JP5266466B2 - 光学部材、眼鏡用プラスチックレンズ及びそれらの製造方法 - Google Patents

Description

本発明は、眼鏡等に用いられるプラスチックレンズやガラスレンズ等の光学レンズを始めとする光学部材及びその製造方法に関する。

従来、光学部材の一例である眼鏡用色付きレンズとして、下記特許文献１に記載のものが知られている。このレンズの反射防止膜は、ＴｉＯｘ（ｘ＜２）で表せる不足当量酸化チタンを含む少なくとも二つの可視光吸収層を有する。

特表２００７−５２０７３８号公報

このレンズでは、不足当量酸化チタンを含む可視光吸収層によりグレー等の色が必ず付与されることとなり、着色（可視光吸収）がない状態でＴｉＯｘ（ｘ＜２）を備えさせることは考えられない。又、このレンズにより、均一な発色や抗紫外線性能を呈することが記載されているが、帯電防止に関する言及はない。光学部材が帯電すると、埃が付着し易くなり、特に眼鏡レンズにおいては拭き上げ等による手入れの頻度が高くなる。又、手入れ時に汚れや埃を拭き上げることで静電気が発生し、却って汚れや埃を表面に吸い寄せてしまい、その状態で拭き上げ等を行うと、汚れや埃を巻き込んでしまい、その結果レンズ表面に傷が入ってしまう。又、その他の光学部材においても、同様に汚れや埃の付着による傷等の外観異常を引き起こすことが考えられる。そのため、光学部材においては、帯電が防止されることが望ましい。

請求項１，５に記載の発明は、反射防止性を損なわず、透過性に優れ、そして帯電防止性能を有して、汚れや埃の付着を抑え、傷が付き難い光学部材、あるいは当該光学部材を形成可能な製造方法を提供することを目的としたものである。

上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、光学部材に関し、真空度調節用の酸素ガスを導入した真空チャンバ内で不足当量酸化チタンを蒸着することにより形成された不足当量酸化チタン膜を備えており、前記真空チャンバ内での成膜時圧力ｐ（Ｐａ）と前記不足当量酸化チタン膜の光学膜厚（屈折率２．５０、設計中心波長５００ｎｍ）が、（１）ｐ≧０．００５５、（２）光学膜厚≦０．５００λ、（３）光学膜厚≧（０．００１ｅｘｐ（９０５．７３ｐ）−０．０５０）λ、ｅｘｐは自然対数の底ｅを底とする指数関数、という関係を有することを特徴とするものである。

請求項２に記載の発明は、上記目的に加えて、より一層質を良好にする目的を達成するため、上記発明にあって、前記不足当量酸化チタン膜が、酸素イオン及び／又はアルゴンイオンでアシストしながら、あるいはプラズマ処理をしながら蒸着することにより形成されることを特徴とするものである。

請求項３に記載の発明は、上記目的に加えて、更に反射防止性との良好なマッチングを図る目的を達成するため、上記発明にあって、前記不足当量酸化チタン膜は、低屈折率層及び高屈折率層を含む反射防止膜に係る当該高屈折率層であることを特徴とするものである。

請求項４に記載の発明は、上記目的に加えて、上記の特徴を備えた眼鏡用レンズを提供する目的を達成するため、上記光学部材を用いた眼鏡用プラスチックレンズとしたことを特徴とするものである。

上記目的を達成するために、請求項５に記載の発明は、真空度調節用の酸素ガスを導入した真空チャンバ内で不足当量酸化チタンを蒸着することにより基材に不足当量酸化チタン膜を形成する光学部材の製造方法であって、前記真空チャンバ内での成膜時圧力ｐ（Ｐａ）と前記不足当量酸化チタン膜の光学膜厚（屈折率２．５０、設計中心波長５００ｎｍ）が、（１）ｐ≧０．００５５、（２）光学膜厚≦０．５００λ、（３）光学膜厚≧（０．００１ｅｘｐ（９０５．７３ｐ）−０．０５０）λ、ｅｘｐは自然対数の底ｅを底とする指数関数、という関係を有することを特徴とするものである。

請求項６に記載の発明は、上記目的に加えて、より一層質を良好にする目的を達成するため、上記発明にあって、前記蒸着は、酸素イオン及び／又はアルゴンイオンでアシストしながら、あるいはプラズマ処理をしながら行われることを特徴とするものである。

請求項７に記載の発明は、上記目的に加えて、更に反射防止性との良好なマッチングを図る目的を達成するため、上記発明にあって、前記不足当量酸化チタン膜は、低屈折率層及び高屈折率層を含む反射防止膜に係る当該高屈折率層として形成されることを特徴とするものである。

請求項８に記載の発明は、上記目的に加えて、上記の特徴を備えた眼鏡用レンズの製造方法を提供する目的を達成するため、上記の製造方法を用いて眼鏡用プラスチックレンズを製造することを特徴とするものである。

本発明によれば、成膜時圧力ｐ≧０．００５５、及び（０．００１ｅｘｐ（９０５．７３ｐ）−０．０５０）λ≦光学膜厚≦０．５００λの条件下で不足当量酸化チタンを形成することで、透過性能と帯電防止性能とを高水準で両立可能な光学部材の製造方法を提供することができる、という効果を奏する。

本発明及び比較例の特性に関する表である。 図１の吸収率測定に関するグラフであって、（ａ）は光学膜厚が０．５００λであるＴｉＯｘ層に関するものであり、（ｂ）は光学膜厚が０．０５０λであるＴｉＯｘ層に関するものである。 図１の帯電電位に関するグラフであって、（ａ）は光学膜厚が０．５００λであるＴｉＯｘ層に関するものであり、（ｂ）は光学膜厚が０．０５０λであるＴｉＯｘ層に関するものである。 本発明及び比較例の特性に関する表である。 図４の帯電電位に関する表であって、（ａ）は成膜時圧力６．７×１０^−３Ｐａに関するものであり、（ｂ）は成膜時圧力６．０×１０^−３Ｐａに関するものであり、（ｃ）は成膜時圧力５．０×１０^−３Ｐａに関するものであり、（ｄ）は成膜時圧力５．５×１０^−３Ｐａに関するものである。 図４の帯電電位に関するグラフであって、（ａ）は成膜時圧力６．７×１０^−３Ｐａに関するものであり、（ｂ）は成膜時圧力６．０×１０^−３Ｐａに関するものであり、（ｃ）は成膜時圧力５．０×１０^−３Ｐａに関するものであり、（ｄ）は成膜時圧力５．５×１０^−３Ｐａに関するものである。 成膜時圧力ｐと光学膜厚の下限の関係を示すグラフである。 反射防止膜に係る多層膜の構成や製造条件等を示す表であって、（ａ）は比較例１に関する表であり、（ｂ）は本発明に係る多層膜１に関する表であり、（ｃ）は本発明に係る多層膜２に関する表であり、（ｄ）は比較例２に関する表である。 図８の各多層膜を有するレンズの反射率測定に関するグラフである。 （ａ）は図８の各多層膜を有するレンズの帯電電位等を示す表であり、（ｂ）は（ａ）に関するグラフである。 図８の各多層膜を有するレンズの特性等に関する表である。 （ａ）は図８の各多層膜を有するレンズの紫外線照射後に係る帯電電位等を示す表であり、（ｂ）は（ａ）に関するグラフである。 （ａ）は図８の各多層膜を有するレンズの恒温恒湿環境放置後に係る帯電電位等を示す表であり、（ｂ）は（ａ）に関するグラフである。

以下、本発明に係る実施の形態の例につき、適宜図面に基づいて説明する。なお、本発明の形態は、これらの例に限定されない。

［単層膜］
光学部材は、ここではガラスあるいはプラスチック製の基材を有するレンズであり、プラスチック基材としては、例えばアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、エピスルフィド樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂、ポリ４−メチルペンテン−１樹脂、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂等が挙げられる。レンズとして屈折率が高く好適なものとして、例えばポリイソシアネート化合物とポリチオール及び／又は含硫黄ポリオールとを付加重合して得られるポリウレタン樹脂を挙げることができる。更に高屈折率のプラスチックとして、例えばエピスルフィド基とポリチオール及び／又は含硫黄ポリオールとを付加重合して得られるエピスルフィド樹脂を挙げることができる。

プラスチック基材の表面には、公知のハードコート層が形成されており、オルガノシロキサン系ハードコート層が好ましいが、他の有機ケイ酸化合物、あるいはアクリル化合物から形成しても良い。又、ガラス基材及びハードコート層を有するプラスチック基材の表面には、ＴｉＯｘ（ｘ＜２）で表せる不足当量酸化チタンから成る単層のＴｉＯｘ層（不足当量酸化チタン膜）が形成されている。なお、ｘは２より小さいが、２に近い値である。又、ハードコート層を省略したり他の層を付加したりすることで膜の構成を変更しても、ＴｉＯｘ層は同様の性能を呈する。

ＴｉＯｘ層は、次のように形成する。即ち、ガラス基材及びハードコート層付きプラスチック基材表面を露出する状態で置いた真空チャンバ内に、設定の成膜時圧力になるように酸素ガスを導入し、酸素雰囲気中で次に示す反応によりＴｉＯｘをガラス基材及びハードコート層付きプラスチック基材の表面に蒸着法にて形成した。蒸着材料として、五酸化三チタン（キヤノンオプトロン株式会社製ＯＳ−５０）を用いたが、酸化チタン全般を用ることが可能である。
Ｔｉ_３Ｏ_５ ＋ δＯ_２ → ３ＴｉＯｘ

ここで、ＴｉＯｘに係るｘの値（不足当量）は、成膜時の真空チャンバ内（真空雰囲気）に導入する酸素ガス導入量によって微調整することができ、又、成膜時の圧力は酸素ガス導入量によって決定されることになる。即ち、成膜時の圧力が高い程、酸素ガス導入量は多くなるため、ｘが２に近づき、成膜時の圧力が低い程、酸素ガス導入量は少なくなるため、ｘが２より小さくなる。

そして、まずガラス基材（屈折率１．５２）計１３枚に対し、図１に示す表の「成膜時圧力[Pa]」の欄に示す圧力において「光学膜厚（λ＝５００ｎｍ）」の欄の膜厚を有するようにＴｉＯｘ層をそれぞれ成膜し、ガラスレンズを作製した。即ち、成膜時圧力につき８種類とし、この内５種類に関しては光学膜厚が０．５００λ及び０．０５０λのものを作製し、他１種類については光学膜厚が０．５００λのものを作製し、残り２種類については光学膜厚が０．０５０λのものを作製した。

又、同様にして、ハードコート層を有するプラスチック基材（屈折率１．６０）計１３枚に対し、ＴｉＯｘ層をそれぞれ成膜し、プラスチックレンズを作製した。

これら１３組のレンズにつき、それぞれ着色の有無を外観により（特にコバ部を観察することで）確認したところ、図１の表の「外観着色」の欄に「○」を付したものは着色が認められず、「×」を付したものは明らかに着色が認められた。

又、ガラスレンズにつき、分光光度計（日立製作所株式会社製Ｕ−４１００）を用い、透過率測定及び反射率測定を行い、両者の結果を基に、次に示す式から、それぞれ可視光領域における光吸収率を測定した。
吸収率[%]＝１００−透過率[%]＋反射率[%]

図１の表の「吸収率[%]@550nm」の欄に５５０ｎｍにおける吸収率（パーセント）を示し、図２に測定結果に係るグラフを示す。この結果によれば、光学膜厚が０．５００λでは、５．０×１０^−３Ｐａ程度未満で透明性が確保できず、光学膜厚が０．０５０λでは、透明性に関しては特に問題とならないことが分かった。

一方、プラスチックレンズにつき、表面を不織布（小津産業株式会社製 pure leaf）で１０秒間擦り、その直後及び初期、初期から１分後・同２分後・同３分後のそれぞれにおいて、静電気測定器（シムコジャパン株式会社製ＦＭＸ−００３）で表面の帯電電位を測定した。又、付着試験として、前記と同様に表面を不織布で１０秒間擦った後スチールウール粉に近づけることで、レンズ表面へのスチールウール粉の付着具合を観察し、帯電の程度を確認した。

図１の表の「初期」の欄に擦る直前の電位（ｋＶ・キロボルト・絶対値、以下同様）を示し、「１０秒擦った直後」「１分後」「２分後」「３分後」にそれぞれの電位を示す。又、これらの電位に関するグラフを図３に示す。更に、図１の表の「スチールウール付着」の欄に、付着の有無を、付着しなかった場合に「○」を付し、付着した場合に「×」を付すことで示す。

この電位ないしスチールウール付着の状況（帯電していると付着する）からレンズの帯電防止性を判断すると、図１の表の「帯電防止性能」の欄に記載した通りとなる。即ち、「○」を付したものは帯電防止性が良好であり、「×」を付したものは帯電防止性につき比較的に劣る。

そして、これら透過性能と帯電防止性能との観点から、高水準に両立できそうな成膜時圧力範囲において各種膜厚を有するレンズを、上記と同様にして計３２組６４枚更に作製した。即ち、図４の表の「成膜時圧力[Pa]」ないし「光学膜厚（λ＝５００ｎｍ）」の欄に示すように、成膜時圧力７．５×１０^−３Ｐａで光学膜厚が０．５００λ・０．０５０λの２組、成膜時圧力６．７×１０^−３Ｐａで光学膜厚が０．５００λ〜０．０５０λ（０．０５０λ毎）の１０組、成膜時圧力６．０×１０^−３Ｐａで光学膜厚が０．５００λ〜０．１００λ（０．０５０λ毎、但し０．３５０λ・０．２５０λを除く）の７組、成膜時圧力５．５×１０^−３Ｐａで光学膜厚が０．２００λ・０．１５０λの２組、成膜時圧力５．０×１０^−３Ｐａで光学膜厚が０．５００λ〜０．０５０λ（０．０５０λ毎、但し０．４５０λ・０．３５０λ・０．２５０λを除く）の７組、成膜時圧力４．０×１０^−３Ｐａ・３．０×１０^−３Ｐａでそれぞれ光学膜厚が０．０５０λの１組ずつ、成膜時圧力２．０×１０^−３Ｐａで光学膜厚が０．５００λ・０．０５０λの２組を作製した。又、これらのレンズにつき、上記と同様にして透過性能と帯電防止性能に関する測定を行った。

図４の表の「帯電防止」の欄に、上記と同様、帯電電位測定とスチールウール粉付着状況から判定した帯電防止性能の良否を、良好な場合「○」を付し、比較的に劣る場合に「×」を付することで示し、「着色」の欄に、上記と同様、外観観察と吸収率算出結果から判定した透明性の良否を、良好な場合「○」を付し、比較的に劣る場合に「×」を付することで示す。

透過性能と帯電防止性能は、成膜時圧力６．７×１０^−３Ｐａにおいては光学膜厚が０．５００λ・０．４５０λの際に両立し、成膜時圧力６．０×１０^−３Ｐａにおいては光学膜厚が０．５００λ〜０．２００λの際に両立し、成膜時圧力５．５×１０^−３Ｐａにおいては光学膜厚が０．２００λ・０．１５０λの際に両立し、成膜時圧力５．０×１０^−３Ｐａにおいては光学膜厚が０．５００λ〜０．１００λの際に両立する。なお、成膜時圧力２．０×１０^−３Ｐａかつ光学膜厚０．０５０λにおいてもこれらの性能が両立するが、ＴｉＯｘ層成膜時に光学式膜厚計で光吸収が確認されたため、この点で光学部材としての性能に劣ることとなる。

図５において帯電電位測定結果を図１と同様に示し、図６においてそのグラフを図３と同様に示す。なお、「スチールウール付着」の欄における「△」は、若干の付着があることを示し、「帯電防止性能」の欄における「△」は、摩擦が与えられてもスチールウール粉を寄せ付けない程の高水準の帯電防止性能を有さないが、スチールウールを積極的に引寄せず僅かに引寄せる程度の水準の帯電防止性能は有していることを示す。

以上より、高水準の透過性能と帯電防止性能を保持させるには、次の条件を満たせば良いこととなる。

即ち、まず光学膜厚が０．５００λを超えるとＴｉＯｘ膜における光学特性に影響が出るため、次に示すように光学膜厚を０．５００λ以下とする。
光学膜厚≦０．５００λ

次に、上記光学式膜厚計での光吸収の発生を防止するため、成膜時圧力ｐにつき、ＴｉＯｘ膜において光学式膜厚計での光吸収の発生しない５．０×１０^−３（０．００５）Ｐａとする。
ｐ≧０．００５

続いて、それぞれの成膜時圧力ｐに対し帯電防止性と透明性（無着色）との両立を図ることのできる光学膜厚の下限を考える。図１〜６（特に図４）から、成膜時圧力６．７×１０^−３Ｐａにおいては０．４５０λが下限であり、成膜時圧力６．０×１０^−３Ｐａにおいては０．２００λが下限であり、成膜時圧力５．５×１０^−３Ｐａにおいては０．１５０λが下限であり、成膜時圧力５．０×１０^−３Ｐａにおいては０．１００λが下限である。

図７はこのような成膜時圧力ｐと光学膜厚の下限の関係についてのグラフである。光学膜厚は、真空度の誤差に起因する屈折率変化等によりプラスマイナス０．０５０λ程度の誤差が考えられるため、誤差範囲を±０．０５０λとしている。

当該グラフにおいては、上記４種に係る成膜時圧力ｐと光学膜厚の関係が誤差範囲を考慮した状態でプロットされている。そして、これら４点のプロットに対し、自然対数の底ｅを底とする指数関数｛光学膜厚＝（ａ・ｅｘｐ（ｂ・ｐ））λ｝をプロットに対する誤差の最も少ない状態で（最小自乗法により）フィットさせると、ａ＝０．００１，ｂ＝９０５．７３となる。

更に、光学膜厚に関する誤差の下限（光学膜厚につき−０．０５０λ）を考慮すると、次の１番目の関係式となる。なお、当該誤差を考慮しない２番目の関係式としても良いし（図７は２番目の関係式を示している）、当該誤差に対し余裕を持つことでより一層性能に配慮するために当該誤差の上限（光学膜厚につき＋０．０５０λ）を考慮する３番目の関係式としても良い。
光学膜厚＝（０．００１ｅｘｐ（９０５．７３ｐ）−０．０５０）λ
光学膜厚＝（０．００１ｅｘｐ（９０５．７３ｐ））λ
光学膜厚＝（０．００１ｅｘｐ（９０５．７３ｐ）＋０．０５０）λ

そして、これら関係式は帯電防止性と透明性の両立を図ることのできる光学膜厚の下限に関するため、帯電防止性と透明性を両立する光学膜厚の範囲は、光学膜厚≦０．５００λの他、次の１番目に示すものとなる。なお、２番目あるいは３番目のものとしても良い。
光学膜厚≧（０．００１ｅｘｐ（９０５．７３ｐ）−０．０５０）λ
光学膜厚≧（０．００１ｅｘｐ（９０５．７３ｐ））λ
光学膜厚≧（０．００１ｅｘｐ（９０５．７３ｐ）＋０．０５０）λ

以上、帯電防止性と透明性の両立を高水準で図ることのできる成膜時圧力ｐと光学膜厚の関係につきまとめると、次の通りとなる。但し、ｅｘｐは自然対数の底ｅを底とする指数関数である。
（１）ｐ≧０．００５
（２）光学膜厚≦０．５００λ
（３）光学膜厚≧（０．００１ｅｘｐ（９０５．７３ｐ）−０．０５０）λ

［多層膜］
上記単層膜に係る形態に則し、次に説明する多層膜を反射防止膜として成膜する。ここでは、低屈折率層をＳｉＯ_２（二酸化ケイ素、屈折率１．４７）で形成し、高屈折率層をＴｉＯｘ（屈折率２．５０）層又はＴｉＯ_２（二酸化チタン、屈折率２．４３）で形成する。ＴｉＯｘ層は、単層膜における帯電防止性に照らし、１層のみで十分である。なお、低屈折率層や高屈折率層の膜材料として、Ａｌ_２Ｏ_３（三酸化二アルミニウム）、Ｙ_２Ｏ_３（三酸化二イットリウム）、ＺｒＯ_２（二酸化ジルコニウム）、Ｔａ_２Ｏ_５（五酸化二タンタル）、ＨｆＯ_２（二酸化ハフニウム）、Ｎｂ_２Ｏ_５（五酸化二ニオブ）等の公知のものを用いることができる。

上記反射防止膜上には、レンズ表面の撥水撥油性の向上や水ヤケを防止するために、フッ素化合物からなる防汚被膜層が形成されている。防汚被膜層は、ディッピング法、スピンコート法、スプレー法、蒸着法等の公知の方法で形成することができる。

図８（ａ）はＴｉＯｘ層を用いずＴｉＯ_２を用いた比較例１を示す表であり、（ｂ），（ｃ）は本発明の多層膜に係る各形態（順に多層膜１，２とする）を示す表であり、（ｄ）はＴｉＯｘ層を用いてはいるが本発明の成膜時圧力に対する光学膜厚の範囲外で形成した比較例２を示す表である。

比較例１では、公知の方法により、ハードコート付き基材の側から順に第１層（ＳｉＯ_２層）、第２層（ＴｉＯ_２層）というように第７層（ＳｉＯ_２層）まで低屈折率層と高屈折率層が交互に形成されている。各層の光学膜厚（設計中心波長λ＝５００ｎｍ）は表に示すとおりであり、このような各層の成膜時には、膜質の向上のため適宜イオンアシストを表に示す加速電圧（Ｖ・ボルト）ないし加速電流（ｍＡ・ミリアンペア）にて実施すると共に、適宜「成膜時圧力[Pa]」で示す値になるように、酸素ガスの導入を実施する。なお、イオンアシストはここでは酸素イオンによるが、アルゴンイオンを始めとする他のイオンを用いても良い。又、イオンアシストに代えて、あるいはイオンアシストと共にプラズマ処理を施しても良い。

一方、多層膜１では、比較例と同様にして第３層まで成膜された後、上記の単層膜に係る成膜と同様の方法によりＴｉＯｘ層である第４層が形成され、更に比較例と同様に第５層以降第７層までが形成される。但し、ＴｉＯｘ層は、比較例と同様にして、７５０Ｖ・２５０ｍＡの電流により帯電した酸素イオンによるイオンアシストを、酸素ガスの付与と共に施しつつ成膜される。そして、ＴｉＯｘ層は、５．０×１０^−３Ｐａの成膜時圧力と、当該イオンアシストと、調整された蒸着時間とにより、光学膜厚０．１８５λとして成膜される。

又、多層膜２では、比較例と同様にして第５層まで成膜された後、上記の単層膜に係る成膜と同様の方法によりＴｉＯｘ層である第６層が形成され、更に比較例と同様に第７層が形成される。ＴｉＯｘ層は、５．０×１０^−３Ｐａの成膜時圧力と、７５０Ｖ・２５０ｍＡでのイオンアシストと、調整された蒸着時間とにより、光学膜厚０．１７３λとして成膜される。

他方、比較例２では、ＴｉＯｘ層に係る成膜時圧力を除き多層膜１と同様に形成され、当該ＴｉＯｘ層は、６．０×１０^−３Ｐａの成膜時圧力と、７５０Ｖ・２５０ｍＡでのイオンアシストと、調整された蒸着時間とにより、光学膜厚０．１８５λとして成膜される。比較例２では、本発明の６．０×１０^−３Ｐａの成膜時圧力における光学膜厚範囲（およそ０．５００λ〜０．２００λ）の外にある０．１８５λの光学膜厚を有する。

これらの比較例１，２ないし多層膜１，２（各１枚）の可視光領域におけるレンズ表面の反射率を測定した結果を図９に示す。図９によれば、多層膜１，２の反射率特性は、比較例１，２のそれと比べて同等で遜色のないことが分かる。つまり、反射防止膜としての性能は同等であることが分かる。

又、帯電防止性を評価するため、単層膜の場合と同様の帯電電位測定及びスチールウール付着試験を行った結果の表を図１０（ａ）に示し、帯電電位測定に係るグラフを図１０（ｂ）に示す。これによれば、多層膜１，２は比較例１，２と比べて高水準の帯電防止性を有することが分かる。

更に、その他の性能を評価するための各種試験の結果に関する表を図１１に示す。

まず、単層膜と同様の外観観察によるレンズの着色に関する判定を、「着色」の欄に示す。即ち、比較例１，２ないし多層膜１，２では、着色が認められなかった。

次に、紫外線を照射するキセノンランプを１２０時間照射した後の外観劣化に関する判定を、「キセノン照射１２０ｈｒ後」の欄に示す。この場合においても、比較例１，２ないし多層膜１，２では、着色が認められなかった。

続いて、アルカリ人工汗液に２４時間浸漬させた後の変化に関する結果を、「アルカリ人工汗」の欄に示す。ここで、アルカリ人工汗液は、ビーカーに塩化ナトリウムを１０グラム（ｇ）、リン酸水素ナトリウム１２水和水を２．５ｇ、炭酸アンモニウムを４．０ｇ入れ、純水１リットル中に溶かして作製したものである。このアルカリ人工汗液にレンズを浸漬させ、２０度に保たれた環境下で２４時間静置し、２４時間静置後にレンズを取り出し、水洗い後に外観検査を行った。即ち、比較例１，２及び多層膜１，２において、アルカリ人工汗液に長時間浸漬させても、外観の変化はみられなかった。

又、レンズを浸漬させるのに十分な量の市水をビーカーで沸騰させ、沸騰した市水の中でレンズを１０分間浸漬・煮沸させた後の外観変化に関する結果を、「市水煮沸試験」の欄に示す。即ち、比較例１，２及び多層膜１，２において、１０分間浸漬・煮沸させても、形成した反射防止膜の剥がれはなく、良好な結果であった。

更に、６０度・９５％の環境に７日間置いた際の変化に係る恒温恒湿試験の結果を、「恒温恒湿試験（７日）」の欄に示す。即ち、比較例１，２ないし多層膜１，２では、恒温恒湿試験による変化は認められなかった。

加えて、上記のキセノンランプ照射試験後のレンズに対する、単層膜と同様の帯電試験の結果についての表を図１２（ａ）に示し、グラフを図１２（ｂ）に示す。これによれば、比較例１，２では帯電防止性に劣る一方、多層膜１，２は強烈な紫外線に長時間さらされた後でも帯電防止性能を維持することが分かり、帯電防止性能の耐紫外線性が認められる。

更に、上記の恒温恒湿試験のレンズに対する、同様の帯電試験の結果についての表を図１３（ａ）に示し、グラフを図１３（ｂ）に示す。これによれば、比較例１，２では帯電防止性が認められない一方、多層膜１，２は低温サウナに類する高温高湿度環境に長時間さらされた後でも帯電防止性能を維持することが分かり、帯電防止性能の耐久性が認められる。

以上によれば、多層膜にあっても、ＴｉＯｘ層を成膜時圧力５．０×１０^−３Ｐａにおいて光学膜厚０．１７３λとして形成すれば、どの位置にＴｉＯｘ層を配置しても、透過性と帯電防止性の高レベルでの両立を図ることができる。又、同様に他の成膜時圧力について試験等を行ったところ、上記単層膜の場合と同様の条件を満たすＴｉＯｘ層を１層設ければ、透過性と帯電防止性とを高水準で両立することができることが判明した。更に、帯電防止性能につき、紫外線や高温高湿環境に対する優れた耐久性を有することが分かった。なお、ＴｉＯｘ層を１層設ければ透過性を損なわずに帯電防止性を付与することができるものの、上記の条件を満たすＴｉＯｘ層を２層以上設けても良い。又、５層構造を始めとする他の多層構造の１層ないし複数層に上記の条件を満たすＴｉＯｘ層を設けても良い。

Claims (8)

1. 真空度調節用の酸素ガスを導入した真空チャンバ内で不足当量酸化チタンを蒸着することにより形成された不足当量酸化チタン膜を備えており、
   前記真空チャンバ内での成膜時圧力ｐ（Ｐａ）と前記不足当量酸化チタン膜の光学膜厚（屈折率２．５０、設計中心波長５００ｎｍ）が、以下に示す関係を有する
   ことを特徴とする光学部材。
   （１）ｐ≧０．００５５
   （２）光学膜厚≦０．５００λ
   （３）光学膜厚≧（０．００１ｅｘｐ（９０５．７３ｐ）−０．０５０）λ、ｅｘｐは自然対数の底ｅを底とする指数関数
2. 前記不足当量酸化チタン膜が、酸素イオン及び／又はアルゴンイオンでアシストしながら、あるいはプラズマ処理をしながら蒸着することにより形成される
   ことを特徴とする請求項１に記載の光学部材。
3. 前記不足当量酸化チタン膜は、低屈折率層及び高屈折率層を含む反射防止膜に係る当該高屈折率層である
   ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学部材。
4. 請求項１ないし請求項３の何れかに記載の光学部材を用いた
   ことを特徴とする眼鏡用プラスチックレンズ。
5. 真空度調節用の酸素ガスを導入した真空チャンバ内で不足当量酸化チタンを蒸着することにより基材に不足当量酸化チタン膜を形成する光学部材の製造方法であって、
   前記真空チャンバ内での成膜時圧力ｐ（Ｐａ）と前記不足当量酸化チタン膜の光学膜厚（屈折率２．５０、設計中心波長５００ｎｍ）が、以下に示す関係を有する
   ことを特徴とする光学部材の製造方法。
   （１）ｐ≧０．００５５
   （２）光学膜厚≦０．５００λ
   （３）光学膜厚≧（０．００１ｅｘｐ（９０５．７３ｐ）−０．０５０）λ、ｅｘｐは自然対数の底ｅを底とする指数関数
6. 前記蒸着は、酸素イオン及び／又はアルゴンイオンでアシストしながら、あるいはプラズマ処理をしながら行われる
   ことを特徴とする請求項５に記載の光学部材の製造方法。
7. 前記不足当量酸化チタン膜は、低屈折率層及び高屈折率層を含む反射防止膜に係る当該高屈折率層として形成される
   ことを特徴とする請求項５又は請求項６に記載の光学部材の製造方法。
8. 請求項５ないし請求項７の何れかに記載の製造方法を用いて眼鏡用プラスチックレンズを製造する
   ことを特徴とする眼鏡用プラスチックレンズの製造方法。

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