JP5051634B2 - イオンビーム発生方法とそれを実施する為のイオンビーム発生装置 - Google Patents
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Description
例えば、非特許文献1から3に示すようにこのイオンビームの大電流化を達成するために、高周波放電イオン源では、放電電力や外部磁場印加など、従来から様々な工夫がなされてきた。
Nature, 158 (1946) 61, P.C.Thonmann Review of Scientific Instruments, 25 (1954) 989, H.P.Eubank 応用物理、12 (1969) 1114、岡本幸雄
なお、図1に示すのは、発生したイオンビームの内容を如何にして検査したかを示す検査装置を含み示してある。
2.高周波電極
3.引き出し電極
4.マッチングユニット
5.高周波電源
6.リペラー電極
7.コンデンサーレンズ
8.フォーカシングレンズ
9.ディフレクター
10.アインツェルレンズ
11.減速電極
12.ディフレクター
13.光ファイバーレーザー
14.光ファイバー増幅器
15.光ファイバーコネクタ
16.レンズ
17.1/2波長板
18.1/4波長板
19.レンズ
20.プローブ光レーザーダイオード
21.レンズ
22.フィルター
23.1/2波長板
24.ミラー
25.1/4波長板
26.ミラー
27.パワーメータ
28.イオンビーム検出電極
29.電流計
30.コイル
31.直流電源
32.本技術を利用した大電流イオン源
33.試料
34.エネルギー分析器
Claims (3)
- ヘリウムイオンビームを用いて所望の作業を行わせる装置におけるイオンビーム発生方法であって、
高周波放電によりヘリウムプラズマを発生させてから、前記ヘリウムプラズマ中に生成する準安定ヘリウム原子2 3 S 1 に、準安定ヘリウム原子2 3 S 1 から2 3 Pへの遷移に対応する1083nmのD 0 線、D 1 線、D 2 線の内のどれかの波長の光を照射して、前記準安定ヘリウム原子2 3 S 1 を2 3 Pへ光ポンピングすることを特徴とするイオンビーム発生方法。 - 請求項1に記載のイオンビーム発生方法を実施する為のイオンビーム発生装置であって、
高周波放電によりヘリウムプラズマを発生させる高周波放電管と、
光ポンピングのために準安定ヘリウム原子2 3 S 1 から2 3 Pへの遷移に対応する1083nmのD 0 線、D 1 線、D 2 線の内のどれかの波長へ波長調整したレーザ光を発生可能なレーザ発生装置と、
このレーザ発生装置からのレーザ光を前記高周波放電管内に照射するレーザ照射装置と、
前記ヘリウムプラズマに照射されたレーザ光の波長を観察する観察装置とからなることを特徴とするイオンビーム発生装置。 - 請求項2に記載のイオンビーム発生装置において、
前記レーザ照射装置には、前記レーザ光を円偏光とする波長板が設けてあることを特徴とするイオンビーム発生装置。
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