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JP6495103B2 - Voltage detection probe and measuring device - Google Patents

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JP6495103B2
JP6495103B2 JP2015109358A JP2015109358A JP6495103B2 JP 6495103 B2 JP6495103 B2 JP 6495103B2 JP 2015109358 A JP2015109358 A JP 2015109358A JP 2015109358 A JP2015109358 A JP 2015109358A JP 6495103 B2 JP6495103 B2 JP 6495103B2
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Description

本発明は、測定対象導体の電圧を検出可能に構成された電圧検出プローブ、およびこの電圧検出プローブを備えた測定装置に関するものである。   The present invention relates to a voltage detection probe configured to be able to detect the voltage of a conductor to be measured, and a measurement apparatus including the voltage detection probe.

この種の電圧検出プローブとして、本願出願人は、下記の特許文献1〜3において、種々の形態の電圧検出プローブ(以下、単に「検出プローブ」ともいう)を開示している。例えば、特許文献1では、閉状態において測定対象電線を取り囲んで環状の閉磁路を形成する磁気コアが内蔵されたクランプ部を備えた検出プローブを開示している。また、特許文献2では、電圧測定用センサ基板を収容するセンサ基板収容部と、回動軸を介してセンサ基板収容部に回動可能に軸支されて、測定対象導線をセンサ基板収容部との間で挟持する測定対象電線押付け部とを備えた構成の検出プローブを開示している。また、特許文献3では、内部に電圧検出用の検知電極と磁石とが配置された電圧検出部を備え、電圧検出部が設けられた測定プローブの先端部を磁石の磁力によって位置決めしつつ測定対象電線に押し当てる構成の検出プローブを開示している。これらの検出プローブは、いずれも、その検出用の電極を測定対象電線の導電部位に直接接触させることなく互いに容量結合させるだけで、この導電部位の電圧を検出し得る検出プローブ(いわゆる非接触型電圧検出プローブ)として構成されている。   As this type of voltage detection probe, the applicant of the present application discloses various types of voltage detection probes (hereinafter also simply referred to as “detection probes”) in Patent Documents 1 to 3 below. For example, Patent Document 1 discloses a detection probe that includes a clamp portion in which a magnetic core that surrounds an electric wire to be measured and forms an annular closed magnetic path in a closed state is incorporated. In Patent Document 2, a sensor substrate housing portion that houses a voltage measurement sensor substrate, and a sensor substrate housing portion that is pivotally supported by a sensor substrate housing portion via a rotation shaft, and a measurement target conductor is connected to the sensor substrate housing portion. The detection probe of the structure provided with the measurement object electric wire pressing part clamped between is disclosed. Moreover, in patent document 3, it has a voltage detection part by which the detection electrode for a voltage detection and a magnet are arrange | positioned inside, and is measuring object, positioning the front-end | tip part of the measurement probe provided with the voltage detection part with the magnetic force of a magnet A detection probe configured to be pressed against an electric wire is disclosed. Each of these detection probes is a detection probe (so-called non-contact type) that can detect the voltage of the conductive portion by simply capacitively coupling the detection electrodes to each other without directly contacting the conductive portion of the electric wire to be measured. Voltage detection probe).

特開2012−137496号公報(第5頁、第1図)Japanese Unexamined Patent Publication No. 2012-137496 (5th page, FIG. 1) 特開2014−52329号公報(第5−8頁、第1−3図)JP 2014-52329 A (page 5-8, FIG. 1-3) 特開2014−163670号公報(第5−8頁、第1−3図)JP 2014-163670 A (page 5-8, Fig. 1-3)

ところが、上記した各検出プローブには、以下のような改善すべき課題が存在している。すなわち、これらの検出プローブは、電圧検出用の電極の近傍に、磁気コアが配置されていたり、クランプや挟持のための機構が配置されていたり、磁石が配置されていたりする構成のため、外形、特に電圧検出用の電極を含む部位の形状が大きくなっている。   However, each of the detection probes described above has the following problems to be improved. In other words, these detection probes have a configuration in which a magnetic core, a mechanism for clamping and clamping, or a magnet is arranged in the vicinity of the voltage detection electrode. In particular, the shape of the part including the electrode for voltage detection is large.

したがって、これらの検出プローブは、例えば、架線や、架線から屋内への引込線や、屋内配線などに使用される電線(通常は被覆電線)のように、検出プローブを装着する部位の近傍(周囲)にある程度の広さの空間が存在している測定対象導体には使用することは可能となっている。ところが、これらの検出プローブでは、例えば、電子機器内に配設された回路基板に作動用電圧を供給するための小径(例えば、直径が2mm以下)の配線材であって、通常は他の同じような小径の配線材と共に結束された状態で引き回される配線材の1本や、回路基板に実装されたディスクリート部品であってある程度の長さのリード線が露出している電子部品のこのリード線の1本や、回路基板に実装されている柱状のテストポイントの1本のように、他の導体(他の配線材や、他のリード線や、テストポイントが実装された配線パターンに近接する他の配線パターン)と極めて近接した状態で存在している1本の導体に装着するのは難しく、この点を改善すべきとの課題が存在している。   Therefore, these detection probes are in the vicinity (periphery) of the portion where the detection probe is mounted, such as an overhead wire, a lead-in wire from the overhead wire to the indoor, an electric wire used for indoor wiring (usually a covered electric wire). It is possible to use it for a conductor to be measured in which a certain amount of space exists. However, in these detection probes, for example, a wiring material having a small diameter (for example, a diameter of 2 mm or less) for supplying an operating voltage to a circuit board disposed in an electronic device, which is usually other same This lead of one of the wiring materials routed in a state of being bundled together with such a small-diameter wiring material, or an electronic component which is a discrete component mounted on a circuit board and has a certain length of lead wire exposed Other conductors (such as other wiring materials, other lead wires, and wiring patterns on which test points are mounted, such as one of the wires and one of the columnar test points mounted on the circuit board. It is difficult to attach to one conductor that is in close proximity to other wiring patterns), and there is a problem that this point should be improved.

本発明は、かかる課題を改善するためになされたものであり、他の導体と極めて近接した状態で存在している測定対象導体に装着し得る電圧検出プローブ、およびこの電圧検出プローブを備えた測定装置を提供することを主目的とする。   The present invention has been made to improve such a problem, and a voltage detection probe that can be attached to a conductor to be measured that exists in a state of being in close proximity to other conductors, and a measurement including this voltage detection probe The main purpose is to provide a device.

上記目的を達成すべく請求項1記載の電圧検出プローブは、先端部が測定対象導体に引っ掛ける引掛け部に形成されると共に基端部が接続ケーブルに接続される棒状の検出電極を備え、前記検出電極の表面には、絶縁体層が形成され、前記引掛け部における前記測定対象導体との対向面の少なくとも一部に規定された非形成領域を除く前記絶縁体層の表面には、前記検出電極に対して電気的に絶縁された導電体層が形成され、前記検出電極は、前記引掛け部に引っ掛けられた前記測定対象導体と前記非形成領域を介して容量結合可能に構成されている。   In order to achieve the above object, the voltage detection probe according to claim 1 includes a rod-shaped detection electrode having a distal end portion formed on a hook portion that is hooked on a conductor to be measured and a proximal end portion connected to a connection cable, An insulator layer is formed on the surface of the detection electrode, and the surface of the insulator layer excluding a non-formation region defined in at least a part of a surface facing the measurement target conductor in the hooking portion, A conductive layer electrically insulated from the detection electrode is formed, and the detection electrode is configured to be capable of capacitive coupling via the measurement target conductor hooked on the hook portion and the non-formation region. Yes.

請求項2記載の電圧検出プローブは、請求項1記載の電圧検出プローブにおいて、前記引掛け部は、前記検出電極の軸線に対して交差する方向に沿って前記先端部に凹溝が設けられることによって形成されている。   The voltage detection probe according to claim 2 is the voltage detection probe according to claim 1, wherein the hooking portion is provided with a concave groove in the tip portion along a direction intersecting with an axis of the detection electrode. Is formed by.

請求項3記載の電圧検出プローブは、請求項2記載の電圧検出プローブにおいて、前記凹溝における前記交差する方向と平行であって互いに対向する一対の内壁面のうちの前記検出電極の先端側に位置する先端側内壁面は、前記軸線と直交する基準平面を基準として前記基端部側に傾斜している。   The voltage detection probe according to claim 3 is the voltage detection probe according to claim 2, wherein the voltage detection probe is on the tip end side of the detection electrode of the pair of inner wall surfaces parallel to the intersecting direction in the concave grooves and facing each other. The front end side inner wall surface located is inclined toward the base end portion with reference to a reference plane orthogonal to the axis.

請求項4記載の電圧検出プローブは、請求項3記載の電圧検出プローブにおいて、前記一対の内壁面のうちの前記基端部側に位置する基端側内壁面は、前記基準平面を基準として、前記先端側内壁面よりも前記基端部側に傾斜している。   The voltage detection probe according to claim 4 is the voltage detection probe according to claim 3, wherein a base end side inner wall surface located on the base end portion side of the pair of inner wall surfaces is based on the reference plane. It is inclined toward the base end side with respect to the inner wall surface on the front end side.

請求項5記載の電圧検出プローブは、請求項3または4記載の電圧検出プローブにおいて、前記非形成領域は、前記先端側内壁面に規定されている。   A voltage detection probe according to a fifth aspect is the voltage detection probe according to the third or fourth aspect, wherein the non-formation region is defined on the inner wall surface on the front end side.

請求項6記載の電圧検出プローブは、請求項1から5のいずれかに記載の電圧検出プローブにおいて、前記導電体層は、電気的絶縁性を有する被覆層で覆われている。   A voltage detection probe according to a sixth aspect is the voltage detection probe according to any one of the first to fifth aspects, wherein the conductor layer is covered with a covering layer having electrical insulation.

請求項7記載の電圧検出プローブは、請求項6記載の電圧検出プローブにおいて、前記検出電極は、前記基端部において前記絶縁体層および前記導電体層から露出し、前記導電体層は、前記基端部において前記被覆層から露出している。   The voltage detection probe according to claim 7 is the voltage detection probe according to claim 6, wherein the detection electrode is exposed from the insulator layer and the conductor layer at the base end portion, and the conductor layer is The base end portion is exposed from the coating layer.

請求項8記載の電圧検出プローブは、請求項1から7のいずれかに記載の電圧検出プローブにおいて、前記接続ケーブルが接続され、かつ前記基端部側が挿入されると共に前記引掛け部が露出した状態で前記検出電極が固定されたグリップ部と、筒状に形成されると共に後端開口部から前記グリップ部における前記引掛け部の露出する端部が挿入された状態で当該グリップ部に装着され、かつ前記検出電極の軸線に沿って前記引掛け部が先端開口部から突出する第1位置と当該引掛け部が当該先端開口部内に没入する第2位置との間でスライド自在なシース部と、前記グリップ部と前記シース部との間に配設されて当該シース部を前記第2位置方向に常時付勢する付勢部材とを備えている。   The voltage detection probe according to claim 8 is the voltage detection probe according to any one of claims 1 to 7, wherein the connection cable is connected, the base end side is inserted, and the hook portion is exposed. The grip portion is fixed to the grip portion in a state where the detection electrode is fixed, and the end portion where the hook portion is exposed in the grip portion is inserted from the rear end opening portion. And a sheath part slidable between a first position where the hooking part protrudes from the tip opening along the axis of the detection electrode and a second position where the hooking part immerses into the tip opening. And a biasing member that is disposed between the grip portion and the sheath portion and constantly biases the sheath portion in the second position direction.

請求項9記載の電圧検出プローブは、請求項8記載の電圧検出プローブにおいて、前記接続ケーブルは同軸ケーブルで構成され、前記基端部は、前記グリップ部内において、前記同軸ケーブルの芯線に直接接続されると共に当該同軸ケーブルの外部導体の電位と同電位に規定されたシールド部材で覆われている。 The voltage detection probe according to claim 9 is the voltage detection probe according to claim 8, wherein the connection cable is formed of a coaxial cable, and the base end portion is directly connected to a core wire of the coaxial cable in the grip portion. And is covered with a shield member defined to have the same potential as that of the outer conductor of the coaxial cable.

請求項10記載の測定装置は、請求項1から9のいずれかに記載の電圧検出プローブと、芯線が前記基端部に直接接続された同軸ケーブルで構成された前記接続ケーブルを介して前記電圧検出プローブに接続された本体ユニットと、前記本体ユニット内に配設されて、前記同軸ケーブルの前記芯線および前記検出電極を介して前記測定対象導体の電圧を検出すると共に当該電圧に応じて変化する電圧信号を出力する電圧検出部と、前記本体ユニット内に配設されて、前記電圧信号に基づいて前記測定対象導体の前記電圧に追従する電圧を生成すると共に前記同軸ケーブルの外部導体に印加する電圧生成部と、前記本体ユニット内に配設されて、前記電圧生成部で生成される前記電圧に基づいて前記測定対象導体の前記電圧を測定する処理部とを備え、前記電圧検出部は、前記電圧生成部で生成される前記電圧の電位を基準とするフローティング電圧で作動する。
請求項11記載の測定装置は、請求項10記載の測定装置において、前記電圧検出部は、演算増幅器を備えて構成された電流電圧変換回路を有し、前記演算増幅器は、反転入力端子が前記芯線を介して前記基端部に接続されると共に、非反転入力端子が前記電圧生成部で生成される前記電圧の前記電位に規定され、前記同軸ケーブルの外部導体は、前記電圧生成部で生成される前記電圧の前記電位に規定されると共に、前記電圧検出プローブ側において前記導電体層に接続されている。
The measuring device according to claim 10 is configured such that the voltage is detected via the connection cable including the voltage detection probe according to any one of claims 1 to 9 and a coaxial cable in which a core wire is directly connected to the base end portion. a main unit connected to the detection probes, disposed within the body unit, changes according to the voltage and detects the core wire and the measurement object conductor voltage through the detection electrode of the coaxial cable A voltage detection unit that outputs a voltage signal; and a voltage detection unit that is disposed in the main body unit, generates a voltage that follows the voltage of the conductor to be measured based on the voltage signal, and applies the voltage to the outer conductor of the coaxial cable A voltage generator; and a processing unit that is disposed in the main body unit and measures the voltage of the conductor to be measured based on the voltage generated by the voltage generator. Wherein the voltage detection unit operates at a floating voltage with respect to the potential of the voltage generated by the voltage generator.
The measurement device according to claim 11 is the measurement device according to claim 10, wherein the voltage detection unit includes a current-voltage conversion circuit configured to include an operational amplifier, and the operational amplifier has an inverting input terminal as the inverting input terminal. A non-inverting input terminal is defined by the potential of the voltage generated by the voltage generator, and the outer conductor of the coaxial cable is generated by the voltage generator. And is connected to the conductor layer on the voltage detection probe side.

請求項1記載の電圧検出プローブおよび請求項10記載の測定装置では、検出電極は、先端部が引掛け部に形成され、基端部に接続ケーブルが接続された棒状に形成され、検出電極の表面には、引掛け部における測定対象導体との対向面に非形成領域が規定された状態で、かつ検出電極と電気的に絶縁された状態で導電体層が形成されている。   In the voltage detection probe according to claim 1 and the measurement apparatus according to claim 10, the detection electrode is formed in a rod shape in which a distal end portion is formed in a hook portion and a connection cable is connected to a proximal end portion. On the surface, a conductor layer is formed in a state where a non-formation region is defined on the surface of the hook portion facing the measurement target conductor and is electrically insulated from the detection electrode.

したがって、この電圧検出プローブおよび測定装置によれば、測定対象導体とする1本の導体に引っ掛け得る引掛け部を先端部に形成し得る限りにおいて、細い棒状体で検出電極を形成することができ、かつこの検出電極の表面に上記の構成の導電体層を形成するという簡易な構成でありながら、測定対象導体と検出電極との間の容量結合を可能としつつ検出電極のシールドも可能となることから、他の導体と極めて近接した状態で存在している測定対象導体に対しても、外乱の検出電極への影響を導電体層によって低減しつつ、引掛け部を引っ掛けて検出電極を装着することができる結果、測定対象導体の電圧を確実かつ容易に測定することができる。   Therefore, according to the voltage detection probe and the measurement apparatus, the detection electrode can be formed of a thin rod-shaped body as long as the hook portion that can be hooked on one conductor as the measurement target conductor can be formed at the tip portion. In addition, while having a simple configuration in which the conductor layer having the above-described configuration is formed on the surface of the detection electrode, it is possible to shield the detection electrode while enabling capacitive coupling between the conductor to be measured and the detection electrode. Therefore, even for the conductor to be measured that is in close proximity to other conductors, the influence of the disturbance on the detection electrode is reduced by the conductor layer, and the detection electrode is attached by hooking the hook. As a result, it is possible to reliably and easily measure the voltage of the conductor to be measured.

請求項2記載の電圧検出プローブおよび請求項10記載の測定装置によれば、棒状の検出電極の先端部に切削加工などの簡易な手法で凹溝を設けて引掛け部を形成する構成のため、例えば、棒状の検出電極の先端部を折曲して形成した引掛け部とは異なり、引掛け部の大きさを検出電極の太さと同程度とすることができる。したがって、この検出プローブおよびこの測定装置によれば、近接する他の導体との間の距離がより短い測定対象導体に対しても装着してその電圧を測定することができる。   According to the voltage detection probe according to claim 2 and the measurement apparatus according to claim 10, the hook portion is formed by providing a concave groove at the tip of the rod-like detection electrode by a simple method such as cutting. For example, unlike the hook portion formed by bending the tip end portion of the rod-shaped detection electrode, the size of the hook portion can be approximately the same as the thickness of the detection electrode. Therefore, according to the detection probe and the measurement apparatus, the voltage can be measured by attaching to the measurement target conductor having a shorter distance from other adjacent conductors.

請求項3記載の電圧検出プローブおよび請求項10記載の測定装置によれば、先端側内壁面を基端部側に傾斜させる構成としたことにより、検出プローブを測定対象導体に引っ掛けた際に、引掛け部から測定対象導体を外れにくくすることができる。   According to the voltage detection probe according to claim 3 and the measurement device according to claim 10, when the detection probe is hooked on the measurement target conductor, the distal end side inner wall surface is inclined toward the base end side. It is possible to make it difficult to remove the conductor to be measured from the hook portion.

請求項4記載の電圧検出プローブおよび請求項10記載の測定装置によれば、基端側内壁面を先端側内壁面よりも基端部側に傾斜させる構成としたことにより、先端側内壁面を基端部側に傾斜させたときの効果(引掛け部から測定対象導体を外れにくくできるとの効果)を維持しつつ、測定対象導体の凹溝内への収容の更なる容易性を実現することができる。   According to the voltage detection probe according to claim 4 and the measurement device according to claim 10, the distal end inner wall surface is configured to have a configuration in which the proximal end inner wall surface is inclined to the proximal end side with respect to the distal end side inner wall surface. Realizing further ease of accommodation of the measurement target conductor in the concave groove while maintaining the effect when tilted to the base end side (effect that the measurement target conductor cannot be easily detached from the hook). be able to.

請求項5記載の電圧検出プローブおよび請求項10記載の測定装置によれば、検出プローブを測定対象導体に引っ掛けた際に、測定対象導体と主として接触することになる先端側内壁面全体を導電体層の非形成領域とする構成や、先端側内壁面の一部のみを非形成領域とする構成を採用することで、凹溝の内面におけるこの部位以外の部位についても導電体層を形成することができる。したがって、検出電極と測定対象導体とのこの非形成領域を介した容量結合を可能としつつ、検出電極に対する導電体層のシールド効果を一層高めて、測定対象導体の電圧の測定精度をさらに向上させることができる。   According to the voltage detection probe according to claim 5 and the measurement device according to claim 10, when the detection probe is hooked on the measurement target conductor, the entire inner wall surface on the front end side that mainly comes into contact with the measurement target conductor is electrically conductive. By adopting a configuration in which the layer is not formed or a configuration in which only a part of the inner wall surface on the front end side is a non-formed region, a conductor layer is formed on other portions of the inner surface of the groove. Can do. Therefore, while the capacitive coupling between the detection electrode and the measurement target conductor through this non-formation region is possible, the shielding effect of the conductor layer on the detection electrode is further enhanced, and the measurement accuracy of the voltage of the measurement target conductor is further improved. be able to.

請求項6記載の電圧検出プローブおよび請求項10記載の測定装置によれば、測定対象導体に隣接して他の導体が存在しているときであっても、この被覆層の存在により、測定対象導体とこの他の導体が検出電極の表面に形成された導電体層を介して短絡するといった事態の発生を確実に防止することができる。   According to the voltage detection probe according to claim 6 and the measurement device according to claim 10, even when another conductor is present adjacent to the conductor to be measured, the presence of the covering layer causes the object to be measured. It is possible to reliably prevent the occurrence of a situation where the conductor and the other conductor are short-circuited via the conductor layer formed on the surface of the detection electrode.

請求項7記載の電圧検出プローブおよび請求項10記載の測定装置によれば、検出電極はその基端部において絶縁体層および導電体層から露出し、導電体層は検出電極の基端部において被覆層から露出する構成のため、グリップ部に挿入された検出電極の基端部側での接続ケーブルと、検出電極および導電体層との接続を容易に行うことができる。   According to the voltage detection probe according to claim 7 and the measurement device according to claim 10, the detection electrode is exposed from the insulator layer and the conductor layer at the base end portion, and the conductor layer is at the base end portion of the detection electrode. Since the structure is exposed from the coating layer, the connection cable on the base end side of the detection electrode inserted into the grip portion, and the detection electrode and the conductor layer can be easily connected.

請求項8記載の電圧検出プローブおよび請求項10記載の測定装置によれば、凹溝内に収容された状態の測定対象導体を、付勢部材の付勢力により、凹溝の先端側内壁面とシース部における先端開口部の口縁との間で挟持することができるため、検出プローブから手を放した状態においても、引掛け部を測定対象導体に引っ掛けた状態が維持される結果、測定対象導体の電圧の測定作業についての作業性を向上させることができる。   According to the voltage detection probe according to claim 8 and the measurement device according to claim 10, the measurement target conductor accommodated in the concave groove is moved to the tip side inner wall surface of the concave groove by the biasing force of the biasing member. Since it can be clamped between the lip of the distal end opening in the sheath part, the state in which the hook is hooked on the conductor to be measured is maintained even when the detection probe is released. The workability of the conductor voltage measurement work can be improved.

請求項9記載の電圧検出プローブおよび請求項10記載の測定装置によれば、検出電極の基端部側を、グリップ部内において、同軸ケーブルの外部導体の電位と同電位に規定されたシールド部材で覆う構成としたことにより、凹溝の内面に規定された導電体層の非形成領域を除く他のすべての検出電極の表面、および検出電極への接続のために露出状態となっている同軸ケーブルの芯線を、隙間無くシールドすることができる結果、測定対象導体の電圧の測定精度の更なる向上を図ることができる。   According to the voltage detection probe according to claim 9 and the measurement device according to claim 10, the base end side of the detection electrode is a shield member that is regulated to the same potential as the potential of the outer conductor of the coaxial cable in the grip portion. Coaxial cable that is exposed for connection to the surface of all other detection electrodes except for the non-formation region of the conductor layer defined on the inner surface of the groove, and the connection to the detection electrode. As a result of being able to shield the core wire without any gap, it is possible to further improve the measurement accuracy of the voltage of the conductor to be measured.

検出プローブ1の構成図である。1 is a configuration diagram of a detection probe 1. FIG. 図1の検出電極11およびプランジャ2の構造を説明するための軸線Lに沿った断面図である。It is sectional drawing along the axis line L for demonstrating the structure of the detection electrode 11 and the plunger 2 of FIG. 図1のプランジャ2の基端側でのシールド構造を説明するための軸線Lに沿った断面図である。It is sectional drawing along the axis line L for demonstrating the shield structure in the base end side of the plunger 2 of FIG. 図1のプランジャ2の基端側での他のシールド構造を説明するための軸線Lに沿った断面図である。It is sectional drawing along the axis line L for demonstrating the other shield structure in the base end side of the plunger 2 of FIG. 検出プローブ1による測定対象導体8に対する引っ掛け操作を説明するための説明図(シース部4が第1位置に位置する状態での図)である。It is explanatory drawing (diagram in the state in which the sheath part 4 is located in a 1st position) for demonstrating hooking operation with respect to the measuring object conductor 8 by the detection probe 1. FIG. 図5の状態のプランジャ2の凹溝22内に測定対象導体8を収容する操作を説明するための説明図である。It is explanatory drawing for demonstrating operation which accommodates the measuring object conductor 8 in the ditch | groove 22 of the plunger 2 of the state of FIG. シース部4と検出電極11とによって凹溝22内の測定対象導体8を挟持した状態を説明するための説明図である。FIG. 6 is an explanatory diagram for explaining a state in which a measurement target conductor 8 in a concave groove 22 is sandwiched between a sheath portion 4 and a detection electrode 11. 測定装置MDの構成図である。It is a block diagram of measuring apparatus MD. 検出電極11の他の凹溝22の構成を説明するための要部拡大図である。4 is an enlarged view of a main part for explaining the configuration of another concave groove 22 of the detection electrode 11. FIG. 図9の検出電極11の斜視図である。It is a perspective view of the detection electrode 11 of FIG. シース部4と図9,10に示す検出電極11とによって凹溝22内の測定対象導体8を挟持した状態を説明するための説明図である。FIG. 11 is an explanatory diagram for explaining a state in which a measurement target conductor 8 in a concave groove 22 is sandwiched between a sheath portion 4 and a detection electrode 11 shown in FIGS.

以下、電圧検出プローブおよび測定装置の実施の形態について、添付図面を参照して説明する。   Hereinafter, embodiments of a voltage detection probe and a measurement apparatus will be described with reference to the accompanying drawings.

最初に、図1に示す電圧検出プローブとしての電圧検出プローブ(以下、単に「検出プローブ」ともいう)1の構成について、図面を参照して説明する。   First, the configuration of a voltage detection probe (hereinafter also simply referred to as “detection probe”) 1 as the voltage detection probe shown in FIG. 1 will be described with reference to the drawings.

この検出プローブ1は、一例として、図1に示すように、プランジャ2、グリップ部3、シース部4および付勢部材5を備え、後述の本体ユニット6(図8参照)と共に測定装置MDを構成する。また、検出プローブ1は、接続ケーブル7の一例としての同軸ケーブル(以下、同軸ケーブル7ともいう)を介して本体ユニット6と接続されると共に、測定対象導体8(図6,7参照)にプランジャ2の先端部(同図中の左端部)を引っ掛けて使用される。この場合、接続ケーブルとしては、同軸ケーブル7に限定されるものではなく、ツイストペア線などを使用することができる。   As shown in FIG. 1, the detection probe 1 includes a plunger 2, a grip part 3, a sheath part 4, and an urging member 5, and constitutes a measuring device MD together with a body unit 6 (see FIG. 8) described later. To do. The detection probe 1 is connected to the main unit 6 via a coaxial cable (hereinafter also referred to as the coaxial cable 7) as an example of the connection cable 7, and is connected to the measurement target conductor 8 (see FIGS. 6 and 7). 2 is used by hooking the tip (left end in the figure). In this case, the connection cable is not limited to the coaxial cable 7, and a twisted pair wire or the like can be used.

プランジャ2は、図2に示すように、検出電極11、絶縁体層12、導電体層13および被覆層14を備えている。   As shown in FIG. 2, the plunger 2 includes a detection electrode 11, an insulator layer 12, a conductor layer 13, and a coating layer 14.

具体的には、検出電極11は、プランジャ2の本体を構成する部材であって、図1,2に示すように、導電性材料(導電性を有する金属材料)を用いて外形が棒状の剛性体(言い換えれば、剛性を有する棒状体)に形成されると共に、先端部が測定対象導体8を引っ掛ける引掛け部21に形成されている。本例では一例として、引掛け部21は、検出電極11の軸線Lに対して交差する方向(本例では一例として直交する方向。つまり、図紙面の手前側から奥側に向かう方向)に沿って検出電極11の先端部に凹溝22が設けられることで、全体としてフック状に形成されている。なお、本例の凹溝22は、一例として図1,2に示すように、底面側が弧状に湾曲する側面視U字状に形成される構成であるが、これに限定されるものではなく、図示はしないが、底面側が平面状に形成された側面視コ字状に形成される構成であってもよい。また、凹溝22は、例えば切削加工などの手法によって形成されている。   Specifically, the detection electrode 11 is a member constituting the main body of the plunger 2, and as shown in FIGS. 1 and 2, the outer shape of the detection electrode 11 is a rod-like rigidity using a conductive material (conductive metal material). In addition to being formed into a body (in other words, a rigid rod-like body), the tip portion is formed at the hooking portion 21 that hooks the conductor 8 to be measured. In this example, as an example, the hooking portion 21 is along a direction intersecting with the axis L of the detection electrode 11 (in this example, a direction orthogonal to the example, that is, a direction from the near side to the far side of the drawing). Thus, the groove 22 is provided at the tip of the detection electrode 11 so that the detection electrode 11 is formed in a hook shape as a whole. In addition, as shown in FIGS. 1 and 2 as an example, the concave groove 22 of the present example is configured to be formed in a U shape in a side view in which the bottom surface is curved in an arc shape, but is not limited thereto. Although not shown in the drawings, a configuration in which the bottom surface side is formed in a U shape in a side view in which the bottom surface side is formed in a planar shape may be used. The concave groove 22 is formed by a technique such as cutting.

また、検出電極11の先端部をフック状の引掛け部21に形成する構成としては、上記したように、検出電極11の先端部を曲げることなく凹溝22を形成するだけでフック状の引掛け部21に形成する構成だけでなく、図示はしないが、例えば、細い棒状体で構成された検出電極11の先端部をL字状やU字状やV字状に折曲するという構成を採用することもできる。この構成の引掛け部では、検出電極の先端部における折曲部位と、この折曲部位に隣接する非折曲部位のそれぞれの対向面が、測定対象導体8との対向面となる。このため、導電体層13における後述の非形成領域は、これらの対向面の少なくとも一部に規定するようにする。   In addition, as described above, the tip end of the detection electrode 11 is formed in the hook-shaped hook portion 21, as described above, by simply forming the groove 22 without bending the tip end of the detection electrode 11. Although not shown in the figure, the configuration is such that, for example, the tip of the detection electrode 11 formed of a thin rod-like body is bent into an L shape, a U shape, or a V shape. It can also be adopted. In the hooking portion having this configuration, the facing surfaces of the bent portion at the distal end portion of the detection electrode and the non-folded portion adjacent to the bent portion are the facing surfaces to the measurement target conductor 8. For this reason, the below-mentioned non-formation area | region in the conductor layer 13 is prescribed | regulated to at least one part of these opposing surfaces.

本例の検出プローブ1が使用される測定対象導体8は、背景技術で説明した各種の検出プローブでは装着することが困難であった導体、例えば、通常は他の同じような小径な配線材と共に結束された状態で引き回される小径な配線材の1本や、回路基板に実装された電子部品のリード線の1本や、回路基板に実装された1本のテストポイントなどのように、他の導体(他の配線材や、他のリード線や、テストポイントが実装された配線パターンに近接する他の配線パターンなど)と極めて近接した状態で存在している1本の小径な導体である。   The measurement target conductor 8 in which the detection probe 1 of the present example is used is a conductor that has been difficult to mount with the various detection probes described in the background art, for example, usually with other similar small-diameter wiring materials. For example, one small wiring material routed in a bundled state, one lead wire of an electronic component mounted on a circuit board, one test point mounted on a circuit board, etc. It is a single small-diameter conductor that exists in close proximity to a conductor (another wiring material, another lead wire, another wiring pattern close to the wiring pattern on which the test point is mounted, etc.).

このため、この検出プローブ1の検出電極11では、このような小径の導体が測定対象導体8として収容可能な幅および深さの凹溝22を先端部に形成し得る限りにおいて、より細い棒状体を使用することが可能となっている。また、測定対象導体8とこの測定対象導体8に隣接する他の導体との間の距離が短い状態であっても測定対象導体8に引っ掛けることができるようにするためにも、検出電極11に使用する棒状体は、なるべく細いものであるのが好ましい。また、検出電極11は、凹溝22を形成して引掛け部21とする先端部だけが細い棒状であって、後述するようにグリップ部3内に挿入される基端部側が先端部側よりも太い棒状とする構成を採用することもできるが、図1,2に示すように、より加工の手間の少ないほぼ均一な太さの棒状とするのが好ましい。例えば、上記のような小径(直径が約2mm)の配線材を収容するためには、凹溝22は、例えば、2mmよりも若干深い深さで、かつ2mmよりも若干広い幅(開口幅)に形成する必要がある。このため、例えば、断面円形の棒状の部材(つまり、円柱部材)で検出電極11を構成するときには、例えば直径が約3mm〜4mm程度の円柱状の部材を使用するのが好ましい。なお、より小径の導体だけを測定対象導体8とするときには、この測定対象導体8の太さに合わせて凹溝22の深さや開口幅を縮めることができることから、より細い棒状体(例えば、約2mm前後の太さの棒状体)で検出電極11を構成できるのは勿論である。   For this reason, the detection electrode 11 of the detection probe 1 has a thinner rod-like body as long as the concave groove 22 having such a width and depth that such a small-diameter conductor can be accommodated as the measurement target conductor 8 can be formed at the tip. Can be used. Further, in order to be able to be hooked on the measurement target conductor 8 even when the distance between the measurement target conductor 8 and another conductor adjacent to the measurement target conductor 8 is short, the detection electrode 11 is connected to the detection electrode 11. It is preferable that the rod-shaped body to be used is as thin as possible. In addition, the detection electrode 11 has a thin rod shape only at the distal end portion that forms the concave portion 22 and serves as the hooking portion 21, and the proximal end side inserted into the grip portion 3 as described later is closer to the distal end portion side. Although it is possible to adopt a configuration having a thick bar shape, as shown in FIGS. 1 and 2, it is preferable to use a bar shape having a substantially uniform thickness with less processing effort. For example, in order to accommodate a wiring material having a small diameter (diameter of about 2 mm) as described above, the concave groove 22 is, for example, a depth slightly deeper than 2 mm and a width slightly wider than 2 mm (opening width). Need to be formed. For this reason, for example, when the detection electrode 11 is constituted by a rod-shaped member having a circular cross section (that is, a columnar member), it is preferable to use a columnar member having a diameter of about 3 mm to 4 mm, for example. When only the conductor having a smaller diameter is used as the measurement target conductor 8, the depth and the opening width of the concave groove 22 can be reduced in accordance with the thickness of the measurement target conductor 8. Of course, the detection electrode 11 can be formed of a rod-like body having a thickness of about 2 mm.

凹溝22は、本例では一例として、図2に示すように、この凹溝22における上記の交差する方向と平行であって互いに対向する一対の内壁面22a,22bのうちの検出電極11の先端側(同図中の左端側)に位置する先端側内壁面としての内壁面22aは軸線Lと直交する基準平面PL(図紙面と直交する平面)とほぼ平行に形成され、また一対の内壁面22a,22bのうちの検出電極11の基端側(同図中の右端側)に位置する基端側内壁面としての内壁面22bもこの基準平面PLとほぼ平行に形成されている。   As an example in this example, the concave groove 22 is, as shown in FIG. 2, the detection electrode 11 of the pair of inner wall surfaces 22 a and 22 b that are parallel to the intersecting direction in the concave groove 22 and face each other. An inner wall surface 22a as a distal end side inner wall surface located on the distal end side (left end side in the figure) is formed substantially parallel to a reference plane PL (plane orthogonal to the drawing surface) orthogonal to the axis L, and a pair of inner walls Of the wall surfaces 22a and 22b, an inner wall surface 22b as a proximal end inner wall surface located on the proximal end side (the right end side in the figure) of the detection electrode 11 is also formed substantially parallel to the reference plane PL.

絶縁体層12は、一例として、図1,2に示すように、検出電極11の表面における基端側の部位(本例では一例として、基端側の端面、およびこの端面から一定の距離(例えば数mm)内に含まれる外周面)を除く他のすべての部位に形成されている。一例として、本例では、絶縁体層12は、電気的絶縁性を有する合成樹脂材料を用いて、例えばコンマ数mm程度(一例として0.1mm程度)の厚みで検出電極11の表面に形成されている。   As an example, as shown in FIGS. 1 and 2, the insulator layer 12 includes a base end side portion on the surface of the detection electrode 11 (in this example, the base end side end surface and a certain distance from the end surface ( For example, it is formed in all other parts except the outer peripheral surface included within several mm). As an example, in this example, the insulator layer 12 is formed on the surface of the detection electrode 11 with a thickness of, for example, about several millimeters of comma (about 0.1 mm as an example) using a synthetic resin material having electrical insulation. ing.

導電体層13は、一例として、図2に示すように、引掛け部21における測定対象導体8との対向面SUに非形成領域(導電体層13を形成しない領域)が規定された状態で、かつ検出電極11の表面との間に絶縁体層12を介在させることによって検出電極11に対して電気的に絶縁された状態で検出電極11の表面(つまり、絶縁体層12の表面)に形成されている。本例では、検出電極11に凹溝22を形成することによって引掛け部21が形成されて、この凹溝22内に測定対象導体8を収容することで、測定対象導体8に検出プローブ1を引っ掛ける。このため、この検出プローブ1では、凹溝22の内面全体(各内壁面22a,22bおよび凹溝22の底壁面22c)が対向面SUとなっている。   As an example, as shown in FIG. 2, the conductor layer 13 is in a state where a non-formation region (a region where the conductor layer 13 is not formed) is defined on the surface SU facing the measurement target conductor 8 in the hook portion 21. In addition, the insulator layer 12 is interposed between the surface of the detection electrode 11 and the surface of the detection electrode 11 (that is, the surface of the insulator layer 12) while being electrically insulated from the detection electrode 11. Is formed. In this example, the hook portion 21 is formed by forming the concave groove 22 in the detection electrode 11, and the measurement target conductor 8 is accommodated in the concave groove 22, so that the detection probe 1 is attached to the measurement target conductor 8. Hook. For this reason, in this detection probe 1, the entire inner surface (the inner wall surfaces 22 a and 22 b and the bottom wall surface 22 c of the groove 22) of the concave groove 22 is the opposing surface SU.

本例の検出プローブ1では、一例として、この対向面SU全体(つまり、凹溝22の内面全体)を導電体層13についての上記の非形成領域として規定して、凹溝22の内面全体に亘って導電体層13を形成しないようにつつ、検出電極11の表面におけるこの内面を除く他の殆どの部位については導電体層13を形成する構成を採用している。この構成により、この検出プローブ1では、導電体層13によって検出電極11を良好にシールドしつつ(検出電極11への外乱の影響を導電体層13で大幅に低減しつつ)、凹溝22内に収容された測定対象導体8と検出電極11とを、対向面SU(凹溝22の内面)に規定された導電体層13の非形成領域を介して容量結合させることが可能となっている。   In the detection probe 1 of this example, as an example, the entire opposing surface SU (that is, the entire inner surface of the concave groove 22) is defined as the non-formation region for the conductor layer 13, and the entire inner surface of the concave groove 22 is defined. A configuration is adopted in which the conductor layer 13 is formed in almost all other parts of the surface of the detection electrode 11 except for the inner surface while the conductor layer 13 is not formed. With this configuration, in this detection probe 1, while the detection electrode 11 is well shielded by the conductor layer 13 (the influence of the disturbance on the detection electrode 11 is greatly reduced by the conductor layer 13), It is possible to capacitively couple the conductor 8 to be measured and the detection electrode 11 accommodated in each other through a non-formation region of the conductor layer 13 defined in the opposing surface SU (inner surface of the concave groove 22). .

また、上記したように、凹溝22の内面全体が測定対象導体8との対向面SUであることから、凹溝22の内面のうちの非形成領域として規定する部位は、凹溝22の内面を構成する各内壁面22a,22bおよび底壁面22cのうちの少なくとも1つの壁面の部位であればよい。このため、凹溝22の内面全体を導電体層13についての非形成領域と規定する構成に代えて、凹溝22の各内壁面22a,22bおよび底壁面22cのうちの一部(いずれか1つの壁面の全体若しくは一部、いずれか2つの壁面の全体若しくは一部、またはいずれか3つの壁面の一部)を非形成領域と規定する構成を採用することもできる。   Further, as described above, since the entire inner surface of the concave groove 22 is the facing surface SU with the conductor 8 to be measured, the portion defined as the non-formation region of the inner surface of the concave groove 22 is the inner surface of the concave groove 22. The inner wall surfaces 22a and 22b and the bottom wall surface 22c constituting the inner wall surface may be at least one wall surface portion. For this reason, it replaces with the structure which prescribes | regulates the whole inner surface of the ditch | groove 22 as a non-formation area | region about the conductor layer 13, and is a part (one any) of each inner wall surface 22a, 22b and the bottom wall surface 22c of the ditch | groove 22 It is also possible to adopt a configuration in which the whole or part of one wall surface, the whole or part of any two wall surfaces, or part of any three wall surfaces) is defined as a non-forming region.

このように、凹溝22の内面のうちの一部のみを導電体層13についての非形成領域として規定し、かつ凹溝22の内面におけるこの一部を除く他の部位については導電体層13を形成する構成を採用することで、凹溝22に収容された測定対象導体8と検出電極11とを凹溝22の内面に規定された非形成領域を介して容量結合させつつ、より多くの検出電極11の表面を導電体層13で覆うことが可能となることから、導電体層13によるシールド効果を一層高めることが可能となる。   In this way, only a part of the inner surface of the groove 22 is defined as a non-formation region for the conductor layer 13, and the conductor layer 13 is defined for other portions on the inner surface of the groove 22 except for this part. By adopting the configuration for forming the groove, the measurement object conductor 8 and the detection electrode 11 accommodated in the groove 22 are capacitively coupled through the non-formation region defined on the inner surface of the groove 22, and more Since the surface of the detection electrode 11 can be covered with the conductor layer 13, the shielding effect by the conductor layer 13 can be further enhanced.

また、特に、本例の検出プローブ1では、後述するように、検出プローブ1を測定対象導体8に引っ掛けた際には、測定対象導体8は、シース部4によって凹溝22の内壁面22aに押し付けられる構成となっている。したがって、本例の検出プローブ1では、この内壁面22a全体、またはこの内壁面22aの一部(測定対象導体8が押し付けられる部位を含むその近傍の部位)を非形成領域とする構成が好ましい。   In particular, in the detection probe 1 of this example, as will be described later, when the detection probe 1 is hooked on the measurement target conductor 8, the measurement target conductor 8 is attached to the inner wall surface 22 a of the concave groove 22 by the sheath portion 4. It is configured to be pressed. Therefore, in the detection probe 1 of this example, it is preferable that the entire inner wall surface 22a or a part of the inner wall surface 22a (a portion in the vicinity including the portion to which the measurement target conductor 8 is pressed) be a non-forming region.

また、導電体層13は、一例として、図1,2に示すように、検出電極11の基端側においては、絶縁体層12の基端側の外周面および検出電極11の基端側の外周面が露出する状態に形成されている。一例として、本例では、導電体層13は、導電性金属材料を用いて、例えば0.1mm未満(一例として0.01mm程度)の厚みで絶縁体層12の表面に形成されている。   As an example, as shown in FIGS. 1 and 2, the conductor layer 13 has an outer peripheral surface on the base end side of the insulator layer 12 and a base end side of the detection electrode 11 on the base end side of the detection electrode 11. The outer peripheral surface is formed in an exposed state. As an example, in this example, the conductor layer 13 is formed on the surface of the insulator layer 12 with a thickness of, for example, less than 0.1 mm (as an example, about 0.01 mm) using a conductive metal material.

被覆層14は、一例として、図1,2に示すように、導電体層13の基端側の外周面、絶縁体層12の基端側の外周面および検出電極11の基端側の外周面が露出する状態で、この露出する部位を除く導電体層13の他のすべての部位の表面に、電気的絶縁性を有する合成樹脂材料などを用いて、例えば0.1mm未満(一例として0.05mm程度)の厚みで形成されている。なお、被覆層14については、後述するようにしてシース部4の先端開口部32から突出するプランジャ2の先端部(引掛け部21)の表面にのみ形成するようにしてもよい。   For example, as shown in FIGS. 1 and 2, the covering layer 14 includes an outer peripheral surface on the base end side of the conductor layer 13, an outer peripheral surface on the base end side of the insulator layer 12, and an outer periphery on the base end side of the detection electrode 11. With the surface exposed, the surface of all other parts of the conductor layer 13 excluding the exposed part is made of, for example, less than 0.1 mm (for example, 0 mm) using a synthetic resin material having electrical insulation. (About 0.05 mm). The coating layer 14 may be formed only on the surface of the distal end portion (the hook portion 21) of the plunger 2 protruding from the distal end opening portion 32 of the sheath portion 4 as described later.

以上の構成により、検出プローブ1では、図1,2に示すように、検出電極11の基端側において、検出電極11の外周面が絶縁体層12から露出し、絶縁体層12が導電体層13から露出し、導電体層13が被覆層14から露出した状態になっている。   With the above configuration, in the detection probe 1, as shown in FIGS. 1 and 2, the outer peripheral surface of the detection electrode 11 is exposed from the insulator layer 12 on the proximal end side of the detection electrode 11, and the insulator layer 12 is a conductor. The conductive layer 13 is exposed from the coating layer 14 and is exposed from the layer 13.

グリップ部3は、電気的絶縁性を有する合成樹脂材料を用いて、外形が一例として、図1に示すように、筒状(本例では一例として円筒状)に形成されている。また、グリップ部3には、プランジャ2(絶縁体層12、導電体層13および被覆層14が表面に形成された検出電極11)が、その基端部側(検出電極11の基端部側)がグリップ部3の一端側(同図中の左端側:先端部側)からグリップ部3の内部に挿入され、かつ引掛け部21がグリップ部3から露出した状態で固定されている。   The grip part 3 is formed in a cylindrical shape (in this example, a cylindrical shape as an example) as shown in FIG. 1 by using a synthetic resin material having electrical insulation as an example. The grip portion 3 has a plunger 2 (detection electrode 11 having an insulator layer 12, a conductor layer 13 and a coating layer 14 formed on the surface) on its base end side (base end side of the detection electrode 11). ) Is inserted into the grip portion 3 from one end side (left end side: tip end side in the figure) of the grip portion 3, and the hook portion 21 is fixed while being exposed from the grip portion 3.

また、グリップ部3の他端側(同図中の右端側:後端側)には、同軸ケーブル7が接続されている。また、グリップ部3の内部において、同軸ケーブル7の芯線(内部導体)7aが検出電極11の基端側における絶縁体層12から露出する部位に電気的に接続され、同軸ケーブル7の外部導体7b(例えば編組線で構成されたシールド用導体)が導電体層13における被覆層14から露出する部位に電気的に接続されている。この構成により、芯線7aに接続された検出電極11は、外部導体7bと同電位に規定された導電体層13により、導電体層13の非形成領域を除くほぼ全域がシールドされる。   A coaxial cable 7 is connected to the other end side of the grip portion 3 (right end side: rear end side in the figure). Further, in the grip portion 3, the core wire (inner conductor) 7 a of the coaxial cable 7 is electrically connected to a portion exposed from the insulator layer 12 on the proximal end side of the detection electrode 11, and the outer conductor 7 b of the coaxial cable 7. (For example, a shield conductor formed of a braided wire) is electrically connected to a portion of the conductor layer 13 exposed from the coating layer 14. With this configuration, the detection electrode 11 connected to the core wire 7a is shielded almost entirely except for the non-formation region of the conductor layer 13 by the conductor layer 13 defined at the same potential as the external conductor 7b.

また、同軸ケーブル7の外部導体7bを導電体層13における被覆層14から露出する部位に接続する場合には、芯線7aおよび検出電極11の基端側の外周面と、外部導体7bとを電気的に確実に絶縁しつつ、芯線7aおよび検出電極11の基端側の外周面を外部導体7bと同電位に規定されたシールド部材で覆う(シールド)する構成とするのが好ましい。この構成としては、例えば、図3に示すように、芯線7aおよび検出電極11の基端側の外周面を絶縁チューブ23で覆い、この状態において、同軸ケーブル7の筒状の外部導体7bを、絶縁チューブ23上を筒状のままシールド部材として通過させて、先端部分を絶縁チューブ23と被覆層14との間の隙間から露出する導電体層13に接続させる構成を採用することができる。   When the outer conductor 7b of the coaxial cable 7 is connected to a portion of the conductor layer 13 exposed from the coating layer 14, the outer peripheral surface on the proximal end side of the core wire 7a and the detection electrode 11 and the outer conductor 7b are electrically connected. It is preferable that the core wire 7a and the outer peripheral surface on the base end side of the detection electrode 11 are covered (shielded) with a shield member defined at the same potential as that of the external conductor 7b while reliably insulating. As this configuration, for example, as shown in FIG. 3, the outer peripheral surface on the proximal end side of the core wire 7a and the detection electrode 11 is covered with an insulating tube 23. In this state, the cylindrical outer conductor 7b of the coaxial cable 7 is It is possible to adopt a configuration in which the insulating tube 23 is passed through the insulating tube 23 as a shield member, and the tip portion is connected to the conductor layer 13 exposed from the gap between the insulating tube 23 and the coating layer 14.

また、図4に示すように、芯線7aおよび検出電極11の基端側の外周面を絶縁チューブ23で覆った状態において、プランジャ2の基端側から同軸ケーブル7の先端側に掛けて、これらの表面をシールド部材としての導電体(導電性フィルムや導電性薄板など)24で覆い、この導電体24を外部導体7bと電気的に接触させる構成を採用することができる。この図3,4に示す構成を採用することにより、凹溝22の内面に規定された導電体層13の非形成領域を除く他のすべての検出電極11の表面、および検出電極11への接続のために露出状態となっている同軸ケーブル7の芯線7aを導電体層13およびシールド部材で隙間無くシールドすることが可能となる。   In addition, as shown in FIG. 4, in the state where the outer peripheral surface on the base end side of the core wire 7 a and the detection electrode 11 is covered with the insulating tube 23, these are hung from the base end side of the plunger 2 to the tip end side of the coaxial cable 7. It is possible to employ a configuration in which the surface is covered with a conductor (such as a conductive film or a conductive thin plate) 24 as a shield member, and the conductor 24 is in electrical contact with the external conductor 7b. By adopting the configuration shown in FIGS. 3 and 4, the surfaces of all other detection electrodes 11 except the non-formation region of the conductor layer 13 defined on the inner surface of the groove 22 and the connection to the detection electrodes 11 are used. Therefore, the exposed core wire 7a of the coaxial cable 7 can be shielded by the conductor layer 13 and the shield member without any gap.

シース部4は、電気的絶縁性を有する合成樹脂材料を用いて、外形が一例として、図1に示すように、筒状に形成されている。具体的には、シース部4は、一例として、一端側(同図中の左端側:先端側)の形状が、内部にプランジャ2が摺動自在に挿入される貫通孔31が形成された円錐筒状に形成され、他端側(同図中の右端側:後端側)の形状が、内部にグリップ部3の一端側が挿入可能な内径の円筒状に形成されている。このシース部4は、円筒状の他端側の開口部(他端側開口部)からグリップ部3の一端側(プランジャ2の引掛け部21が露出する端部側)が挿入され、かつプランジャ2の引掛け部21が貫通孔31内に挿入された状態で、グリップ部3に装着される。   The sheath part 4 is formed in a cylindrical shape as shown in FIG. 1 by using a synthetic resin material having electrical insulation as an example of the outer shape. Specifically, as an example, the sheath portion 4 has a conical shape in which one end side (the left end side in the figure: the distal end side) is formed with a through hole 31 into which the plunger 2 is slidably inserted. It is formed in a cylindrical shape, and the other end side (right end side: rear end side in the figure) is formed in a cylindrical shape having an inner diameter into which one end side of the grip portion 3 can be inserted. The sheath portion 4 is inserted into one end side of the grip portion 3 (the end portion side where the hook portion 21 of the plunger 2 is exposed) from the cylindrical opening portion on the other end side (opening portion on the other end side). The two hook portions 21 are attached to the grip portion 3 while being inserted into the through holes 31.

また、シース部4は、この装着状態において、検出電極11の軸線Lに沿って、引掛け部21全体が先端開口部(シース部4における貫通孔31の一端側の開口部32。以下、「先端開口部32」ともいう)から突出する第1位置(図5に示す位置)と引掛け部21が先端開口部32内に没入する第2位置(図1に示す位置。引掛け部21全体が貫通孔31内に収容された位置)との間でスライド可能に構成されている。   In addition, the sheath portion 4 is in the attached state, and the entire hook portion 21 extends along the axis L of the detection electrode 11 at the tip opening portion (the opening portion 32 on one end side of the through hole 31 in the sheath portion 4. A first position (position shown in FIG. 5) protruding from the tip opening portion 32) and a second position (position shown in FIG. 1; the hook portion 21 as a whole) where the hook portion 21 is immersed in the tip opening portion 32. The position is accommodated in the through-hole 31).

付勢部材5は、一例として、スプリングコイルで構成されて、グリップ部3の先端側から突出するプランジャ2に外嵌され、かつグリップ部3とシース部4との間で押し縮められた状態で、シース部4の円筒状に形成された他端側の内部に配設されている。この構成により、付勢部材5は、グリップ部3に対してシース部4を、第2位置方向(図1中の左方向)に常時付勢する。   As an example, the biasing member 5 is configured by a spring coil, is externally fitted to the plunger 2 protruding from the distal end side of the grip portion 3, and is pressed and contracted between the grip portion 3 and the sheath portion 4. The sheath portion 4 is disposed inside the other end side formed in a cylindrical shape. With this configuration, the urging member 5 constantly urges the sheath portion 4 in the second position direction (left direction in FIG. 1) with respect to the grip portion 3.

本体ユニット6は、図8に示すように、一例として、主電源回路51、DC/DCコンバータ(以下、単に「コンバータ」ともいう)52、電圧検出部53、電流電圧変換用の抵抗54、電圧生成部55、電圧計56、処理部57および表示部58を備えている。   As shown in FIG. 8, the main unit 6 includes, as an example, a main power circuit 51, a DC / DC converter (hereinafter also simply referred to as “converter”) 52, a voltage detection unit 53, a resistor 54 for current / voltage conversion, a voltage A generation unit 55, a voltmeter 56, a processing unit 57, and a display unit 58 are provided.

主電源回路51は、本体ユニット6の上記の各構成要素53〜58を作動させるための正電圧Vddおよび負電圧Vss(第1基準電位としてのグランドG1の電位を基準として生成される絶対値が同じで、互いの極性の異なる直流電圧)を出力する。コンバータ52は、一例として互いに電気的に絶縁された一次巻線および二次巻線を有する絶縁型のトランスと、このトランスの一次巻線を駆動する駆動回路と、トランスの二次巻線に誘起される交流電圧を整流平滑する直流変換部(いずれも図示せず)とを備えて、一次側に対して二次側が電気的に絶縁された絶縁型電源として構成されている。   The main power supply circuit 51 has a positive voltage Vdd and a negative voltage Vss (actual values generated on the basis of the potential of the ground G1 as the first reference potential) for operating each of the components 53 to 58 of the main unit 6. The same DC voltages with different polarities are output. For example, the converter 52 includes an insulated transformer having a primary winding and a secondary winding that are electrically insulated from each other, a drive circuit that drives the primary winding of the transformer, and a secondary winding of the transformer. And a DC converter (not shown) that rectifies and smoothes the AC voltage that is applied, and is configured as an insulated power source in which the secondary side is electrically insulated from the primary side.

このコンバータ52では、入力した正電圧Vddおよび負電圧Vssに基づいて駆動回路が作動して、正電圧Vddが印加された状態にあるトランスの一次巻線を駆動して二次巻線に交流電圧を誘起させる。また、直流変換部が、この交流電圧を整流して平滑する。これにより、コンバータ52の二次側から、この二次側の内部基準電位(第2基準電位)G2を基準とする正電圧Vf+および負電圧Vf−がフローティング状態(グランドG1、正電圧Vddおよび負電圧Vssと電気的に分離された状態)で生成される。このようにして生成されたフローティング電圧としての正電圧Vf+および負電圧Vf−は、第2基準電位G2と共に電圧検出部53に供給される。なお、正電圧Vf+および負電圧Vf−は、絶対値がほぼ同一で、極性が互いに異なる直流電圧として生成される。   In this converter 52, the drive circuit operates based on the input positive voltage Vdd and negative voltage Vss, and drives the primary winding of the transformer in a state where the positive voltage Vdd is applied, and the AC voltage is applied to the secondary winding. Induces. The direct current converter rectifies and smoothes the alternating voltage. Thereby, from the secondary side of converter 52, positive voltage Vf + and negative voltage Vf− with reference to internal reference potential (second reference potential) G2 on the secondary side are in a floating state (ground G1, positive voltage Vdd and negative voltage Vf−). In a state electrically separated from the voltage Vss). The positive voltage Vf + and the negative voltage Vf− as floating voltages generated in this way are supplied to the voltage detection unit 53 together with the second reference potential G2. The positive voltage Vf + and the negative voltage Vf− are generated as direct current voltages having substantially the same absolute value and different polarities.

電圧検出部53は、電流電圧変換回路53a、積分回路53b、駆動回路53cおよび絶縁回路53d(一例として駆動回路53cによって駆動されるフォトカプラを図示しているが、例えば、図示はしないが、フォトカプラに代えて絶縁トランスを使用する構成など、他の種々の構成を採用することができる)を備え、電圧検出部53における基準電位が上記の第2基準電位G2に規定された状態で、コンバータ52から正電圧Vf+および負電圧Vf−の供給を受けて作動する。   The voltage detection unit 53 includes a current-voltage conversion circuit 53a, an integration circuit 53b, a drive circuit 53c, and an insulation circuit 53d (a photocoupler driven by the drive circuit 53c is illustrated as an example. In the state where the reference potential in the voltage detection unit 53 is defined by the second reference potential G2, the converter can be used. It operates by receiving a positive voltage Vf + and a negative voltage Vf− from 52.

電流電圧変換回路53aは、一例として、非反転入力端子が抵抗を介して電圧検出部53における第2基準電位G2に規定された部位に接続(以下、「第2基準電位G2に接続」ともいう)されると共に、反転入力端子が同軸ケーブル7の芯線7a(つまり、この芯線7aを介して検出プローブ1の検出電極11)に接続され、かつ帰還抵抗が反転入力端子と出力端子との間に接続された第1演算増幅器を備えて構成されている。この電流電圧変換回路53aは、第1演算増幅器が正電圧Vf+および負電圧Vf−で作動して、測定対象導体8の電圧V1と第2基準電位G2(電圧生成部55から出力される電圧信号V4の電圧でもある)との電位差Vdi(図8参照)に起因して、この電位差Vdiに応じた電流値で測定対象導体8と検出電極11との間に流れる検出電流(電流信号)Iを検出電圧信号V2に変換して出力する。この場合、検出電圧信号V2は、その振幅が電流信号Iの振幅に比例して変化する。   In the current-voltage conversion circuit 53a, as an example, the non-inverting input terminal is connected to a portion defined by the second reference potential G2 in the voltage detection unit 53 via a resistor (hereinafter also referred to as “connected to the second reference potential G2”). ) And the inverting input terminal is connected to the core wire 7a of the coaxial cable 7 (that is, the detection electrode 11 of the detection probe 1 via the core wire 7a), and the feedback resistor is connected between the inverting input terminal and the output terminal. The first operational amplifier is connected. In the current-voltage conversion circuit 53a, the first operational amplifier operates with the positive voltage Vf + and the negative voltage Vf−, and the voltage V1 of the conductor to be measured 8 and the second reference potential G2 (the voltage signal output from the voltage generator 55). The detection current (current signal) I flowing between the measurement target conductor 8 and the detection electrode 11 at a current value corresponding to the potential difference Vdi due to the potential difference Vdi (refer to FIG. 8). It converts into detection voltage signal V2 and outputs it. In this case, the amplitude of the detection voltage signal V2 changes in proportion to the amplitude of the current signal I.

積分回路53bは、一例として、非反転入力端子が抵抗を介して第2基準電位G2に接続されると共に、反転入力端子が入力抵抗を介して第1演算増幅器の出力端子に接続され、かつ帰還コンデンサが反転入力端子と出力端子との間に接続された第2演算増幅器を備えて構成されている。この積分回路53bは、第2演算増幅器が正電圧Vf+および負電圧Vf−で作動して、検出電圧信号V2を積分することにより、上記の電位差Vdiに比例して電圧値が変化する積分信号V3を生成して出力する。   For example, the integrating circuit 53b has a non-inverting input terminal connected to the second reference potential G2 via a resistor, an inverting input terminal connected to the output terminal of the first operational amplifier via an input resistor, and feedback. The capacitor includes a second operational amplifier connected between the inverting input terminal and the output terminal. In the integrating circuit 53b, the second operational amplifier operates with the positive voltage Vf + and the negative voltage Vf− and integrates the detection voltage signal V2, whereby the integration signal V3 whose voltage value changes in proportion to the potential difference Vdi. Is generated and output.

駆動回路53cは、積分信号V3のレベルに応じて絶縁回路53dをリニア領域で駆動し、駆動された絶縁回路53dは、この積分信号V3を電気的に分離して新たな積分信号(第1信号)V3aとして出力する。つまり、電圧検出部53は、検出プローブ1と相俟って、測定対象導体8の電圧V1を示す積分信号V3aを出力する。   The drive circuit 53c drives the insulation circuit 53d in the linear region according to the level of the integration signal V3, and the driven insulation circuit 53d electrically separates the integration signal V3 to generate a new integration signal (first signal). ) Output as V3a. That is, the voltage detection unit 53 outputs an integration signal V3a indicating the voltage V1 of the measurement target conductor 8 in combination with the detection probe 1.

電流電圧変換用の抵抗54は、一端が負電圧Vssに接続されると共に、他端が電圧検出部53内の対応する絶縁回路53d(本例ではフォトカプラにおけるフォトトランジスタのコレクタ端子)に接続されている。 The current / voltage converting resistor 54 has one end connected to the negative voltage Vss and the other end connected to a corresponding insulating circuit 53d in the voltage detection unit 53 (in this example, the collector terminal of the phototransistor in the photocoupler). ing.

電圧生成部55は、積分信号V3aを入力して増幅することにより、電圧信号V4を生成して、電圧検出部53における第2基準電位G2に規定された部位に印加する。この電圧信号V4はその電圧が後述するように測定対象導体8の電圧V1に応じて変化する。これにより、第2基準電位G2を基準とするフローティング電圧である正電圧Vf+および負電圧Vf−は、電圧信号V4の電圧に応じて変化するフローティング電圧となる。   The voltage generation unit 55 receives and amplifies the integration signal V3a to generate a voltage signal V4 and applies the voltage signal V4 to a portion defined by the second reference potential G2 in the voltage detection unit 53. This voltage signal V4 changes according to the voltage V1 of the conductor 8 to be measured, as will be described later. As a result, the positive voltage Vf + and the negative voltage Vf−, which are floating voltages based on the second reference potential G2, become floating voltages that change according to the voltage of the voltage signal V4.

この電圧生成部55は、一例として、電圧検出部53の第2基準電位G2(第2基準電位G2と同電位の同軸ケーブル7の外部導体7b)、検出電極11および電圧検出部53(電流電圧変換回路53a、積分回路53b、駆動回路53cおよび絶縁回路53d(本例ではフォトカプラ))と共にフィードバックループを形成して、電位差Vdiを減少させるように積分信号V3aを増幅する増幅動作を行うことにより、電圧信号V4を生成する。   As an example, the voltage generation unit 55 includes the second reference potential G2 of the voltage detection unit 53 (the outer conductor 7b of the coaxial cable 7 having the same potential as the second reference potential G2), the detection electrode 11, and the voltage detection unit 53 (current voltage). By forming a feedback loop together with the conversion circuit 53a, the integration circuit 53b, the drive circuit 53c and the insulation circuit 53d (photocoupler in this example), an amplification operation is performed to amplify the integration signal V3a so as to reduce the potential difference Vdi. The voltage signal V4 is generated.

本例では、一例として、電圧生成部55は、図8に示すように、増幅回路55a、位相補償回路55bおよび昇圧回路55cを備えて構成されている。ここで、増幅回路55aは、積分信号V3aを入力して増幅することにより、電圧信号V4aを生成する。この場合、増幅回路55aは、積分信号V3aの電圧値についての絶対値の増加・減少に対応して、電圧値の絶対値が変化する電圧信号V4aを増幅動作によって生成する。位相補償回路55bは、フィードバック制御動作の安定化(発振防止)を図るため、電圧信号V4aを入力してその位相を調整して電圧信号V4bとして出力する。昇圧回路55cは、一例として昇圧トランスを用いて構成されて、電圧信号V4bを所定の倍率で昇圧することにより(極性は変えずに絶対を増加させることにより)、電圧信号V4を生成して第2基準電位G2に印加する。電圧計56は、グランドG1の電位を基準として電圧信号V4を測定すると共に、その電圧値をディジタルデータに変換して電圧データDvとして出力する。   In this example, as an example, the voltage generation unit 55 includes an amplifier circuit 55a, a phase compensation circuit 55b, and a booster circuit 55c as shown in FIG. Here, the amplification circuit 55a generates the voltage signal V4a by inputting and amplifying the integration signal V3a. In this case, the amplifier circuit 55a generates a voltage signal V4a in which the absolute value of the voltage value changes in accordance with the increase / decrease of the absolute value of the voltage value of the integration signal V3a by an amplification operation. The phase compensation circuit 55b receives the voltage signal V4a, adjusts its phase, and outputs it as the voltage signal V4b in order to stabilize the feedback control operation (prevent oscillation). The booster circuit 55c is configured using a booster transformer as an example, and generates a voltage signal V4 by boosting the voltage signal V4b at a predetermined magnification (by increasing the absolute without changing the polarity). 2 Applied to reference potential G2. The voltmeter 56 measures the voltage signal V4 with reference to the potential of the ground G1, converts the voltage value into digital data, and outputs it as voltage data Dv.

処理部57は、CPUおよびメモリ(いずれも図示せず)を備えて構成されて、電圧計56から出力される電圧データDvに基づいて測定対象導体8の電圧V1を算出する電圧算出処理を実行する。また、処理部57は、電圧算出処理で算出した電圧V1を表示部58に表やグラフの形式で表示させる。表示部58は、一例として、液晶ディスプレイなどのモニタ装置で構成されている。   The processing unit 57 includes a CPU and a memory (both not shown), and executes a voltage calculation process for calculating the voltage V1 of the measurement target conductor 8 based on the voltage data Dv output from the voltmeter 56. To do. Further, the processing unit 57 displays the voltage V1 calculated in the voltage calculation process on the display unit 58 in the form of a table or a graph. For example, the display unit 58 includes a monitor device such as a liquid crystal display.

この検出プローブ1および本体ユニット6を備えた測定装置MDを用いて測定対象導体8の電圧V1を測定する際には、測定対象導体8にプランジャ2の先端部(引掛け部21)を引っ掛ける。   When measuring the voltage V <b> 1 of the measurement target conductor 8 using the measurement device MD including the detection probe 1 and the main body unit 6, the tip end portion (the hook portion 21) of the plunger 2 is hooked on the measurement target conductor 8.

具体的には、まず、図5に示す矢印方向の外力をシース部4に手で加えることにより、シース部4を図1に示す第2位置から図5に示す第1位置まで付勢部材5の付勢力に抗してスライドさせる(矢印方向にスライドさせる)ことで、図5に示すようにシース部4の開口部32からプランジャ2の引掛け部21全体を突出させる。次いで、図6に示すように、引掛け部21の凹溝22内に測定対象導体8を収容する(測定対象導体8に引掛け部21を引っ掛ける)。   Specifically, first, by applying an external force in the direction of the arrow shown in FIG. 5 to the sheath portion 4 by hand, the urging member 5 moves the sheath portion 4 from the second position shown in FIG. 1 to the first position shown in FIG. By sliding against the urging force (slid in the direction of the arrow), the entire hooking portion 21 of the plunger 2 is projected from the opening 32 of the sheath portion 4 as shown in FIG. Next, as shown in FIG. 6, the measurement target conductor 8 is accommodated in the concave groove 22 of the hook portion 21 (the hook portion 21 is hooked on the measurement target conductor 8).

この場合、この検出プローブ1では、シース部4の開口部32から突出するプランジャ2の先端部(引掛け部21全体)の表面全体が電気的絶縁性を有する被覆層14で覆われているため、測定対象導体8に隣接して他の導体が存在しているときでも、測定対象導体8とこの他の導体とがプランジャ2(具体的には、導電体層13)を介して短絡するといった事態の発生が防止されている。   In this case, in this detection probe 1, the entire surface of the distal end portion (the entire hook portion 21) of the plunger 2 protruding from the opening portion 32 of the sheath portion 4 is covered with the coating layer 14 having electrical insulation. Even when another conductor is present adjacent to the measurement target conductor 8, the measurement target conductor 8 and the other conductor are short-circuited via the plunger 2 (specifically, the conductor layer 13). The situation has been prevented.

続いて、シース部4に外力を加えていた手を外す。これにより、シース部4は、加えられていた外力がなくなるため、付勢部材5の付勢力により、図7に示す矢印方向(第2位置方向)に、凹溝22の内壁面22aとシース部4における先端開口部32の口縁との間で測定対象導体8が挟持されるまでスライドする。以上により、測定対象導体8への検出プローブ1の引っ掛け作業が完了する。   Subsequently, the hand that applied the external force to the sheath portion 4 is removed. Thereby, since the external force applied to the sheath portion 4 disappears, the inner wall surface 22a of the concave groove 22 and the sheath portion are moved in the arrow direction (second position direction) shown in FIG. 7 by the biasing force of the biasing member 5. 4 until the measurement object conductor 8 is sandwiched between the front edge opening 32 and the edge of the tip opening 32. As described above, the hooking operation of the detection probe 1 onto the measurement target conductor 8 is completed.

この検出プローブ1では、このようにして測定対象導体8が挟持されることにより、引掛け部21を測定対象導体8に引っ掛けた状態が維持される。したがって、検出プローブ1から手を放した状態においても、測定対象導体8の電圧V1を測定する際に重要となる測定対象導体8と検出電極11との間に形成される静電容量C0(図8参照)の容量値が大きく変動するといった事態の発生が十分に回避されている。これにより、この検出プローブ1は、その検出用の電極である検出電極11を測定対象導体8に直接接触させることなく互いに容量結合させるだけで、この測定対象導体8の電圧V1を正確に検出し得るいわゆる非接触型の電圧検出プローブとして機能することが可能に構成されている。   In the detection probe 1, the state in which the hook 21 is hooked on the measurement target conductor 8 is maintained by holding the measurement target conductor 8 in this manner. Therefore, even when the detection probe 1 is released, the capacitance C0 (see FIG. 5) formed between the measurement target conductor 8 and the detection electrode 11 which is important when measuring the voltage V1 of the measurement target conductor 8. 8) is sufficiently avoided. Thus, the detection probe 1 accurately detects the voltage V1 of the measurement target conductor 8 only by capacitively coupling the detection electrodes 11 serving as detection electrodes to each other without directly contacting the measurement target conductor 8. It is configured to be able to function as a so-called non-contact type voltage detection probe.

この状態において、測定対象導体8の電圧V1と、電圧検出部53の第2基準電位G2の電圧(第2基準電位G2と同電位となる同軸ケーブル7の外部導体7bおよびプランジャ2の導電体層13の各電圧。つまり、電圧信号V4の電圧)との電位差Vdiが増加しているとき(例えば、電圧V1の上昇に起因して電位差Vdiが増加しているとき)には、本体ユニット6の電圧検出部53では、測定対象導体8から検出電極11を介して電流電圧変換回路53aに流れ込む電流信号Iの電流量が増加する。この場合、電流電圧変換回路53aは、出力している検出電圧信号V2の電圧値を低下させる。積分回路53bでは、この検出電圧信号V2の低下に起因して、第2演算増幅器の出力端子からコンデンサを介して反転入力端子に向けて流れる電流が増加する。このため、積分回路53bは、積分信号V3の電圧を上昇させる。また、この積分信号V3の電圧上昇に伴い、駆動回路53cのトランジスタが深いオン状態に移行する。これにより、絶縁回路53d(フォトカプラ)では、その発光ダイオードに流れる電流が増加し、フォトトランジスタの抵抗が減少する。したがって、抵抗54の抵抗値とフォトトランジスタの抵抗値とで電位差(Vdd−Vss)が分圧されて生成される積分信号V3aは、その電圧値が低下する。   In this state, the voltage V1 of the conductor 8 to be measured and the voltage of the second reference potential G2 of the voltage detection unit 53 (the outer conductor 7b of the coaxial cable 7 having the same potential as the second reference potential G2 and the conductor layer of the plunger 2) 13 (that is, when the potential difference Vdi is increased due to the increase of the voltage V1) when the potential difference Vdi with respect to the voltage 13 is increased. In the voltage detection unit 53, the amount of current signal I flowing from the measurement target conductor 8 into the current-voltage conversion circuit 53a via the detection electrode 11 increases. In this case, the current-voltage conversion circuit 53a reduces the voltage value of the output detection voltage signal V2. In the integrating circuit 53b, the current flowing from the output terminal of the second operational amplifier toward the inverting input terminal via the capacitor increases due to the decrease in the detection voltage signal V2. Therefore, the integration circuit 53b increases the voltage of the integration signal V3. As the voltage of the integration signal V3 rises, the transistor of the drive circuit 53c shifts to a deep on state. Thereby, in the insulating circuit 53d (photocoupler), the current flowing through the light emitting diode increases, and the resistance of the phototransistor decreases. Therefore, the voltage value of the integrated signal V3a generated by dividing the potential difference (Vdd−Vss) between the resistance value of the resistor 54 and the resistance value of the phototransistor is decreased.

また、本体ユニット6では、電圧生成部55が、この積分信号V3aに基づいて、生成している電圧信号V4の電圧値を上昇させる。この測定装置MDでは、このようにしてフィードバックループを構成する電流電圧変換回路53a、積分回路53b、駆動回路53c、絶縁回路53dおよび電圧生成部55が、測定対象導体8の電圧V1の上昇を検出して、電圧信号V4の電圧値を上昇させるフィードバック制御動作を実行することにより、電圧検出部53の第2基準電位G2等の電圧(電圧信号V4の電圧)を電圧V1に追従させる。   In the main unit 6, the voltage generator 55 increases the voltage value of the generated voltage signal V4 based on the integrated signal V3a. In this measurement apparatus MD, the current-voltage conversion circuit 53a, the integration circuit 53b, the drive circuit 53c, the insulation circuit 53d, and the voltage generation unit 55 that form the feedback loop in this way detect an increase in the voltage V1 of the measurement target conductor 8. Then, by executing the feedback control operation for increasing the voltage value of the voltage signal V4, the voltage (voltage of the voltage signal V4) such as the second reference potential G2 of the voltage detection unit 53 is made to follow the voltage V1.

また、電圧V1の低下に起因して電位差Vdiが増加したときには、検出電極11を介して電流電圧変換回路53aから測定対象導体8に流れ出る(流出する)電流信号Iの電流量が増加する。この際には、フィードバックループを構成する電流電圧変換回路53a等が上記のフィードバック制御動作とは逆の動作でのフィードバック制御動作を実行して、電圧信号V4の電圧を低下させることにより、電圧検出部53の第2基準電位G2等の電圧(電圧信号V4の電圧)を電圧V1に追従させる。   Further, when the potential difference Vdi increases due to the decrease in the voltage V1, the amount of current of the current signal I that flows out (flows out) from the current-voltage conversion circuit 53a to the measurement target conductor 8 through the detection electrode 11 increases. At this time, voltage detection is performed by the current-voltage conversion circuit 53a and the like constituting the feedback loop performing a feedback control operation opposite to the above-described feedback control operation to reduce the voltage of the voltage signal V4. A voltage (voltage of the voltage signal V4) such as the second reference potential G2 of the unit 53 is made to follow the voltage V1.

このようにして、測定装置MDでは、電圧検出部53の第2基準電位G2等の電圧(電圧信号V4の電圧)を電圧V1に追従させるフィードバック制御動作が短時間に実行されて、電圧検出部53の第2基準電位G2等の電圧(電流電圧変換回路53aの第1演算増幅器のバーチャルショートにより、検出電極11の電圧でもある)が電圧V1に一致させられる(収束させられる)。電圧計56は、電圧信号V4の電圧値をリアルタイムで計測して、その電圧値を示す電圧データDvを出力する。また、電圧信号V4は、測定対象導体8の電圧V1に一旦収束した後は、フィードバックループを構成する各構成要素が上記のように動作することにより、電圧V1の変動に追従する。したがって、測定対象導体8の電圧V1を示す電圧データDvが電圧計56から連続して出力される。   In this way, in the measuring apparatus MD, the feedback control operation for causing the voltage (voltage of the voltage signal V4) such as the second reference potential G2 of the voltage detector 53 to follow the voltage V1 is executed in a short time, and the voltage detector 53, such as the second reference potential G2 (which is also the voltage of the detection electrode 11 due to a virtual short circuit of the first operational amplifier of the current-voltage conversion circuit 53a) is matched (converged) with the voltage V1. The voltmeter 56 measures the voltage value of the voltage signal V4 in real time and outputs voltage data Dv indicating the voltage value. In addition, after the voltage signal V4 once converges to the voltage V1 of the conductor 8 to be measured, each component constituting the feedback loop operates as described above, thereby following the fluctuation of the voltage V1. Therefore, the voltage data Dv indicating the voltage V <b> 1 of the measurement target conductor 8 is continuously output from the voltmeter 56.

処理部57は、電圧計56から出力された電圧データDvを入力してメモりに記憶する。次いで、処理部57は、電圧算出処理を実行して、電圧データDvに基づいて測定対象導体8の電圧V1を算出してメモリに記憶する。最後に、処理部57は、メモリに記憶されている測定結果(電圧V1)を表示部58に表示させる。これにより、測定装置MDによる測定対象導体8の電圧V1の測定が完了する。   The processing unit 57 receives the voltage data Dv output from the voltmeter 56 and stores it in a memory. Next, the processing unit 57 executes a voltage calculation process, calculates the voltage V1 of the measurement target conductor 8 based on the voltage data Dv, and stores it in the memory. Finally, the processing unit 57 causes the display unit 58 to display the measurement result (voltage V1) stored in the memory. Thereby, the measurement of the voltage V1 of the measuring object conductor 8 by the measuring device MD is completed.

引き続き、他の測定対象導体8の電圧V1を測定する際には、まず、図5に示す矢印方向の外力をシース部4に手で加えることにより、シース部4を図7に示す位置から図5に示す第1位置方向に向けて(同図に示す矢印方向に向けて)スライドさせることで、凹溝22の内壁面22aとシース部4における先端開口部32の口縁との間での測定対象導体8の挟持状態を解消する。次いで、凹溝22内から測定対象導体8を外すことで、測定対象導体8への検出プローブ1の引っ掛け状態を解消する。これにより、検出プローブ1を次の測定対象導体8に引っ掛けることが可能となる。   Subsequently, when measuring the voltage V1 of the other conductor 8 to be measured, first, an external force in the direction of the arrow shown in FIG. 5 is applied to the sheath part 4 by hand, so that the sheath part 4 is viewed from the position shown in FIG. 5 in the direction of the first position shown in FIG. 5 (in the direction of the arrow shown in FIG. 5), between the inner wall surface 22a of the concave groove 22 and the edge of the distal end opening 32 in the sheath portion 4. The clamping state of the conductor 8 to be measured is eliminated. Next, by removing the measurement target conductor 8 from the inside of the concave groove 22, the hooked state of the detection probe 1 on the measurement target conductor 8 is eliminated. As a result, the detection probe 1 can be hooked on the next conductor 8 to be measured.

このように、この検出プローブ1およびこの検出プローブ1を備えた測定装置MDでは、検出電極11は、先端部が引掛け部21に形成され、基端部に同軸ケーブル7の芯線7aが接続された棒状に形成され、検出電極11の表面には、引掛け部21における測定対象導体8との対向面SUに非形成領域が規定された状態で、かつ検出電極11と電気的に絶縁された状態で導電体層13が形成されると共にこの導電体層13に同軸ケーブル7の外部導体7bが接続されている。   Thus, in the detection probe 1 and the measuring device MD provided with the detection probe 1, the tip end of the detection electrode 11 is formed on the hook portion 21, and the core wire 7a of the coaxial cable 7 is connected to the base end portion. The surface of the detection electrode 11 is electrically insulated from the detection electrode 11 in a state where a non-formation region is defined on the surface SU of the hook portion 21 facing the measurement target conductor 8. The conductor layer 13 is formed in this state, and the outer conductor 7 b of the coaxial cable 7 is connected to the conductor layer 13.

したがって、この検出プローブ1およびこの検出プローブ1を備えた測定装置MDによれば、測定対象導体8とする1本の導体に引っ掛け得る引掛け部21を先端部に形成し得る限りにおいて、細い棒状体で検出電極11を形成することができ、かつこの検出電極11の表面に上記の構成の導電体層13を形成するという簡易な構成でありながら、測定対象導体8と検出電極11との間の容量結合を可能としつつ検出電極11のシールドも可能となることから、背景技術で説明した各種の検出プローブでは装着することが困難であった他の導体と極めて近接した状態で存在している測定対象導体8に対しても、外乱の検出電極11への影響を導電体層13によって低減しつつ、引掛け部21を引っ掛けて検出電極11を装着することができる結果、その電圧V1を確実かつ容易に測定することができる。   Therefore, according to the detection probe 1 and the measuring device MD provided with the detection probe 1, as long as the hook portion 21 that can be hooked on one conductor as the measurement target conductor 8 can be formed at the distal end portion, a thin rod shape The detection electrode 11 can be formed by a body, and the conductor layer 13 having the above-described configuration is formed on the surface of the detection electrode 11. Since the detection electrode 11 can be shielded while being capable of capacitive coupling, the various detection probes described in the background art exist in close proximity to other conductors that were difficult to mount. Also on the conductor 8 to be measured, the detection electrode 11 can be mounted by hooking the hook portion 21 while reducing the influence of the disturbance on the detection electrode 11 by the conductor layer 13. Result, it is possible to the voltage V1 reliably and easily measured.

また、この検出プローブ1およびこの測定装置MDによれば、細い棒状の検出電極11の先端部に切削加工などの簡易な手法で凹溝22を設けて引掛け部21を形成する構成のため、例えば、細い棒状の検出電極11の先端部を折曲して形成した引掛け部21とは異なり、引掛け部21の大きさを検出電極11の太さと同程度とすることができる。したがって、この検出プローブ1およびこの測定装置MDによれば、近接する他の導体との間の距離がより短い測定対象導体8に対しても装着して、その電圧V1を測定することができる。   In addition, according to the detection probe 1 and the measurement device MD, the hook portion 21 is formed by providing the concave groove 22 by a simple technique such as cutting at the tip of the thin rod-shaped detection electrode 11. For example, unlike the hooking portion 21 formed by bending the tip of the thin rod-shaped detection electrode 11, the size of the hooking portion 21 can be made approximately the same as the thickness of the detection electrode 11. Therefore, according to the detection probe 1 and the measurement apparatus MD, the voltage V1 can be measured by mounting the measurement probe 8 on the measurement target conductor 8 having a shorter distance from other adjacent conductors.

また、この検出プローブ1およびこの測定装置MDによれば、凹溝22内に収容された状態の測定対象導体8を、付勢部材5の付勢力により、凹溝22の内壁面22aとシース部4における先端開口部32の口縁との間で挟持することができるため、検出プローブ1から手を放した状態においても、引掛け部21を測定対象導体8に引っ掛けた状態が維持される結果、電圧V1の測定作業についての作業性を向上させることができる。   In addition, according to the detection probe 1 and the measurement device MD, the measurement target conductor 8 accommodated in the concave groove 22 is moved by the urging force of the urging member 5 to the inner wall surface 22a of the concave groove 22 and the sheath portion. As a result, the state in which the hook 21 is hooked on the measurement target conductor 8 is maintained even when the detection probe 1 is released. The workability of the measurement work for the voltage V1 can be improved.

また、このように測定対象導体8を、凹溝22の内壁面22a(先端側内壁面)とシース部4における先端開口部32の口縁との間で挟持する構成のときには、この検出プローブ1およびこの測定装置MDによれば、上記したように、内壁面22a全体を導電体層13の非形成領域とする構成や、内壁面22aの一部のみ(測定対象導体8が押し付けられる部位を含むその近傍の部位のみ)を非形成領域とする構成を採用して、凹溝22の内面におけるこの部位以外の部位に導電体層13を形成することができる。したがって、この検出プローブ1およびこの測定装置MDによれば、検出電極11と測定対象導体8とのこの非形成領域を介した容量結合を可能としつつ、導電体層13によってより多くの検出電極11の表面を覆うようにできることから、検出電極11に対する導電体層13のシールド効果(外乱の低減効果)を一層高めることができ、電圧V1の測定精度をさらに向上させることができる。   Further, when the measurement target conductor 8 is sandwiched between the inner wall surface 22a (tip inner wall surface) of the concave groove 22 and the lip of the distal end opening 32 in the sheath portion 4, the detection probe 1 is used. According to this measuring apparatus MD, as described above, the entire inner wall surface 22a is configured as a non-formation region of the conductor layer 13, and only a part of the inner wall surface 22a (including a portion on which the measurement target conductor 8 is pressed). The conductor layer 13 can be formed in a portion other than this portion on the inner surface of the concave groove 22 by adopting a configuration in which only the portion in the vicinity thereof is a non-forming region. Therefore, according to the detection probe 1 and the measurement apparatus MD, the detection electrode 11 and the measurement target conductor 8 can be capacitively coupled through the non-formation region, and more detection electrodes 11 are formed by the conductor layer 13. Therefore, the shielding effect (disturbance reduction effect) of the conductor layer 13 with respect to the detection electrode 11 can be further enhanced, and the measurement accuracy of the voltage V1 can be further improved.

なお、グリップ部3を手で持った状態のままで、引掛け部21を測定対象導体8に引っ掛けて電圧V1を測定する作業を常時行う構成のときには、シース部4および付勢部材5を省く構成とすることもできるが、この構成においても、手からグリップ部3に対してグリップ部3を引き下げる方向の外力が通常は作用することから、引掛け部21の内面を構成する内壁面22aが主として測定対象導体8と接触する。したがって、上記のように、内壁面22a全体を導電体層13の非形成領域とする構成や、内壁面22aの一部のみを非形成領域とする構成を採用することで、検出電極11と測定対象導体8とのこの非形成領域を介した容量結合を可能としつつ、検出電極11に対する導電体層13のシールド効果を一層高めて、電圧V1の測定精度を向上させることができる。   Note that the sheath portion 4 and the urging member 5 are omitted when the operation of constantly measuring the voltage V1 by hooking the hook portion 21 on the measurement target conductor 8 while holding the grip portion 3 by hand is omitted. In this configuration, an external force in the direction of pulling down the grip portion 3 from the hand is normally applied to the grip portion 3 from the hand, so that the inner wall surface 22a constituting the inner surface of the hook portion 21 is provided. Mainly contacts the conductor 8 to be measured. Therefore, as described above, by adopting a configuration in which the entire inner wall surface 22a is a non-formation region of the conductor layer 13, or a configuration in which only a part of the inner wall surface 22a is a non-formation region, measurement with the detection electrode 11 is performed. While enabling capacitive coupling with the target conductor 8 through this non-formation region, the shielding effect of the conductor layer 13 on the detection electrode 11 can be further enhanced, and the measurement accuracy of the voltage V1 can be improved.

また、この検出プローブ1およびこの測定装置MDでは、電気的絶縁性を有する被覆層14で導電体層13を覆う構成のため、シース部4の開口部32から突出するプランジャ2の先端部(引掛け部21全体)の表面全体も被覆層14で覆われている。したがって、この検出プローブ1およびこの測定装置MDによれば、測定対象導体8に隣接して他の導体が存在しているときであっても、測定対象導体8とこの他の導体がプランジャ2(具体的には、導電体層13)を介して短絡するといった事態の発生を確実に防止することができる。   In addition, since the detection probe 1 and the measurement apparatus MD are configured to cover the conductor layer 13 with the coating layer 14 having electrical insulation, the distal end portion (pull-out portion) of the plunger 2 protruding from the opening portion 32 of the sheath portion 4 is used. The entire surface of the entire hanging portion 21 is also covered with the coating layer 14. Therefore, according to the detection probe 1 and the measurement apparatus MD, even when another conductor is present adjacent to the measurement target conductor 8, the measurement target conductor 8 and the other conductor are connected to the plunger 2 ( Specifically, the occurrence of a short circuit through the conductor layer 13) can be reliably prevented.

また、この検出プローブ1およびこの測定装置MDでは、検出電極11は、その基端部において絶縁体層12および導電体層13から露出し、導電体層13は、検出電極11の基端部において被覆層14から露出している。したがって、この検出プローブ1およびこの測定装置MDによれば、グリップ部3に挿入されたプランジャ2の基端部側での同軸ケーブル7の芯線7aと検出電極11との接続、および同軸ケーブル7の外部導体7bと導電体層13との接続を容易に行うことができる。   In the detection probe 1 and the measurement apparatus MD, the detection electrode 11 is exposed from the insulator layer 12 and the conductor layer 13 at the base end portion, and the conductor layer 13 is exposed at the base end portion of the detection electrode 11. It is exposed from the coating layer 14. Therefore, according to the detection probe 1 and the measurement apparatus MD, the connection between the core wire 7a of the coaxial cable 7 and the detection electrode 11 on the proximal end side of the plunger 2 inserted into the grip portion 3, and the coaxial cable 7 The external conductor 7b and the conductor layer 13 can be easily connected.

また、この検出プローブ1およびこの測定装置MDによれば、プランジャ2(つまり、検出電極11)の基端部側を、グリップ部3内において、同軸ケーブル7の外部導体7bの電位と同電位に規定されたシールド部材(筒状の状態の外部導体7bや導電体24)で覆う構成としたことにより、凹溝22の内面に規定された導電体層13の非形成領域を除く他のすべての検出電極11の表面、および検出電極11への接続のために露出状態となっている同軸ケーブル7の芯線7aを、隙間無くシールドすることができる結果、電圧V1の測定精度の更なる向上を図ることができる。   Further, according to the detection probe 1 and the measurement device MD, the base end side of the plunger 2 (that is, the detection electrode 11) is set to the same potential as the potential of the outer conductor 7b of the coaxial cable 7 in the grip portion 3. By being configured to be covered with the prescribed shield member (cylindrical outer conductor 7b or conductor 24), all other than the non-formation region of the conductor layer 13 defined on the inner surface of the groove 22 Since the surface of the detection electrode 11 and the core wire 7a of the coaxial cable 7 exposed for connection to the detection electrode 11 can be shielded without any gap, the measurement accuracy of the voltage V1 is further improved. be able to.

また、上記の例では、凹溝22の内面を構成する各内壁面22a,22bを、検出電極11の軸線Lと直交する基準平面PLとほぼ平行に形成する構成を採用しているが、図9、10に示す検出電極11のように、検出電極11の先端側に位置する内壁面22aを、軸線Lと直交する基準平面PLを基準として検出電極11の基端部側に傾斜させる構成(つまり、軸線L(軸線Lを含む仮想平面)と内壁面22aとの角度θ1を鋭角にする構成)を採用することもできる。この構成によれば、検出プローブ1を測定対象導体8に引っ掛けた際に、引掛け部21から測定対象導体8を外れにくくすることができる。また、図11に示すように、例えば、先端開口部32の口縁全体を含む仮想平面PL1が基準平面PLに対して平行であるとしたときに、凹溝22の内壁面22aとシース部4における先端開口部32の口縁との間で測定対象導体8を挟持した際における内壁面22aと先端開口部32の口縁全体を含む仮想平面PL1との間の距離を、凹溝22の底壁面22cから離間するに従って短くなるように規定することができ、これにより、挟持された測定対象導体8が内壁面22aと先端開口部32の口縁との間から抜脱するという事態の発生をより確実に防止することができる。   In the above example, the inner wall surfaces 22a and 22b constituting the inner surface of the concave groove 22 are formed so as to be substantially parallel to the reference plane PL orthogonal to the axis L of the detection electrode 11. A configuration in which the inner wall surface 22a positioned on the distal end side of the detection electrode 11 is inclined toward the proximal end portion side of the detection electrode 11 with reference to a reference plane PL orthogonal to the axis L (like the detection electrode 11 shown in FIGS. That is, it is also possible to employ a configuration in which the angle θ1 between the axis L (virtual plane including the axis L) and the inner wall surface 22a is an acute angle. According to this configuration, when the detection probe 1 is hooked on the measurement target conductor 8, it is possible to make it difficult to remove the measurement target conductor 8 from the hook portion 21. Also, as shown in FIG. 11, for example, when the virtual plane PL1 including the entire lip of the tip opening 32 is parallel to the reference plane PL, the inner wall surface 22a of the groove 22 and the sheath portion 4 The distance between the inner wall surface 22a and the virtual plane PL1 including the entire lip of the tip opening 32 when the measurement target conductor 8 is sandwiched between the lip of the tip opening 32 at the bottom of the groove 22 The distance between the inner wall surface 22a and the edge of the tip opening 32 can be removed from the measurement object conductor 8 which can be defined to be shorter as the distance from the wall surface 22c increases. It can prevent more reliably.

なお、このように内壁面22aを検出電極11の基端部側に傾斜させる構成を採用したときには、図2に示す構成の凹溝22を採用したときと同程度の測定対象導体8の凹溝22内への収容の容易性を確保するためには、図示はしないが、内壁面22aと対向する他の内壁面22bについても、内壁面22aと同程度に傾斜させるのが好ましい。   When the configuration in which the inner wall surface 22a is inclined toward the base end side of the detection electrode 11 as described above is adopted, the concave groove of the conductor 8 to be measured is the same as when the concave groove 22 having the configuration shown in FIG. In order to ensure ease of accommodation in the inner wall 22, although not shown, it is preferable that the other inner wall surface 22b facing the inner wall surface 22a is also inclined to the same extent as the inner wall surface 22a.

また、上記のような内壁面22aを傾けたときの効果(引掛け部21から測定対象導体8を外れにくくできるとの効果)を維持しつつ、測定対象導体8の凹溝22内への収容の更なる容易性を実現するためには、図9,10に示すように、一対の内壁面22a,22bのうちの基端部側に位置する内壁面22bを、基準平面PLを基準として内壁面22aよりも基端部側に傾斜させる構成(軸線L(軸線Lを含む仮想平面)と内壁面22bとの角度θ2を角度θ1よりも鋭角にする構成)を採用することもできる。   Further, while maintaining the effect when the inner wall surface 22a is inclined as described above (the effect that it is difficult to remove the measurement target conductor 8 from the hook portion 21), the measurement target conductor 8 is accommodated in the concave groove 22. 9 and 10, as shown in FIGS. 9 and 10, the inner wall surface 22b located on the base end side of the pair of inner wall surfaces 22a and 22b is placed on the basis of the reference plane PL. A configuration (a configuration in which the angle θ2 between the axis L (virtual plane including the axis L) and the inner wall 22b is inclined more acutely than the angle θ1) can also be employed.

1 検出プローブ
2 プランジャ
3 グリップ部
4 シース部
5 付勢部材
7 同軸ケーブル
7a 芯線
7b 外部導体
8 測定対象導体
11 検出電極
12 絶縁体層
13 導電体層
14 被覆層
21 引掛け部
22 凹溝
22a,22b 内壁面
1 Detection probe
2 Plunger
3 Grip part
4 sheath part
5 Biasing member
7 Coaxial cable 7a Core wire 7b Outer conductor
8 Conductor to be Measured 11 Detection Electrode 12 Insulator Layer 13 Conductor Layer 14 Covering Layer 21 Hooking Section 22 Groove 22a, 22b Inner Wall Surface

Claims (11)

先端部が測定対象導体に引っ掛ける引掛け部に形成されると共に基端部が接続ケーブルに接続される棒状の検出電極を備え、
前記検出電極の表面には、絶縁体層が形成され、
前記引掛け部における前記測定対象導体との対向面の少なくとも一部に規定された非形成領域を除く前記絶縁体層の表面には、前記検出電極に対して電気的に絶縁された導電体層が形成され、
前記検出電極は、前記引掛け部に引っ掛けられた前記測定対象導体と前記非形成領域を介して容量結合可能に構成されている電圧検出プローブ。
The tip portion is formed in a hook portion that is hooked on the conductor to be measured, and the base end portion includes a rod-shaped detection electrode connected to the connection cable,
An insulator layer is formed on the surface of the detection electrode,
A conductor layer electrically insulated from the detection electrode is provided on a surface of the insulator layer excluding a non-formation region defined in at least a part of a surface of the hook portion facing the conductor to be measured. Formed,
The detection electrode is a voltage detection probe configured to be capable of capacitive coupling through the non-formation region and the measurement target conductor hooked on the hook portion.
前記引掛け部は、前記検出電極の軸線に対して交差する方向に沿って前記先端部に凹溝が設けられることによって形成されている請求項1記載の電圧検出プローブ。   The voltage detection probe according to claim 1, wherein the hook portion is formed by providing a concave groove at the tip portion along a direction intersecting with the axis of the detection electrode. 前記凹溝における前記交差する方向と平行であって互いに対向する一対の内壁面のうちの前記検出電極の先端側に位置する先端側内壁面は、前記軸線と直交する基準平面を基準として前記基端部側に傾斜している請求項2記載の電圧検出プローブ。   Of the pair of inner wall surfaces that are parallel to the intersecting direction in the concave groove and that face each other, the front end side inner wall surface located on the front end side of the detection electrode is based on a reference plane that is orthogonal to the axis. The voltage detection probe according to claim 2, wherein the voltage detection probe is inclined toward the end side. 前記一対の内壁面のうちの前記基端部側に位置する基端側内壁面は、前記基準平面を基準として、前記先端側内壁面よりも前記基端部側に傾斜している請求項3記載の電圧検出プローブ。   The base end side inner wall surface located on the base end portion side of the pair of inner wall surfaces is inclined more toward the base end portion side than the distal end side inner wall surface with respect to the reference plane. The voltage detection probe as described. 前記非形成領域は、前記先端側内壁面に規定されている請求項3または4記載の電圧検出プローブ。   The voltage detection probe according to claim 3, wherein the non-forming region is defined on the inner wall surface on the tip side. 前記導電体層は、電気的絶縁性を有する被覆層で覆われている請求項1から5のいずれかに記載の電圧検出プローブ。   The voltage detection probe according to claim 1, wherein the conductor layer is covered with a coating layer having electrical insulation. 前記検出電極は、前記基端部において前記絶縁体層および前記導電体層から露出し、
前記導電体層は、前記基端部において前記被覆層から露出している請求項6記載の電圧検出プローブ。
The detection electrode is exposed from the insulator layer and the conductor layer at the base end,
The voltage detection probe according to claim 6, wherein the conductor layer is exposed from the coating layer at the base end portion.
前記接続ケーブルが接続され、かつ前記基端部側が挿入されると共に前記引掛け部が露出した状態で前記検出電極が固定されたグリップ部と、
筒状に形成されると共に後端開口部から前記グリップ部における前記引掛け部の露出する端部が挿入された状態で当該グリップ部に装着され、かつ前記検出電極の軸線に沿って前記引掛け部が先端開口部から突出する第1位置と当該引掛け部が当該先端開口部内に没入する第2位置との間でスライド自在なシース部と、
前記グリップ部と前記シース部との間に配設されて当該シース部を前記第2位置方向に常時付勢する付勢部材とを備えている請求項1から7のいずれかに記載の電圧検出プローブ。
A grip part to which the connection electrode is connected and the detection electrode is fixed in a state where the base end side is inserted and the hook part is exposed;
It is formed in a cylindrical shape and is attached to the grip portion in a state where the exposed end portion of the hook portion in the grip portion is inserted from the rear end opening portion, and the hook is formed along the axis of the detection electrode A sheath part slidable between a first position where the part protrudes from the tip opening and a second position where the hooking part is immersed in the tip opening;
The voltage detection according to any one of claims 1 to 7, further comprising a biasing member that is disposed between the grip portion and the sheath portion and constantly biases the sheath portion in the second position direction. probe.
前記接続ケーブルは同軸ケーブルで構成され、
前記基端部は、前記グリップ部内において、前記同軸ケーブルの芯線に直接接続されると共に当該同軸ケーブルの外部導体の電位と同電位に規定されたシールド部材で覆われている請求項8記載の電圧検出プローブ。
The connection cable is composed of a coaxial cable,
The voltage according to claim 8, wherein the base end portion is directly connected to the core wire of the coaxial cable and covered with a shield member defined to have the same potential as the potential of the outer conductor of the coaxial cable in the grip portion. Detection probe.
請求項1から9のいずれかに記載の電圧検出プローブと、
芯線が前記基端部に直接接続された同軸ケーブルで構成された前記接続ケーブルを介して前記電圧検出プローブに接続された本体ユニットと、
前記本体ユニット内に配設されて、前記同軸ケーブルの前記芯線および前記検出電極を介して前記測定対象導体の電圧を検出すると共に当該電圧に応じて変化する電圧信号を出力する電圧検出部と、
前記本体ユニット内に配設されて、前記電圧信号に基づいて前記測定対象導体の前記電圧に追従する電圧を生成すると共に前記同軸ケーブルの外部導体に印加する電圧生成部と、
前記本体ユニット内に配設されて、前記電圧生成部で生成される前記電圧に基づいて前記測定対象導体の前記電圧を測定する処理部とを備え、
前記電圧検出部は、前記電圧生成部で生成される前記電圧の電位を基準とするフローティング電圧で作動する測定装置。
A voltage detection probe according to any one of claims 1 to 9,
A main body unit connected to the voltage detection probe via the connection cable, the core wire comprising a coaxial cable directly connected to the base end ; and
Disposed within said main body unit, a voltage detection unit that outputs a voltage signal that changes according to the voltage and detects the core wire and the voltage of the measurement target conductor through the detection electrode of the coaxial cable,
A voltage generator disposed in the main body unit and generating a voltage that follows the voltage of the conductor to be measured based on the voltage signal and applied to an outer conductor of the coaxial cable;
A processing unit disposed in the main unit and measuring the voltage of the measurement target conductor based on the voltage generated by the voltage generation unit;
The voltage detector is a measuring device that operates with a floating voltage based on the potential of the voltage generated by the voltage generator.
前記電圧検出部は、演算増幅器を備えて構成された電流電圧変換回路を有し、The voltage detection unit has a current-voltage conversion circuit configured with an operational amplifier,
前記演算増幅器は、反転入力端子が前記芯線を介して前記基端部に接続されると共に、非反転入力端子が前記電圧生成部で生成される前記電圧の前記電位に規定され、In the operational amplifier, an inverting input terminal is connected to the base end via the core wire, and a non-inverting input terminal is defined by the potential of the voltage generated by the voltage generation unit,
前記同軸ケーブルの外部導体は、前記電圧生成部で生成される前記電圧の前記電位に規定されると共に、前記電圧検出プローブ側において前記導電体層に接続されている請求項10記載の測定装置。The measuring device according to claim 10, wherein an outer conductor of the coaxial cable is defined by the potential of the voltage generated by the voltage generation unit and is connected to the conductor layer on the voltage detection probe side.
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