JP5534067B1 - 電子部品、および電子部品冷却方法 - Google Patents
電子部品、および電子部品冷却方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5534067B1 JP5534067B1 JP2013044255A JP2013044255A JP5534067B1 JP 5534067 B1 JP5534067 B1 JP 5534067B1 JP 2013044255 A JP2013044255 A JP 2013044255A JP 2013044255 A JP2013044255 A JP 2013044255A JP 5534067 B1 JP5534067 B1 JP 5534067B1
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- electronic component
- heat
- cooling channel
- cooling
- cooling medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/46—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids
- H01L23/473—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements involving the transfer of heat by flowing fluids by flowing liquids
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/34—Arrangements for cooling, heating, ventilating or temperature compensation ; Temperature sensing arrangements
- H01L23/36—Selection of materials, or shaping, to facilitate cooling or heating, e.g. heatsinks
- H01L23/367—Cooling facilitated by shape of device
- H01L23/3677—Wire-like or pin-like cooling fins or heat sinks
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10D, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10D, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/065—Assemblies consisting of a plurality of semiconductor or other solid state devices all the devices being of a type provided for in a single subclass of subclasses H10B, H10D, H10F, H10H, H10K or H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H10D89/00
- H01L25/0657—Stacked arrangements of devices
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D62/00—Semiconductor bodies, or regions thereof, of devices having potential barriers
- H10D62/10—Shapes, relative sizes or dispositions of the regions of the semiconductor bodies; Shapes of the semiconductor bodies
- H10D62/117—Shapes of semiconductor bodies
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16135—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/16145—Disposition the bump connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/10—Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L2224/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
- H01L2224/161—Disposition
- H01L2224/16151—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/16221—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/16225—Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73201—Location after the connecting process on the same surface
- H01L2224/73203—Bump and layer connectors
- H01L2224/73204—Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06513—Bump or bump-like direct electrical connections between devices, e.g. flip-chip connection, solder bumps
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06527—Special adaptation of electrical connections, e.g. rewiring, engineering changes, pressure contacts, layout
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06541—Conductive via connections through the device, e.g. vertical interconnects, through silicon via [TSV]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06555—Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06555—Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking
- H01L2225/06558—Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking the devices having passive surfaces facing each other, i.e. in a back-to-back arrangement
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06555—Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking
- H01L2225/06565—Geometry of the stack, e.g. form of the devices, geometry to facilitate stacking the devices having the same size and there being no auxiliary carrier between the devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same main group of the same subclass of class H10
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06589—Thermal management, e.g. cooling
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/498—Leads, i.e. metallisations or lead-frames on insulating substrates, e.g. chip carriers
- H01L23/49827—Via connections through the substrates, e.g. pins going through the substrate, coaxial cables
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/10—Bump connectors ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/15—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
- H01L24/16—Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L24/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/0002—Not covered by any one of groups H01L24/00, H01L24/00 and H01L2224/00
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/1015—Shape
- H01L2924/10155—Shape being other than a cuboid
- H01L2924/10157—Shape being other than a cuboid at the active surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/10—Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/1015—Shape
- H01L2924/10155—Shape being other than a cuboid
- H01L2924/10158—Shape being other than a cuboid at the passive surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
- H01L2924/15311—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
- Cooling Or The Like Of Electrical Apparatus (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
Abstract
【課題】電子部品が内部で発生する熱を効果的に放熱して、冷却効果を引き出すことができる電子部品を提供する。
【解決手段】基体と、基体に形成され、冷却媒体を第1の方向から第2の方向に通過させる冷却チャネルと、基体よりも熱伝導率が高い材料を用いて冷却チャネルの表面に形成され、または冷却チャネルに突出するように形成され、冷却媒体に接触する放熱体とを備える。
【選択図】 図6
【解決手段】基体と、基体に形成され、冷却媒体を第1の方向から第2の方向に通過させる冷却チャネルと、基体よりも熱伝導率が高い材料を用いて冷却チャネルの表面に形成され、または冷却チャネルに突出するように形成され、冷却媒体に接触する放熱体とを備える。
【選択図】 図6
Description
本発明は、電子部品が内部で発生する熱を効果的に放熱して、冷却効果を引き出すことができる電子部品、および電子部品冷却方法に関する。
半導体デバイスの微細化(スケーリング)は、集積密度が18〜24ケ月ごとに倍となるというムーアの法則に示される傾向で進展してきた。これまで、ムーアの法則にしたがって、微細化による高集積化、高性能化、高機能化とコストダウンが実現されてきた。しかし、現在、技術的にも経済的にもムーアの法則にしたがうことには限界がきている。
近年、このムーアの法則を超える動きが始まっている。この動きは、MtM(More Than Moore)とも呼ばれ、半導体デバイスの微細化だけでなく、電子部品として高集積化、高密度実装化を図るものである。その有効技術は、TSV(シリコン貫通ビア、Through Silicon Via)を用いた3次元積層技術とSiP(System in Package)技術である。
この動きによって、半導体デバイスを含む電子部品の小型化、高集積化、高密度実装化が促進されている。一方、この動きによって、電子部品の熱密度は増加している。そのため、これまで以上に効率の良い電子部品の冷却が必要となっている。
特許文献1には、2つの半導体基板の間に連続キャビティを含む誘電体層を備えた半導体構造体が開示されている。特許文献1の技術は、誘電体層に設けた連続キャビティを冷却チャネルとして冷却媒体を流動させて冷却する技術である。
特許文献2には、半導体デバイスまたは電子部品(以降、半導体デバイスと電子部品を区別せず、単に「電子部品」という。)を実装したインターポーザ(変換基板、Interposer)に、冷却媒体の入出口を設けたカバーをかぶせる実装構造が開示されている。特許文献2の技術は、インターポーザとカバーでできた内部空間に冷却媒体を流動させてインターポーザに実装された電子部品の表面を冷却する技術である。
特許文献1の技術の連続キャビティは、熱伝導体としてシリコンが主体となる冷却チャネルであるため、銅などの金属と比較して熱伝導率が低く、冷却媒体への熱放散が十分に期待できない。
特許文献2の技術は、インターポーザとカバーの間に生じた内部空間に冷却媒体を流動させて電子部品の表面を冷却する技術であるため、電子部品の内部で発生する熱を十分に放熱することは期待できない。
したがって、特許文献1および2の技術では、電子部品の小型化、高集積化、高密度実装化に起因する熱密度の増加に伴う、内部の発熱を冷却する効果を十分に期待できないという問題がある。すなわち、特許文献1、2の技術では、電子部品が内部で発生する熱を、冷却媒体に十分に伝達できないという課題がある。
本発明の目的は、上記の課題に鑑みてなされたもので、電子部品が内部で発生する熱を効果的に放熱して、冷却効果を引き出すことができる電子部品および電子部品冷却方法を提供することにある。
本発明にかかる電子部品は、基体と、基体に形成され、冷却媒体を第1の方向から第2の方向に通過させる冷却チャネルと、基体よりも熱伝導率が高い材料を用いて冷却チャネルの表面に形成され、または冷却チャネルに突出するように形成され、冷却媒体に接触する放熱体とを備えることを特徴とする。
本発明の電子部品冷却方法は、電子部品の基体に形成された冷却チャネルに、基体よりも熱伝導率が高い材料を用いて形成された放熱体、または冷却チャネルに突出するように形成された放熱体に冷却媒体が接触するように、冷却媒体を冷却チャネルの第1の方向から第2の方向に通過させることを特徴とする。
本発明によれば、電子部品が内部で発生する熱を効果的に放熱して、冷却効果を引き出すことができる。
以下に、本発明の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態について説明する。図1は、本発明の第1の実施形態の電子部品1の断面図である。
(第1の実施形態)
本発明の第1の実施形態について説明する。図1は、本発明の第1の実施形態の電子部品1の断面図である。
図1を参照して、電子部品1の構成について説明する。電子部品1は、半導体基板10と半導体基板20を備える。半導体基板10は、トランジスタなどの素子が形成された素子層11と配線層12と接続バンプ13を備える。半導体基板20は、配線層21を備える。
さらに、半導体基板10は、エッチング等で形成された凹形状の空間である溝と、凹形状の底部に形成され、銅メッキ等のメッキが施された突出部を備える。本実施形態では、凹形状の底部に形成された突出部を「放熱体」と呼び、放熱体を備えた凹形状の空間を「冷却チャネル」と呼ぶ。
半導体基板20も、半導体基板10と同様に、エッチング等で形成された凹形状の空間(冷却チャンネル)と、凹形状の底部に形成され、メッキが施された突出部(放熱体)を備える。
電子部品1は、半導体基板10と半導体基板20にそれぞれ形成された凹形状の空間を向い合せにして、接合部30で直接、接合された構造をもつ。この接合によって、電子部品1の接合部30には、放熱体2を備えた冷却チャネル3が形成される。
電子部品1では、TSV(シリコン貫通ビア:Through Silicon Via、図示せず)技術によって半導体基板10と半導体基板20とが電気的に接続されている。
電子部品1は、半導体基板10の素子層11と配線層12と、半導体基板20の配線層21と接合部30を主な熱源として発熱する。電子部品1の内部の熱源で発生する熱は、放熱体2および冷却チャネル3の内壁に熱伝導で伝えられる。
電子部品1の冷却チャネル3は、冷却媒体を通過させることができる。例えば、冷却チャネル3は、紙面に垂直方向で、表面から裏面へ通過させることができる構造を備える。電子部品1は、冷却チャネル3に冷却媒体を流動させることで、電子部品1の内部で発生する熱を、放熱体2と、放熱体2を備える冷却チャネル3の内壁から冷却チャネル3を流動する冷却媒体に伝えて効率よく放熱することができる。
したがって、本実施形態では、電子部品の内部で発生する熱を効果的に放熱して、冷却効果を引き出すことができる。
なお、本実施形態では、冷却チャネルに備えられた放熱体は銅メッキされたものであると説明したが、放熱体のメッキ材料は銅に限定されない。例えば、放熱体のメッキ材料は、アルミニウムでもよい。また、放熱体はメッキ材料で形成されてもよい。すなわち、放熱体に用いられるメッキ材料は、銅やアルミニウムなど、半導体素材、例えばシリコンやゲルマニウムなどより熱伝導率が高く、冷却チャネルの底部に突出して形成できるものであれば適用できる。
また、本実施形態では、冷却チャネルが備える放熱体の形状を突出部として説明したが、放熱体の形状は、プレート状であってもよいし、フィン形状や剣山状であってもよい。すなわち、本発明の放熱体は、冷却チャネルに設けられ、冷却チャネルを通過する冷却媒体を遮らず、放熱体として冷却媒体に接触して放熱できるものであればよく、放熱体の形状は限定されない。
また、本実施形態では、冷却チャネルが備える放熱体を4つとして図示して説明したが、放熱体の個数は限定されない。例えば、放熱体の個数は、4つ以下であってもよいし、5つ以上でもよい。また、冷却チャネルの上下に備えられる放熱体の個数は異なってもよい。すなわち、放熱体は、冷却チャネルの上側又は下側に設けられて、放熱体として冷却媒体に放熱できるものであればよく、冷却チャネルの上に備えられる放熱体の個数及び下に備えられる放熱体の個数は限定されない。
本実施形態では、冷却チャネルとして形成された凹形状の空間として説明したが、冷却チャネルの断面形状は限定されない。例えば、冷却チャネルの断面は、長方形で例示されているが、半円形状であってもよい。すなわち、冷却チャネルは、放熱体を備えて、冷却媒体を流動することができる流入口と流出口を備えていれば、冷却チャネルの断面形状は限定されない。
本実施形態では、冷却チャネルを2つ図示して説明したが、2つには限定されない。例えば、1つでもよいし、3つ以上でもよい。また、冷却チャネルの構造は、2つの冷却チャネルの流入口と、1つの流出口を備える構造でもよい。すなわち、冷却チャネルは、冷却チャネルを冷却媒体が流動できればよく、冷却チャネルの個数や流入口、流出口の個数は限定されない。
本実施形態では、電子部品1を、半導体基板10と半導体基板20を接合部30で直接接合され、TSVを介して電気的に接続された電子部品として説明したが、半導体基板10と半導体基板20は電気的に接続されていなくてもよい。例えば、半導体基板10の配線層12と半導体基板20の配線層21は電気的に接続されていなくてもよい。また、半導体基板20は、配線層21が形成されていなくてもよい。
半導体基板10は、接続バンプ13を備えると説明したが、リード端子やリードレス端子を備えていてもよい。あるいは、電子部品1は、外部と、光や電波を含む電磁的手段で接続されるものでもよい。
電子部品1の主な熱源として半導体基板10の素子層11が想定されるが、素子層11、配線層12を備えず、電子部品1の内部の他の部分が熱源であってもよい。
すなわち、電子部品1は、熱源の発生する熱を受けて熱伝導し、放熱体と放熱体を備えた冷却チャネルに伝え、冷却チャネルを流動する冷却媒体に放熱できればよく、電子部品の電気的接続構造や電気的素子構造は限定されない。
本実施形態では、電子部品1を、半導体基板10と半導体基板20を接合部30で直接接合して冷却チャネルを形成すると説明したが、冷却チャネルの構造は半導体基板を2枚接合することには限定されない。例えば、冷却チャネルは、半導体基板1枚でも形成される。図6に、本発明の最小構成の実施形態を例示し、第2の実施形態として後述する。
図2は、第1の実施形態の積層電子部品の断面図である。図2を参照して、積層電子部品40の構成について説明する。
積層電子部品40は、図1で説明した電子部品1が積層された電子部品である。具体的には、積層電子部品40には、接続バンプ51と配線層(図示せず)を備えたインターポーザ50と、インターポーザ50に電気的に接続された電子部品1a、1bと1cが積層されている。
すなわち、インターポーザ50と電子部品1a、電子部品1aと電子部品1b、電子部品1bと電子部品1cとは、それぞれが備える接続端子(図示せず)と接続バンプ12とTSV(図示せず)によって電気的に接続される。インターポーザ50と各電子部品の間の隙間は、アンダーフィル52が充填されている。
積層電子部品40は、放熱体2を備えた冷却チャネル3を備えた電子部品1を積層した構造を備える。積層電子部品40は、積層された電子部品1の冷却チャネル3に冷却媒体を流動させることで、積層電子部品40の内部で発生する熱を、放熱体2を備えた冷却チャネル3を流動する冷却媒体に伝え、効率よく放熱することができる。
したがって、積層電子部品は、積層された電子部品の内部で発生する熱を効果的に放熱して、冷却効果を引き出すことができる。
なお、本実施形態では、積層電子部品を、図1に示した冷却チャネルを備えた電子部品を3段重ねて、TSVを介して電気的に接続された部品として図示して説明したが、電子部品の構成は限定されない。例えば、積層される電子部品は冷却チャネルを備えない電子部品が混載されてもよいし、積層の段数は、2段以下でもよいし4段以上でもよい。また、積層電子部品は、ワイヤーボンディングで、インターポーザや他の電子部品と接続される電子部品を含んでもよいし、インターポーザに直接実装されて積層されない電子部品を含んでもよい。また、インターポーザは、接続バンプを備えると説明したが、リード端子やリードレス端子を備えていてもよい。あるいは、積層電子部品は、外部と、光や電波を含む電磁的手段で接続されるものでもよい。
すなわち、積層電子部品は、放熱体を備えた冷却チャネルを備える電子部品を含んでいれば、積層の段数や、電気的接続構造は限定されない。
図3は、第1の実施形態の電子部品モジュールの断面図である。図3を参照して、本実施形態の積層電子部品40を内蔵した電子部品モジュール70について説明する。
図3は、積層電子部品40の備える冷却チャネル3を、冷却媒体が通過する方向に垂直な方向で切断したときの断面図である。電子部品モジュール70は、図2で説明した積層電子部品40を覆うようにインターポーザ50に取り付けられたリッド60を備える。
図4は、第1の実施形態の電子部品モジュール70の断面図である。図4を参照して、電子部品モジュール70について説明する。図4は、図3で説明した電子部品モジュール70を、図3の線A−A’を含み、紙面に垂直な面に沿って切った断面を示す断面図である。リッド60は、冷却媒体の流入口61および流出口62を備える。
積層電子部品40を冷却するために、冷却媒体の流入口61から冷却媒体をリッド60内に流入させる。流入した冷却媒体は、積層電子部品40の備える冷却チャネル3およびリッド60と積層電子部品40の間隙を流動して、冷却媒体の流出口62から流出する。図4の矢印は、冷却媒体の流れを示す。
したがって、電子部品モジュール70は、放熱体2を備えた冷却チャネル3を備える積層電子部品40を覆うリッド60を備える。電子部品モジュール70がリッド60で覆われているため、積層電子部品40の内部で発生した熱を放熱するための冷却媒体は、リッド60の内部を流動する。電子部品モジュール70は、積層電子部品40として積層された電子部品1の備える冷却チャネル3に冷却媒体を流動させることができる。すなわち、電子部品モジュール70は、積層電子部品40の内部で発生する熱を、放熱体2を備えた冷却チャネル3を流動する冷却媒体に効率よく伝えリッド60の外に放熱することができる。
したがって、電子部品モジュールは、リッド内に実装する電子部品の内部で発生する熱を効果的に放熱して、冷却効果を引き出すことができる。
なお、本実施形態では、リッドが金属性であれば、リッドはインターポーザの表面に設けた金属部分と半田付け、またはロウ付けされる。また、リッドが樹脂製であるとき、またはインターポーザの表面にリッドを取り付けるための金属部分がないとき、リッドはインターポーザの表面に接着剤によって接着されてもよい。また、本実施形態では、リッドはインターポーザの表面に固定されると図示して説明したが、リッドはインターポーザの表面に固定されることには限定されない。例えば、リッドが中空の直方体の形状を備え、インターポーザに実装された積層電子部品、またはインターポーザに実装されていない電子部品が、リッド内の面に固定されていてもよい。すなわち、リッドは、冷却媒体の流入口および流出口を備え、冷却媒体を内部で流動できるものであればよく、リッドの素材、および積層電子部品を含む電子部品とリッドとの固定方法は限定されない。
また、本実施形態では、リッドの備える冷却媒体の流入口および流出口を、それぞれ1つとして図示して説明したが、流入口および流出口の個数は限定されない。すなわち、リッドは、冷却媒体の流入口と流出口を備え、冷却媒体を内部で流動できるものであればよく、リッドの備える流入口および流出口の個数は限定されない。
図5は、第1の実施形態の電子部品モジュールの冷却システム図である。図5を参照して、冷却システム100について説明する。冷却システム100は、電子部品モジュール70と、ポンプ80と、パイプ81と、ラジエーター82とファン83を備える。
パイプ81は、電子部品モジュール70の冷却媒体の流入口61とポンプ80、流出口62とラジエーター82、ポンプ80とラジエーター82を、それぞれ接続する。ポンプ80は、冷却媒体を矢印にて示す通り循環させる。ラジエーター82は、積層電子部品40の内部で発生した熱によって加熱された冷却媒体を冷却する。ファン83は、ラジエーター82に空気流をあててラジエーター82の内部の冷却媒体の冷却を促進する。
以上のように、冷却システム100は、積層電子部品40を内蔵する電子部品モジュール70に冷却媒体を流動させて、積層電子部品40の内部で発生する熱を取り出す。また、積層電子部品40の内部で発生した熱によって加熱された冷却媒体は、ラジエーター82とファン83によって冷却されて、ポンプ80によって再度電子部品モジュール70に流入させられる。すなわち、冷却システム100は、電子部品モジュール70とラジエーター82とを、ポンプ80が冷却媒体を循環させて、電子部品モジュール70の内部を冷却することができる。
冷却システム100は、電子部品モジュール70に内蔵する積層電子部品40として積層された電子部品1の備える冷却チャネル3に冷却媒体を流動させる。すなわち、冷却システム100は、積層電子部品40の内部で発生する熱を、放熱体2を備えた冷却チャネル3を流動する冷却媒体に効率よく伝え、ラジエーター82で効率よく冷却媒体から放熱することができる。
したがって、冷却システムは、電子部品モジュールに内蔵する電子部品の内部で発生する熱を効果的に放熱して、冷却効果を引き出すことができる。
なお、本実施形態では、冷却システムがファンを備えるものとして説明したが、ファンの有無には限定されない。例えば、冷却システムは、冷却システムが備えるラジエーターが十分に冷却媒体の熱を放熱できれば、ファンはなくてもよい。また、本実施形態では、冷却システムがラジエーターを備えるものとして説明したが、ラジエーターの有無には限定されない。例えば、冷却システムは、冷却システムが備えるパイプが外気に十分に冷却媒体の熱を放熱できれば、ラジエーターはなくてもよい。
すなわち、冷却システムは、ラジエーター、またはファンを必ずしも備える必要はなく、冷却媒体の熱を十分に放熱できればよい。
また、本実施形態のパイプは、金属製でも、樹脂製でもよい。すなわち、冷却システムのパイプは、冷却媒体をポンプと電子部品モジュールの間で流動できるものであればよく、パイプの素材は限定されない。
以上、本発明の第1の実施形態である電子部品、積層電子部品、電子部品モジュールおよび冷却システムは、放熱体を備えた冷却チャネルを流動する冷却媒体に、電子部品の内部で発生した熱を効率よく伝え冷却することができる。すなわち、本実施形態は、電子部品の内部で発生する熱を効果的に放熱して、冷却効果を引き出すことができる。
(第2の実施形態)
本発明の第2の実施形態について説明する。図6(a)は、本発明の第2の実施形態の電子部品1dの断面図であり、本発明の最小構成を例示した図である。図6(b)は、本発明の第2の実施形態の電子部品1dの他の構成例の断面図である。
(第2の実施形態)
本発明の第2の実施形態について説明する。図6(a)は、本発明の第2の実施形態の電子部品1dの断面図であり、本発明の最小構成を例示した図である。図6(b)は、本発明の第2の実施形態の電子部品1dの他の構成例の断面図である。
図6(a)を参照して、本実施形態の電子部品1dについて説明する。電子部品1dの基体4には、放熱体2を備えた冷却チャネル3が形成されている。放熱体2と冷却チャネル3は、図1にて説明したものであり、説明を省略する。
電子部品1dでは、熱源は基体4の上面に接触する。そして、熱源が発生する熱が基体4に熱伝導される。熱伝導された熱は、電子部品1dの基体4の内部を伝わって放熱体2と放熱体2を備える冷却チャネル3の内壁に伝えられる。
冷却チャネル3は、冷却媒体を通過させることができる。例えば冷却チャンネル3は、紙面に垂直方向で、表面から裏面へ通過させることができる構造を備える。電子部品1dは、冷却チャネル3に冷却媒体を流動させることで、電子部品1dに接触する熱源の発生する熱を、放熱体2および冷却チャネル3の内壁から冷却チャネル3を流動する冷却媒体に伝えて効率よく放熱することができる。
したがって、電子部品は、電子部品が接する熱源の発生する熱を効果的に放熱して、冷却効果を引き出すことができる。
図6(b)を参照して、本実施形態の電子部品1eについて説明する。電子部品1eの備える放熱体2aは、図6(a)で説明した電子部品1dの放熱体2と形状だけが相違している。よって、図6(a)と同一の構成要素には同一の参照数字を付記して、その説明を省略する。
電子部品1eの備える放熱体2aは、冷却チャネル3の底部にプレート状に形成されている。電子部品1dの備える放熱体2と同様に、放熱体2aは、冷却チャネル3を流動する冷却媒体に接触する。したがって、電子部品1dと同様に、電子部品1eは、自身に接触する熱源の発生する熱を、放熱体2aと冷却チャネル3の内壁から冷却チャネル3を流動する冷却媒体に伝えて効率よく放熱することができる。 なお、本実施形態では、熱源が電子部品の上面で接触するものとして説明したが、熱源と電子部品との接触位置は限定されない。例えば、熱源は、電子部品の下面で接触していてもよいし、電子部品の内部に埋め込まれて電子部品と内部で接触していてもよい。また、熱源からの熱が、放射熱として電子部品に伝熱されてもよい。
すなわち、電子部品は、熱源の発生する熱を受熱し、放熱体を備えて基体に形成された冷却チャネルに熱伝導できるものであればよく、電子部品と熱源との接触部位および熱源からの伝熱方法は限定されない。
本実施形態における電子部品では、トランジスタなどの素子層や、素子の間を配線する配線層や、基体の表面と裏面を接続するTSVや、他の電子部品と接続する接続バンプ、リード端子、リードレス端子などを含む電気的接続構成および電気的素子構成は限定されない。電子部品は、これら電気的接続構成および電気的素子構成を備えていてもよいし、まったく備えていなくてもよい。また、電子部品の基体の素材は、半導体素材、例えばシリコンやゲルマニウムなどであってもよいし、金属系素材や樹脂系素材であってもよい。
すなわち、電子部品は、熱源の発生する熱を受熱し、放熱体を備えて基体に形成された冷却チャネルに熱伝導できるものであればよく、電子部品の電気的接続構成、電気的素子構成および基体の素材は限定されない。
(第3の実施形態)
本発明の第3の実施形態について説明する。図7は、本発明の第3の実施形態の電子部品1fの断面図である。図7を参照して、本実施形態の電子部品1fについて説明する。
(第3の実施形態)
本発明の第3の実施形態について説明する。図7は、本発明の第3の実施形態の電子部品1fの断面図である。図7を参照して、本実施形態の電子部品1fについて説明する。
電子部品1fでは、放熱体2を備えた冷却チャネル3が半導体基板10に形成されている。放熱体2と冷却チャネル3は、図1にて説明したものであり、説明を省略する。
電子部品1fは、半導体基板10にトランジスタなどの素子が形成された素子層11と、配線層14と、接続バンプ16を含む配線層15を備える。配線層14と配線層15は、TSVによって電気的に接続されている。電子部品1fは、素子層11、配線層14と配線層15を主な熱源として発熱する。電子部品1fの内部の熱源で発生する熱は、放熱体2および冷却チャネル3の内壁に熱伝導で伝えられる。 冷却チャネル3は、冷却媒体を通過させることができる。例えば、冷却チャンネル3は、紙面に垂直方向で、表面から裏面へ通過させることができる構造を備える。電子部品1fは、冷却チャネル3に冷却媒体を流動させることで、電子部品1fの内部で発生する熱を、放熱体2および冷却チャネル3の内壁から冷却チャネル3を流動する冷却媒体に伝えて効率よく放熱することができる。
したがって、電子部品は、電子部品の内部で発生する熱を効果的に放熱して、冷却効果を引き出すことができる。
図8は、第3の実施形態の積層電子部品の断面図である。図8を参照して、積層電子部品41について説明する。
積層電子部品41は、図7で説明した電子部品1fが積層された電子部品である。具体的には、積層電子部品41には、接続バンプ51と配線層(図示せず)を備えたインターポーザ50と、インターポーザ50に電気的に接続された電子部品1fが2段積層されている。
すなわち、インターポーザ50と電子部品1f(下段)、電子部品1f(下段)と電子部品1f(上段)とは、それぞれが備える接続端子(図示せず)と接続バンプ16とTSV(図示せず)によって電気的に接続される。インターポーザ50と各電子部品の間の隙間は、アンダーフィル52が充填されている。
積層電子部品41は、放熱体2を備えた冷却チャネル3を備えた電子部品1fを積層した構造を備える。積層電子部品41は、積層された電子部品1fの冷却チャネル3に冷却媒体を流動させることで、積層電子部品41の内部で発生する熱を、放熱体2を備えた冷却チャネル3を流動する冷却媒体に伝え、効率よく放熱することができる。
したがって、本実施形態の積層電子部品は、積層された電子部品の内部で発生する熱を効果的に放熱して、冷却効果を引き出すことができる。
なお、本実施形態では、積層電子部品を、図7に示した冷却チャネルを備えた電子部品を2段重ねて、TSVを介して電気的に接続された部品として図示して説明したが、電子部品の構成は限定されない。例えば、積層される電子部品は冷却チャネルを備えない電子部品が混載されてもよいし、積層の段数は、1段でもよいし3段以上でもよい。また、ワイヤーボンディングで、インターポーザや他の電子部品と接続される電子部品を含んでもよい。また、インターポーザは、接続バンプを備えると説明したが、リード端子やリードレス端子を備えていてもよい。あるいは、積層電子部品は、外部と、光や電波を含む電磁的手段で接続されるものでもよい。
すなわち、積層電子部品は、放熱体を備えた冷却チャネルを備える電子部品を含んでいれば、積層の段数や電気的接続構成は限定されない。
(第4の実施形態)
本発明の第4の実施形態について説明する。図9は、本発明の第4の実施形態の電子部品1gの断面図である。図9を参照して、本実施形態の電子部品1gについて説明する。
(第4の実施形態)
本発明の第4の実施形態について説明する。図9は、本発明の第4の実施形態の電子部品1gの断面図である。図9を参照して、本実施形態の電子部品1gについて説明する。
本実施形態は、冷却チャネル3aが、半導体基板10側にのみ設けられていることが、第1の実施形態と相違する。よって、第1の実施形態と同一の構成要素には同一の参照番号を付記して、その説明を省略する。
本実施形態では、冷却チャネル3aが半導体基板10側にのみ形成されるため、第1の実施形態と比較して、冷却チャネルの断面積としては小さくなる。したがって、本実施形態は、第1の実施形態と比較して、放熱体を備える冷却チャネルと冷却媒体の接触面積が小さくなり、また冷却媒体の流入量が少なくなるため、冷却効率が低下する。しかし、電子部品1fの製造工程が削減される。
したがって、本実施形態は、製造工程の削減によるコストダウンの効果が得られる。
なお、本実施形態では、冷却チャネルは、半導体基板10側にのみ設けると説明したが、冷却チャネルは、半導体基板20側にのみ設けてもよい。
(第5の実施形態)
本発明の第5の実施形態について説明する。図10は、本発明の第5の実施形態の電子部品1hの断面図である。図10を参照して、本実施形態の電子部品1hについて説明する。
(第5の実施形態)
本発明の第5の実施形態について説明する。図10は、本発明の第5の実施形態の電子部品1hの断面図である。図10を参照して、本実施形態の電子部品1hについて説明する。
本実施形態は、半導体基板10と半導体基板20に設けられている冷却チャネル3a、3bが向い合せにされていないことが、第1の実施形態と相違する。よって、第1の実施形態と同一の構成要素には同一の参照番号を付記して、その説明を省略する。
本実施形態では、半導体基板10側に設けた冷却チャネル3aと、半導体基板20側に設けた冷却チャネル3bは向かい合わせにされていない。そのため、第1の実施形態と比較して、半導体基板10および半導体基板20の設計の自由度の向上を図ることができる。さらに、本実施形態は、半導体基板10側の冷却チャネル3aと半導体基板20側の冷却チャネル3bを合わせて1つの冷却チャネルとする必要がないため、接合の精度を緩和することができる。
したがって、本実施形態は、冷却チャネルの断面積を第1の実施形態と同程度とすることができるので、第1の実施形態と同様の冷却効果が得られる。さらに、本実施形態では、電子部品1hの設計の自由度の向上による設計期間の短縮と、製造工程の精度緩和による製造工程の期間の短縮が図れる。すなわち、本実施形態は、これらの期間短縮によるコストダウンの効果が得られる。
なお、本実施形態では、半導体基板10側に形成される冷却チャネル3aを2つ、半導体基板20側に形成される冷却チャネル3bを1つとして図示して説明したが、上下にある半導体基板のそれぞれに形成される冷却チャネルの個数は限定されない。例えば、上側の半導体基板に冷却チャネルを3個形成し、下側の半導体基板に2個形成してもよい。また、冷却チャネルの構造は、2つの冷却チャネルの流入口と、1つの流出口を備える構造でもよい。すなわち、冷却チャネルは、冷却チャネルの内部を冷却媒体が流動できればよく、冷却チャネルの個数や流入口、流出口の個数は限定されない。
(第6の実施形態)
本発明の第6の実施形態について説明する。図11は、本発明の第6の実施形態の電子部品1iの断面図である。図11を参照して、本実施形態の電子部品1iについて説明する。
(第6の実施形態)
本発明の第6の実施形態について説明する。図11は、本発明の第6の実施形態の電子部品1iの断面図である。図11を参照して、本実施形態の電子部品1iについて説明する。
本実施形態は、冷却チャネル3cが備える放熱体2bには銅メッキを施さないことが、第1の実施形態と相違する。よって、第1の実施形態と同一の構成要素には同一の参照番号を付記して、その説明を省略する。
本実施形態では、放熱体2bに銅メッキを施さないため、第1の実施形態と比較して、冷却チャネル3cの放熱効率は、銅メッキが施された放熱体2より低い。しかし、本実施形態は、放熱体2bに銅メッキが施されていないので、電子部品1iの製造工程が削減される。
したがって、本実施形態では、製造工程の削減によるコストダウンの効果が得られる。
なお、本実施形態では、冷却チャネル3cを形成する片側の半導体基板に形成された放熱体2のみ銅メッキが施されていてもよい。
(第7の実施形態)
本発明の第7の実施形態について説明する。図12は、本発明の第7の実施形態の電子部品1jの断面図である。図12を参照して、本実施形態の電子部品1jについて説明する。
(第7の実施形態)
本発明の第7の実施形態について説明する。図12は、本発明の第7の実施形態の電子部品1jの断面図である。図12を参照して、本実施形態の電子部品1jについて説明する。
本実施形態は、半導体基板10と半導体基板20が直接接合によらず、各基板に設けた接続端子(図示せず)と接続バンプ22とTSV(図示せず)によって接合部30にて電気的に接続されることが、第1の実施形態と相違する。接合部30の冷却チャネル3dを除く間隙は、アンダーフィル52が充填されている。第1の実施形態と同一の構成要素には同一の参照番号を付記して、その説明を省略する。
本実施形態は、半導体基板10と半導体基板20が各基板に設けられた接続端子と接続バンプ22とTSVによって電気的に接続される。そのため、半導体基板10と半導体基板20の間隙が形成されるので、冷却チャネル3dの断面積は、第1の実施形態と比較して、大きい。
したがって、本実施形態は、冷却チャネル3dの断面積を第1の実施形態より大きいので、第1の実施形態と比較して、冷却効率を向上することができる効果が得られる。また、第1の実施形態と比較して冷却チャネル3dの断面積が大きいので、電子部品モジュールとしたときの冷却チャネル3dによる圧力損失、すなわち、図5で示したポンプ80が冷却媒体を流動させる圧力を軽減することができる。ポンプ80の駆動能力を軽減できるので、ポンプ80の駆動に関わる電力を削減する効果が得られる。
なお、冷却チャネルの断面積が第1の実施形態と比較して大きくできれば、他の実施形態でも同様の効果が得られる。
(第8の実施形態)
本発明の第8の実施形態について説明する。図13は、本発明の第8の実施形態の電子部品1kの断面図である。図13を参照して、本実施形態の電子部品1kについて説明する。
(第8の実施形態)
本発明の第8の実施形態について説明する。図13は、本発明の第8の実施形態の電子部品1kの断面図である。図13を参照して、本実施形態の電子部品1kについて説明する。
本実施形態は、冷却チャネル3eの壁が銅メッキされた金属壁5を備えることが、第1の実施形態と相違する。よって、第1の実施形態と同一の構成要素には同一の参照番号を付記して、その説明を省略する。
本実施形態では、冷却チャネル3eの壁が銅メッキを施された金属壁5を備えるため、第1の実施形態と比較して、冷却チャネルの断面積としては小さくなるが、電子部品1kの発生する熱を冷媒に放熱する熱伝導の効率を向上することができる効果が得られる。
したがって、本実施形態は、電子部品の内部で発生する熱を効果的に放熱して、冷却効果を引き出すことができる。
なお、本実施形態では、冷却チャネル3eの壁部分に銅メッキされた金属壁を備えると説明したが、金属壁のメッキ材料は銅に限定されない。例えば、冷却チャネル3eの備える金属壁のメッキ材料は、アルミニウムでもよい。すなわち、金属壁のメッキに用いられる材料は、銅やアルミニウムなど、半導体素材、例えばシリコンやゲルマニウムなどより熱伝導率が高く、冷却チャネルの壁をメッキできるものであれば適用できる。
(第9の実施形態)
本発明の第9の実施形態について説明する。図14は、本発明の第9の実施形態の電子部品1lの断面図である。図14を参照して、本実施形態の電子部品1lについて説明する。
(第9の実施形態)
本発明の第9の実施形態について説明する。図14は、本発明の第9の実施形態の電子部品1lの断面図である。図14を参照して、本実施形態の電子部品1lについて説明する。
本実施形態は、冷却チャネル3fの金属壁5に接続された集熱板6が形成されていることが、第8の実施形態と相違する。よって、第8の実施形態と同一の構成要素には同一の参照番号を付記して、その説明を省略する。
本実施形態では、冷却チャネル3fの金属壁5に接続された、金属壁5と同じ金属で集熱板6が形成される。例えば、半導体基板10の冷却チャネル3fの銅メッキの金属壁5を形成する際に、エッチングによって金属壁5と接続される第1の凹部を設ける。その後冷却チャネルの壁と壁に接続する第1の凹部を銅メッキすることで、第1の凹部には金属壁5と接続された銅メッキ材料による集熱板6が形成される。集熱板6は、半導体材料、例えばシリコンやゲルマニウムより熱伝導率の高い銅で形成されているので、電子部品1lが発生する熱を、集熱板6が半導体基板の内部から冷却チャネル3fの金属壁5に熱伝導する。
すなわち、本実施形態は、第8の実施形態と比較して、電子部品1lの発生する熱を集熱板6が効率的に熱伝導して冷却チャネルに伝えるので、冷却効率を向上することができる効果が得られる。
したがって、本実施形態は、電子部品の内部で発生する熱を効果的に放熱して、冷却効果を引き出すことができる。
なお、本実施形態では、冷却チャネル3fに備える集熱板を銅メッキ材料で形成すると説明したが、集熱板のメッキ材料は銅に限定されない。例えば、冷却チャネル3fに備える集熱板のメッキ材料は、アルミニウムでもよい。すなわち、集熱板のメッキに用いられる材料は、銅やアルミニウムなど、半導体素材、例えばシリコンやゲルマニウムなどより熱伝導率が高く、図10で説明した冷却チャネルの金属壁と同様にメッキできるものであれば適用できる。
また、本実施形態では、冷却チャネル3fに備える集熱板はメッキにて形成すると説明したが、集熱板の形成方法はメッキには限定されない。例えば、集熱板は、蒸着やCVD(Chemical Vapor Deposition)などによって形成されるものでもよい。また、本実施形態では、冷却チャネル3fに備える集熱板の形状は限定されない。例えば、集熱板の形状は、プレート状であってもよいし、格子状であってもよい。
すなわち、本集熱板は、電子部品の電気的接続を回避し、冷却チャネルの金属壁に接続されて形成され、電子部品が内部で発生する熱を熱伝導して冷却チャネルに伝え、冷却媒体に放熱できるものであれば、集熱板の形成方法および形状は限定されない。
また、本実施形態では、冷却チャネル3fに備える集熱板は、冷却チャネルを形成する半導体基板の片側に形成されてもよいし、両側に形成されてもよい。
(第10の実施形態)
本発明の第10の実施形態について説明する。図15は、本発明の第10の実施形態の電子部品1mの断面図である。図15を参照して、本実施形態の電子部品1mについて説明する。
(第10の実施形態)
本発明の第10の実施形態について説明する。図15は、本発明の第10の実施形態の電子部品1mの断面図である。図15を参照して、本実施形態の電子部品1mについて説明する。
本実施形態は、冷却チャネル3gの金属壁5に接続された集熱板6に、さらに集熱体7を設けられていることが、第9の実施形態と相違する。よって、第9の実施形態と同一の構成要素には同一の参照番号を付記して、その説明を省略する。
本実施形態では、冷却チャネル3gの金属壁5に接続された集熱板6に集熱体7が形成されている。すなわち、半導体基板10の冷却チャネル3gの金属壁5を形成する際に、エッチングによって金属壁5と接続する第1の凹部を設ける。第1の凹部の一部に、第1の凹部より深い第2の凹部を設ける。その後冷却チャネルの壁と、壁に接続する第1の凹部と、第1の凹部に設けた第2の凹部を銅メッキすることで、第1の凹部には金属壁5と接続された集熱板6が形成される。さらに、集熱板6の形成に用いた第1の凹部の一部に設けた第1の凹部より深い第2凹部には、銅メッキ材料による集熱体7が形成される。集熱体7は、銅メッキ材料によって、集熱板7と冷却チャネル3gの金属壁5に接続されている。集熱板6と同様に、集熱体7は、半導体材料、例えばシリコンやゲルマニウムより熱伝導率の高い銅で形成されている。
したがって、集熱体7は、電子部品1mが発生する熱を、半導体基板の内部から熱伝導により集熱板6を経由して冷却チャネル3gの金属壁5に熱伝導する。本実施形態は、集熱板6に、集熱体7をさらに形成しているので、電子部品1mが発生する熱を、第9の実施形態と比較して、さらに広い面積で熱伝導することができる。
すなわち、本実施形態は、第9の実施形態と比較して、電子部品1mの発生する熱を集熱体7がさらに効率的に熱伝導して冷却チャネルに伝えるので、冷却効率をさらに向上することができる効果が得られる。
したがって、本実施形態は、電子部品の内部で発生する熱を効果的に放熱して、冷却効果を引き出すことができる。
なお、本実施形態では、冷却チャネル3gに備える集熱体を銅メッキ材料で形成すると説明したが、集熱体のメッキ材料は銅に限定されない。例えば、冷却チャネル3gに備える集熱体のメッキ材料は、アルミニウムでもよい。すなわち、集熱体に用いられる材料は、銅やアルミニウムなど、半導体素材、例えばシリコンやゲルマニウムなどより熱伝導率が高く、図14で説明した集熱板6および冷却チャネルの金属壁5と同様にメッキできるものであれば適用できる。
また、本実施形態では、冷却チャネル3gに備える集熱体はメッキにて形成すると説明したが、集熱体の形成方法はメッキには限定されない。例えば、図14で説明した集熱板と同様に、集熱体は、蒸着やCVDなどによって形成されるものでもよい。また、本実施形態では、冷却チャネル3gに備える集熱体の形状は限定されない。例えば、集熱体の形状は、プレート状であってもよいし、格子状であってもよいし、円柱状でもよい。
すなわち、本集熱体は、電子部品の電気的接続を回避し、冷却チャネルの金属壁と集熱板に接続されて形成され、電子部品の内部で発生する熱を熱伝導して冷却チャネルに伝え、冷却媒体に放熱できるものであれば、集熱体の形成方法および形状は限定されない。
また、本実施形態では、冷却チャネル3gに備える集熱体は、冷却チャネルを形成する半導体基板の片側に形成されてもよいし、両側に形成されてもよい。
なお、本願発明は、上述の各実施形態に限定されるものではなく、本願発明の要旨を逸脱しない範囲で種々変更、変形して実施することができる。
例えば、本発明の各実施形態では、冷却媒体として、液体の使用が想定されている。しかし、冷却媒体は、電子部品の冷却チャネルを流動して電子部品の内部で発生した熱を運ぶことができる媒体であればよく、流体には限定されない。したがって、冷却媒体として、本発明が適用される電子部品、積層電子部品、電子部品モジュールおよび冷却システムに応じて、特定の元素の気体や、水、その他の液体など、適宜、適切な流体を使用することができる。
また、本発明は、第1の実施形態にて説明した電子部品は、第2から第10の実施形態で説明した電子部品に適宜置き換えて、または混在させることができる。あるいは、第1の実施形態にて説明した電子部品は、発熱する他の電子部品を含んでもよい。
1、1a、1b、1c、1d、1e、1f、1g、1h、1i、1j、1k、1l、1m 電子部品
2、2a、2b 放熱体
3、3a、3b、3c、3d、3e、3f、3g 冷却チャネル
4 基体
5 金属壁
6 集熱板
7 集熱体
10、20 半導体基板
11 素子層
12、14、15、21 配線層
13、16、22、51 接続バンプ
30 接合部
40、41 積層電子部品
50 インターポーザ
52 アンダーフィル
60 リッド
61 流入口
62 流出口
70 電子部品モジュール
80 ポンプ
81 パイプ
82 ラジエーター
83 ファン
100 冷却システム
2、2a、2b 放熱体
3、3a、3b、3c、3d、3e、3f、3g 冷却チャネル
4 基体
5 金属壁
6 集熱板
7 集熱体
10、20 半導体基板
11 素子層
12、14、15、21 配線層
13、16、22、51 接続バンプ
30 接合部
40、41 積層電子部品
50 インターポーザ
52 アンダーフィル
60 リッド
61 流入口
62 流出口
70 電子部品モジュール
80 ポンプ
81 パイプ
82 ラジエーター
83 ファン
100 冷却システム
Claims (10)
- 基体と、
前記基体に形成され、冷却媒体を第1の方向から第2の方向に通過させる冷却チャネルと、
前記基体よりも熱伝導率が高い材料を用いて前記冷却チャネルの表面に形成され、または前記冷却チャネルに突出するように形成され、前記冷却媒体に接触する放熱体と、
を備えることを特徴とする電子部品。 - 前記放熱体の、前記冷却媒体と接触する面の、一部または全部が金属面を備える
ことを特徴とする請求項1に記載の電子部品。 - 前記冷却チャネルの、前記冷却媒体と接触する面の、一部または全部が金属面を備える
ことを特徴とする請求項1または2に記載の電子部品。 - 前記基体及び前記金属面に接触するように前記基体の内部に形成され、前記基体内部で発生した熱を前記金属面に伝熱する集熱板を備える
ことを特徴とする請求項3に記載の電子部品。 - 前記集熱板の一部に接続するように前記基体の内部に形成され、前記集熱板に伝熱する集熱体を備える
ことを特徴とする請求項4に記載の電子部品。 - 前記基体は、第1の半導体基板、および前記第1の半導体基板に積層された第2の半導体基板とを含み、
前記冷却チャネルは、前記第1の半導体基板と前記第2の半導体基板との接合部に形成される
ことを特徴とする請求項1から5のいずれか1項に記載の電子部品。 - 請求項1から6のいずれか1項に記載の電子部品と、
前記電子部品を含む電子部品を積層するインターポーザと、
を備えることを特徴とする積層電子部品。 - 請求項1から6のいずれか1項に記載の電子部品、または請求項7に記載の積層電子部品が備える前記冷却チャネルを通過する前記冷却媒体を前記第1の方向から前記冷却チャネル中に流入させる流入口、および前記冷却媒体を前記第2の方向から前記冷却チャネルの外部に流出させる流出口を含み、前記電子部品、または前記積層電子部品を覆うリッド
を備えることを特徴とする電子部品モジュール。 - 請求項8に記載の電子部品モジュールと、
前記冷却媒体の熱を放熱させる放熱手段と、
前記冷却媒体を流動させる流動手段と、
前記流入口、前記流出口、前記放熱手段、および前記流動手段を接続して、前記冷却媒体を循環させる接続手段と、
を備えることを特徴とする冷却システム。 - 電子部品の基体に形成された冷却チャネルに、前記基体よりも熱伝導率が高い材料を用いて形成された放熱体、または前記冷却チャネルに突出するように形成された放熱体に冷却媒体が接触するように、前記冷却媒体を前記冷却チャネルの第1の方向から第2の方向に通過させる
ことを特徴とする電子部品冷却方法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013044255A JP5534067B1 (ja) | 2013-03-06 | 2013-03-06 | 電子部品、および電子部品冷却方法 |
| US14/182,426 US9263365B2 (en) | 2013-03-06 | 2014-02-18 | Electronic component and electronic component cooling method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2013044255A JP5534067B1 (ja) | 2013-03-06 | 2013-03-06 | 電子部品、および電子部品冷却方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP5534067B1 true JP5534067B1 (ja) | 2014-06-25 |
| JP2014175351A JP2014175351A (ja) | 2014-09-22 |
Family
ID=51175885
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2013044255A Expired - Fee Related JP5534067B1 (ja) | 2013-03-06 | 2013-03-06 | 電子部品、および電子部品冷却方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US9263365B2 (ja) |
| JP (1) | JP5534067B1 (ja) |
Families Citing this family (15)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20150068707A1 (en) * | 2013-09-09 | 2015-03-12 | Nec Corporation | Electronic component cooling apparatus |
| US9439330B1 (en) * | 2015-03-29 | 2016-09-06 | Banqiu Wu | 3D IC computer system |
| US10607919B2 (en) * | 2017-04-28 | 2020-03-31 | Semiconductor Components Industries, Llc | Semiconductor package having junction cooling pipes embedded in substrates |
| US11482472B2 (en) | 2018-06-13 | 2022-10-25 | Intel Corporation | Thermal management solutions for stacked integrated circuit devices |
| US11688665B2 (en) | 2018-06-13 | 2023-06-27 | Intel Corporation | Thermal management solutions for stacked integrated circuit devices |
| US20190385931A1 (en) * | 2018-06-13 | 2019-12-19 | Intel Corporation | Thermal management solutions for stacked integrated circuit devices |
| US11177192B2 (en) * | 2018-09-27 | 2021-11-16 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Semiconductor device including heat dissipation structure and fabricating method of the same |
| US11355418B2 (en) * | 2019-09-29 | 2022-06-07 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Package structure and manufacturing method thereof |
| US11227821B2 (en) | 2020-04-21 | 2022-01-18 | Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. | Chip-on-chip power card with embedded thermal conductor |
| KR102553024B1 (ko) * | 2021-07-26 | 2023-07-11 | 한국과학기술원 | 반도체 패키지 |
| TW202514965A (zh) * | 2023-05-17 | 2025-04-01 | 美商艾德亞半導體接合科技有限公司 | 用於先進裝置封裝的整合式冷卻組件及其製造方法 |
| US12191234B2 (en) | 2023-05-17 | 2025-01-07 | Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. | Integrated cooling assemblies for advanced device packaging and methods of manufacturing the same |
| US12283490B1 (en) | 2023-12-21 | 2025-04-22 | Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. | Integrated cooling assemblies for advanced device packaging and methods of manufacturing the same |
| JP7704272B1 (ja) * | 2024-09-05 | 2025-07-08 | Toppanホールディングス株式会社 | パッケージ構造、電子デバイスシステムおよび光電融合デバイス |
| US12412808B1 (en) | 2024-12-20 | 2025-09-09 | Adeia Semiconductor Bonding Technologies Inc. | Cold plate and manifold integration for high reliability |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006019730A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-19 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 半導体集積回路パッケージの一体型マイクロチャネル冷却装置および機器(マイクロチャネルにより冷却する機器および方法) |
| JP2011023451A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | SiC構造体、半導体装置およびSiC構造体の製造方法 |
Family Cites Families (34)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4573067A (en) * | 1981-03-02 | 1986-02-25 | The Board Of Trustees Of The Leland Stanford Junior University | Method and means for improved heat removal in compact semiconductor integrated circuits |
| JPH03257953A (ja) * | 1990-03-08 | 1991-11-18 | Nobuo Mikoshiba | 半導体素子 |
| US5070040A (en) * | 1990-03-09 | 1991-12-03 | University Of Colorado Foundation, Inc. | Method and apparatus for semiconductor circuit chip cooling |
| US5057908A (en) * | 1990-07-10 | 1991-10-15 | Iowa State University Research Foundation, Inc. | High power semiconductor device with integral heat sink |
| US5313361A (en) * | 1993-03-29 | 1994-05-17 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Ceramic substrate |
| JP4048579B2 (ja) * | 1997-08-28 | 2008-02-20 | 住友電気工業株式会社 | 冷媒流路を含む熱消散体とその製造方法 |
| US6437981B1 (en) * | 2000-11-30 | 2002-08-20 | Harris Corporation | Thermally enhanced microcircuit package and method of forming same |
| US6521516B2 (en) * | 2001-06-29 | 2003-02-18 | Intel Corporation | Process for local on-chip cooling of semiconductor devices using buried microchannels |
| JPWO2003050466A1 (ja) * | 2001-12-13 | 2005-04-21 | ソニー株式会社 | 冷却装置、電子機器装置及び冷却装置の製造方法 |
| US7032392B2 (en) * | 2001-12-19 | 2006-04-25 | Intel Corporation | Method and apparatus for cooling an integrated circuit package using a cooling fluid |
| JP2004037039A (ja) * | 2002-07-05 | 2004-02-05 | Sony Corp | 冷却装置、電子機器装置、表示装置及び冷却装置の製造方法 |
| JP2004190976A (ja) * | 2002-12-12 | 2004-07-08 | Sony Corp | 熱輸送装置及び電子デバイス |
| US6785134B2 (en) * | 2003-01-06 | 2004-08-31 | Intel Corporation | Embedded liquid pump and microchannel cooling system |
| US7126822B2 (en) * | 2003-03-31 | 2006-10-24 | Intel Corporation | Electronic packages, assemblies, and systems with fluid cooling |
| US7355277B2 (en) * | 2003-12-31 | 2008-04-08 | Intel Corporation | Apparatus and method integrating an electro-osmotic pump and microchannel assembly into a die package |
| US6919231B1 (en) * | 2004-03-24 | 2005-07-19 | Intel Corporation | Methods of forming channels on an integrated circuit die and die cooling systems including such channels |
| US7538425B2 (en) * | 2004-07-28 | 2009-05-26 | Delphi Technologies, Inc. | Power semiconductor package having integral fluid cooling |
| US7215547B2 (en) * | 2004-08-16 | 2007-05-08 | Delphi Technologies, Inc. | Integrated cooling system for electronic devices |
| US7204298B2 (en) * | 2004-11-24 | 2007-04-17 | Lucent Technologies Inc. | Techniques for microchannel cooling |
| US20060145356A1 (en) * | 2005-01-06 | 2006-07-06 | International Business Machines Corporation | On-chip cooling |
| US7305016B2 (en) * | 2005-03-10 | 2007-12-04 | Northrop Grumman Corporation | Laser diode package with an internal fluid cooling channel |
| US7652372B2 (en) * | 2005-04-11 | 2010-01-26 | Intel Corporation | Microfluidic cooling of integrated circuits |
| US7427566B2 (en) * | 2005-12-09 | 2008-09-23 | General Electric Company | Method of making an electronic device cooling system |
| TW200735308A (en) * | 2005-12-23 | 2007-09-16 | Koninkl Philips Electronics Nv | On-chip interconnect-stack cooling using sacrificial interconnect segments |
| US7550841B2 (en) * | 2006-03-23 | 2009-06-23 | Intel Corporation | Methods of forming a diamond micro-channel structure and resulting devices |
| US7928425B2 (en) * | 2007-01-25 | 2011-04-19 | Mears Technologies, Inc. | Semiconductor device including a metal-to-semiconductor superlattice interface layer and related methods |
| US8110415B2 (en) * | 2008-04-03 | 2012-02-07 | International Business Machines Corporation | Silicon based microchannel cooling and electrical package |
| US8616266B2 (en) * | 2008-09-12 | 2013-12-31 | Rockwell Collins, Inc. | Mechanically compliant thermal spreader with an embedded cooling loop for containing and circulating electrically-conductive liquid |
| US7943428B2 (en) | 2008-12-24 | 2011-05-17 | International Business Machines Corporation | Bonded semiconductor substrate including a cooling mechanism |
| US8159065B2 (en) * | 2009-03-06 | 2012-04-17 | Hynix Semiconductor Inc. | Semiconductor package having an internal cooling system |
| US7990711B1 (en) * | 2010-02-24 | 2011-08-02 | International Business Machines Corporation | Double-face heat removal of vertically integrated chip-stacks utilizing combined symmetric silicon carrier fluid cavity and micro-channel cold plate |
| FR2961017B1 (fr) * | 2010-06-02 | 2013-10-11 | Commissariat Energie Atomique | Puce electronique, composants electroniques et bras de commutation incorporant cette puce electronique |
| JP2012138473A (ja) | 2010-12-27 | 2012-07-19 | Zycube:Kk | 半導体デバイス・電子部品の実装構造 |
| US8563365B2 (en) * | 2011-03-09 | 2013-10-22 | Georgia Tech Research Corporation | Air-gap C4 fluidic I/O interconnects and methods of fabricating same |
-
2013
- 2013-03-06 JP JP2013044255A patent/JP5534067B1/ja not_active Expired - Fee Related
-
2014
- 2014-02-18 US US14/182,426 patent/US9263365B2/en active Active
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006019730A (ja) * | 2004-07-01 | 2006-01-19 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 半導体集積回路パッケージの一体型マイクロチャネル冷却装置および機器(マイクロチャネルにより冷却する機器および方法) |
| JP2011023451A (ja) * | 2009-07-14 | 2011-02-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | SiC構造体、半導体装置およびSiC構造体の製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US9263365B2 (en) | 2016-02-16 |
| US20140254099A1 (en) | 2014-09-11 |
| JP2014175351A (ja) | 2014-09-22 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5534067B1 (ja) | 電子部品、および電子部品冷却方法 | |
| CN208608187U (zh) | 固态电子组件 | |
| JP5801996B2 (ja) | 両面冷却式電力用被覆層付き電力モジュール | |
| CN105308742B (zh) | 半导体组件用冷却器的制造方法、半导体组件用冷却器、半导体组件和电驱动车辆 | |
| CN103137573B (zh) | 功率模块封装 | |
| US20140138075A1 (en) | Heat exchanger and semiconductor module | |
| JP6409690B2 (ja) | 冷却モジュール | |
| JP2002270743A (ja) | 半導体素子の実装構造 | |
| CN112335040A (zh) | 用于电结构元件的冷却组件、具有冷却组件的整流器以及具有整流器的空中行驶工具 | |
| CN107004660A (zh) | 功率半导体模块及冷却器 | |
| WO2011064841A1 (ja) | 半導体装置の冷却構造 | |
| JP2010161184A (ja) | 半導体装置 | |
| CN205069616U (zh) | 功率模块和具有其的车辆 | |
| JP2011091088A (ja) | 発熱体の放熱構造、および該放熱構造を用いた半導体装置 | |
| CN107004645B (zh) | 电子设备 | |
| CN104078433A (zh) | 功率半导体器件的集成冷却模块 | |
| JPWO2020105075A1 (ja) | 半導体装置 | |
| CN205069618U (zh) | 功率模块和具有其的车辆 | |
| CA3063005A1 (en) | Cooling structure of power conversion device | |
| JP2010251427A (ja) | 半導体モジュール | |
| JP2015018993A (ja) | 電子装置 | |
| JP2018182317A (ja) | 3次元熱流構造を包含するエレクトロニクスアセンブリ | |
| JP2017204503A (ja) | 伝熱構造体、絶縁積層材、絶縁回路基板およびパワーモジュール用ベース | |
| JP5100165B2 (ja) | 冷却基板 | |
| JP4968150B2 (ja) | 半導体素子冷却装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140401 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5534067 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140414 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |