JP5580561B2 - バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびバリア性積層体の製造方法 - Google Patents
バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびバリア性積層体の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5580561B2 JP5580561B2 JP2009201313A JP2009201313A JP5580561B2 JP 5580561 B2 JP5580561 B2 JP 5580561B2 JP 2009201313 A JP2009201313 A JP 2009201313A JP 2009201313 A JP2009201313 A JP 2009201313A JP 5580561 B2 JP5580561 B2 JP 5580561B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- gas barrier
- layer
- organic layer
- barrier film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 0 CC(COC(C=C)=O)OCC(CC(C=C1Cc2ccccc2OCC(C*C(C=C)=O)O)=CC(Cc(cccc2)c2OCC(C*C(C=C)=O)O)C1(C)OCC(C*C(C=CC1*C1)=O)O)OCC(C)OC(C=C)=O Chemical compound CC(COC(C=C)=O)OCC(CC(C=C1Cc2ccccc2OCC(C*C(C=C)=O)O)=CC(Cc(cccc2)c2OCC(C*C(C=C)=O)O)C1(C)OCC(C*C(C=CC1*C1)=O)O)OCC(C)OC(C=C)=O 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10F—INORGANIC SEMICONDUCTOR DEVICES SENSITIVE TO INFRARED RADIATION, LIGHT, ELECTROMAGNETIC RADIATION OF SHORTER WAVELENGTH OR CORPUSCULAR RADIATION
- H10F19/00—Integrated devices, or assemblies of multiple devices, comprising at least one photovoltaic cell covered by group H10F10/00, e.g. photovoltaic modules
- H10F19/80—Encapsulations or containers for integrated devices, or assemblies of multiple devices, having photovoltaic cells
- H10F19/804—Materials of encapsulations
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Photovoltaic Devices (AREA)
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009201313A JP5580561B2 (ja) | 2009-09-01 | 2009-09-01 | バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびバリア性積層体の製造方法 |
| PCT/JP2010/065358 WO2011027902A1 (fr) | 2009-09-01 | 2010-09-01 | Stratifié barrière, film barrière aux gaz et procédé de fabrication du stratifié barrière |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009201313A JP5580561B2 (ja) | 2009-09-01 | 2009-09-01 | バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびバリア性積層体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011051194A JP2011051194A (ja) | 2011-03-17 |
| JP5580561B2 true JP5580561B2 (ja) | 2014-08-27 |
Family
ID=43532632
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009201313A Expired - Fee Related JP5580561B2 (ja) | 2009-09-01 | 2009-09-01 | バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびバリア性積層体の製造方法 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5580561B2 (fr) |
| WO (1) | WO2011027902A1 (fr) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2013028018A (ja) * | 2011-07-27 | 2013-02-07 | Daicel Corp | ガスバリアフィルム及びデバイス |
| JP5763493B2 (ja) * | 2011-09-30 | 2015-08-12 | 富士フイルム株式会社 | バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス |
| TWI530399B (zh) | 2011-12-27 | 2016-04-21 | Nitto Denko Corp | Transparent gas barrier film, transparent gas barrier film manufacturing method, organic EL element, solar cell and thin film battery (1) |
| JP5812916B2 (ja) * | 2012-03-29 | 2015-11-17 | 富士フイルム株式会社 | バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス |
| US20150029681A1 (en) * | 2013-07-29 | 2015-01-29 | Evonik Industries Ag | Flexible composite, production thereof and use thereof |
| GB2579871B (en) * | 2019-02-22 | 2021-07-14 | P2I Ltd | Coatings |
| JP2020163859A (ja) * | 2019-03-29 | 2020-10-08 | 三菱ケミカル株式会社 | フィルム積層体およびその製造方法 |
Family Cites Families (21)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE513714A (fr) | 1951-08-23 | 1900-01-01 | ||
| JPH05127822A (ja) | 1991-10-30 | 1993-05-25 | Daicel Chem Ind Ltd | タツチパネル |
| JP3204356B2 (ja) | 1994-12-14 | 2001-09-04 | 住友ベークライト株式会社 | 透明導電フイルム |
| JP2000227603A (ja) | 1998-11-30 | 2000-08-15 | Teijin Ltd | 液晶表示素子及びそれに好適な透明導電性基板 |
| JP2000323273A (ja) | 1999-05-07 | 2000-11-24 | Dainippon Printing Co Ltd | エレクトロルミネッセンス素子 |
| JP2001150584A (ja) | 1999-11-29 | 2001-06-05 | Nippon Zeon Co Ltd | 導電性基板およびこれを用いた表示素子 |
| JP2002080616A (ja) | 2000-06-30 | 2002-03-19 | Sumitomo Bakelite Co Ltd | 表示素子用高分子フィルム及びこれを用いた表示素子用基板 |
| JP2002048913A (ja) | 2000-08-04 | 2002-02-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | 位相差板、円偏光板および反射型液晶表示装置 |
| JP4402864B2 (ja) | 2002-06-27 | 2010-01-20 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリア性フィルム |
| JP4254350B2 (ja) * | 2002-12-16 | 2009-04-15 | 住友ベークライト株式会社 | 透明バリアフィルム |
| JP4383077B2 (ja) * | 2003-03-31 | 2009-12-16 | 大日本印刷株式会社 | ガスバリア性基板 |
| JP4310788B2 (ja) * | 2004-06-18 | 2009-08-12 | 恵和株式会社 | 高バリア性積層シート |
| US7378157B2 (en) * | 2004-06-28 | 2008-05-27 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Gas barrier film, and display substrate and display using the same |
| JP4716773B2 (ja) * | 2005-04-06 | 2011-07-06 | 富士フイルム株式会社 | ガスバリアフィルムとそれを用いた有機デバイス |
| JP2007030387A (ja) | 2005-07-28 | 2007-02-08 | Fujifilm Corp | バリア性フィルム基板およびそれを用いた有機電界発光素子 |
| JP2007038445A (ja) * | 2005-08-01 | 2007-02-15 | Konica Minolta Holdings Inc | ガスバリア性薄膜積層体、ガスバリア性樹脂基材及び有機エレクトロルミネッセンスデバイス |
| JP4922148B2 (ja) * | 2007-02-15 | 2012-04-25 | 富士フイルム株式会社 | バリア性積層体、バリア性フィルム基板、それらの製造方法、およびデバイス |
| EP2125914B1 (fr) * | 2007-03-09 | 2014-01-22 | 3M Innovative Properties Company | Monomères triphényles appropriés pour des films optiques microstructurés |
| JP5339772B2 (ja) | 2007-06-11 | 2013-11-13 | 富士フイルム株式会社 | 電子ディスプレイ |
| JP2009049252A (ja) | 2007-08-22 | 2009-03-05 | Toppan Printing Co Ltd | 太陽電池用部材 |
| JP5320167B2 (ja) * | 2008-05-30 | 2013-10-23 | 富士フイルム株式会社 | バリア性積層体、ガスバリアフィルム、デバイスおよび積層体の製造方法 |
-
2009
- 2009-09-01 JP JP2009201313A patent/JP5580561B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2010
- 2010-09-01 WO PCT/JP2010/065358 patent/WO2011027902A1/fr not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| WO2011027902A1 (fr) | 2011-03-10 |
| JP2011051194A (ja) | 2011-03-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5414426B2 (ja) | 複合フィルム | |
| JP5281986B2 (ja) | 積層フィルムおよび複合フィルム | |
| JP5498202B2 (ja) | バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス | |
| JP5631822B2 (ja) | バリア性積層体およびガスバリアフィルム | |
| JP5485624B2 (ja) | バリア性積層体およびこれを用いたガスバリアフィルム | |
| JP5216724B2 (ja) | ガスバリアフィルムおよびデバイス | |
| JP5749678B2 (ja) | ガスバリアフィルム | |
| JP5320167B2 (ja) | バリア性積層体、ガスバリアフィルム、デバイスおよび積層体の製造方法 | |
| JP5580561B2 (ja) | バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびバリア性積層体の製造方法 | |
| JP5847743B2 (ja) | バリア性積層体およびガスバリアフィルム | |
| JP2011200780A (ja) | バリア性積層体とその製造方法、ガスバリアフィルム及びデバイス | |
| JP5334900B2 (ja) | ガスバリアフィルムおよびデバイス | |
| JP2010030295A (ja) | バリア性積層体、ガスバリアフィルム、デバイスおよび光学部材 | |
| CN109476138B (zh) | 阻气膜及太阳能电池以及阻气膜的制造方法 | |
| JP5270469B2 (ja) | バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス、ならびに、バリア性積層体の製造方法 | |
| JP2011201064A (ja) | バリア性積層体とその製造方法、ガスバリアフィルム及びデバイス | |
| WO2015198991A1 (fr) | Procédé de production de dispositif électronique et film composite | |
| JP5983454B2 (ja) | ガスバリア性フィルム | |
| JP5432602B2 (ja) | バリア性積層体、ガスバリアフィルム、デバイス | |
| WO2015030178A1 (fr) | Stratifié formant barrière, film formant barrière contre les gaz et dispositif | |
| JP2012020409A (ja) | バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス、ならびに、バリア性積層体の製造方法 | |
| JP2012020516A (ja) | バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス、ならびに、バリア性積層体の製造方法 | |
| JP6744487B2 (ja) | ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法 | |
| JP5823277B2 (ja) | バリア性積層体、ガスバリアフィルムおよびこれらを用いたデバイス |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120203 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20131029 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20131105 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131226 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140204 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140403 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20140701 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140711 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5580561 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |