JP6373143B2 - 基板処理装置、制御方法、およびコンピュータプログラム - Google Patents
基板処理装置、制御方法、およびコンピュータプログラム Download PDFInfo
- Publication number
- JP6373143B2 JP6373143B2 JP2014193086A JP2014193086A JP6373143B2 JP 6373143 B2 JP6373143 B2 JP 6373143B2 JP 2014193086 A JP2014193086 A JP 2014193086A JP 2014193086 A JP2014193086 A JP 2014193086A JP 6373143 B2 JP6373143 B2 JP 6373143B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- stagnation area
- restriction
- loading
- stagnation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
Landscapes
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
- General Factory Administration (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Description
本願の第13発明は、基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、前記停滞不能エリアの搬送方向下流側において基板を待機させる複数の基板収納部を有する待機バッファと、を備えた基板処理装置において、前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御する制御方法であって、a)前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する工程と、b)前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、Y≦X+Aを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始する工程と、c)Y>X+Bを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除する工程と、e)前記投入規制を解除した後、予め設定された時間よりも短い時間で、前記投入規制が開始されると、前記規制解除パラメータBの値を増加させる工程と、を有する。
本願の第14発明は、基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、前記停滞不能エリアの搬送方向下流側において基板を待機させる複数の基板収納部を有する待機バッファと、を備えた基板処理装置において、前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御する制御方法であって、a)前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する工程と、b)前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、Y≦X+Aを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始する工程と、c)Y>X+Bを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除する工程と、f)前記投入規制を解除した後、予め設定された時間よりも長い時間、前記待機バッファ内の基板の数が0枚である状態が継続されると、前記規制解除パラメータBの値を減少させる工程と、を有する。
本願の第15発明は、基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、前記停滞不能エリアの搬送方向下流側において基板を待機させる複数の基板収納部を有する待機バッファと、を備えた基板処理装置において、前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御する制御方法であって、a)前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する工程と、b)前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、Y≦X+Aを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始する工程と、c)Y>X+Bを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除する工程と、g)前記複数の処理部における基板の処理条件を示すレシピ毎に、前記規制開始パラメータAおよび前記規制解除パラメータBを、固有の値として保持する工程と、を有する。
本願の第16発明は、基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、前記停滞不能エリアの搬送方向下流側において基板を待機させる複数の基板収納部を有する待機バッファと、を備えた基板処理装置において、前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御する制御方法であって、a)前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する工程と、b)前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、Y≦X+Aを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始する工程と、c)Y>X+Bを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除する工程と、h)基板の処理環境の変化に応じた環境補正値Zを予め設定する工程と、i)基板の処理環境が変化したときに、前記Y≦X+Aに代えて、Y≦X+A+Zを用い、前記Y>X+Bに代えて、Y>X+B+Zを用いる工程と、を有する。
本願の第18発明は、基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、前記停滞不能エリアの搬送方向下流側において基板を待機させる複数の基板収納部を有する待機バッファと、を備えた基板処理装置において、前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御するためのコンピュータプログラムであって、コンピュータに、a)前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する処理と、b)前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、Y≦X+Aを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始する処理と、c)Y>X+Bを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除する処理と、e)前記投入規制を解除した後、予め設定された時間よりも短い時間で、前記投入規制が開始されると、前記規制解除パラメータBの値を増加させる処理と、を実行させる。
本願の第19発明は、基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、前記停滞不能エリアの搬送方向下流側において基板を待機させる複数の基板収納部を有する待機バッファと、を備えた基板処理装置において、前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御するためのコンピュータプログラムであって、コンピュータに、a)前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する処理と、b)前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、Y≦X+Aを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始する処理と、c)Y>X+Bを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除する処理と、f)前記投入規制を解除した後、予め設定された時間よりも長い時間、前記待機バッファ内の基板の数が0枚である状態が継続されると、前記規制解除パラメータBの値を減少させる処理と、
を実行させる。
本願の第20発明は、基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、前記停滞不能エリアの搬送方向下流側において基板を待機させる複数の基板収納部を有する待機バッファと、を備えた基板処理装置において、前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御するためのコンピュータプログラムであって、コンピュータに、a)前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する処理と、b)前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、Y≦X+Aを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始する処理と、c)Y>X+Bを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除する処理と、g)前記複数の処理部における基板の処理条件を示すレシピ毎に、前記規制開始パラメータAおよび前記規制解除パラメータBを、固有の値として保持する処理と、を実行させる。
本願の第21発明は、基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、前記停滞不能エリアの搬送方向下流側において基板を待機させる複数の基板収納部を有する待機バッファと、を備えた基板処理装置において、前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御するためのコンピュータプログラムであって、コンピュータに、a)前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する処理と、b)前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、Y≦X+Aを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始する処理と、c)Y>X+Bを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除する処理と、h)基板の処理環境の変化に応じた環境補正値Zを予め設定する処理と、i)基板の処理環境が変化したときに、前記Y≦X+Aに代えて、Y≦X+A+Zを用い、前記Y>X+Bに代えて、Y>X+B+Zを用いる処理と、を実行させる。
図1は、本発明の一実施形態に係る基板処理装置1の構成を示した図である。この基板処理装置1は、液晶表示パネルのTFTアレイを製造する工程において、矩形のガラス基板9の表面に、レジスト膜を形成して露光を行う装置である。図1に示すように、基板処理装置1は、インデクサ10、洗浄部20、デハイドベーク部30、塗布乾燥部40、ソフトベーク部50、待機バッファ60、および露光部70の7つの処理部を有する。基板処理装置1は、これらの処理部間で基板9を順次に受け渡しながら、基板9に対して一連の処理を行う。
続いて、停滞不能エリア200への基板9の投入制御について、より詳細に説明する。
Y≦X+A ・・・(1)
Y>X+B ・・・(2)
<3−1.規制開始パラメータAの補正>
上記の規制開始パラメータAは、固定値であってもよく、状況に応じて補正されるものであってもよい。以下では、規制開始パラメータAを補正する場合の補正処理の例を、図6のフローチャートを参照しつつ、説明する。なお、本実施形態では、ライン制御PC82が、上述したコンピュータプログラムPに基づいて、図6の補正処理を実行する。
上記の規制解除パラメータBは、固定値であってもよく、状況に応じて補正されるものであってもよい。以下では、規制解除パラメータBを補正する場合の補正処理の例を、図7および図8のフローチャートを参照しつつ、説明する。なお、本実施形態では、ライン制御PC82が、上述したコンピュータプログラムPに基づいて、図7および図8の補正処理を実行する。
以上、本発明の主たる実施形態について説明したが、本発明は、上記の実施形態に限定されるものではない。以下では、種々の変形例について説明する。
基板処理装置1において、レシピが変更されたり、停滞不能エリア200内の一部のユニットがメンテナンス等で停止したりすると、停滞不能エリア200内における通常時の基板9の在荷枚数も変化する。そうすると、停滞不能エリア200に対する待機バッファ60の相対的な余裕量も変化する。例えば、停滞不能エリア200内の1つのユニットがメンテナンス中となった場合、停滞不能エリア200内における通常時の在荷枚数Xが減るため、待機バッファ60の余裕量が相対的に増加した状態となる。
Y≦X+A+Z ・・・(1a)
Y>X+B+Z ・・・(2a)
待機バッファ60内の一部の基板収納部61が、メンテナンス等で使用不可となった場合には、当該基板収納部61を考慮から除外するようにしてもよい。具体的には、待機バッファ60内の複数の基板収納部61のうち、一部の基板収納部61が使用不可になると、まず、ライン制御PC82内の記憶部821に、使用不可となった基板収納部を指定する情報を記憶させる。ライン制御PC82は、バッファ空き数Yを算出する際に、指定された基板収納部61の数を減算する。そして、減算後のバッファ空き数Yを用いて、停滞不能エリア200への基板9の投入規制を行う。このようにすれば、使用できない基板収納部61を考慮から除外して、より実情に合った基板9の投入規制を行うことができる。
上記の実施形態では、ライン制御PC82が、停滞不能エリア200への基板9の投入制御を行う制御部の機能を担っていた。しかしながら、当該制御部の機能を、複数のコントローラ81の一部によって実現してもよい。例えば、図9のように、デハイドベーク部30を担当するコントローラ81に、停滞不能エリア200への基板9の投入を制御するためのコンピュータプログラムPが、インストールされていてもよい。図9の例では、デハイドベーク部30を担当するコントローラ81内の記憶部811を、7つのコントローラ81の共有メモリとして用いる。7つのコントローラ81は、各々が担当する処理部内に存在する基板9の数を、当該記憶部811に書き込む。デハイドベーク部30を担当するコントローラ81は、記憶部811に書き込まれたこれらの情報に基づき、停滞不能エリア200内の基板9の在荷枚数Xと、待機バッファ60内のバッファ空き数Yとを算出し、停滞不能エリア200への投入規制を行うか否かを判断する。このようにすれば、処理部毎のコントローラ81とは別に、投入規制制御用のコンピュータを用意する必要がない。したがって、基板処理装置1の制御システム80を、よりシンプルに構成できる。
また、上記の実施形態のような停滞不能エリア200への基板9の投入制御を行いつつ、図10のように、従来のスケジューラ90を併用してもよい。図10の例では、停滞不能エリア200への基板9の投入制御は、ライン制御PC82または処理部用のコントローラ81で行い、それ以外の基板9の搬送制御については、スケジューラ90で行うことができる。したがって、スケジューラ90で、停滞不能エリア200への基板9の投入制御を含む全ての搬送制御を行う場合よりも、スケジューラ90の処理負担を減らすことができる。
上記の実施形態では、基板処理装置1内に、インデクサ10、洗浄部20、デハイドベーク部30、塗布乾燥部40、ソフトベーク部50、待機バッファ60、および露光部70の7つの処理部が設けられていた。しかしながら、基板処理装置内の処理部の数や、各処理部における処理内容は、上記の実施形態と相違していてもよい。例えば、基板処理装置は、露光後の現像処理を行う現像部を、さらに有していてもよい。また、基板処理装置内に、複数の停滞不能エリアが含まれていてもよい。
9 基板
10 インデクサ
20 洗浄部
30 デハイドベーク部
40 塗布乾燥部
50 ソフトベーク部
60 待機バッファ
61 基板収納部
70 露光部
80 制御システム
81 コントローラ
82 ライン制御PC
83 処理部間通信ネットワーク
84 操作パネル
90 スケジューラ
100 停滞可能エリア
200 停滞不能エリア
811,821 記憶部
841 表示部
842 入力部
A 規制開始パラメータ
B 規制解除パラメータ
M 記憶媒体
P コンピュータプログラム
T テーブルデータ
X 在荷枚数
Y バッファ空き数
Z 環境補正値
Claims (21)
- 複数の処理部間で基板を受け渡しながら、基板に対して一連の処理を行う基板処理装置であって、
基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、
前記停滞不能エリアの搬送方向下流側に位置する待機バッファと、
前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御する制御部と、
を有し、
前記待機バッファは、基板を待機させる複数の基板収納部を有し、
前記制御部は、
前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する情報取得手段と、
前記在荷枚数および前記バッファ空き数に基づいて、前記停滞不能エリアへの基板の投入を規制するか否かを切り替える切替手段と、
を有し、
前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、
前記切替手段は、
Y≦X+Aを満たすと、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始し、
Y>X+Bを満たすと、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除し、
前記制御部は、
XおよびYのいずれか一方が0となった時点での、XおよびYのいずれか他方の値の大きさに応じて、Aの値を増減する、基板処理装置。 - 請求項1に記載の基板処理装置であって、
前記制御部は、
投入規制中にY=0になった時点でX>0となっていれば、その時点のXをAに足して、新たな規制開始パラメータAとする、基板処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載の基板処理装置であって、
前記制御部は、
X=0になった時点でY>Aとなっていれば、前記規制開始パラメータAの値を減少させる、基板処理装置。 - 複数の処理部間で基板を受け渡しながら、基板に対して一連の処理を行う基板処理装置であって、
基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、
前記停滞不能エリアの搬送方向下流側に位置する待機バッファと、
前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御する制御部と、
を有し、
前記待機バッファは、基板を待機させる複数の基板収納部を有し、
前記制御部は、
前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する情報取得手段と、
前記在荷枚数および前記バッファ空き数に基づいて、前記停滞不能エリアへの基板の投入を規制するか否かを切り替える切替手段と、
を有し、
前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、
前記切替手段は、
Y≦X+Aを満たすと、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始し、
Y>X+Bを満たすと、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除し、
前記制御部は、
前記投入規制を解除した後、予め設定された時間よりも短い時間で、前記投入規制が開始されると、前記規制解除パラメータBの値を増加させる、基板処理装置。 - 複数の処理部間で基板を受け渡しながら、基板に対して一連の処理を行う基板処理装置であって、
基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、
前記停滞不能エリアの搬送方向下流側に位置する待機バッファと、
前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御する制御部と、
を有し、
前記待機バッファは、基板を待機させる複数の基板収納部を有し、
前記制御部は、
前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する情報取得手段と、
前記在荷枚数および前記バッファ空き数に基づいて、前記停滞不能エリアへの基板の投入を規制するか否かを切り替える切替手段と、
を有し、
前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、
前記切替手段は、
Y≦X+Aを満たすと、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始し、
Y>X+Bを満たすと、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除し、
前記制御部は、
前記投入規制を解除した後、予め設定された時間よりも長い時間、前記待機バッファ内の基板の数が0枚である状態が継続されると、前記規制解除パラメータBの値を減少させる、基板処理装置。 - 複数の処理部間で基板を受け渡しながら、基板に対して一連の処理を行う基板処理装置であって、
基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、
前記停滞不能エリアの搬送方向下流側に位置する待機バッファと、
前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御する制御部と、
を有し、
前記待機バッファは、基板を待機させる複数の基板収納部を有し、
前記制御部は、
前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する情報取得手段と、
前記在荷枚数および前記バッファ空き数に基づいて、前記停滞不能エリアへの基板の投入を規制するか否かを切り替える切替手段と、
を有し、
前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、
前記切替手段は、
Y≦X+Aを満たすと、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始し、
Y>X+Bを満たすと、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除し、
前記制御部は、
前記複数の処理部における基板の処理条件を示すレシピを複数有し、
前記レシピ毎に、前記規制開始パラメータAおよび前記規制解除パラメータBを、固有の値として保持する、基板処理装置。 - 複数の処理部間で基板を受け渡しながら、基板に対して一連の処理を行う基板処理装置であって、
基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、
前記停滞不能エリアの搬送方向下流側に位置する待機バッファと、
前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御する制御部と、
を有し、
前記待機バッファは、基板を待機させる複数の基板収納部を有し、
前記制御部は、
前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する情報取得手段と、
前記在荷枚数および前記バッファ空き数に基づいて、前記停滞不能エリアへの基板の投入を規制するか否かを切り替える切替手段と、
を有し、
前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、
前記切替手段は、
Y≦X+Aを満たすと、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始し、
Y>X+Bを満たすと、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除し、
前記制御部に、基板の処理環境の変化に応じた環境補正値Zが予め設定され、
前記切替手段は、基板の処理環境が変化したときに、
前記Y≦X+Aに代えて、Y≦X+A+Zを用い、
前記Y>X+Bに代えて、Y>X+B+Zを用いる、基板処理装置。 - 請求項1乃至請求項7のいずれか1項に記載の基板処理装置であって、
前記待機バッファが有する前記基板収納部の数は、前記停滞不能エリアに存在可能な基板の最大在荷枚数よりも多い、基板処理装置。 - 請求項1乃至請求項8のいずれか1項に記載の基板処理装置であって、
前記制御部は、
前記待機バッファ内の前記複数の基板収納部のうち、使用できない基板収納部を指定する指定手段と、
前記バッファ空き数から、前記指定手段により指定された基板収納部の数を減らす減算手段と、
をさらに有し、
前記切替手段は、減算手段による減算後の前記バッファ空き数に基づいて、基板の投入を規制するか否かを切り替える、基板処理装置。 - 請求項1乃至請求項9のいずれか1項に記載の基板処理装置であって、
前記複数の処理部の各々を制御する複数のコントローラを有し、
前記制御部の機能が、前記複数のコントローラと通信可能に接続された他のコンピュータによって実現される、基板処理装置。 - 請求項1乃至請求項9のいずれか1項に記載の基板処理装置であって、
前記複数の処理部の各々を制御する複数のコントローラを有し、
前記制御部の機能が、前記複数のコントローラの一部によって実現される、基板処理装置。 - 基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、前記停滞不能エリアの搬送方向下流側において基板を待機させる複数の基板収納部を有する待機バッファと、を備えた基板処理装置において、前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御する制御方法であって、
a)前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する工程と、
b)前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、Y≦X+Aを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始する工程と、
c)Y>X+Bを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除する工程と、
d)XおよびYのいずれか一方が0となった時点での、XおよびYのいずれか他方の値の大きさに応じて、Aの値を増減する工程と、
を有する、制御方法。 - 基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、前記停滞不能エリアの搬送方向下流側において基板を待機させる複数の基板収納部を有する待機バッファと、を備えた基板処理装置において、前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御する制御方法であって、
a)前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する工程と、
b)前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、Y≦X+Aを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始する工程と、
c)Y>X+Bを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除する工程と、
e)前記投入規制を解除した後、予め設定された時間よりも短い時間で、前記投入規制が開始されると、前記規制解除パラメータBの値を増加させる工程と、
を有する制御方法。 - 基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、前記停滞不能エリアの搬送方向下流側において基板を待機させる複数の基板収納部を有する待機バッファと、を備えた基板処理装置において、前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御する制御方法であって、
a)前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する工程と、
b)前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、Y≦X+Aを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始する工程と、
c)Y>X+Bを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除する工程と、
f)前記投入規制を解除した後、予め設定された時間よりも長い時間、前記待機バッファ内の基板の数が0枚である状態が継続されると、前記規制解除パラメータBの値を減少させる工程と、
を有する制御方法。 - 基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、前記停滞不能エリアの搬送方向下流側において基板を待機させる複数の基板収納部を有する待機バッファと、を備えた基板処理装置において、前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御する制御方法であって、
a)前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する工程と、
b)前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、Y≦X+Aを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始する工程と、
c)Y>X+Bを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除する工程と、
g)前記複数の処理部における基板の処理条件を示すレシピ毎に、前記規制開始パラメータAおよび前記規制解除パラメータBを、固有の値として保持する工程と、
を有する制御方法。 - 基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、前記停滞不能エリアの搬送方向下流側において基板を待機させる複数の基板収納部を有する待機バッファと、を備えた基板処理装置において、前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御する制御方法であって、
a)前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する工程と、
b)前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、Y≦X+Aを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始する工程と、
c)Y>X+Bを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除する工程と、
h)基板の処理環境の変化に応じた環境補正値Zを予め設定する工程と、
i)基板の処理環境が変化したときに、
前記Y≦X+Aに代えて、Y≦X+A+Zを用い、
前記Y>X+Bに代えて、Y>X+B+Zを用いる工程と、
を有する制御方法。 - 基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、前記停滞不能エリアの搬送方向下流側において基板を待機させる複数の基板収納部を有する待機バッファと、を備えた基板処理装置において、前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御するためのコンピュータプログラムであって、コンピュータに、
a)前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する処理と、
b)前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、Y≦X+Aを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始する処理と、
c)Y>X+Bを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除する処理と、
d)XおよびYのいずれか一方が0となった時点での、XおよびYのいずれか他方の値の大きさに応じて、Aの値を増減する処理と、
を実行させる、コンピュータプログラム。 - 基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、前記停滞不能エリアの搬送方向下流側において基板を待機させる複数の基板収納部を有する待機バッファと、を備えた基板処理装置において、前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御するためのコンピュータプログラムであって、コンピュータに、
a)前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する処理と、
b)前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、Y≦X+Aを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始する処理と、
c)Y>X+Bを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除する処理と、
e)前記投入規制を解除した後、予め設定された時間よりも短い時間で、前記投入規制が開始されると、前記規制解除パラメータBの値を増加させる処理と、
を実行させる、コンピュータプログラム。 - 基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、前記停滞不能エリアの搬送方向下流側において基板を待機させる複数の基板収納部を有する待機バッファと、を備えた基板処理装置において、前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御するためのコンピュータプログラムであって、コンピュータに、
a)前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する処理と、
b)前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、Y≦X+Aを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始する処理と、
c)Y>X+Bを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除する処理と、
f)前記投入規制を解除した後、予め設定された時間よりも長い時間、前記待機バッファ内の基板の数が0枚である状態が継続されると、前記規制解除パラメータBの値を減少させる処理と、
を実行させる、コンピュータプログラム。 - 基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、前記停滞不能エリアの搬送方向下流側において基板を待機させる複数の基板収納部を有する待機バッファと、を備えた基板処理装置において、前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御するためのコンピュータプログラムであって、コンピュータに、
a)前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する処理と、
b)前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、Y≦X+Aを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始する処理と、
c)Y>X+Bを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除する処理と、
g)前記複数の処理部における基板の処理条件を示すレシピ毎に、前記規制開始パラメータAおよび前記規制解除パラメータBを、固有の値として保持する処理と、
を実行させる、コンピュータプログラム。 - 基板を停滞させると処理不良の要因となる停滞不能エリアと、前記停滞不能エリアの搬送方向下流側において基板を待機させる複数の基板収納部を有する待機バッファと、を備えた基板処理装置において、前記停滞不能エリアへの基板の投入を制御するためのコンピュータプログラムであって、コンピュータに、
a)前記停滞不能エリア内の基板の在荷枚数と、前記待機バッファ内の基板が待機していない基板収納部の数を示すバッファ空き数とを取得する処理と、
b)前記在荷枚数をX、前記バッファ空き数をY、0以上の整数である規制開始パラメータをA、A以上の整数である規制解除パラメータをBとして、Y≦X+Aを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を開始する処理と、
c)Y>X+Bを満たす状態となったときに、前記停滞不能エリアへの基板の投入規制を解除する処理と、
h)基板の処理環境の変化に応じた環境補正値Zを予め設定する処理と、
i)基板の処理環境が変化したときに、
前記Y≦X+Aに代えて、Y≦X+A+Zを用い、
前記Y>X+Bに代えて、Y>X+B+Zを用いる処理と、
を実行させる、コンピュータプログラム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014193086A JP6373143B2 (ja) | 2014-09-22 | 2014-09-22 | 基板処理装置、制御方法、およびコンピュータプログラム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2014193086A JP6373143B2 (ja) | 2014-09-22 | 2014-09-22 | 基板処理装置、制御方法、およびコンピュータプログラム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2016066643A JP2016066643A (ja) | 2016-04-28 |
| JP6373143B2 true JP6373143B2 (ja) | 2018-08-15 |
Family
ID=55804225
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2014193086A Active JP6373143B2 (ja) | 2014-09-22 | 2014-09-22 | 基板処理装置、制御方法、およびコンピュータプログラム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP6373143B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6891006B2 (ja) * | 2017-03-08 | 2021-06-18 | 株式会社Screenホールディングス | 基板処理システム及び基板処理システムの搬入制御方法 |
| TWI758578B (zh) * | 2018-03-01 | 2022-03-21 | 日商荏原製作所股份有限公司 | 排程器、基板處理裝置、及基板搬送方法 |
| TWI864258B (zh) * | 2020-04-08 | 2024-12-01 | 日商東京威力科創股份有限公司 | 基板處理裝置及基板處理方法 |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH11260883A (ja) * | 1998-03-09 | 1999-09-24 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置 |
| US6491451B1 (en) * | 2000-11-03 | 2002-12-10 | Motorola, Inc. | Wafer processing equipment and method for processing wafers |
| JP2003108213A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-11 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 自動管理システム |
| JP4080349B2 (ja) * | 2003-02-21 | 2008-04-23 | 大日本スクリーン製造株式会社 | 減圧乾燥装置および被膜形成装置 |
| JP2007335494A (ja) * | 2006-06-13 | 2007-12-27 | Fujifilm Corp | 基板搬入出方法及びシステム、及び感光性積層体製造装置 |
| JP5458800B2 (ja) * | 2009-10-22 | 2014-04-02 | 凸版印刷株式会社 | 異常検出システム |
-
2014
- 2014-09-22 JP JP2014193086A patent/JP6373143B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2016066643A (ja) | 2016-04-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5392190B2 (ja) | 基板処理システム及び基板処理方法 | |
| JP5065167B2 (ja) | 基板の処理方法及び基板の処理システム | |
| JP5246184B2 (ja) | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 | |
| JP6723110B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP6373143B2 (ja) | 基板処理装置、制御方法、およびコンピュータプログラム | |
| KR100994856B1 (ko) | 기판 처리 시스템 | |
| CN112400214B (zh) | 基板处理装置以及基板处理系统 | |
| JP5132920B2 (ja) | 塗布・現像装置および基板搬送方法、ならびにコンピュータプログラム | |
| JP6279343B2 (ja) | 基板処理装置、プログラム、および、基板処理方法 | |
| JP2005175052A (ja) | 基板処理装置の制御方法及び基板処理装置 | |
| TW202121085A (zh) | 基板處理裝置及基板處理方法 | |
| KR102172308B1 (ko) | 도포, 현상 장치, 도포, 현상 방법 및 기억 매체 | |
| JPH07283093A (ja) | 被処理体の処理のスケジューリング方法及びその装置 | |
| JP5904294B2 (ja) | 基板処理装置及び基板処理方法 | |
| JP2017215456A (ja) | 基板処理装置、基板処理方法、プログラム、及び物品製造方法 | |
| JP2015156105A (ja) | 制御方法および基板処理装置 | |
| JP4509926B2 (ja) | 基板処理装置 | |
| CN118818909B (zh) | 基板处理装置及基板处理方法 | |
| JP7543473B1 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP6047408B2 (ja) | 基板処理装置および基板処理方法 | |
| JP5005720B2 (ja) | 基板処理装置の制御方法及び基板処理装置 | |
| KR101935942B1 (ko) | 기판 처리 장치, 그 제어 방법, 그리고 반도체 제조 설비 | |
| JP6891006B2 (ja) | 基板処理システム及び基板処理システムの搬入制御方法 | |
| JP2025099151A (ja) | 基板処理装置、基板処理装置の制御方法、プログラムを格納した記憶媒体 | |
| KR20240003731A (ko) | 기판 반송 방법, 기판 처리 장치 및 기억 매체 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20170626 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20180323 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180327 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180525 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180626 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180717 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6373143 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |