JP6049055B2 - 紫外線硬化型樹脂組成物、硬化物及び物品 - Google Patents
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Description
(1)2以上の光学基材が紫外線硬化型樹脂組成物によって接着されている光学部材において、前記2以上の光学基材の接着に用いられ、エネルギー線を照射して固定化させる液状樹脂接着剤であって、キシレン化合物とホルムアルデヒドを反応して得られるノボラック化合物(A)、(メタ)アクリレート化合物(B)及び光重合開始剤(C)を含有することを特徴とする紫外線硬化型樹脂組成物。
(2)2以上の光学基材が紫外線硬化型樹脂組成物によって接着されている光学部材において、前記2以上の光学基材の接着に用いられ、エネルギー線を照射して固定化させる液状樹脂接着剤であって、下記式(1)
(式中、Xは繰り返し単位ごとにそれぞれ独立して−(CH2O)nCH2−であり、nは0〜10の整数を示す。繰り返し構造においてXは同一でも異なっても良い。Yはそれぞれ独立して水素原子、−CH2OH、−(CH2O)lCH3、−CH2OOCH3であり、lは0〜10の整数を示す。mは0〜10の整数を示す。)
で表されるノボラック化合物(A)、(メタ)アクリレート化合物(B)及び光重合開始剤(C)を含有することを特徴とする紫外線硬化型樹脂組成物。
(3)(メタ)アクリレート化合物(B)が、(メタ)アクリロイル基を1個又は2個有する(メタ)アクリレート化合物であることを特徴とする(1)または(2)に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
(4)(メタ)アクリレート化合物(B)が、ラウリル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、アクリロイルモルホリン、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、ポリプロピレンオキサイド変性ノニルフェニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、2−デシルテトラデカニル(メタ)アクリレート、ポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、アルキレンオキサイド変性ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレートの群から選ばれる1種以上からなることを特徴とする(1)〜(3)のいずれか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
(5)組成物全体に対して、一般式(1)で示される構造を有する化合物(A)が5〜95重量%、(メタ)アクリレート化合物(B)が5〜95重量%及び光重合開始剤(C)が0.2〜5重量%含有する(4)に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
(6)硬化収縮率が3.0%以下である(1)〜(5)のいずれか1項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
(7)1MHzの誘電率が5.0以下である(1)〜(6)のいずれか一項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
(8)(1)ないし(6)のいずれか1項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して得られる硬化物。
(9)(1)ないし(5)のいずれか1項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物を用いてなることを特徴とするタッチパネル。
(10)
下記第一工程、第二工程、第三工程を経由することで製造されるタッチパネルに使用する(1)に記載の紫外線硬化型樹脂組成物。
(第一工程)光学基材に紫外線硬化型樹脂組成物を塗布して、少なくとも2つ以上の光学基材を貼り合わせる工程。
(第二工程)貼り合わせた光学基材に対して、照射量10〜2000mJ/cm2で紫外線を照射することで仮硬化を行う工程。
(第三工程)第2工程後、欠陥がない場合には照射量100〜3000mJ/cm2で紫外線を照射し、欠陥がある場合には、光学基材から樹脂硬化物層をアルコールの溶剤で除去する工程。
(式中、Xは繰り返し単位ごとにそれぞれ独立して−(CH2O)nCH2−であり、nは0〜10の整数を示す。繰り返し構造においてXは同一でも異なっても良い。Yはそれぞれ独立して水素基、−CH2OH、−(CH2O)lCH3、−CH2OOCH3であり、lは0〜10の整数を示す。mは0〜10の整数を示す。)
この反応で使用しうるキシレン化合物としては、o−キシレン、m−キシレン、p−キシレンが挙げられ、これらは単独で用いても、2種以上併用してもよい。
ここで、キシレン化合物としては、m−キシレンが好ましい。
また、一般式(1)で示される構造を有するノボラック化合物(A)の含有量が(メタ)アクリレート化合物(B)との比率(重量比)において、A/Bの比率が1.0〜10.0の場合において、極めて柔軟性に優れ、硬化性にも優れた光硬化型樹脂組成物とすることができる。A/Bの比率(重量比)は1.0〜9.0が好ましく、1.1〜8.5が特に好ましい。A/Bの比率は大きくなるほど硬化に影響する架橋成分が少なくなるが、(B)を適宜選択することにより、硬化性良好で柔軟性のある硬化物を得ることができる。
一方、ガラスへの密着性を向上させる観点からは、水酸基を有する炭素数1〜5のアルキル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリンが好ましく、アクリロイルモルホリンが特に好ましい。
本発明においては、併用する場合は、硬化収縮を抑えるために、1又は2官能の(メタ)アクリレートを使用することが好ましい。
透明性の観点から、イソホロンジイソシアネートまたはトリレンジイソシアネートが好ましい。
上記ポリイソプレン、ポリブタジエン骨格を有する(メタ)アクリレートオリゴマーとして、好適には(a)イソプレン重合体、ブタジエン重合体またはこれらの共重合体をまず合成し、次にこれらの重合体に不飽和酸無水物を反応させ、その後に得られたポリマー中の一部または全部に、ヒドロキシ(メタ)アクリレート化合物を反応させることにより得られるオリゴマー、または(b)水酸基末端イソプレン重合体、水酸基末端ブタジエン重合体またはこれらの共重合体に不飽和カルボン酸またはその誘導体を反応させて得られるオリゴマーを使用することができる。
なお、これらの重合反応は、ヘキサン、ヘプタン、トルエン、キシレン等の溶媒の存在下に−100℃〜200℃で0.5〜100時間反応させて行うことができる。
酸無水物の使用量は、通常、重合体100重量部に対して0.1〜200重量部の範囲であるのが好ましく、0.1〜100重量部の範囲内であることがより好ましい。
前記重合体に対しての酸無水物基の反応による付加は、上記の条件で反応させることにより、通常、1分子あたりの付加数が1〜30個の範囲であり、2〜20個の範囲であることが好ましい。
反応は、ヘキサン、ヘプタン等の溶媒または無溶媒で通常、ヒドロキシ(メタ)アクリレート化合物をその水酸基が好ましくは1〜1.5当量となるように混合し、20〜200℃で0.1〜100時間反応させて得ることができる。
反応は、ヘキサン、ヘプタン等の溶媒または無溶媒で通常、不飽和カルボン酸またはその誘導体を20〜200℃で0.1〜100時間反応させて得ることができる。
ここで、透明性を向上させるために2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドのみを光重合開始剤として使用する場合、好適な本発明の光硬化型透明接着剤組成物中における重量割合は通常0.3〜1.0重量%であり、0.3〜0.8が特に好ましい。
オキセタン化合物の具体例としては、例えば、4−ビス[(3−エチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、4−ビス[(3−メチル−3−オキセタニルメトキシ)メチル]ベンゼン、3−メチル−3−グリシジルオキセタン、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−メチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、ジ(1−エチル(3−オキセタニル))メチルエーテル、3−エチル−3−(フェノキシメチル)オキセタン、3−(シクロヘキシルオキシ)メチル−3−エチルオキセタン、キシリレンビスオキセタン、フェノールノボラックオキセタン等が挙げられるが、通常用いられるオキセタン化合物であればこれらに限定されるものではない。これらは単独で用いてもよく、2種以上を用いてもよい。
本発明の紫外線硬化型樹脂組成物においては、これらエポキシ(メタ)アクリレートは、1種または2種以上を任意の割合で混合して使用することができる。使用する場合、エポキシ(メタ)アクリレートの本発明の光硬化型透明接着剤組成物中における重量割合は通常5〜90重量%、好ましくは10〜85重量%である。
成分(A)以外の柔軟化成分の光硬化型透明接着剤組成物中における重量割合は、通常3〜70重量%、好ましく3〜50重量%である。
特に好ましい製造方法としては、高温で連続的にラジカル重合を行って製造することが好ましい。具体的には、以下のプロセスによって製造するものである。まず、アクリル系又はメタクリル系モノマーに対して微量の重合開始剤と微量の溶剤を混合させる。そして、150℃以上の温度において、10分以上高圧下で反応させる。その後、分離機で未反応成分と反応して得られた(メタ)アクリルポリマーに分離して、得ることができる。
ここで、重合開始剤が混入していると、保存安定性に劣る恐れがあるため、溶剤を留去しながら反応を行うか、(メタ)アクリルポリマーを分離して得た後に溶剤を留去することが好ましい。
また、ガラス等の基材が薄い場合には、硬化収縮率が大きい場合には硬化時の反りが大きくなるころから、表示性能に大きな悪影響を及ぼすため、当該観点からも、硬化収縮率は少ない方が好ましい。
本発明の紫外線硬化型樹脂組成物においては、硬化物の1MHzでの誘電率が5.0以下であることが好ましく3.0以下であることが特に好ましい。誘電率が5.0を超える場合には、タッチパネル用に使用した際に応答性が良くなりすぎ、タッチパネルをタッチした際に、その周辺箇所まで感知する可能性が増え、結果的に感度不良を引き起こす恐れがあるためである。
また、硬化物の400〜450nmでの透過率が高いと視認性の向上が一層期待できることから、400〜450nmでの透過率が90%以上であることが好ましい。
通常、リワークするために、張り合わされた基材を加熱した後、ワイヤーを用いて接着剤層を切り進むことによって基材と接着剤層の剥離を行う。その際に剥離を容易にするために溶剤を使用するが、本発明においては、組成物の成分が剥離性に優れるため、溶剤としてイソプロピルアルコール等のアルコール類を使用しても容易に剥離を行うことができる。
次に、こうして得られた光学部材において、光学基材と樹脂硬化物層との間に気泡が介在する等といった、貼り合わせにより生じる欠陥が検出されるか否かを検査する。
検査の際に欠陥の有無を判断し、欠陥がある場合には上記剥離方法により、樹脂硬化物層を光学基材から除去することとなる。
仮硬化においては、樹脂硬化物層の全面に紫外線を照射しても構わないし、樹脂硬化物層の数箇所を集中的に照射させる方法を採用しても構わない。
本工程においての照射量は通常100〜3000mJ/cm2であり、1000〜2000mJ/cm2が好ましく、特に好ましくは、50〜500mJ/cm2程度である。
ここで、本発明の樹脂組成物においては、組成物の成分が剥離性に優れるため、仮硬化後においても、溶剤としてイソプロピルアルコール等のアルコール類を使用して容易に剥離を行うことができる。
透明板の材質としては、様々な材料が使用できるが、具体的には、PET、PC、PMMA、PCとPMMAの複合体、ガラス、COC、COP、プラスチック(アクリル樹脂等)、偏光板、レンズ、プリズム、TAC、ITOガラス等を使用することができる。
ここで、シートとしては、アイコンシート、化粧シート、保護シートが挙げられ、板としては化粧板、保護板が挙げられる。そして、シートないし板の材質としては、透明板の材質として列挙したものが適用できる。また、タッチパネル面の材質としては、ガラス、PET、PC、PMMA、PCとPMMAの複合体、COC、COPが挙げられる。
当該屈折率の範囲内であれば、透明板として使用される基材との屈折率の差を低減させることができ、光の乱反射を抑えて光損失を低減させることが可能となる。
ニカノールY−50:メタキシレンとホルムアルデヒドとの反応物(数平均分子量250)、フドー(株)社製
ニカノールY−1000:メタキシレンとホルムアルデヒドとの反応物(数平均分子量330)、フドー(株)社製
ニカノールLLL:メタキシレンとホルムアルデヒドとの反応物(数平均分子量340)、フドー(株)社製
ニカノールLL:メタキシレンとホルムアルデヒドとの反応物(数平均分子量365)、フドー(株)社製
ニカノールL:メタキシレンとホルムアルデヒドとの反応物(数平均分子量400)、フドー(株)社製
UA−1:ポリプロピレングリコール(数平均分子量3000)、イソホロンジイソシアネート、2−ヒドロキシエチルアクリレートの3成分をモル比1:1.3:2の反応物。
FA−512AS:ジシクロペンテニルオキシエチルアクリレート、日立化成工業(株)社製
S−1800A:イソステアリルアクリレート、新中村化学工業(株)社製
AP−400:ポリプロピレングリコールモノアクリレート、日油(株)社製
4−HBA:4−ヒドロキシブチルアクリレート、大阪有機化学工業(株)社製
FA−P2100A:ポリプロピレングリコール(数平均分子量1000)のアクリレート、日立化成工業(株)社製
FA−P2200A:ポリプロピレングリコール(数平均分子量2000)のアクリレート、日立化成工業(株)社製
FA−P2400A:ポリプロピレングリコール(数平均分子量4000)のアクリレート、日立化成工業(株)社製
スピードキュアTPO:2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、LAMBSON社製
Polyip:水酸基末端液状ポリイソプレン(数平均分子量2500)、出光興産(株)社製
BR−1022:アクリルポリマー
ユニセーフPKA−5017:ポリエチレングリコール−ポリプロピレングリコールアリルブチルエーテル(数平均分子量2500)、日油(株)社製
○・・・完全に硬化していた
△・・・半硬化状態
×・・・未硬化
硬化収縮率(%)=(DS−DL)÷DS×100
◎・・・2.0%未満
○・・・2.0%以上、3.0%未満
×・・・3.0%以上
○・・・剥がれなし
×・・・剥がれあり
◎・・・10未満
○・・・10以上、20未満
×・・・20以上
◎・・・400〜800nmの透過率90%以上かつ400〜450nmの透過率が90%以上
○・・・400〜800nmの透過率90%以上かつ400〜450nmの透過率が88〜90%以上
×・・・400〜800nmの透過率90%未満
◎・・・誘電率3.0未満
○・・・誘電率3.0以上〜5.0未満
×・・・誘電率5.0以上
◎・・・付着した樹脂を完全に取り除くことができた。
○・・・繰り返し拭き取ることにより取り除くことができた。
×・・・付着した樹脂を取り除くことができなかった。
Claims (9)
- 2以上の光学基材が紫外線硬化型樹脂組成物によって接着されている光学部材において、前記2以上の光学基材の接着に用いられ、エネルギー線を照射して固定化させる液状樹脂接着剤であって、キシレン化合物とホルムアルデヒドを反応して得られる下記式(1’)で表される化合物(A)、(メタ)アクリレート化合物(B)及び光重合開始剤(C)を含有することを特徴とするタッチパネル用紫外線硬化型樹脂組成物。
(式中、Xは繰り返し単位ごとにそれぞれ独立して−(CH2O)nCH2−であり、nは0〜10の整数を示す。繰り返し構造においてXは同一でも異なっても良い。mは0〜9の整数を示す。) - (メタ)アクリレート化合物(B)が、(メタ)アクリロイル基を1個又は2個有する(メタ)アクリレート化合物であることを特徴とする請求項1に記載のタッチパネル用紫外線硬化型樹脂組成物。
- (メタ)アクリレート化合物(B)が、ラウリル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシルカルビトールアクリレート、アクリロイルモルホリン、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、ポリプロピレンオキサイド変性ノニルフェニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、2−デシルテトラデカニル(メタ)アクリレート、ポリアルキレングリコール(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、アルキレンオキサイド変性ビスフェノールA型ジ(メタ)アクリレートの群から選ばれる1種以上からなることを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれか一項に記載のタッチパネル用紫外線硬化型樹脂組成物。
- 組成物全体に対して、一般式(1)で示される構造を有する化合物(A)が5〜95重量%、(メタ)アクリレート化合物(B)が5〜95重量%及び光重合開始剤(C)が0.2〜5重量%含有する請求項3に記載のタッチパネル用紫外線硬化型樹脂組成物。
- 硬化収縮率が3.0%以下である請求項1〜4のいずれか1項に記載のタッチパネル用紫外線硬化型樹脂組成物。
- 1MHzの誘電率が5.0以下である請求項1〜5のいずれか一項に記載のタッチパネル用紫外線硬化型樹脂組成物。
- 請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して得られる硬化物。
- 請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の紫外線硬化型樹脂組成物を用いてなることを特徴とするタッチパネル。
- 下記第一工程、第二工程、第三工程を経由することで製造されるタッチパネルに使用する請求項1に記載のタッチパネル用紫外線硬化型樹脂組成物。
(第一工程)光学基材に紫外線硬化型樹脂組成物を塗布して、少なくとも2つ以上の光学基材を貼り合わせる工程。
(第二工程)貼り合わせた光学基材に対して、照射量10〜2000mJ/cm2で紫外線を照射することで仮硬化を行う工程。
(第三工程)第2工程後、欠陥がない場合には照射量100〜3000mJ/cm2で紫外線を照射し、欠陥がある場合には、光学基材から樹脂硬化物層をアルコールの溶剤で除去する工程。
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