JP5633067B2 - フラン誘導体及びその製造方法 - Google Patents
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Description
そのような2,5−ジアリールフラン類の従来の製造法としては、ポリリン酸やp−トルエンスルホン酸等の酸触媒存在下で1,4−位にアリール基を有する1,4−ジケトン類の環化反応を行うKnorr法(非特許文献1、5、6)、パラジウム触媒存在下で2,5−ジスタニルフランとハロゲン化アリールとのクロスカップリング(Stilleカップリング反応)を行う方法(非特許文献2)、パラジウム触媒存在下で2,5−ジブロモフランとアリールグリニャール試薬(ヘテロアリールグリニャール試薬)とのクロスカップリングを行う方法(非特許文献7)、パラジウム触媒存在下で1,4−位にアリール基を有する2−ブテン−1,4−ジオン(又は2−ブチン−1,4−ジオン)をギ酸、硫酸と反応させて還元・環化反応を行う方法(非特許文献8)、ルテニウム触媒存在下でアリールアセチレンをメタノールと反応させて得られる1,4−ジアリール−1−メトキシ−1,3−ジエンをp−トルエンスルホン酸、塩化第二銅及び水で処理して加水分解・環化を行う方法(非特許文献9)等が知られていた。
しかしながら、この報告では、通常加熱による150℃、24時間の反応における主生成物は、収率25%で得られる5員環ラクトンの4,4−ビス(4−メトキシフェニル)−2−メチル−4−ブテノリドであり、少量副生成物として得られる2,5−ビス(4−メトキシフェニル)−3−メチルフランの収率は4%にすぎないことから、工業的に十分な製造方法とはいえなかった。
〈1〉下記一般式(I)
RH (I)
(式中、Rは1価の炭化水素環又は複素環の芳香族有機基を示し、環上の水素原子の一部が反応に関与しない基で置換されていても差し支えない。)
で表される芳香族化合物と、下記一般式(IIA)
で表されるコハク酸無水物又は
R’O2C(CH2)2CO2R’ (IIB)
(式中、R’は水素原子又はアルキル基であり、カルボニル基の隣の2個の炭素原子上のそれぞれ2個の水素原子のうちの一つが反応に関与しない基で置換されていても差し支えない。)
で表されるコハク酸又はそのジエステル化合物を、マイクロ波照射下、酸触媒存在下で反応させることを特徴とする下記一般式(III)
で表される2,5−ジアリールフラン類の製造方法。
〈2〉前記の酸触媒として固体酸触媒を用いることを特徴とする〈1〉に記載の製造方法。
〈3〉前記の固体酸触媒として、ゼオライト、モンモリロナイト又はヘテロポリ酸を用いることを特徴とする〈2〉に記載の製造方法。
〈4〉前記のゼオライトとして、ベータ型、Y型、モルデナイト型又はZSM−5型のゼオライトを使用することを特徴とする〈3〉に記載の製造方法。
〈5〉前記のゼオライトとして、シリカ/アルミナ比が2〜600のものを使用することを特徴とする〈3〉又は〈4〉に記載の製造方法。
〈6〉下記一般式(I)
RH (I)
(式中、Rは1価の炭化水素環又は複素環の芳香族有機基を示し、環上の水素原子の一部が反応に関与しない基で置換されていても差し支えない。)
で表される芳香族化合物と、下記一般式(IIA)
で表されるコハク酸無水物又は
R’O2C(CH2)2CO2R’ (IIB)
(式中、R’は水素原子又はアルキル基であり、カルボニル基の隣の2個の炭素原子上のそれぞれ2個の水素原子のうちの一つが反応に関与しない基で置換されていても差し支えない。)
で表されるコハク酸又はそのジエステル化合物を、酸触媒存在下で反応させて、下記一般式(III)
で表される2,5−ジアリールフラン類を製造方法であって、
前記の酸触媒として、ベータ型ゼオライト(シリカ/アルミナ比が2〜600)を用いて、マイクロ波照射を行わずに反応を行うことを特徴とする2,5−ジアリールフラン類の製造方法。
〈7〉下記一般式(IV)で表されるフラン誘導体。
本発明の製造方法は、芳香族化合物とコハク酸誘導体を酸触媒存在下で反応させることを特徴とする。
本反応は、コハク酸誘導体が無水コハク酸又はコハク酸である場合、脱水を伴って進行し、コハク酸ジエステルである場合には、脱アルコールと脱水を伴って進行する。無水コハク酸又はコハク酸を原料とした場合に推定される反応経路を下記に示す。
RH (I)
(式中、Rは1価の炭化水素環又は複素環の芳香族性有機基を示し、環上の水素原子の一部が反応に関与しない基で置換されていても差し支えない。)
で表される炭化水素環又は複素環のものである。
したがって、それら炭化水素環の芳香族化合物の具体例としては、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、フェナントレン、ピレン、ペリレン、ペンタセン等が挙げられる。
したがって、それらの基を有する化合物の具体例としては、トルエン、アニソール、エトキシベンゼン(フェネトール)、ブトキシベンゼン、ヘキシルオキシベンゼン、2−メチルアニソール、2,6−ジメチルアニソール、1,2−ジメトキシベンゼン、2,3−ジヒドロベンゾフラン、1,3−ベンゾジオキソール、1,4−ベンゾジオキサン等が挙げられる。
したがって、それら複素環の芳香族化合物の具体例としては、チオフェン、ベンゾチオフェン、ジベンゾチオフェン、フラン、ベンゾフラン、ジベンゾフラン、N−メチルピロール等が挙げられる。
R’O2C(CH2)2CO2R’ (IIB)
(式中、R’は水素原子又はアルキル基であり、カルボニル基の隣の2個の炭素原子上のそれぞれ2個の水素原子のうちの一つが反応に関与しない基で置換されていても差し支えない。)
で表されるコハク酸又はそのジエステル化合物である。
また、一般式(IIA)及び(IIB)においては、カルボニル基の隣の2個の炭素原子上のそれぞれ2個の水素原子のうちの一つが反応に関与しない基で置換されていてもよい。それらの基の具体例としては、メチル基、イソプロピル基、ヘキシル基、デシル基、テトラデシル基等のようなアルキル基、ヘキセニル基、オクテニル基、ドデセニル基のようなアルケニル基、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシルオキシ基のようなアルコキシ基の他に、2つの炭素原子を結合させる2価の基である、テトラメチレン基、オキシエチレン基、オキシエチレンオキシ基等を挙げることができる。
したがって、それらの基を有する化合物の具体例としては、一般式(IIA)で表されるものとしては、無水コハク酸、2−メチルコハク酸無水物、2−エチルコハク酸無水物、2,3−ジメチルコハク酸無水物、2−(1−ドデセニル)コハク酸無水物、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸無水物、4−メチルシクロヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物、5−ノルボルネン−2,3−ジカルボン酸無水物等が挙げられ、一般式(IIB)で表されるものとしては、コハク酸、2−メチルコハク酸、2,3−ジメチルコハク酸、コハク酸ジメチル、コハク酸ジエチル等が挙げられる。
それらの具体例としては、金属塩、金属酸化物等の無機物、有機物等、各種酸性化合物が挙げられ、無機物をより具体的に示せば、金属塩(アルミニウム、鉄等の塩化物、臭化物等)や、プロトン性水素原子あるいは金属カチオン(アルミニウム、チタン、ガリウム、鉄、セリウム、スカンジウム等)を有する、ゼオライト、モンモリロナイト、シリカ、ヘテロポリ酸等の無機系固体酸が挙げられる。
また、有機物をより具体的に示せば、スルホ基を有するナフィオン(Nafion、登録商標、デュポン社より入手可能)、ダウエックス(Dowex、登録商標、ダウ・ケミカル社より入手可能)、アンバーライト(Amberlite、登録商標、ローム&ハス社より入手可能)等の酸性ポリマーや他の有機系固体酸が挙げられる。さらに、シリカ等にナフィオン等の有機系酸性化合物を担持した触媒(たとえば、Nafion SAC−13等)を用いることもできる。
これらゼオライトにおいては、プロトン性水素原子を有するブレンステッド酸型のものや金属カチオンを有するルイス酸型のものなど、各種のゼオライトを使用できる。この中で、プロトン性水素原子を有するプロトン型のものは、H−ベータ型、H−Y型、H−モルデナイト型、H−ZSM−5型等で表される。また、アンモニウム型のものである、NH4−ベータ型、NH4−Y型、NH4−モルデナイト型、NH4−ZSM−5型等のゼオライトを焼成して、プロトン型に変換したものも使用することができる。
さらに、ゼオライトのシリカ/アルミナ比については、反応条件に応じて各種の比を選択できるが、好ましくは2〜600であり、より好ましくは3〜500、さらに好ましくは3〜400である。
原料に対する触媒量は任意に決めることができるが、重量比では、通常は0.0001〜100程度で、好ましくは0.001〜70程度、さらに好ましくは0.001〜50程度である。
反応温度は、20℃以上、好ましくは20〜350℃、より好ましくは、20〜300℃である。さらに、反応圧力は、通常0.1〜100気圧で、好ましくは0.1〜80気圧、より好ましくは0.1〜60気圧である。
反応時間は、反応温度、触媒量、反応装置の形態等に依存するが、1〜240分、好ましくは1〜180分、より好ましくは1〜120分程度である。
また、原料の芳香族化合物よりも反応性の低い芳香族化合物を溶媒とすることもできる。たとえば、アニソールを原料とする場合には、トルエン、キシレン等を溶媒として使用できる。
一方、本反応を気相で行う場合には、窒素等の不活性ガスを混合して反応を行うこともできる。
これらのアルコキシ構造を有するフラン誘導体は、制ガン作用を示すジアリールフランと類似した構造を有し、制ガン剤等としての利用を期待できる。
(実施例1)
アニソール(Ia) 20mmol、無水コハク酸(IIAa) 0.2mmol、H−ベータ型ゼオライト CP811C(ゼオリスト社製) 100mg、活性炭 40mgの混合物を反応管に入れ、放射温度計を備えたマイクロ波照射装置(CEM社製 Discover LabMate、シングルモード型)を用いて、攪拌しながら200℃で30分反応させた。生成物をガスクロマトグラフ及びガスクロマトグラフ質量分析計で分析した結果、2,5−ビス(4−メトキシフェニル)フラン(IIIa)が74.8%の収率で生成したことがわかった(表1参照)。
反応条件(原料の種類と量、触媒、添加物、溶媒、反応装置、温度、時間等)を変えて、実施例1と同様に反応及び分析を行い、生成物の収率を測定した結果を表1に示す。
アニソール(Ia) 28mmol、無水コハク酸(IIAa) 0.40mmol、H−ベータ型ゼオライト CP811C(ゼオリスト社製) 200mg、1,2−ジクロロベンゼン 1mLの混合物を反応管に入れ、放射温度計を備えたマイクロ波照射装置(Biotage社製 Initiator、シングルモード型)を用いて、攪拌しながら200℃で30分反応させた。遠心分離器で固体を上澄み液と分離し、アセトン(2mL、1回)及びトルエン(4mL、2回)で固体を洗浄した。上澄み液と洗浄液を合わせて減圧下で濃縮し、得られた固体をヘキサンで洗浄した結果、2,5−ビス(4−メトキシフェニル)フラン(IIIa)を0.26mmol(収率65%)得ることができた。
エトキシベンゼン(Ib) 20mmol、無水コハク酸(IIAa) 0.20mmol、H−ベータ型ゼオライト CP811C(ゼオリスト社製) 100mgの混合物を反応管に入れ、放射温度計を備えたマイクロ波照射装置(CEM社製 Discover、シングルモード型)を用いて、攪拌しながら220℃で30分反応させた。遠心分離器で固体を上澄み液と分離し、アセトン及びトルエン(各1.5mL)で固体を洗浄した。同じ反応と後処理をさらに4回繰り返し、すべての上澄み液と洗浄液を合わせて減圧下で濃縮し、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、トルエン/ヘキサン=2/1)による精製を行った結果、2,5−ビス(4−エトキシフェニル)フラン(IIIb)を0.48mmol(収率48%)得ることができた。
2−メチルアニソール(Ic) 12.5mmol、無水コハク酸(IIAa) 0.50mmol、H−ベータ型ゼオライト CP811C(ゼオリスト社製) 200mg、1,2−ジクロロベンゼン 2mLの混合物を用いて、反応温度を250℃とする他は実施例87と同様に反応と後処理を行い、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、トルエン/ヘキサン=2/3)による精製を行った結果、2,5−ビス(4−メトキシ−3−メチルフェニル)フラン(IIIc)を0.21mmol(収率42%)得ることができた。
Mp: 144-146℃.
1H-NMR (CDCl3): δ 2.27 (s, 6H, CH3), 3.85 (s, 6H, OCH3), 6.55 (s, 2H, フラン環H), 6.84 (d, J = 8.4 Hz, 2H, 芳香環H), 7.49-7.52 (m, 2H, 芳香環H), 7.52-7.55 (m, 2H, 芳香環H).
13C-NMR (CDCl3): δ 16.3, 55.4, 105.4, 110.1, 122.3, 123.7, 126.2, 126.9, 152.9, 157.2.
IR (KBr): ν 1610, 1493, 1463, 1440, 1277, 1249, 1173, 1136, 1029, 884, 819, 785 cm-1.
GC-MS (EI, 70eV): m/z (相対強度) 308 (M+, 88), 293 (100), 278 (17), 154 (18), 115 (16).
2,3−ジヒドロベンゾフラン(Id) 7.5mmol、無水コハク酸(IIAa) 0.50mmol、H−ベータ型ゼオライト CP811C(ゼオリスト社製) 200mg、1,2−ジクロロベンゼン 2mLの混合物を用いて、反応温度を230℃とする他は実施例87と同様に反応と後処理を行い、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、トルエン/ヘキサン=3/1)による精製を行った結果、2,5−ビス(2,3−ジヒドロベンゾフラン−5−イル)フラン(IIId)を0.23mmol(収率46%)得ることができた。
Mp: 177-179℃.
1H-NMR (CDCl3): δ 3.25 (t, J = 8.8 Hz, 4H, OCCH2), 4.60 (t, J = 8.8 Hz, 4H, OCH2), 6.52 (s, 2H, フラン環H), 6.81 (d, J = 8.1 Hz, 2H, 芳香環H), 7.49 (dd, J = 8.1, 1.8 Hz, 2H, 芳香環H), 7.56 (d, J = 1.8 Hz, 2H, 芳香環H).
13C-NMR (CDCl3): δ 29.7, 71.4, 105.2, 109.4, 120.5, 123.9, 124.1, 127.5, 153.0, 159.5.
IR (KBr): ν 1613, 1487, 1439, 1281, 1229, 1107, 980, 945, 891, 795, 680 cm-1.
GC-MS (EI, 70eV): m/z (相対強度) 304 (M+, 100), 157 (8), 152 (12), 147 (9), 128 (9), 91 (9).
1,4−ベンゾジオキサン(Ie) 10mmol、無水コハク酸(IIAa) 0.50mmol、H−ベータ型ゼオライト CP811C(ゼオリスト社製) 200mg、1,2−ジクロロベンゼン 2mLの混合物を用いて、反応温度を230℃とする他は実施例87と同様に反応と後処理を行い、カラムクロマトグラフィー(シリカゲル、トルエン)による精製を行った結果、2,5−ビス(1,4−ベンゾジオキサン−6−イル)フラン(IIIe)を0.21mmol(収率42%)得ることができた。
Mp: 105-106℃.
1H-NMR (CDCl3): δ 4.29 (s, 8H, OCH2), 6.55 (s, 2H, フラン環H), 6.88 (d, J = 8.4 Hz, 2H, 芳香環H), 7.20 (dd, J = 8.4, 2.0 Hz, 2H, 芳香環H), 7.23 (d, J = 2.0 Hz, 2H, 芳香環H).
13C-NMR (CDCl3): δ 64.4, 64.5, 106.0, 112.6, 117.2, 117.6, 124.8, 143.0, 143.7, 152.5.
IR (KBr): ν 1587, 1498, 1459, 1312, 1281, 1244, 1223, 1127, 1064, 892, 867, 852, 815, 790 cm-1.
GC-MS (EI, 70eV): m/z (相対強度) 336 (M+, 100), 280 (69), 226 (10), 224 (20), 168 (19), 140 (11), 139 (16), 63 (12).
これらの値は実施例1及び実施例6で得られた74.8%及び44.4%よりは低いものの、マイクロ波照射を行わない通常加熱法でも(IIIa)が得られることを示している。
Claims (7)
- 下記一般式(I)
RH (I)
(式中、Rは1価の炭化水素環又は複素環の芳香族有機基を示し、環上の水素原子の一部が反応に関与しない基で置換されていても差し支えない。)
で表される芳香族化合物と、下記一般式(IIA)
(式中、カルボニル基の隣の2個の炭素原子上のそれぞれ2個の水素原子のうちの一つが反応に関与しない基で置換されていても差し支えない。)
で表されるコハク酸無水物又は
R’O2C(CH2)2CO2R’ (IIB)
(式中、R’は水素原子又はアルキル基であり、カルボニル基の隣の2個の炭素原子上のそれぞれ2個の水素原子のうちの一つが反応に関与しない基で置換されていても差し支えない。)
で表されるコハク酸又はそのジエステル化合物を、マイクロ波照射下、酸触媒存在下で反応させることを特徴とする下記一般式(III)
(式中、Rは前記と同じ意味である。また、炭素上の水素原子の一部が反応に関与しない基で置換されていても差し支えない。)
で表される2,5−ジアリールフラン類の製造方法。 - 前記の酸触媒として固体酸触媒を用いることを特徴とする請求項1に記載の製造方法。
- 前記の固体酸触媒として、ゼオライト、モンモリロナイト又はヘテロポリ酸を用いることを特徴とする請求項2に記載の製造方法。
- 前記のゼオライトとして、ベータ型、Y型、モルデナイト型又はZSM−5型のゼオライトを使用することを特徴とする請求項3に記載の製造方法。
- 前記のゼオライトとして、シリカ/アルミナ比が2〜600のものを使用することを特徴とする請求項3又は請求項4に記載の製造方法。
- 下記一般式(I)
RH (I)
(式中、Rは1価の炭化水素環又は複素環の芳香族有機基を示し、環上の水素原子の一部が反応に関与しない基で置換されていても差し支えない。)
で表される芳香族化合物と、下記一般式(IIA)
(式中、カルボニル基の隣の2個の炭素原子上のそれぞれ2個の水素原子のうちの一つが反応に関与しない基で置換されていても差し支えない。)
で表されるコハク酸無水物又は
R’O2C(CH2)2CO2R’ (IIB)
(式中、R’は水素原子又はアルキル基であり、カルボニル基の隣の2個の炭素原子上のそれぞれ2個の水素原子のうちの一つが反応に関与しない基で置換されていても差し支えない。)
で表されるコハク酸又はそのジエステル化合物を、酸触媒存在下で反応させて、下記一般式(III)
(式中、Rは前記と同じ意味である。また、炭素上の水素原子の一部が反応に関与しない基で置換されていても差し支えない。)
で表される2,5−ジアリールフラン類を製造方法であって、
前記の酸触媒として、ベータ型ゼオライト(シリカ/アルミナ比が2〜600)を用いて、マイクロ波照射を行わずに反応を行うことを特徴とする2,5−ジアリールフラン類の製造方法。
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