JP5561785B2 - シリコン単結晶引上装置及びそれを用いたシリコン単結晶の引上げ方法 - Google Patents
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シリコン単結晶の引上げは、炉体内で、石英ルツボの内面に保持された原料シリコンを溶融してシリコン融液とし、シリコン融液の液面に種結晶を接触させて、石英ルツボと種結晶を回転させながら種結晶を上方へ引上げて、種結晶の下端にシリコン単結晶を結晶成長させていくものである。
なお、この酸素析出物がウェーハのバルク部に発生する場合には、不純物のゲッタリングサイトとなるため有効であるが、当該発生がデバイス形成領域となるウェーハの表層部で起こる場合には、ライフタイム等の半導体デバイス特性の低下を招くという問題がある。
このため、シリコン単結晶の引上時において、シリコン単結晶中に導入される炭素を抑制した低炭素濃度のシリコン単結晶を得ることが要求されている。
また、本発明に係るシリコン単結晶引上装置は、炉体内の設計を大きく変更するわけではなく、前記整流部材をカーボンルツボの上端に積載するだけで足りるため、装置が煩雑化することがなく、装置自体は現存のものをそのまま使用することができる。従って、製造コストの増加を招くことがない。
図1は、本発明に係るシリコン単結晶引上装置の具体的な実施形態を示す概略断面図である。図2は、図1に示す整流部材40近傍を拡大した概略断面図である。図3は、図1、2に示す整流部材40の具体的態様を示す概念図であり、(a)は斜視図、(b)は(a)のα方向から見た下面42b側の平面図である。
シリコン単結晶引上装置1は、カーボンルツボ10bと、加熱ヒータ15と、遮蔽部材20と、区分け部材25と、キャリアガス供給部30と、キャリアガス排出部35と、整流部材40と、を備える。
加熱ヒータ15は、カーボンルツボ10bの外周囲に配置され、カーボンルツボ10bを周囲から加熱する。加熱ヒータ15は、例えば、カーボン製の円筒形状で構成されている。
遮蔽部材20は、シリコン融液5の上方に保持され、前記引上げたシリコン単結晶Igへの輻射熱を遮蔽する。遮蔽部材20は、例えば、円筒形状で構成されたカーボン部材に全面をSiC(炭化ケイ素)コートしたものが用いられる。
区分け部材25は、遮蔽部材20の外周囲に配置され、前記遮蔽部材20を前記シリコン融液5の上方に保持すると共に、前記遮蔽部材20の外周囲において前記炉体3内の空間を上部空間と下部空間に区分けする。区分け部材25は、例えば、中空円板形状であるCIP材で構成されている。
複数の脚部44は、円筒形状の整流部42の下面42bにおいて円状に等間隔(図3(b)の例では4つ)に固定又は着脱可能に複数取り付けられている。
また、本発明に係るシリコン単結晶引上装置1は、炉体3内の設計を大きく変更するわけではなく、整流部材40をカーボンルツボ10bの上端10ba上に積載するだけで足りるため、装置が煩雑化することがなく、また、遮蔽部材20の形状を、使用する石英ルツボ10aの仕様に合わせて設計する必要がないため、製造コストの増加を招くことがない。
このような構成とすることで整流部42の上端42aと区分け部材25の間(空隙42c)においてもキャリアガス排出部35方向へのキャリアガス流れ(図1中、L)を設けることが出来ると共に、前記整流部42により、前記空隙42cを流れるキャリアガスGの流速も高めることができる。従って、当該空隙42cからの前記炭素含有ガスの逆流を抑制することができる。
このような構成とすることで、前記第2空間S2から加熱ヒータ15を遠ざけることができるため、加熱ヒータ15から発生する不純物ガス(加熱ヒータ15がカーボン製である場合は炭素含有ガス)のシリコン融液5への逆流を更に抑制することができる。
このような材料とすることで、炭素含有ガスの発生を防止することが出来ると共に、シリコン単結晶の引上げ中であっても、前記整流部材40が熱変形等することなく、シリコン単結晶の引上げを行う事ができる。
図4に示す整流部材40は、図2に示す整流部42が42Aに置き換わった構造を有している。その他は、図2に示す整流部材40と同様であるため説明を省略する。
このような構成とすることで、第1空間S1を通過するキャリアガスGの一部を遮蔽し、当該遮蔽したキャリアガスGを前記第2空間S2方向に整流しやすくなるため、前記第2空間S2を通過するキャリアガスGの流速をより高めることができるため好ましい。
このような範囲とすることで、当該遮蔽したキャリアガスGを前記第2空間S2方向に効率よく整流することができる。
前記カーボンルツボ10bの上端10ba上面は前記カーボンルツボ10bの内面10bcから外面10bbに向かって上方に傾斜した傾斜面で構成され、前記脚部44の下面44aは、前記脚部44の外面44bから内面44cに向かって下方に傾斜した傾斜面で構成され、前記傾斜面同士が係合するように前記脚部44を前記カーボンルツボ10bの上端10baに積載することが好ましい。
このような範囲とすることで、効率よく、前記カーボンルツボ10bの前記熱変形によるクラックや割れを抑制することができる。
前記カーボンルツボ10bが、図6に示すように、底部中央に開口部10b1aが設けられ、該開口部10b1aの周囲で半径方向に延びる分割線10b1bにより2以上に分割された構成を有する場合は、図7に示すように、前記複数の脚部44を前記カーボンルツボ10bの上端10baの前記分割線10b1b上に積載することが好ましい。
このような構成とすることで、図7に示すように、前記脚部44においてもキャリアガスGを整流させることができる。
このような方法により行うことで、製造コストの増加を招くことがなく、低炭素濃度のシリコン単結晶を引上げることができる。
(実施例1)
図1及び図2に示すようなシリコン単結晶引上装置1を用いて、直径18インチの石英ガラスルツボに原料シリコンを充填し、キャリアガス供給部30から供給するキャリアガスGの供給量を80リットル/minに制御しつつ、前記整流部42の高さX2を7.5cm、前記第2空間S2の高さX3を1cmとした整流部材40(カーボン(黒鉛)部材の全表面にSiCをコートしたコート部材)を用いて、直径205mm、長さ800mmの直胴部を有するディスクリート用シリコン単結晶の引上げを行った。その後、固化率0%、50%、90%の位置での結晶中の炭素濃度[Cs]を測定した。炭素濃度[Cs]の測定は、フォトルミネッセンス測定により行った。
図4に示すような整流部42Aを有する整流部材40(傾斜角度θ1:30°、カーボン(黒鉛)部材の全表面にSiCをコートしたコート部材)を用いて、その他は実施例1と同様な方法にて、直径205mm、長さ800mmの直胴部を有するディスクリート用シリコン単結晶の引上げを行った。その後、実施例1と同様な方法により、固化率0%、50%、90%の位置での結晶中の炭素濃度[Cs]を測定した。
図1及び図2に示すシリコン単結晶引上装置1のうち、整流部材40を用いないで、その他は実施例1と同様な方法にて、直径205mm、長さ800mmの直胴部を有するディスクリート用シリコン単結晶の引上げを行った。その後、実施例1と同様な方法により、固化率0%、50%、90%の位置での結晶中の炭素濃度[Cs]を測定した。
以上の実施例1、2及び比較例の評価結果を図8に示す。
カーボンルツボ10bの上端10ba及び脚部44の下面44aの積載状態を図5に示すような構成(傾斜角度θ2:20°)として、その他は、実施例1と同様な方法にて、直径205mm、長さ800mmの直胴部を有するディスクリート用シリコン単結晶の引上げを行い、その後、シリコン融液が全体積の20%程度残存した状態で、シリコン融液の冷却を行った。この引上げ及び冷却を、毎回カーボンルツボ10bを変更して10回繰り返して行い、10本のディスクリート用シリコン単結晶を引上げた。
その後、引上げを行った各々において、整流部材40の積載位置におけるカーボンルツボ10bのクラックや割れの発生を目視で評価し、10回における発生率を算出した。
実施例1の引上げ(カーボンルツボ10bの上端10ba及び脚部44の下面44aの積載状態が図2に示すような構成(傾斜角度θ2:90°(不図示))として、その他は、実施例3と同様な方法にて、10本のディスクリート用シリコン単結晶を引上げた。
その後、引上げを行った各々において、整流部材40の積載位置におけるカーボンルツボ10bのクラックや割れの発生を目視で評価し、10回における発生率を算出した。
表1に、実施例3、4における評価結果を示す。
10a 石英ルツボ
10b カーボンルツボ
15 加熱ヒータ
20 遮蔽部材
25 区分け部材
30 キャリアガス供給部
35 キャリアガス排出部
40 整流部材
Claims (5)
- 炉体内で、石英ルツボの内面に保持された原料シリコンを溶融してシリコン融液とし、チョクラルスキー法により前記シリコン融液からシリコン単結晶を引上げるシリコン単結晶引上装置であって、
前記石英ルツボを内面に保持するカーボンルツボを備え、
前記カーボンルツボの上端に積載されて設けられ、前記カーボンルツボの上端上方の第1空間を通過するキャリアガスの一部を遮蔽し、前記第1空間の下部であり前記カーボンルツボの上端直上の第2空間を通過するキャリアガスの流速を高める円筒形状の整流部を備えた整流部材と、
を備えることを特徴とするシリコン単結晶引上装置。 - 炉体内で、石英ルツボの内面に保持された原料シリコンを溶融してシリコン融液とし、チョクラルスキー法により前記シリコン融液からシリコン単結晶を引上げるシリコン単結晶引上装置であって、
前記石英ルツボを内面に保持するカーボンルツボと、
前記カーボンルツボの外周囲に配置され、前記カーボンルツボを周囲から加熱する加熱ヒータと、
前記シリコン融液の上方に保持され、前記引上げたシリコン単結晶への輻射熱を遮蔽する遮蔽部材と、
前記遮蔽部材の外周囲に配置され、前記遮蔽部材を前記シリコン融液の上方に保持すると共に、前記遮蔽部材の外周囲において前記炉体内の空間を上部空間と下部空間に区分けする区分け部材と、
前記遮蔽部材の上方に配置され、前記遮蔽部材の内面、前記遮蔽部材と前記シリコン融液との間及び前記石英ルツボと前記区分け部材との間を流れるキャリアガスを前記炉体内に供給するキャリアガス供給部と、
前記カーボンルツボの下方に配置され、前記石英ルツボと前記区分け部材との間を流れたキャリアガスを前記炉体外に排出するキャリアガス排出部と、
前記カーボンルツボの上端に積載されて設けられ、前記カーボンルツボの上端と前記区分け部材との間の前記区分け部材側の第1空間を通過するキャリアガスの一部を遮蔽し、前記第1空間の下部であり前記石英ルツボの上端を通る水平線までの間の前記カーボンルツボ側の第2空間を通過するキャリアガスの流速を高める円筒形状の整流部と、前記整流部の下面に取り付けられ、前記カーボンルツボの上端に積載することで前記整流部を前記第1空間に保持すると共に、前記第2空間に相当する位置で前記キャリアガスを通過させる複数の脚部とを有する整流部材と、
を備えることを特徴とするシリコン単結晶引上装置。 - 前記円筒形状である整流部の内面は、前記整流部の外面方向に向かって下方に傾斜した傾斜面で構成されていることを特徴とする請求項1又は2に記載のシリコン単結晶引上装置。
- 前記カーボンルツボの上端上面は前記カーボンルツボの内面から外面に向かって上方に傾斜した傾斜面で構成され、前記脚部の下面は、前記脚部の外面から内面に向かって下方に傾斜した傾斜面で構成され、前記傾斜面同士が係合するように前記脚部を前記カーボンルツボの上端に積載することを特徴とする請求項2に記載のシリコン単結晶引上装置。
- 請求項1乃至4のいずれかに記載のシリコン単結晶引上装置を用いて、シリコン単結晶を引上げることを特徴とするシリコン単結晶の引上げ方法。
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