JP6016947B2 - ユニモルフ型超音波探触子およびその製造方法 - Google Patents
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Description
このユニモルフ型探触子は、いわゆるpMUT(圧電マイクロマシン超音波トランスデューサ)とも呼ばれ、シリコン等からなる基板を部分的に加工して形成された振動板上に、下部電極層と圧電体層と上部電極層を順次積層して形成された圧電素子を有している。
このように、従来は、超音波診断への適用を考慮した際に、ユニモルフ型探触子の構造をどのような設計とすればよいのか判明しておらず、これを解決することが要求されていた。
さらに、送信音圧が予め設定された設定値以上となるように、開口の径と圧電体層の厚さの値の組み合わせが選択されることが好ましい。
例えば、開口が40μmの径を有し、圧電体層が1〜5μm、特に2〜3μmの厚さを有する組み合わせ、開口が50μmの径を有し、圧電体層が1〜7μm、特に1〜6μmの厚さを有する組み合わせ、開口が60μmの径を有し、圧電体層が2〜9μm、特に4〜8μmの厚さを有する組み合わせ、開口が70μmの径を有し、圧電体層が4〜10μm、特に5〜9μmの厚さを有する組み合わせ、または、開口が80μmの径を有し、圧電体層が6〜10μm、特に9μmの厚さを有する組み合わせとすることができる。
なお、開口の所定の形状は、円形または正多角形とすることができる。
圧電素子部は、対応する振動板の周縁部を越えないように振動板の表面上に形成されることが好ましい。
それぞれの圧電素子領域において、複数の圧電素子部は、それぞれエレベーション方向に所定のピッチで直線状に配列された複数の列を形成すると共に列毎に所定のピッチの1/2のずれ量を有する細密充填構造を有するように配置することができる。
また、被覆層は、音響整合条件を満たすような厚さを有することが好ましい。
さらに、それぞれの圧電素子領域がエレベーション方向に複数の領域に分割されていない1次元アレイを構成することができる。あるいは、それぞれの圧電素子領域がエレベーション方向に複数の領域に分割された1.5次元アレイまたは2次元アレイを構成することもできる。
図1に、この発明の実施の形態に係るユニモルフ型超音波探触子の構成を示す。
基板1の表面上に、それぞれエレベーション(EL)方向に細長く延び、アジマス(AZ)方向に互いにわずかな間隔を隔てて配列された複数の圧電素子領域2が形成され、それぞれの圧電素子領域2に、複数の微小な圧電素子部が配列形成されている。また、それぞれの圧電素子領域2には、エレベーション方向に、対応する引き出し電極3が接続されている。これらの引き出し電極3は、互いの配列ピッチを確保するために、交互に基板1の一対の側縁1aおよび1bのうちのいずれかに延びている。
そして、すべての圧電素子領域2を覆うように、基板1の上に被覆層4が配置されている。
図3に示されるように、圧電素子領域2に配列形成されている複数の微小な圧電素子部5は、それぞれ、基板1の表面1c上に形成された下部電極層6と、下部電極層6の上に形成された厚さT1の圧電体層7と、圧電体層7の上に形成された上部電極層8とを有している。圧電体層7は、正六角形の平面形状を有し、上部電極層8も圧電体層7と同一の正六角形に形成されている。
すなわち、圧電体層7は、個々の圧電素子部5毎に分離しており、上部電極層8は、同一の圧電素子領域2内で1つに接続されて引き出し電極3に接続され、下部電極層6は、すべての圧電素子領域2のすべての圧電素子部5に対して共通している。
それぞれの開口9は、対応する圧電素子部5の圧電体層7と相似形で且つ圧電体層7と同じか、または、圧電体層7より大きな正六角形の平面形状を有している。すなわち、正六角形の内接円の直径と外接円の直径の平均を正六角形の径と呼ぶこととすると、開口9の径D2は、圧電素子部5の圧電体層7の径D1以上の値を有しており、圧電体層7は、振動板10の周縁部を越えないように振動板10の表面上に形成されている。このような構成とすることにより、振動板10が圧電素子部5において生成される振動に共振しやすくなり、効率よく超音波を送信して音圧を高めることができる。なお、図3に示した探触子では、開口9の径D2が、圧電体層7の径D1より大きく設定されている。
また、被覆層4は、超音波診断の対象となる生体の音響インピーダンスに近い、1.5×106〜4×106kg/m2sの音響インピーダンスを有しているので、生体に対する超音波ビームの透過率の低下を抑制し、高精度の超音波診断画像を得ることが可能となる。
まず、図5(A)に示されるように、単結晶Siからなる厚さ500μm程度のSi基材11の上に絶縁層となる厚さ1〜2μmの熱酸化SiO2膜12を介して厚さ数μmの単結晶Si層13が形成されたSOI基板14を作製する。
次に、図5(B)に示されるように、Si基材11および単結晶Si層13へのPbの拡散防止等を目的として、SOI基板14の両面にそれぞれ厚さ0.3μm程度の熱酸化SiO2膜15および16を形成する。
図5(D)に示されるように、最上層の電極層19の上にレジストを塗布し、硬化させ、UVマスクをかけて露光した後、現像することで、これから作製しようとする圧電素子部5の上部電極層8に対応した上部マスク20を形成する。
その後、図5(G)に示されるように、リムーバで上部マスク20を除去すると共に、最下層の熱酸化SiO2膜15の下面にレジストを塗布し、硬化させ、UVマスクをかけて露光した後、現像することで、これから作製しようとする基板1の開口9に対応した裏面マスク21を形成する。
その後、すべての圧電素子領域2を覆うように、基板1の上に被覆層4をコーティング形成することで、ユニモルフ型超音波探触子の製造を完了する。
そこで、まず、基板1の開口9の径D2と圧電体層7の厚さT1を種々の組み合わせにしながら、それぞれ、振動板10の厚さT2を変化させたときの送信音圧の値を測定した。その結果、開口9の径D2および圧電体層7の厚さT1の値にかかわらず、振動板10の厚さT2が圧電体層7の厚さT1に対して0.8〜1.2の比率を有する場合に、送信音圧は最大となり、比率が0.8を下回っても、あるいは、1.2を上回っても、送信音圧は最大値から低下することがわかった。
開口9の径D2が大きくなるほど、送信音圧のピーク値を示す圧電体層7の厚さT1は大きくなることがわかる。例えば、開口9の径D2=50μmのときの送信音圧は、圧電体層7の厚さT1=4μm程度でピーク値を示し、開口9の径D2=80μmのときの送信音圧は、圧電体層7の厚さT1=9μm程度でピーク値を示す。
また、それぞれの開口9の径D2における送信音圧のピーク値は、開口9の径D2=50μmのときに最大となり、径D2が50μmから小さくなっても、大きくなっても、徐々に低下することがわかる。例えば、開口9の径D2=50μmのときの送信音圧は、規格値500を越えるピークを有し、開口9の径D2=100μmになると、規格値200程度のピークしか得ることができなくなる。
これに対して、送信音圧の規格値が200未満になると、実用可能な超音波画像を得ることが難しくなり、送信音圧の規格値が100以上200未満の場合は、センシング用途であれば実用可能なレベルであって、これを評価Cとし、送信音圧の規格値が100未満の場合は、センシング用途でも実用レベル以下で、これを評価Dとする。
なお、図7では、圧電体層7の厚さT1=1〜9μmに対する送信音圧が示され、圧電体層7の厚さT1=10μmに対する測定点がプロットされていないが、それぞれの開口9の径D2に対する特性曲線から、D2=70μmおよびT1=10μmのときの送信音圧と、D2=80μmおよびT1=10μmのときの送信音圧が、いずれも規格値200を越えることが予想される。このため、D2=70μm、T1=10μmとD2=80μm、T1=10μmの組み合わせも、上記の、実用可能レベル以上の超音波画像の取得が可能な組み合わせの中に組み込まれている。
残留振動の最大ピーク電圧値に対して10%以上の電圧強度となる波数Nを求めたところ、図8(A)に示した有機樹脂R1では、N=16波、図8(B)に示した有機樹脂R2では、N=8波であった。同様に、ショアA硬度57のシリコーン樹脂について波数Nを求めると、N=7波であった。このシリコーン樹脂を含めて、有機樹脂のショアA硬度の値と波数Nとの関係を示すと、図9のグラフのようになる。なお、被覆層4を有しないユニモルフ型探触子が、その構造上、理想的に3波の残留振動を有するため、図9において、ショアA硬度0に対する波数N=3がプロットされている。ショアA硬度が大きな樹脂材料ほど、残留振動の最大ピーク電圧値に対して10%以上の電圧強度となる波数Nが増大する傾向にある。
一方、図8(B)に示した有機樹脂R2のように、残留振動の最大ピーク電圧値に対して10%以上の電圧強度となる波数Nが10波以下となる有機樹脂材料を被覆層4として用いれば、十分に超音波診断を行い得る周波数帯域を設定することができる。このような樹脂材料を図9から読み取ると、ショアA硬度が75以下となる。
このような被覆層4ですべての圧電素子部5を被覆することにより、圧電素子部5を機械的に保護しつつ、超音波診断に適したMHz帯でユニモルフ型超音波探触子を駆動して、高精度の超音波診断を実行することが可能となる。
なお、被覆層4として使用される有機樹脂材料のショアA硬度の下限値は、特に限定されるものではないが、例えば、ショアA硬度20程度以上であれば、十分に圧電素子部5を保護して圧電素子部5の層間で剥離が発生することを防止することができる。
最大感度ピーク値からの−6dB帯域は、4〜18MHz程度をカバーしており、従来の探触子に比べて非常に広い超広帯域を示すことがわかった。
さらに、上記の64チャネルのユニモルフ型超音波探触子を用いて、実際に無反響嚢胞を撮像した超音波画像を図11に示す。探触子の駆動電圧を±50vとし、音響レンズを用いずに深度4cmまで撮像したものである。高精度の鮮明な超音波画像が得られることが実証された。
また、上記の実施の形態に係るユニモルフ型超音波探触子では、複数の圧電素子領域2がアジマス方向に配列された、いわゆる1D(次元)アレイが例示されていたが、この発明は、1Dアレイに限るものではない。例えば、それぞれの圧電素子領域がエレベーション方向にも3〜5程度の複数領域に分割されて深さ方向に超音波ビームを段階的に調整可能な、いわゆる1.5Dアレイ、あるいは、それぞれの圧電素子領域がエレベーション方向にも多数の領域に分割されてアジマス方向にもエレベーション方向にも自在に超音波ビームを振ることができる、いわゆる2Dアレイに対しても、この発明に係るユニモルフ型超音波探触子を適用することができ、さらに、従来型の超音波探触子に比べて、このような1.5Dアレイまたは2Dアレイの作製が容易となる。
Claims (21)
- それぞれエレベーション方向に延びると共にアジマス方向に所定の間隔を隔てて配列された複数の圧電素子領域が形成され且つそれぞれの前記圧電素子領域内にそれぞれ所定の形状を有する複数の開口が形成された基板と、
それぞれの前記圧電素子領域内で前記複数の開口の一端をそれぞれ閉じるように前記基板に形成された複数の振動板と、
それぞれの前記圧電素子領域内で前記複数の振動板の表面上に形成されると共にそれぞれ圧電体層と前記圧電体層の両面に形成された一対の電極層を有する複数の圧電素子部と、
前記複数の圧電素子領域における前記複数の圧電素子部が埋め込まれるように前記基板の表面上に配置され且つ音響インピーダンス1.5×106〜4×106kg/m2s、ショアA硬度75以下の有機樹脂からなる被覆層と、
前記複数の圧電素子領域に対応して前記基板の表面上に配置され且つそれぞれエレベーション方向に延びる複数の引き出し電極と
を備え、
それぞれの前記圧電素子領域内に形成された前記複数の圧電素子部が有する前記一対の電極層のうち一方の電極層が互いに1つに接続されて対応する前記引き出し電極に接続されていることを特徴とするユニモルフ型超音波探触子。 - 前記開口は、40〜80μmの径を有し、
前記圧電体層は、1〜10μmの厚さを有し、
前記圧電体層の厚さと前記振動板の厚さの比率は、1:0.8〜1.2である請求項1に記載のユニモルフ型超音波探触子。 - 送信音圧が予め設定された設定値以上となるように、前記開口の径と前記圧電体層の厚さの値の組み合わせが選択される請求項2に記載のユニモルフ型超音波探触子。
- 前記開口は、40μmの径を有し、前記圧電体層は、1〜5μmの厚さを有する請求項3に記載のユニモルフ型超音波探触子。
- 前記圧電体層は、2〜3μmの厚さを有する請求項4に記載のユニモルフ型超音波探触子。
- 前記開口は、50μmの径を有し、前記圧電体層は、1〜7μmの厚さを有する請求項3に記載のユニモルフ型超音波探触子。
- 前記圧電体層は、1〜6μmの厚さを有する請求項6に記載のユニモルフ型超音波探触子。
- 前記開口は、60μmの径を有し、前記圧電体層は、2〜9μmの厚さを有する請求項3に記載のユニモルフ型超音波探触子。
- 前記圧電体層は、4〜8μmの厚さを有する請求項8に記載のユニモルフ型超音波探触子。
- 前記開口は、70μmの径を有し、前記圧電体層は、4〜10μmの厚さを有する請求項3に記載のユニモルフ型超音波探触子。
- 前記圧電体層は、5〜9μmの厚さを有する請求項10に記載のユニモルフ型超音波探触子。
- 前記開口は、80μmの径を有し、前記圧電体層は、6〜10μmの厚さを有する請求項3に記載のユニモルフ型超音波探触子。
- 前記圧電体層は、9μmの厚さを有する請求項12に記載のユニモルフ型超音波探触子。
- 前記基板は、絶縁層を介してSi基材の上にSi層が形成されたSOI基板であり、
それぞれの前記圧電素子領域において、前記Si基材に、それぞれ前記絶縁層が露出するように前記所定の形状を有する前記複数の開口が形成され、
前記複数の開口に対応した部分の前記Si層および前記絶縁層から前記複数の振動板が形成されている請求項1〜13のいずれか一項に記載のユニモルフ型超音波探触子。 - 前記開口の前記所定の形状は、円形または正多角形である請求項1〜14のいずれか一項に記載のユニモルフ型超音波探触子。
- 前記圧電素子部は、対応する前記振動板の周縁部を越えないように前記振動板の表面上に形成されている請求項1〜15のいずれか一項に記載のユニモルフ型超音波探触子。
- それぞれの前記圧電素子領域において、前記複数の圧電素子部は、それぞれエレベーション方向に所定のピッチで直線状に配列された複数の列を形成すると共に列毎に前記所定のピッチの1/2のずれ量を有する細密充填構造を有するように配置されている請求項1〜16のいずれか一項に記載のユニモルフ型超音波探触子。
- 前記被覆層は、音響整合条件を満たすような厚さを有する請求項1〜17のいずれか一項に記載のユニモルフ型超音波探触子。
- それぞれの前記圧電素子領域がエレベーション方向に複数の領域に分割されていない1次元アレイを構成する請求項1〜18のいずれか一項に記載のユニモルフ型超音波探触子。
- それぞれの前記圧電素子領域がエレベーション方向に複数の領域に分割された1.5次元アレイまたは2次元アレイを構成する請求項1〜18のいずれか一項に記載のユニモルフ型超音波探触子。
- 基板にそれぞれエレベーション方向に延びると共にアジマス方向に所定の間隔を隔てて配列されるように複数の圧電素子領域を形成し、
それぞれの前記圧電素子領域内で前記基板にそれぞれ所定の形状を有する複数の開口と前記複数の開口の一端をそれぞれ閉じる複数の振動板とを形成し、
それぞれの前記圧電素子領域内で前記複数の振動板の表面上にそれぞれ圧電体層と前記圧電体層の両面に形成された一対の電極層を有する複数の圧電素子部を形成し、
前記複数の圧電素子領域に対応して前記基板の表面上にそれぞれエレベーション方向に延びるように複数の引き出し電極を形成し、
それぞれの前記圧電素子領域内に形成された前記複数の圧電素子部が有する前記一対の電極層のうち一方の電極層を互いに1つに接続して対応する前記引き出し電極に接続し、
前記複数の圧電素子領域における前記複数の圧電素子部が埋設されるように前記基板の表面上に音響インピーダンス1.5×106〜4×106kg/m2s、ショアA硬度75以下の有機樹脂からなる被覆層を形成することを特徴とするユニモルフ型超音波探触子の製造方法。
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