JP6015122B2 - プレート型カラム及び温調装置並びにガスクロマトグラフ装置 - Google Patents

Description

本発明は、流体（気体又は液体）を流通させるための流路を有し、該流路に導入した流体中の成分の分離、分析、又は反応等を行うためのプレート型カラム、及び該プレート型カラムの温度調整を行うための温調装置、並びに該温調装置と該プレート型カラムを備えたガスクロマトグラフ装置に関する。

従来、気体試料中の成分の分離・分析を行うための装置としてガスクロマトグラフ装置が広く用いられている。ガスクロマトグラフ用のカラムとしては、ガラス管やステンレス管に固定相を充填して成るパックドカラムや、石英管の内壁に固定相を塗布して成るキャピラリカラムが広く使用されている。これらのカラムは、多くの場合、対流式のオーブンに収容され、徐々に温度が上昇するように加熱される。通常は、試料導入時のカラム温度は低く、徐々に昇温することにより試料中の成分が分離され、最後の成分が分離されるときには200℃〜400℃程度の高温となる。従って、分析が終了し、次の試料をカラムに導入して分析を開始するためには、速やかに高温のカラム及びオーブンを冷却する必要がある。しかし、上記のような対流式のオーブンは熱容量が大きいため、こうした急速な温度調整を行うのは困難である。

こうした問題点を改善するため、近年、金属製やシリコン製の基板内に微細な流路を形成して成るプレート型カラムが開発されている。更に、該プレート型カラムをヒータブロックに押し当てて熱伝導により加熱及び冷却（放熱）することで、急速な昇温及び降温を行うことのできるガスクロマトグラフ装置も提案されている（例えば、非特許文献１を参照）。

アイ・イー・イー・ジェイ トランザクションズ オン エレクトリカル アンド エレクトロニック エンジニアリング（IEEJ Transactions on Electrical and Electronic Engineering）, 2009年5月, 第4巻, 第3号, pp. 358-364

図５に上記の非特許文献１に係るプレート型カラムの構成を示す。なお、説明の便宜上、図中では同文献に係るプレート型カラムを中央で切断した状態を示している。このプレート型カラムの本体９０は円形のガラス基板９１とシリコン基板９２とを貼り合わせて成るものであり、該本体９０の内部には微細な流路９３が渦巻き状に形成されている。該流路９３の入口端９３ａと出口端９３ｂはいずれも本体９０の上面に開口しており、各開口部には合金等から成る配管接続部材９４が取り付けられている。該配管接続部材９４は陽極接合などによってカラム本体９０の上面に直接的に接合されており、各配管接続部材９４にガス導入用の配管又はガス排出用の配管を接続することにより、ガスクロマトグラフ装置のガス流路中にプレート型カラムを介挿することができる。

しかしながら、上記のような構成から成る従来のプレート型カラムでは、カラムの本体９０に取り付けられた配管接続部材９４の影響によりカラム全体の熱容量が不均一となる。そのため、カラムを急速に昇温又は降温しようとすると流路内の温度にむらが生じ、その結果、正確な分析結果が得られなくなるおそれがあった。

本発明は上記のような課題に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、流路を急速に昇温及び降温させることができ、且つ正確な分析等を実現可能なプレート型カラム、及び該プレート型カラムの温度を調整するための温調装置、並びに該プレート型カラムと該温調装置とを備えたガスクロマトグラフ装置を提供することにある。

上記課題を解決するために成された本発明に係るプレート型カラムは、
a) 平板状の本体部と、
b) 前記本体部の周縁から突出した突出部と、
c) 前記本体部及び前記突出部の内部に形成された流体流通用の流路と、
を有し、
前記流路の中間部が前記本体部内に設けられていると共に、該流路の両端部が前記本体部内から前記突出部内へと延出して該突出部の先端にて外部に開放されており、前記本体部及び前記突出部は、前記流路となる溝が形成されている第１の基板と、前記第１の基板に対向配置されている第２の基板とによって構成されていることを特徴としている。

このように、流体流通用の流路の両端を前記突出部の先端において外部に開放する（すなわち流路の入口と出口を突出部の先端に設ける）構成とすることにより、該流路と外部配管との接続をプレート型カラムの本体部から離れた位置で行うことが可能となる。その結果、本体部の熱容量を小さく且つ均一とすることができるため、該本体部を急速に昇温又は降温させた場合でも、該本体部内の流路における温度のむらを抑えることができる。なお、突出部には外部配管と接続するための配管接続部材が取り付けられるため、該突出部の熱容量は不均一となるが、流路の大部分を本体部側に設けたり、突出部側については時定数の長い温度制御を行ったりすることで、該熱容量の不均一性による影響を抑えることができる。

なお、本発明に係るプレート型カラムには、前記突出部を１つだけ設け、前記流路の両端を該１つの突出部内に延出させる構成としてもよいが、１つの本体部に対して突出部を複数設け、前記流路の両端をそれぞれ別の突出部内に延出させる構成とすることが望ましい。このような構成によれば、１つの突出部内に流路の両端を設ける場合に比べて各突出部の幅を狭くすることができるため、本体部と突出部の間の熱伝導を抑えることができる。
また、本発明に係るプレート型カラムは、本体部と突出部を別の部材で構成してもよいが、同一部材上に本体部と突出部を形成し、該部材を切り抜くことにより突出部を形成することが望ましい。このような構成によれば、安価な加工でプレート型カラムを作製することができる。

また、上記課題を解決するためになされた本発明に係る温調装置は、前記プレート型カラムの温度調整を行うための温調装置であって、
a) 前記本体部を温調する第１温調手段と、
b) 前記突出部を温調する第２温調手段と、
c) 前記第１温調部と第２温調部をそれぞれ独立に制御する制御手段と、
を有することを特徴としている。

このような温調装置によれば、前記プレート型カラムの本体部と突出部をそれぞれ独立に温調することが可能となる。これにより、熱容量が比較的均一な本体部については、相対的に時定数の短い温度調整を行い、熱容量が比較的不均一な突出部については、相対的に時定数の長い温度調整を行うといったことが可能となる。

また、上記課題を解決するためになされた本発明に係るガスクロマトグラフ装置は、前記温調装置と、流路内壁にガスクロマト分析用の固定相が担持された前記プレート型カラムを備えていることを特徴としている。

以上説明した通り、本発明に係るプレート型カラム及び温調装置並びにガスクロマトグラフ装置によれば、急速な昇温又は降温を行った場合でも、本体部内の流路の全域をほぼ均一な温度とすることができるため、分析等の結果に影響を及ぼすことなく分析等のスループットを向上させることが可能となる。

本発明の一実施例によるプレート型カラムの概略構成図であって、（ａ）は平面図、（ｂ）は（ａ）のX-X矢視断面図である。 同実施例によるガスクロマトグラフ装置の要部構成を示す模式図。 前記ガスクロマトグラフ装置におけるプレート型カラム周辺の拡大断面図。 突出部の形状の別の例を示す平面図。 従来のプレート型カラムの一例を示す斜視図。

以下、本発明を実施するための形態について実施例を挙げて説明を行う。

図１は本発明の一実施例によるプレート型カラムの構成を示す図である。本実施例に係るプレート型カラム１０は、矩形の本体部１１と、該本体部１１の一辺からそれぞれ突出した、前記本体部１１よりも幅狭の第１突出部１２及び第２突出部１３を備えている。

本体部１１、第１突出部１２、及び第２突出部１３は、厚さ0.3 mmのステンレスから成る二枚の基板（以下、それぞれ上側基板１７、下側基板１８と呼ぶ）を貼り合わせて成るものであり、本体部１１の寸法は、長さ10 cm、幅10 cmである。また、第１突出部１２及び第２突出部１３の寸法は、それぞれ長さ3〜8 cm、幅0.6 cmとなっている。

前記プレート型カラム１０の内部には、幅100〜200 μm、深さ50〜100 μm、長さ7〜8 mの流路１４が設けられており、該流路１４の中間部は本体部１１に形成され、該流路１４の両端部は本体部１１からそれぞれ第１突出部１２及び第２突出部１３へと延出している。第１突出部１２及び第２突出部１３の先端には、それぞれ流体の出入り口となる第１開口１５及び第２開口１６が設けられており、流路１４の両端はこれら第１開口１５及び第２開口１６によって外部空間と連通している。なお、プレート型カラム１０に含まれる流路１４は、その大部分（少なくとも半分以上）が本体部１１の側に存在するようにすることが望ましい。そのため、本実施例では、図１に示す通り、本体部１１中において流路１４を複数回折り返すように形成している。

なお、上記の寸法や材質はあくまで一例であり、本発明はこれに限定されるものではない。例えば、上側基板１７と下側基板１８は、ステンレス以外の金属や、ガラス、シリコン、樹脂など、種々の素材で構成することができる。また、上側基板１７と下側基板１８を互いに異なる素材で構成してもよい。

上記本実施例に係るプレート型カラム１０の製造方法について説明する。まず、下側基板１８の一方の面に流路１４となる溝を形成すると共に、上側基板１７に前記第１開口１５及び第２開口１６となる貫通孔を形成する。そして、これらの基板を前記溝が形成された面が内側となるように対向配置し、前記溝の両端と前記貫通孔の位置を合わせた上で、基板同士を接着剤や蝋付けなどによって接合する。その後、上側基板１７と下側基板１８を二枚同時に打ち抜くことによって上記のような本体部１１、第１突出部１２、及び第２突出部１３を備えた形状に加工する。

なお、以上により製造されたプレート型カラム１０をガスクロマトグラフィー用の分離カラムとして用いるためには、流路１４の表面にガスクロマトグラフィー用の液相（固定相液体）を塗布する必要がある。また、該液相の塗布に際しては、流路表面に存在する吸着サイトの不活性化及び流路表面への液相の濡れ性改善のため、予め流路表面に改質処理を施しておくことが望ましい。具体的には、まずプレート型カラム１０の第１開口１５又は第２開口１６から流路１４内にガラスコート剤を流し込んでコーティングを行い、その後、該流路１４にシランカップリング剤を流し込むことで流路表面の改質を行う。そして、該表面改質後の流路１４に前記液相を流し込むことにより、流路１４の表面に液相を担持させる。

続いて、本発明の一実施例によるガスクロマトグラフ装置について図２、３を参照しつつ説明する。図２は本実施例に係るガスクロマトグラフ装置の概略構成を示す図であり、図３は該ガスクロマトグラフ装置におけるプレート型カラム周辺の拡大断面図である。本実施例に係るガスクロマトグラフ装置は、上記のようなプレート型カラム１０を用いて試料の分析を行うためのものであり、従来のガスクロマトグラフ装置と同様にオーブン２０、試料気化室４０、及び検出部５０を有すると共に、プレート型カラム１０の本体部１１を温調するためのプレート温調部３０を備えている。また、本実施例に係るガスクロマトグラフ装置には更に、上記各部の動作を制御するための分析制御部６０と、分析制御部６０の制御及び検出部５０から出力される検出信号の処理を行うためのパーソナルコンピュータ（図中ではＰＣ）７０が設けられている。

なお、本実施例によるガスクロマトグラフ装置においては、前記のプレート温調部３０が本発明における第１温調手段に相当し、オーブン２０が第２温調手段に相当する。また分析制御部６０が本発明における制御手段に相当する。

プレート温調部３０は、オーブン２０に隣接して設けられており、その内部空間はオーブン２０との隔壁２１に形成された開口部２２によってオーブン２０の内部空間と連通している。前記プレート型カラム１０は、その本体部１１をプレート温調部３０に位置させ、第１突出部１２及び第２突出部１３を前記開口部２２を介してオーブン２０内に突出させた状態で使用される。プレート温調部３０には、セラミックヒータ、マイカヒータ、又はラバーヒータ等から成る２枚の平板状ヒータ３１、３２が対向配置されており、前記プレート型カラムの本体部１１を該２枚の平板状ヒータ３１、３２の間に配置することにより、本体部１１が加熱される。また、プレート温調部３０の内壁面は断熱材３３で被覆されており、該プレート温調部３０のプレート型カラム１０の上面と接する位置には本体部１１の温度を測定するための第１温度センサ３４が配置されている。なお、ここでは本体部１１の上下に２枚の平板状ヒータ３１、３２を配置する構成としたが、平板状ヒータは、本体部１１の上面側又は下面側に１枚だけ設けるようにしてもよい。

オーブン２０はガスクロマトグラフ装置で一般的に用いられている対流式のオーブンであり、その内部空間にはオーブン内の空気を加熱するヒータ２３と、加熱された空気を撹拌するファン２４が設けられると共に、オーブン２０内の温度を測定するための第２温度センサ２５が配設されている。このオーブン２０には、上述の通りプレート型カラム１０の第１突出部１２及び第２突出部１３が収容されると共に、試料気化室４０から導入された気化試料及びキャリアガスを該プレート型カラム１０へと送るための第１配管２６と、プレート型カラム１０から流出した試料成分を検出部５０へと送るための第２配管２７が収容される。

プレート型カラム１０の第１突出部１２及び第２突出部１３の先端には、前記第１配管２６及び第２配管２７とプレート型カラム１０の第１開口１５及び第２開口１６をそれぞれ接続するための配管接続部材８１が取り付けられる。配管接続部材８１は接着剤や蝋付けなどによってプレート型カラム１０の表面に直接的に接合するようにしてもよいが、プレート型カラム１０に対して着脱自在に取り付けられる構成とすることが望ましい。これにより、プレート型カラム１０の第１突出部１２及び第２突出部１３をプレート温調部３０の側から前記隔壁２１に設けられた開口部２２を介してオーブン２０側に差し入れた後に、配管接続部材８１を第１突出部１２及び第２突出部１３に取り付けることが可能となる。その結果、前記開口部２２の高さ方向の寸法を小さくすることが可能となり、プレート温調部３０とオーブン２０の間の熱の移動を抑えることができる。

配管接続部材８１を着脱自在とする場合の構成例を図３に示す。この例では、ブロック状の部材（接続ブロック８４と呼ぶ）上に配管接続部材８１を設け、該接続ブロック８４を介して配管接続部材８１をプレート型カラム１０の第１突出部１２又は第２突出部１３に取り付ける構成となっている。接続ブロック８４は上側ブロック８２と下側ブロック８３の２つの部材から成り、上側ブロック８２の上部に配管接続部材８１が取り付けられている。上側ブロック８２の中央部には貫通孔から成る流路８２ａが形成されており、該流路８２ａの上端は配管接続部材８１の中心部に設けられた貫通孔８１ａと連通している。該接続ブロック８４をプレート型カラム１０に取り付ける際には、まず、プレート型カラム１０の第１開口１５及び第２開口１６の周囲にそれぞれ金属等から成るガスケット８５を配置し、その上で、第１突出部１２の先端部又は第２突出部１３の先端部を上下から挟むようにして上側ブロック８２と下側ブロック８３を配置し、所定の締結機構（図示略）によって上側ブロック８２と下側ブロック８３を互いに近接する方向に締結する。これにより、ガスケット８５が潰されてプレート型カラム１０内の流路１４と上側ブロック８２内に設けられた流路８２ａとが気密に接続される。

上記のプレート温調部３０内に設けられた第１温度センサ３４及びオーブン２０内に設けられた第２温度センサ２５によって検知された温度の情報は、それぞれ分析制御部６０へと送られる。分析制御部６０は、パーソナルコンピュータ７０の指示の下に、ガスクロマトグラフ装置を構成する各部の動作を制御するものである。該分析制御部６０が、前記の温度情報に基づいてプレート温調部３０内の平板状ヒータ３１、３２並びにオーブン２０内のヒータ２３及びファン２４を制御することにより、プレート温調部３０の温度とオーブン２０の温度とがそれぞれパーソナルコンピュータ７０から指示された温度となるように調整される。

パーソナルコンピュータ７０には、ユーザが各種の指示を与えたり分析条件を設定したりするための入力部７１と、設定された分析条件や分析の遂行状態、又は分析結果などを表示するための表示部７２とが接続されており、パーソナルコンピュータ７０にインストールされた専用の制御・処理ソフトウェアを実行することにより、各種の制御や処理が実行される。

本実施例によるガスクロマトグラフ装置では、試料に含まれる成分の種類等に応じて、分析の全期間に亘って温度を一定に維持する恒温分析、又は、分析の途中で温度を上昇させながら分析を行う昇温分析のいずれかが行われる。その際、いずれの分析においても、パーソナルコンピュータ７０において予め設定された温度プロファイルに従ってプレート温調部３０とオーブン２０の温度制御が実行される。

恒温分析を行う場合には、分析制御部６０は、第１温度センサ３４の検出値及び第２温度センサ２５の検出値が、それぞれ前記温度プロファイルで指定された一定の値となるようにプレート温調部３０内の平板状ヒータ３１、３２並びにオーブン２０内のヒータ２３及びファン２４を制御する。一方、昇温分析を行う場合には、分析制御部６０は、第２温度センサ２５の検出値が前記温度プロファイルで指定された一定の値となるようにオーブン２０内のヒータ２３及びファン２４を制御しつつ、第１温度センサ３４の検出値が前記温度プロファイルに従って徐々に上昇するようにプレート温調部３０内の平板状ヒータ３１、３２を制御する。なお、試料中の高沸点成分が液化するのを防ぐため、前記オーブン２０の設定温度はプレート温調部３０の最高到達温度よりも（例えば5〜10℃）高くなるようにする。

以下、本実施例のガスクロマトグラフ装置において昇温分析を行う場合の手順について詳しく説明する。まず、所定量の試料溶液が試料気化室４０内に注入されると、気化した試料はキャリアガス流に乗って第１配管２６に送り込まれ、配管接続部材８１を通過して第１開口１５からプレート型カラム１０内の流路１４に流入する。このとき、オーブン２０は試料中の各成分の沸点よりも高温（例えば410℃）に維持されているため、気化試料中の各成分は、第１配管２６や第１突出部１２内の流路１４に吸着されることなく本体部１１内に到達する。一方、プレート温調部３０は、分析開始時点では比較的低温（例えば50〜100℃程度）に調整されているため、前記気化試料は本体部１１に流入した時点で一旦流路１４内にトラップされ、濃縮される。その後、プレート温調部３０が徐々に昇温されると低沸点成分から順に流路１４を通過していき、本体部１１内、及び第２突出部１３内を通過して第２開口１６から第２配管２７へと流出する。そして、プレート温調部３０が設定された最高温度（例えば400℃）に到達するまでに試料中の全成分がプレート型カラム１０から流出し、第２配管２７を通過して検出部５０で検出される。なお、このときもオーブン２０は上記と同じ高温に維持されているため、最も高沸点の成分が本体部１１内を通過した際も、該成分は第２突出部１３内の流路１４や第２配管２７に吸着されることなく検出部５０に到達する。

以上の通り、本実施例によるガスクロマトグラフ装置によれば、プレート型カラム１０内の流路１４と外部配管（すなわち第１配管２６及び第２配管２７）とを連結するための配管接続部材８１を、流路１４の大部分が収容された本体部１１から離れた位置に取り付けることが可能となる。これにより、プレート型カラム１０の本体部１１の熱容量が小さく且つ均一となるため、本体部１１を急速に昇温又は降温させた場合にも、流路１４のほぼ全域を均一な温度とすることができる。これにより、分析結果に影響を及ぼすことなく分析のスループットを向上させることが可能となる。また、配管接続部材８１をプレート温調部３０の外に配置することができるため、プレート温調部３０の厚みを小さくすることができるという効果もある。その結果、プレート温調部３０の熱容量が小さくなるため、従来よりも急速な昇温・降温が可能となると共に、カラムの温調に要する消費電力を抑えることができる。

なお、第１突出部１２及び第２突出部１３には配管接続部材８１が取り付けられるため、これらの突出部１２、１３については熱容量が大きく、且つ不均一となる。しかしながら、この部分はオーブン２０側で温調され、本体部１１に比べて時定数の長い温度調整が行われるため、この点は殆ど問題とはならない。

また、第１突出部１２及び第２突出部１３が幅狭に形成されているため、これらの突出部１２、１３と本体部１１の間の熱伝導を抑えることができる。そのため、本体部１１と第１突出部１２及び第２突出部１３が異なる温度に調整されている場合でも、互いへの影響を抑えることができる。

以上、本発明を実施するための形態について実施例を挙げて説明を行ったが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨の範囲で適宜変更が許容されるものである。例えば、上記の例では、プレート型カラム１０の本体部１１から２つの突出部（第１突出部１２及び第２突出部１３）を延出させ、各突出部１２、１３内に流路１４の入口側の端部と出口側の端部をそれぞれ形成する構成としたが、突出部を一つのみとし、該一つの突出部内に流路の出口側の端部と入口側の端部の両方を形成するようにしてもよい。

また、図１の例では、第１突出部１２及び第２突出部１３を、その基部から先端に亘ってほぼ一定の幅を有するものとしたが、これに限らず、図４に示すように先端付近の幅を相対的に広く、それ以外の部分の幅を相対的に狭くするようにしてもよい。この場合、先端側については、配管接続部材を取付可能な幅（例えば0.6 cm以上）を確保する必要があるが、それ以外の部分については本体部１１との間の熱伝導を抑える観点から、内部に流路１４を形成可能な範囲でできるだけ幅狭（例えば0.6 mm程度）とすることが望ましい。

また、上記の例では本体部と突出部を一体に形成したが、これらは別の部材で構成することもできる。こうした構成としては、例えば、本体部を平板状の部材で、突出部を管状の部材で構成すると共に、本体内部に形成した流路の両端を本体部の側面に開口させ、該開口に前記管状の突出部を接合させた構成が考えられる。このように、本体部と突出部を別部材とすることにより、例えば、本体部を金属等の熱伝導率が比較的高い材質で形成し、突出部を石英のような熱伝導率が比較的低い材質で形成するといったことが可能となる。一方で、本体部と突出部を一体に形成した場合は、打ち抜き加工やワイヤカット等の安価な加工により突出部を形成できるため、結合工程が必要な別部材形成に比べ、安価に作製可能である。

更に、上記の例では、突出部を本体部と同一の平面上に沿って延出させる構成としたが、これに限らず、突出部を該平面と交差する方向に延出させるようにしてもよい。

なお、本発明に係るプレート型カラムは、上記実施例のようなガスクロマトグラフ分析用のプレート型カラムとするほか、基板内部に形成した流路の中で流体を反応させるいわゆるマイクロリアクターや、基板内部の流路を通過する流体を所定の検出手段を用いて検出するためのフローセルなど、基板内部の流路に流体を流通させ、該流体中の成分の分離、分析、又は反応を行う器具全般に適用することができる。同様に、本発明に係る温調装置は、ガスクロマトグラフ装置におけるプレート型カラムの温調に適用するほか、前記のような各種の器具の温度調整に適用することができる。

１０…プレート型カラム
１１…本体部
１２…第１突出部
１３…第２突出部
１４…流路
１５…第１開口
１６…第２開口
１７…上側基板
１８…下側基板
２０…オーブン
２３…ヒータ
２４…ファン
２５…第２温度センサ
２６…第１配管
２７…第２配管
３０…プレート温調部
３１、３２…平板状ヒータ
３３…断熱材
３４…第１温度センサ
４０…試料気化室
５０…検出部
６０…分析制御部
７０…パーソナルコンピュータ
８１…配管接続部材
８４…接続ブロック

Claims (7)

1. a) 平板状の本体部と、
   b) 前記本体部の周縁から突出した突出部と、
   c) 前記本体部及び前記突出部の内部に形成された流体流通用の流路と、
   を有し、
   前記突出部が前記本体部に対して複数設けられており、
   前記流路の中間部が前記本体部内に設けられていると共に、該流路の両端部が前記本体部内からそれぞれ別の突出部内へと延出し該突出部の先端にて外部に開放されており、前記本体部及び前記複数の突出部は、前記流路となる溝が形成されている第１の基板と、前記第１の基板に対向配置されている第２の基板とによって構成されていることを特徴とするプレート型カラム。
2. 請求項１に記載のプレート型カラムであって、前記流路内壁にガスクロマト分析用の固定相が担持されていることを特徴とするプレート型カラム。
3. a) 平板状の本体部と、
   b) 前記本体部の周縁から突出した突出部と、
   c) 前記本体部及び前記突出部の内部に形成された流体流通用の流路と、
   を有し、
   前記流路の中間部が前記本体部内に設けられていると共に、該流路の両端部が前記本体部内から前記突出部内へと延出し該突出部の先端にて外部に開放されており、前記本体部及び前記突出部は、前記流路となる溝が形成されている第１の基板と、前記第１の基板に対向配置されている第２の基板とによって構成されているプレート型カラムと、
   d) 前記本体部を温調する第１温調手段と、
   e) 前記突出部を温調する第２温調手段と、
   f) 前記第１温調手段と第２温調手段をそれぞれ独立に制御する制御手段と、
   を有する温調装置と、
   を備えることを特徴とするガスクロマトグラフ装置。
4. 前記プレート型カラムは、前記突出部が前記本体部に対して複数設けられており、前記流路の両端がそれぞれ別の突出部内に延出していることを特徴とする請求項３に記載のガスクロマトグラフ装置。
5. 前記プレート型カラムは、前記流路内壁にガスクロマト分析用の固定相が担持されていることを特徴とする請求項３又は４に記載のガスクロマトグラフ装置。
6. 平板状の本体部と、前記本体部の周縁から突出した突出部と、前記本体部及び前記突出部の内部に形成された流体流通用の流路とを有し、前記流路の中間部が前記本体部内に設けられていると共に、該流路の両端部が前記本体部内から前記突出部内へと延出し該突出部の先端にて外部に開放されていることにより、前記本体部と前記突出部が、それぞれ独立に温度調整可能なプレート型カラムと、
   前記本体部を温調する第１温調手段と、前記突出部を温調する第２温調手段と、前記第１温調手段と第２温調手段をそれぞれ独立に制御する制御手段と、を有する温調装置とを備えることを特徴とするガスクロマトグラフ装置。
7. 請求項３〜６のいずれかに記載のガスクロマトグラフ装置であって、
   前記第１温調手段が、前記本体部の片面側又は両面側に配置される平板状ヒータを備えたプレート温調部であり、
   前記第２温調手段が、前記突出部が収容される内部空間を有するオーブンであることを特徴とするガスクロマトグラフ装置。

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