JP5430345B2 - 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる立体造形物 - Google Patents
光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる立体造形物 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5430345B2 JP5430345B2 JP2009245682A JP2009245682A JP5430345B2 JP 5430345 B2 JP5430345 B2 JP 5430345B2 JP 2009245682 A JP2009245682 A JP 2009245682A JP 2009245682 A JP2009245682 A JP 2009245682A JP 5430345 B2 JP5430345 B2 JP 5430345B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- component
- mass
- resin composition
- compound
- liquid resin
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J3/00—Processes of treating or compounding macromolecular substances
- C08J3/24—Crosslinking, e.g. vulcanising, of macromolecules
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0037—Production of three-dimensional images
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/0045—Photosensitive materials with organic non-macromolecular light-sensitive compounds not otherwise provided for, e.g. dissolution inhibitors
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
Description
[1]組成物全量を100質量%として、下記(A)〜(E)成分:
(A)下記式(1)で表される構造を有する化合物 12〜17質量%、
(B)上記(A)成分以外のカチオン重合性化合物 15〜85質量%、
(C)ラジカル重合性化合物 0.1〜25質量%、
(D)芳香族構造を有する1価のスルホニウムイオンと(PR3 6)−(ただし、R3はそれぞれ独立にフッ素原子又はフッ素化アルキル基であって、少なくとも1個のR3はフッ素化アルキル基である。)で表されるアニオンからなるオニウム塩 0.1〜10質量%、
(E)ラジカル重合開始剤 0.01〜10質量%、
を含有する放射線硬化性液状樹脂組成物であって、
芳香族構造を有する2価のスルホニウム塩の含有量が、前記(D)成分の含有量の1/20(質量比)以下である光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物。
[2]前記(D)成分が下記式(2)で表される構造を有する化合物であって、
前記芳香族構造を有する2価のスルホニウム塩が、下記式(3)で表される構造を有する化合物である、上記[1]に記載の光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物。
[3]前記式(2)および式(3)において、(PR3 6)−が、(PF6−m(CnF2n+1)m)−(ただし、mは1〜5の整数であり、nは1〜4の整数である。)である上記[1]又は[2]に記載の光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物。
[4]前記(A)成分が、下記式(4)で表される構造を有する化合物である上記[1]〜[3]のいずれかに記載の光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物。
[5]前記(B)成分が、(B1)エポキシ基を有する化合物、及び(B2)オキセタニル基を有する化合物を含む上記[1]〜[4]のいずれかに記載の光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物。
[6]前記(B1)成分が、1分子中に2個以上の脂環式エポキシ基を有する化合物である上記[1]〜[5]のいずれかに記載の光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物。
[7]組成物全量を100質量%として、(F)染料及び/又は顔料を1×10−5〜1×10−2質量%含有する上記[1]〜[6]のいずれかに記載の光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物。
[8]上記[1]〜[7]のいずれかに記載の光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物に光を照射することにより得られる立体造形物。
I.光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物
本発明の光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物(以下、本発明の組成物ともいう。)は、上記(A)〜(E)成分を必須構成成分とする。以下、各必須成分及び任意成分についてそれぞれ説明する。
本発明の組成物に用いられる(A)成分は、下記式(1)で表される構造を有する化合物である。
本発明の組成物は、上記式(1)で表される構造を有する化合物を含有することにより、黄色度が低く色調を無色に近く抑えたままで耐熱性に優れた立体造形物を形成することができる。具体的には、ガラス転移点(Tg)が高く、熱変形温度(HDT)が高い立体造形物を得ることができる。
前記式(1)で表される構造を有する化合物の好ましい一例としては、下記式(4)で表される構造を有する化合物が挙げられる。
前記式(1)で表される構造を有する化合物の市販品としては、EHPE3150(ダイセル化学工業社製;2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1−ブタノールのエポキシ−4−(2−オキシラニル)シクロヘキセン付加物)を挙げることができる。
本発明における(A)成分の含有量は、組成物全量を100質量%として、12〜17質量%である。(A)成分の含有量が3質量%以上であることにより、耐熱性に優れた立体造形物を形成することができる。(A)成分の含有量が20質量%を超えると、立体造形物の黄色度が増加すると共に色調が強い黄色味を帯びる傾向があり、立体造形物の硬化収縮が顕著となって立体造形物の精度が低下する。
本発明の組成物に用いられる(B)成分は、(A)成分以外のカチオン重合性化合物であれば、特に限定されない。
本発明の組成物は、(B)成分を含有することにより、(A)成分や(C)成分と相まって、立体造形物の耐熱性や黄色度や色調を微調整することができる。カチオン重合性化合物として、(A)成分を用いずに(B)成分のみを用いた場合、架橋密度を上げることにより耐熱性を確保することは可能だが、黄色度が増大し、色調が黄色に偏る傾向がある。
(B1)成分の具体例としては、ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールSジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3’,4’−エポキシ−6’−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ε−カプロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、エチレングリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、エポキシシクロへキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシシクロヘキサヒドロフタル酸ジ−2−エチルヘキシル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類;エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1種又は2種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類;脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類;脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類;フェノール、クレゾール、ブチルフェノール又はアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類;高級脂肪酸のグリシジルエステル類;エポキシ化大豆油;エポキシステアリン酸ブチル;エポキシステアリン酸オクチル;エポキシ化アマニ油;エポキシ化ポリブタジエン等を挙げることができる。上記のカチオン重合性化合物は、1種単独で又は2種以上組み合わせて(B1)成分を構成することができる。
本発明の組成物中における(B1)成分の含有量は、組成物全量を100質量%として、通常10〜65質量%、好ましくは20〜55質量%、さらに好ましくは25〜50質量%である。一方、(B2)成分の含有量は、組成物全量を100質量%として、通常5〜30質量%、好ましくは10〜25質量%、さらに好ましくは15〜25質量%である。
本発明の組成物に用いられる(C)成分は、ラジカル重合性化合物である。具体的にはエチレン性不飽和結合(C=C)を有する化合物であり、1分子中に1個のエチレン性不飽和結合を有する化合物(単官能ラジカル重合性化合物)、及び1分子中に2個以上のエチレン性不飽和結合を有する化合物(多官能ラジカル重合性化合物)を挙げることができる。
本発明の組成物に用いられる(D)成分は、芳香族構造を有する1価のスルホニウムイオンと(PR3 6)−で表されるアニオンからなるオニウム塩である。ここで、R3はそれぞれ独立にフッ素原子又はフッ素化アルキル基であって、少なくとも1個のR3はフッ素化アルキル基である。
(D)成分は、放射線を吸収して酸を発生する光酸発生剤であり、(A)成分や(B)成分のカチオン重合性化合物を重合させるために配合される。
(D)成分は、アンチモン原子を含まず、リン原子を含む光酸発生剤であるため、人体に対する毒性が少なく、環境に対する負荷が小さいという利点がある。アンチモン原子を有する光酸発生剤を用いた場合には、得られる立体造形物が黄色みを強く帯びる傾向があるが、(D)成分を用いることによって、より黄色度が低く色調が無色に近い立体造形物を得ることができる。
市販品として得られる(D)成分の中には、(D)成分のダイマー等からなる芳香族構造を有する2価のスルホニウム塩を多量に含んでいる場合がある。芳香族構造を有する2価のスルホニウム塩は、液状樹脂組成物を経時的に増粘させて保存安定性を低下させる傾向がある。このため、本発明の組成物中に含まれる芳香族構造を有する2価のスルホニウム塩の含有量は、前記(D)成分の含有量の1/20(質量比)以下であることが必要である。
式(2)において、(PR3 6)−は、好ましくは、(PF6−m(CnF2n+1)m)−(ただし、mは1〜5の整数であり、nは1〜4の整数である。)である。
(D)成分が上記式(2)で表される構造を有する化合物である場合には、本発明の組成物中に含まれる下記式(3)で表される構造を有する化合物の含有量が、上記式(2)で表される構造を有する化合物の含有量の1/20(質量比)以下であることが必要である。
また、(D)成分は、アニオン部分がフッ素化アルキル基を有することにより、アンチモン原子を有する光酸発生剤と同様に優れた光硬化性を有するため、優れた耐熱性を有する立体造形物を得ることができる。(D)成分と異なり上記式(2)のアニオン部分がPF6である場合には、硬化性が(D)成分の光酸発生剤を用いた場合よりも低いため、得られる立体造形物の硬化が不十分となって、耐熱性が低下する。
(D)成分の市販品としては、CPI−200K、CPI−200S(サンアプロ社製)を挙げることができる。
本発明の組成物に用いられる(E)成分は、ラジカル重合開始剤であり、光等の放射線を受けることにより分解し、発生するラジカルによって(C)成分のラジカル重合反応を開始させる化合物(ラジカル光重合開始剤)である。
本発明の組成物には、本発明の効果を阻害しない限度で、(F)成分として染料及び/又は顔料を配合することができる。(F)成分を配合することにより、得られる立体造形物の色調を補償して、無色に近づけることができる。(F)成分としては、得られる立体造形物の透明性を低下させないためには、顔料と異なり光散乱性を有しない染料が好ましい。
(F)成分である染料及び/又は顔料は、多くの色調の市販品を、樹脂組成物の色調に応じて適宜選択して使用することができる。市販品としては、例えば、クラリアント社、ランクセス社、BASF社等から多くの種類が供給されている。
本発明の組成物中における(F)成分の含有割合は、組成物全量を100質量%として、1×10−5〜1×10−2質量%(0.1〜100ppm)が好ましく、1×10−4〜1×10−3質量%(1〜10ppm)がさらに好ましい。
本発明の立体造形物は、前記本発明の組成物に光を照射することにより得ることができる。
表1に示す配合処方に従って各成分を攪拌容器内に仕込み、60℃で3時間攪拌することにより、実施例1〜6、参考例1〜2及び比較例1〜6の液状樹脂組成物を調製した。表1の配合処方は、特に記載されていない限り、質量部で示す。
[組成物中に含まれる、(D)成分と芳香族構造を有する2価のスルホニウム塩との比率]
樹脂液とメタノールとを容積比20:80の割合でよく混合し、1時間静置した後にその上澄み液を0.45μmフィルターで濾過し、試料液とした。この試料液を高速液体クロマトグラフィー(カラム:Inertsil Ph−3型、ジーエルサイエンス社製、キャリヤー:メタノール/水=95/5(過塩素酸ナトリウム0.15%))により分析を行い、(D)成分(前記式(2)で表される構造を有する化合物等)と芳香族構造を有する2価のスルホニウム塩(前記式(3)で表される構造を有する化合物等)にそれぞれ由来するピークの面積比(ダイオードアレイで検出、波長300nmで解析)から、これらの含有量比を算出した。
(1)試験片の作製
液状樹脂組成物をガラス板状に200μm厚に塗布し、メタルハライドランプを用いて紫外線を1J/cm2で照射することで硬化膜を得た。その後、温度23℃、湿度50%の恒温恒湿室内に24時間静置して、これを試験片として測定を行った。
(2)測定
このようにして作製した硬化膜から、8cm×0.6cmの寸法の試験片を切り出した。
Rigaku社製8230型DSC測定装置を用いて、昇温速度を20℃/分として測定した。
(1)試験片の作製
ソリッドクリエーターSCS−300P(ディーメック社製)を用いて、JIS K7191規格にあるフラットワイズ法に準じた立体造形物(長さ120mm、幅10mm、厚さ4mm)を作製した。次いで、この立体造形物をソリッドクリエーターから取り出し、外表面に付着している樹脂組成物を洗浄除去した。さらに温度23℃、湿度50%の恒温恒湿室内に24時間静置し、80℃2時間熱処理したのち、これを試験片として測定を行った。
(2)測定
このようにして作製した試験片は、JIS K7191規格にあるフラットワイズのb法に従い、安田精機社製ヒートディストーションテスターを用いてHDTを測定した。測定荷重は、0.45MPaに定めた。
[黄色度]
(1)試験片の作製
厚さを10mmとした以外は熱変形温度の場合と同様にして試験片を作製した。
(2)測定
このようにして作製した試験片は、日本電色工業社製の色差計VSS−300Hを用いて黄色度を測定した(測定:透過モード)。
[色調]
目視により、色調を判定した。
[反り]
(1)試験片の作製
ソリッドクリエーターSCS−300P(ディーメック株式会社)を用いて、図1の(1)に示す立体造形物(以下、反りモデル10)を造形した。次いで、この反りモデル10をソリッドクリエーターから取り出し、外表面に付着している樹脂組成物を洗浄除去した。さらに温度23℃、湿度50%の恒温恒湿室内に24時間静置したのち、これを試験片として測定を行った。
(2)測定
図1の(2)に示すように、反りモデル10から得た試験片における脚部11の下端を水平台20に固定し、その水平台20から脚部12の下端までの距離Δhを反り量として評価し、反り量の少ない順に○、△、×とした。
各樹脂液を100gサンプルボトルに量り取り、80℃の恒温装置内に静置させた。10日間経過した後に、樹脂液の粘度が初期値の1.5倍以上に増大した場合を×、1.5倍未満である場合を○と判定した。
2021P:3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート(ダイセル化学工業社製)
エポライト4000:水添ビスフェノールジグリシジルエーテル(共栄社化学社製)
XDO:1,4−ビス{[(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ]メチル}ベンゼン
OXA:3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン(東亜合成社製)
DPHA:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(日本化薬製)
399E:ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー399E;日本化薬製)
CPI−200K:前記式(2)で(PR3 6)−が、(PF3(C2F5)3)−である化合物(サンアプロ社製)。前記式(3)で表される構造を有する化合物の含有量は、式(2)で表される化合物の1/20以下である。
CPI−100P:前記式(2)の(PR3 6)−をPF6 −で置換した構造を有する化合物(サンアプロ社製)。前記式(3)の(PR3 6)−をPF6 −で置換した構造を有する化合物の含有量は、式(2)で表される化合物の1/20以下である。
UVI−6992:前記式(2)の(PR3 6)−をPF6 −で置換した構造を有する化合物(ダウ・ケミカル社製)。前記式(3)の(PR3 6)−をPF6 −で置換した構造を有する化合物の含有量は、式(2)で表される化合物の1/20を超えている。
CPI−101A:前記式(2)の(PR3 6)−をSbF6 −で置換した構造を有する化合物(サンアプロ社製)。前記式(3)の(PR3 6)−をSbF6 −で置換した構造を有する化合物の含有量は、式(2)で表される化合物の1/20以下である。
Irgacure184:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ製)
染料:バイオレット系染料(クラリアント社製HOSTAPERM)
本発明の組成物は、樹脂液の保存安定性が良好であり、高精度の立体造形物を得ることができると共に、黄色度(イエロー・インデックス;YI)が低く、色調が無色に近く、耐熱性に優れる立体造形物を得るための用途に好適に用いられる。
11,12 脚部
20 水平台
Claims (8)
- 組成物全量を100質量%として、下記(A)〜(E)成分:
(A)下記式(1)で表される構造を有する化合物 12〜17質量%、
[式(1)において、R1はn価の有機基であり、R2は単結合、メチレン基、又は炭素数2〜4のアルキレン基であり、mは、mが複数ある場合にはそれぞれ独立に1〜10の整数であり、nは1〜6の整数である。]
(B)上記(A)成分以外のカチオン重合性化合物 15〜85質量%、
(C)ラジカル重合性化合物 0.1〜25質量%、
(D)芳香族構造を有する1価のスルホニウムイオンと(PR3 6)−(ただし、R3はそれぞれ独立にフッ素原子又はフッ素化アルキル基であって、少なくとも1個のR3はフッ素化アルキル基である。)で表されるアニオンからなるオニウム塩 0.1〜10質量%、
(E)ラジカル重合開始剤 0.01〜10質量%、
を含有する放射線硬化性液状樹脂組成物であって、
芳香族構造を有する2価のスルホニウム塩の含有量が、前記(D)成分の含有量の1/20(質量比)以下である光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物。 - 前記式(2)および式(3)において、(PR3 6)−が、(PF6−m(CnF2n+1)m)−(ただし、mは1〜5の整数であり、nは1〜4の整数である。)である請求項1又は2に記載の光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物。
- 前記(B)成分が、(B1)エポキシ基を有する化合物、及び(B2)オキセタニル基を有する化合物を含む請求項1〜4のいずれか1項に記載の光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物。
- 前記(B1)成分が、1分子中に2個以上の脂環式エポキシ基を有する化合物である請求項1〜5のいずれか1項に記載の光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物。
- 組成物全量を100質量%として、(F)染料及び/又は顔料を1×10−5〜1×10−2質量%含有する請求項1〜6のいずれか1項に記載の光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物。
- 請求項1〜7のいずれか1項に記載の光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物に光を照射することにより得られる立体造形物。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009245682A JP5430345B2 (ja) | 2009-10-26 | 2009-10-26 | 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる立体造形物 |
| PCT/NL2010/050714 WO2011053133A1 (en) | 2009-10-26 | 2010-10-26 | Radiation-curable liquid resin composition for additive fabrication and three-dimensional object made therefrom |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2009245682A JP5430345B2 (ja) | 2009-10-26 | 2009-10-26 | 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる立体造形物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2011089088A JP2011089088A (ja) | 2011-05-06 |
| JP5430345B2 true JP5430345B2 (ja) | 2014-02-26 |
Family
ID=43500419
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2009245682A Active JP5430345B2 (ja) | 2009-10-26 | 2009-10-26 | 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる立体造形物 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5430345B2 (ja) |
| WO (1) | WO2011053133A1 (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2013172406A1 (ja) * | 2012-05-18 | 2013-11-21 | シーメット株式会社 | 光学的立体造形用樹脂組成物 |
| US9416220B2 (en) | 2012-05-18 | 2016-08-16 | Cmet Inc. | Resin composition for optical stereolithography |
| JP2014196453A (ja) * | 2013-03-29 | 2014-10-16 | Jsr株式会社 | 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物、及びそれを光硬化させて得られる光造形物 |
| HUE045364T2 (hu) * | 2015-07-02 | 2019-12-30 | Huntsman Adv Mat Licensing Switzerland Gmbh | Szabadtéri tárgyak elõállítására alkalmas hõre keményedõ epoxigyanta készítmény és az ebbõl elõállított tárgyak |
| JP7489612B2 (ja) * | 2019-06-10 | 2024-05-24 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 紫外線硬化性樹脂組成物、発光装置の製造方法及び発光装置 |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US2807648A (en) * | 1955-09-16 | 1957-09-24 | Stauffer Chemical Co | Process for making sulfonium compounds |
| US4575330A (en) | 1984-08-08 | 1986-03-11 | Uvp, Inc. | Apparatus for production of three-dimensional objects by stereolithography |
| JP2590215B2 (ja) | 1988-07-15 | 1997-03-12 | 旭電化工業株式会社 | 光学的造形用樹脂組成物 |
| JPH07103218B2 (ja) | 1988-09-13 | 1995-11-08 | 旭電化工業株式会社 | 光学的造形用樹脂組成物 |
| JPH062284A (ja) | 1992-06-17 | 1994-01-11 | Fuemutoron:Kk | 捺染型の製作方法 |
| JP4017236B2 (ja) | 1998-02-24 | 2007-12-05 | Jsr株式会社 | 光硬化性液状樹脂組成物 |
| DE69940916D1 (de) | 1998-02-18 | 2009-07-09 | Dsm Ip Assets Bv | Fotohärtbare flüssige Harzzusammensetzung |
| JP3824286B2 (ja) * | 1998-02-18 | 2006-09-20 | Jsr株式会社 | 光硬化性樹脂組成物 |
| JP4017238B2 (ja) | 1998-02-24 | 2007-12-05 | Jsr株式会社 | 光硬化性液状樹脂組成物 |
| JP5226162B2 (ja) * | 2001-05-14 | 2013-07-03 | 株式会社ダイセル | 液状エポキシ樹脂組成物及びその用途 |
| US6811937B2 (en) | 2001-06-21 | 2004-11-02 | Dsm Desotech, Inc. | Radiation-curable resin composition and rapid prototyping process using the same |
| US20030108810A1 (en) * | 2001-08-22 | 2003-06-12 | Williamson Sue Ellen | Deodorizing agent for sulfur- or nitrogen-containing salt photoinitiators |
| JP4257295B2 (ja) * | 2005-01-07 | 2009-04-22 | 日東電工株式会社 | 光屈折率変調重合体組成物、ホログラム記録材料および屈折率制御方法 |
| JP2007169423A (ja) * | 2005-12-21 | 2007-07-05 | Jsr Corp | 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる光造形物 |
| JP5111774B2 (ja) * | 2006-04-04 | 2013-01-09 | シーメット株式会社 | 光学的立体造形用樹脂組成物 |
| JP4969137B2 (ja) * | 2006-04-17 | 2012-07-04 | シーメット株式会社 | 光学的立体造形用樹脂組成物 |
| JP4925900B2 (ja) * | 2007-04-10 | 2012-05-09 | シーメット株式会社 | 光学的立体造形用樹脂組成物 |
| US20090004579A1 (en) | 2007-06-27 | 2009-01-01 | Dsm Ip Assets B.V. | Clear and colorless three-dimensional articles made via stereolithography and method of making said articles |
| JP2009242327A (ja) * | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Daikin Ind Ltd | 多官能含フッ素化合物及び該化合物の製造方法 |
| TWI427117B (zh) | 2008-05-30 | 2014-02-21 | Nitto Denko Corp | 光學元件用樹脂組成物、使用其之光學元件及光學鏡片之製造方法 |
-
2009
- 2009-10-26 JP JP2009245682A patent/JP5430345B2/ja active Active
-
2010
- 2010-10-26 WO PCT/NL2010/050714 patent/WO2011053133A1/en not_active Ceased
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2011089088A (ja) | 2011-05-06 |
| WO2011053133A1 (en) | 2011-05-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3626302B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
| US6287745B1 (en) | Photocurable liquid resin composition comprising an epoxy-branched alicyclic compound | |
| JP3786480B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
| JP5843508B2 (ja) | 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物、及びそれを光硬化させて得られる光造形物 | |
| JP3626275B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
| JP4017238B2 (ja) | 光硬化性液状樹脂組成物 | |
| JP4620380B2 (ja) | 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる光造形物 | |
| JP4578223B2 (ja) | 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物 | |
| JP3715244B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
| JP2013166893A (ja) | 光学的立体造形用放射線硬化性組成物 | |
| JP5430345B2 (ja) | 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる立体造形物 | |
| JP3820289B2 (ja) | 樹脂製成形用型製造用光硬化性樹脂組成物および樹脂製成形用型の製造方法 | |
| JP4863288B2 (ja) | 光学的立体造形用光硬化性樹脂組成物及び立体造形物 | |
| JP4017236B2 (ja) | 光硬化性液状樹脂組成物 | |
| JP2014196453A (ja) | 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物、及びそれを光硬化させて得られる光造形物 | |
| JP2004035862A (ja) | 環状アセタール化合物含有光硬化性樹脂組成物及び硬化物 | |
| JP2005015627A (ja) | 光硬化性液状樹脂組成物 | |
| JP3650238B2 (ja) | 光硬化性樹脂組成物 | |
| JP2005281414A (ja) | 放射線硬化性液状樹脂組成物 | |
| JP2007169423A (ja) | 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる光造形物 | |
| JP3793721B2 (ja) | 光硬化性液状樹脂組成物 | |
| JP4750381B2 (ja) | 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる光造形物 | |
| JP3930890B2 (ja) | 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる光造形物 | |
| JP3930888B2 (ja) | 光学的立体造形用放射線硬化性液状樹脂組成物及びそれを光硬化させて得られる立体造形物 | |
| KR100461688B1 (ko) | 광-경화성 수지조성물 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120814 |
|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20130131 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20130806 |
|
| A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131004 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131203 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20131203 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5430345 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
| R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R360 | Written notification for declining of transfer of rights |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R360 |
|
| R371 | Transfer withdrawn |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R371 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313117 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |