JP5992375B2 - 静電チャック、載置プレート支持台及び静電チャックの製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、第1の実施形態にかかる静電チャックの構成を模式的に示す断面図である。図2は、図1に示す静電チャックのうち、外縁を含む一部を拡大して示す図である。なお、以下に示す図面においては、各部材の縮尺が実際とは異なる場合がある。各図面間においても同様である。
図5は、第2の実施形態にかかる静電チャックの一部構成を模式的に示す断面図である。第1の実施形態と同一の部分には同一の符号を付し、重複する説明を適宜省略する。
図7は、第3の実施形態にかかる静電チャックの一部構成を模式的に示す断面図である。第1の実施形態と同一の部分には同一の符号を付し、重複する説明を適宜省略する。
第4の実施形態では、第2の実施形態にかかる静電チャック20の製造方法の一例を説明する。図11は、第4の実施形態にかかる静電チャックの製造方法を示す図である。ここでは、第2の層21とセラミックプレート3とを接着する手順を例とする。
図14は、第5の実施形態にかかる静電チャックの一部構成を模式的に示す断面図である。第1及び第2の実施形態と同一の部分には同一の符号を付し、重複する説明を適宜省略する。
図15は、第6の実施形態にかかる静電チャックの一部構成を模式的に示す断面図である。第1及び第2の実施形態と同一の部分には同一の符号を付し、重複する説明を適宜省略する。
図16は、第7の実施形態にかかる静電チャックの一部構成を模式的に示す断面図である。第1の実施形態と同一の部分には同一の符号を付し、重複する説明を適宜省略する。
Claims (5)
- ワークが載置される載置プレートと、
前記載置プレートを介して前記ワークへ熱を供給するヒータを含む第1の層と、
前記載置プレートと前記第1の層との間に設けられ、前記ヒータからの熱を前記載置プレートへ伝える第2の層と、を有し、
前記第2の層は、外縁の部分に形成された圧着部を含み、
前記圧着部は、金属部材を用いて構成され、
前記圧着部のうち前記載置プレート側の界面は、前記載置プレートに圧着され、前記圧着部のうち前記第1の層側の界面は、前記第1の層に圧着されていることを特徴とする静電チャック。 - 前記第2の層は、金属板を含み、
前記圧着部は、前記金属板の一部であることを特徴とする請求項1に記載の静電チャック。 - 前記第2の層は、前記金属板及び前記載置プレートを接着する第1接着部と、前記金属板及び前記第1の層を接着する第2接着部と、を含み、
前記第2の層のうち前記載置プレート側の面は、前記金属板と前記第1接着部とからなり、
前記第2の層のうち前記第1の層側の面は、前記金属板と前記第2接着部とからなることを特徴とする請求項2に記載の静電チャック。 - ワークが載置される載置プレートを備える静電チャックのうち、前記載置プレートを支持する載置プレート支持台であって、
前記載置プレートを介して前記ワークへ熱を供給するヒータを含む第1の層と、
前記第1の層の上に設けられた第2の層と、を有し、
前記第2の層は、外縁の部分に形成された圧着部を含み、
前記圧着部は、金属部材を用いて構成され、
前記圧着部のうち前記第1の層側の界面は、前記第1の層に圧着され、かつ前記圧着部のうち前記第1の層側とは反対側の界面は、前記第2の層の上に取り付けられる前記載置プレートとの圧着面とされることを特徴とする載置プレート支持台。 - ヒータを含む第1の層に、第2の層を接着し、
ワークが載置される載置プレートを、前記第2の層のうち前記第1の層が接着される面とは反対側の面に接着することを含み、
前記第2の層は、外縁の部分のうち、前記第1の層に当接される部分と、前記載置プレートに当接される部分とをいずれも凸部として、前記第2の層のうち前記外縁以外の部分よりも前記外縁の部分に厚みを持たせて用意され、
前記第1の層に前記第2の層、前記第2の層に前記載置プレートをそれぞれ接着するときに、前記凸部を前記第1の層に押し付けて変形させることで、前記第2の層の前記外縁の部分を前記第1の層に圧着させ、かつ前記凸部を前記載置プレートに押し付けて変形させることで、前記第2の層の前記外縁の部分を前記載置プレートに圧着させることを特徴とする静電チャックの製造方法。
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| US10685862B2 (en) * | 2016-01-22 | 2020-06-16 | Applied Materials, Inc. | Controlling the RF amplitude of an edge ring of a capacitively coupled plasma process device |
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| US11371148B2 (en) * | 2020-08-24 | 2022-06-28 | Applied Materials, Inc. | Fabricating a recursive flow gas distribution stack using multiple layers |
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| JP2003168725A (ja) * | 2001-11-30 | 2003-06-13 | Kyocera Corp | ウエハ支持部材及びその製造方法 |
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