JP5072241B2 - 耐汚染性の優れた光硬化性塗料組成物および塗料硬化方法 - Google Patents
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また樹脂の高い架橋密度を確保しようとして酸素濃度を0.5%以下の状態で保つためには大量の不活性ガスを必要とするため、この方法はコストが大幅に高くなる。
基材上に(A)光硬化性樹脂と(B)光重合開始剤と(C)反応性希釈剤とを含む光硬化性塗料組成物を塗布し、該組成物からなる塗膜を形成する塗布工程、
未硬化の塗膜を、メタルハライドランプより発する長波長の紫外線に暴露してセミキュアーさせる第1照射工程、および
半硬化の塗膜を、不活性ガス雰囲気下で高圧水銀ランプより発する紫外線に暴露してフ
ルキュアーさせる第2照射工程
をこの順に行うものであって、
前記光硬化性樹脂(A)は、ウレタン(メタ)アクリレート樹脂、エポキシ(メタ)アクリレート樹脂およびポリエステル(メタ)アクリレート樹脂からなる群から選ばれた少なくとも1種の光硬化性樹脂であり、
前記反応性希釈剤(C)は、アクリロイル基またはメタクリロイル基を1分子当たり1個有する反応性モノマーである単官能性反応希釈剤(C1)、アクリロイル基またはメタクリロイル基を1分子当たり2個有する反応性モノマーであると2官能性反応希釈剤(C2)と、アクリロイル基またはメタクリロイル基を1分子当たり3個以上有する反応性モノマーである3官能性以上の多官能性反応希釈剤(C3)との混合物であり、
前記2官能性反応希釈剤(C2)は、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレートを含むものであり、
前記反応性希釈剤(C)において、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレートが光硬化性樹脂(A)100重量部に対して30〜200重量部の割合で混合されることを特徴とする。
上記第2照射工程における不活性ガスは、窒素ガスまたは窒素含有ガスであることが好ましく、酸素濃度が4体積%以下の窒素/酸素混合ガスであることがより好ましい。
。
<光硬化性塗料組成物>
本発明で使用される光硬化性塗料組成物は、光硬化性樹脂(A)と光重合開始剤(B)と反応性希釈剤(C)とを含む。
本発明で使用される光硬化性樹脂(A)は、電磁波中の紫外領域(200〜600nm、好ましくは200〜450nm)を利用して硬化可能な樹脂(プレポリマー、オリゴマーを含む。)であり、2個以上の(メタ)アクリロイル基を有する。このような樹脂のうち、本発明においては、ウレタン(メタ)アクリレート樹脂、エポキシ(メタ)アクリレート樹脂、ポリエステル(メタ)アクリレート樹脂などが好ましい。これらの光硬化性樹脂は単独で、または2種以上を組み合わせて用いることができる。
剤は、反応開始剤と呼ばれることもある。
社化学(株)製)が挙げられる。2官能性反応希釈剤(C2)としては、例えば「ビスコート 260」(大阪有機化学工業(株)製)、「ネオマー NA-305」(三洋化成工業(株)製)、あるいはジメチロールシクロデカンジアクリレートである「ライトアクリレート DCP-A」(共
栄社化学(株)製)が挙げられる。多官能性反応希釈剤(C3)としては、例えば「ニューフロンティア TEICA」(商品名、第一工業製薬(株))、「アロニックス M-400」(商品名、東亜合成(株))が挙げられる。
上記各成分を含有する光硬化性塗料組成物は、従来の方法を用いて基材に塗布され、以下に説明する方法により硬化される。
本発明に係る塗料硬化方法は、基材に上述したような光硬化性塗料組成物を塗布して該組成物からなる未硬化の塗膜を形成した後、
未硬化の塗膜を、メタルハライドランプより発する長波長の紫外線に暴露してセミキュアー(半硬化)させる第1照射工程、および
半硬化の塗膜を、不活性ガス雰囲気下で高圧水銀ランプより発する紫外線に暴露してフルキュアー(完全硬化)させる第2照射工程
をこの順に行う。
4体積%と高濃度であっても、すなわち、このような高濃度の酸素ガスと、残部量(96〜98体積%)の不活性ガス(例:窒素ガス)とを含む混合ガスの存在下においても、高圧水銀ランプを照射して光硬化性塗料組成物中からなる未硬化の塗膜を完全硬化させるこ
とにより、耐汚染性および耐クラック性などの特性に優れた硬化塗膜を得ることが可能である。
で含まれた不活性ガス雰囲気下では、期待されたような高い樹脂架橋密度が得られず、また、樹脂の架橋密度を高く維持するために酸素濃度を0.5%以下の状態で保とうとすると、大量の不活性ガスを必要としていたが、本発明によりかかる従来技術上の問題点が解決される。
本発明では、必要に応じて基材の表面に予めステイン塗膜、下塗り塗膜、中塗り塗膜のいずれか1種以上をこの順序で形成し、上記光硬化性塗料組成物をそれらの塗膜の最外層上に塗布してもよい。ステイン塗膜、下塗り塗膜および中塗り塗膜のすべてを塗設する場合、その積層順序は「基材/ステイン塗膜/下塗り塗膜/中塗り塗膜/光硬化性塗料組成物からなる塗膜」となる。また、いずれかの塗膜を除外・省略する場合には、この順序を保持しつつ塗装すればよく、例えば下塗り塗膜を除外・省略する場合は、「基材/ステイン塗膜/中塗り塗膜/光硬化性塗料組成物からなる塗膜」という積層順序になる。
<硬化塗膜及び該塗膜付き基材>
本発明に係る光硬化塗膜は、上記の方法により形成されるものである。塗膜は、上記のように、例えば、「基材/ステイン塗膜/下塗り塗膜/中塗り塗膜/光硬化性塗料組成物からなる塗膜」の順序で形成されている。その場合の各層(塗膜)の厚みは、最終製品の種類や用途等により異なるため一概には決定されないが、例えば、乾燥膜厚で、ステイン塗膜:3〜10μm(厚)程度、下塗り塗膜:10〜50μm(厚)程度、中塗り塗膜10〜30μm(厚)程度、光硬化性塗料組成物からなる塗膜:10〜100μm(厚)程度である。
以下、本発明について実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はかかる実施例により何ら限定されるものではない。
また、実施例および比較例において使用した有電極紫外線ランプ、無電極紫外線ランプおよびメタルハライドランプ、ならびに窒素雰囲気での照射条件は、下記の通りである。・有電極紫外線ランプ
照射装置 :アイグラフィック(株)製高圧水銀ランプ
出力 :120W/cm
照射距離 :15cm
照射線量 :100〜110mJ/cm2
・無電極紫外線ランプ
照射装置 :フュージョン社製無電極高圧水銀ランプ、Hバルブ
出力 :240W/cm
照射距離 :10cm
照射線量 :170〜180mJ/cm2
・メタルハライドランプ
照射装置 :IST METZ Gmbh製メタルハライドランプ
出力 :80W/cm
照射距離 :15cm
照射線量 :60〜70mJ/cm2
・窒素中照射条件
それぞれの照射装置(紫外線ランプ)の下部に窒素ガスを吹き付けるようノズルを差込み、窒素ボンベから窒素を吹き込み、酸素濃度が所定の値に達した時点で半硬化の塗膜を紫外線に暴露して完全硬化させた。
市販の幅30cm、長さ180cm、厚さ1.2cmのフロアー用突き板合板を幅30
cm、長さ60cmに切断して試験用基板とした。この基板に、表1に示す配合の着色ステインをスポンジロールコーター、リバースロールコーター、ナチュラルロールコーターで連続して塗装した後、100℃の乾燥機で1分間加熱して乾燥させた。次いで、ナチュラルロールコーター、リバースロールコーター、ナチュラルロールコーターで、1m2当
たりの塗布量が40gになるよう、表2に示す配合の下塗り塗料を塗装した。直ちに空気中で有電極紫外線ランプによる紫外線を照射して硬化させた後、表3に示す配合の中塗り塗料Aをナチュラルロールコーターで1m2当たりの塗布量が20gになるよう塗装した
。空気中で有電極紫外線ランプによる紫外線を照射して硬化させた後、360番研磨紙で表面を研磨して平滑にし、表面に付着した研磨粉を除去した。
調製例により得られた基板の表面(中塗り塗膜の上面)に、表7に示す配合の上塗り塗料Dをナチュラルロールコーターで1m2当たりの塗布量が10gになるよう塗装した。
塗装後直ちに空気中でメタルハライドランプによる紫外線を照射してセミキュアーさせた。引き続き、酸素濃度0.5%の窒素/酸素混合ガス中で有電極紫外線ランプによる紫外
線を照射して硬化させた後、24時間室温で放置して、後述する各種の試験に供した。
実施例1に記載の方法において上塗り塗料を表8に示す上塗り塗料Eに変更した以外は同様の方法により試験板を作成した。
実施例1に記載の方法において上塗り塗料を表9に示す上塗り塗料Fに変更した以外は同様の方法により試験板を作成した。
実施例1に記載の方法において上塗り塗料を表10に示す上塗り塗料Gに変更した以外は同様の方法により試験板を作成した。
実施例1に記載の方法において上塗り塗料を表8に示す上塗り塗料Eに変更し、また酸素/窒素混合ガスの酸素濃度を4.0%に変更した以外は同様の方法により試験板を作成
した。
実施例1に記載の方法において上塗り塗料を表8に示す上塗り塗料Eに変更した点、酸素/窒素混合ガスの酸素濃度を4.0%に変更し、無電極水銀ランプにより紫外線を照射
した点以外は同様の方法により試験板を作成した。
調製例により得られた基板の表面(中塗り塗膜の上面)に、表4に示す配合の上塗り塗料Aをナチュラルロールコーターで1m2当たりの塗布量が10gになるよう塗装した。
空気中で有電極紫外線ランプによる紫外線を照射して硬化させた後、24時間室温で放置して、後述する各種の試験に供した。
比較例1に記載の方法において上塗り塗料を表5に示す上塗り塗料Bに変更した以外は同様の方法により試験板を作成した。
比較例1に記載の方法において上塗り塗料を表6に示す上塗り塗料Cに変更した以外は同様の方法により試験板を作成した。
比較例1に記載の方法において上塗り塗料を表8に示す上塗り塗料Eに変更した以外は同様の方法により試験板を作成した。
比較例1に記載の方法において上塗り塗料を表8に示す上塗り塗料Eに変更し、この上塗り塗料からなる塗膜を無電極水銀ランプを用いて硬化させた以外は同様の方法により試験板を作成した。
比較例1に記載の方法において上塗り塗料を表5に示す上塗り塗料Bに変更し、この上塗り塗料からなる塗膜を酸素濃度が0.5体積%の窒素/酸素混合ガス中で有電極水銀ラ
ンプを用いて硬化させた以外は同様の方法により試験板を作成した。
比較例1に記載の方法において上塗り塗料を表8に示す上塗り塗料Eに変更し、この上塗り塗料からなる塗膜を酸素濃度が0.5体積%の窒素/酸素混合ガス中で有電極水銀ラ
ンプを用いて硬化させた以外は同様の方法により試験板を作成した。
比較例1に記載の方法において上塗り塗料を表9に示す上塗り塗料Fに変更し、この上塗り塗料からなる塗膜を酸素濃度が0.5体積%の窒素/酸素混合ガス中で無電極水銀ラ
ンプを用いて硬化させた以外は同様の方法により試験板を作成した。
上記実施例1〜6および比較例1〜8から得られた木質床材塗装品について、光沢、耐汚染性および耐クラック性の評価を、それぞれ下記の試験方法にて行った。その結果を表11に示す。
ア)試験片は、各試料合板から一片が150mmの正方形状のものを2辺ずつ作成し、試験片の中央に直径3mmの穴をあけた。
イ)試験片を図1のように金属わくに固定し、80±3℃の恒温器中に2時間放置した後、−20±3℃の恒温器中に2時間放置する工程を2回繰り返し、室温の達するまで放置した。
Claims (12)
- 基材上に(A)光硬化性樹脂と(B)光重合開始剤と(C)反応性希釈剤とを含む光硬化性塗料組成物を塗布し、該組成物からなる未硬化の塗膜を形成する塗布工程の後、
未硬化の塗膜を、メタルハライドランプより発する長波長の紫外線に暴露してセミキュアーさせる第1照射工程、および
半硬化の塗膜を、不活性ガス雰囲気下で高圧水銀ランプより発する紫外線に暴露してフルキュアーさせる第2照射工程
をこの順に行う塗料硬化方法であって、
前記光硬化性樹脂(A)は、ウレタン(メタ)アクリレート樹脂、エポキシ(メタ)アクリレート樹脂およびポリエステル(メタ)アクリレート樹脂からなる群から選ばれた少なくとも1種の光硬化性樹脂であり、
前記反応性希釈剤(C)は、アクリロイル基またはメタクリロイル基を1分子当たり1個有する反応性モノマーである単官能性反応希釈剤(C1)と、アクリロイル基またはメタクリロイル基を1分子当たり2個有する反応性モノマーである2官能性反応希釈剤(C2)と、アクリロイル基またはメタクリロイル基を1分子当たり3個以上有する反応性モノマーである3官能性以上の多官能性反応希釈剤(C3)との混合物であり、
前記2官能性反応希釈剤(C2)は、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレートを含むものであり、
前記反応性希釈剤(C)において、ジメチロールトリシクロデカンジアクリレートが光硬化性樹脂(A)100重量部に対して30〜200重量部の割合で混合されることを特徴とする、塗料硬化方法。 - 光重合開始剤(B)が、ベンゾフェノン類、アントラキノン類、チオキサントン類、アセトフェノン類、アシルフォスフィンオキサイド類およびメチルフェニルグリオキシエステル類からなる群から選ばれた光重合開始剤であることを特徴とする請求項1に記載の塗料硬化方法。
- 光硬化性樹脂(A)100重量部に対して、光重合開始剤(B)を1〜25重量部の範囲で使用することを特徴とする請求項1または2に記載の塗料硬化方法。
- 反応性希釈剤(C)が、光硬化性樹脂(A)100重量部に対して20〜300重量部の割合で配合されることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の塗料硬化方法。
- 第1照射工程が、空気中にて、60W/cm以上の出力を有するメタルハライドランプを用いて行われることを特徴とする、請求項1〜4のいずれかに記載の塗料硬化方法。
- 第2照射工程における不活性ガスが、窒素ガスまたは窒素含有ガスであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の塗料硬化方法。
- 第2照射工程における不活性ガスが、酸素濃度が4体積%以下の窒素/酸素混合ガスであることを特徴とする請求項6に記載の塗料硬化方法。
- 第2照射工程が、酸素濃度が0.5〜4.0体積%の窒素/酸素混合ガス雰囲気下で、高圧水銀ランプとして80W/cm以上の出力を有する有電極水銀ランプを用いて行われることを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載の塗料硬化方法。
- 第2照射工程が、酸素濃度が0.5〜4.0体積%の窒素/酸素混合ガス雰囲気下で、高圧水銀ランプとして24〜240W/cmの出力を有する無電極水銀ランプを用いて行われることを特徴とする、請求項1〜7のいずれかに記載の塗料硬化方法。
- 第1照射工程および第2照射工程が、1本または2本以上のランプをコンベアから所定距離上方に離間させて配設しておき、光硬化性塗料組成物が塗布された基材を該コンベアに1〜150m/分の速度で搬送させることにより連続的に行われることを特徴とする、請求項1〜9のいずれかに記載の塗料硬化方法。
- 第2照射工程が、光硬化性塗料組成物が塗布された基材に、1本当たり60〜240W/cmの出力を有する高圧水銀ランプを用いて、積算光量が20〜1000mJ/cm2となる量で照射することにより行われることを特徴とする、請求項1〜10のいずれかに記載の塗料硬化方法。
- 塗布工程において、基材上には予め、ステイン塗膜、下塗り塗膜、中塗り塗膜のいずれか1種以上がこの順序で形成されており、それらの塗膜のうちの最外層の塗膜上に請求項1〜11のいずれかで用いられている光硬化性塗料組成物を塗布することを特徴とする、請求項1〜11のいずれかに記載の塗料硬化方法。
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