JP6287211B2 - 光学フィルム、及びそれを用いた偏光板、液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明は光学フィルム、それを用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。

セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリオレフィン等の樹脂フィルムが光学用として知られており、主に液晶表示装置用の光学補償フィルムに用いられている。その中でも、セルロースエステルを有する光学フィルム（以下、単にセルロースエステルフィルムとも称す）は、偏光子に用いられるポリビニルアルコールへの貼合性が優れていることから広く用いられている。
近年、薄型軽量ノートパソコンや薄型で大画面のＴＶの開発が進み、それに伴って、液晶表示装置用光学補償フィルムもますます薄膜化、大型化、高性能化への要求が強くなってきている。
特に、コントラストが高いＶＡモードでは、ＴＶ用の液晶表示装置として種々の添加剤が検討されている。例えば、特許文献１では、リターデーション値を上昇させる材料として、円盤状化合物を添加する方法が開示されているが、所望のリターデーション値を得るために一定量を添加することで、波長分散性が順波長分散性となってしまい、斜め方向の色味が変化する、いわゆるカラーシフト（色ムラ）が発生するという問題があった（本発明において「波長分散性」とは、各波長の光線における偏光状態（複屈折に起因する進相軸と遅相軸とでの位相差）のばらつきの度合をいい、「順波長分散性」とは、特定の波長の光線における面内または面外のリターデーション値（Ｒｅ１）と特定の波長よりも長波長の光線における面内または面外のリターデーション値（Ｒｅ２）の絶対値が共に正であって、Ｒｅ１／Ｒｅ２の値が１．０を超える数値となる性質をいう）。

この改善手段として、例えば、特許文献２には、特定の低分子化合物とセルロース化合物を含むフィルムを延伸することで、逆波長分散性を付与する方法が提案されている（本発明において「逆波長分散性」とは、特定の波長の光線における面内または面外のリターデーション（Ｒｅ１）と前述した特定の波長よりも長波長の光線における面内または面外のリターデーション（Ｒｅ２）の絶対値が共に正であって、Ｒｅ１／Ｒｅ２の値が１．０未満となる性質をいう）。これはセルロース化合物と低分子化合物の配向を利用し、配向軸と直交方向の屈折率のコントロールを狙ったものであるが、特許文献２に記載の化合物では、十分な逆波長分散性を付与することが困難であった。

特許文献３では、特定の低分子化合物と重合性化合物を支持体に塗布した後、分子を固定することで屈折率制御を行っているが、延伸のみで配向制御を行う方法に比べ、工程が複雑になるという問題がある。また、特許文献３に記載の化合物を、セルロースエステルフィルムに添加しても、十分な逆波長分散性を付与できないことが判明した。さらに、得られたフィルムを高温高湿条件下に長時間さらした場合に、低分子化合物がブリードアウトし、耐久性に劣るという問題があった。

特開２００１−１６６１４４号公報 特開２０１０−１６３４８３号公報 特開２０１０−３０９７９号公報

本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、良好な波長分散性を示し、ブリードアウト耐性が良好な光学フィルムを提供することである。更には、該光学フィルムを用いて色ムラが少なく、耐久性に優れる偏光板及び液晶表示装置を提供することである。

本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、配向制御の観点で種々の化合物を含有する光学フィルムについて鋭意検討した結果、驚くべきことに、置換基がｐ位に連結したベンゼン環を有し、該ベンゼン環の特定の位置に特定の環構造を有する化合物を光学フィルムに含有させることによって、良好な波長分散性を示し、ブリードアウト耐性が良好なフィルムが得られることを見出し本発明に至った。また、該光学フィルムを用いることで、色ムラが少なく、耐久性に優れる偏光板及び液晶表示装置が得られることを見出し本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
１．下記一般式（１）で表される化合物を含有し、
前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（３）で表される化合物であることを特徴とする光学フィルム。

〔一般式（１）において、Ｑは炭素原子または窒素原子を表し、ＺはＱと共に環を形成する非金属原子群を表す。Ｌ_１及びＬ_２は各々独立に下記の連結基Ａのうちいずれかを表す。下記連結基Ａにおいて、Ｎ−ＲのＲは水素原子を表す。Ｒ_１及びＲ_２はアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、又はアシル基を表す。これらの置換基は、前記Ｒ _１ 及びＲ _２ で表される置換基と同じ基から選択される置換基によってさらに置換されていてもよい。Ｒ_３は各々独立に置換基を表す。なお、Ｒ _３ は、一般式（１）の環中に明示されたＨ−の位置に、Ｈ−の置換基として存在し得る。ｎは０から２までの整数を表す。〕

〔式中、Ｒ_４及びＲ_５はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ_４及びＲ_５は互いに結合して環を形成してもよい。Ｑ _２ は、第１４〜１６属の非金属原子を表す。Ｌ_１、Ｌ_２、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３及びｎはそれぞれ前記一般式（１）におけるＬ_１、Ｌ_２、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、ｎと同義である。〕

２．前記一般式（３）におけるＲ_４及びＲ_５で表される置換基が、互いに結合して形成するベンゼン環であることを特徴とする第１項に記載の光学フィルム。

３．前記光学フィルムがセルロースエステルを含有することを特徴とする第１項又は第２項に記載の光学フィルム。

４．前記セルロースエステルのアシル基の総置換度が１．５〜３．０の範囲内のセルロースエステルであることを特徴とする第３項に記載の光学フィルム。

５．前記光学フィルムがリターデーション制御剤を含むことを特徴とする第１項〜第４項のいずれか一項に記載の光学フィルム。

６．２３℃、５５％ＲＨの環境下で、測定波長５９０ｎｍの光に対し、下記式で表されるリターデーションＲ_０が４０〜１００ｎｍの範囲内であり、Ｒ_ｔｈが１００〜３００ｎｍの範囲内であることを特徴とする第１項〜第５項のいずれか一項に記載の光学フィルム。
式（Ｉ） Ｒ_０＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ
式（II） Ｒ_ｔｈ＝｛（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ｝×ｄ
〔但し、ｎ_ｘは、光学フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向ｘにおける屈折率を表し、ｎ_ｙは、光学フィルムの面内方向において、前記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表し、ｎ_ｚは、光学フィルムの厚さ方向ｚにおける屈折率を表し、ｄ（ｎｍ）は光学フィルムの厚さを表す。〕

７．前記光学フィルムの膜厚が２０〜３５μｍの範囲内であることを特徴とする第１項〜第６項のいずれか一項に記載の光学フィルム。

８．第１項〜第７項のいずれか一項に記載の光学フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。

９．第８項に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に有することを特徴とする液晶表示装置。

１０．前記液晶セルがＶＡ型液晶セルであることを特徴とする第９項に記載の液晶表示装置。

本発明の上記手段により、良好な波長分散性を示し、ブリードアウト耐性が良好な光学フィルムを提供することができる。更には、該光学フィルムを用いて色ムラが少なく、耐久性に優れる偏光板及び液晶表示装置を提供することができる。
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
一般式（１）で示される化合物において、ベンゼン環の２箇所の水平方向に伸長する部分（Ｒ_１−Ｌ_１−ベンゼン環−Ｌ_２−Ｒ_２）が、セルロースエステルと高度に配向し、さらに、特定の環構造部分（Ｑ・・・Ｚ）が、配光軸に対してある角度をもつ方向の屈折率が高度に制御されることにより、本発明の効果が発現すると考えられる。また、該化合物は、特定の環構造を特定の位置に有し、分子全体として非対称な構造をしているために、フィルム中で凝集しにくく、ブリードアウト耐性及び耐久性に優れると考えられる。

本発明の光学フィルムは、前記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする。
この特徴は、各請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記一般式（１）におけるＲ_１、Ｒ_２で表される置換基が、４位に置換基を有するシクロヘキサン環または４位に置換基を有するベンゼン環であることが好ましい。

さらに本発明では、前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（２）で表される化合物であることが、良好な波長分散性を示し、ブリードアウト耐性が良好な光学フィルムを得ることができる点で好ましい。

さらに、本発明では、前記一般式（１）で表される化合物が前記一般式（３）で表される化合物であることが、良好な波長分散性を示し、ブリードアウト耐性が良好な光学フィルムを得ることができる点で好ましい。
また、前記一般式（３）におけるＲ_４及びＲ_５で表される置換基が、互いに結合して形成するベンゼン環であることが、良好な波長分散性を示し、ブリードアウト耐性が良好な光学フィルムを得ることができる点で好ましい。
また、前記光学フィルムがセルロースエステルを含有することが、フィルムとしての堅牢性やコストの点で好ましい。
また、前記セルロースエステルのアシル基の総置換度が１．５〜３．０の範囲内のセルロースエステルであることが、環境変動に対する安定性の点で好ましい。
また、前記光学フィルムがリターデーション制御剤を含むことが、良好な光学特性が得られる点で好ましい。
また、２３℃、５５％ＲＨの環境下で、測定波長５９０ｎｍの光に対し、前記式（Ｉ）及び（II）で表されるリターデーションＲ_０が４０〜１００ｎｍの範囲内であり、Ｒ_ｔｈが１００〜３００ｎｍの範囲内であることが、良好な波長分散性が得られる点で好ましい。
また、前記光学フィルムの膜厚が２０〜３５μｍの範囲内であることが、光学特性及び経済的な点で好ましい。

本発明の偏光板は、光学フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することが好ましい。これにより、色ムラが少なく、耐久性に優れた偏光板を得ることができる。
本発明の液晶表示装置は、前記偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に有することが好ましい。これにより、色ムラが少なく、耐久性及び視野角特性に優れた液晶表示装置を得ることができる。
また、前記液晶セルがＶＡ型液晶セルであることが、色ムラが少なく、耐久性に優れた液晶表示装置を得ることができる点で好ましい。

以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。

［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、上記一般式（１）で表される化合物を含有することを特徴とする。
本発明において、「光学フィルム」とは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等の各種表示装置に用いられる機能性フィルムのことであり、詳しくは液晶表示装置用の偏光板保護フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、輝度向上フィルム、ハードコートフィルム、防眩フィルム、帯電防止フィルム、視野角拡大等の光学補償フィルム等を含む。

＜一般式（１）で表される化合物＞
上記一般式（１）において、Ｑは炭素原子または窒素原子を表し、ＺはＱと共に環を形成する非金属原子群を表す。ＱとＺとから形成される環構造としては、下記構造が例として挙げられる。

（Ｒ_６及びＲ_７はそれぞれ水素原子または置換基を表す。）

Ｌ_１及びＬ_２は各々独立に単結合または２価の連結基を表す。Ｌ_１及びＬ_２としては、例えば、下記構造が挙げられる。

Ｌ_１及びＬ_２として、好ましくは―Ｏ―、―ＣＯＯ―、及び―ＯＣＯ−である。

Ｒ_１、Ｒ_２及びＲ_３は各々独立に置換基を表す。
前記一般式（１）において、Ｒ_１及びＲ_２はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｒ_１及びＲ_２で表わされる置換基としては、特に制限はないが、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等）、アルケニル基（ビニル基、アリル基等）、シクロアルケニル基（２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基等）、アルキニル基（エチニル基、プロパルギル基等）、アリール基（フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基等）、ヘテロ環基（２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基等）、アシルオキシ基（ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基等）、アミノ基（アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基等）、アシルアミノ基（ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基等）、メルカプト基、アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基等）、アリールチオ基（フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基等）、スルファモイル基（Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’フェニルカルバモイル）スルファモイル基等）、スルホ基、アシル基（アセチル基、ピバロイルベンゾイル基等）、カルバモイル基（カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基等）等の各基が挙げられる。これらの置換基は同様の置換基によって更に置換されていてもよい。

前記一般式（１）において、Ｒ３は水素原子または環構造を有さない置換基を表す。Ｒ_３で表わされる環構造を有さない置換基としては、特に制限はないが、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等）、アルケニル基（ビニル基、アリル基等）、アルキニル基（エチニル基、プロパルギル基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等）、アシルオキシ基（ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基等）、アミノ基（アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基等）、アシルアミノ基（ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基等）、アルキルスルホニルアミノ基（メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基等）、メルカプト基、アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基等）、スルファモイル基（Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基等）、スルホ基、アシル基（アセチル基等）、カルバモイル基（カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基等）等の各基が挙げられる。これらの置換基は同様の置換基によって更に置換されていてもよい。
Ｒ_１及びＲ_２としては、好ましくは、置換または無置換のベンゼン環、置換または無置換のシクロヘキサン環である。より好ましくは置換基を有するベンゼン環、置換基を有するシクロヘキサン環であり、さらに好ましくは４位に置換基を有するベンゼン環、４位に置換基を有するシクロヘキサン環である。
Ｒ_３として、好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、ヘテロ環基、ヒドロキシ基、カルボキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、シアノ基、アミノ基であり、さらに好ましくは、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、シアノ基、アルコキシ基である。

一般式（２）において、Ｑ_１は（＝）Ｎ―または（＝）ＣＲｚ―（Ｒｚは水素原子または置換基）を表し、Ｑ_２は第１４〜１６族の非金属原子を表す。
Ｒｚで表される置換基の具体例としては、特に制限はないが、例えば、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等）、アルケニル基（ビニル基、アリル基等）、シクロアルケニル基（２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基等）、アルキニル基（エチニル基、プロパルギル基等）、アリール基（フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基等）、ヘテロ環基（２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基等）、アシルオキシ基（ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基等）、アミノ基（アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基等）、アシルアミノ基（ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基等）、メルカプト基、アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基等）、アリールチオ基（フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基等）、スルファモイル基（Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’フェニルカルバモイル）スルファモイル基等）、スルホ基、アシル基（アセチル基、ピバロイルベンゾイル基等）、カルバモイル基（カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基等）等の各基が挙げられる。これらの置換基は同様の置換基によって更に置換されていてもよい。
Ｑ_１として、好ましくは（＝）Ｎ―である。
Ｑ_２として、好ましくは、（―）ＮＲａ―、（―）ＣＲｂＲｃ―、（―）O―、（―）Ｓ―である。Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃはそれぞれ水素原子または置換基を表す。Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃで表される置換基としては、前記Ｒｚで表される置換基の例として挙げた例が挙げられる。
ＺはＱ_１及びＱ_２と共に環を形成する非金属原子群を表す。Ｑ_１、Ｑ_２及びＺで形成される環として、特に制限はないが、好ましくは、非芳香族ヘテロ環または芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５員または６員の芳香族ヘテロ環である。また、Ｚで表される環は更に別の環で縮環していてもよい。

一般式（２）で表される化合物のうち、特に好ましくは、下記一般式（３）で表される化合物である。

一般式（３）において、Ｒ_４及びＲ_５はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ_４及びＲ_５は互いに結合して環を形成してもよい。
Ｒ_４及びＲ_５で表される置換基の例としては、前記Ｒｚで表される置換基の具体例として挙げた例が挙げられる。
Ｒ_４及びＲ_５として、好ましくは、互いに結合して環を形成していることが好ましく、特に、ベンゼン環を形成していることが好ましい。また、Ｒ_４及びＲ_５から形成される環は、更に任意の置換基で置換されていてもよい。

以下に、前記一般式（１）で表される化合物の具体例を示すが、本発明で用いることができる前記一般式（１）で表される化合物は、以下の具体例によって何ら限定されることはない。

一般式（１）、一般式（２）及び一般式（３）で表わされる化合物は、既知の方法を参照して行うことができる。具体的には、特開２００８−１０７７６７号公報等を参照に合成することができる。
前記一般式（１）〜（３）で表される化合物は既知の合成方法を参照して合成することが出来る。例えば、例示化合物（１）、例示化合物（１７）、例示化合物（３５）、例示化合物（３６）は以下のスキームによって合成することができる。

《例示化合物（１）の合成例》

2,5-ジヒドロキシ安息香酸３ｇをトルエン３０ｍLに溶解し、塩化スルホニル４．２ｍLを滴下して、２時間撹拌した。トルエン及び塩化スルホニルを減圧下で留去後、トルエン２０ｍLを添加し、o-アミノチオフェノール２．４ｇのトルエン(５ｍL)溶液を滴下した。室温で1２時間撹拌し、水及び酢酸エチルを添加して抽出を行った。得られた有機層から溶媒を減圧留去し、化合物(i)３．５ｇを得た。収率７５％。
化合物(m)７．０ｇのトルエン（４５ｍL）溶液に塩化スルホニル６．４ｍLを添加し６０℃で２時間撹拌後、溶媒と塩化スルホニルを減圧留去した。テトラヒドロフラン４５ｍLを加え、氷水冷浴で冷却後、化合物(i)３．５ｇのテトラヒドロフラン(５ｍL)溶液とジメチルアミノピリジン２ｍｇのテトラヒドロフラン（１ｍL）溶液を順次滴下した。室温で３時間撹拌した後に、水及び酢酸エチルを加え、抽出した。有機層から溶媒を減圧留去し、得られた粗結晶をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘプタン)により精製し、例示化合物（１）が得られた。収量５．５ｇ。収率７０％。

《例示化合物（１７）の合成例》

2,5-ジヒドロキシ安息香酸３ｇをトルエン３０ｍLに溶解し、塩化スルホニル４．２ｍLを滴下して、２時間撹拌した。トルエン及び塩化スルホニルを減圧下で留去後、トルエン２０ｍLを添加し、サリチルアミド２．６ｇのトルエン(５ｍL)溶液を滴下した。６０℃で１時間撹拌し、水及び酢酸エチルを添加して抽出を行った。得られた有機層から溶媒を減圧留去し、化合物(ii)４．０を得た。収率８０％。
化合物(m1)９．０ｇのトルエン（４５ｍL）溶液に塩化スルホニル６．７ｍLを添加し６０℃で２時間撹拌後、溶媒と塩化スルホニルを減圧留去した。テトラヒドロフラン４５ｍLを加え、氷水冷浴で冷却後、化合物(ii)４．０ｇのテトラヒドロフラン(５ｍL)溶液とジメチルアミノピリジン２ｍｇのテトラヒドロフラン（１ｍL）溶液を順次滴下した。室温で３時間撹拌した後に、水及び酢酸エチルを加え、抽出した。有機層から溶媒を減圧留去し、得られた粗結晶をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘプタン)により精製し、例示化合物（１７）が得られた。収量９．１ｇ。収率7５％。

《例示化合物（３５）の合成例》

2,5-ジヒドロキシブロモベンゼン３．４ｇ、カルバゾール３．０ｇ、ヨウ化銅１．７ｇ、炭酸カリウム３．８ｇをジメチルホルムアミド３０mL（DMF）に溶解し、１５０℃で６時間加熱した。放冷後、水及びトルエンを添加して抽出を行った。得られた有機層から溶媒を減圧留去し、化合物(iii)４．０ｇを得た。収率８０％。
化合物(m2)７．２ｇのトルエン（７０ｍL）溶液に塩化スルホニル６．４ｍLを添加し、６０℃で２時間撹拌後、溶媒と塩化スルホニルを減圧留去した。テトラヒドロフラン７０ｍLを加え、氷水冷浴で冷却後、化合物(iii)４．０ｇのテトラヒドロフラン溶液とジメチルアミノピリジン２ｍｇのテトラヒドロフラン（１ｍL）溶液を順次滴下した。室温で３時間撹拌した後に、水及び酢酸エチルを加え、抽出した。有機層から溶媒を減圧留去し、得られた粗結晶をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘプタン)により精製し、例示化合物（３５）が得られた。収量７．７ｇ。収率７２％。

《例示化合物（３６）の合成例》

2,5-ジヒドロキシブロモベンゼン３．４ｇ、2-ヒドロキシピリジン１．８ｇ、ヨウ化銅１．７ｇ、炭酸カリウム３．８ｇをジメチルホルムアミド３０mL（DMF）に溶解し、１５０℃で６時間加熱した。放冷後、水及びトルエンを添加して抽出を行った。得られた有機層から溶媒を減圧留去し、化合物(iv)２．３ｇを得た。収率６３％。
化合物(m3)４．３ｇのトルエン（５０ｍL）溶液に塩化スルホニル５．０ｍLを添加し、６０℃で２時間撹拌後、溶媒と塩化スルホニルを減圧留去した。テトラヒドロフラン５０ｍLを加え、氷水冷浴で冷却後、化合物(iv)２．３ｇのテトラヒドロフラン溶液とジメチルアミノピリジン２ｍｇのテトラヒドロフラン（１ｍL）溶液を順次滴下した。室温で３時間撹拌した後に、水及び酢酸エチルを加え、抽出した。有機層から溶媒を減圧留去し、得られた粗結晶をシリカゲルクロマトグラフィー(酢酸エチル/ヘプタン)により精製し、例示化合物（３６）が得られた。収量５．０ｇ。収率８０％。
その他の化合物についても同様の方法によって合成が可能である。

＜一般式（１）及び一般式（２）で表される化合物の使用方法について＞
本発明に係る前記一般式（１）及び一般式（２）で表される化合物は、所望のブリードアウト耐性及び耐久性を付与するのに適宜量を調整して光学フィルムに含有することができるが、添加量としては光学フィルムを形成する樹脂（例えば、セルロースエステル等）に対して、１〜２０質量％含むことが好ましく、特に、２〜１５質量％含むことが好ましい。この範囲内であれば、本発明の光学フィルムの機械強度を損なうことなく、光学フィルムに良好な波長分散性、ブリードアウト耐性及び耐久性を付与することができる。
又、前記一般式（１）及び一般式（２）で表される化合物の添加方法としては、光学フィルムを形成する樹脂に粉体で添加しても良く、溶媒に溶解した後、光学フィルムを形成する樹脂に添加しても良い。

＜光学フィルム＞
次に、本発明の光学フィルムの詳細について説明する。
本発明において光学フィルムとは、液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等の各種表示装置に用いられる機能フィルムのことであり、詳しくは液晶表示装置用の偏光板保護フィルム、位相差フィルム、反射防止フィルム、輝度向上フィルム、ハードコートフィルム、防眩フィルム、帯電防止フィルム、視野角拡大等の光学補償フィルム等を含む。
本発明の光学フィルムの基材となるフィルムの樹脂としては、好ましくは、セルロースエステル系樹脂（本発明では簡単に、セルロースエステルともいう）が用いられるが、その他の併用可能な樹脂としては、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリスルホン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアリレート系樹脂、アクリル系樹脂、オレフィン系樹脂（ノルボルネン系樹脂、環状オレフィン系樹脂、環状共役ジエン系樹脂、ビニル脂環式炭化水素系樹脂等）等を挙げることができる。この中で、セルロースエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、環状オレフィン系樹脂の少なくとも一つの樹脂と併用して用いても良い。セルロースエステル以外の樹脂を使用する場合、含有量としては５〜７０質量％が好ましい。
本発明に係る光学フィルムは、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、光学補償フィルムに好ましく用いられる。位相差フィルムが偏光板保護フィルムを兼ねているのが好ましい。

＜セルロースエステル＞
本発明に係るセルロースエステルとしては特に限定されないが、炭素数２〜２２程度の直鎖または分岐のカルボン酸エステルであることが好ましく、これらのカルボン酸は環を形成してもよく、芳香族カルボン酸のエステルでもよい。なお、これらのカルボン酸は置換基を有してもよい。セルロースエステルとしては、特に炭素数が６以下の低級脂肪酸エステルであることが好ましい。
好ましいセルロースエステルとして、具体的には、セルロースアセテートの他に、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネートブチレートのようなアセチル基の他にプロピオネート基またはブチレート基が結合したセルロースの混合脂肪酸エステルが挙げられる。
この中で特にセルロースアセテート及びセルロースアセテートプロピオネートが最も好ましく用いられる。
本発明に係る好ましいセルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネートとしては、下記式（ａ）及び（ｂ）を同時に満足するものが好ましい。
式（ａ） １．５≦Ｘ＋Ｙ≦３．０
式（ｂ） ０≦Ｙ≦２．８
式中、Ｘはアセチル基の置換度、Ｙはプロピオニル基の置換度である。

本発明ではセルロースエステルの総アシル置換度（X+Y）は１．５〜３．０であることが前記一般式（１）で表される化合物との相溶性の観点から好ましい。
アシル基の置換度の測定方法はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することができる。

また、目的に叶う光学特性を得るために置換度の異なる樹脂を混合して用いても良い。混合比としては１０：９０〜９０：１０（質量比）が好ましい。
本発明に係るセルロースエステルの数平均分子量は、６００００〜３０００００の範囲が、得られるフィルムの機械的強度が強く好ましい。更に７００００〜２０００００のものが好ましく用いられる。

セルロースエステルの重量平均分子量Ｍｗ、数平均分子量Ｍｎは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）を用いて測定することができる。
測定条件の一例は以下の通りであるが、これに限られることはなく、同等の測定方法を用いることも可能である。
溶媒： メチレンクロライド
カラム： Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用する）
カラム温度：２５℃
試料濃度： ０．１質量％
検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線： 標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１００００００〜５００の１３サンプルによる校正曲線を使用する。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いる。

本発明に係るセルロースエステルの原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることができる。またそれらから得られたセルロースエステルはそれぞれ任意の割合で混合使用することができる。
本発明に用いられるセルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステルは、公知の方法により製造することができる。具体的には特開平１０−４５８０４号に記載の方法を参考にして合成することができる。
本発明の光学フィルムには、セルロースエステル、及び前記一般式（１）で表される化合物に加えて、以下に説明する、糖エステル化合物、可塑剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、及び微粒子の少なくとも１つを添加することが好ましい。

＜糖エステル化合物＞
糖エステル化合物としては、例えば、ピラノース構造またはフラノース構造の少なくとも１種を１〜１２個有しその構造のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化したエステル化合物が挙げられる。
エステル化の割合としては、ピラノース構造またはフラノース構造内に存在するＯＨ基の７０％以上であることが好ましい。

本発明に用いられる糖エステル化合物の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
グルコース、ガラクトース、マンノース、フルクトース、キシロース、あるいはアラビノース、ラクトース、スクロース、ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオース、マルチトール、ラクチトール、ラクチュロース、セロビオース、マルトース、セロトリオース、マルトトリオース、ラフィノースあるいはケストース挙げられる。
この他、ゲンチオビオース、ゲンチオトリオース、ゲンチオテトラオース、キシロトリオース、ガラクトシルスクロースなども挙げられる。
これらの化合物の中で、特にピラノース構造とフラノース構造を両方有する化合物が好ましい。
例としてはスクロース、ケストース、ニストース、１Ｆ−フラクトシルニストース、スタキオースなどが好ましく、更に好ましくは、スクロースである。
ピラノース構造またはフラノース構造中のＯＨ基のすべてもしくは一部をエステル化するのに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、イソ酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸、オクテン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、酢酸、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、アルコキシ基を導入した芳香族モノカルボン酸、ケイ皮酸、ベンジル酸、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができ、より、具体的には、キシリル酸、ヘメリト酸、メシチレン酸、プレーニチル酸、γ−イソジュリル酸、ジュリル酸、メシト酸、α−イソジュリル酸、クミン酸、α−トルイル酸、ヒドロアトロパ酸、アトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、サリチル酸、ｏ−アニス酸、ｍ−アニス酸、ｐ−アニス酸、クレオソート酸、ｏ−ホモサリチル酸、ｍ−ホモサリチル酸、ｐ−ホモサリチル酸、ｏ−ピロカテク酸、β−レソルシル酸、バニリン酸、イソバニリン酸、ベラトルム酸、ｏ−ベラトルム酸、没食子酸、アサロン酸、マンデル酸、ホモアニス酸、ホモバニリン酸、ホモベラトルム酸、ｏ−ホモベラトルム酸、フタロン酸、ｐ−クマル酸を挙げることができるが、特に安息香酸が好ましい。
オリゴ糖のエステル化合物を、ピラノース構造またはフラノース構造の少なくとも１種を１〜１２個を有する化合物として適用できる。
オリゴ糖は、澱粉、ショ糖等にアミラーゼ等の酵素を作用させて製造されるもので、本発明に適用できるオリゴ糖としては、例えば、マルトオリゴ糖、イソマルトオリゴ糖、フラクトオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、キシロオリゴ糖が挙げられる。

以下に、糖エステル化合物の一例を下記に挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではない。
モノペットＳＢ：第一工業製薬社製
モノペットＳＯＡ：第一工業製薬社製
これらの糖エステル化合物の添加量としてはセルロースエステルに対して、０．５〜３０質量％含むことが好ましく、特には、５〜２０質量％含むことが好ましい。

＜可塑剤＞
本発明の光学フィルムは、可塑剤を含有させることができる。可塑剤としては特に限定されないが、好ましくは、多価カルボン酸エステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤及び多価アルコールエステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤、アクリル系可塑剤等から選択される。そのうち、可塑剤を２種以上用いる場合は、少なくとも１種は多価アルコールエステル系可塑剤であることが好ましい。
多価アルコールエステル系可塑剤は２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる可塑剤であり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。

本発明に好ましく用いられる多価アルコールは次の一般式（ａ）で表される。
一般式（ａ） Ｒａ−（ＯＨ）ｎ
（但し、Ｒａはｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数、ＯＨ基はアルコール性、またはフェノール性ヒドロキシ基（水酸基）を表す。）

好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。

好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は１〜２０であることが更に好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースエステルとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。

好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、メトキシ基或いはエトキシ基などのアルコキシ基を１〜３個を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。
多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は、全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。

グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることができる。アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えばメチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられる。

フタル酸エステル系可塑剤としては、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジオクチルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルテレフタレート等が挙げられる。

クエン酸エステル系可塑剤としては、クエン酸アセチルトリメチル、クエン酸アセチルトリエチル、クエン酸アセチルトリブチル等が挙げられる。
脂肪酸エステル系可塑剤として、オレイン酸ブチル、リシノール酸メチルアセチル、セバシン酸ジブチル等が挙げられる。
リン酸エステル系可塑剤としては、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等が挙げられる。

多価カルボン酸エステル化合物としては、２価以上、好ましくは２価〜２０価の多価カルボン酸とアルコールのエステルよりなる。また、脂肪族多価カルボン酸は２〜２０価であることが好ましく、芳香族多価カルボン酸、脂環式多価カルボン酸の場合は３価〜２０価であることが好ましい。
多価カルボン酸は次の一般式（ｂ）で表される。
一般式（ｂ） Ｒｂ（ＣＯＯＨ）ｍ（ＯＨ）ｎ
（但し、Ｒｂは（ｍ＋ｎ）価の有機基、ｍは２以上の正の整数、ｎは０以上の整数、ＣＯＯＨ基はカルボキシ基、ＯＨ基はアルコール性またはフェノール性ヒドロキシ基（水酸基）を表す。）

好ましい多価カルボン酸の例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれらに限定されるものではない。トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸のような３価以上の芳香族多価カルボン酸またはその誘導体、コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、シュウ酸、フマル酸、マレイン酸、テトラヒドロフタル酸のような脂肪族多価カルボン酸、酒石酸、タルトロン酸、リンゴ酸、クエン酸のようなオキシ多価カルボン酸などを好ましく用いることができる。特にオキシ多価カルボン酸を用いることが、保留性向上などの点で好ましい。
多価カルボン酸エステル化合物に用いられるアルコールとしては特に制限はなく公知のアルコール、フェノール類を用いることができる。例えば炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪族飽和アルコールまたは脂肪族不飽和アルコールを好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。また、シクロペンタノール、シクロヘキサノールなどの脂環式アルコールまたはその誘導体、ベンジルアルコール、シンナミルアルコールなどの芳香族アルコールまたはその誘導体なども好ましく用いることができる。
多価カルボン酸としてオキシ多価カルボン酸を用いる場合は、オキシ多価カルボン酸のアルコール性またはフェノール性のヒドロキシ基（水酸基）をモノカルボン酸を用いてエステル化しても良い。好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。

脂肪族モノカルボン酸としては炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を持った脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数１〜２０であることが更に好ましく、炭素数１〜１０であることが特に好ましい。
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸などの飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸などの不飽和脂肪酸などを挙げることができる。

好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸などの安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸などのベンゼン環を２個以上もつ芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。特に酢酸、プロピオン酸、安息香酸であることが好ましい。

多価カルボン酸エステル化合物の分子量は特に制限はないが、分子量３００〜１０００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。保留性向上の点では大きい方が好ましく、透湿性、セルロースエステルとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
多価カルボン酸エステルに用いられるアルコール類は一種類でも良いし、２種以上の混合であっても良い。
本発明に用いることのできる多価カルボン酸エステル化合物の酸価は１ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、０．２ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが更に好ましい。酸価を上記範囲にすることによってリターデーションの環境変動も抑制されるため好ましい。

＜酸価＞
酸価とは、試料１ｇ中に含まれる酸（試料中に存在するカルボキシ基）を中和するために必要な水酸化カリウムのミリグラム数をいう。酸価はＪＩＳ Ｋ００７０に準拠して測定したものである。
特に好ましい多価カルボン酸エステル化合物の例を以下に示すが、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、トリエチルシトレート、トリブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート（ＡＴＥＣ）、アセチルトリブチルシトレート（ＡＴＢＣ）、ベンゾイルトリブチルシトレート、アセチルトリフェニルシトレート、アセチルトリベンジルシトレート、酒石酸ジブチル、酒石酸ジアセチルジブチル、トリメリット酸トリブチル、ピロメリット酸テトラブチル等が挙げられる。

ポリエステル系可塑剤は特に限定されないが、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有するポリエステル系可塑剤を用いることができる。ポリエステル系可塑剤としては、特に限定されないが、例えば、下記一般式（ｃ）で表せる芳香族末端エステル系可塑剤を用いることができる。
一般式（ｃ） Ｂ−（Ｇ−Ａ）ｎ−Ｇ−Ｂ
（式中、Ｂはベンゼンモノカルボン酸残基、Ｇは炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基または炭素数６〜１２のアリールグリコール残基または炭素数が４〜１２のオキシアルキレングリコール残基、Ａは炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基または炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表し、またｎは１以上の整数を表す。）
一般式（ｃ）中、Ｂで示されるベンゼンモノカルボン酸残基とＧで示されるアルキレングリコール残基またはオキシアルキレングリコール残基またはアリールグリコール残基、Ａで示されるアルキレンジカルボン酸残基またはアリールジカルボン酸残基とから構成されるものであり、通常のポリエステル系可塑剤と同様の反応により得られる。

本発明で使用されるポリエステル系可塑剤のベンゼンモノカルボン酸成分としては、例えば、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸等があり、これらはそれぞれ１種または２種以上の混合物として使用することができる。
本発明に用いることのできるポリエステル系可塑剤の炭素数２〜１２のアルキレングリコール成分としては、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル１，３−ペンタンジオール、２−エチル１，３−ヘキサンジオール、２−メチル１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、１，１２−オクタデカンジオール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用される。特に炭素数２〜１２のアルキレングリコールがセルロースエステルとの相溶性に優れているため、特に好ましい。
また、上記芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のオキシアルキレングリコール成分としては、例えば、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等があり、これらのグリコールは、１種または２種以上の混合物として使用できる。

芳香族末端エステルの炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸成分としては、例えば、コハク酸、マレイン酸、フマル酸、グルタール酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等があり、これらは、それぞれ１種または２種以上の混合物として使用される。炭素数６〜１２のアリーレンジカルボン酸成分としては、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸、１，４−ナフタレンジカルボン酸等がある。
本発明で使用されるポリエステル系可塑剤は、数平均分子量が、好ましくは３００〜１５００、より好ましくは４００〜１０００の範囲が好適である。また、その酸価は、０．５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、ヒドロキシ価（水酸基価）は２５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、より好ましくは酸価０．３ｍｇＫＯＨ／ｇ以下、ヒドロキシ価（水酸基価）は１５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下のものである。

以下、本発明に用いることのできる芳香族末端エステル系可塑剤の合成例を示す。
≪サンプルＮｏ．１（芳香族末端エステルサンプル）≫
反応容器にフタル酸４１０質量部、安息香酸６１０質量部、ジプロピレングリコール７３７質量部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．４０質量部を一括して仕込み窒素気流中で攪拌下、還流凝縮器を付して過剰の１価アルコールを還流させながら、酸価が２以下になるまで１３０〜２５０℃の範囲内で加熱を続け生成する水を連続的に除去した。次いで２００〜２３０℃の範囲内で１．３３×１０^４Ｐａ〜最終的に４×１０^２Ｐａ以下の減圧下、留出分を除去し、この後濾過して次の性状を有する芳香族末端エステル系可塑剤を得た。
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；４３４００
酸価 ；０．２

≪サンプルＮｏ．２（芳香族末端エステルサンプル）≫
反応容器に、フタル酸４１０質量部、安息香酸６１０質量部、エチレングリコール３４１質量部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５質量部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；３１０００
酸価 ；０．１

≪サンプルＮｏ．３（芳香族末端エステルサンプル）≫
反応容器に、フタル酸４１０質量部、安息香酸６１０質量部、１，２−プロパンジオール４１８質量部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５質量部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；３８０００
酸価 ；０．０５

≪サンプルＮｏ．４（芳香族末端エステルサンプル）≫
反応容器に、フタル酸４１０質量部、安息香酸６１０質量部、１，３−プロパンジオール４１８質量部、及び触媒としてテトライソプロピルチタネート０．３５質量部を用いる以外はサンプルＮｏ．１と全く同様にして次の性状を有する芳香族末端エステルを得た。
粘度（２５℃、ｍＰａ・ｓ）；３７０００
酸価 ；０．０５

＜アクリル系重合体≫
本発明に係る光学フィルムは、可塑剤として（メタ）アクリル系重合体を含有することもできる。
該（メタ）アクリル系重合体は、芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａを重合して得られた重量平均分子量５００〜３０００の範囲内の重合体Ｙであることが好ましい。
（メタ）アクリル系重合体としては、少なくとも分子内に芳香環とヒドロキシ基（水酸基）を有しないエチレン性不飽和モノマーＸａと、分子内に芳香環を有さずヒドロキシ基（水酸基）を有するエチレン性不飽和モノマーＸｂとを共重合して得られた重量平均分子量３０００〜３００００の範囲内の重合体Ｘ、及び芳香環を有さないエチレン性不飽和モノマーＹａを重合して得られた重量平均分子量５００〜３０００の範囲内の重合体Ｙであることがさらに好ましい。

前記重合体Ｘは下記一般式（Ｘ）で示され、前記重合体Ｙは下記一般式（Ｙ）で示されることがさらに好ましい。
一般式（Ｘ）
−［ＣＨ_２−Ｃ（−Ｒｃ）（−ＣＯ_２Ｒｄ）］ｍ−［ＣＨ_２−Ｃ（−Ｒｅ）（−ＣＯ_２Ｒｆ−ＯＨ）−］ｎ−［Ｘｃ］ｐ−
一般式（Ｙ）
Ｒｙ−［ＣＨ_２−Ｃ（−Ｒｇ）（−ＣＯ_２Ｒｈ−ＯＨ）−］ｋ−［Ｙｂ］ｑ−
（式中、Ｒｃ、Ｒｅ、Ｒｇは、ＨまたはＣＨ３を表す。Ｒｄは炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基を表す。Ｒｆ、Ｒｈは−ＣＨ_２−、−Ｃ_２Ｈ_４−または−Ｃ_３Ｈ_６−を表す。ＲｙはＯＨ、Ｈまたは炭素数３以内のアルキル基を表す。Ｘｃは、Ｘａ、Ｘｂに重合可能なモノマー単位を表す。Ｙｂは、Ｙａに共重合可能なモノマー単位を表す。ｍ、ｎ、ｋ、ｐ及びｑは、モル組成比を表す。ただしｍ≠０、ｎ≠０、ｋ≠０、ｍ＋ｎ＋ｐ＝１００、ｋ＋ｑ＝１００である。）
これらの可塑剤の添加量としてはセルロースエステルに対して、０．５〜３０質量％含むことが好ましく、特には、５〜２０質量％含むことが好ましい。

＜紫外線吸収剤＞
本発明に係る光学フィルムは、紫外線吸収剤を含有することもできる。紫外線吸収剤は４００ｎｍ以下の紫外線を吸収することで、耐久性を向上させることを目的としており、特に波長３７０ｎｍでの透過率が１０％以下であることが好ましく、より好ましくは５％以下、更に好ましくは２％以下である。
本発明に用いられる紫外線吸収剤は特に限定されないが、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、トリアジン系化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体等が挙げられる。
例えば、５−クロロ−２−（３，５−ジ−ｓｅｃ−ブチル−２−ヒドロキシルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、（２−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチルフェノール、２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシベンゾフェノン、２，４−ベンジルオキシベンゾフェノン等があり、また、チヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン３２７、チヌビン３２８、チヌビン９２８等のチヌビン類があり、これらはいずれもＢＡＳＦジャパン社製の市販品であり好ましく使用できる。
本発明で好ましく用いられる紫外線吸収剤は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤であり、特に好ましくはベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、である。
この他、１，３，５−トリアジン環を有する化合物等の円盤状化合物も紫外線吸収剤として好ましく用いられる。
本発明に係る光学フィルムは紫外線吸収剤を２種以上を含有することが好ましい。

また、紫外線吸収剤としては高分子紫外線吸収剤も好ましく用いることができ、特に特開平６−１４８４３０号記載のポリマータイプの紫外線吸収剤が好ましく用いられる。
紫外線吸収剤の添加方法は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒あるいはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、または直接ドープ組成中に添加してもよい。
無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースエステル中にディゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。
紫外線吸収剤の使用量は、紫外線吸収剤の種類、使用条件等により一様ではないが、偏光板保護フィルムの乾燥膜厚が３０〜２００μｍの場合は、偏光板保護フィルムに対して０．５〜１０質量％が好ましく、０．６〜４質量％が更に好ましい。

＜酸化防止剤＞
酸化防止剤は劣化防止剤ともいわれる。高湿高温の状態に液晶画像表示装置などが置かれた場合には、光学フィルムの劣化が起こる場合がある。
酸化防止剤は、例えば、光学フィルム中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等により光学フィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、光学フィルム中に含有させるのが好ましい。
このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等を挙げることができる。 特に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また、例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。
これらの化合物の添加量は、セルロース誘導体に対して質量割合で１〜１０００ｐｐｍの範囲が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍの範囲が更に好ましい。

＜微粒子＞
本発明に係る光学フィルムは、微粒子を含有することが好ましい。
本発明に使用される微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。また、有機化合物の微粒子も好ましく使用することができる。有機化合物の例としてはポリテトラフルオロエチレン、セルロースアセテート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプピルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリエチレンカーボネート、アクリルスチレン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、メラミン系樹脂、ポリオレフィン系粉末、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、あるいはポリ弗化エチレン系樹脂、澱粉等の有機高分子化合物の粉砕分級物もあげられる。あるいは又懸濁重合法で合成した高分子化合物、スプレードライ法あるいは分散法等により球型にした高分子化合物、または無機化合物を用いることができる。
微粒子は珪素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。
微粒子の一次粒子の平均粒径は５〜４００ｎｍの範囲内が好ましく、更に好ましいのは１０〜３００ｎｍの範囲内である。
これらは主に粒径０．０５〜０．３μｍの範囲内の二次凝集体として含有されていてもよく、平均粒径１００〜４００ｎｍの範囲内の粒子であれば凝集せずに一次粒子として含まれていることも好ましい。
光学フィルム中のこれらの微粒子の含有量は０．０１〜１質量％の範囲内であることが好ましく、特に０．０５〜０．５質量％の範囲内が好ましい。共流延法による多層構成の光学フィルムの場合は、表面にこの添加量の微粒子を含有することが好ましい。
二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
これらの中でもアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数を下げる効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明に係る光学フィルムフィルムにおいては、少なくとも一方の面の動摩擦係数が０．２〜１．０の範囲内であることが好ましい。
各種添加剤は製膜前のセルロースエステル含有溶液であるドープにバッチ添加してもよいし、添加剤溶解液を別途用意してインライン添加してもよい。特に微粒子はろ過材への負荷を減らすために、一部または全量をインライン添加することが好ましい。
添加剤溶解液をインライン添加する場合は、ドープとの混合性をよくするため、少量のセルロースエステルを溶解するのが好ましい。好ましいセルロースエステルの量は、溶剤１００質量部に対して１〜１０質量部の範囲内で、より好ましくは、３〜５質量部の範囲内である。
本発明においてインライン添加、混合を行うためには、例えば、スタチックミキサー（東レエンジニアリング製）、ＳＷＪ（東レ静止型管内混合器 Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）等のインラインミキサー等が好ましく用いられる。

＜リターデーション制御剤＞
本発明の光学フィルムは、液晶表示品質の向上のために、フィルム中にリターデーション制御剤を添加したり、配向膜を形成して液晶層を設け、偏光板保護フィルムと液晶層由来のリターデーションを複合化したりすることにより光学補償能を付与することができる。リターデーションを調節するために添加する化合物は、欧州特許９１１，６５６Ａ２号明細書に記載されているような、二つ以上の芳香族環を有する芳香族化合物をリターデーション制御剤として使用することもできる。あるいは、特開２００６−２０２５号公報に記載の棒状化合物が挙げられる。また二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。該芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む芳香族性ヘテロ環であることが特に好ましく、芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。中でも、特開２００６−２０２６号公報に記載の１，３，５−トリアジン環が特に好ましい。
これらのリターデーション制御剤の添加量としては使用する樹脂に対して、０．５〜２０質量％含むことが好ましく、１〜１０質量％含むことがより好ましい。

［光学フィルムの製造方法］
次に、本発明に係る光学フィルムの製造方法について説明する。
本発明に係る光学フィルムは、溶液流延法で製造されたフィルムであっても溶融流延法で製造されたフィルムであっても好ましく用いることができる。
本発明に係る光学フィルムの製造は、セルロースエステル及び添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、ドープを無限に移行する無端の金属支持体上に流延する工程、流延したドープをウェブとして乾燥する工程、金属支持体から剥離する工程、延伸または幅保持する工程、更に乾燥する工程、仕上がったフィルムを巻取る工程により行われる。

ドープを調製する工程について述べる。ドープ中のセルロースエステルの濃度は、濃い方が金属支持体に流延した後の乾燥負荷が低減できて好ましいが、セルロースエステルの濃度が濃過ぎると濾過時の負荷が増えて、濾過精度が悪くなる。これらを両立する濃度としては、１０〜３５質量％の範囲が好ましく、更に好ましくは、１５〜２５質量％の範囲である。
ドープで用いられる溶剤は、単独で用いても２種以上を併用してもよいが、セルロースエステルの良溶剤と貧溶剤を混合して使用することが生産効率の点で好ましく、良溶剤が多い方がセルロースエステルの溶解性の点で好ましい。良溶剤と貧溶剤の混合比率の好ましい範囲は、良溶剤が７０〜９８質量％の範囲内であり、貧溶剤が２〜３０質量％の範囲内である。良溶剤、貧溶剤とは、使用するセルロースエステルを単独で溶解するものを良溶剤、単独で膨潤するかまたは溶解しないものを貧溶剤と定義している。そのため、セルロースエステルの平均酢化度（アセチル基置換度）によっては、良溶剤、貧溶剤が変わり、例えばアセトンを溶剤として用いる時には、セルロースの酢酸エステル（アセチル基置換度２．４）、セルロースアセテートプロピオネートでは良溶剤になり、セルロースの酢酸エステル（アセチル基置換度２．８）では貧溶剤となる。

本発明に用いられる良溶剤は特に限定されないが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物やジオキソラン類、アセトン、酢酸メチル、アセト酢酸メチル等が挙げられる。特に好ましくはメチレンクロライドまたは酢酸メチルが挙げられる。
また、本発明に用いられる貧溶剤は特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン等が好ましく用いられる。また、ドープ中には水が０．０１〜２質量％含有していることが好ましい。
また、セルロースエステルの溶解に用いられる溶媒は、フィルム製膜工程で乾燥によりフィルムから除去された溶媒を回収し、これを再利用して用いられる。回収溶剤中に、セルロースエステルに添加されている添加剤、例えば可塑剤、紫外線吸収剤、ポリマー、モノマー成分などが微量含有されていることもあるが、これらが含まれていても好ましく再利用することができるし、必要であれば精製して再利用することもできる。

上記記載のドープを調製する時の、セルロースエステルの溶解方法としては、一般的な方法を用いることができる。加熱と加圧を組み合わせると常圧における沸点以上に加熱できる。溶剤の常圧での沸点以上でかつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら攪拌溶解すると、ゲルやママコと呼ばれる塊状未溶解物の発生を防止するため好ましい。また、セルロースエステルを貧溶剤と混合して湿潤或いは膨潤させた後、更に良溶剤を添加して溶解する方法も好ましく用いられる。
加圧は窒素ガス等の不活性気体を圧入する方法や、加熱によって溶剤の蒸気圧を発現させる方法によって行ってもよい。加熱は外部から行うことが好ましく、例えばジャケットタイプのものは温度コントロールが容易で好ましい。
溶剤を添加しての加熱温度は、高い方がセルロースエステルの溶解性の観点から好ましいが、加熱温度が高過ぎると必要とされる圧力が大きくなり生産性が悪くなる。好ましい加熱温度は４５〜１２０℃の範囲であり、６０〜１１０℃の範囲がより好ましく、７０℃〜１０５℃の範囲が更に好ましい。また、圧力は設定温度で溶剤が沸騰しないように調整される。
または冷却溶解法も好ましく用いられ、これによって酢酸メチルなどの溶媒にセルロースエステルを溶解させることができる。

次に、このセルロースエステル溶液を濾紙等の適当な濾過材を用いて濾過する。濾過材としては、不溶物等を除去するために絶対濾過精度が小さい方が好ましいが、絶対濾過精度が小さ過ぎると濾過材の目詰まりが発生し易いという問題がある。このため絶対濾過精度０．００８ｍｍ以下の濾材が好ましく、０．００１〜０．００８ｍｍの範囲の濾材がより好ましく、０．００３〜０．００６ｍｍの範囲の濾材が更に好ましい。

濾材の材質は特に制限はなく、通常の濾材を使用することができるが、ポリプロピレン、テフロン（登録商標）等のプラスチック製の濾材や、ステンレススティール等の金属製の濾材が繊維の脱落等がなく好ましい。濾過により、原料のセルロースエステルに含まれていた不純物、特に輝点異物を除去、低減することが好ましい。
輝点異物とは、２枚の偏光板をクロスニコル状態にして配置し、その間に光学フィルム等を置き、一方の偏光板の側から光を当てて、他方の偏光板の側から観察した時に反対側からの光が漏れて見える点（異物）のことであり、径が０．０１ｍｍ以上である輝点数が２００個／ｃｍ^２以下であることが好ましい。より好ましくは１００個／ｃｍ^２以下であり、更に好ましくは５０個／ｃｍ^２以下であり、更に好ましくは０〜１０個／ｃｍ^２の範囲内である。また、０．０１ｍｍ以下の輝点も少ない方が好ましい。
ドープの濾過は通常の方法で行うことができるが、溶剤の常圧での沸点以上で、かつ加圧下で溶剤が沸騰しない範囲の温度で加熱しながら濾過する方法が、濾過前後の濾圧の差（差圧という）の発現が小さく、好ましい。好ましい温度は４５〜１２０℃の範囲であり、４５〜７０℃の範囲がより好ましく、４５〜５５℃の範囲であることが更に好ましい。 濾圧は小さい方が好ましい。濾圧は１．６ＭＰａ以下であることが好ましく、１．２ＭＰａ以下であることがより好ましく、１．０ＭＰａ以下であることが更に好ましい。

ここで、ドープの流延について説明する。
流延（キャスト）工程における金属支持体は、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、金属支持体としては、ステンレススティールベルトまたは鋳物で表面をメッキ仕上げしたドラムが好ましく用いられる。キャストの幅は１〜４ｍの範囲内とすることができる。流延工程の金属支持体の表面温度は−５０℃〜溶剤の沸点未満の温度で、温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度は０〜４０℃の範囲内であり、５〜３０℃の範囲内が更に好ましい。或いは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態でドラムから剥離することも好ましい方法である。金属支持体の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風または冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。
光学フィルムが良好な平面性を示すためには、金属支持体からウェブを剥離する際の残留溶媒量は１０〜１５０質量％の範囲が好ましく、更に好ましくは２０〜４０質量％の範囲、または６０〜１３０質量％の範囲内であり、特に好ましくは、２０〜３０質量％の範囲、または７０〜１２０質量％の範囲内である。

本発明においては、残留溶媒量は下記式で定義される。
残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
尚、Ｍはウェブまたはフィルムを製造中または製造後の任意の時点で採取した試料の質量で、ＮはＭを１１５℃で１時間の加熱後の質量である。
また、光学フィルムの乾燥工程においては、ウェブを金属支持体より剥離し、更に乾燥し、残留溶媒量を１質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、特に好ましくは０〜０．０１質量％の範囲内である。
フィルム乾燥工程では一般にロール乾燥方式（上下に配置した多数のロールにウェブを交互に通し乾燥させる方式）やテンター方式でウェブを搬送させながら乾燥する方式が採られる。
本発明に係る光学フィルムを作製するためには、ウェブの両端をクリップ等で把持するテンター方式で幅方向（横方向）に延伸を行うことが特に好ましい。剥離張力は３００Ｎ／ｍ以下で剥離することが好ましい。
ウェブを乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点から熱風で行うことが好ましい。
ウェブの乾燥工程における乾燥温度は４０〜２００℃の範囲で段階的に高くしていくことが好ましい。

光学フィルムの膜厚は、特に限定はされないが１０〜２００μｍの範囲が用いられる。薄膜化の観点から、好ましくは１５〜６０μｍの範囲であり、更に好ましくは２０〜３５μｍの範囲である。この範囲であれば、本発明の前記一般式（１）及び一般式（２）で表わされる化合物による波長分散性とブリードアウト耐性を両立できるため、好ましい。
光学フィルムは、幅１〜４ｍの範囲のものが用いられる。特に幅１．４〜４ｍの範囲のものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．６〜３ｍの範囲である。４ｍを超えると搬送が困難となる。

＜延伸操作、屈折率制御＞
本発明に係る光学フィルムを製造する工程において、延伸操作により屈折率制御、即ちリターデーションの制御を行うことが好ましい。
例えばフィルムの長手方向（製膜方向）及びそれとフィルム面内で直交する方向、即ち幅手方向に対して、逐次または同時に二軸延伸もしくは一軸延伸することができる。同時二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方を張力を緩和して収縮させる場合も含まれる。
互いに直交する二軸方向の延伸倍率は、それぞれ最終的には流延方向に０．８〜１．５倍、幅方向に１．１〜２．５倍の範囲とすることが好ましく、流延方向に０．９〜１．０倍、幅方向に１．２〜２．０倍に範囲で行うことが好ましい。
延伸温度は１２０〜２００℃の範囲が好ましく、さらに好ましくは１４０〜１８０℃の範囲で延伸するのが好ましい。
延伸時のフィルム中の残留溶媒は２０〜０％の範囲が好ましく、さらに好ましくは１５〜０％の範囲で延伸するのが好ましい。
ウェブを延伸する方法には特に限定はない。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して縦方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて縦方向に延伸する方法、同様に横方向に広げて横方向に延伸する方法、或いは縦横同時に広げて縦横両方向に延伸する方法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。また、所謂テンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸を行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましい。
製膜工程のこれらの幅保持或いは横方向の延伸はテンターによって行うことが好ましく、ピンテンターでもクリップテンターでもよい。なお、搬送方向と幅方向を同時に延伸しても、逐次延伸を行ってもよい。

＜物性＞
本発明に係る光学フィルムの透湿度は、４０℃、９０％ＲＨで１０〜１２００ｇ／ｍ^２・２４ｈが好ましい。透湿度はＪＩＳ Ｚ ０２０８に記載の方法に従い測定することができる。
本発明に係る光学フィルムは、破断伸度が１０〜８０％の範囲であることが好ましい。
本発明に係る光学フィルムの可視光透過率は９０％以上であることが好ましく、９３％以上であることが更に好ましい。
本発明に係る光学フィルムのヘイズは１％未満であることが好ましく０〜０．１％の範囲であることが特に好ましい。
また、本発明に係る光学フィルムにさらに液晶層や樹脂層を塗布したり、またそれをさらに延伸することにより、さらに広い範囲にわたる位相差値を得ることが出来る。

［偏光板］
本発明に係る光学フィルムは、本発明の偏光板、それを用いた本発明の液晶表示装置に使用することができる。本発明に係る光学フィルムは、偏光板保護フィルムの機能を兼ねたフィルムとされることが好ましく、その場合偏光板保護フィルムと別に位相差を有する光学フィルムを別途用意する必要がないため、液晶表示装置の厚さを薄く製造プロセスを簡略化することができる。
本発明の液晶表示装置は、液晶セルの両方の面に、本発明に係る偏光板が粘着層を介して貼り合わされたものであることが好ましい。
本発明に係る偏光板は一般的な方法で作製することができる。本発明に係る光学フィルムの偏光子側をアルカリ鹸化処理し、沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面には他の偏光板保護フィルムを貼合することができる。本発明に係る光学フィルムは液晶表示装置とされた際に、偏光子の液晶セル側に設けられることが好ましく、偏光子の外側のフィルムは従来の偏光板保護フィルムを用いることができる。

例えば、従来の偏光板保護フィルムとしては、市販のセルロースエステルフィルム（例えば、コニカミノルタタック ＫＣ８ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ８ＵＣＲ３、ＫＣ８ＵＣＲ４、ＫＣ８ＵＣＲ５、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ６ＵＹ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ４ＵＥ、ＫＣ８ＵＥ、ＫＣ８ＵＹ−ＨＡ、ＫＣ８ＵＸ−ＲＨＡ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−Ｃ、ＫＣ８ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、ＫＣ４ＵＸＷ−ＲＨＡ−ＮＣ、以上コニカミノルタオプト（株）製）が好ましく用いられる。
表示装置の表面側に用いられる偏光板保護フィルムには、防眩層あるいはクリアハードコート層のほか、反射防止層、帯電防止層、防汚層、バックコート層を有することが好ましい。
偏光板の主たる構成要素である偏光子とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光子は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。
偏光子は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。偏光子の膜厚は５〜３０μｍの範囲が好ましく、特に１０〜２０μｍの範囲であることが好ましい。

［液晶表示装置］
本発明の光学フィルムを用いた偏光板を液晶表示装置に用いることによって、種々の視認性に優れた本発明の液晶表示装置を作製することができる。
本発明の光学フィルム、偏光板はＳＴＮ、ＴＮ、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）、ＩＰＳ、ＯＣＢなどの各種駆動方式の液晶表示装置に用いることができる。
特にＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）型液晶表示装置に用いられることが好ましい。
特に画面が３０型以上の大画面の液晶表示装置であっても、光漏れによる黒表示時の着色を低減し、正面コントラストなど視認性に優れた液晶表示装置を得ることができる。

［実施例１］
＜光学フィルム１０１の作製＞
≪微粒子分散液１≫
微粒子（アエロジル Ｒ９７２Ｖ 日本アエロジル（株）製） １１質量部
エタノール ８９質量部
以上をディゾルバーで５０分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。

≪微粒子添加液１≫
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分攪拌しながら、微粒子分散液１をゆっくりと添加した。更に、アトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦでろ過し、微粒子添加液１を調製した。
メチレンクロライド ９９質量部
微粒子分散液１ ５質量部

≪主ドープの調整≫
下記組成の主ドープを調製した。まず加圧溶解タンクにメチレンクロライドとエタノールを添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースエステルＡを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し。これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用してろ過し、主ドープを調製した。

≪主ドープの組成≫
メチレンクロライド ３４０質量部
エタノール ６４質量部
セルロースエステルＡ：アセチル置換度２．４２の数平均分子量が５２，０００であるセルロースジアセテート（アシル基総置換度２．４２、表中ＤＡＣと記載）１００質量部
本発明に係る化合物：例示化合物１ ４質量部
モノペットＳＢ（第一工業製薬社製） ５質量部
微粒子添加液１ １質量部
リターデーション制御剤（Ａ−１） ４重質量部

以上を密閉容器に投入し、攪拌しながら溶解してドープ液を調製した。次いで、無端ベルト流延装置を用い、ドープ液を温度３３℃、１５００ｍｍ幅でステンレスベルト支持体上に均一に流延した。ステンレスベルトの温度は３０℃に制御した。
ステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）したフィルム中の残留溶媒量が７５％になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力１３０Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上から剥離した。
剥離した光学フィルムを、１４５℃の熱をかけながらテンターを用いて幅方向に３０％（１．３０倍）延伸した。延伸開始時の残留溶媒は１４％であった。
次いで、乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥温度は１３０℃で、搬送張力は１００Ｎ／ｍとした。
以上のようにして、乾燥膜厚２０μｍの光学フィルム１０１を得た。

＜光学フィルム１０２〜１４１の作製＞
光学フィルム１０１の作製において、セルロースエステルの種類、本発明に係わる前記一般式（１）及び一般式（２）で表される化合物、及びその他の添加剤を表１及び表２のように変更した以外は同様にして、光学フィルム１０２〜１４１を作製した。
以下、実施例１で使用した使用した素材の詳細を下記に示す。
セルロースエステルの種類は下記の通りである。
セルロースエステルＢ：アセチル置換度２．８８のセルローストリアセテート（アシル基総置換度２．８８、表中ＴＡＣと記載）数平均分子量５８，０００
セルロースエステルＣ：アセチル置換度１．５６、プロピオニル置換度０．９０のセルロースアセテートプロピオネート（アシル基総置換度２．４６、表中ＣＡＰ１と記載）数平均分子量５５，０００
セルロースエステルＤ：アセチル置換度０．２１、プロピオニル置換度１．６２のセルロースアセテートプロピオネート（アシル基総置換度１．８３、表中ＣＡＰ２と記載）数平均分子量６１，０００
セルロースエステルＥ：アセチル置換度０．１２、プロピオニル置換度１．２８のセルロースアセテートプロピオネート（アシル基総置換度１．４０、表中ＣＡＰ３と記載）数平均分子量６５，０００

また、比較化合物の構造は下記の通りである。

＜光学フィルムの評価＞
上記のようにして作製した各々の光学フィルムについて、以下に記載した評価を行った。
≪リターデーション≫
得られた光学フィルムの幅手方向の中央部のリターデーション値を測定した。測定には自動複屈折計ＫＯＢＲＡー２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で２時間調湿し、測定波長が５９０ｎｍにおいて、３次元複屈折率測定を行い、測定値を次式に代入して求めた。
式（Ｉ）：面内リターデーションＲ_０＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ
式（II）：厚さ方向リターデーションＲ_ｔｈ＝（（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ）×ｄ
式中、ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）、屈折率ｎ_ｘ（フィルムの面内の最大の屈折率、遅相軸方向の屈折率ともいう）、ｎ_ｙ（フィルム面内で遅相軸に直角な方向の屈折率）、ｎ_ｚ（厚さ方向におけるフィルムの屈折率）である。

≪波長分散性≫
前記光学フィルムの幅手方向の中央部のリターデーション値を測定した。測定には自動複屈折計ＫＯＢＲＡー２１ＡＤＨ（王子計測器（株）製）を用いて、２３℃、５５％ＲＨの環境下で２時間調湿し、波長が４５０ｎｍと６３０ｎｍにおいて、３次元複屈折率測定を行い、測定値を前記の式（Ｉ）に代入してＲ_０の値を求めた。得られたＲ_０を下記の式（III）に代入して波長分散性を求めた。この値が１．１０以下であることが好ましい。
式（III）：波長分散性＝Ｒ_０（４５０ｎｍ）／Ｒ_０（６３０ｎｍ）

≪ブリードアウト耐性≫
光学フィルムを、８０℃、９０％ＲＨの高温高湿雰囲気下で１０００時間放置後、光学フィルム表面のブリードアウト（結晶析出）の有無を目視観察し、下記基準に従って評価を行った。
Ａ：表面にブリードアウトの発生が全く認められない
Ｂ：表面で、部分的なブリードアウトが僅かに認められる
Ｃ：表面で、全面に亘りブリードアウトが僅かに認められる
Ｄ：表面で、全面に亘り明確なブリードアウトが認められる
ここで、Ｂレベル以上であれば実用上問題ないが、Ａレベルであることが特に好ましい。

以上の評価結果を表１、表２に示す。

表１、表２から明らかなように、光学フィルム１０１〜１３２及び１３７〜１４１は比較の光学フィルム１３３〜１３６に比べて、リターデーションの発現性に優れ、良好な波長分散性を示し、かつブリードアウト耐性が良好な実用上優れた光学フィルムであることが分かる。

［実施例２］
＜偏光板の作製＞
厚さ、１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。
これをヨウ素０．０７５質量部、ヨウ化カリウム５質量部、水１００質量部からなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６質量部、ホウ酸７．５質量部、水１００質量部からなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光子を得た。
次いで、下記工程１〜５に従って偏光子と前記光学フィルム１０１〜１３６と、裏面側にはコニカミノルタタックＫＣ４ＵＹ（コニカミノルタオプト（株）製セルロースエステルフィルム）を貼り合わせて偏光板を作製した。
工程１：前記光学フィルム１０１〜１３６を６０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化した。
工程２：前記偏光子を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒浸漬した。
工程３：工程２で偏光子に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程１で処理した光学フィルムの上にのせて配置した。
工程４：工程３で積層した光学フィルムと偏光子の偏光子側の面に前記コニカミノルタタックＫＣ４ＵＹを重ね、圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ^２、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。
工程５：８０℃の乾燥機中に工程４で作製した偏光子と光学フィルムとコニカミノルタタックＫＣ４ＵＹとを貼り合わせた試料を２分間乾燥し、それぞれ対応する偏光板１０１〜１３６を作製した。

＜偏光板の評価＞
次に、以下のようにして偏光板の耐久性を評価した。結果を表３に示す。
≪耐久性≫
上記の要領で得られた５００ｍｍ×５００ｍｍの偏光板試料２枚を熱湿処理（条件：８０℃、９０％ＲＨで１００時間放置する）し、直交状態にしたときの縦または横の中心線部分のどちらか大きい方の縁の白抜け部分の長さを測定して、辺の長さ（５００ｍｍ）に対する比率を算出し、その比率に応じて下記のように判定して耐熱湿性を調べることで、耐久性を評価した。縁の白抜けとは直交状態で光を通さない偏光板の縁の部分が光を通す状態になることで、目視で判定できる。偏光板の状態では縁の部分の表示が見えなくなる故障となる。
Ａ：縁の白抜けが５％未満（偏光板として問題ないレベル）
Ｂ：縁の白抜けが５％以上１０％未満（偏光板として問題ないレベル）
Ｃ：縁の白抜けが１０％以上２０％未満（偏光板として何とか使えるレベル）
Ｄ：縁の白抜けが２０％以上（偏光板として問題のあるレベル）
ここで、Ｂレベル以上であれば実用上問題ないが、Ａレベルであることが特に好ましい。

以上の評価結果を表３に示す。

表３から明らかなように、偏光板１０１〜１３２は比較の偏光板１３３〜１３６に比べて、耐久性に優れた偏光板であることが分かる。

［実施例３］
＜液晶表示装置の作製＞
視野角測定を行う液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。
ＳＯＮＹ製４０型ディスプレイＫＬＶ−４０Ｊ３０００の予め貼合されていた両面の偏光板を剥がして、実施例２で作製した偏光板１０１〜１３６をそれぞれ液晶セルのガラス面の両面に貼合した。
その際、その偏光板の貼合の向きは、本発明の光学フィルムの面が、液晶セル側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置１０１〜１３６を各々作製した。

＜液晶表示装置としての特性評価＞
上記のようにして作製した液晶表示装置について、以下に記載した評価を行った。その結果を表４に示す。
≪色ムラ≫
２３℃、５５％ＲＨの環境でディスプレイを黒表示にし、正面及び斜め４５°の角度から観察し、色ムラを下記基準で評価した。
Ａ：色ムラが全くない
Ｂ：色ムラが僅かに認められる
Ｃ：色ムラがあるが実用上は問題ない
Ｄ：色ムラが大きく実用上問題がある
ここで、Ｃレベル以上であれば実用上問題はないが、Ｂレベル以上であることが好ましく、Ａレベル以上であることが特に好ましい。

≪視野角劣化≫
２３℃、５５％ＲＨの環境でＥＬＤＩＭ社製ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄを用いて液晶表示装置の視野角測定を行った。続いて２３℃２０％ＲＨ、更に２３℃８０％ＲＨの環境下で、作製した液晶表示装置の視野角を測定し下記基準にて評価した。最後に２３℃５５％ＲＨの環境でもう一度視野角測定を行い、前記測定の際の変化が可逆変動であることを確認した。尚、これらの測定は、液晶表示装置を当該環境に５時間置いてから測定を行った。
Ａ：視野角変動が認められない
Ｂ：視野角変動がやや認められる
Ｃ：視野角変動が認められる
ここで、Ｂレベル以上であれば実用上問題ないが、Ａレベルであることが特に好ましい。

表４から明らかなように、偏光板１０１〜１３２を用いた液晶表示装置１０１〜１３２は、比較の偏光板１３３〜１３６を用いた液晶表示装置１３３〜１３６に対して、色ムラが少なく、かつ湿度が変動する条件下でも視野角変動の少ない極めて安定な、耐久性の優れた液晶表示装置であることが分かる。

本発明の光学フィルムは、良好な波長分散性を示し、ブリードアウト耐性が良好であり、色ムラが少なく、耐久性に優れる偏光板及び液晶表示装置に利用することができる。

Claims (10)

1. 下記一般式（１）で表される化合物を含有し、
   前記一般式（１）で表される化合物が下記一般式（３）で表される化合物であることを特徴とする光学フィルム。
   

   

   〔一般式（１）において、Ｑは炭素原子または窒素原子を表し、ＺはＱと共に環を形成する非金属原子群を表す。Ｌ_１及びＬ_２は各々独立に下記の連結基Ａのうちいずれかを表す。下記連結基Ａにおいて、Ｎ−ＲのＲは水素原子を表す。Ｒ_１及びＲ_２はアルキル基、シクロアルキル基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、又はアシル基を表す。これらの置換基は、前記Ｒ _１ 及びＲ _２ で表される置換基と同じ基から選択される置換基によってさらに置換されていてもよい。Ｒ_３は各々独立に置換基を表す。なお、Ｒ _３ は、一般式（１）の環中に明示されたＨ−の位置に、Ｈ−の置換基として存在し得る。ｎは０から２までの整数を表す。〕
   

   

   

   〔式中、Ｒ_４及びＲ_５はそれぞれ水素原子または置換基を表し、Ｒ_４及びＲ_５は互いに結合して環を形成してもよい。Ｑ _２ は、第１４〜１６属の非金属原子を表す。Ｌ_１、Ｌ_２、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３及びｎはそれぞれ前記一般式（１）におけるＬ_１、Ｌ_２、Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、ｎと同義である。〕
2. 前記一般式（３）におけるＲ_４及びＲ_５で表される置換基が、互いに結合して形成するベンゼン環であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
3. 前記光学フィルムがセルロースエステルを含有することを特徴とする請求項１又は２に記載の光学フィルム。
4. 前記セルロースエステルのアシル基の総置換度が１．５〜３．０の範囲内のセルロースエステルであることを特徴とする請求項３に記載の光学フィルム。
5. 前記光学フィルムがリターデーション制御剤を含むことを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学フィルム。
6. ２３℃、５５％ＲＨの環境下で、測定波長５９０ｎｍの光に対し、下記式（Ｉ）及び（II）で表されるリターデーションＲ_０が４０〜１００ｎｍの範囲内であり、Ｒ_ｔｈが１００〜３００ｎｍの範囲内であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学フィルム。
   式（Ｉ） Ｒ_０＝（ｎ_ｘ−ｎ_ｙ）×ｄ
   式（II） Ｒ_ｔｈ＝｛（ｎ_ｘ＋ｎ_ｙ）／２−ｎ_ｚ｝×ｄ
   〔但し、ｎ_ｘは、光学フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向ｘにおける屈折率を表し、ｎ_ｙは、光学フィルムの面内方向において、前記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表し、ｎ_ｚは、光学フィルムの厚さ方向ｚにおける屈折率を表し、ｄ（ｎｍ）は光学フィルムの厚さを表す。〕
7. 前記光学フィルムの膜厚が２０〜３５μｍの範囲内であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学フィルム。
8. 請求項１〜７のいずれか一項に記載の光学フィルムを偏光子の少なくとも一方の面に有することを特徴とする偏光板。
9. 請求項８に記載の偏光板を液晶セルの少なくとも一方の面に有することを特徴とする液晶表示装置。
10. 前記液晶セルがＶＡ型液晶セルであることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置。