JP6442860B2 - 前駆体ゾルゲル溶液、電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド、及びインクジェット記録装置 - Google Patents
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Description
[薄膜]
まず、第1の実施の形態に係る薄膜製造装置及び薄膜製造方法で製造される薄膜の一例として、電気機械変換素子を構成する電気機械変換膜について説明する。なお、第1の実施の形態に係る薄膜製造装置及び薄膜製造方法で製造可能な薄膜が電気機械変換膜に限定されないことは言うまでもない。
次に、第1の実施の形態に係る薄膜製造装置の構造について説明する。図3は、第1の実施の形態に係る薄膜製造装置を例示する斜視図である。図3を参照するに、薄膜製造装置3において、架台60上には、Y軸駆動手段61が設置されている。Y軸駆動手段61上には、基板63を搭載するステージ62が、Y軸方向に駆動できるように設置されている。
次に、第1の実施の形態に係る薄膜製造方法について説明する。ここでは、薄膜として図1に示す電気機械変換膜43を作製する例を示す。
第2の実施の形態では、薄膜製造装置3で製造した液滴吐出ヘッド1(図1参照)を搭載したインクジェット記録装置の例を示す。図7は、インクジェット記録装置を例示する斜視図である。図8は、インクジェット記録装置の機構部を例示する側面図である。
第3の実施の形態では、第1の実施の形態に係る電気機械変換膜を備える偏光ミラーの例を示す。図9は、圧電式MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)ミラーを例示する斜視図である。
第4の実施の形態では、第1の実施の形態に係る電気機械変換膜を備える加速度センサの例を示す。図10は、加速度センサを例示する断面図である。
第5の実施の形態では、第1の実施の形態に係る電気機械変換膜を備えるHDD(Hard Disk Drive)ヘッド用微調整装置の例を示す。図11は、HDDヘッド用微調整装置800を例示する斜視図である。
第6の実施の形態では、第1の実施の形態に係る電気機械変換膜を備える角速度センサの例を示す。図12は、振動ジャイロ型の角速度センサ900を例示する斜視図である。
第7の実施の形態では、第1の実施の形態に係る電気機械変換膜を備えるマイクロポンプの例を示す。図13は、マイクロポンプ950を例示する斜視図である。
第8の実施の形態では、第1の実施の形態に係る電気機械変換膜を備えるマイクロバルブの例を示す。図14は、マイクロバルブ960を例示する断面図である。
本実施例では、第1の実施の形態に係る前駆体ゾルゲル溶液、機能性インク、電気機械変換膜、及び電気機械変換素子を実際に作製した。
まず、PZT前駆体ゾルゲル溶液の合成について、図15を用いて説明する。本実施例では、水の添加量の異なる5個のPZT前駆体ゾルゲル溶液を作製した(表1参照)。各PZT前駆体ゾルゲル溶液を、サンプルA〜Eとした。実施例のサンプルとして、サンプルA、サンプルB、サンプルCを用いた。比較例のサンプルとして、サンプルD、サンプルEを用いた。
続いて、合成した前駆体ゾルゲル溶液(サンプルA〜E)に含まれる水分量を測定した。本実施例では、サンプルA〜Eに含まれる水分量を、カールフィッシャー水分計を用いて測定した。
続いて、5個のPZT前駆体ゾルゲル溶液(サンプルA〜E)に対して、インク化調製を行った。各PZT前駆体ゾルゲル溶液に対して、主溶媒及び副溶媒を添加し、該溶液に分散する固形分の濃度を調整することで、インクジェットヘッド69で使用する機能性インクを作製した。作製した機能性インクをサンプルA〜Eに対応させてサンプル1〜5とした(表2参照)。実施例のサンプルとして、サンプル1、サンプル2、サンプル3を用いた。比較例のサンプルとして、サンプル4、サンプル5を用いた。
続いて、インクジェット方式により、作製した機能性インクを、親水性領域に塗布した。下部電極に対して表面処理を施し、下部電極の表面を親水性領域と疎水性領域に分けることで、機能性インクの塗り分けを行った。
続いて、インクジェットヘッドのノズルから吐出する液滴(機能性インク)の様子、液滴の安定吐出時間、電気機械変換膜(PZT膜)の着弾パターン、から、インクジェットヘッドの吐出信頼性を調べた。
なお、水分量が10倍より大きいPZT前駆体ゾルゲル溶液を使用した機能性インク(比較例のサンプルとして、本実施例では挙げていない)は、保存安定性の問題で実用的ではなかった。
続いて、良質なPZT膜に上部電極(白金)を成膜し、電気機械変換素子を作製し、電気的特性、電気機械変換能(圧電定数)の評価を行った。
3 薄膜製造装置
4 インクジェット記録装置
11 ノズル
40 電気機械変換素子
42 電極
43 電気機械変換膜
51 機能性インク
600 偏向ミラー
700 加速度センサ
800 HDD用微調整装置
900 角速度センサ
950 マイクロポンプ
960 マイクロバルブ
Claims (15)
- 一般式ABO3で記述されるペロブスカイト構造の酸化物誘電体膜を形成する際に使用する、部分加水分解処理がなされた前駆体ゾルゲル溶液であって、
前記前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量が、前記前駆体ゾルゲル溶液に含まれるBサイトを構成する原子に対するモル比で0.59倍以上1.0倍以下であり、
前記前駆体ゾルゲル溶液が、A=Pb、B=ZrおよびTiの両方である、前駆体ゾルゲル溶液。 - 前記部分加水分解処理に対して粘度変化が5割以下となる安定化処理がなされる、請求項1記載の前駆体ゾルゲル溶液。
- 薄膜製造装置に備えられる液滴吐出装置のノズルから吐出する、請求項1又は2記載の前駆体ゾルゲル溶液。
- 請求項1から3の何れか一つに記載の前駆体ゾルゲル溶液を塗布して形成される酸化物誘電体膜。
- 請求項4記載の酸化物誘電体膜を電気機械変換素子として備えた液滴吐出ヘッド。
- 請求項5記載の液滴吐出ヘッドを備えたインクジェット記録装置。
- 請求項4記載の酸化物誘電体膜を電気機械変換素子として備えた偏向ミラー。
- 請求項4記載の酸化物誘電体膜を電気機械変換素子として備えた加速度センサ。
- 請求項4記載の酸化物誘電体膜を電気機械変換素子として備えたHDDヘッド用微調整装置。
- 請求項4記載の酸化物誘電体膜を電気機械変換素子として備えた角速度センサ。
- 請求項4記載の酸化物誘電体膜を電気機械変換素子として備えたマイクロポンプ。
- 請求項4記載の酸化物誘電体膜を電気機械変換素子として備えたマイクロバルブ。
- 一般式ABO3で記述されるペロブスカイト構造の酸化物誘電体膜を形成する際に使用する前駆体ゾルゲル溶液の製造方法であって、
部分加水分解工程での粘度変化を抑制する安定化処理工程と、
部分加水分解工程を有し、
前記部分加水分解工程後の前記前駆体ゾルゲル溶液に含まれる水分量が、前記前駆体ゾルゲル溶液に含まれるBサイトを構成する原子に対するモル比で0.59倍以上1.0倍以下であり、
前記前駆体ゾルゲル溶液が、A=Pb、B=ZrおよびTiの両方である、前駆体ゾルゲル溶液の製造方法。 - 前記部分加水分解工程は、工程前後での粘度変化が5割以下である、請求項13に記載の前駆体ゾルゲル溶液の製造方法。
- 前記部分加水分解工程は、前記前駆体ゾルゲル溶液に、水又は水溶液を加えることにより行われる、請求項13又は14記載の前駆体ゾルゲル溶液の製造方法。
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Family Cites Families (23)
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|---|---|---|---|---|
| EP0469053A1 (en) * | 1989-04-21 | 1992-02-05 | Texel Corporation | Preparation of thin film ceramics by sol gel processing |
| JPH04264317A (ja) * | 1991-02-19 | 1992-09-21 | Ricoh Co Ltd | 強誘電体 |
| JPH0891841A (ja) | 1994-09-27 | 1996-04-09 | Sharp Corp | 強誘電体膜の製造方法 |
| JP3359436B2 (ja) * | 1994-11-07 | 2002-12-24 | 京セラ株式会社 | PbTiO3配向膜の製造方法 |
| JP3485417B2 (ja) * | 1995-09-08 | 2004-01-13 | 京セラ株式会社 | 誘電体薄膜の製法 |
| EP0987218B1 (en) | 1998-01-19 | 2004-05-06 | Seiko Epson Corporation | Process for the formation of oxide ceramic thin film |
| JP2000034575A (ja) * | 1998-03-30 | 2000-02-02 | Minolta Co Ltd | 金属酸化物薄膜およびアレイ状金属酸化物機能性素子の製造法 |
| JPH11286653A (ja) | 1998-03-31 | 1999-10-19 | Kansai Shingijutsu Kenkyusho:Kk | 強誘電体薄膜形成用前駆体溶液およびその製造方法 |
| JP2000128645A (ja) * | 1998-04-17 | 2000-05-09 | Ssi Technol Inc | ゾル・ゲルバインダ―溶液及びそれによる溶液析出法 |
| JP2000058935A (ja) | 1998-08-13 | 2000-02-25 | Citizen Watch Co Ltd | 強誘電体素子の製造方法 |
| JP2000091657A (ja) | 1998-09-11 | 2000-03-31 | Citizen Watch Co Ltd | 強誘電体素子の製造方法 |
| US6589457B1 (en) * | 2000-07-31 | 2003-07-08 | The Regents Of The University Of California | Polymer-assisted aqueous deposition of metal oxide films |
| KR100408517B1 (ko) | 2000-12-28 | 2003-12-06 | 삼성전자주식회사 | 졸-겔 공정을 이용한 강유전성 박막 제조방법 |
| EP1505663A4 (en) | 2002-05-15 | 2009-08-19 | Seiko Epson Corp | PIEZOELECTRIC ACTUATOR AND LIQUID JET HEAD |
| JP4464171B2 (ja) * | 2004-03-18 | 2010-05-19 | 株式会社アート科学 | 酸化物セラミックスナノシートの製造方法及び製造装置 |
| US9125968B2 (en) * | 2005-03-30 | 2015-09-08 | Boston Scientific Scimed, Inc. | Polymeric/ceramic composite materials for use in medical devices |
| JP2010219148A (ja) | 2009-03-13 | 2010-09-30 | Mitsui Mining & Smelting Co Ltd | ゾル−ゲル前駆体液及びそのゾル−ゲル前駆体液を用いて得られる酸化物誘電体膜 |
| JP5526810B2 (ja) | 2010-01-28 | 2014-06-18 | 株式会社リコー | ゾルゲル液、電気−機械変換素子、液体吐出ヘッド及びインクジェット記録装置 |
| JP2013225671A (ja) | 2012-03-22 | 2013-10-31 | Ricoh Co Ltd | 薄膜製造装置、電気−機械変換素子、液体吐出ヘッド、画像形成装置および薄膜製造方法 |
| JP2014030008A (ja) * | 2012-07-02 | 2014-02-13 | Ricoh Co Ltd | 圧電体素子の製造方法、圧電体素子、液滴吐出ヘッド、画像形成装置、偏向ミラー、加速度センサ、ヘッド位置調整装置、強誘電体メモリ素子、角速度センサ、マイクロポンプ、マイクロバルブ及び高周波スイッチ |
| JP6060582B2 (ja) * | 2012-09-18 | 2017-01-18 | 株式会社リコー | 電気機械変換膜の形成方法、電気機械変換素子の製造方法、液滴吐出ヘッドの製造方法及び画像形成装置の製造方法 |
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