JP6372267B2 - ホスホリルコリン基含有糖誘導体及びその製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、ホスホリルコリン基含有糖誘導体及びその製造方法に関する。

生体膜を構成するリン脂質の極性基であるホスホリルコリン基は、親水性、保湿性、タンパク質吸着抑制性、及び生体適合性といった特性を有することが知られている。このため、ホスホリルコリン基を有する化合物は様々な用途に利用されている。

例えば、α−グリセロホスホリルコリンは、乳化剤や保湿剤に含まれるリン脂質の原料として利用されている。また、特許文献１，２に記載される２−メタクリロイルオキシエチルホスホリルコリン（ＭＰＣ）重合体は、化粧品、コンタクトレンズや医療材料の原料として利用されている。

一方、糖は、親水性、生分解性を有する天然由来の化合物である。糖又は糖誘導体は、例えば、繊維、製紙、化粧品や歯磨剤等の日用品、接着剤（糊）、医療など幅広い用途に利用されている。

これまでに、重合性のホスホリルコリン基を含む化合物であるＭＰＣと糖又は糖誘導体との共重合体は報告されているが、ホスホリルコリン基を直接糖又は糖誘導体に導入した化合物の報告例は少ない。

ホスホリルコリン基を有する化合物は、例えば、水酸基を有するモノマーと２−クロロ−１，３，２−ジオキサホスホラン−２−オキシドとを反応させ、更にトリメチルアミンにより４級アンモニウムとする方法により得られる。この方法を用いる技術が、例えば特許文献３に記載されている。

特許文献３に記載の技術では、反応性官能基を有するアルコール化合物にホスホリルコリン基を導入して得られるホスホリルコリン基含有化合物を、Ｎ−ヒドロキシスクイシンイミドや塩化トシルやカルボニルジイミダゾールとそれぞれ反応させる。これにより、Ｎ−ヒドロキシスクイシンイミドエステル、トシル、イミダソール基、又は多糖を有するホスホリルコリン基含有化合物が得られる。

しかしながら、特許文献３などに記載された方法によって糖又は糖誘導体にホスホリルコリン基を直接導入する場合、ホスホリルコリン基の導入位置や導入率の制御が困難となる。これに対し、特許文献４に記載の技術では、ホスホリルコリン基の導入位置や導入率の制御が可能である。この技術では、グリセロホスホリルコリンの酸化的開裂反応により得られるアルデヒド体含有化合物を、アミノ基を含有する糖又は糖誘導体と還元アミノ化反応させる。

特開平７−１１８１２３号公報 特開２０００−２７９５１２号公報 特表平５−５０５１２１号公報 特開２００３−３０１００１号公報

しかしながら、特許文献４に記載の技術では、還元アミノ化試薬として、猛毒のシアン化水素（青酸ガス）を発生させる恐れのあるシアノ水素化ホウ素酸ナトリウムが使用されている。また、本技術に係るホスホリルコリン基を有する糖誘導体は、毒性のある還元剤が残存しやすく、生体や、生体類似環境での用途に適さない。

また、ホスホリルコリン基の特性を良好に発現させるためには、一般的に、糖又は糖誘導体とホスホリルコリン基とを接続するリンカーに相当する部位が、適度な運動性を有することが重要である。更に、リンカーに相当する部位の中でも、ホスホリルコリン基に近接する部位の運動性が特に重要である。

特許文献４に記載のホスホリルコリン基を有する多糖誘導体では、ホスホリルコリン基に近接する部位に、極性基である２級アミンを含むエチレン基がある。このため、このホスホリルコリン基を有する多糖誘導体では、この部位の運動性が低くなり、ホスホリルコリン基の慣性半径が小さくなるため、ホスホリルコリン基の元来有する機能が効果的に発現されない。

以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、糖又は糖誘導体にホスホリルコリン基を直接導入するための技術を提供することにある。

上記目的を達成するため、本発明の一形態に係るホスホリルコリン基含有糖誘導体は、下記一般式（１）で表される構造を有する。

・・・（１）
（式（１）中、Ｒ_１は下記式（２）又は（３）で表される構造を示し、ｍは０又は１を示し、ｎは０〜４の整数を示し、ｒは４〜１５の整数を示す。）

・・・（２）

・・・（３）

上記ホスホリルコリン基含有糖誘導体は、セルロース、ヒアルロン酸、キトサン、プルラン、デキストラン、シクロデキストリンのうちのいずれか１つの誘導体であってもよい。

本発明の一形態に係るホスホリルコリン基含有糖誘導体の製造方法では、下記一般式（４）で表されるホスホリルコリン基含有化合物と、下記一般式（５）で表される構造を有する糖又は糖誘導体とが用意される。
上記糖又は糖誘導体と、上記ホスホリルコリン基含有化合物とが付加反応させられる。

・・・（４）
（式（４）中、ｒは４〜１５の整数を示す。）

・・・（５）
（式（５）中、Ｒ_１は下記式（２）又は（３）で表される構造を示し、ｍは０又は１を示し、ｎは０〜４の整数を示す。）

・・・（２）

・・・（３）

本発明の一形態に係るハイドロゲルは、上記ホスホリルコリン基含有糖誘導体を、物理的又は化学的に架橋させることにより得られる。

本発明の一形態に係る保湿剤は、上記ホスホリルコリン基含有糖誘導体を有効成分として含む。

糖又は糖誘導体にホスホリルコリン基を直接導入するための技術を提供することができる。

以下、本発明を更に詳細に説明する。

本発明の一実施形態に係るホスホリルコリン基含有糖誘導体は、一般式（１）で表される構造を有する化合物である。

・・・（１）
（式（１）中、Ｒ_１は下記式（２）又は（３）で表される構造を示し、ｍは０又は１を示し、ｎは０〜４の整数を示し、ｒは４〜１５の整数を示す。）

・・・（２）

・・・（３）

本実施形態に係る式（１）に表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体は、ホスホリルコリン基の機能と、糖類の機能とを併せ持つ。ホスホリルコリン基の機能としては、親水性、保湿性、タンパク質吸着の抑制、及び生体適合性などが挙げられる。これに加え、ホスホリルコリン基は、糖類の粘性を低下させ、又は安定化に寄与する。糖類の機能としては、生分解性及び生体適合性などが挙げられる。

式（１）で表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体は、例えば、化粧品分野や医療材料分野で利用可能である。化粧品分野では、例えば、ホスホリルコリン基の機能により、肌への浸透性を高めることができ、また抗シワ剤などの生理活性を発現させることができる。医療材料分野では、生分解性及び生体適合性といった糖類が有する機能と、抗血栓性といったホスホリルコリン基が有する機能とにより、例えば、癒着防止剤、細胞培養の足場、薬物内包キャリアーとしての利用が期待される。

式（１）で表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体は、一般式（４）で表されるホルミル基を有するホスホリルコリン基含有化合物と、一般式（５）で表される構造を有する糖又は糖誘導体とを付加反応させることにより得られる。

・・・（４）
（式（４）中、ｒは４〜１５の整数を示す。）

・・・（５）
（式（５）中、Ｒ_１は上記式（２）又は（３）で表される構造を示し、ｍは０又は１を示し、ｎは０〜４の整数を示す。）

式（４）で表されるホルミル基を有するホスホリルコリン基含有化合物としては、例えば、４−ホルミルブチルホスホリルコリン、５−ホルミルペンチルホスホリルコリン、６−ホルミルヘキシルホスホリルコリン、７−ホルミルヘプチルホスホリルコリン、８−ホルミスオクチルホスホリルコリン、９−ホルミルノニルホスホリルコリン、１０−ホルミルデセニルホスホリルコリン、１１−ホルミルウンデセニルホスホリルコリン、１２−ホルミルドデセニルホスホリルコリン、１３−ホルミルトリデセニルホスホリルコリン、１４−ホルミルテトラデセニルホスホリルコリン、１５−ホルミルペンタデセニルホスホリルコリンが挙げられる。

式（４）で表されるホルミル基を有するホスホリルコリン基含有化合物は、例えば、ジヒドロキシ基含有ホスホリルコリン基含有化合物を酸化的開裂することにより得られる。ジヒドロキシ基含有ホスホリルコリン基含有化合物は、例えば、米国特許第５，１４４，０４５号明細書に記載されたアルケニル基含有ホスホリルコリン基含有化合物のエポキシ化によりエポキシ基を有するホスホリルコリン基含有化合物を作製し、このエポキシ基を有するホスホリルコリン基含有化合物を酸触媒存在下で開環することにより得られる。

式（５）で表される構造を有する糖又は糖誘導体は、特定の種類に限定されず、式（４）で表されるホルミル基を有するホスホリルコリン基含有化合物が反応できるアミノ基を有するものであればよい。

式（５）で表される構造を有する糖又は糖誘導体の生成は、公知の糖を利用可能である。公知の糖としては、例えば、デキストラン、シクロデキストリン、セルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒアルロン酸、プルラン、グルコマンナン、アガロース、キチン、キトサン、アルギン酸、アミロース、アミロペクチン、カードラン、スクレオグルカン、キシラン、イヌリン、グアーガム、シゾフィランといった多糖及び、α―シクロデキストリン、β―シクロデキストリン、γ―シクロデキストリンなどが挙げられる。

式（５）で表される構造を有する糖又は糖誘導体は、アミノ基を有さない公知の糖又は糖誘導体に、公知の方法によりアミノ基を導入することによって作製されてもよい。アミノ基を有さない糖又は糖誘導体にアミノ基を導入するためには、例えば、糖又は糖誘導体が有するヒドロキシメチル基とハロゲン化アルキルアミンとの反応や、糖又は糖誘導体が有するカルボキシル基とアルキレンジアミンとのカップリング反応を利用することができる。

式（５）で表される構造を有する糖又は糖誘導体におけるアミノ基の含有量により、最終目的物である式（１）で表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体におけるホスホリルコリン基の含有量を制御することができる。なお、式（１）で表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体には、ホスホリルコリン基が付加せずにアミノ基やヒドロキシメチル基が残存している繰り返し単位があってもよい。

式（５）で表される構造を有する糖又は糖誘導体は、例えば、市販品のセルロース、ヒアルロン酸などに対し、ハロゲン化アルキルアミンによるアミノ化や、アルキレンジアミンとのカップリング反応によるアミノ化を行うことにより得られる。また、式（５）で表される構造を有する糖又は糖誘導体としてはアミノ化済みの市販品を用いてもよい。

式（５）で表される構造を有する糖又は糖誘導体のアミノ化度は、ハロゲン化アルキルアミンやアルキレンジアミンの仕込み当量により制御可能であり、任意に調整可能である。

式（５）で表される構造を有する糖又は糖誘導体としては、分子量が、１，０００〜１０００，０００、好ましくは５，０００〜５０，００００、より好ましくは５，０００〜２００，０００である試薬又は市販品を使用可能である。

セルロースの市販品としては、例えば、日本製紙ケミカル（株）のサンローズなどを使用可能である。

ヒアルロン酸は、鶏冠、牛、豚などの動物由来のものであっても、またストレプトコッカス類などの菌による発酵法により得られるものであってもよい。ヒアルロン酸としては、市販品を使用することが可能である。ヒアルロン酸の市販品としては、例えば、（株）資生堂製のバイオヒアルロン酸ナトリウムＨＡ９Ｎ、キッコーマンバイオケミファ（株）製のヒアルロン酸ＦＣＨ−ＳＵ、ヒアルロン酸ＦＣＨ−Ａ、マイクロヒアルロン酸ＦＣＨ、などを使用可能である。

キトサンは、脱アセチル化度は８０％以上のものを使用することが好ましい。キトサンの市販品としては、例えば、大日精化（株）社製のダイキトサンＶＬ，ダイキトサン１００Ｄ（ＶＬ）や、焼津水産化学工業のキトサン，キトサンオリゴ糖を使用可能である。

プルランの市販品としては、例えば、（株）林原のＰＵ１０１を使用可能である。

デキストランの市販品としては、例えば、名糖産業（株）のデキストラン４０，カルボキシルメチルデキストランナトリウムを使用可能である。

シクロデキストリンはとしては、α、β、γのいずれのものも使用可能であり、試薬も使用可能である。

式（５）で表される構造を有する糖又は糖誘導体は、アミノ基以外に、例えば、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、ポリオキシエチレン基、アンモニウム基、アミド、カルボキシベタイン、炭素原子数１〜２２の直鎖状又は分岐アルキル、コレステロール、オレイル等不飽和結合を含むアルキル基、ベンゼン環、ナフタレン環、ピレンをはじめとする炭化水素系芳香族、ピリジン環、イミダゾール、チアゾール、インドール等のヘテロ系芳香族、パーフルオロアルキル、ポリアルキルシロキサン等の官能基を含有していてもよい。

式（５）で表される構造を有する糖又は糖誘導体に含ませるアミノ基以外の官能基の種類及び含有量によって、最終目的物である式（１）で表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体の機能を設計することができる。

式（５）で表される構造を有する糖又は糖誘導体では、上記の官能基がエステル、エーテル、アミド、ウレタン、尿素結合等により直接主鎖に結合されていてもよいし、上記の官能基がスペーサーを介して主鎖に結合されていてもよい。スペーサーの種類としては、例えば、ポリエチレンオキサイドポリプロピレンオキサイド、直鎖状アルキル（炭素原子数２〜２２）等が挙げられる。

式（１）で表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体の製造方法において、式（４）で表されるホルミル基を有するホスホリルコリン基含有化合物の使用量は、（５）で表されるアミノ基を有する糖又は糖誘導体のアミノ基に対して、モル比で０．１〜２０倍量、好ましくは０．５〜１０倍量、最も好ましくは１〜３倍量である。

式（４）で表される化合物の使用量が、式（５）で表される構造を有する化合物のアミノ基に対して０．１倍量より少ない場合には、高い反応転化率が達成されない恐れがある。また式（４）で表される化合物が、式（５）で表される構造を有する化合物のアミノ基に対して２０倍量よりも多い場合には、更なる反応転化率の向上が見込めず、式（４）で表される化合物に、反応転化率の向上に寄与しない余剰分が発生する。

式（１）で表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体の製造方法において、式（４）で表されるホルミル基を有するホスホリルコリン基含有化合物を、式（５）で表される構造を有するアミノ基を有する糖又は糖誘導体に付加させる反応に利用可能な溶媒は、式（４）で表される化合物、及び式（５）で表される構造を有する化合物を溶解可能であれば特定の種類に限定されない。

式（４）で表される化合物、及び式（５）で表される構造を有する化合物を溶解可能な溶媒としては、例えば、水、メタノール、エタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、及びこれらの混合溶液が挙げられる。しかし、式（４）で表される化合物、及び式（５）で表される構造を有する化合物の溶解性の観点から、溶媒は水であることが好ましい。

極性溶媒の使用量は、式（４）で示されるホルミル基を有するホスホリルコリン基含有化合物、及び式（５）で表される構造を有する糖又は糖誘導体に対して、質量比で通常１〜１００倍量、好ましくは５〜３０倍量、最も好ましくは１０〜２０倍量である。

式（１）で表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体の製造方法において、式（４）で示されるホルミル基を有するホスホリルコリン基含有化合物を、式（５）で表される構造を有する糖又は糖誘導体に付加させる反応における反応温度は、通常１〜１５０℃、好ましくは１０〜１００℃、最も好ましくは２５℃〜８０℃である。

反応温度が１℃よりも低い場合には、反応に長時間を要する恐れがある。また、反応温度が１５０℃より高い場合には、更なる反応速度が望めないうえ、酸性条件下においては糖や糖誘導体のグリコシド結合の解離が起こる恐れがある。反応時間は、反応温度、濃度などの条件により異なるが、通常１〜２４時間程度であることが好ましい。

本実施形態では、上記の製造方法により、ホスホリルコリン基を任意の量で含有する、式（１）で表わされる構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体を容易に製造可能である。式（１）で表わされる構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体は、糖の種類によらず、ほぼ同じ方法で簡便に得られる。本実施形態で得られるホスホリルコリン基含有糖誘導体は、そのまま未精製で用いられる他、減圧乾燥、凍結乾燥、再沈殿、透析、カラム、イオン交換、ゲル濾過などの処理により単離、精製を行ってから用いられることも可能である。

式（１）で表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体を用いて形成されるハイドロゲルは、天然物由来の生体吸収性材料である糖と、生体適合性、抗血栓性の高いホスホリルコリン基を有していることから、癒着防止剤、細胞培養基材、細胞の分化誘導の足場、薬物内包キャリアーなどとして利用できる。

このハイドロゲルは、式（１）で表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体中に残存する水酸基、カルボキシル基、あるいはアミノ基を架橋点として利用した物理的なイオン性結合によるものであってもよく、また化学的な共有結合によるものであってもよい。

式（１）で表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体を用いるハイドロゲルの調製においては、１種類又は複数種類のホスホリルコリン基含有糖誘導体が組み合わせて用いられてもよい。

式（１）で表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体を用いるハイドロゲルの調製における架橋反応としては、熱反応や、光反応や、酵素反応を利用することができる。

共有結合による架橋構造を有するハイドロゲルは、式（１）で表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体中に存在する水酸基、アミノ基あるいはカルボキシル基を、これらと反応する官能基を有する２官能以上の架橋剤によって架橋し、あるいは自己架橋することで調製可能である。

２官能以上の架橋剤は、水酸基、アミノ基あるいはカルボキシル基と反応するものであれば、特定の種類に限定されない。２官能以上の架橋剤としては、例えば、アルデヒド化合物、エポキシ化合物、（無水）カルボン酸化合物、アミン化合物、カーボネート化合物、イソシアネート化合物、ビニル化合物、カルボジイミド化合物、スクシンイミド化合物等が挙げられる。

２官能以上の架橋剤の具体例としては、グルタルアルデヒド、１，３−ブタジエンジエポキシド、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸二無水物、３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、エチレンジアミン、ブチレンジアミン、ポリエチレンイミン、ヘキサメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート型イソシアヌレート、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、１，３−ビス（２，２−ジメチル―１，３−ジオキソラン―４−イルメチル）カルボジイミド、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、などが挙げられる。

共有結合による架橋構造を有するハイドロゲルを調製する際に使用する架橋剤の配合量は、式（１）で表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体中の水酸基、アミノ基、あるいはカルボキシル基に対して、０．１〜５当量、好ましくは、０．１〜３当量、最も好ましくは０．５〜１当量である。架橋剤の配合量が０．１当量よりも少ない場合には、ゲル化が起きないことが懸念される。架橋剤の配合量が５当量よりも多い場合には、ハイドロゲルがもろくなる、又は、架橋剤に、ハイドロゲルの物性に寄与しない余剰分が生じる。

イオン結合による架橋構造を有するハイドロゲルは、式（１）で表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体中に存在するアニオン性基あるいはカチオン性基をイオン性架橋点とし、それぞれ、カチオン性化合物、アニオン性化合物と反応させてイオンコンプレックスを形成することで調製可能である。これにより得られるハイドロゲルとしては、例えば、アニオン性多糖であるヒアルロン酸とカチオン性多糖であるキトサンとのイオンコンプレックスゲルが挙げられる。

イオン結合による架橋構造を有するハイドロゲルを調製する際に使用可能なカチオン性基を有する化合物としては、例えば、エチレンジアミン、ブチレンジアミン、３，３―ジアミノジプロピルアミン、トリエチレンテトラミン、１，４−ジアミノブタン、１，５−ジアミノペンタン、Ｎ−Ｎ'−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、ビス（ヘキサメチレン）トリアミン、エチレングリコールビス（３−アミノプロピル）エーテル、ポリアルキレンアミン、ポリビニルアミン、ポリアリルアミン、ポリエチレンイミン、キトサン、ポリアミノエピクロロヒドリン樹脂、ポリアミノスチレン、アミノアルキル基（末端基、又は側基）含有ポリジメチルシロキサン、キチン、キトサン等を用いることができる。

また、イオン結合による架橋構造を有するハイドロゲルを調製する際に使用可能なアニオン性基を有する化合物としては、例えば、マロン酸、コハク酸、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸、もしくは３，３'，４，４'−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸、ヒアルロン酸、アルギン酸、カルボキシメチルセルロース、カルボキシメチルプルラン、カルボキシメチルデキストラン、カルボキシメチルシクロデキストリン等を用いることができる。

イオン結合による架橋構造を有するハイドロゲルを調製する際のアニオン性成分とカチオン性成分とを有する化合物の配合割合（アニオン性成分：カチオン性成分）は、通常２０：８０〜８０：２０で、特に４０：６０〜６０：４０が好ましい。アニオン性成分とカチオン性成分とのうちどちらか一方が２０％以下の配合となる場合には、ゲル化がおきない、又は、コンプレックス形成が弱く、もろくなることが懸念される。

式（１）で表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体を有効成分として含む保湿剤は、特に、皮膚に対して優れた保湿性及び使用感を示すので、例えば、皮膚に適用する各種化粧料の用途に特に適している。

式（１）で表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体を有効成分として含む保湿剤を化粧料に配合する場合の配合量は、通常０．０５〜３０質量％、特に０．１〜２０質量％が好ましい。配合量が０．０５質量％未満の場合には、当該保湿剤の優れた効果が発揮されない恐れがある。一方、配合量が３０質量％を超える場合には、べたつき感が生じ、使用感の効果が低下する恐れがある。

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されない。

［合成例１］５，６−ジヒドロキシヘキセニルホスホリルコリン（式（Ｂ）で表される化合物）合成
２００ｍＬのフラスコに式（Ａ）で表される５−ヘキセニルホスホリルコリン１．３３ｇ（５．０ｍｍｏｌ）、メタクロロ過安息香酸２．１６ｇ（１２．５ｍｍｏｌ）、アンバーリスト６５０ｍｇ、クロロホルム１５ｍＬ、及び水３０ｍＬを加えて室温で４８時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水１０ｍＬを加えた。析出した白色固体をろ過（ろ紙：Ｎｏ．５Ｃ）により除去し、ろ液を酢酸エチル１０ｍＬで３回洗浄し、水層を減圧濃縮して式（Ｂ）で表される５，６−ジヒドロキシヘキセニルホスホリルコリンを得た。収量は１．３８ｇ（４．６ｍｍｏｌ）、収率は９２％であった。

・・・（Ａ）

・・・（Ｂ）

［合成例２］４−ホルミルブチルホスホリルコリン（式（Ｃ）で表される化合物）の合成
５０ｍＬフラスコに式（Ｂ）で示す５，６−ジヒドロキシヘキセニルホスホリルコリン２９９ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）及び水１０ｍＬを加えて攪拌した。過ヨウ素酸ナトリウム３２１ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）を加えて室温で２時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣にメタノールを加えた。析出した固体をろ過（ろ紙：Ｎｏ．５Ｃ）により除去し、ろ液にイオン交換樹脂（三菱化学製ＤＩＡＩＯＮ ＷＡ２１）を加えて３時間攪拌した。ろ過（ＰＴＦＥフィルター：０．４５μｍ）により固体を除去し、ろ液を減圧濃縮して式（Ｃ）で表される４−ホルミルブチルホスホリルコリンを得た。収量は２４９ｍｇ（０．９３ｍｍｏｌ）、収率は９３％であった。

・・・（Ｃ）

［合成例３］１０，１１−ジヒドロキシウンデシルホスホリルコリン（式（Ｅ）で表される化合物）の合成
２００ｍＬのフラスコに式（Ｄ）で表される１０−ウンデシルホスホリルコリン１．６８ｇ（５．０ｍｍｏｌ）、メタクロロ過安息香酸２．１６ｇ（１２．５ｍｍｏｌ）、アンバーリスト６５０ｍｇ、クロロホルム１５ｍＬ、及び水３０ｍＬを加えて室温で４８時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣に水１０ｍＬを加えた。析出した白色固体をろ過（ろ紙：Ｎｏ．５Ｃ）により除去し、ろ液を酢酸エチル１０ｍＬで３回洗浄し、水層を減圧濃縮して式（Ｅ）で表される１０，１１−ジヒドロキシウンデシルホスホリルコリンを得た。収量は１．７５ｇ（４．７５ｍｍｏｌ）、収率は９５％であった。

・・・（Ｄ）

・・・（Ｅ）

［合成例４］９−ホルミルノニルホスホリルコリン（式（Ｆ）で表される化合物）の合成
５０ｍＬフラスコに式（Ｅ）で表される１０，１１−ジヒドロキシウンデシルホスホリルコリン３６９ｍｇ（１．０ｍｍｏｌ）及び水１０ｍＬを加えて攪拌した。過ヨウ素酸ナトリウム３２１ｍｇ（１．５ｍｍｏｌ）を加えて室温で２時間攪拌した。反応混合物を減圧濃縮し、残渣にメタノールを加えた。析出した固体をろ過（ろ紙：Ｎｏ．５Ｃ）により除去し、ろ液にイオン交換樹脂（三菱化学製ＤＩＡＩＯＮ ＷＡ２１）を加えて３時間攪拌した。ろ過（ＰＴＦＥフィルター：０．４５μｍ）により固体を除去し、ろ液を減圧濃縮して式（Ｆ）で表される９−ホルミルノニルホスホリルコリンを得た。収量は２９７ｍｇ（０．８８ｍｍｏｌ）、収率は８８％であった。

・・・（Ｆ）

［合成例５］ホルミルメチルホスホリルコリン（式（Ｇ）で表される化合物）の合成
特願２００６−９５４４６号（特開２００７−２６９６５７号公報）に開示される方法よって合成したα―グリセロホスホリルコリン（ＧＰＣ）２０．０ｇを水（８０ｍＬ）に溶解し、室温にて過ヨウ素酸ナトリウム２０．１ｇを加え、１ｈ攪拌した。反応終了後、反応溶液を減圧濃縮して水を留去し、残渣を脱水メタノールに溶解した。析出した固体をろ過（ろ紙：Ｎｏ．５Ｃ）により除去し、ろ液を減圧濃縮した。残渣を脱水メタノールに溶解し、イオン交換樹脂を加えて攪拌した。固形分をろ過（ＰＴＦＥフィルター：０．４５ｍｍ）により除去し、ろ液を減圧濃縮し、残渣を減圧乾燥することで式（Ｇ）で表されるホルミルメチルホスホリルコリンを得た。

・・・（Ｇ）

［合成例６］アミノ基含有セルロース（式（Ｈ）で表される化合物）の合成
ナスフラスコにセルロース２０．０ｇに、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）１８０ｇを加えテトラブチルアンモニウムブロミドを１４９ｇ（３当量）加え、ブロモエチルアミン５７．３ｇ（３当量）を加え、８０℃で１２時間反応させた。反応終了後、エタノールで再沈殿することにより、式（Ｈ）で表されるアミノ基含有セルロースを得た。

・・・（Ｈ）

［合成例７］アミノ基含有ヒアルロン酸（式（Ｉ）で表される化合物）の合成
ナスフラスコにヒアルロン酸（ＦＣＨ−Ａ キッコーマン製）２０．０ｇに、イオン交換水を１８０ｇを加えテトラブチルアンモニウムブロミドを４９．０ｇ（３当量）加えて６０℃で１２時間攪拌して、エタノールによる最沈殿を行うことで、ＤＭＳＯに可溶なヒアルロン酸を得た。このヒアルロン酸１５．０ｇをＤＭＳＯ１３５ｇに溶解し、ブロモエチルアミン１４．１ｇ（３当量）を加え、８０℃で１２時間反応させた。反応終了後、エタノールで再沈殿することにより、式（Ｉ）で表されるアミノ基含有ヒアルロン酸を得た。

・・・（Ｉ）

［合成例８］アミノ基含有ヒアルロン酸（式（Ｊ）で表される化合物）の合成
ナスフラスコにヒアルロン酸（ＦＣＨ−Ａ キッコーマン製）２０．０ｇに、イオン交換水を１８０ｇ加え１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）を１０．６ｇ（１．１当量）加えて５０℃で１時間攪拌し、その後、エチレンジアミンを１．６５ｇ（１．１当量）を加えて同温で１３時間攪拌した後、エタノールによる最沈殿をすることにより、式（Ｊ）で表されるアミノ基含有ヒアルロン酸を得た。

・・・（Ｊ）

［合成例９］アミノ基含有ヒアルロン酸（式（Ｋ）で表される化合物）の合成
ナスフラスコにヒアルロン酸（ＦＣＨ−Ａ キッコーマン製）２０．０ｇに、イオン交換水を１８０ｇ加え１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩（ＥＤＣ）を１０．６ｇ（１．１当量）加えて５０℃で１時間攪拌し、その後、Ｂｉｓ（６−アミノヘキシル）アミンを１１．９ｇ（１．１当量）を加えて同温で１３時間攪拌した後、エタノールによる最沈殿をすることにより、式（Ｋ）で表されるアミノ基含有ヒアルロン酸を得た。

・・・（Ｋ）

［実施例１−１］ホスホリルコリン基含有セルロース（式（ａａ）で表される化合物）の合成（Ｐ含量：４８．７ｍｇ／ｇ）
ナスフラスコに合成例６において合成したアミノ基含有セルロース１０．０ｇに、イオン交換水とエタノールの混合溶媒９０ｇを加え、合成例４において合成したホルミルノニルホスホリルコリン１８．１ｇ、５０ｍｌのメタノールに溶解した２−ピコリンボランを１１．５ｇ加え、室温で７時間反応させた。反応終了後、エタノールで再沈殿した後にＮＭＲ測定を行ったところ、（＊１）に示す帰属が得られたことから式（ａａ）で表される化合物であることを確認した。
得られた化合物をモリブデン青法により、りんの定量を行ったところ、６５．０％であった。
（＊１）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（Ｄ_２Ｏ， 標準物質ＴＭＳ） １９．８〜２１．０ｐｐｍ（Ｃ_１０、Ｃ_１１、Ｃ_１２、Ｃ_１３、Ｃ_１４、Ｃ_１５、Ｃ_１６、Ｃ_１７），４２．９ｐｐｍ〜４８．１ｐｐｍ（Ｃ_８、Ｃ_９、Ｃ_２１），６１．３〜７５．１ｐｐｍ（Ｃ_２、Ｃ_３、Ｃ_４、Ｃ_５、Ｃ_６、Ｃ_７、Ｃ_１８、Ｃ_１９、Ｃ_２０），９５．８〜１０２．５ｐｐｍ（Ｃ_１）

・・・（ａａ）

［実施例１−２］ホスホリルコリン基含有ヒアルロン酸（式（ｂｂ）で表される化合物）の合成（Ｐ含量：２３．６ｍｇ／ｇ）
ナスフラスコに合成例７において合成したアミノ基含有ヒアルロン酸１０．０ｇに、イオン交換水とエタノールの混合溶媒９０ｇを加え、合成例４において合成したホルミルノニルホスホリルコリン８．８ｇ、５０ｍｌのメタノールに溶解した２−ピコリンボランを５．６ｇ加え室温で７時間反応させた。反応終了後、エタノールで再沈殿した後にＮＭＲ測定を行ったところ、（＊２）に示す帰属が得られたことから式（ｂｂ）で表される化合物であることを確認した。
得られた化合物をモリブデン青法により、りんの定量を行ったところ、４８．１％であった。
（＊２）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（Ｄ_２Ｏ， 標準物質ＴＭＳ） １９．８〜２１．０ｐｐｍ（_、Ｃ_１２、Ｃ_１３、Ｃ_１４、Ｃ_１５、Ｃ_１６、Ｃ_１７、Ｃ_１８、Ｃ_１９、），３０．９ｐｐｍ（Ｃ_４），４２．９〜４８．１ｐｐｍ（Ｃ_１０、Ｃ_１１、Ｃ_２３），６０．８〜７４．３ｐｐｍ（Ｃ_２、Ｃ_５、Ｃ_６、Ｃ_７、Ｃ_８、Ｃ_９、Ｃ_２０、Ｃ_２１、Ｃ_２２、Ｃ_２５、Ｃ_２６、Ｃ_２７、Ｃ_２８），９５．３〜１０１．２ｐｐｍ（Ｃ_１、Ｃ_２４），１７４．２ｐｐｍ（Ｃ_２９），１７７．７ｐｐｍ（Ｃ_３）

・・・（ｂｂ）

［実施例１−３］ホスホリルコリン基含有ヒアルロン酸（式（ｃｃ）で表される化合物）の合成（Ｐ含量：２３．６ｍｇ／ｇ）
ナスフラスコに合成例８において合成したアミノ基含有ヒアルロン酸１０．０ｇに、イオン交換水とエタノールの混合溶媒９０ｇを加え、合成例２において合成したホルミルブチルホスホリルコリン６．６ｇ、５０ｍｌのメタノールに溶解した２−ピコリンボランを５．３ｇ加え室温で７時間反応させた。反応終了後、エタノールで再沈殿した後に、ＮＭＲ測定を行ったところ、（＊３）に示す帰属が得られたことから式（ｃｃ）で表される化合物であることを確認した。
得られた化合物をモリブデン青法により、りんの定量を行ったところ、５１．２％であった。
（＊３）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（Ｄ_２Ｏ， 標準物質ＴＭＳ） １９．６〜２１．０ｐｐｍ（Ｃ_１８、Ｃ_１９、Ｃ_２０、），３０．９ｐｐｍ（Ｃ_４），４２．９〜４８．０ｐｐｍ（Ｃ_１６、Ｃ_１７、Ｃ_２４），６０．８〜７４．３ｐｐｍ（Ｃ_２、Ｃ_５、Ｃ_６、Ｃ_７、Ｃ_８、Ｃ_１０、Ｃ_１１、Ｃ_１２、Ｃ_１３、Ｃ_１５、Ｃ_２１、Ｃ_２２、Ｃ_２３），９５．３〜１０１．２ｐｐｍ（Ｃ_１、Ｃ_９），１７７．７ｐｐｍ（Ｃ_３），１８３．９ｐｐｍ（Ｃ_１４）

・・・（ｃｃ）

［実施例１−４］ホスホリルコリン基含有ヒアルロン酸（式（ｄｄ）で表される化合物）の合成（Ｐ含量：２２．９ｍｇ／ｇ）
ナスフラスコに合成例８において合成したアミノ基含有ヒアルロン酸１０．０ｇに、イオン交換水とエタノールの混合溶媒９０ｇを加え、合成例４において合成したホルミルノニルホスホリルコリン５．７５ｇ、５０ｍｌのメタノールに溶解した２−ピコリンボランを３．６５ｇ加え室温で７時間反応させた。反応終了後、エタノールで再沈殿した後に、ＮＭＲ測定を行ったところ、（＊４）に示す帰属が得られたことから式（ｄｄ）で表される化合物であることを確認した。
得られた化合物をモリブデン青法により、りんの定量を行ったところ、５５．０％であった。
（＊４）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（Ｄ_２Ｏ， 標準物質ＴＭＳ） １９．６〜２１．０ｐｐｍ（Ｃ_１８、Ｃ_１９、Ｃ_２０、Ｃ_２１、Ｃ_２２、Ｃ_２３、Ｃ_２４、Ｃ_２５），３０．９ｐｐｍ（Ｃ_４），４２．８〜４８．０ｐｐｍ（Ｃ_１６、Ｃ_１７、Ｃ_２９），６０．８〜７４．３ｐｐｍ（Ｃ_２、Ｃ_５、Ｃ_６、Ｃ_７、Ｃ_８、Ｃ_１０、Ｃ_１１、Ｃ_１２、Ｃ_１３、Ｃ_１５、Ｃ_２６、Ｃ_２７、Ｃ_２８），９５．３〜１０１．２ｐｐｍ（Ｃ_１、Ｃ_９），１７７．７ｐｐｍ（Ｃ_３），１８３．９ｐｐｍ（Ｃ_１４）

・・・（ｄｄ）

［実施例１−５］ホスホリルコリン基含有キトサン（式（ｅｅ）で表される化合物）の合成（Ｐ含量：３９．７ｍｇ／ｇ）
ナスフラスコにキトサン（ダイキトサン １００ＤＶＬ 大日精化製）１０．０ｇに、イオン交換水とエタノールの混合溶媒９０ｇを加え、合成例４において合成したホルミルノニルホスホリルコリン２３．０ｇ、５０ｍｌのメタノールに溶解した２−ピコリンボランを１４．６ｇ加え室温で７時間反応させた。反応終了後、エタノールで再沈殿した後に、ＮＭＲ測定を行ったところ、（＊５）に示す帰属が得られたことから式（ｅｅ）で表される化合物であることを確認した。
得られた化合物をモリブデン青法により、りんの定量を行ったところ、６２．０％であった。
（＊５）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（Ｄ_２Ｏ， 標準物質ＴＭＳ） １９．６〜２１．０ｐｐｍ（Ｃ_１０、Ｃ_１１、Ｃ_１２、Ｃ_１３、Ｃ_１４、Ｃ_１５、Ｃ_１６、Ｃ_１７）４２．５〜４８．１ｐｐｍ（Ｃ_２、Ｃ_８、Ｃ_９、Ｃ_２１），６１．０〜７３．９ｐｐｍ（Ｃ_３、Ｃ_４、Ｃ_５、Ｃ_６、Ｃ_１８、Ｃ_１９、Ｃ_２０、Ｃ_２２、Ｃ_２３、Ｃ_２４、Ｃ_２５），９５．１〜１０３．２ｐｐｍ（Ｃ_１、Ｃ_７）

・・・（ｅｅ）

［比較例１−１］ホスホリルコリン基含有ヒアルロン酸（式（ｆｆ）で表される化合物）の合成（Ｐ含量：２４．０ｍｇ／ｇ）
ナスフラスコに合成例８において合成したアミノ基含有ヒアルロン酸１０．０ｇに、イオン交換水とエタノールの混合溶媒９０ｇを加え、合成例５において合成したホルミルメチルホスホリルコリン５．３ｇ、５０ｍｌのメタノールに溶解した２−ピコリンボランを５．０ｇ加え室温で７時間反応させた。反応終了後、エタノールで再沈殿した後に、ＮＭＲ測定を行ったところ、（＊６）に示す帰属が得られたことから式（ｆｆ）で表される化合物であることを確認した。
得られた化合物をモリブデン青法により、りんの定量を行ったところ、４９．９％であった。
（＊６）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（Ｄ_２Ｏ， 標準物質ＴＭＳ） ３０．９ｐｐｍ（Ｃ_４），４２．３〜４８．０ｐｐｍ（Ｃ_１６、Ｃ_１７、Ｃ_２１），６０．８〜７４．３ｐｐｍ（Ｃ_２、Ｃ_５、Ｃ_６、Ｃ_７、Ｃ_８、Ｃ_１０、Ｃ_１１、Ｃ_１２、Ｃ_１３、Ｃ_１５、Ｃ_１８、Ｃ_１９、Ｃ_２０），９５．３〜１０１．２ｐｐｍ（Ｃ_１、Ｃ_９），１７７．７ｐｐｍ（Ｃ_３），１８３．９ｐｐｍ（Ｃ_１４）

・・・（ｆｆ）

［比較例１−２］ホスホリルコリン基含有ヒアルロン酸（式（ｇｇ）で表される化合物）の合成（Ｐ含量：１８．９ｍｇ／ｇ）
ナスフラスコに合成例９において合成したアミノ基含有ヒアルロン酸１０．０ｇに、イオン交換水とエタノールの混合溶媒９０ｇを加え、合成例５において合成したホルミルメチルホスホリルコリン４．３ｇ、５０ｍｌのメタノールに溶解した２−ピコリンボランを４．１ｇ加え室温で７時間反応させた。反応終了後、エタノールで再沈殿した後に、ＮＭＲ測定を行ったところ、（＊７）に示す帰属が得られたことから式（ｇｇ）で表される化合物であることを確認した。
得られた化合物をモリブデン青法により、りんの定量を行ったところ、４８．２％であった。
（＊７）
^１３Ｃ−ＮＭＲ（Ｄ_２Ｏ， 標準物質ＴＭＳ） １８．０〜１９．６ｐｐｍ（Ｃ_１６、Ｃ_１７、Ｃ_１８、Ｃ_１９、Ｃ_２２、Ｃ_２３、Ｃ_２４、Ｃ_２５），３０．９ｐｐｍ（Ｃ_４），４２．８〜４８．２ｐｐｍ（Ｃ_２０、Ｃ_２１、Ｃ_２６、Ｃ_２７、Ｃ_３１），６０．８〜７４．３ｐｐｍ（Ｃ_２、Ｃ_５、Ｃ_６、Ｃ_７、Ｃ_８、Ｃ_１０、Ｃ_１１、Ｃ_１２、Ｃ_１３、Ｃ_１５、Ｃ_２８、Ｃ_２９、Ｃ_３０），９５．３〜１０１．２ｐｐｍ（Ｃ_１、Ｃ_９），１７７．７ｐｐｍ（Ｃ_３），１８３．９ｐｐｍ（Ｃ_１４）

・・・（ｇｇ）

［りんの定量法］
得られたホスホリルコリン基を有する糖誘導体はりんの定量（モリブデン青法）により分析を行い、ＰＣ基の導入率はりんの定量（モリブデン青法）により算出した。

りんの定量はメルク社製のりん定キット（ｐｈｏｓｐｈａｔｅ ｃｅｌｌ ｔｅｓｔ）を用いて、簡易型全リン計（ＷＴＷ社 携帯用水質測定器 ｐＨｏｔｏＦｌｅｘ）により以下の操作手順に従ってＰ元素の含量を測定し、ＰＣ基の導入率を下記式（ａ）より算出した。

（操作手順）
反応セルに所定の濃度（≒０．０１ｗｔ％）に調製したホスホリルコリン基を有する多糖を水溶液５ｍｌ加え、ｐ―１Ｋ試薬を１回分添加して攪拌混合後、ブロックヒーター内で１２０℃で３０分反応させる。リファレンスとしてキトサンを含むイオン交換水のみの反応セルにも、ｐ―１Ｋを加えた後に同様にブロックヒーター内で反応させる。

反応後、３０分間室温で冷却し、各反応セルにｐ―２Ｋ試薬を５滴ずつ加えて攪拌混合する。その後、ｐ―３Ｋ試薬を各反応セルに１回分加え、５分間放置する。その後、ｐＨｏｔｏＦｌｅｘにより６１２ｎｍの吸光度からりん（Ｐ）元素の含量（ｍｇ／ｌ）を測定した。得られたＰ元素含量から式（ａ）を用いてＰ元素の導入率を算出することで、ホスホリルコリン基の導入率とした。

（試薬）
ｐ―１Ｋ ペルオキソニ硫酸カリウム３０％
ｐ―２Ｋ 硫酸（１５．０％），酒石酸アンチモニルカリウム（３０％）
ｐ―３Ｋ アスコルビン酸
反応セル 硫酸１５．０％

［実施例２−１］ヒアルロン酸ＰＣハイドロゲルの調製（１）
実施例１−３で合成したヒアルロン酸ＰＣをイオン交換水に溶解し、１，３−ビス（２，２−ジメチル―１，３−ジオキソラン―４−イルメチル）カルボジイミドを１．０等量添加して室温で攪拌後、静置することでゲル化物を得た。これを、過剰の水及びエタノールで交互に浸漬を数回繰り返すことで、未反応の１，３−ビス（２，２−ジメチル―１，３−ジオキソラン―４−イルメチル）カルボジイミドを除去し、凍結乾燥した。凍結乾燥後の架橋体に所定のイオン交換水で含水させ、平衡膨潤させた。

平衡膨潤後の含水した架橋体の重量から、下記式（ｂ）を用いて含水率を算出した。また、イオン交換水で平衡膨潤した架橋体を水に浸漬させながら固液界面での気泡との表面接触角を静的接触角装置ＣＡ−ＤＴ・Ａ型（協和界面科学株式会社）を用いて測定した。解析は三態系法を用いた。

［実施例２−２］ヒアルロン酸ＰＣハイドロゲルの調製（２）
実施例１−４で合成した化合物を用いて、実施例２−１と同様の方法で、ハイドロゲルを作製し、同様の方法で含水率及び表面接触角を評価した。

［実施例２−３］キトサンＰＣハイドロゲルの調製
実施例１−５で合成したキトサンＰＣをイオン交換水に溶解し、そこにグルタルアルデヒドをキトサンのアミノ基に対して、０．５等量添加、静置することでゲル化物を得た。これを、過剰の水及びエタノールで交互に浸漬を数回繰り返すことで、未反応のグルタルアルデヒドを除去し、凍結乾燥した。凍結乾燥後の架橋体に所定のイオン交換水を含水させ、平衡膨潤させた。

平衡膨潤後の含水した架橋体の重量から、下記式（ｂ）を用いて含水率を算出した。また、イオン交換水で平衡棒潤した架橋体を水に浸漬させながら固液界面で気泡との表面接触角を性的接触角装置ＣＡＤＴ・Ａ型（協和界面科学株式会社製）を用いて測定した。解析は三態系を用いた。

［比較例２−１］ヒアルロン酸ＰＣハイドロゲルの調製（４）
比較例１−１で合成した化合物を用いて、実施例２−１と同様の方法で、ハイドロゲルを作製し、同様の方法で含水率及び表面接触角を評価した。

［比較例２−２］ヒアルロン酸ＰＣハイドロゲルの調製（５）
比較例１−２で合成した化合物を用いて、実施例２−１と同様の方法で、ハイドロゲルを作製し、同様の方法で含水率及び表面接触角を評価した。

［比較例２−３］ヒアルロン酸ハイドロゲルの調製
ヒアルロン酸ＰＣの代わりにヒアルロン酸を用い、実施例２−１と同様の方法で、ハイドロゲルを作製し、同様の方法で含水率及び表面接触角を評価した。

［比較例２−４］キトサンハイドロゲルの調製
キトサンＰＣの代わりにキトサンを用い、実施例２−３と同様の方法で、ハイドロゲルを作製し、同様の方法で含水率及び表面接触角を評価した。

実施例２−１，２−２，２−３、比較例２−１，２−２，２−３，２−４の結果を表１に示す。

［含水率及び表面接触角評価結果］
実施例２−１，２−２，２−３では、いずれも含水率が９５％で、かつ、表面接触角が１５０°以上である、良好な特性を有するハイドロゲルが得られた。一方、比較例２−１，２−２に係るハイドロゲルでは、いずれも含水率が９５％未満で、表面接触角が１５０°未満である不十分な特性のハイドロゲルが得られた。また、比較例２−３，２−４では、ハイドロゲルとして十分な含水率が得られなかった。

［実施例２−５］保水性評価
実施例１−３で得られた化合物（ヒアルロン酸ホスホリルコリン（ヒアルロン酸ＰＣ））を表２に示す組成に従って配合した水溶液を調整した。

［実施例２−６〜２−８］保水性評価
表２に示す組成に従ってそれぞれ配合した水溶液を調整した。実施例２−６では、実施例１−４で得られた化合物（ヒアルロン酸ホスホリルコリン（ヒアルロン酸ＰＣ））を用いた。実施例２−７では、実施例１−５で得られた化合物（キトサンホスホリルコリン（キトサンＰＣ））を用いた。実施例２−８では、実施例１−３で得られた化合物（ヒアルロン酸ＰＣ）及び実施例１−６で得られた化合物（キトサンＰＣ）を用いた。

［比較例２−５，２−６］保水性評価
表２に示す組成に従ってそれぞれ配合した水溶液を調整した。比較例２−５では、比較例１−１で合成した化合物を用いた。比較例２−６では、比較例１−２で合成した化合物を用いた。つまり、比較例２−５，２−６では、本発明の範囲外であるホスホリルコリン基含有糖誘導体が用いられる。

［比較例２−７，２−８］保水性評価
表２に示す組成に従ってそれぞれ配合した水溶液を調整した。比較例２−７では、ヒアルロン酸を用いた。比較例２−８では、キトサンを用いた。つまり、比較例２−７，２−８では、ホスホリルコリン基を含有しない糖が用いられる。

［比較例２−９，２−１０，２−１１］保水性評価
表２に示す組成に従ってそれぞれ配合した水溶液を調整した。比較例２−９，２−１０，２−１１では、保湿化粧水の保湿機能成分として一般的な化合物を用いた。比較例２−９では、グリセリンを用いた。比較例２−１０では、ジプロピレングリコールを用いた。比較例２−１１では、１，３ブタンジオールを用いた。

［官能評価］
実施例２−５，２−６，２−７，２−８、比較例２−５，２−６，２−７，２−８で得られた各保湿成分を配合した水溶液について、専門パネラーの前腕内分側部に塗布したときの使用感を以下の判断基準で官能評価した。その結果を表２に示す。
・保湿性
◎：潤い感に優れている、○：潤い感がある、△：どちらともいえない、×：潤い感がない
・しっとり感
◎：非常にしっとりする、○：しっとりする、△：どちらともいえない、×：しっとりしない
・べたつき感
◎：全くべたつかない、○：べたつかない、△：どちらともいえない、×：べたつく
・弾力感
◎：弾力がある、○：やや弾力がある、△：どちらともいえない、×：弾力がない

［官能評価結果］
実施例２−５〜２−８では、いずれも保湿剤として良好な結果が得られた。特に、実施例２−８では、特に弾力感に優れていた。一方、比較例２−５，２−６では、保湿性及びしっとり感について上記実施例２−５〜２−８に及ばなかった。また、比較例２−８，２−９では、べたつき感が多く発生した。更に比較例２−１０，２−１１では、保湿性及び弾力感が得られず、しっとり感も不十分であった。

Claims (5)

1. 下記一般式（１）で表される構造を有するホスホリルコリン基含有糖誘導体。
   

   

   ・・・（１）
   （式（１）中、Ｒ_１は下記式（２）又は（３）で表される構造を示し、ｍは０又は１を示し、ｎは０〜４の整数を示し、ｒは４〜１５の整数を示す。）
   

   

   ・・・（２）
   

   

   ・・・（３）
2. 請求項１に記載のホスホリルコリン基含有糖誘導体であって、
   セルロース、ヒアルロン酸、キトサン、プルラン、デキストラン、シクロデキストリンのうちのいずれか１つの誘導体である
   ホスホリルコリン基含有糖誘導体。
3. 下記一般式（４）で表されるホスホリルコリン含有化合物と、下記一般式（５）で表される構造を有する糖又は糖誘導体とを用意し、
   前記糖又は糖誘導体と、前記ホスホリルコリン基含有化合物とを付加反応させる
   ホスホリルコリン基含有糖誘導体の製造方法。
   

   

   ・・・（４）
   （式（４）中、ｒは４〜１５の整数を示す。）
   

   

   ・・・（５）
   （式（５）中、Ｒ_１は下記式（２）又は（３）で表される構造を示し、ｍは０又は１を示し、ｎは０〜４の整数を示す。）
   

   

   ・・・（２）
   

   

   ・・・（３）
4. 請求項１又は２記載のホスホリルコリン基含有糖誘導体を、物理的又は化学的に架橋させることにより得られる
   ハイドロゲル。
5. 請求項１又は２記載のホスホリルコリン基含有糖誘導体を有効成分として含む
   保湿剤。