[go: up one dir, main page]

JP5265368B2 - 芳香環を有するフルオロホウ素化合物もしくはその塩、およびそれらを用いた環状エーテル縮合芳香環を有する化合物の製造方法 - Google Patents

芳香環を有するフルオロホウ素化合物もしくはその塩、およびそれらを用いた環状エーテル縮合芳香環を有する化合物の製造方法 Download PDF

Info

Publication number
JP5265368B2
JP5265368B2 JP2008534343A JP2008534343A JP5265368B2 JP 5265368 B2 JP5265368 B2 JP 5265368B2 JP 2008534343 A JP2008534343 A JP 2008534343A JP 2008534343 A JP2008534343 A JP 2008534343A JP 5265368 B2 JP5265368 B2 JP 5265368B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ring
group
compound
reaction
salt
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
JP2008534343A
Other languages
English (en)
Other versions
JPWO2008032702A1 (ja
Inventor
圭悟 田中
則夫 村井
修司 白鳥
聰 永尾
雄造 渡部
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Eisai R&D Management Co Ltd
Original Assignee
Eisai R&D Management Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Eisai R&D Management Co Ltd filed Critical Eisai R&D Management Co Ltd
Priority to JP2008534343A priority Critical patent/JP5265368B2/ja
Publication of JPWO2008032702A1 publication Critical patent/JPWO2008032702A1/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5265368B2 publication Critical patent/JP5265368B2/ja
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D215/00—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems
    • C07D215/02—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D215/16—Heterocyclic compounds containing quinoline or hydrogenated quinoline ring systems having no bond between the ring nitrogen atom and a non-ring member or having only hydrogen atoms or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D215/20—Oxygen atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D307/87—Benzo [c] furans; Hydrogenated benzo [c] furans
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/77—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D307/92—Naphthofurans; Hydrogenated naphthofurans
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D311/00—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings
    • C07D311/02—Heterocyclic compounds containing six-membered rings having one oxygen atom as the only hetero atom, condensed with other rings ortho- or peri-condensed with carbocyclic rings or ring systems
    • C07D311/76—Benzo[c]pyrans
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D491/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00
    • C07D491/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00 in which the condensed system contains two hetero rings
    • C07D491/04—Ortho-condensed systems
    • C07D491/044—Ortho-condensed systems with only one oxygen atom as ring hetero atom in the oxygen-containing ring
    • C07D491/048—Ortho-condensed systems with only one oxygen atom as ring hetero atom in the oxygen-containing ring the oxygen-containing ring being five-membered
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F5/00—Compounds containing elements of Groups 3 or 13 of the Periodic Table
    • C07F5/02—Boron compounds

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Furan Compounds (AREA)
  • Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Oxygen Or Sulfur (AREA)

Description

本発明は、分子内アルコキシメチル化反応によって、芳香環に縮合した環状エーテルを形成させることができるフルオロホウ素化合物またはその塩、およびそれらの製造方法、ならびにそのホウ素化合物もしくはその塩を用いた、環状エーテル縮合芳香環を有する化合物の合成方法に関する。
パラジウム触媒の存在下でアルコキシメチルスズ化合物等の有機スズ化合物を用いて、芳香環にアルコキシメチル基あるいはヒドロキシメチル基等のオキシメチル基を導入するための分子間のカップリング反応がこれまでに報告されている。この反応に用いることができる有機スズ化合物として、非特許文献１に開示されているメトキシメチルトリブチルスズあるいは非特許文献２に開示されているヒドロキシメチルトリブチルスズ等が報告されている。また非特許文献３および非特許文献４にはアルコキシメチルフルオロホウ素化合物が記載されている。
Chem. Lett., 1225, 1984. Chem. Lett., 997, 1985. Org. Lett., 8, 2031, 2006. Org. Lett., 8, 2767, 2006.
金属触媒の存在下で芳香環をアルコキシメチル化またはヒドロキシメチル化（以下、これらを合わせてオキシメチル化という。）できる試薬として、上記非特許文献１および非特許文献２に開示されている有機スズ化合物が知られているが、有機スズ化合物の持つ毒性の問題が生じるおそれがあり、工業的使用には適さない。さらに、有機スズ化合物の製造は、多くの場合シリカゲルを用いたクロマトグラフィーによる精製が必要であり、工業的な大量生産に適さないという問題がある。そのため、金属触媒存在下で芳香環をオキシメチル化する反応に用いるための、安全性に優れ且つ大量生産しやすい化合物の開発、およびその製造方法の確立が望まれている。有機ホウ素化合物は、有機スズ化合物と比較して安全性が高く、さらに、有機フルオロホウ素化合物に関しては一般に安定性に優れており、取り扱いも容易であることが知られているが、上記非特許文献３および非特許文献４に開示されているオキシメチルフルオロホウ素化合物を芳香環の分子間オキシメチル化に用いた例は知られていない。
さらに、上記課題とは別に、または上記課題に加えて、上記のアルコキシメチル化反応は分子間反応に限定されており、金属触媒存在下の分子内アルコキシメチル化反応による、環状エーテルが縮合した芳香環を有する化合物の合成法はこれまで知られていない。
本発明の目的は、安全性および安定性が高く、しかも取り扱いやすい有機フルオロホウ素化合物もしくはその塩を用い、芳香族化合物の分子内アルコキシメチル化反応によって環状エーテルが縮合した芳香環を有する化合物の製造方法、ならびにその方法に用いる化合物およびその化合物の合成方法を提供することである。
本発明者は、フルオロホウ素化合物もしくはその塩を用いた分子内アルコキシメチル化反応によって、芳香環に縮合した環状エーテルを形成できることを見出し、本発明を完成させた。
本発明のフルオロホウ素化合物もしくはその塩は、芳香環を有するフルオロホウ素化合物もしくはその塩であって、分子内アルコキシメチル化反応により、前記芳香環に縮合した環状エーテルを形成することができるフルオロホウ素化合物もしくはその塩である。
さらに本発明のフルオロホウ素化合物もしくはその塩は、下記式（Ｉ）で表されるフルオロホウ素化合物もしくはその塩である。
（式Ｉ中、下記[化２]は、Ｌ及び−Ｒ−Ｏ−ＣＨ2ＢＦ3Ｍ以外の置換基を有するかまたは有しない芳香環を表し；Ｌは脱離基を表し；Ｒは炭素数１〜２の置換もしくは非置換のアルキレン基を表し；Ｍは、アルカリ金属カチオン、［Ｎ（Ｒ1）（Ｒ2）（Ｒ3）（Ｒ4）］+、または［Ｐ（Ｒ1）（Ｒ2）（Ｒ3）（Ｒ4）］+（Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ独立して、Ｃ1-6アルキル基またはＣ7-16アラルキル基を意味する。）を表し；上記Ｌと−Ｒ−ＯＣＨ2ＢＦ3Ｍは、それぞれ、前記芳香環上の隣接する炭素原子上に存在するか、または前記芳香環が２以上の環からなる縮合環である場合は、１つの縮合位炭素に隣接する２つの炭素原子上に、Ｌと−Ｒ−ＯＣＨ2ＢＦ3Ｍがそれぞれ存在する。）
上記脱離基Ｌは、ハロゲン原子、置換もしくは非置換のアルキルスルホニルオキシ基、および置換もしくは非置換のアリールスルホニルオキシ基からなる群から選択される基である。これらのうち、ハロゲン原子が好ましく、塩素原子および臭素原子がより好ましい。
さらに、上記式（Ｉ）において、Ｒは、任意選択で１つ以上のＣ1-6アルキル基で置換されていてもよい、メチレン基またはエチレン基を表すことが好ましい。非置換のメチレン基または非置換のエチレン基が特に好ましい。
さらに、上記式（Ｉ）において、下記式[化３]で表される芳香環は、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、イミダゾール環、トリアゾール環、チアゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、フラザン環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、プテリジン環、キノリン環、イソキノリン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、シンノリン環、キナゾリン環、フタラジン環、イミダゾピリジン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドール環、イソインドール環、インダゾール環、ピロロピリジン環、チエノピリジン環、フロピリジン環、ベンゾチアジアゾール環、ベンゾオキサジアゾール環、ピリドピリミジン環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゾ[１，３]ジオキソール環、およびチエノフラン環からなる群から選択されることが好ましい。
さらに上記式（Ｉ）において、下記式[化４] で表される芳香環は、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、およびキノリン環からなる群から選択されることが好ましい。
さらに上記式（Ｉ）において、下記式[化５] で表される芳香環はベンゼン環、キノリン環、またはナフタレン環であることが好ましい。
なお、上記各芳香環は、上述のとおりＬ及び−Ｒ−ＯＣＨ2ＢＦ3Ｍ以外の置換基を任意選択でさらに有していてもよく、そのような置換基をもつ芳香環を有するフルオロホウ素化合物もしくはその塩も本発明の範囲に含まれる。
さらに、上記式（Ｉ）において、Ｍはアルカリ金属カチオンであることが好ましい。
さらに、上記式（Ｉ）において、Ｍはカリウムイオンまたはナトリウムイオンであることが好ましい。
本発明はさらに、下記式（ＩＩ）で表される、環状エーテルが縮合した芳香環を有する化合物の製造方法を提供し、本発明の製造方法は、金属触媒の存在下で、上述したフルオロホウ素化合物もしくはその塩の分子内アルコキシメチル化反応を起こさせるステップを含む。（式（ＩＩ）中、
およびＲの定義は、前記式（Ｉ）における定義と同じである。）
なお、本発明のフルオロホウ素化合物もしくはその塩は溶媒和物であってもよく、溶媒和物も本発明のフルオロホウ素化合物もしくはその塩の一態様である。
本発明のフルオロホウ素化合物もしくはその塩は、取り扱いが容易で、しかも安全性および安定性が高く、金属触媒を用いた分子内アルコキシメチル化反応によって、環状エーテルが縮合した芳香環を一段階で作ることができる。
以下に本明細書において使用される用語について説明する。
本発明において、「芳香環」とは、芳香族性を有する環状の基を意味し、単環でも縮合環でもよく、芳香族炭化水素環式基（アリール基）でも芳香族へテロ環式基（ヘテロアリール基）でもよく、またこれらがさらに置換基を有しているものも含まれる。
上記芳香環が置換基を有する場合、その置換基としては下記のものなどが挙げられるがこれらに限定されない：ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子およびヨウ素原子）；ヒドロキシル基またはアルコキシ基を有していてもよいアルキル基（例えば、Ｃ1-6アルキル基）；アルケニル基（例えばＣ2-6アルケニル基）；アルキニル基（例えば、Ｃ2-6アルキニル基）；シクロアルキル基（例えばＣ3-8シクロアルキル基）；アリール基（例えば、フェニル基およびナフチル基）；ヘテロアリール基；アラルキル基；ヘテロアラルキル基；飽和または不飽和非芳香族ヘテロシクリル基（例えば、２−、３−および４−モルホリニル基、２−および３−ピペリジル基、２−および３−ピロリジニル基、ならびに２−および３−テトラヒドロフリル基）；ヒドロキシル基；アルコキシ基（例えばＣ1-6アルコキシ基）；シクロアルキルオキシ基（例えば、Ｃ3-8シクロアルキルオキシ基）；アリールオキシ基；ヘテロアリールオキシ基；飽和または不飽和非芳香族ヘテロシクリルオキシ基；カルボキシル基；アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、およびブトキシカルボニル基）；Ｃ3-8シクロアルキルオキシカルボニル基（例えば、シクロプロピルオキシカルボニル基およびシクロヘキシルオキシカルボニル基）；アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基）；ヘテロアリールオキシカルボニル基；ヘテロアラルキルオキシカルボニル基；飽和または不飽和非芳香族ヘテロシクリルオキシカルボニル基；アルキルカルボニル基（例えば、Ｃ1-6アルキルカルボニル基（例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基））；飽和または不飽和非芳香族ヘテロシクリルカルボニル基；アルコキシ、アルケニルオキシ、アルキニルオキシ、シクロアルキルオキシ、シクロアルケニルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アラルキルオキシ、ヘテロアラルキルオキシ、および飽和または不飽和非芳香族ヘテロシクリルオキシカルボニルアミノ基；アルキルチオ、アルケニルチオ、アルキニルチオ、シクロアルキルチオ、シクロアルケニルチオ、アリールチオ、ヘテロアリールチオ、アラルキルチオ、ヘテロアラルキルチオ、および飽和または不飽和非芳香族ヘテロシクリルチオカルボニルアミノ基；アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、アラルキル、ヘテロアラルキル、および飽和または不飽和非芳香族ヘテロシクリルウレア基；アミノ基（アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、ヘテロアラルキル基、および飽和もしくは不飽和非芳香族ヘテロシクリル基から選ばれる置換基を１種または２種有していてもよく、また１種の置換基を有する場合、一置換であっても二置換であってもよい（ここで窒素原子に結合した２つのアルキルまたはアルケニル基は、一緒になって１つ以上のヘテロ原子を有していてもよい環を形成してもよい））；アミノカルボニル基（アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、シクロアルキル基、シクロアルケニル基、アリール基、ヘテロアリール基、アラルキル基、ヘテロアラルキル基、および飽和もしくは不飽和非芳香族ヘテロシクリル基、から選ばれる置換基を１種または２種有していてもよく、また１種の置換基を有する場合、一置換であっても二置換であってもよい）；ニトロ基；シアノ基；アルキルチオ基；アルケニルチオ基；シクロアルキルチオ基；シクロアルケニルチオ基；アリールチオ基；ヘテロアリールチオ基；アルキル、アルケニル、シクロアルキル、シクロアルケニル、アリール、ヘテロアリール、飽和または不飽和非芳香族ヘテロシクリルスルホニル基。
なお、芳香環上に存在する上記置換基がさらに置換基を有していてもよい。また、芳香環上の隣接する炭素に結合した２つのアルキル置換基が一緒になって飽和または不飽和の環を形成していてもよく、さらにこの環が１つ以上のヘテロ原子を含んでいてもよく、この環がさらに置換基を有していてもよい。芳香環上の置換基の数は特に限定されず、同一種類の置換基を２以上有することも、異なる置換基を２以上有することもできる。これらの場合の置換基としては、上述した置換基が挙げられるがこれらに限定されない。
上記置換基のうちヒドロキシル基およびアミノ基など、保護基で保護された形態をとりうる置換基は、保護基で保護された形態であることができ、保護基は公知の保護基を用いることができる。アミノ基の保護基としては、例えば、tert−ブトキシカルボニルおよびベンジルオキシカルボニル等を挙げることができ、ヒドロキシ基の保護基としては、例えば、アセチル基、ベンジル基、tert−ブチルジメチルシリル基、およびトリメチルシリル基等を挙げることができるが、これらに限定されない。
本明細書において「Ｃ1-6アルキル基」とは、炭素数１〜６個の脂肪族炭化水素から任意の水素原子を１個除いて誘導される一価の、炭素数１〜６個の直鎖状または分枝鎖状のアルキル基を意味する。Ｃ1-6アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、１−プロピル基、２−プロピル基、２−メチル−１−プロピル基、２−メチル−２−プロピル基、１−ブチル基、２−ブチル基、１−ペンチル基、２−ペンチル基、３−ペンチル基、２−メチル−１−ブチル基、３−メチル−１−ブチル基、２−メチル−２−ブチル基、３−メチル−２−ブチル基、２，２−ジメチル−１−プロピル基、１−へキシル基、２−へキシル基、３−へキシル基、２−メチル−１−ペンチル基、３−メチル−１−ペンチル基、４−メチル−１−ペンチル基、２−メチル−２−ペンチル基、３−メチル−２−ペンチル基、４−メチル−２−ペンチル基、２−メチル−３−ペンチル基、３−メチル−３−ペンチル基、２，３−ジメチル−１−ブチル基、３，３−ジメチル−１−ブチル基、２，２−ジメチル−１−ブチル基、２−エチル−１−ブチル基、３，３−ジメチル−２−ブチル基、および２，３−ジメチル−２−ブチル基等を挙げることができるが、好ましくはメチル基、エチル基、１−プロピル基、２−プロピル基、２−メチル−１−プロピル基、２−メチル−２−プロピル基、１−ブチル基または２−ブチル基であり、より好ましくはメチル基またはエチル基である。
本明細書において、「Ｃ1-6アルコキシ基」とは、上記Ｃ1-6アルキル基に酸素原子が結合したアルキルオキシ基、例えば、メトキシ基、エトキシ基、１−プロピルオキシ基、２−プロピルオキシ基、２−メチル−１−プロピルオキシ基、２−メチル−２−プロピルオキシ基、１−ブチルオキシ基、および２−ブチルオキシ基などが挙げられるがこれらに限定されない。
本明細書において、「シクロアルキル基」とは、３以上の炭素原子からなる環状化学構造を有する飽和炭化水素基を意味する。シクロアルキル基を構成する炭素原子は、３以上であればよく特に限定されないが、好ましくは炭素数３〜１２、さらに好ましくは炭素数３〜８である。シクロアルキル基の具体例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、およびデカヒドロナフタレン基が挙げられる。
本明細書において、「アラルキル基」とは、アルキル基にアリール基が結合した基を意味する。なかでも「Ｃ7-16アラルキル基」とは、上記「Ｃ1-6アルキル基」にＣ6-14アリール基（炭素数が６ないし１４個の芳香族の炭化水素環式基を意味し、具体例としては、例えばフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、インデニル基、アズレニル基、ヘプタレニル基、インダセニル基、ビフェニレニル基、アセナフチレニル基、フルオレニル基、フェナレニル基、フェナントレニル基、およびアントラセニル基等が挙げられる。）が結合した官能基を意味する。Ｃ7-16アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、インデニルメチル基、１−フェネチル基、２−フェネチル基、１−ナフチルエチル基、２−ナフチルエチル基、１−フェニルプロピル基、２−フェニルプロピル基、３−フェニルプロピル基、１−ナフチルプロピル基、２−ナフチルプロピル基、３−ナフチルプロピル基、１−フェニルブチル基、２−フェニルブチル基、３−フェニルブチル基、４−フェニルブチル基、１−ナフチルブチル基、２−ナフチルブチル基、３−ナフチルブチル基、４−ナフチルブチル基、１−フェニルペンチル基、２−フェニルペンチル基、３−フェニルペンチル基、４−フェニルペンチル基、５−フェニルペンチル基、１−ナフチルペンチル基、２−ナフチルペンチル基、３−ナフチルペンチル基、４−ナフチルペンチル基、５−ナフチルペンチル基、１−フェニルヘキシル基、２−フェニルヘキシル基、３−フェニルヘキシル基、４−フェニルヘキシル基、５−フェニルヘキシル基、６−フェニルヘキシル基、１−ナフチルヘキシル基、２−ナフチルヘキシル基、３−ナフチルヘキシル基、４−ナフチルヘキシル基、５−ナフチルヘキシル基、および６−ナフチルヘキシル基等が挙げられる。好ましいＣ7-16アラルキル基は、ベンジル基、１−フェネチル基および２−フェネチル基である。
本明細書において、「ヘテロアリール基」とは、１以上のヘテロ原子を含むヘテロ芳香環基を意味し、ヘテロ原子の例としては、酸素、窒素および硫黄が挙げられる。ヘテロアリール基は、ヘテロ原子と炭素原子を合計した原子数が５〜１４個、さらに好ましくは５または６個であることが好ましい。ヘテロアリール基の具体例としては、フリル基、チエニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、トリアゾリル基、テトラゾリル基、チアゾリル基、ピラゾリル基、オキサゾリル基、イソオキサゾリル基、イソチアゾリル基、フラザニル基、チアジアゾリル基、オキサジアゾリル基、ピリジル基、ピラジル基、ピリダジニル基、ピリミジニル基、トリアジニル基、プリニル基、プテリジニル基、キノリル基、イソキノリル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、シンノリニル基、キナゾリニル基、フタラジニル基、イミダゾピリジル基、イミダゾチアゾリル基、イミダゾオキサゾリル基、ベンゾチアゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、インドリル基、イソインドリル環、インダゾリル基、ピロロピリジル基、チエノピリジル基、フロピリジル基、ベンゾチアジアゾリル基、ベンゾオキサジアゾリル基、ピリドピリミジニル基、ベンゾフリル基、ベンゾチエニル基、ベンゾ[１，３]ジオキソリル基、およびチエノフリル基が挙げられるが、これらに限定されない。
本明細書において「ヘテロアラルキル基」とは、アルキル基、例えば、上記Ｃ1-6アルキル基に上記ヘテロアリール基が結合した基を意味する。
本明細書において、「飽和または不飽和非芳香族ヘテロシクリル基」とは、飽和または不飽和の非芳香族ヘテロ環式基を意味し、例えば、２−、３−および４−モルホリニル基、２−および３−ピペリジル基、２−および３−ピロリジニル基、ならびに２−および３−テトラヒドロフリル基などが挙げられる。
「アルキルスルホニルオキシ基」としては、例えば、メタンスルホニルオキシ基およびエタンスルホニルオキシ基などが挙げられるがこれらに限定されない。アルキルスルホニルオキシ基は１つ以上の置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子、特にフッ素原子が挙げられるがこれに限定されない。置換基を有するアルキルスルホニルオキシ基としては、例えば、トリフルオロメタンスルホニルオキシ基が好ましい基として挙げられる。
「アリールスルホニルオキシ基」としては、例えば、ベンゼンスルホニルオキシ基が挙げられるがこれに限定されない。アリールスルホニルオキシ基は置換基を有していてもよく、置換基としては、ハロゲン原子；およびアルキル基、好ましくはＣ1-6アルキル基、が挙げられるがこれらに限定されない。置換基を有するアリールスルホニルオキシ基としては、例えば、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基が挙げられるがこれに限定されない。
本明細書において、「アルキレン基」は二官能の飽和炭化水素鎖を意味し、例えば、メチレン基およびエチレン基などを意味する。アルキレン基はさらに置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、特にＣ1-6のアルキル基が好ましい基として挙げられるがこれらに限定されない。
本明細書において、２つ以上の芳香環が縮合した縮合環の「縮合位炭素」とは、２つの芳香環によって共有される炭素原子をいい、例えば、ナフタレン環では、４ａ位炭素および８ａ位炭素が縮合位炭素である。したがって、ナフタレン環の場合には、１つの縮合位炭素に隣接する２つの炭素原子とは、例えば４位および５位の炭素原子である。
本明細書において、「置換または非置換」とは任意選択で置換基を有していてもよいことを意味する。
本明細書において、「溶媒和物」とは、本発明にかかるフルオロホウ素化合物もしくはその塩と溶媒とから形成される溶媒和物をいう。溶媒和物を構成する溶媒の種類、溶媒和物におけるフルオロホウ素化合物もしくはその塩に対する溶媒のモル比等は、特に限定されない。
好ましい溶媒和物は、水和物、アルコール和物（例えば、メタノール和物、エタノール和物、プロパノール和物、イソプロパノール和物等）、エステル和物（酢酸エチル和物等）、エーテル和物（メチルエーテル和物、エチルエーテル和物、テトラハイドロフラン和物等）、またはジメチルホルムアミド和物等であり、特に好ましくは水和物、またはアルコール和物（例えばメタノール和物、エタノール和物）等である。また、溶媒和物を構成する溶媒は、薬理学的に許容される溶媒が好ましい。
本明細書において「アルカリ金属」原子とは、周期表１族に属する金属原子をいい、例えば、リチウム、ナトリウムおよびカリウム等を挙げることができるが、好ましくはナトリウムまたはカリウムである。
本明細書において、「金属触媒」とは、本発明のフルオロホウ素化合物もしくはその塩を用いた分子内アルコキシメチル化反応を促進するために有効である金属および金属含有化合物をいい、前記反応を促進できるものであれば任意のものを用いることができ、特に限定されない。好ましい金属触媒はパラジウム触媒である。
〔フルオロホウ素化合物の製造方法〕
式Ｉで表わされるフルオロホウ素化合物の製造方法について説明する。なお、以下の説明中、「（外温）」とは、反応容器、例えばフラスコの外側の温度を意味する。
式Ｉで表されるフルオロホウ素化合物は、例えば、以下の反応式１に示した方法を用いて製造することができる。但し、本発明のフルオロホウ素化合物の製造方法は、本方法に限定されるものではない。
反応式１中、下記[化８]、Ｌ、Ｒ、およびＭは、それぞれ式（Ｉ）における上述した定義と同意義である。ＹおよびＷはそれぞれ独立して、ハロゲン原子を意味する。
上記式（２ａ）で示される構造の一部分であり下記式Ｘで表される環状ボロン酸エステル基の例としては、下記式Ｘ−１〜Ｘ−６に示した環状ボロン酸エステル基が挙げられるが、これらに限定されない。
上記反応式１に示す、式（Ｉ）の化合物を合成する方法は、以下に説明する工程[Ａ−１]と工程[Ａ−２]の２段階からなる。
〔工程[Ａ−１]〕
本工程[Ａ−１]は、例えばｎ−ブチルリチウムなどから選択される有機金属試薬と化合物（１ａ）との反応により生成するアニオン化した化合物とボロン酸エステルとを反応させ、続いて酸を加えることにより反応混合物を中和し、さらにピナコール等のジオールと反応させて化合物（２ａ）を製造する工程である。本工程[Ａ−１]を実施する場合は、後述する製造例１および製造例２に記載した反応条件、反応後の操作、精製方法等を参考にして行うことができ、当業者であれば容易に最適な反応条件等を決定しうる。
また、工程[Ａ−１]は、化合物（１ａ）とボロン酸エステルとを含む混合物に有機金属試薬を加えて、化合物（１ａ）からアニオンを生成させるとともにボロン酸エステルと反応させて実施することもできる。
工程[Ａ−１]は、窒素、アルゴン等の不活性気体の気流下または雰囲気下でも行うことができる。
化合物（１ａ）としては、例えば、クロロヨードメタン、ジブロモメタン、ブロモヨードメタン等を用いることができる。好ましい化合物（１ａ）は、クロロヨードメタンおよびジブロモメタンである。
工程[Ａ−１]では溶剤を用いることが好ましく、工程[Ａ−１]に用いる溶剤としては、出発原料をある程度溶解でき、かつ、工程[Ａ−１]で行う反応を阻害しないものであるかぎり、特に制限はない。本溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、およびジシクロペンチルエーテル等のエーテル系溶剤；ベンゼンおよびトルエン等の芳香族炭化水素系溶剤；ヘプタンおよびヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶剤；およびこれらの混合溶剤等からなる群から選択される任意の溶剤を用いることができる。特に好ましい溶剤は、テトラヒドロフランである。
上記ボロン酸エステルとしては、例えば、トリメチルボレート、およびトリイソプロピルボレート等が挙げられるが、これらに限定されない。特に好ましいボロン酸エステルは、トリイソプロピルボレートである。
上記有機金属試薬としては、例えば、ｎ−ブチルリチウム、s−ブチルリチウム等が挙げられるが、これらに限定されない。特に好ましい有機金属試薬は、ｎ−ブチルリチウムである。
上記反応混合物を中和するために用いる酸としては、例えば、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、塩酸−酢酸エチル溶液、および塩酸−メタノール溶液等が挙げられるがこれらに限定されない。特に好ましい酸は、メタンスルホン酸、および塩酸−酢酸エチル溶液である。
反応式１の工程[Ａ−１]の反応時間は、通常、用いた出発原料の種類、溶剤の種類、有機金属試薬の種類、用いたボロン酸エステルの種類、および反応温度などによって異なり、当業者であれば好ましい反応時間を容易に選択することができる。例えば、化合物（１ａ）と有機金属試薬から−７８℃（外温）にて調製したアニオン化した化合物と、ボロン酸エステルとの混合物を、以下に示す温度にて１〜３時間撹拌する。さらに、得られた混合物を以下に示す温度にて中和し、続いてジオールを加え、以下に示す反応温度にて１０〜６０分間撹拌する。
[化合物（１ａ）をアニオン化して調製した化合物とボロン酸エステルとの反応の反応温度]
化合物（１ａ）をアニオン化して調製した化合物とボロン酸エステルとの反応の好ましい反応温度は、上述のとおり用いる出発原料の種類などに左右されるが、本反応は０℃〜室温（外温）、より好適には、室温で撹拌しながら行うことが好ましい。
[中和反応とジオールとの反応での反応温度]
化合物（１ａ）をアニオン化して調製した化合物とボロン酸エステルとの反応で得られた混合物を中和し、さらにジオールを添加するときの温度は、−２０℃〜室温（外温）であり、より好適には、０℃（外温）である。反応混合物にジオールを添加した後の反応温度は、０℃〜室温（外温）であり、より好適には、室温である。
［有機金属試薬およびボロン酸エステルの使用量］
化合物（１ａ）１モル当り、０．８〜１．２モルの上記有機金属試薬を用いることが好ましく、０．８〜１モルの有機金属試薬を用いることがさらに好ましい。
ボロン酸エステルは、化合物（１ａ）１モル当り、０．８〜１．２モルを用いることが好ましく、０．９〜１モルを用いることがさらに好ましい。
化合物（２ａ）は、後述する実施例２２の如く、公知のハロゲン交換反応を用いることにより、Ｙが異なるハロゲン原子である化合物（２ａ）に変換してもよい。
〔工程[Ａ−２]〕
工程[Ａ−２]は、溶剤中、化合物（３ａ）と塩基との反応により生成するアニオン化された化合物と、化合物（２ａ）とを反応させ、続いてポタシウム ハイドロゲンフルオリドおよびソジウム ハイドロゲンフルオリド等から選択されるハイドロゲンフルオリド塩と反応させることにより化合物（Ｉ）を製造する工程である。本工程は、より具体的には、後述する実施例１、３、６、８、１０、１２、１４、および１７に記載した反応条件、反応後操作、精製方法等を参考にして行うことができ、さらに、当業者であれば用いる原料の種類などに応じて適宜適切な反応条件および精製方法などを選択することができる。
また、工程[Ａ−２]は、化合物（２ａ）と化合物（３ａ）とを含む混合物に塩基を加えて、化合物（３ａ）からアニオンを生成させるとともに化合物（２ａ）と反応させて実施することもできる。
工程[Ａ−２]の反応は、窒素、およびアルゴン等からなる群から選択される不活性気体の気流下または雰囲気下でも行うことができる。
化合物（３ａ）としては、市販されている化合物および公知の化合物、またはこれらの化合物から公知の方法を用いて製造することができる化合物から選択される任意の化合物を用いることができる。
化合物（３ａ）と反応させる上記塩基としては、例えば、水素化ナトリウム、ポタシウム ビス（トリメチルシリル）アミド、水素化カリウムが挙げられ、水素化ナトリウムおよびポタシウム ビス（トリメチルシリル）アミドが特に好ましい。
工程[Ａ−２]において用いる溶剤としては、用いる出発原料をある程度溶解するものであり、かつ、反応を阻害しないものであるかぎり、特に制限されない。用いることのできる溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、およびジシクロペンチルエーテル等のエーテル系溶剤、ベンゼンおよびトルエン等の芳香族炭化水素系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ−メチルピロリジノン等のアミド系溶剤、ジメチルスルホキシド、ならびにこれらの混合溶剤等から選択される溶剤を挙げることができる。特に好ましい溶剤は、テトラヒドロフランである。
工程[Ａ−２]の反応時間は、用いる出発原料の種類、用いる溶剤の種類、および用いる試薬の種類、および用いる反応温度によって異なり、当業者であれば適宜好ましい反応時間を選択できる。例えば、反応式１中の化合物（３ａ）を塩基によりアニオン化した後、以下に示す温度にて３０〜６０分間撹拌し、得られた混合物に化合物（２ａ）を加えた後、以下に示す温度でさらに１〜１２時間撹拌する。さらに得られた混合物にハイドロゲンフルオリド塩を加えた後、以下に示す温度で１５分間〜１２時間撹拌する。
[化合物（３ａ）を塩基によりアニオン化する反応の反応温度]
この反応の反応温度は、通常、用いる出発原料の種類、用いる溶剤の種類、および反応に用いる塩基の種類に左右され、当業者は適宜好ましい反応温度を選択することができる。例えば、化合物（３ａ）を含む溶液に塩基を添加する時の温度は、−７８℃〜室温（外温）であり、より好適には、０℃（外温）である。
さらに、塩基添加後の反応温度は、−７８℃〜７０℃（外温）であることが好ましく、０℃〜室温（外温）であることがさらに好ましい。
[化合物（３ａ）をアニオン化して得られた化合物と化合物(２ａ)との反応の反応温度]
この反応の反応温度は、通常、用いる出発原料の種類、用いる溶剤の種類、反応に用いる試薬の種類に左右され、当業者は適宜好ましい反応温度を選択することができる。例えば、化合物（２ａ）を反応混合物に添加する時の温度は、０℃〜室温（外温）であり、より好適には、０℃（外温）である。
さらに、化合物（２ａ）を反応混合物に添加した後の反応温度は、０℃〜１００℃（外温）であり、より好適には、室温〜７０℃（外温）である。
[ハイドロゲンフルオリド塩を加える反応での反応温度]
上述のように、化合物（３ａ）を塩基でアニオン化し、さらに化合物（２ａ）を加えて反応させたのち、反応混合物にハイドロゲンフルオリド塩をさらに添加して反応させ、ボロン酸エステル残基をトリフルオロボレート基に変換する。
この反応の反応温度は、通常、用いる出発原料の種類、用いる溶剤の種類、および反応に用いる試薬の種類に左右され、当業者は適宜好ましい反応温度を選択することができる。例えば、ハイドロゲンフルオリド塩を反応混合物に添加する時の温度は、０℃〜室温（外温）であり、より好適には、０℃（外温）である。
ハイドロゲンフルオリド塩を反応混合物に添加した後の反応温度は、０℃〜室温（外温）であり、より好適には、室温（外温）である。
［塩基の使用量］
化合物（３ａ）をアニオン化するために用いる上記塩基は、化合物（３ａ）１モル当り、０．８〜１．２モル当量を用いることが好ましく、１モル当量を用いることがさらに好ましい。
［化合物（２ａ）と（３ａ）の使用量］
また、この反応においては、化合物（２ａ）１モル当り１〜１０モル当量の化合物（３ａ）を用いることが好ましく、１〜３モル当量の化合物（３ａ）を用いることがさらに好ましい。
［ハイドロゲンフルオリド塩の使用量］
上記ハイドロゲンフルオリド塩は、化合物（２ａ）１モル当り、２〜８モル当量を用いることが好ましく、２〜５モル当量を用いることがさらに好ましい。
［テトラアルキルアンモニウム塩およびテトラアルキルホスホニウム塩の調製］
反応式１の化合物（Ｉ）におけるＭがアルカリ金属イオンである場合は、この化合物（I）にさらに、テトラアルキルアンモニウム
ヒドロキシドおよびテトラアルキルホスホニウム ヒドロキシド等から選択される反応剤を反応させることにより、Ｍが［Ｎ（Ｒ1）（Ｒ2）（Ｒ3）（Ｒ4）］+または［Ｐ（Ｒ1）（Ｒ2）（Ｒ3）（Ｒ4）］+（ここで、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4はそれぞれ独立して、Ｃ1-6アルキル基またはＣ7-16アラルキル基を意味する）である化合物（Ｉ）に変換することができる。本工程は、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔｅｒｓ， Ｖｏｌ．４２， ｐｐ． ９０９９−９１０３に記載された方法を参照して行うことができる。テトラアルキルアンモニウム ヒドロキシドの例としては、テトラブチルアンモニウム ヒドロキシドが挙げられる。また、テトラアルキルホスホニウム ヒドロキシドの例としては、テトラブチルホスホニウム ヒドロキシドが挙げられる。
Ｍをアルカリ金属イオンからテトラアルキルアンモニウム塩またはテトラアルキルアンモニウム塩などに変換する反応に用いる溶剤としては、ジクロロメタンまたはクロロホルムと水との混合溶剤を用いることができる。
この塩交換反応の反応時間は、通常、室温（外温）で１分から３０分であり、好ましくは１から５分である。
また、塩交換反応の反応温度は、通常、１０〜５０℃であり、好ましくは室温（いずれも外温）である。
また、本発明に係る化合物（Ｉ）について得られる種々の異性体（例えば幾何異性体、光学異性体、回転異性体、立体異性体、および互変異性体、等）は、通常の分離手段、例えば、再結晶、ジアステレオマー塩法、酵素分割法、種々のクロマトグラフィー（例えば薄層クロマトグラフィー、カラムクロマトグラフィー、ガスクロマトグラフィー等）を用いることにより精製し、単離することができる。
〔本発明のフルオロホウ素化合物もしくはその塩を用いた分子内アルコキシメチル化反応〕
上述したとおり、金属触媒の存在下で本発明の化合物（Ｉ）もしくはその塩を分子内アルコキシメチル化反応させることにより、環状エーテルが縮合した芳香環を有する化合物（ＩＩ）を得ることができる。以下にこの反応について説明する。
以下の反応式２に本発明の化合物（Ｉ）から化合物（ＩＩ）を得る反応のスキームを示した。
反応式２中に示した、下記[化１２]、Ｌ、Ｒ、およびＭの定義は先に化合物（Ｉ）について定義したものと同じである。
[工程Ｂ−１]
反応式２で示した工程[Ｂ−１]は、適切な溶剤中、分子内アルコキシメチル化反応により化合物（Ｉ）から化合物（ＩＩ）を製造する工程である。
本分子内アルコキシメチル化反応は、この反応の触媒として有効な金属触媒の存在下で行う。金属触媒としては、例えば、パラジウム金属、白金金属、ニッケル金属、ロジウム金属およびイリジウム金属等の金属、ならびにこれらから選択される金属を含む化合物、が挙げられる。金属触媒としては、パラジウム触媒が好ましい。パラジウム触媒の具体例としては、酢酸パラジウム（ＩＩ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）、パラジウム カーボン、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（ＩＩ）クロリド、ビス（トリ-t-ブチルホスフィン）パラジウム（０）、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム（０）、および１，１’―ビス（ジフェニルホスフィノフェロセン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）等が挙げられ、酢酸パラジウム（ＩＩ）、ビス（トリ-t-ブチルホスフィン）パラジウム（０）、テトラキス(トリフェニルホスフィン)パラジウム（０）、および１，１’―ビス（ジフェニルホスフィノフェロセン）ジクロロパラジウム（ＩＩ）が特に好ましい。
上記金属触媒は、化合物（Ｉ）の１モル当り、０．００１〜０．５モル当量を用いることが好ましく、０．０２〜０．２モル当量を用いることがさらに好ましい。
本分子内アルコキシメチル化反応は、上記金属触媒とともに、塩基およびホスフィン化合物の存在下で行うことが特に好ましい。
上記塩基としては、例えば、ポタシウムホスフェートトリベーシック、炭酸セシウム、およびセシウムフルオリド等が挙げられるが、なかでもポタシウムホスフェートトリベーシックまたは炭酸セシウムが好ましい塩基である。
塩基は、本発明の化合物（Ｉ）の１モル当り、１〜４モル当量を用いることが好ましく、１．５〜３モル当量を用いることがさらに好ましい。
上記ホスフィン化合物としては、例えば、トリフェニルホスフィン、トリ−ｏ−トリルホスフィン、トリ−ｔ−ブチルホスフィン、トリシクロヘキシルホスフィン、ジフェニルホスフィノフェロセン、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル、２−ジ−ｔ−ブチルホスフィノ−２’，４’，６’−トリイソプロピルビフェニル、２−ジ−ｔ−ブチルホスフィノビフェニル、２−ジシクロヘキシルホスフィノビフェニル、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、２−ジ−ｔ−ブチルホスフィノ−２’−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ビフェニル、２，２’−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン、１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン、および１，４−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン、等が挙げられるが、トリフェニルホスフィン、トリ−ｔ−ブチルホスフィン、ジフェニルホスフィノフェロセン、および２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニルが特に好ましい。
ホスフィン化合物は、化合物（Ｉ）１モル当り、０．００１〜３モル当量を用いることが好ましく、０．０８〜０．８モル当量を用いることがさらに好ましい。
工程[Ｂ−１]を行う場合には溶剤を用いてもよく、用いる溶剤としては、出発原料をある程度溶解可能であり、かつ、反応を阻害しないものであるかぎり、特に制限はない。工程[Ｂ−１]に用いることができる溶剤の例としては、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテルおよびジシクロペンチルエーテル等のエーテル系溶剤；ベンゼンおよびトルエン等の芳香族炭化水素系溶剤；ヘプタンおよびヘキサン等の脂肪炭化水素系溶剤；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドおよびＮ−メチルピロリジノン等のアミド系溶剤；ジメチルスルホキシド；水；ならびにこれらの混合溶剤等を挙げることができ、特に好ましい溶剤は１，４−ジオキサンと水との混合溶剤である。
工程[Ｂ−１]の具体的な反応条件、反応の後処理、および精製方法は、後述する実施例２、４、７、９、１１、１３、１５、および１８に記載した反応条件を参考にすることにより、実施例に示した以外の化学構造を有する化合物（Ｉ）を用いた分子内アルコキシメチル化反応を行う場合でも、当業者であれば容易にその反応実施のために最適な条件を決定することができる。
工程[Ｂ−１]の反応温度および反応時間は、用いる出発原料の種類、用いる溶剤の種類、反応に用いる試薬の種類、および反応温度に左右されるが、当業者は容易に最適な反応温度および反応時間を決定できる。反応温度は、一般に、５０℃〜１５０℃（外温）であることが好ましく、９５℃〜１４０℃（外温）であることがさらに好ましい。一般には、全ての原料を混合した後、撹拌下で５分〜７２時間反応を行うことが好ましく、１０分〜２４時間反応を行うことがさらに好ましい。
本反応は、窒素、アルゴン等の不活性気体の気流下または雰囲気下でも行うことができる。また本反応は、当業者に公知の手段であるマイクロ波を照射することにより、行うことができる。
以下に、実施例に基づいて、本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
なお、以下の実施例において、製造例１および２は、上記反応式１の工程[Ａ−１]の実施例である。また、実施例１、３、６、８、１０、１２、１４、１７、２０、２６、及び２８は、上記反応式１の工程[Ａ−２]の実施例である。さらに、実施例２、４、７、９、１１、１３、１５、１８、２１、２７、及び２９は、上記反応式２に示した反応の実施例である。
また、以下の記載中、反応温度を表す（外温）とは、上述のとおり反応容器の外部温度をいう。
（製造例１）
２−（クロロメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランの合成
トリイソプロピルボレート（１５ｍｌ、６５ｍｍｏｌ）、クロロヨードメタン（１３ｇ、７２ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン（７８ｍｌ）の混合物に−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム(１．６Ｍ ｎ−ヘキサン溶液、４１ｍｌ、 ６５ｍｍｏｌ)を２０分間かけて滴下して加え、次いで得られた混合物を、室温で２．５時間攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却して、同温度で４Ｎ塩酸−酢酸エチル溶液を反応混合物が中性になるまで滴下した。同温度で反応混合物にピナコール（７．７ｇ、６５ｍｍｏｌ）を加え、次いで、反応混合物を室温で４０分間攪拌した。減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣を減圧蒸留（６３−７０℃、１１ｍｍＨｇ）することにより標記化合物(９．２ｇ、 ５２ｍｍｏｌ、８１％)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCｌ3)δ(ppm): 1.30(12H, s), 2.97(2H, s)。
（製造例２）
２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランの合成
トリイソプロピルボレート（２０ｇ、１１０ｍｍｏｌ）、ジブロモメタン（８．６ｍｌ、１２０ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン（１５０ｍｌ）の混合物に、−７８℃（外温）でｎ−ブチルリチウム(２．６Ｍ ｎ−ヘキサン溶液、３９ｍｌ、 １００ｍｍｏｌ)を１．５時間かけて滴下して加え、次いで、反応混合物を同温度で１．５時間攪拌した。次いで得られた混合物を、室温で２時間攪拌したのち、０℃（外温）に冷却して反応混合物にメタンスルホン酸（６．５ｍｌ、１００ｍｍｏｌ）を加え、次いで反応混合物を室温で1時間攪拌した。得られた混合物を０℃（外温）に冷却し、反応混合物にピナコール（１２ｇ、１００ｍｍｏｌ）を加え、次いで、反応混合物を室温で１時間攪拌した。減圧下で溶媒を反応混合物から溜去した後、得られた残渣を減圧蒸留（７４−７６℃、８ｍｍＨｇ）することにより標記化合物(１６ｇ、 ７２ｍｍｏｌ、６８％)を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCｌ3)δ(ppm): 1.29(12H, s), 2.59(2H, s)。
ソジウム ２−クロロベンジルオキシメチル トリフルオロボレートの合成
ソジウム ハイドライド（６１％、１５０ｍｇ、３．８ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）の混合物に０℃（外温）で２−クロロベンジルアルコール（５９０ｍｇ、４．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）で、製造例２で合成した２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（９２％、５００ｍｇ、２．１ｍｍｏｌ）を加え、得られた混合物を３０℃（外温）で終夜攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却後、反応混合物に同温度でソジウム ハイドロゲンフルオリド（５８０ｍｇ、９．４ｍｍｏｌ）を加え、次いで同温度で水（８ｍｌ）を滴下して加えた。反応混合物を室温で３０分間攪拌後、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣にアセトン（４０ｍｌ）を加えてろ過した。ろ液から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(２８０ｍｇ、５５％)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm): 2.65(2H, q, J=5.3Hz), 4.36(2H, s), 7.24-7.28(1H, m), 7.32(1H, t, J=7.5Hz), 7.38(1H, d, J=7.7Hz), 7.52(1H, d, J=7.5Hz)。
１，３−ジヒドロ−イソベンゾフランの合成
実施例１で合成したソジウム ２−クロロベンジルオキシメチル トリフルオロボレート(４０ｍｇ、 ０．１６ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（１．５ｍｌ）の混合物に、室温で水（０．１５ｍｌ）、炭酸セシウム(１６０ｍｇ、 ０．４９ｍｍｏｌ)、ビス（トリ−ｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）(８．３ｍｇ、 ０．０１６ｍｍｏｌ)を加え、次いで、得られた反応混合物を１００℃（外温）で終夜攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え、セライトを用いてろ過した。ろ液の有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：ジエチルエーテル＝１０：１）にて精製し、標記化合物（９．７ｍｇ、５０％）を得た。
1H-NMR Spectrum (CD3OD)δ(ppm): 5.06(4H, s), 7.26(4H, s)。
ソジウム ２−（２−ブロモ−フェニル）−エトキシメチル トリフルオロボレートの合成
ソジウム ハイドライド（６１％、１３０ｍｇ、３．３ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（８ｍｌ）の混合物に０℃（外温）で２−ブロモフェネチルアルコール（４５０μｌ、３．３ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）で、製造例２で合成した２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（９２％、４００ｍｇ、１．７ｍｍｏｌ）を加え、得られた混合物を室温で終夜攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却後、反応混合物に同温度でソジウム ハイドロゲンフルオリド（４６０ｍｇ、７．５ｍｍｏｌ）を加え、次いで同温度で水（８ｍｌ）を滴下して加えた。反応混合物を室温で３０分間攪拌後、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣にアセトン（１５ｍｌ）を加えてろ過した。ろ液から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(２６０ｍｇ、５１％)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm): 2.54(2H, q, J=5.5Hz), 2.85-2.89(2H, m), 3.36-3.40(2H, m), 7.12-7.16(1H, m), 7.28-7.32(1H, m), 7.36-7.38(1H, m), 7.55-7.57(1H, m)。
イソクロマンの合成
実施例３で合成したソジウム ２−（２−ブロモ−フェニル）−エトキシメチル トリフルオロボレート(５０ｍｇ、 ０．１６ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（２ｍｌ）の混合物に、室温で水（０．２ｍｌ）、ポタシウムホスフェート トリベーシック(８５％、１６０ｍｇ、 ０．６６ｍｍｏｌ)、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）(３８ｍｇ、 ０．０３３ｍｍｏｌ)を加え、次いで、得られた反応混合物を１００℃（外温）で終夜攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え、セライトを用いてろ過した。ろ液の有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１０：１）にて精製し、標記化合物（１．３ｍｇ、６％）を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCｌ3)δ(ppm): 2.87(2H, t, J=5.7Hz), 3.98(2H, t, J=5.7Hz), 4.78(2H, d, J=0.4Hz), 6.97-6.99(1H, m), 7.10-7.18(3H, m)。
（３−ブロモ−ナフタレン−２−イル）−メタノールの合成
窒素雰囲気下、水素化アルミニウムリチウム（４３０ｍｇ、９．０ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（１５ｍｌ）との混合物に、０℃（外温）で塩化アルミニウム（１．７ｇ、１３ｍｍｏｌ）を加え、同温度で１時間攪拌した。次いで、３−ブロモ−ナフタレン−２−カルボキシリック アシッド エチルエステル（５００ｍｇ、１．８ｍｍｏｌ）を０℃（外温）で加え、同温度で１．５時間攪拌した。反応混合物に２８％ アンモニア水を加え、次いでセライトを用いてろ過した。ろ液から減圧下で溶媒を溜去し、得られた残渣をＮＨ−シリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝３：１）で精製し、標記化合物（２８０ｍｇ、６７％）を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm): 4.65(2H, s), 5.57(1H, t, J=5.6Hz), 7.50-7.57(2H, m), 7.88-7.92(1H, m), 7.94-7.98(1H, m), 8.03(1H, s), 8.23(1H, s).
ソジウム （（（３−ブロモ−２−ナフチル）メトキシ）メチル）トリフルオロボレート
ソジウム ハイドライド（５０％、６１ｍｇ、１．３ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）の混合物に０℃（外温）で、実施例５で合成した（３−ブロモ−ナフタレン−２−イル）−メタノール（２８０ｍｇ、１．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）で、製造例２で合成した２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（９２％、１３０ｍｇ、０．６０ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５ｍｌ）溶液を加え、得られた混合物を６０℃（外温）で１．５時間攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却後、反応混合物に同温度でソジウム ハイドロゲンフルオリド（１７０ｍｇ、２．７ｍｍｏｌ）を加え、次いで同温度で水（８ｍｌ）を滴下して加えた。反応混合物を室温で終夜攪拌後、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣にアセトン（４０ｍｌ）を加えて加熱し、室温に冷却後、ろ過した。ろ液から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(９７ｍｇ、４７％)を得た。
1H-NMR Spectrum (CD3OD)δ(ppm): 3.00(2H, q, J=5.6Hz), 4.66(2H, s), 7.44-7.51 (2H, m), 7.75-7.78(1H, m), 7.84-7.88(1H, m), 8.05-8.09(2H, m).
１，３−ジヒドロナフト［２，３−ｃ］フラン
実施例６で合成したソジウム （（（３−ブロモ−２−ナフチル）メトキシ）メチル）トリフルオロボレート（３０ｍｇ、０．０８８ｍｍｏｌ）、と１，４−ジオキサン（１．ｍｌ）の混合物に、室温で水（０．１５ｍｌ）、炭酸セシウム(８６ｍｇ、 ０．２６ｍｍｏｌ)、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（７．２ｍｇ、０．０１８ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）(２．０ｍｇ、 ０．００９ｍｍｏｌ)を加え、得られた反応混合物を１００℃（外温）で１６時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に水とジクロロメタンを加え、セライトを用いてろ過した。ろ液の有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）にて精製し、標記化合物（１０ｍｇ、６７％）を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm): 5.13(4H, s), 7.46-7.50(2H, m), 7.80-7.83(2H, m), 7.87-7.94(2H, m).
ソジウム （（（２，４−ジクロロベンジル）オキシ）メチル）トリフルオロボレート
ソジウム ハイドライド（５０％、１３０ｍｇ、２．６ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混合物に０℃（外温）で２，４−ジクロロベンジルアルコール（４４０ｍｇ、２．５ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）で、製造例２で合成した２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（９２％、３００ｍｇ、１．３ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（５ｍｌ）溶液を加え、得られた混合物を６０℃（外温）で１．５時間攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却後、反応混合物に同温度でソジウム ハイドロゲンフルオリド（３５０ｍｇ、５．６ｍｍｏｌ）を加え、次いで同温度で水（１０ｍｌ）を滴下して加えた。反応混合物を室温で１時間攪拌後、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣にアセトン（４０ｍｌ）を加え加熱し、室温に冷却後、ろ過した。ろ液から減圧下で溶媒を溜去後、得られた残渣をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(１９０ｍｇ、５３％)を得た。
1H-NMR Spectrum (CD3OD)δ(ppm): 2.85-2.97(2H, m), 4.52(2H, s), 7.30(1H, dd, J=2.4, 8.4Hz), 7.39(1H, d, J=2.0Hz), 7.55-7.59(1H, m).
５−クロロ−１，３−ジヒドロ−２−ベンゾフラン
実施例８で合成したソジウム （（（２，４−ジクロロベンジル）オキシ）メチル）トリフルオロボレート（５０ｍｇ、０．１８ｍｍｏｌ）、と１，４−ジオキサン（１．５ｍｌ）の混合物に、室温で水（０．１５ｍｌ）、炭酸セシウム(１７０ｍｇ、 ０．５３ｍｍｏｌ)、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（１５ｍｇ、０．０３６ｍｍｏｌ）、酢酸パラジウム（ＩＩ）(４．０ｍｇ、 ０．０１８ｍｍｏｌ)を加え、得られた反応混合物を１００℃（外温）で８．５時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に水とジクロロメタンを加え、セライトを用いてろ過した。ろ液の有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１０：１）にて精製し、標記化合物（１．１ｍｇ、４％）を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm): 4.98(4H, s), 7.27-7.38(2H, m), 7.38-7.44(1H, m).
ソジウム ２,６−ジクロロベンジルオキシメチル トリフルオロボレートの合成
ソジウム ハイドライド（６１％、１８０ｍｇ、４．５ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（６ｍｌ）の混合物に０℃（外温）で２,６−ジクロロベンジルアルコール（７４０ｍｇ、４．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）でテトラヒドロフラン（４ｍｌ）に溶かした、製造例２で合成の２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（９２％、５００ｍｇ、２．１ｍｍｏｌ）を加え、得られた混合物を３０℃（外温）で終夜攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却後、反応混合物に同温度でソジウム ハイドロゲンフルオリド（５９０ｍｇ、４．５ｍｍｏｌ）を加え、次いで同温度で水（８ｍｌ）を滴下して加えた。反応混合物を室温で３０分間攪拌後、攪拌後、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣にアセトン（４０ｍｌ）を加えてろ過した。ろ液から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(４６０ｍｇ、７８％)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm): 2.61(2H, q, J=5.4Hz), 4.46(2H, s), 7.30-7.35(1H, m), 7.44(2H, d, J=8.0Hz)。
４−クロロ−１，３−ジヒドロ−イソベンゾフランの合成
実施例１０で合成したソジウム ２，６−ジクロロベンジルオキシメチル トリフルオロボレート(４１ｍｇ、 ０．１５ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（１．５ｍｌ）の混合物に、室温で水（０．１５ｍｌ）、炭酸セシウム(１７０ｍｇ、 ０．５１ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム（II）(３．３ｍｇ、 ０．０１５ｍｍｏｌ)、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（１２ｍｇ、 ０．０３０ｍｍｏｌ）を加え、ついで、得られた反応混合物を１００℃（外温）で４時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物にジクロロメタンを加え、有機層を分離し、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：ジエチルエーテル＝１００：０→９１：９→８０：２０）にて精製し、標記化合物（３．７ｍｇ、１７％）を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCｌ3)δ(ppm): 5.14(2H, d, J=2.4Hz), 5.17(2H, d, J=2.0Hz) 7.09-7.17(1H, m), 7.20-7.24(2H, m)。
ソジウム ２−クロロ−４−フルオロベンジルオキシメチル トリフルオロボレートの合成
ソジウム ハイドライド（６６％、１５０ｍｇ、４．２ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）の混合物に０℃（外温）で２−クロロ−４−フルオロベンジルアルコール（９９％、６８０ｍｇ、４．２ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）で、製造例２で合成した２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（９２％、５００ｍｇ、２．１ｍｍｏｌ）を加え、得られた混合物を２５〜３５℃（外温）で１２時間攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却後、反応混合物に同温度でソジウム ハイドロゲンフルオリド（９７％、６００ｍｇ、９．４ｍｍｏｌ）を加え、次いで同温度で水（１２ｍｌ）を滴下して加えた。反応混合物を室温で３０分間攪拌後、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣にアセトン（４０ｍｌ）を加えてろ過した。ろ液から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物（３００ｍｇ、５５％）を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm): 2.65(2H, q, J=6.5Hz), 4.30(2H, s), 7.18(1H, ddd, J=3.5, 11.0, 11.0Hz), 7.34(1H, dd, J=3.5, 11.0Hz), 7.48-7.53(1H, m)。
５−フルオロ−１，３−ジヒドロ−イソベンゾフランの合成
実施例１２で合成したソジウム ２−クロロ−４−フルオロベンジルオキシメチル トリフルオロボレート(３００ｍｇ、 １．２ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（１２ｍｌ）の混合物に、室温で水（１．２ｍｌ）、炭酸セシウム(１．４ｇ、 ４．０ｍｍｏｌ)、酢酸パラジウム（ＩＩ）(２７ｍｇ、 ０．１２ｍｍｏｌ)、２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル（９７ｍｇ、 ０．２３ｍｍｏｌ）を加え、次いで、得られた反応混合物を１００℃（外温）で２時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え、ろ紙を用いてろ過した。ろ液の有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１０：１）にて精製し、標記化合物（４１ｍｇ、２６％）を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCｌ3)δ(ppm): 5.06-5.10(4H, m), 6.91-6.99(2H, m), 7.17(1H, dd, J=6.0, 10.0Hz)。
ソジウム ２−クロロ−５−ニトロベンジルオキシメチル トリフルオロボレートの合成
製造例２で合成した２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（９２％、７００ｍｇ、２．９ｍｍｏｌ）、２−クロロ−５−ニトロベンジルアルコール（１．２ｇ、６．４ｍｍｏｌ）、およびテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混合物に０℃（外温）でソジウム ハイドライド（６１％、２５０ｍｇ、６．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で３０分間攪拌した。反応混合物を５０℃（外温）でさらに３時間攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却後、反応混合物に同温度でソジウム ハイドロゲンフルオリド（６３０ｍｇ、１０ｍｍｏｌ）を加え、次いで同温度で水（２０ｍｌ）を滴下して加えた。反応混合物を室温で１５分間攪拌後、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣に酢酸エチル（４０ｍｌ）を加えてろ過した。ろ液から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣に酢酸エチル−ジエチルエーテル（酢酸エチルが主）を加えて不純物を固体化し、ろ過により不純物を除去した。ろ液から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣を酢酸エチル−ジエチルエーテル（ジエチルエーテルが主）を用いて再結晶し、ろ過した。得られた結晶をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(１４０ｍｇ、１７％)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm): 2.72(2H, q, J=5.3Hz), 4.44(2H, s), 7.71(1H, d, J=8.8Hz), 8.12(1H, dd, J=2.9, 8.8Hz), 8.32(1H, d, J=2.9Hz)。
５−ニトロ−１，３−ジヒドロ−イソベンゾフランの合成
実施例１４で合成したソジウム ２−クロロ−５−ニトロベンジルオキシメチル トリフルオロボレート(３０ｍｇ、 ０．１０ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（１．５ｍｌ）の混合物に、室温で水（０．１５ｍｌ）、炭酸セシウム(１００ｍｇ、 ０．３１ｍｍｏｌ)、ビス（トリ−ｔ−ブチルホスフィン）パラジウム（０）(１１ｍｇ、 ０．０２１ｍｍｏｌ)を加え、次いで、得られた反応混合物を１００℃（外温）で終夜攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え、セライトを用いてろ過した。ろ液の有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝６：１）にて精製し、標記化合物（９．９ｍｇ、５８％）を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCｌ3)δ(ppm): 5.18(4H, s), 7.39(1H, d, J=8.2Hz), 8.11(1H, d, J=2.0Hz), 8.18(1H, dd, J=2.0, 8.2Hz)。
（２−クロロ−６−メトキシ−キノリン−３−イル）−メタノールの合成
２−クロロ−６−メトキシ−３−キノリンカルバルデヒド（３．１ｇ、１４ｍｍｏｌ）とメタノール（１０ｍｌ）の混合物に、０℃（外温）でソジウム ボロハイドライド（５３０ｍｇ、１４ｍｍｏｌ）を加え、同温度で３０分間攪拌した。反応混合物に同温度でアセトンを加え、次いで同温度で水と酢酸エチルを加えた。有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１：１）にて精製し、標記化合物（３．０ｇ、９８％）を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCｌ3)δ(ppm): 2.16(1H, t, J=5.9Hz), 3.94(3H, s), 4.92(2H, d, J=5.9Hz), 7.11(1H, d, J=2.8Hz), 7.37(1H, dd, J=2.8, 9.2Hz), 7.92(1H, d, J=9.2Hz), 8.19(1H, s)。
ソジウム ２−クロロ−６−メトキシ−キノリン−３−イルメトキシメチル トリフルオロボレートの合成
実施例１６で合成した（２−クロロ−６−メトキシ−キノリン−３−イル）−メタノール（１．４ｇ、６．４ｍｍｏｌ）、およびテトラヒドロフラン（５０ｍｌ）の混合物に０℃（外温）でソジウム ハイドライド（６１％、２５０ｍｇ、６．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で２０分間攪拌した。反応混合物に室温で、製造例２で合成の２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（９２％、７００ｍｇ、２．９ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を５０℃（外温）で４時間攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却後、反応混合物に同温度でソジウム ハイドロゲンフルオリド（６３０ｍｇ、１０ｍｍｏｌ）を加え、次いで同温度で水（４０ｍｌ）を滴下して加えた。反応混合物を室温で１０分間攪拌後、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣を酢酸エチル−ジエチルエーテル（１：４）で洗浄し、標記化合物(６１０ｍｇ、６４％)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm): 2.75(2H, q, J=5.3Hz), 3.90(3H,
s), 4.48(2H, s), 7.40(1H, dd, J=2.9, 9.2Hz), 7.45(1H, d, J=2.7Hz), 7.84(1H, d, J=9.2Hz), 8.32(1H, s)。
７−メトキシ−１，３−ジヒドロ−フロ（３，４−ｂ）キノリンの合成
実施例１７で合成したソジウム ２−クロロ−６−メトキシ−キノリン−３−イルメトキシメチル トリフルオロボレート(３０ｍｇ、 ０．０９２ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（１．０ｍｌ）の混合物に、室温で水（０．１０ｍｌ）、炭酸セシウム(９０ｍｇ、 ０．２８ｍｍｏｌ)、１，１’−ビス（ジフェニルホスフィノ）フェロセンジクロロパラジウム（ＩＩ）(１３ｍｇ、 ０．０１８ｍｍｏｌ)を加え、次いで、得られた反応混合物を１００℃（外温）で４時間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に酢酸エチルを加え、セライトを用いてろ過した。ろ液を減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：酢酸エチル＝１：１）にて精製し、標記化合物（５．１ｍｇ、２８％）を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCｌ3)δ(ppm): 3.94(3H, s), 5.15(2H, s), 5.28(2H, s), 7.09(1H, d, J=2.8Hz), 7.36(1H, dd, J=2.8, 9.2 Hz), 7.87(1H, s), 7.95(1H, d, 9.2 Hz).
１−（２−ブロモ−フェニル）−エタノールの合成
２’−ブロモアセトフェノン（３．９ｇ、２０ｍｍｏｌ）とメタノール（５０ｍｌ）の混合物に、０℃（外温）でソジウム ボロハイドライド（６００ｍｇ、１６ｍｍｏｌ）を加え、同温度で３０分間攪拌した。反応混合物に同温度でアセトンを加え、次いで同温度で水と酢酸エチルを加えた。有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をＮＨ−シリカゲルを用いてろ過し（ヘプタン：酢酸エチル＝１：１）、標記化合物（３．９ｇ、９８％）を得た。
1H-NMRSpectrum (CDCｌ3)δ(ppm): 1.49(3H, d, J=6.4Hz), 1.95(1H, d, J=3.7Hz), 5.25(1H, dq, J=3.5, 6.4Hz), 7.11-7.15(1H, m), 7.33-7.37(1H, m), 7.51-7.53(1H, m), 7.60(1H, dd, J=1.7, 7.8Hz)。
ソジウム １−（２−ブロモ−フェニル）−エトキシメチル トリフルオロボレートの合成
実施例１９で合成した１−（２−ブロモ−フェニル）−エタノール（１．０ｇ、５．０ｍｍｏｌ）、およびテトラヒドロフラン（２０ｍｌ）の混合物に０℃（外温）でソジウム ハイドライド（６１％、２００ｍｇ、５．０ｍｍｏｌ）を加え、４０℃（外温）で３０分間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、同温度で２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（９２％、４８０ｍｇ、２．０ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を５５℃（外温）で終夜攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却後、反応混合物に同温度でソジウム ハイドロゲンフルオリド（６３０ｍｇ、１０ｍｍｏｌ）を加え、次いで同温度で水（１５ｍｌ）を滴下して加えた。反応混合物を室温で１５分間攪拌後、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣にアセトン−メタノール（９９：１）（３０ｍｌ）を加えろ過し、ろ液の溶媒を減圧下で溜去した。得られた残渣をジエチルエーテルで洗浄し、標記化合物(４７０ｍｇ、７８％)を得た。
1H-NMRSpectrum (DMSO-d6)δ(ppm): 1.21(3H, d, J=6.4Hz), 2.36(2H, q, J=5.5Hz), 4.42(1H, q, J=6.4Hz), 7.13-7.17(1H, m), 7.35-7.39(1H, m), 7.47(1H, dd, J=1.8, 7.7Hz), 7.50-7.52(1H, m)。
１−メチル−１，３−ジヒドロ−イソベンゾフランの合成
実施例２０で合成したソジウム １−（２−ブロモ−フェニル）−エトキシメチル トリフルオロボレート(３０ｍｇ、 ０．０９２ｍｍｏｌ)、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）(１３ｍｇ、 ０．０１８ｍｍｏｌ)、炭酸セシウム(９０ｍｇ、 ０．２８ｍｍｏｌ)、１，４−ジオキサン（１．０ｍｌ）および水（０．１０ｍｌ）の混合物にマイクロ波を照射しながら、１３５℃で９０分間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に水とヘプタンを加え、セライトを用いてろ過した。ろ液の有機層を分離し、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサンのみ→ヘキサン：ジエチルエーテル＝３０：１）にて精製し、標記化合物（３５．７ｍｇ、４１％）を得た。
1H-NMRSpectrum (CDCｌ3)δ(ppm): 1.50(3H, dd, J=0.6, 6.3Hz), 5.03-5.06(1H, m), 5.14(1H, dd, J=2.5, 12.2Hz), 5.30-5.35(1H, m), 7.15-7.17(1H, m), 7.21-7.28(3H, m)。
２−（ヨードメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロランの合成
製造例２で合成した２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（２．０ｇ、８．３ｍｍｏｌ）とアセトン（１７ｍｌ）の混合物に室温でヨウ化ナトリウム（１．９ｇ、１３ｍｍｏｌ）を加え、室温で２時間攪拌した。ろ過により不溶物を除去し、ろ液の溶媒を減圧下で溜去した。得られた残渣にヘキサンを加え、不溶物をろ過により除去した。ろ液の溶媒を減圧下で溜去し、標記化合物（２．２ｇ、９７％）を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCｌ3)δ(ppm): 1.29(12H, s), 2.59(2H, s)。
２，６−ジクロロ−ニコチン酸 メチルエステルの合成
２，６−ジクロロ−ニコチン酸(４．７ｇ、２２ｍｍｏｌ)とアセトン（２２ｍｌ）の混合物に室温で炭酸カリウム（４．６ｇ、３３ｍｍｏｌ）、ジメチル硫酸（２．４ｍｌ、２４ｍｍｏｌ）を順次加え、室温で１６時間攪拌した。不溶物をろ過により除去し、ろ液の溶媒を減圧下で溜去した。得られた残渣にジクロロメタンを加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液により洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムにより乾燥し、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１０：１〜１：１）にて精製し、標記化合物（４．０ｇ、８７％）を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCｌ3)δ(ppm): 3.96(3H, s), 7.36(1H, d, J=8.0Hz), 8.16(1H, d, J=8.0Hz)。
２−クロロ−６−フェニル−ニコチン酸 メチルエステルの合成
実施例２３で合成した２，６−ジクロロ−ニコチン酸 メチルエステル(４．０ｇ、１９ｍｍｏｌ)とテトラヒドロフラン（３９ｍｌ）の混合物にフェニルボロン酸（２．５ｇ、１９ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム（８．０ｇ、５８ｍｍｏｌ）、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）(１．２ｇ、 ０．９７ｍｍｏｌ)を加え、加熱還流しながら１６時間攪拌した。反応混合物を室温まで冷却し、不溶物をろ過により除去した。ろ液の溶媒を減圧下で溜去し、得られた残渣に酢酸エチルと水を加え抽出した。有機層と水層を分離し、水層を酢酸エチルを用いてさらに抽出した。有機層を合わせ、飽和食塩水により洗浄し、無水硫酸ナトリウムにより乾燥した。減圧下で溶媒を溜去し、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝１０：１〜３：１）にて精製した。得られた粗化合物をヘプタン−ジエチルエーテル系にて再結晶し、標記化合物（２．２ｇ、４７％）を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCｌ3)δ(ppm): 3.98(3H, s), 7.46-7.53(3H, m), 7.74(1H, d, J=8.0Hz), 8.04-8.08(2H, m), 8.25(1H, d, J=8.0Hz)。
（２−クロロ−６−フェニル−ピリジン−３−イル）−メタノールの合成
水素化リチウムアルミニウム（１２０ｍｇ、２．５ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（１０ｍｌ）の混合物に窒素雰囲気下０℃（外温）で、実施例２４で合成した２−クロロ−６−フェニル−ニコチン酸 メチルエステル(６２０ｍｇ、２．５ｍｍｏｌ)とテトラヒドロフラン（２．４ｍｌ）の混合物を少量ずつ加え、同温度で３０分間攪拌した。同温度で水を少量ずつ滴下した後、室温で１時間攪拌した。不溶物をセライトを用いてろ過し、ろ液の溶媒を減圧下で溜去した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝２：１）にて精製し、標記化合物（４７０ｍｇ、８６％）を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCｌ3)δ(ppm): 2.00(1H, t, J=6.0Hz), 4.83(2H, d, J=6.0Hz), 7.40-7.52(3H, m), 7.71(1H, d, J=8.0Hz), 7.92(1H, d, J=8.0Hz), 8.00(2H, d, J=6.8Hz)
ソジウム （２−クロロ−６−フェニル−ピリジン−３−イル）−メトキシメチル トリフルオロボレートの合成
ソジウム ハイドライド（６１％、８４ｍｇ、２．１ｍｍｏｌ）とテトラヒドロフラン（６ｍｌ）の混合物に０℃（外温）で、実施例２５で合成した（２−クロロ−６−フェニル−ピリジン−３−イル）−メタノール（４７０ｍｇ、２．１ｍｍｏｌ）を加え、室温で１時間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）で、実施例２２で合成した２−（ヨードメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（２６０ｍｇ、０．９７ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を室温で１４時間攪拌した。反応混合物に０℃（外温）でソジウム ビフルオリド（９７％、２５０ｍｇ、３．９ｍｍｏｌ）を加え、次いで同温度で水（１２ｍｌ）を滴下して加えた。反応混合物を室温で３０分間攪拌後、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣に過剰量のアセトンを加えてろ過し、ろ液の溶媒を減圧下で溜去した。得られた残渣にジエチルエーテルを加えてろ過した。ろ液に析出した固体をろ取し、標記化合物（３６ｍｇ、１２％）を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm): 2.63-2.69(2H, m), 4.37(2H, s), 7.42-7.52(3H, m), 7.96(1H, d, J=8.0Hz), 8.00(1H, d, J=8.0Hz), 8.02-8.06(2H, m)。
２−フェニル−５，７−ジヒドロ−フロ［３，４−ｂ］ピリジンの合成
実施例２６で合成したソジウム （２−クロロ−６−フェニル−ピリジン−３−イル）−メトキシメチル トリフルオロボレート(３６ｍｇ、 ０．１１１ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（１ｍｌ）の混合物に、室温で水（０．１ｍｌ）、炭酸セシウム(１１４ｍｇ、 ０．３３３ｍｍｏｌ)、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）(２６ｍｇ、 ０．０２２ｍｍｏｌ)を加え、得られた反応混合物にマイクロ波を照射しながら、１４０℃で１５分間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝５：１）にて精製し、標記化合物（１．１ｍｇ、５％）を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCｌ3)δ(ppm): 5.14(2H, s), 5.21(2H, s), 7.39-7.51(3H, m), 7.59-7.64(2H, m), 7.94-7.98(2H, m)。
ソジウム ２−クロロ−６−メトキシ−キノリン−３−イルメトキシメチル トリフルオロボレートの合成
（実施例１８に記載の７−メトキシ−１，３−ジヒドロ−フロ（３，４−ｂ）キノリンの合成法の別法）
ソジウム ハイドライド（６１％、２５０ｍｇ、６．４ｍｍｏｌ）およびテトラヒドロフラン（２５ｍｌ）の混合物に０℃（外温）で、実施例１６で合成した（２−クロロ−６−メトキシ−キノリン−３−イル）−メタノール（１．４ｇ、６．４ｍｍｏｌ）を加え、室温で４０分間攪拌した。反応混合物に、０℃（外温）で、製造例２で合成した２−（ブロモメチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（９２％、７００ｍｇ、２．９ｍｍｏｌ）を加え、反応混合物を５０℃（外温）で５時間攪拌した。反応混合物を０℃（外温）に冷却後、反応混合物に同温度でソジウム ハイドロゲンフルオリド（５８０ｍｇ、９．３ｍｍｏｌ）を加え、次いで同温度で水（２０ｍｌ）を滴下して加えた。反応混合物を室温で１５分間攪拌後、減圧下で溶媒を溜去した。得られた残渣にアセトンを加えてろ過し、ろ液の溶媒を減圧下で溜去した。得られた残渣に酢酸エチルを加えてろ過し、ろ液の溶媒を減圧下で溜去した。得られた残渣に酢酸エチル−ジエチルエーテル（１：４）を加えてろ過した。ろ液に析出した結晶をろ取し、標記化合物(２６０ｍｇ)を得た。ろ液の溶媒を減圧下で溜去し、得られた残渣に酢酸エチルを加え、６０℃に加熱することにより、結晶が析出した。この結晶をろ取し、標記化合物(２５０ｍｇ、トータル５１０ｍｇ、５３％)を得た。
1H-NMR Spectrum (DMSO-d6)δ(ppm): 2.75(2H, q, J=5.3Hz), 3.90(3H, s), 4.47(2H, s), 7.40(1H, dd, J=2.9, 9.2Hz), 7.46(1H, d, J=2.7Hz), 7.84(1H, d, J=9.2Hz), 8.32(1H, s)。
７−メトキシ−１，３−ジヒドロ−フロ［３，４−ｂ］キノリンの合成
実施例２８で合成したソジウム ２−クロロ−６−メトキシ−キノリン−３−イルメトキシメチル トリフルオロボレート(１００ｍｇ、 ０．３１ｍｍｏｌ)と１，４−ジオキサン（３ｍｌ）の混合物に、室温で水（０．３ｍｌ）、炭酸セシウム(３１０ｍｇ、 ０．９２ｍｍｏｌ)、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（０）(７３ｍｇ、 ０．０６１ｍｍｏｌ)を加え、得られた反応混合物にマイクロ波を照射しながら、１４０℃で１０分間攪拌した。反応混合物を室温に冷却後、反応混合物に水と酢酸エチルを加え、有機層を飽和食塩水で洗浄した。有機層から減圧下で溶媒を溜去した後、得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝２：１）にて精製し、標記化合物（４４ｍｇ、７１％）を得た。
1H-NMR Spectrum (CDCｌ3)δ(ppm): 3.94(3H, s), 5.15(2H, s), 5.28(2H, s), 7.09(1H, d, J=2.8Hz), 7.36(1H, dd, J=2.8, 9.2Hz), 7.87(1H, s), 7.95(1H, d, J=9.2Hz)。
本発明のフルオロホウ素化合物もしくはその塩を用い、金属触媒の存在下における分子内アルコキシメチル化反応を行うことにより、環状エーテルが縮合した芳香環を有する化合物を一段階で製造することができる。

Claims (9)

  1. 芳香環を有するフルオロホウ素化合物もしくはその塩であって、分子内アルコキシメチル化反応により、前記芳香環に縮合した環状エーテルを形成することができる下記式（Ｉ）で表されるフルオロホウ素化合物もしくはその塩。
    （式（Ｉ）中、
    は、Ｌ及び−Ｒ−Ｏ−ＣＨ 2 ＢＦ 3 Ｍ以外の置換基を有するかまたは有しない芳香環を表し
    ；Ｌは脱離基を表し、該脱離基がハロゲン原子、置換もしくは非置換のアルキルスルホニルオキシ基、および置換もしくは非置換のアリールスルホニルオキシ基からなる群から選択される基であり；Ｒは炭素数１〜２の置換もしくは非置換のアルキレン基を表し；
    Ｍは、アルカリ金属カチオン、［Ｎ（Ｒ 1 ）（Ｒ 2 ）（Ｒ 3 ）（Ｒ 4 ）］ + 、または［Ｐ（Ｒ 1 ）（Ｒ 2 ）（Ｒ 3 ）（Ｒ 4 ）］ + （Ｒ 1 、Ｒ 2 、Ｒ 3 およびＲ 4 はそれぞれ独立して、Ｃ 1-6 アルキル基またはＣ 7-16 アラルキル基を意味する。）を表し；
    上記Ｌと−Ｒ−ＯＣＨ 2 ＢＦ 3 Ｍは、それぞれ、前記芳香環上の隣接する炭素原子上に存在するか、または前記芳香環が２以上の環からなる縮合環である場合は、１つの縮合位炭素に隣接する２つの炭素原子上に、Ｌと−Ｒ−ＯＣＨ 2 ＢＦ 3 Ｍがそれぞれ存在する。）
  2. 前記脱離基Ｌがハロゲン原子である、請求項１記載のフルオロホウ素化合物もしくはその塩。
  3. 前記Ｒが、任意選択で１つ以上のＣ1-6アルキル基で置換されていてもよい、メチレンまたはエチレン基を表す、請求項１又は２に記載のフルオロホウ素化合物もしくはその塩。
  4. 前記の
    で表される芳香環が、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、イミダゾール環、トリアゾール環、チアゾール環、ピラゾール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、イソチアゾール環、フラザン環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、プテリジン環、キノリン環、イソキノリン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、シンノリン環、キナゾリン環、フタラジン環、イミダゾピリジン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、ベンゾイミダゾール環、インドール環、イソインドール環、インダゾール環、ピロロピリジン環、チエノピリジン環、フロピリジン環、ベンゾチアジアゾール環、ベンゾオキサジアゾール環、ピリドピリミジン環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、ベンゾ[１，３]ジオキソール環、およびチエノフラン環からなる群から選択される、請求項１〜３のいずれか一項に記載のフルオロホウ素化合物もしくはその塩。
  5. で表される芳香環が、ベンゼン環、ナフタレン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、およびキノリン環からなる群から選択される、請求項１〜３のいずれか一項に記載のフルオロホウ素化合物もしくはその塩。
  6. で表される芳香環がベンゼン環、キノリン環、またはナフタレン環である、請求項１〜３のいずれか一項に記載のフルオロホウ素化合物もしくはその塩。
  7. 前記Ｍがアルカリ金属カチオンである、請求項１〜６のいずれか一項に記載のフルオロホウ素化合物もしくはその塩。
  8. 前記Ｍがカリウムイオンまたはナトリウムイオンである、請求項７に記載のフルオロホウ素化合物もしくはその塩。
  9. 金属触媒の存在下で、請求項１〜８のいずれか一項に記載のフルオロホウ素化合物もしくはその塩の分子内アルコキシメチル化反応を起こさせることを含む、下記式（II）：
    で表される、環状エーテルが縮合した芳香環を有する化合物の製造方法。
    （式（ＩＩ）中、
    およびＲの定義は、前記式（Ｉ）における定義と同じである。）
JP2008534343A 2006-09-11 2007-09-11 芳香環を有するフルオロホウ素化合物もしくはその塩、およびそれらを用いた環状エーテル縮合芳香環を有する化合物の製造方法 Expired - Fee Related JP5265368B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008534343A JP5265368B2 (ja) 2006-09-11 2007-09-11 芳香環を有するフルオロホウ素化合物もしくはその塩、およびそれらを用いた環状エーテル縮合芳香環を有する化合物の製造方法

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006245837 2006-09-11
JP2006245837 2006-09-11
PCT/JP2007/067652 WO2008032702A1 (en) 2006-09-11 2007-09-11 Fluoroboron compound having aromatic ring or salt thereof, and process for production of compound having cyclic ether-fused aromatic ring by using the same
JP2008534343A JP5265368B2 (ja) 2006-09-11 2007-09-11 芳香環を有するフルオロホウ素化合物もしくはその塩、およびそれらを用いた環状エーテル縮合芳香環を有する化合物の製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPWO2008032702A1 JPWO2008032702A1 (ja) 2010-01-28
JP5265368B2 true JP5265368B2 (ja) 2013-08-14

Family

ID=39183759

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008534343A Expired - Fee Related JP5265368B2 (ja) 2006-09-11 2007-09-11 芳香環を有するフルオロホウ素化合物もしくはその塩、およびそれらを用いた環状エーテル縮合芳香環を有する化合物の製造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8273885B2 (ja)
EP (1) EP2062901A4 (ja)
JP (1) JP5265368B2 (ja)
WO (1) WO2008032702A1 (ja)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014160739A2 (en) * 2013-03-27 2014-10-02 Cellmosaic Inc. Trifluoroborate mass spectrometric tags
WO2015012210A1 (ja) * 2013-07-23 2015-01-29 エーザイ・アール・アンド・ディー・マネジメント株式会社 ヘテロ縮合環化合物
CN113583033B (zh) * 2021-07-30 2022-05-10 江苏师范大学 一种苯并噻二唑-tb-氟硼络合物及其合成方法和应用

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006098270A1 (ja) * 2005-03-14 2006-09-21 Eisai R & D Management Co., Ltd. オキシメチルホウ素化合物

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2006098270A1 (ja) * 2005-03-14 2006-09-21 Eisai R & D Management Co., Ltd. オキシメチルホウ素化合物

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
JPN6012054681; ＭＯＬＡＮＤＥＲ　ｅｔ　ａｌ．: ＯＲＧＡＮＩＣ　ＬＥＴＴＥＲＳ Ｖｏｌ．　８, 20060602, Ｐ．　２７６７-２７７０ *

Also Published As

Publication number Publication date
WO2008032702A1 (en) 2008-03-20
EP2062901A1 (en) 2009-05-27
US8273885B2 (en) 2012-09-25
JPWO2008032702A1 (ja) 2010-01-28
EP2062901A4 (en) 2011-11-09
US20100056788A1 (en) 2010-03-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI636049B (zh) 製備４－（（６－（２－（２，４－二氟苯基）－１，１－二氟－２－羥基－３－（１ｈ－１，２，４－三唑－１－基）丙基）吡啶－３－基）氧基）苄腈之方法
CN103384663B (zh) 用于制备安塞曲匹及其衍生物的中间体的合成
JP6147856B2 (ja) インテグラーゼインヒビターを調製するためのプロセスおよび中間体
JP2012505252A (ja) オキサゾリジノンおよびそれらを含む組成物を調製する方法
Chang et al. NBS-mediated cyclization of trans-cinnamic alcohols
JP5265368B2 (ja) 芳香環を有するフルオロホウ素化合物もしくはその塩、およびそれらを用いた環状エーテル縮合芳香環を有する化合物の製造方法
CN106573874B (zh) 制造2-氨基取代苯甲醛化合物的方法
EP2039697B1 (en) Fluoroboron compound, aminomethylating agent for aromatic ring comprising the compound, and process for production of compound having aminomethyl-aromatic ring using the aminomethylating agent
Arrayás et al. Copper-catalyzed ring-opening of heterobicyclic alkenes with Grignard reagents: Remarkably high anti-stereocontrol
KR102082532B1 (ko) 보린산 유도체의 제조 방법 및 신규 보린산 유도체
EP1867650B1 (en) Hydroxymethylboron compounds
CN103030533A (zh) 一种合成双(4-羟基-1-萘基)苯甲醇的工艺方法
KR100965619B1 (ko) 치환된 방향족 붕소산 화합물의 제조방법
CN110437183A (zh) 一种合成呋喃类化合物的方法
AU2023216654B2 (en) Processes for the preparation of selective estrogen receptor degraders
CN109678812B (zh) 一种5-乙烯基-2-硫代恶唑烷的制备方法
Ward et al. Synthesis of C2 Symmetric 2, 2'-Bipyridyl Imidazolidinone and Oxazaborolidine Derivatives
CN112062773B (zh) 一种酸催化4-羟基香豆素与异戊二烯环化反应的方法
JP6068194B2 (ja) シロ−イノシトールまたは１，３，５−シス−シクロヘキサントリオールと有機ボロン酸の安定アート型錯体及びそれを用いた有機合成反応試薬
CN121135645A (zh) 一种1-芳基异喹啉化合物的去外消旋化方法
JP2004107246A (ja) ケトン化合物の製造方法
Trammel et al. Nickel-Catalyzed Regiodivergent Dearomative Arylboration of Indoles
CN105153208A (zh) 一种合成5-羧基呋喃/噻吩-2-硼酸的方法

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20100705

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20121023

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20121213

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20130402

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20130501

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees